JP6134576B2 - Method for producing modified silica film, coating liquid, and modified silica film - Google Patents

Method for producing modified silica film, coating liquid, and modified silica film Download PDF

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Description

本発明は、改質シリカ膜の製造方法、塗工液、及び改質シリカ膜に関する。   The present invention relates to a method for producing a modified silica film, a coating liquid, and a modified silica film.

ポリシラザン(polysilazane)をシリカ転化する(すなわち硬化する)ことで作製されるシリカ(silica)膜は、ガラス(glass)に近い強度を有するので、各種の膜の表面強度を向上させたい場合に利用されることが多い。近年、このようなシリカ膜を用いて光学フィルム(film)の表面強度を向上したいというニーズが高まっている。ここで、光学フィルムは、例えばディスプレイの表面に貼り付けられる反射防止フィルムである。   Silica film produced by converting (or curing) polysilazane to silica has a strength close to that of glass, so it is used to improve the surface strength of various films. Often. In recent years, there is an increasing need to improve the surface strength of optical films (film) using such silica films. Here, the optical film is, for example, an antireflection film attached to the surface of the display.

このような光学フィルムには、良好な耐擦傷性及び防汚性等が要求されるが、ポリシラザンを転化することで作製されるシリカ膜は、耐擦傷性及び防汚性等が十分でない。そこで、シリカ膜を改質する必要がある。特許文献1には、シリカ膜を改質する方法として、ポリシラザンに撥水撥油性付与剤を添加した上でポリシラザンをシリカ転化する方法が提案されている。ここで、撥水撥油性付与剤は、ポリシラザンと結合可能な結合基を有する反応性フッ素ポリマー(polymer)である。   Such an optical film is required to have good scratch resistance and antifouling properties, but the silica film produced by converting polysilazane is not sufficiently scratch resistant and antifouling. Therefore, it is necessary to modify the silica film. Patent Document 1 proposes a method of converting polysilazane to silica after adding a water / oil repellency-imparting agent to polysilazane as a method of modifying the silica film. Here, the water / oil repellency imparting agent is a reactive fluoropolymer having a linking group capable of binding to polysilazane.

特開2006−82341号公報JP 2006-82341 A

しかし、ポリシラザンは非常に反応性が高いので、単にポリシラザンに反応性フッ素樹脂を添加しただけでは、ポリシラザンのシリカ転化前にポリシラザンが反応性フッ素ポリマーと反応してしまう。そして、ポリシラザンのうち、反応性フッ素ポリマーと反応した反応点は、シリカ転化の際に周辺のシリカ骨格と架橋しない。したがって、改質シリカ膜の架橋密度が低下し、ひいては改質シリカ膜の強度が低下してしまう。このように、特許文献1に開示された技術は、改質シリカ膜の強度が低下するという問題があった。なお、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応は、改質シリカ膜の強度低下によって確認される。ただし、一部の反応性フッ素ポリマーは、ポリシラザンとの反応によってポリシラザン溶液を白濁させるので、このような白濁化によっても反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応を確認することができる。   However, since polysilazane is very reactive, simply adding a reactive fluororesin to polysilazane causes the polysilazane to react with the reactive fluoropolymer before the polysilazane is converted to silica. And the reaction point which reacted with the reactive fluoropolymer among polysilazane does not bridge | crosslink with the surrounding silica frame | skeleton in the case of silica conversion. Therefore, the crosslink density of the modified silica film decreases, and as a result, the strength of the modified silica film decreases. Thus, the technique disclosed in Patent Document 1 has a problem that the strength of the modified silica film is reduced. The reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane is confirmed by a decrease in strength of the modified silica film. However, some reactive fluoropolymers cause the polysilazane solution to become clouded by reaction with polysilazane, and thus the reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane can be confirmed by such clouding.

このような問題を解決する方法として、いわゆる2層コーティング法が提案されている。2層コーティング法では、まずポリシラザンのみを溶解したポリシラザン溶液を光学フィルム上に塗工、乾燥し、ポリシラザンをシリカに転化する。これにより、光学フィルム上にシリカ膜、すなわちハードコート層を形成する。そして、反応性フッ素ポリマー溶液をハードコート層上に塗工、乾燥することで、ハードコート層上に保護層を形成する。   As a method for solving such a problem, a so-called two-layer coating method has been proposed. In the two-layer coating method, a polysilazane solution in which only polysilazane is dissolved is first coated on an optical film and dried to convert the polysilazane to silica. Thereby, a silica film, that is, a hard coat layer is formed on the optical film. And a protective layer is formed on a hard-coat layer by apply | coating and drying a reactive fluoropolymer solution on a hard-coat layer.

しかし、この2層コーティング法では、塗工を2回行わなければならず、しかも、各塗工を高精度に(例えば欠陥がゼロとなるように)行わなければならなかった。したがって、ハードコート層及び保護層の作製に非常に手間がかかるという別の問題があった。このような問題のため、2層コーティング法で作製されたハードコート層及び保護層を有する光学フィルムは非常に高価で、汎用品にはなっていなかった。   However, in this two-layer coating method, the coating has to be performed twice, and each coating has to be performed with high accuracy (for example, so that the defect becomes zero). Therefore, there is another problem that it takes much time to produce the hard coat layer and the protective layer. Due to such problems, an optical film having a hard coat layer and a protective layer produced by a two-layer coating method is very expensive and has not become a general-purpose product.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、従来よりも強度が大きい改質シリカ膜を容易に作製することが可能な改質シリカ膜の製造方法、塗工液、及び改質シリカ膜を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a modified silica film that can easily produce a modified silica film having a higher strength than conventional ones. It is in providing a manufacturing method, a coating liquid, and a modified silica film.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液を作製するステップと、フッ素溶媒と混和せず、かつ反応性フッ素ポリマー及びフッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することでポリシラザン溶液を作製するステップと、ポリシラザン溶液と反応性フッ素ポリマー溶液とを混合することで、塗工液を作製するステップと、塗工液を基材上に塗工することで、塗工層を作製するステップと、塗工層からポリシラザン用溶媒及びフッ素溶媒を除去するステップと、結合基をポリシラザンに結合させると共に、ポリシラザンをシリカに転化するステップと、を含み、塗工液中のポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、反応性フッ素ポリマー溶液は、反応性フッ素ポリマーを反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、改質シリカ膜の製造方法が提供される。   In order to solve the above problems, according to an aspect of the present invention, a step of preparing a reactive fluoropolymer solution by dissolving a reactive fluoropolymer having a bonding group that binds to polysilazane in a fluorosolvent, A step of preparing a polysilazane solution by dissolving polysilazane in a solvent for polysilazane which is not miscible with the reactive fluoropolymer and has a higher surface tension than the reactive fluoropolymer and a fluorine solvent, and mixing the polysilazane solution and the reactive fluoropolymer solution Then, a step of producing a coating liquid, a step of producing a coating layer by coating the coating liquid on a substrate, a step of removing the polysilazane solvent and the fluorine solvent from the coating layer, Bonding a linking group to the polysilazane and converting the polysilazane to silica, comprising the steps of: The mass ratio of Razan to the reactive fluoropolymer is 99: 1 to 90:10, and the reactive fluoropolymer solution contains 1 to 30% by mass of the reactive fluoropolymer with respect to the total mass of the reactive fluoropolymer solution. The method for producing a modified silica film is characterized in that the fluorine solvent has a boiling point of 61 ° C. or higher.

この観点では、塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液は、塗工層の表面に自然にブリードアウトする。したがって、この観点によれば、塗工液を基材上に1層コーティングするだけで、改質シリカ膜、すなわちハードコート層及び保護層を形成することができる。したがって、改質シリカ膜を容易に作製することができる。さらに、塗工層中で反応性フッ素ポリマー溶液は塗工層の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜の強度は従来の改質シリカ膜よりも向上する。   From this viewpoint, the reactive fluoropolymer solution in the coating layer naturally bleeds out on the surface of the coating layer. Therefore, according to this viewpoint, the modified silica film, that is, the hard coat layer and the protective layer can be formed only by coating one layer of the coating liquid on the substrate. Therefore, a modified silica film can be easily produced. Furthermore, since the reactive fluoropolymer solution bleeds out on the surface of the coating layer in the coating layer, the reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane is suppressed. Therefore, the strength of the modified silica film is improved as compared with the conventional modified silica film.

ここで、ポリシラザン用溶媒の表面張力から反応性フッ素ポリマー及びフッ素溶媒の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上であってもよい。   Here, the value obtained by subtracting the larger value of the surface tensions of the reactive fluoropolymer and the fluorine solvent from the surface tension of the polysilazane solvent may be 5 or more.

この観点によれば、反応性フッ素ポリマー溶液はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   According to this viewpoint, the reactive fluoropolymer solution can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

また、ポリシラザン用溶媒は、疎水性かつ無極性の有機溶媒であってもよい。   The solvent for polysilazane may be a hydrophobic and nonpolar organic solvent.

この観点によれば、ポリシラザン用溶媒は、疎水性かつ無極性の有機溶媒であるので、フッ素溶媒と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   According to this aspect, the polysilazane solvent is a hydrophobic and nonpolar organic solvent and is not miscible with the fluorine solvent. Therefore, the reactive fluoropolymer solution can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

また、ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成されてもよい。   The solvent for polysilazane may be composed of any one or more selected from the group consisting of dibutyl ether, xylene, mineral terpenes, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons.

この観点によれば、ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成される。これらの溶媒は、フッ素溶媒と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   According to this aspect, the polysilazane solvent is composed of at least one selected from the group consisting of dibutyl ether, xylene, mineral terpenes, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons. These solvents are not miscible with the fluorine solvent. Therefore, the reactive fluoropolymer solution can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

また、フッ素溶媒は、ハイドロフルオロエーテルであってもよい。   The fluorine solvent may be a hydrofluoroether.

この観点によれば、フッ素溶媒は、ハイドロフルオロエーテルで構成される。この溶媒は表面張力がポリシラザン溶媒よりも低く、かつポリシラザン溶媒と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   According to this viewpoint, the fluorine solvent is composed of hydrofluoroether. This solvent has a lower surface tension than the polysilazane solvent and is not miscible with the polysilazane solvent. Therefore, the reactive fluoropolymer solution can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

本発明の他の観点によれば、ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで作製された反応性フッ素ポリマー溶液と、フッ素溶媒と混和せず、かつ反応性フッ素ポリマー及びフッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することで作製されたポリシラザン溶液と、を含み、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、反応性フッ素ポリマー溶液は、反応性フッ素ポリマーを反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、塗工液が提供される。   According to another aspect of the present invention, a reactive fluoropolymer solution prepared by dissolving a reactive fluoropolymer having a linking group that binds to polysilazane in a fluorosolvent, and is not miscible with the fluorosolvent and is reactive. And a polysilazane solution prepared by dissolving polysilazane in a solvent for polysilazane having a surface tension higher than that of the fluorine polymer and the fluorine solvent, and the mass ratio of the polysilazane to the reactive fluoropolymer is 99: 1 to 90:10 The reactive fluoropolymer solution contains 1 to 30% by mass of the reactive fluoropolymer based on the total mass of the reactive fluoropolymer solution, and the fluorine solvent has a boiling point of 61 ° C. or higher. A working fluid is provided.

この観点による塗工液を基材上に塗工することで塗工層を形成した場合、反応性フッ素ポリマー溶液は塗工層の表面に自然にブリードアウトする。したがって、この観点による塗工液を基材上に1層コーティングするだけで、改質シリカ膜、すなわちハードコート層及び保護層を形成することができる。したがって、改質シリカ膜を容易に作製することができる。さらに、塗工層中で反応性フッ素ポリマー溶液は塗工層の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜の強度は従来の改質シリカ膜よりも向上する。   When the coating layer is formed by coating the coating liquid according to this viewpoint on the substrate, the reactive fluoropolymer solution naturally bleeds out on the surface of the coating layer. Therefore, a modified silica film, that is, a hard coat layer and a protective layer can be formed only by coating one layer of the coating liquid according to this viewpoint on the substrate. Therefore, a modified silica film can be easily produced. Furthermore, since the reactive fluoropolymer solution bleeds out on the surface of the coating layer in the coating layer, the reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane is suppressed. Therefore, the strength of the modified silica film is improved as compared with the conventional modified silica film.

本発明の他の観点によれば、上記の改質シリカ膜の製造方法により製造されたことを特徴とする、改質シリカ膜が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a modified silica film produced by the method for producing a modified silica film.

この観点による改質シリカ膜は、シリカを含むハードコート層及び反応性フッ素ポリマーを含む保護層に区分される。そして、ハードコート層中のシリカの架橋密度は従来の改質シリカ膜の架橋密度よりも高い。上記の改質シリカ膜の製造方法によれば、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの反応が抑制されているからである。したがって、改質シリカ膜の強度は従来よりも高い。さらに、上記の改質シリカ膜の製造方法は、塗工液を基材上に1層コーティングするだけで、改質シリカ膜を形成することができる。したがって、改質シリカ膜は容易に作製される。   The modified silica film according to this aspect is divided into a hard coat layer containing silica and a protective layer containing a reactive fluoropolymer. And the crosslinking density of the silica in a hard-coat layer is higher than the crosslinking density of the conventional modified silica film. This is because the reaction between the polysilazane and the reactive fluoropolymer is suppressed according to the method for producing the modified silica film. Therefore, the strength of the modified silica film is higher than before. Furthermore, in the method for producing the modified silica film described above, the modified silica film can be formed only by coating one layer of the coating liquid on the substrate. Therefore, the modified silica film is easily produced.

本発明の他の観点によれば、ポリシラザンから転化したシリカを含むハードコート層と、ハードコート層の表面に結合したフッ素ポリマーを含み、平均表面粗さが3.0〜9.0nmである保護層と、を含むことを特徴とする、改質シリカ膜が提供される。   According to another aspect of the present invention, a hard coat layer containing silica converted from polysilazane and a fluoropolymer bonded to the surface of the hard coat layer, the average surface roughness is 3.0 to 9.0 nm A modified silica membrane characterized in that it comprises a layer.

この観点では、改質シリカ膜の平均表面粗さは3.0〜9.0nmとなっているので、耐擦傷性及びオレイン酸転落角のうち少なくとも一方が向上する。   In this respect, since the average surface roughness of the modified silica film is 3.0 to 9.0 nm, at least one of the scratch resistance and the oleic acid falling angle is improved.

以上説明したように本発明によれば、塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液は、塗工層の表面に自然にブリードアウトする。したがって、この観点によれば、塗工液を基材上に1層コーティングするだけで、改質シリカ膜、すなわちハードコート層及び保護層を形成することができる。したがって、改質シリカ膜を容易に作製することができる。さらに、塗工層中で反応性フッ素ポリマー溶液は塗工層の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜の強度は従来の改質シリカ膜よりも向上する。   As described above, according to the present invention, the reactive fluoropolymer solution in the coating layer naturally bleeds out on the surface of the coating layer. Therefore, according to this viewpoint, the modified silica film, that is, the hard coat layer and the protective layer can be formed only by coating one layer of the coating liquid on the substrate. Therefore, a modified silica film can be easily produced. Furthermore, since the reactive fluoropolymer solution bleeds out on the surface of the coating layer in the coating layer, the reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane is suppressed. Therefore, the strength of the modified silica film is improved as compared with the conventional modified silica film.

本発明の実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法及び改質シリカ膜の概要を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline | summary of the manufacturing method of the modified silica film which concerns on embodiment of this invention, and a modified silica film. 同実施形態にかかる塗工液の模式図である。It is a schematic diagram of the coating liquid concerning the embodiment. 塗工液中に分散した反応性フッ素ポリマー溶液ミセル(micell)の模式図である。It is a schematic diagram of the reactive fluoropolymer solution micelle (micell) disperse | distributed in the coating liquid. 本実施形態に係る改質シリカ膜の表面を拡大して示す模式図である。It is a schematic diagram which expands and shows the surface of the modified silica film which concerns on this embodiment. 従来の2層コーティング法により作製された改質シリカ膜の表面を拡大して示す模式図である。It is a schematic diagram which expands and shows the surface of the modified silica film produced by the conventional two-layer coating method. 鉛筆擦り試験に使用される試験装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the test apparatus used for a pencil rubbing test.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。また、表面張力は25℃での値であり、単位は(mN/m)とする。表面張力は、例えば自動表面張力計(具体的には、協和界面科学 DY−300)によって測定される。後述する実施例及び比較例の表面張力は、協和界面科学 DY−300で測定されたものである。もちろん、表面張力は他の公知の方法で測定されてもよい。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol. The surface tension is a value at 25 ° C., and the unit is (mN / m). The surface tension is measured by, for example, an automatic surface tension meter (specifically, Kyowa Interface Science DY-300). The surface tensions of examples and comparative examples described later are those measured by Kyowa Interface Science DY-300. Of course, the surface tension may be measured by other known methods.

<1.改質シリカ膜の製造方法>
まず、図1〜図3にもとづいて、本実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法について説明する。本実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法は、第1〜第6のステップに区分される。
<1. Method for producing modified silica film>
First, based on FIGS. 1-3, the manufacturing method of the modified silica film which concerns on this embodiment is demonstrated. The method for producing a modified silica film according to the present embodiment is divided into first to sixth steps.

第1のステップは、ポリシラザンをポリシラザン用溶媒に溶解することで図2に示すポリシラザン溶液11を作製するステップである。第2のステップは、図3に示す反応性フッ素ポリマー13をフッ素溶媒14に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液12を作製するステップである。第1のステップ及び第2のステップの順序は特に限定されない。   The first step is a step of preparing a polysilazane solution 11 shown in FIG. 2 by dissolving polysilazane in a polysilazane solvent. The second step is a step of preparing the reactive fluoropolymer solution 12 by dissolving the reactive fluoropolymer 13 shown in FIG. The order of the first step and the second step is not particularly limited.

第3のステップは、ポリシラザン溶液11と反応性フッ素ポリマー溶液12とを混合することで、図2に示す塗工液10を作製するステップである。第4のステップは、図1に示すように、塗工液10を基材100上に塗工することで、塗工層を作製するステップである。第5のステップは、塗工層からポリシラザン用溶媒及びフッ素溶媒14を除去するステップである。第6のステップは、反応性フッ素ポリマーをポリシラザンに結合させると共に、ポリシラザンをシリカに転化するステップである。これらのステップにより、基材100上に改質シリカ膜1が形成される。改質シリカ膜1は、シリカを含むハードコート層20と反応性フッ素ポリマーを含む保護層30とを含む。すなわち、本実施形態では、塗工液10の1層コーティングによってハードコート層20と反応性フッ素ポリマーを含む保護層30とを作製する。以下、各ステップについて説明する。   The third step is a step of preparing the coating liquid 10 shown in FIG. 2 by mixing the polysilazane solution 11 and the reactive fluoropolymer solution 12. A 4th step is a step which produces a coating layer by coating the coating liquid 10 on the base material 100, as shown in FIG. The fifth step is a step of removing the polysilazane solvent and the fluorine solvent 14 from the coating layer. The sixth step is to bind the reactive fluoropolymer to the polysilazane and convert the polysilazane to silica. Through these steps, the modified silica film 1 is formed on the substrate 100. The modified silica film 1 includes a hard coat layer 20 containing silica and a protective layer 30 containing a reactive fluoropolymer. That is, in the present embodiment, the hard coat layer 20 and the protective layer 30 containing a reactive fluoropolymer are produced by one-layer coating of the coating liquid 10. Hereinafter, each step will be described.

(第1のステップ)
第1のステップは、ポリシラザンをポリシラザン用溶媒に溶解することでポリシラザン溶液11を作製するステップである。
(First step)
The first step is a step of preparing a polysilazane solution 11 by dissolving polysilazane in a solvent for polysilazane.

ポリシラザンは、パーヒドロ(perhydro)ポリシラザンとも称される無機ポリマーであり、以下の化学式(1)で示される構造を有する。化学式(1)中、nは自然数である。   Polysilazane is an inorganic polymer that is also referred to as perhydropolysilazane, and has a structure represented by the following chemical formula (1). In chemical formula (1), n is a natural number.

Figure 0006134576
Figure 0006134576

なお、ポリシラザンの重量平均分子量はなるべく低いことが好ましい。ポリシラザンの重量平均分子量が高いほど、ポリシラザンがポリシラザン溶液11中に結晶として析出しやすくなるからである。   The weight average molecular weight of polysilazane is preferably as low as possible. This is because the higher the weight average molecular weight of polysilazane, the easier it is for polysilazane to precipitate as crystals in the polysilazane solution 11.

ポリシラザン用溶媒は、以下の要件を満たす溶媒である。すなわち、(1)ポリシラザンを溶解する。(2)フッ素溶媒14と混和しない。(3)反応性フッ素ポリマー13及びフッ素溶媒14よりも表面張力が高い。ポリシラザン用溶媒がこれらの要件を満たすことで、塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工層の表面にブリードアウト(bleed out)することができる。すなわち、反応性フッ素ポリマー溶液12は大気側に引き寄せられる。   The solvent for polysilazane is a solvent that satisfies the following requirements. That is, (1) Polysilazane is dissolved. (2) Not miscible with the fluorine solvent 14. (3) The surface tension is higher than that of the reactive fluoropolymer 13 and the fluorine solvent 14. When the solvent for polysilazane satisfies these requirements, the reactive fluoropolymer solution 12 in the coating layer can be bleed out to the surface of the coating layer. That is, the reactive fluoropolymer solution 12 is drawn to the atmosphere side.

すなわち、ポリシラザン用溶媒がフッ素溶媒14と混和しない場合、図2及び図3に示すように、反応性フッ素ポリマー溶液12は、塗工液10中で微細なミセルとして存在することができる。また、反応性フッ素ポリマー13とポリシラザンとの反応も抑制される。そして、ポリシラザン溶媒の表面張力は反応性フッ素ポリマー13及びフッ素溶媒14の表面張力よりも高い。さらに、反応性フッ素ポリマー溶液12のミセルにはポリシラザン用溶媒からの反発力も作用する。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液12は、塗工層の表面にブリードアウトすることができる。図2中の矢印Aは、反応性フッ素ポリマー溶液12がブリードアウトする様子を示す。   That is, when the polysilazane solvent is not miscible with the fluorine solvent 14, the reactive fluoropolymer solution 12 can exist as fine micelles in the coating solution 10 as shown in FIGS. 2 and 3. Further, the reaction between the reactive fluoropolymer 13 and polysilazane is also suppressed. The surface tension of the polysilazane solvent is higher than the surface tension of the reactive fluoropolymer 13 and the fluorine solvent 14. Further, repulsive force from the polysilazane solvent acts on the micelles of the reactive fluoropolymer solution 12. Therefore, the reactive fluoropolymer solution 12 can bleed out on the surface of the coating layer. The arrow A in FIG. 2 shows how the reactive fluoropolymer solution 12 bleeds out.

なお、上記の観点からは、ポリシラザン用溶媒の表面張力と反応性フッ素ポリマー13及びフッ素溶媒14の表面張力との差分はなるべく大きいことが好ましい。当該差分が大きいほど、反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工層の表面にブリードアウトしやすくなるからである。より詳細には、ポリシラザン用溶媒の表面張力から反応性フッ素ポリマー13及びフッ素溶媒14の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上であることが好ましい。   From the above viewpoint, the difference between the surface tension of the polysilazane solvent and the surface tension of the reactive fluoropolymer 13 and the fluorine solvent 14 is preferably as large as possible. This is because the greater the difference, the easier the reactive fluoropolymer solution 12 will bleed out on the surface of the coating layer. More specifically, the value obtained by subtracting the larger value of the surface tensions of the reactive fluoropolymer 13 and the fluorine solvent 14 from the surface tension of the polysilazane solvent is preferably 5 or more.

上記の要件を満たすポリシラザン用溶媒としては、例えば疎水性かつ無極性の有機溶媒が挙げられる。このような有機溶媒としては、ジブチルエーテル(dibutyl ether)、キシレン(xylene)、ミネラルターペン(mineral turpentine)、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素が挙げられる。したがって、ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成されることが好ましい。なお、ジブチルエーテルの表面張力は22.4、キシレンの表面張力は30.0、ミネラルターペンの表面張力は25.0となる。   Examples of the solvent for polysilazane that satisfies the above requirements include hydrophobic and nonpolar organic solvents. Examples of the organic solvent include dibutyl ether, xylene, mineral turpentine, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons. Therefore, the polysilazane solvent is preferably composed of at least one selected from the group consisting of dibutyl ether, xylene, mineral terpenes, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons. The surface tension of dibutyl ether is 22.4, the surface tension of xylene is 30.0, and the surface tension of mineral terpenes is 25.0.

なお、ポリシラザン溶液11には、ポリシラザンを劣化させない添加剤を任意に溶解させてもよい。例えば、ポリシラザン溶液11には、アミン系の触媒を含めても良い。ポリシラザン溶液11にアミン系の触媒が含まれる場合、ポリシラザンのシリカ転化を室温で行うことができる。なお、ポリシラザンは、300〜400℃程度に加熱された場合にもシリカ転化するが、この処理では基材となる光学フィルムが熱ストレスを受ける。したがって、例えば光学フィルムに熱ストレスを掛けたくない場合、ポリシラザン溶液11にアミン系の触媒を含めればよい。   In the polysilazane solution 11, an additive that does not deteriorate the polysilazane may be arbitrarily dissolved. For example, the polysilazane solution 11 may contain an amine-based catalyst. When the polysilazane solution 11 contains an amine-based catalyst, the silica conversion of the polysilazane can be performed at room temperature. Polysilazane is converted to silica even when heated to about 300 to 400 ° C., but in this treatment, the optical film serving as the substrate is subjected to thermal stress. Therefore, for example, when it is not desired to apply heat stress to the optical film, an amine-based catalyst may be included in the polysilazane solution 11.

また、ポリシラザン用溶媒の含水率はなるべく低いことが好ましい。例えば、ポリシラザン用溶媒の含水率は1質量%未満(ポリシラザン用溶媒の総質量に対する水の質量%)であることが好ましい。ポリシラザン用溶媒中の水分はポリシラザンのシリカ転化を起こしてしまうからである。このようなシリカ転化は、改質シリカ膜1の品質を劣化させる。   The water content of the polysilazane solvent is preferably as low as possible. For example, the water content of the polysilazane solvent is preferably less than 1% by mass (mass% of water relative to the total mass of the solvent for polysilazane). This is because water in the polysilazane solvent causes silica conversion of the polysilazane. Such silica conversion deteriorates the quality of the modified silica film 1.

(第2のステップ)
第2のステップは、反応性フッ素ポリマー13をフッ素溶媒14に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液12を作製するステップである。
(Second step)
The second step is a step of preparing the reactive fluoropolymer solution 12 by dissolving the reactive fluoropolymer 13 in the fluorine solvent 14.

反応性フッ素ポリマー13は、図3に示すように、フッ素ポリマー主鎖13A及び結合基13Bを備える。反応性フッ素ポリマー13は、具体的には以下の化学式(2)で表される。   As shown in FIG. 3, the reactive fluoropolymer 13 includes a fluoropolymer main chain 13A and a bonding group 13B. The reactive fluoropolymer 13 is specifically represented by the following chemical formula (2).

Figure 0006134576
Figure 0006134576

化学式(2)中、Rf2は(パー)フルオロアルキル(perfluoroalkyl)基又は(パー)フルオロポリエーテル(perfluoropolyether)基、W2は連結基、Xは結合基13Bである。したがって、化学式(2)中、X以外がフッ素ポリマー主鎖13Aとなる。   In chemical formula (2), Rf2 is a (per) fluoroalkyl group or (per) fluoropolyether group, W2 is a linking group, and X is a linking group 13B. Therefore, in the chemical formula (2), other than X is the fluoropolymer main chain 13A.

(パー)フルオロアルキル基の構造は、特に限定されない。すなわち、(パー)フルオロアルキル基は、直鎖(例えば−CFCF,−CH(CFH,−CH(CFCF,−CHCH(CFH等)であっても、分岐構造(例えばCH(CF,CHCF(CF,CH(CH)CFCF,CH(CH)(CFCFH等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環又は6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル(perfluorocyclohexyl)基、パーフルオロシクロペンチル(perfluorocyclopentyl)基又はこれらで置換されたアルキル基等)であっても良い。 The structure of the (per) fluoroalkyl group is not particularly limited. That is, the (per) fluoroalkyl group is a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ). 4 H, etc.) even in a branched structure (eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H or the like, but an alicyclic structure (preferably a 5- or 6-membered ring such as a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group, or an alkyl group substituted with these. Etc.).

(パー)フルオロポリエーテル基は、エーテル結合を有する(パー)フルオロアルキル基であり、その構造は特に限定されない。すなわち、(パー)フルオロポリエーテル基としては、例えばCHOCHCFCF、CHCHOCHH、CHCHOCHCH17、CHCHOCFCFOCFCFH、フッ素原子を5個以上有する炭素数4〜20のフルオロシクロアルキルエーテル(fluorocycloalkylether)基等があげられる。また、他の例としては、(CFO(CFCFO)、[CF(CF)CFO]―[CF(CF)]、(CFCFCFO)、(CFCFO)などが挙げられる。ここで、x、yは任意の自然数である。 The (per) fluoropolyether group is a (per) fluoroalkyl group having an ether bond, and the structure thereof is not particularly limited. That is, as the (per) fluoropolyether group, for example, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, a fluorocycloalkyl ether group having 4 to 20 carbon atoms having 5 or more fluorine atoms, and the like. Other examples include (CF 2 ) x O (CF 2 CF 2 O) y , [CF (CF 3 ) CF 2 O] x- [CF 2 (CF 3 )], (CF 2 CF 2 CF 2 O) x , (CF 2 CF 2 O) x and the like. Here, x and y are arbitrary natural numbers.

連結基は、Rf2が(パー)フルオロアルキル基となる場合、少なくともエーテル結合を有する2価の官能基である。このような2価の官能基としては、(パー)フルオロポリエーテル基として列挙した例のメチル末端をメチレン基に変更したもの等が挙げられる。一方、連結基は、Rf2が(パー)フルオロポリエーテル基となる場合、特に限定されない。この場合、連結基は、例えば、メチレン(methylene)基、フェニレン(phenylene)基、アルキレン(alkylene)基、アリーレン(arylene)基、ヘテロアルキレン(heteroalkylene)基、又はこれらの組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、カルボニル(carbonyl)基、カルボニルオキシ(carbonyloxy)基、カルボニルイミノ(carbonylimino)基、スルホンアミド(sulfonamide)基等やこれらの組み合わさった官能基を有しても良いが挙げられる。光重合性官能基としては、アクリロイル(acryloyl)基及びメタクリロイル(methacryloyl)基等が挙げられる。したがって、フッ素ポリマー主鎖13Aは、全体として(パー)フルオロポリエーテル基となる。   When Rf2 is a (per) fluoroalkyl group, the linking group is a divalent functional group having at least an ether bond. Examples of such a divalent functional group include those obtained by changing the methyl terminal of the examples listed as (per) fluoropolyether groups to methylene groups. On the other hand, the linking group is not particularly limited when Rf2 is a (per) fluoropolyether group. In this case, examples of the linking group include a methylene group, a phenylene group, an alkylene group, an arylene group, a heteroalkylene group, and a combination group of these. It is done. These linking groups may further have a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbonylimino group, a sulfonamide group, or a functional group that combines these groups. Can be mentioned. Examples of the photopolymerizable functional group include an acryloyl group and a methacryloyl group. Therefore, the fluoropolymer main chain 13A is a (per) fluoropolyether group as a whole.

結合基13Bはポリシラザンに結合する官能基であり、例えば炭素数1〜4のアルコキシ(alkoxy)基、シラノール(silanol)基(水酸基)、ハロゲンまたは水素である。nは1〜3を表す。反応性フッ素ポリマー13の重量平均分子量は特に制限されないが、例えば10000以上となる。   The bonding group 13B is a functional group that bonds to polysilazane, and is, for example, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a silanol group (hydroxyl group), halogen, or hydrogen. n represents 1-3. The weight average molecular weight of the reactive fluoropolymer 13 is not particularly limited, but is, for example, 10,000 or more.

反応性フッ素ポリマー13は表面張力が非常に低く、例えば16.5以下となる。したがって、ポリシラザン用溶媒の表面張力との差分は5以上となる。   The reactive fluoropolymer 13 has a very low surface tension, for example, 16.5 or less. Therefore, the difference from the surface tension of the polysilazane solvent is 5 or more.

フッ素溶媒14は、フッ素を含み、かつ沸点が61℃以上となる有機溶媒である。フッ素溶媒14としては、例えばハイドロフルオロエーテル(hydrofluoroether)等が挙げられる。すなわち、フッ素溶媒14は、これらの溶媒から選択されるいずれか1種以上で構成される。フッ素溶媒14の表面張力も非常に低く、例えば15以下となる。したがって、ポリシラザン用溶媒の表面張力との差分は5以上となる。なお、後述する比較例で示されるように、沸点が61℃未満のフッ素溶媒14を使用した場合、改質シリカ膜1の防汚性が低下する。   The fluorine solvent 14 is an organic solvent containing fluorine and having a boiling point of 61 ° C. or higher. Examples of the fluorine solvent 14 include hydrofluoroether. That is, the fluorine solvent 14 is composed of any one or more selected from these solvents. The surface tension of the fluorine solvent 14 is very low, for example, 15 or less. Therefore, the difference from the surface tension of the polysilazane solvent is 5 or more. In addition, as shown by the comparative example mentioned later, when the fluorine solvent 14 whose boiling point is less than 61 degreeC is used, the antifouling property of the modified silica film 1 falls.

また、反応性フッ素ポリマー溶液12の濃度、すなわち反応性フッ素ポリマー溶液12の総質量に対する反応性フッ素ポリマー13の質量%は1〜30質量%である。反応性フッ素ポリマー溶液12の濃度が1質量%未満の場合、すなわち反応性フッ素ポリマー13に対してフッ素溶媒14が多すぎる場合、反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工液10中で安定して存在することができない。具体的には、塗工液10中でポリシラザン溶液11と反応性フッ素ポリマー溶液12とが完全に分離してしまう。より具体的には、反応性フッ素ポリマー溶液12がミセルとしてポリシラザン溶液11中に分散するのではなく、液層としてポリシラザン溶液11から分離してしまう。この結果、塗工液10が白濁する場合がある。また、シリカ転化後のシリカの架橋密度が低下し、ひいては改質シリカ膜の強度が低下する。   The concentration of the reactive fluoropolymer solution 12, that is, the mass% of the reactive fluoropolymer 13 with respect to the total mass of the reactive fluoropolymer solution 12 is 1 to 30 mass%. When the concentration of the reactive fluoropolymer solution 12 is less than 1% by mass, that is, when the fluorine solvent 14 is too much with respect to the reactive fluoropolymer 13, the reactive fluoropolymer solution 12 is stably present in the coating solution 10. Can not do it. Specifically, the polysilazane solution 11 and the reactive fluoropolymer solution 12 are completely separated in the coating solution 10. More specifically, the reactive fluoropolymer solution 12 is not dispersed in the polysilazane solution 11 as micelles but separated from the polysilazane solution 11 as a liquid layer. As a result, the coating liquid 10 may become cloudy. Further, the crosslink density of silica after silica conversion is lowered, and consequently the strength of the modified silica film is lowered.

一方、反応性フッ素ポリマー溶液12の濃度が30質量%より大きい場合、すなわちフッ素溶媒14に対して反応性フッ素ポリマー13が多すぎる場合、塗工液10中で反応性フッ素ポリマー13がポリシラザンと反応してしまう可能性がある。すなわち、シリカ転化後のシリカの架橋密度が低下し、ひいては改質シリカ膜の強度が低下する。   On the other hand, when the concentration of the reactive fluoropolymer solution 12 is larger than 30% by mass, that is, when the reactive fluoropolymer 13 is too much with respect to the fluorine solvent 14, the reactive fluoropolymer 13 reacts with polysilazane in the coating solution 10. There is a possibility that. That is, the crosslink density of silica after silica conversion is lowered, and consequently the strength of the modified silica film is lowered.

後述する実施例によれば、反応性フッ素ポリマー溶液12の濃度は3〜20質量%が好ましく、5〜10質量%がより好ましい。   According to Examples described later, the concentration of the reactive fluoropolymer solution 12 is preferably 3 to 20% by mass, and more preferably 5 to 10% by mass.

(第3のステップ)
第3のステップは、ポリシラザン溶液11と反応性フッ素ポリマー溶液12とを混合することで、塗工液10を作製するステップである。
(Third step)
The third step is a step of preparing the coating liquid 10 by mixing the polysilazane solution 11 and the reactive fluoropolymer solution 12.

反応性フッ素ポリマー13を単にポリシラザン溶液11に含めた場合、反応性フッ素ポリマー13の結合基13Bがポリシラザンと反応してしまう。そして、ポリシラザンのうち、反応性フッ素ポリマー13と反応した反応点は、シリカ転化の際に周辺のシリカ骨格と架橋しない。したがって、改質シリカ膜の架橋密度が低下し、ひいては改質シリカ膜の強度が低下してしまう。   When the reactive fluoropolymer 13 is simply included in the polysilazane solution 11, the bonding group 13B of the reactive fluoropolymer 13 reacts with the polysilazane. And the reaction point which reacted with the reactive fluoropolymer 13 among polysilazane does not bridge | crosslink with the surrounding silica frame | skeleton in the case of silica conversion. Therefore, the crosslink density of the modified silica film decreases, and as a result, the strength of the modified silica film decreases.

そこで、本実施形態では、反応性フッ素ポリマー13をフッ素溶媒14に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液12を作製する。そして、反応性フッ素ポリマー溶液12とポリシラザン溶液11とを混合することで、図2に示す塗工液10を作製する。ポリシラザン用溶媒はフッ素溶媒14と混和しないので、反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工液10中でミセルとして存在する。また、反応性フッ素ポリマー13はフッ素溶媒14中に存在するので、ポリシラザンとの反応が抑制される。同様に、フッ素溶媒14もポリシラザンと反応しない。したがって、塗工液10中でポリシラザンは安定して存在する。これにより、塗工液10の保存安定性が確保される。   Therefore, in this embodiment, the reactive fluoropolymer solution 12 is prepared by dissolving the reactive fluoropolymer 13 in the fluorine solvent 14. And the reactive fluoropolymer solution 12 and the polysilazane solution 11 are mixed, and the coating liquid 10 shown in FIG. 2 is produced. Since the solvent for polysilazane is not miscible with the fluorine solvent 14, the reactive fluoropolymer solution 12 exists as micelles in the coating solution 10. Moreover, since the reactive fluoropolymer 13 exists in the fluorine solvent 14, reaction with polysilazane is suppressed. Similarly, the fluorine solvent 14 does not react with polysilazane. Accordingly, the polysilazane is stably present in the coating solution 10. Thereby, the storage stability of the coating liquid 10 is ensured.

また、反応性フッ素ポリマー溶液12の表面張力(すなわち反応性フッ素ポリマー13の表面張力及びフッ素溶媒14の表面張力)はポリシラザン用溶媒の表面張力よりも非常に低い。さらに、反応性フッ素ポリマー溶液12にはポリシラザン溶液11からの反発力も作用する。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工層の表面にブリードアウトする。   The surface tension of the reactive fluoropolymer solution 12 (that is, the surface tension of the reactive fluoropolymer 13 and the surface tension of the fluorine solvent 14) is much lower than the surface tension of the polysilazane solvent. Furthermore, a repulsive force from the polysilazane solution 11 also acts on the reactive fluoropolymer solution 12. Therefore, the reactive fluoropolymer solution 12 bleeds out on the surface of the coating layer.

ここで、塗工液10中のポリシラザンと反応性フッ素ポリマー13との質量比は99:1〜90:10である。反応性フッ素ポリマー13の質量比が10を超える場合、すなわちポリシラザンに対して反応性フッ素ポリマー13が多すぎる場合、反応性フッ素ポリマー13がポリシラザンと反応してしまう可能性がある。すなわち、シリカ転化後のシリカの架橋密度が低下する可能性がある。一方、反応性フッ素ポリマー13の質量比が1未満となる場合、すなわち反応性フッ素ポリマー13に対してポリシラザンが多すぎる場合、十分な厚さの保護層30が形成されない。後述する実施例によれば、塗工液10中のポリシラザンと反応性フッ素ポリマー13との質量比は、97:3〜93:7が好ましく、97:3〜95:5がより好ましい。   Here, the mass ratio of the polysilazane and the reactive fluoropolymer 13 in the coating liquid 10 is 99: 1 to 90:10. When the mass ratio of the reactive fluoropolymer 13 exceeds 10, that is, when the reactive fluoropolymer 13 is too much relative to the polysilazane, the reactive fluoropolymer 13 may react with the polysilazane. That is, the crosslink density of silica after silica conversion may be reduced. On the other hand, when the mass ratio of the reactive fluoropolymer 13 is less than 1, that is, when the polysilazane is too much with respect to the reactive fluoropolymer 13, the protective layer 30 having a sufficient thickness is not formed. According to the Example mentioned later, 97: 3-93: 7 is preferable and, as for mass ratio of the polysilazane in the coating liquid 10, and the reactive fluoropolymer 13, 97: 3-95: 5 is more preferable.

(第4のステップ)
第4のステップは、図1に示すように、塗工液10を基材100上に塗工するステップである。なお、塗工の方法は特に問われず、公知の方法が任意に適用される。図1は、塗工の一例としてダイコーティング法(ダイスリット450を通して塗工液10を基材100上に塗工する方法)を示す。第4のステップによって、塗工層(塗工液10からなる層)が基材100上に形成される。塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液12は、塗工層の表面にブリードアウトする。なお、基材100は、改質シリカ膜1による機能が付与される膜である。改質シリカ膜1による機能を光学フィルムに付与する場合、基材100は光学フィルムとなる。
(Fourth step)
The fourth step is a step of applying the coating liquid 10 onto the substrate 100 as shown in FIG. In addition, the coating method is not particularly limited, and a known method is arbitrarily applied. FIG. 1 shows a die coating method (a method of coating the coating liquid 10 on the substrate 100 through the die slit 450) as an example of coating. By the fourth step, a coating layer (a layer made of the coating solution 10) is formed on the substrate 100. The reactive fluoropolymer solution 12 in the coating layer bleeds out on the surface of the coating layer. Note that the base material 100 is a film to which the function of the modified silica film 1 is imparted. When the function by the modified silica film 1 is imparted to the optical film, the substrate 100 is an optical film.

(第5のステップ)
第5のステップは、基材100上の塗工液10、すなわち塗工層からポリシラザン用溶媒及びフッ素溶媒14を除去するステップである。これらの溶媒は、例えば塗工層を100℃で1分間程度加熱することで除去される。
(Fifth step)
The fifth step is a step of removing the polysilazane solvent and the fluorine solvent 14 from the coating liquid 10 on the substrate 100, that is, the coating layer. These solvents are removed, for example, by heating the coating layer at 100 ° C. for about 1 minute.

(第6のステップ)
第6のステップは、反応性フッ素ポリマー13をポリシラザンに結合させると共に、ポリシラザンをシリカに転化する(硬化する)ステップである。ポリシラザン溶液にアミン系の触媒が含まれる場合、これらの反応は室温で進行する。ポリシラザン溶液にアミン系の溶媒が含まれない場合、これらの反応は、例えば塗工層を300〜400℃で加熱することにより進行する。塗工層のうち、ポリシラザンが主に分布している部分はハードコート層20となり、反応性フッ素ポリマー13が主に分布している部分は保護層30となる。以上のステップにより、基材100上に改質シリカ膜1が形成される。なお、シリカ転化の過程では、以下の化学式(3)で示す反応が起こっている。
(Sixth step)
The sixth step is a step in which the reactive fluoropolymer 13 is bonded to polysilazane and the polysilazane is converted (cured) to silica. When the polysilazane solution contains an amine-based catalyst, these reactions proceed at room temperature. When the amine solvent is not contained in the polysilazane solution, these reactions proceed, for example, by heating the coating layer at 300 to 400 ° C. Of the coating layer, the portion where polysilazane is mainly distributed becomes the hard coat layer 20, and the portion where the reactive fluoropolymer 13 is mainly distributed becomes the protective layer 30. Through the above steps, the modified silica film 1 is formed on the substrate 100. In the silica conversion process, a reaction represented by the following chemical formula (3) occurs.

Figure 0006134576
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<2.改質シリカ膜の構造及び特性>
次に、図1及び図4、図5にもとづいて、改質シリカ膜1の構造及び特性について説明する。
<2. Structure and Properties of Modified Silica Film>
Next, the structure and characteristics of the modified silica film 1 will be described with reference to FIGS. 1, 4, and 5.

改質シリカ膜1は、図1及び図4に示すように、ハードコート層20と保護層30とを有する。ハードコート層20は、ポリシラザンがシリカ転化することで形成されたシリカを含む。保護層30は、反応性フッ素ポリマー13を含む。反応性フッ素ポリマー13は、結合基13Bを介してハードコート層20のシリカに結合している。   As shown in FIGS. 1 and 4, the modified silica film 1 has a hard coat layer 20 and a protective layer 30. The hard coat layer 20 includes silica formed by converting polysilazane into silica. The protective layer 30 includes the reactive fluoropolymer 13. The reactive fluoropolymer 13 is bonded to the silica of the hard coat layer 20 through the bonding group 13B.

ここで、保護層30は、反応性フッ素ポリマー13を塗工層内でブリードアウトさせることで形成されたものである。すなわち、本実施形態に係る改質シリカ膜の製造方法は、従来の2層コーティング法のようにハードコート層20の表面に人為的に反応性フッ素ポリマー13を分布させたのではなく、ハードコート層20の表面に自然に反応性フッ素ポリマー13を分布させている。   Here, the protective layer 30 is formed by bleeding out the reactive fluoropolymer 13 in the coating layer. That is, the method for producing a modified silica film according to the present embodiment does not artificially distribute the reactive fluoropolymer 13 on the surface of the hard coat layer 20 as in the conventional two-layer coating method. The reactive fluoropolymer 13 is naturally distributed on the surface of the layer 20.

したがって、シリカの濃度分布(ケイ素原子濃度分布)と反応性フッ素ポリマー13の濃度分布(フッ素原子濃度分布)とはハードコート層20と保護層30との境界でゆるやかに変化する。すなわち、基材100の表面近傍ではケイ素原子濃度はほぼ100at%であるが、測定点から基材100までの距離が大きくなるほど測定点のケイ素原子濃度が低く、フッ素原子濃度が大きくなり、ある測定点で両者の原子濃度が同じ値となる。本実施形態では、両者の原子濃度が同じ値となる平面をハードコート層20と保護層30との境界面20Aとする。境界面20Aよりも改質シリカ膜1の表面に近い側の測定点では、フッ素原子濃度がケイ素原子濃度よりも高くなり、改質シリカ膜1の表面ではフッ素原子濃度はほぼ100at%となる。   Therefore, the silica concentration distribution (silicon atom concentration distribution) and the reactive fluorine polymer 13 concentration distribution (fluorine atom concentration distribution) change gradually at the boundary between the hard coat layer 20 and the protective layer 30. That is, the silicon atom concentration in the vicinity of the surface of the substrate 100 is approximately 100 at%, but as the distance from the measurement point to the substrate 100 increases, the silicon atom concentration at the measurement point decreases and the fluorine atom concentration increases. At the point, the atomic concentration of both is the same value. In the present embodiment, a plane where the atomic concentrations of both are the same value is defined as a boundary surface 20A between the hard coat layer 20 and the protective layer 30. At the measurement point closer to the surface of the modified silica film 1 than the boundary surface 20A, the fluorine atom concentration is higher than the silicon atom concentration, and the fluorine atom concentration is approximately 100 at% on the surface of the modified silica film 1.

さらに、図4に示すように、保護層30の表面には凹凸が形成されている。すなわち、改質シリカ膜1の表面は荒くなっている(凹凸ができている)。この理由としては、以下のものが考えられる。すなわち、本実施形態では、反応性フッ素ポリマー13のブリードアウト(自然な移動)によってハードコート層20と保護層30との境界面20Aが形成されるので、ハードコート層20と保護層30との境界面20Aが荒くなる(凹凸ができている)。したがって、その表面に形成される保護層30の表面も荒くなる。保護層30の表面形状は、例えば走査型電子顕微鏡(SEM)または形状測定レーザマイクロスコープによる観察により確認することができる。ここで、形状測定レーザマイクロスコープは、レーザを用いて対象物の非接触3次元測定を行うことで、観察視野全域の3次元データを取得するものである。形状測定レーザマイクロスコープとしては、KEYENCE JAPAN社製のVK−9500が挙げられる。もちろん、形状測定レーザマイクロスコープはこの例に限られない。   Furthermore, as shown in FIG. 4, irregularities are formed on the surface of the protective layer 30. That is, the surface of the modified silica film 1 is rough (uneven). The following can be considered as this reason. That is, in the present embodiment, the boundary surface 20A between the hard coat layer 20 and the protective layer 30 is formed by bleed-out (natural movement) of the reactive fluoropolymer 13, so that the hard coat layer 20 and the protective layer 30 are The boundary surface 20A becomes rough (unevenness is formed). Therefore, the surface of the protective layer 30 formed on the surface becomes rough. The surface shape of the protective layer 30 can be confirmed, for example, by observation with a scanning electron microscope (SEM) or a shape measuring laser microscope. Here, the shape measurement laser microscope obtains three-dimensional data of the entire observation visual field by performing non-contact three-dimensional measurement of an object using a laser. Examples of the shape measuring laser microscope include VK-9500 manufactured by KEYENCE JAPAN. Of course, the shape measuring laser microscope is not limited to this example.

一方、図5に示すように、従来の2層コーティング法により作製された改質シリカ膜では、まずシリカを含むハードコート層200を作製し、ついで、反応性フッ素ポリマー13を含む保護層300をハードコート層200上に形成する。したがって、ハードコート層200と保護層300との境界面200Aは非常に平坦になっている。   On the other hand, as shown in FIG. 5, in the modified silica film produced by the conventional two-layer coating method, first, the hard coat layer 200 containing silica is produced, and then the protective layer 300 containing the reactive fluoropolymer 13 is formed. It is formed on the hard coat layer 200. Therefore, the boundary surface 200A between the hard coat layer 200 and the protective layer 300 is very flat.

本実施形態に係る改質シリカ膜1と従来の改質シリカ膜とを比較すると、本実施形態では、境界面20Aに凹凸が形成されるので、境界面20Aの面積が従来よりも拡大する。この結果、境界面20Aの表面には従来よりも多くの反応性フッ素ポリマー13が分布する。したがって、汚れ成分400には従来よりも多くの反応性フッ素ポリマー13が接触する。さらに、本実施形態では、保護層30の表面に凹凸が形成されているので、汚れ成分400と保護層30との間には空気が入り込む。したがって、汚れ成分400が液体(例えば指紋中の液体成分)である場合、図4及び図5に示すように、汚れ成分400の接触角は従来よりも大きくなる。したがって、改質シリカ膜1は表面の濡れ性が低下する。   When the modified silica film 1 according to the present embodiment is compared with the conventional modified silica film, in the present embodiment, since the unevenness is formed on the boundary surface 20A, the area of the boundary surface 20A is larger than the conventional area. As a result, more reactive fluoropolymer 13 is distributed on the surface of the boundary surface 20A than before. Therefore, more reactive fluoropolymers 13 are in contact with the soil component 400 than in the past. Furthermore, in this embodiment, since the irregularities are formed on the surface of the protective layer 30, air enters between the dirt component 400 and the protective layer 30. Therefore, when the dirt component 400 is a liquid (for example, a liquid component in a fingerprint), the contact angle of the dirt component 400 is larger than the conventional one as shown in FIGS. Therefore, the surface of the modified silica film 1 is reduced.

また、改質シリカ膜1の表面の凹凸は、反応性フッ素ポリマー13の自然な移動(ブリードアウト)によって形成されたものなので、なだらかである。したがって、汚れ成分400が固形(たとえば指紋中のワックス成分)である場合、凹部に入り込んだ汚れ成分400が取れなくなる(すなわち改質シリカ膜1の表面にこびりつく)ことが抑制される。   Further, the unevenness on the surface of the modified silica film 1 is gentle because it is formed by natural movement (bleed out) of the reactive fluoropolymer 13. Therefore, when the dirt component 400 is solid (for example, a wax component in a fingerprint), it is possible to prevent the dirt component 400 that has entered the recess from being removed (that is, sticking to the surface of the modified silica film 1).

また、後述する実施例に示されるように、改質シリカ膜1の平均表面粗さRa(nm)は3.0以上9.0以下であることが好ましい。平均表面粗さRa(nm)は3.0以上9.0以下となる場合、耐擦傷性及びオレイン酸転落角のうち、少なくとも一方が向上する。ここで、平均表面粗さRaは、保護層30の凸部の高さの算術平均値であり、凸部の高さは、凸部の頂点から凸部に隣接する凹部の下端点(最もハードコート層20に近い点)までの距離である。これらの値は形状測定レーザマイクロスコープにより測定される。以下の実施例及び比較例では、平均表面粗さをKEYENCE JAPAN社製のVK−9500で測定した。   Moreover, as shown in the Examples described later, the average surface roughness Ra (nm) of the modified silica film 1 is preferably 3.0 or more and 9.0 or less. When the average surface roughness Ra (nm) is 3.0 or more and 9.0 or less, at least one of the scratch resistance and the oleic acid sliding angle is improved. Here, the average surface roughness Ra is an arithmetic average value of the heights of the convex portions of the protective layer 30, and the height of the convex portions is the lower end point of the concave portion adjacent to the convex portion from the apex of the convex portion (most hardest It is a distance to a point close to the coat layer 20. These values are measured by a shape measuring laser microscope. In the following examples and comparative examples, the average surface roughness was measured with VK-9500 manufactured by KEYENCE JAPAN.

(実施例1)
次に、本実施形態の実施例について説明する。実施例1では、以下の製法により改質シリカ膜を作製した。
Example 1
Next, examples of the present embodiment will be described. In Example 1, a modified silica film was produced by the following production method.

ポリシラザン溶液の原液として、AZエレクトロマテリアルズ社NAX120−20を用意した。以下、この原液を「ポリシラザン原液」とも称する。ポリシラザン原液は、ポリシラザンをポリシラザン原液の総質量に対して20質量%含む。また、ポリシラザン原液の溶媒はジブチルエーテルであり、アミン系の触媒を含む。   AZ Electromaterials NAX120-20 was prepared as a stock solution of the polysilazane solution. Hereinafter, this stock solution is also referred to as “polysilazane stock solution”. The polysilazane stock solution contains 20% by mass of polysilazane with respect to the total mass of the polysilazane stock solution. The solvent of the polysilazane stock solution is dibutyl ether and contains an amine-based catalyst.

ついで、ポリシラザン原液9.9質量部にジブチルエーテルを所定量加えて穏やかに10分間撹拌した。これにより、ポリシラザン溶液を作製した。ここで、ポリシラザン原液に加えるジブチルエーテルの量は、後述する塗工液中の固形分(ポリシラザン+反応性フッ素ポリマー)の質量部が2となるように決定した。   Next, a predetermined amount of dibutyl ether was added to 9.9 parts by mass of the polysilazane stock solution and gently stirred for 10 minutes. This produced the polysilazane solution. Here, the amount of dibutyl ether added to the polysilazane stock solution was determined so that the mass part of the solid content (polysilazane + reactive fluoropolymer) in the coating solution described later was 2.

一方、反応性フッ素ポリマーとして信越化学工業社製のKY−164(表面張力16.1)を用意し、フッ素溶媒として住友3M社製のNovec7200(表面張力13.6、沸点76℃)を用意した。Novec7200及び後述するNovec7000、Novec7100、Novec7300はいずれもハイドロフルオロエーテルである。   On the other hand, KY-164 (surface tension 16.1) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was prepared as a reactive fluoropolymer, and Novec 7200 (surface tension 13.6, boiling point 76 ° C.) manufactured by Sumitomo 3M Co. was prepared as a fluorine solvent. . Novec 7200 and Novec 7000, Novec 7100, and Novec 7300 described later are all hydrofluoroethers.

ついで、反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで、反応性フッ素ポリマーを20質量%(反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対する質量%)含む反応性フッ素ポリマー溶液を作製した。   Next, a reactive fluoropolymer solution containing 20% by mass of the reactive fluoropolymer (% by mass with respect to the total mass of the reactive fluoropolymer solution) was prepared by dissolving the reactive fluoropolymer in a fluorine solvent.

ついで、ポリシラザン溶液に反応性フッ素ポリマー溶液0.1質量部を加え、10分間撹拌した。これにより、塗工液を作製した。塗工液は、固形分(ポリシラザン+反応性フッ素ポリマー)を2質量部、溶媒分を98質量部含む。なお、塗工液の一部を後述する評価用に保管した。   Next, 0.1 part by mass of a reactive fluoropolymer solution was added to the polysilazane solution and stirred for 10 minutes. This produced the coating liquid. The coating liquid contains 2 parts by mass of solid content (polysilazane + reactive fluoropolymer) and 98 parts by mass of solvent. A part of the coating solution was stored for evaluation described later.

ついで、PMMA(Poly(methyl methacrylate))基材上に塗工液を改質シリカ膜の層厚が約200nmとなるように塗工した。塗工はワイヤーバー(wire bar)を用いて行われた。これにより、塗工層を作製した。上述したように、塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液は塗工層の表面にブリードアウトする。ついで、塗工層を100℃で1分間加熱することで、塗工層から溶媒を除去した。なお、上記の各処理はすべて窒素雰囲気下で行われた。   Then, a coating solution was applied on a PMMA (Poly (methyl methacrylate)) substrate so that the layer thickness of the modified silica film was about 200 nm. The coating was performed using a wire bar. This produced the coating layer. As described above, the reactive fluoropolymer solution in the coating layer bleeds out on the surface of the coating layer. Subsequently, the solvent was removed from the coating layer by heating the coating layer at 100 ° C. for 1 minute. All the above treatments were performed in a nitrogen atmosphere.

その後、塗工層を室温(23℃、相対湿度54%)で1週間放置した。これにより、ポリシラザンのシリカ転化及び反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの結合反応が進行した。すなわち、改質シリカ膜が作製された。   Thereafter, the coating layer was allowed to stand at room temperature (23 ° C., relative humidity 54%) for 1 week. Thereby, the silica conversion of polysilazane and the bonding reaction between the reactive fluoropolymer and polysilazane proceeded. That is, a modified silica film was produced.

(実施例2〜14、比較例1〜10)
ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比、反応性フッ素ポリマーの種類、フッ素溶媒の種類、フッ素溶媒の有無、及び反応性フッ素ポリマー溶液の濃度を変更した他は実施例1と同様の処理を行った。表1に実施例1〜14、比較例1〜10における固形分の質量部、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比、フッ素溶媒の有無、及び反応性フッ素ポリマー溶液の濃度をまとめて示す。
(Examples 2-14, Comparative Examples 1-10)
The same treatment as in Example 1 was performed except that the mass ratio of polysilazane and reactive fluoropolymer, the type of reactive fluoropolymer, the type of fluorosolvent, the presence or absence of the fluorosolvent, and the concentration of the reactive fluoropolymer solution were changed. It was. Table 1 summarizes the mass parts of the solid content in Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 10, the mass ratio of polysilazane and reactive fluoropolymer, the presence or absence of a fluorine solvent, and the concentration of the reactive fluoropolymer solution.

Figure 0006134576
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反応性フッ素ポリマー(フッ素ポリマー)の列のうち、※1は信越化学工業社製のKY−108(表面張力16.5)を示し、※2はダイキン工業社製のオプツールDSX(表面張力15.9)を示し、※3はGE東芝シリコーン社製のTSL−8257(表面張力16.8)を示す。ここで、TSL−8257の分子式は、CF(CFCHCHSi(OMe)である。したがって、TSL−8257は、パーフルオロポリエーテルを含まないパーフルオロアルキルとなるので、本発明の反応性フッ素ポリマーとは異なる。無印は信越化学工業社製のKY−164を示す。 In the column of reactive fluoropolymers (fluoropolymer), * 1 indicates KY-108 (surface tension 16.5) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. * 2 indicates OPTOOL DSX (surface tension 15.5) manufactured by Daikin Industries, Ltd. 9) and * 3 indicates TSL-8257 (surface tension 16.8) manufactured by GE Toshiba Silicone. Here, the molecular formula of TSL-8257 is CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OMe) 3 . Therefore, TSL-8257 is a perfluoroalkyl containing no perfluoropolyether, which is different from the reactive fluoropolymer of the present invention. No symbol indicates KY-164 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

反応性フッ素ポリマー溶液濃度(フッ素溶液濃度)の列の内、※4は住友3M社製のNovec7000(表面張力12.4、沸点34℃)を示し、※5は住友3M社製のNovec7100(表面張力13.6、沸点61℃)を示し、※6は住友3M社製のNovec7300(表面張力15.0、沸点98℃)を示す。無印は住友3M社製のNovec7200を示す。   In the column of reactive fluoropolymer solution concentration (fluorine solution concentration), * 4 indicates Novec 7000 (surface tension 12.4, boiling point 34 ° C.) manufactured by Sumitomo 3M, and * 5 indicates Novec 7100 (surface) manufactured by Sumitomo 3M. * 6 indicates Novec 7300 (surface tension 15.0, boiling point 98 ° C.) manufactured by Sumitomo 3M. No mark indicates Novec7200 manufactured by Sumitomo 3M.

表1に示されるように、実施例1〜14では、ポリシラザン用溶媒の表面張力から反応性フッ素ポリマー及びフッ素溶媒の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上となっている。また、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの質量比、及び反応性フッ素ポリマー溶液の濃度はいずれも本実施形態で示した範囲内の値となっている。   As shown in Table 1, in Examples 1 to 14, the value obtained by subtracting the larger value of the surface tensions of the reactive fluoropolymer and the fluorine solvent from the surface tension of the polysilazane solvent is 5 or more. Further, the mass ratio between the polysilazane and the reactive fluoropolymer, and the concentration of the reactive fluoropolymer solution are values within the range shown in the present embodiment.

また、比較例1ではシリカ膜の単一層だけが形成される(保護層は形成されない)。比較例3、6、7はポリシラザン溶液に単に反応性フッ素ポリマーを投入しただけなので、特許文献1に開示された方法に相当する。   In Comparative Example 1, only a single layer of silica film is formed (a protective layer is not formed). Comparative Examples 3, 6, and 7 correspond to the method disclosed in Patent Document 1 because the reactive fluoropolymer is simply added to the polysilazane solution.

(試験)
つぎに、各実施例及び比較例に係る改質シリカ膜について、以下のワイプ擦り試験を行った。
(test)
Next, the following wipe rubbing test was performed on the modified silica films according to the respective examples and comparative examples.

改質シリカ膜の表面を垂直方向(上下方向)に500g/cmの荷重をかけながらワイプにて10往復の摩耗を行った。ワイプは、日本製紙クレシア社製のキムワイプワイパーS−200を使用した。 The surface of the modified silica film was subjected to 10 reciprocating wears with a wipe while applying a load of 500 g / cm 2 in the vertical direction (vertical direction). The wipe used was a Kim wipe wiper S-200 manufactured by Nippon Paper Crecia.

(塗工液の評価)
各実施例及び比較例で作製した塗工液を作製直後(初期)及び12時間保管後に目視により観察した。これにより、塗工液の白濁の有無を確認した。
(Evaluation of coating solution)
The coating liquid prepared in each Example and Comparative Example was visually observed immediately after preparation (initial) and after storage for 12 hours. This confirmed the presence or absence of the cloudiness of the coating liquid.

(接触角(CA)評価)
全自動接触角計DM700(協和界面科学株式会社製)を使用し、改質シリカ膜上に2μlの純水を滴下し接触角を測定した。ワイプ擦り試験前(初期)の改質シリカ膜の接触角とワイプ擦り試験後の改質シリカ膜の接触角とをそれぞれ測定し、これらの差分(△CA)を算出した。△CAが小さいほど、ワイプ擦りによる性能劣化が小さい、すなわち耐擦傷性が高いといえる。
(Contact angle (CA) evaluation)
Using a fully automatic contact angle meter DM700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), 2 μl of pure water was dropped on the modified silica film, and the contact angle was measured. The contact angle of the modified silica film before the wipe rub test (initial stage) and the contact angle of the modified silica film after the wipe rub test were measured, and the difference (ΔCA) between them was calculated. It can be said that as ΔCA is smaller, the performance deterioration due to wipe rubbing is smaller, that is, the scratch resistance is higher.

(オレイン酸転落角評価)
全自動接触角計DM700(協和界面科学株式会社製)を使用してオレイン(oleic)酸転落角を測定した。具体的には、ワイプ(wipe)擦り試験前の改質シリカ膜上に5μlのオレイン酸を滴下し、改質シリカ膜を傾斜させた。そして、オレイン酸が動き始めた際の角度をオレイン酸転落角とした。
(Oleic acid falling angle evaluation)
The oleic acid falling angle was measured using a fully automatic contact angle meter DM700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Specifically, 5 μl of oleic acid was dropped on the modified silica film before the wipe rubbing test to incline the modified silica film. The angle when the oleic acid started to move was defined as the oleic acid falling angle.

(平均表面粗さ評価)
ワイプ擦り試験前の改質シリカ膜の平均表面粗さ(Ra)をKEYENCE JAPAN社製のVK−9500で測定した。
(Average surface roughness evaluation)
The average surface roughness (Ra) of the modified silica film before the wipe rubbing test was measured by VK-9500 manufactured by KEYENCE JAPAN.

(鉛筆擦り試験)
改質シリカ膜の強度を評価するために、JIS−K−5600に準拠した鉛筆擦り試験を行った。ここで、図6に基づいて、鉛筆擦り試験に用いられる試験装置500について説明する。図6は、試験装置500を用いて本実施形態に係る改質シリカ膜1の鉛筆擦り試験を行う様子を示している。
(Pencil scrub test)
In order to evaluate the strength of the modified silica film, a pencil rubbing test based on JIS-K-5600 was performed. Here, based on FIG. 6, the test apparatus 500 used for the pencil rubbing test will be described. FIG. 6 shows a state in which a pencil rubbing test is performed on the modified silica film 1 according to this embodiment using the test apparatus 500.

試験装置500は、装置本体500Aと、水準器502と、小型移動おもり503と、締め具504と、O型リング505とを備える。装置本体500Aには鉛筆501が挿入される貫通穴が形成されている。貫通穴に挿入された鉛筆501の長さ方向と装置本体500Aの底面(すなわち改質シリカ膜1の表面)との角度θは45度である。水準器502は装置本体500Aが水平であることを確認するための部品である。小型移動おもり503は、鉛筆501の芯501Aに掛ける荷重を調整するための部品である。小型移動おもり503は矢印503A方向に移動可能となっている。締め具504は、鉛筆501を装置本体500A内に固定するものである。O型リング505は、装置本体500Aに回転可能に取り付けられている。O型リング505は、改質シリカ膜1上を転がることで、試験装置500を試験方向に移動させる。   The test apparatus 500 includes an apparatus main body 500A, a level 502, a small moving weight 503, a fastener 504, and an O-shaped ring 505. A through-hole into which the pencil 501 is inserted is formed in the apparatus main body 500A. An angle θ between the length direction of the pencil 501 inserted into the through hole and the bottom surface of the apparatus main body 500A (that is, the surface of the modified silica film 1) is 45 degrees. The level 502 is a component for confirming that the apparatus main body 500A is horizontal. The small moving weight 503 is a component for adjusting the load applied to the core 501A of the pencil 501. The small moving weight 503 is movable in the direction of the arrow 503A. The fastener 504 fixes the pencil 501 in the apparatus main body 500A. The O-ring 505 is rotatably attached to the apparatus main body 500A. The O-shaped ring 505 moves the test apparatus 500 in the test direction by rolling on the modified silica film 1.

つぎに、鉛筆擦り試験の方法を説明する。ここでは、本実施形態に係る改質シリカ膜1(基材100上に形成されたもの)の鉛筆擦り試験を一例として鉛筆擦り試験の方法を説明する。   Next, the method of the pencil rubbing test will be described. Here, a method of the pencil rubbing test will be described taking the pencil rubbing test of the modified silica film 1 (formed on the base material 100) according to the present embodiment as an example.

まず、試験装置500に鉛筆501を挿入、固定する。ついで、改質シリカ膜1に鉛筆500の芯を押し当てる。ついで、試験装置500が水平になっていることを水準器502で確認する。ついで、小型おもり503の位置を調整することで、鉛筆501の芯501Aに500gの荷重をかける。ついで、試験装置500を図6に示す試験方向に0.8mm/秒のスピードで移動させる。これにより、鉛筆501の芯501Aが改質シリカ膜1の表面を擦る。以上の処理が鉛筆擦り試験となる。その後、目視にて傷の有無を確認する。傷が確認された場合には、鉛筆501の芯501Aの硬度を下げて、上記の鉛筆擦り試験を行う。傷が確認されない場合には、鉛筆501の芯501Aの硬度を上げて、上記の鉛筆擦り試験を行う。そして、傷が確認されない最大の硬度(鉛筆硬度)を測定する。この硬度は、改質シリカ膜1の強度(耐擦傷性)を示すパラメータとなる。鉛筆硬度は、2H>H>F>HB>Bの順番で高くなる。   First, the pencil 501 is inserted and fixed in the test apparatus 500. Next, the core of the pencil 500 is pressed against the modified silica film 1. Next, the level 502 confirms that the test apparatus 500 is level. Next, a load of 500 g is applied to the core 501A of the pencil 501 by adjusting the position of the small weight 503. Next, the test apparatus 500 is moved at a speed of 0.8 mm / second in the test direction shown in FIG. Thereby, the core 501 </ b> A of the pencil 501 rubs the surface of the modified silica film 1. The above process becomes a pencil rubbing test. Thereafter, the presence or absence of scratches is confirmed visually. When scratches are confirmed, the above-mentioned pencil rubbing test is performed with the hardness of the core 501A of the pencil 501 lowered. If no scratch is confirmed, the hardness of the core 501A of the pencil 501 is increased and the pencil rubbing test is performed. Then, the maximum hardness (pencil hardness) at which no scratch is confirmed is measured. This hardness is a parameter indicating the strength (scratch resistance) of the modified silica film 1. The pencil hardness increases in the order of 2H> H> F> HB> B.

(実施例と比較例との対比)
上記試験及び評価の結果を表2にまとめて示す。
(Contrast between Example and Comparative Example)
The test and evaluation results are summarized in Table 2.

Figure 0006134576
Figure 0006134576

(白濁の有無)
実施例と比較例とを比較すると、実施例の塗工液は白濁しなかったが、比較例2〜7の塗工液は初期から白濁していた。比較例1の塗工液は白濁しなかったが、これは反応性フッ素ポリマーが塗工液に含まれていないためである。さらに、実施例1〜14の強度(鉛筆硬度)は比較例1〜10の強度よりも大きくなった。比較例2〜10では塗工液中で反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとが反応し、この結果、改質シリカ膜の架橋密度が低下したと推察される。比較例2〜7の白濁は、ポリシラザンと反応性フッ素ポリマーとの反応により生じたものと推察される。比較例1のシリカ膜は保護層を有していないので、強度が低くなっている。これに対し、実施例1〜14では、塗工液中で反応性フッ素ポリマーが塗工液の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマーとポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜の架橋密度が比較例2〜10よりも大きくなり、この結果、強度が大きくなったと推察される。
(Presence or absence of cloudiness)
When Examples and Comparative Examples were compared, the coating liquids of Examples were not cloudy, but the coating liquids of Comparative Examples 2 to 7 were cloudy from the beginning. The coating liquid of Comparative Example 1 did not become cloudy because the reactive fluoropolymer was not contained in the coating liquid. Furthermore, the intensity | strength (pencil hardness) of Examples 1-14 became larger than the intensity | strength of Comparative Examples 1-10. In Comparative Examples 2 to 10, it is surmised that the reactive fluoropolymer and polysilazane reacted in the coating solution, and as a result, the crosslink density of the modified silica film decreased. The white turbidity in Comparative Examples 2 to 7 is presumed to be caused by the reaction between polysilazane and a reactive fluoropolymer. Since the silica film of Comparative Example 1 does not have a protective layer, the strength is low. On the other hand, in Examples 1-14, since a reactive fluoropolymer bleeds out to the surface of a coating liquid in a coating liquid, reaction with a reactive fluoropolymer and polysilazane is suppressed. Therefore, it is speculated that the crosslink density of the modified silica film is higher than those of Comparative Examples 2 to 10, and as a result, the strength is increased.

(接触角及び転落角)
実施例1〜14では、上記に加え、耐擦傷性(△CA)及びオレイン酸転落角のうち、少なくとも一方が大半の比較例よりも優れている。この理由として、実施例の平均表面粗さRaが3.0〜9.0nmの範囲内の値となっていることが考えられる。なお、比較例4の△CAオレイン酸転落角は、一部の実施例程度の値となっているが、比較例4の強度は依然として実施例1〜14よりも低い。また、比較例1のシリカ膜の表面に従来の2層コーティング法により保護層を形成したところ、保護層の平均表面粗さは2.1nmであった。したがって、従来の2層コーティング法では、本実施形態の平均表面粗さは実現できない。そして、このときの初期CAは108.5°、△CAは7.5°、オレイン酸転落角は9°であった。各実施例の初期CA、△CA、及びオレイン酸転落角のすくなくとも1つは、比較例1の値よりも優れている。
(Contact angle and sliding angle)
In Examples 1 to 14, in addition to the above, at least one of scratch resistance (ΔCA) and oleic acid sliding angle is superior to most comparative examples. As this reason, it is possible that the average surface roughness Ra of an Example is a value within the range of 3.0-9.0 nm. In addition, although the (DELTA) CA oleic acid falling angle of the comparative example 4 is a value about a part of Examples, the intensity | strength of the comparative example 4 is still lower than Examples 1-14. Further, when a protective layer was formed on the surface of the silica film of Comparative Example 1 by the conventional two-layer coating method, the average surface roughness of the protective layer was 2.1 nm. Therefore, the average surface roughness of this embodiment cannot be realized by the conventional two-layer coating method. At this time, initial CA was 108.5 °, ΔCA was 7.5 °, and oleic acid sliding angle was 9 °. At least one of the initial CA, ΔCA, and oleic acid sliding angle of each example is superior to the value of Comparative Example 1.

上記の実施例及び比較例により、本実施形態による改質シリカ膜は従来の改質シリカ膜よりも強度が高いことが立証された。   From the above examples and comparative examples, it was proved that the modified silica film according to the present embodiment has higher strength than the conventional modified silica film.

以上により、本実施形態では、ポリシラザン溶液11と反応性フッ素ポリマー溶液12とを混合することで、塗工液10を作製する。そして、塗工液10を基材100上に塗工することで塗工層を作製する。塗工層中の反応性フッ素ポリマー溶液12は、塗工層の表面に自然にブリードアウトする。したがって、本実施形態では、塗工液10を基材100上に1層コーティングするだけで、改質シリカ膜1、すなわちハードコート層20及び保護層30を形成することができる。したがって、改質シリカ膜1を容易に作製することができる。さらに、塗工層中で反応性フッ素ポリマー溶液12は塗工層の表面にブリードアウトするので、反応性フッ素ポリマー13とポリシラザンとの反応が抑制される。したがって、改質シリカ膜1の強度は従来の改質シリカ膜よりも向上する。   As described above, in the present embodiment, the coating liquid 10 is prepared by mixing the polysilazane solution 11 and the reactive fluoropolymer solution 12. And a coating layer is produced by coating the coating liquid 10 on the base material 100. FIG. The reactive fluoropolymer solution 12 in the coating layer naturally bleeds out on the surface of the coating layer. Therefore, in this embodiment, the modified silica film 1, that is, the hard coat layer 20 and the protective layer 30 can be formed only by coating one layer of the coating liquid 10 on the substrate 100. Therefore, the modified silica film 1 can be easily produced. Furthermore, since the reactive fluoropolymer solution 12 bleeds out to the surface of the coating layer in the coating layer, the reaction between the reactive fluoropolymer 13 and polysilazane is suppressed. Therefore, the strength of the modified silica film 1 is improved as compared with the conventional modified silica film.

さらに、ポリシラザン用溶媒の表面張力から反応性フッ素ポリマー13及びフッ素溶媒14の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上であるので、反応性フッ素ポリマー溶液12はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   Furthermore, since the value obtained by subtracting the larger value of the surface tensions of the reactive fluoropolymer 13 and the fluorine solvent 14 from the surface tension of the polysilazane solvent is 5 or more, the reactive fluoropolymer solution 12 is applied more efficiently. Bleed out on the surface of the construction layer.

さらに、ポリシラザン用溶媒は、疎水性かつ無極性の有機溶媒であるので、フッ素溶媒14と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液12はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   Furthermore, since the solvent for polysilazane is a hydrophobic and nonpolar organic solvent, it is not miscible with the fluorine solvent 14. Therefore, the reactive fluoropolymer solution 12 can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

さらに、ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成される。これらの溶媒は、フッ素溶媒14と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液12はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   Furthermore, the polysilazane solvent is composed of at least one selected from the group consisting of dibutyl ether, xylene, mineral terpenes, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons. These solvents are not miscible with the fluorine solvent 14. Therefore, the reactive fluoropolymer solution 12 can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

さらに、フッ素溶媒は、ハイドロフルオロエーテルで構成される。これらの溶媒は表面張力がポリシラザン溶媒よりも低く、かつポリシラザン溶媒と混和しない。したがって、反応性フッ素ポリマー溶液12はより効率的に塗工層の表面にブリードアウトすることができる。   Furthermore, the fluorine solvent is composed of hydrofluoroether. These solvents have a lower surface tension than the polysilazane solvent and are not miscible with the polysilazane solvent. Therefore, the reactive fluoropolymer solution 12 can bleed out to the surface of the coating layer more efficiently.

さらに、改質シリカ膜1の平均表面粗さは3.0〜9.0nmとなっているので、耐擦傷性及びオレイン酸転落角のうち少なくとも一方が向上する。   Furthermore, since the average surface roughness of the modified silica film 1 is 3.0 to 9.0 nm, at least one of the scratch resistance and the oleic acid falling angle is improved.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can come up with various changes or modifications within the scope of the technical idea described in the claims. Of course, it is understood that these also belong to the technical scope of the present invention.

1 改質シリカ膜
10 塗工液
11 ポリシラザン溶液
12 反応性フッ素ポリマー溶液
13 反応性フッ素ポリマー
14 フッ素溶媒
20 ハードコート層
30 保護層


1 Modified Silica Film 10 Coating Solution 11 Polysilazane Solution 12 Reactive Fluoropolymer Solution 13 Reactive Fluoropolymer 14 Fluorine Solvent 20 Hard Coat Layer 30 Protective Layer


Claims (7)

ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで反応性フッ素ポリマー溶液を作製するステップと、
前記フッ素溶媒と混和せず、かつ前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することでポリシラザン溶液を作製するステップと、
前記ポリシラザン溶液と前記反応性フッ素ポリマー溶液とを混合することで、塗工液を作製するステップと、
前記塗工液を基材上に塗工することで、塗工層を作製するステップと、
前記塗工層から前記ポリシラザン用溶媒及び前記フッ素溶媒を除去するステップと、
前記結合基を前記ポリシラザンに結合させると共に、前記ポリシラザンをシリカに転化するステップと、を含み、
前記塗工液中の前記ポリシラザンと前記反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、
前記反応性フッ素ポリマー溶液は、前記反応性フッ素ポリマーを前記反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、
前記フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、改質シリカ膜の製造方法。
Creating a reactive fluoropolymer solution by dissolving a reactive fluoropolymer having a linking group that binds to polysilazane in a fluorosolvent;
Creating a polysilazane solution by dissolving polysilazane in a solvent for polysilazane that is immiscible with the fluorine solvent and has a higher surface tension than the reactive fluoropolymer and the fluorine solvent;
Mixing the polysilazane solution and the reactive fluoropolymer solution to prepare a coating solution;
Coating the coating liquid on a substrate to produce a coating layer;
Removing the polysilazane solvent and the fluorine solvent from the coating layer;
Binding the linking group to the polysilazane, and converting the polysilazane to silica,
The mass ratio of the polysilazane and the reactive fluoropolymer in the coating solution is 99: 1 to 90:10,
The reactive fluoropolymer solution contains 1 to 30% by mass of the reactive fluoropolymer with respect to the total mass of the reactive fluoropolymer solution,
The method for producing a modified silica film, wherein the fluorine solvent has a boiling point of 61 ° C. or higher.
前記ポリシラザン用溶媒の表面張力から前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒の表面張力のうち大きな方の値を減算した値は5以上であることを特徴とする、請求項1記載の改質シリカ膜の製造方法。   The modified silica film according to claim 1, wherein a value obtained by subtracting a larger value of the surface tensions of the reactive fluoropolymer and the fluorine solvent from the surface tension of the polysilazane solvent is 5 or more. Manufacturing method. 前記ポリシラザン用溶媒は、疎水性かつ無極性の有機溶媒であることを特徴とする、請求項1または2記載の改質シリカ膜の製造方法。   The method for producing a modified silica film according to claim 1 or 2, wherein the polysilazane solvent is a hydrophobic and nonpolar organic solvent. 前記ポリシラザン用溶媒は、ジブチルエーテル、キシレン、ミネラルターペン、石油系炭化水素、及び高沸点芳香族系炭化水素からなる群から選択されるいずれか1種以上で構成されることを特徴とする、請求項3記載の改質シリカ膜の製造方法。   The polysilazane solvent is composed of at least one selected from the group consisting of dibutyl ether, xylene, mineral terpenes, petroleum hydrocarbons, and high-boiling aromatic hydrocarbons. Item 4. A method for producing a modified silica film according to Item 3. 前記フッ素溶媒は、ハイドロフルオロエーテルで構成されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の改質シリカ膜の製造方法。   The method for producing a modified silica film according to claim 1, wherein the fluorine solvent is composed of hydrofluoroether. ポリシラザンと結合する結合基を有する反応性フッ素ポリマーをフッ素溶媒に溶解することで作製された反応性フッ素ポリマー溶液と、
前記フッ素溶媒と混和せず、かつ前記反応性フッ素ポリマー及び前記フッ素溶媒よりも表面張力が高いポリシラザン用溶媒にポリシラザンを溶解することで作製されたポリシラザン溶液と、を含み、
前記ポリシラザンと前記反応性フッ素ポリマーとの質量比は99:1〜90:10であり、
前記反応性フッ素ポリマー溶液は、前記反応性フッ素ポリマーを前記反応性フッ素ポリマー溶液の総質量に対して1〜30質量%含み、
前記フッ素溶媒は、沸点が61℃以上であることを特徴とする、塗工液。
A reactive fluoropolymer solution prepared by dissolving a reactive fluoropolymer having a bonding group that binds to polysilazane in a fluorine solvent;
A polysilazane solution that is immiscible with the fluorine solvent and is prepared by dissolving polysilazane in a solvent for polysilazane having a surface tension higher than that of the reactive fluoropolymer and the fluorine solvent,
The mass ratio of the polysilazane and the reactive fluoropolymer is 99: 1 to 90:10,
The reactive fluoropolymer solution contains 1 to 30% by mass of the reactive fluoropolymer with respect to the total mass of the reactive fluoropolymer solution,
The coating liquid, wherein the fluorine solvent has a boiling point of 61 ° C. or higher.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の改質シリカ膜の製造方法により製造されたことを特徴とする、改質シリカ膜。   A modified silica film produced by the method for producing a modified silica film according to claim 1.
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