JP6131108B2 - 露光描画装置、露光描画方法およびプログラム - Google Patents

Description

本発明は、描画対象に対して画像を露光描画する露光描画装置、露光描画方法および露光描画装置により実行されるプログラムに関する。

近年、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下ＤＭＤと称する）等の空間光変調素子を用いて、入力された画像データに応じた光ビームを生成して被露光基板に露光描画を行う露光描画装置が知られている。

上記ＤＭＤは、供給される制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーを、メモリセルマトリックス上に２次元的に配列したミラーデバイスであり、各メモリセルに蓄えた電荷による静電気力でマイクロミラーの反射面の角度を変化させるよう構成されている。ＤＭＤを有する露光描画装置では、画像データ等に基づいてＤＭＤのマイクロミラーの各々をオン／オフ制御することにより光源からの光ビームを変調し、変調した光ビームを被露光基板に対して露光する。

例えば特許文献１には、描画点データに基づいて描画点を形成する複数の描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて複数の描画点形成領域により描画点群を基板上に順次形成して画像を描画する描画方法において、画像のエッジを形成する複数の描画点形成領域のうちの一部の描画点形成領域のみの描画状態を制御することによって、エッジの延伸方向に直交する方向の描画点形成領域のピッチよりも細かいピッチで基板上における画像のエッジの位置を制御し、描画点データのエッジの位置と基板上に形成されるエッジの位置とを一致させる描画方法が記載されている。

特許第４５３２３８１号公報

上記のようなＤＭＤを用いた露光描画装置においては、ＤＭＤにおけるマイクロミラーのピッチにより基板上におけるマイクロミラーのビームの軌跡の解像度が制限される。従って、予め作成された画像データに基づいて露光描画を行った際、画像データ上における描画線のエッジと、実際に露光される描画線のエッジとが一致しない場合がある。たとえば、液晶ディスプレイにけるブラックマトリクスを基板上に露光する場合、このブラックマトリクスのエッジが実際のエッジと一致しない場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタ部分の開口率が十分に確保できないといった問題が生じ得る。ビーム軌跡の解像度は、光学系を変更することによって向上させることが可能であるが、そのような光学系は高価でありコストアップを招来する。

また、設計上は、画像データ上における描画線のエッジと、実際に露光描画される描画線のエッジとが一致していても、実際には光学系などの影響によってシェーディングが発生し、画像データ上における描画線のエッジと、実際に露光描画される描画線のエッジとが一致しない場合がある。このような場合には、実際に露光描画される描画線のエッジの位置をビーム軌跡の解像度以上に細かく制御する必要がある。

上記した特許文献１に記載の描画装置および描画方法は、このような問題を解決するためのものであり、実際に露光描画される描画線のエッジの位置の調整を以下の手順で行う。初めに、理想ミラーデータに対し細らせ処理を行う。次に、細らせ処理済ミラーデータと、理想ミラーデータとのＸＯＲ（排他的論理和）を演算することによって、輪郭ミラーデータを取得する。次に、輪郭ミラーデータに対し、エッジ位置の制御量に応じた間引き率で間引き処理を施し、間引き処理済輪郭ミラーデータを取得する。次に、間引き処理済輪郭ミラーデータと、細らせ処理済ミラーデータとのＯＲ（論理和）を演算して、間引き処理済理想ミラーデータを取得する。

特許文献１に記載の方式によれば、実際に露光描画される描画線のエッジの位置をビーム軌跡の解像度以上に細かく制御することが可能となるものの、処理が複雑であり処理時間が長くなるという問題があった。

また、特に高速データ転送が要求されるプリント基板製造においては、設計通りのインピーダンス特性となるように線幅制御(エッジ制御)が必要となる。例えば、誘電率ε_ｒ、厚さｈの誘電体の表面に、幅ｗ、厚さｔの信号線を形成する場合、当該信号線のインピーダンスＺ_０は、下記の（１）式によって表すことができる。

Z₀=87×ln{5.98h/(0.8w+t)}/(ε_r+1.414）^1/2 ・・・（１）

設計通りのインピーダンス特性となるような線幅制御(エッジ制御)を実現するための一つの方法は、メッキ処理、露光/現像、エッチング処理などの製造プロセスを通った仕上がり後のメッキ厚や線幅の計測に基づき、予め設計パターンの線幅を増減して補正しておくことである。この場合、目標線幅に近づけるために高いデータ解像度にて、細かい補正量で補正することが望ましいが、メモリ容量増加や処理速度の速いハードウェアが必要となりコストアップを招来する。

本発明は、上記した点に鑑みてなされたものであり、より簡便な処理によって描画対象に描画される画像のエッジの位置を高精度に制御することができる露光描画装置、露光描画方法およびプログラムを提供することを目的とする。

本発明による第１の観点によれば、描画対象に描画する画像を示す画像データを取得する画像データ取得部と、入射した光を複数のマイクロミラーのオンオフによって空間変調して前記画像データに対応したパターン光を生成し、前記パターン光を前記描画対象に照射する露光ヘッドと、前記露光ヘッドが前記描画対象に前記パターン光を照射している状態において、前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置を移動させる移動機構と、前記画像データに基づいて、前記複数のマイクロミラーの各々について当該マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第１の制御データを生成する第１の制御データ生成部と、前記第１の制御データに基づいて、前記複数のマイクロミラーのオンオフを制御する制御部と、前記複数のマイクロミラーの少なくとも１つに対して、当該マイクロミラーに対応する描画点とは異なる位置に少なくとも１つの仮想的な仮想描画点を形成する仮想マイクロミラーを設定する仮想マイクロミラー設定部と、前記仮想描画点において前記画像データによって示される画像の当該仮想描画点に対応する部分を描画する場合の当該仮想マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第２の制御データを生成する第２の制御データ生成部と、前記仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理演算を行うことによって得られた値によって補正する制御データ補正部と、を含む露光描画装置が提供される。

本発明の第２の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定する１のマイクロミラーに対して複数の仮想マイクロミラーを設定する第１の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第３の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向に沿って配列するように、前記１のマイクロミラーに対して少なくとも２つの仮想マイクロミラーを設定する第２の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第４の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向と交差する方向に沿って配列するように、前記１のマイクロミラーに対して少なくとも２つの仮想マイクロミラーを設定する第２の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第５の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向およびこれと直交する方向に沿って配列するように前記１のマイクロミラーに対して複数の仮想マイクロミラーを設定する第２の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第６の観点によれば、前記パターン光によって描画される画像の線幅の増減を指示する指示入力を受け付ける指示入力部を更に含み、前記制御データ補正部は、前記指示入力部に入力された指示が線幅の増大を示すものであるか線幅の減少を示すものであるかに応じて、仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理和または論理積を演算することによって得られた値によって補正する第１乃至第５のいずれかの観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第７の観点によれば、前記指示入力部は、前記パターン光によって描画される画像の線幅の補正量を指示する指示入力を更に受け付け、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記指示入力部に入力された線幅の補正量が大きくなる程、当該マイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離が大きくなるように仮想マイクロミラーを設定する第６の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第８の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記複数のマイクロミラーの各々について複数の仮想マイクロミラーを設定する第１乃至第７のいずれかの観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第９の観点によれば、前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定する１のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離と、仮想マイクロミラーを設定する他のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離とが異なるように、前記１のマイクロミラーおよび前記他のマイクロミラーに対してそれぞれ仮想マイクロミラーを設定する第８の観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第１０の観点によれば、複数の露光ヘッドを含み、前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定するマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離が露光ヘッド間で異なるように、前記複数の露光ヘッド内のマイクロミラーについて仮想マイクロミラーを設定する第１乃至第８のいずれかの観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第１１の観点によれば、複数の露光ヘッドを含み、前記仮想マイクロミラー設定部は、前記複数の露光ヘッドのうちの一部の露光ヘッド内のマイクロミラーに対してのみ仮想マイクロミラーを設定する第１乃至第１０のいずれかの観点による露光描画装置が提供される。

本発明の第１２の観点によれば、入射した光を複数のマイクロミラーのオンオフによって空間変調して描画対象に描画する画像を示す画像データに対応したパターン光を生成し、前記パターン光を前記描画対象に照射する露光ヘッドと、前記露光ヘッドから前記描画対象に前記パターン光を照射している状態において前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置を移動させる移動機構と、を含む露光描画装置を用いて前記描画対象に露光描画を行う露光描画方法であって、前記画像データに基づいて、前記複数のマイクロミラーの各々について当該マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第１の制御データを生成するステップと、前記複数のマイクロミラーの少なくとも１つに対して、当該マイクロミラーに対応する描画点とは異なる位置に少なくとも１つの仮想的な仮想描画点を形成する仮想マイクロミラーを設定するステップと、前記仮想描画点において前記画像データによって示される画像の当該仮想描画点に対応する部分を描画する場合の当該仮想マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第２の制御データを生成するステップと、前記仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理演算を行うことによって得られた値によって補正する制御データ補正部と、補正された第１の制御データに基づいて前記複数のマイクロミラーのオンオフを制御するステップと、を含む露光描画方法が提供される。

本発明の第１３の観点によればコンピュータを、第１乃至第１２のいずれかの観点による露光描画装置の前記制御部、前記第１の制御データ生成部、前記仮想マイクロミラー設定部、前記第２の制御データ生成部および前記制御データ補正部として機能させるためのプログラムが提供される。

本発明に係る露光描画装置、露光描画方法およびプログラムによれば、簡便な処理によって描画対象に描画される画像のエッジの位置を高精度に制御することができる。

本発明の実施形態に係る露光描画装置１の構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係るＤＭＤの構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係る露光ヘッド３０の出射面を模式的に示す平面図である。 本発明の実施形態に係る露光描画装置における露光描画の態様を示す斜視図である 本発明の実施形態に係る露光描画装置によって露光処理される被露光基板における露光エリアの軌跡を示す平面図である。 本発明の実施形態に係る露光描画装置の機能的な構成を示す機能ブロック図である。 本発明の実施形態に係るＤＭＤ制御データ生成部のより詳細な構成を示すブロック図である。 図８（ａ）および図８（ｂ）は、本発明の実施形態に係る第１の制御データの説明に供する図である。 本発明の実施形態に係る仮想描画点の配置の一例を示す図である。 本発明に実施形態に係る実在のマイクロミラーと仮想マイクロミラーの配置の一例を示す図である。 第１の制御データおよび第２の制御データの形態を示す図である。 本発明の実施形態に係る露光描画装置の制御系のハードウェア構成を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る第１の制御データ生成処理プログラムにおける処理の流れを示すフローチャートである。 本発明の実施形態に係る補正処理プログラムにおける処理の流れを示すフローチャートである。 図１４（ａ）〜図１４（ｃ）は、本発明の実施形態に係る描画線の線幅を増大させる補正処理の一態様を示した図である。 図１５（ａ）〜図１５（ｃ）は、本発明の実施形態に係る描画線の線幅を減少させる補正処理の一態様を示した図である。 仮想描画点の配置の一例を示す図である。

以下、本発明の実施形態に係る露光描画装置について添付図面を用いて詳細に説明する。なお、各図面において同一または等価な構成要素および部分には同一の参照符号を付与している。

図１は、本発明の実施形態に係る露光描画装置１の構成を示す斜視図である。なお、以下では、ステージ１０の移動方向をＹ方向と定め、このＹ方向に対して水平面で直交する方向をＸ方向と定める。

露光描画装置１は、被露光基板Ｃを固定するための平板状のステージ１０を備えている。ステージ１０の上面には、被露光基板Ｃが載置される領域に、空気を吸引する吸着孔を複数有する吸着機構（図示せず）が設けられている。被露光基板Ｃは、ステージ１０の上面に載置された状態で、吸着機構によって真空吸着されステージ１０上に保持される。

基体１１の上面には、Ｙ方向に沿って２本のガイドレール１４が設けられている。ステージ１０は、モータ等を含む移動機構４６（図６参照）によって、ガイドレール１４上をＹ方向に沿って移動可能に支持されている。ステージ１０上に保持された被露光基板Ｃは、ステージ１０の移動に伴って露光位置まで移動し、露光部１６から光ビームが照射されて被露光面に回路パターン等の画像が描画される。

基体１１の上面には、ガイドレール１４を跨ぐようにゲート１５が設けられており、ゲート１５には、露光部１６が取り付けられている。露光部１６は、複数の露光ヘッド３０を有し、ステージ１０の移動経路上に固定配置されている。本実施形態では、露光部１６は、例えば２行５列のマトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０を有する。露光ヘッド３０の各々には、光源ユニット１７から引き出された光ファイバ１８と、露光ヘッド制御部１９から引き出された信号ケーブル２０とがそれぞれ接続されている。

また、基体１１の上面には、ガイドレール１４を跨ぐように、ゲート２２が設けられている。ゲート２２には、ステージ１０上に保持された被露光基板Ｃのアライメントマークを撮影するための２つの撮像部２３が取り付けられている。撮影部２３は、１回の発光時間が極めて短いストロボを内蔵したＣＣＤカメラ等である。撮影部２３の各々は、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）に移動可能に設置されている。露光描画装置１は、被露光基板Ｃに画像を描画する際、撮影部２３により撮影されたアライメントマークの位置を計測し、計測したアライメントマークの位置に基づいて描画位置を調整する。

露光ヘッド３０の各々は、反射型の空間光変調素子としてのデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）２７（図２参照）を有し、露光ヘッド制御部１９から供給される制御信号によってＤＭＤ２７が制御され、光源ユニット１７から出射される光ビームを空間変調し、外部より供給される描画対象画像を示す画像データに対応した形状に成形されたパターン光を生成する。露光ヘッド３０の各々は、生成したパターン光を露光ヘッド３０の出射面から出射して被露光基板Ｃに照射する。露光ヘッド３０の各々は、露光ヘッド制御部１９から供給される制御信号に応じてＤＭＤ２７を駆動することにより、所定のフレーム期間毎にパターン光を変化させる。これにより、ステージ１０とともにＹ方向に沿って移動する被露光基板Ｃに画像データに応じた画像の露光描画が行われる。

図２は、ＤＭＤ２７の構成を示す斜視図である。ＤＭＤ２７は、複数のマイクロミラーＭが格子状に配列されたミラーデバイスとして構成されている。矩形形状のマイクロミラーＭの各々は、被露光基板Ｃに描画すべき画像を示す画像データに対応したオンオフ情報を一時的に記憶するシリコンゲートのＣＭＯＳ等からなるＳＲＡＭセル（メモリセル）２８上にヒンジ及びヨーク（図示省略）を含む支柱により支持されている。各マイクロミラーＭの表面は、アルミニウム等の反射率の高い材料で構成されており、光反射面を形成している。

ＳＲＡＭセル２８には、描画すべき画像を示す画像データに基づいて生成された、各マイクロミラーＭのオン状態またはオフ状態に対応したデジタル信号が書き込まれる。オン状態とされたマイクロミラーＭは、一方の角部がＳＲＡＭセル２８上のランディングパッドに接触するまで対角線を回転軸として反射面が傾けられる。一方、オフ状態とされたマイクロミラーＭは、上記一方の角部に対向する角部が他方のランディングパッドに接触するまで対角線を回転軸として反射面が傾けられる。

オン状態とされたマイクロミラーＭによって反射された光ビームは、図示しない光学系を経由して露光ヘッド３０の出射面から出射される。このように、描画すべき画像を示す画像データに基づいて各々のマイクロミラーＭの傾き（オンオフ）を制御することによって当該画像に対応したパターン光が生成される。

図３は、露光ヘッド３０の出射面３０ａを模式的に示す平面図である。各露光ヘッド３０の出射面３０ａからは、矩形形状のビーム出射エリア３２内において、オン状態とされたマイクロミラーＭの各々によって反射された複数の光ビーム３１が出射される。各露光ヘッド３０は、図３に示すように、矩形形状のビーム出射エリア３２がステージ１０の移動方向に対して所定の角度だけ傾くように設置されている。すなわち、描画点を形成する光ビーム３１の配列方向は、ステージ１０の移動方向に対して傾いている。

図４は、本実施形態に係る露光描画装置１における露光描画の態様を示す斜視図である。図５は、本実施形態に係る露光描画装置１によって露光処理される被露光基板Ｃにおける露光エリアの軌跡を示す平面図である。図４および図５に示すように、各露光ヘッド３０から照射される光ビームによって形成される露光エリア３３は、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に対して傾斜した矩形形状となる。ステージ１０の移動に伴い、被露光基板Ｃの被露光面には複数の露光ヘッド３０の各々に対応した複数の帯状の露光済みエリア３４が形成される。

帯状の露光済みエリア３４は、各露光ヘッド３０の出射面３０ａにおいて２次元配列された複数の光ビーム３１（図３参照）によって形成される。また、上記のようにビーム出射エリア３２をステージ１０の移動方向に対して傾斜させることによって、ステージ１０の移動方向に直交する方向（Ｘ方向）における光ビーム３１の間隔をより狭くすることができ、高解像度化を図ることができる。本実施形態に係る露光描画装置１では、画像データにおける最小幅の描画線を複数（例えば３つ）の光ビーム３１によって描画する。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もある。例えば、図３では、ハッチングを施した光ビーム３１は利用せず、この光ビーム３１に対応するマイクロミラーは常にオフ状態とされる。

また、図４および図５に示すように、帯状の露光済みエリア３４のそれぞれが、隣接する露光済みエリア３４と部分的に重なるように、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、Ｘ方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３３Ａとその右隣に位置する露光エリア３３Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３３Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３３Ｂと、その右隣に位置する露光エリア３３Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３３Ｃにより露光される。

図６は、本発明の実施形態に係る露光描画装置１の機能的な構成を示す機能ブロック図である。露光描画装置１は、上記したステージ１０および露光ヘッド３０に加えて、ラスター変換処理部４２、ＤＭＤ制御データ生成部５０、露光ヘッド制御部１９、指示入力部６０、移動機構４６およびコントローラ４４を含んでいる。

露光描画装置１は、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、被露光基板Ｃに描画すべき画像を表わすベクトル形式の画像データを取得する。露光描画装置１は、データ作成装置４０から取得した画像データに基づいて、露光ヘッド３０において当該画像データに応じたパターン光を生成し、該パターン光を露光ヘッド３０の各々からステージ１０上に保持された被露光基板Ｃに照射する。コントローラ４４の制御の下、露光ヘッド３０から出射されるパターン光は、移動機構４６によるステージ１０の移動に連動するように、所定のフレーム期間毎に更新される。

データ作成装置４０から出力されたベクトル形式の画像データは、ラスター変換処理部４２に入力される。ラスター変換処理部４２は、ベクトル形式の画像データをラスター形式の画像データに変換する。ラスター変換処理部４２は、ラスター形式の画像データをＤＭＤ制御データ生成部５０に供給する。

ＤＭＤ制御データ生成部５０は、ラスター形式の画像データに基づいて、各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７の各マイクロミラーＭのオンオフを制御するためのＤＭＤ制御データを生成する。

図７は、ＤＭＤ制御データ生成部５０のより詳細な構成を示すブロック図である。ＤＭＤ制御データ生成部５０は、第１の制御データ生成部５１、仮想マイクロミラー設定部５２、第２の制御データ生成部５３および制御データ補正部５４を含んでいる。

第１の制御データ生成部５１は、ラスター変換処理部４２から供給されるラスター形式の画像データに基づいて、各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７を構成する各マイクロミラーＭについて、これらのオンオフタイミングを示す第１の制御データを生成する処理を行う。

以下に、第１の制御データについて図８（ａ）および図８（ｂ）を参照しつつ説明する。ここでは、図８（ａ）に示すような「Ｆ」字型の画像を、単一の露光ヘッド３０内に設けられた複数（例えば１０２４×１０２４）のマイクロミラーＭを用いて露光描画する場合を例に説明する。なお、図８（ａ）および図８（ｂ）には、理解を容易にするために、９つのマイクロミラーＭ１〜Ｍ９と、これらに対応する９つの描画点Ｐ１〜Ｐ９のみが代表して示されている。以下の説明では、マイクロミラーＭ１〜Ｍ９およびこれらに対応する描画点Ｐ１〜Ｐ９についてのみ言及する。

露光描画が行われる際、ステージ１０の移動に伴って、マイクロミラーＭ１〜Ｍ９に対応する描画点Ｐ１〜Ｐ９は、図８（ａ）に示すように、被露光基板Ｃに対して図中左側から右側に向けて移動するものとする。図３に示すように、露光ヘッド３０における光ビーム３１の配列方向は、ステージ１０の移動方向に対して傾斜おり、従って、描画点Ｐ１〜Ｐ９の配列方向もステージ１０の移動方向（描画点Ｓ１〜Ｓ９の進行方向）に対して傾斜している。各描画点Ｐ１〜Ｐ９において、その配置に応じたタイミングで光ビームが出射されることにより、所望の画像を露光描画することが可能である。

第１の制御データ生成部５１は、図８（ａ）に例示するような「Ｆ」字型の画像を示す画像データをラスター変換処理部４２から受信すると、描画点Ｐ１〜Ｐ９に対応するマイクロミラーＭ１〜Ｍ９のオンオフタイミングを計算によって求め、図８（ｂ）に示すような形態の第１の制御データを生成する。すなわち、第１の制御データは、マイクロミラーＭ１〜Ｍ９のフレーム期間毎のオンオフの状態を示すデータである。図８（ｂ）において黒く塗りつぶした部分は当該マイクロミラーのオン状態に対応し、白抜きの部分は当該マイクロミラーのオフ状態に対応している。図８（ｂ）に示す第１の制御データによれば、例えば、マイクロミラーＭ１およびＭ９はフレーム期間Ｆ１〜Ｆ１６に亘り常時オフ状態に駆動され、マイクロミラーＭ３はフレーム期間Ｆ９においてオン状態に駆動され、マイクロミラーＭ５はフレーム期間Ｆ６〜Ｆ１０に亘りオン状態に駆動される。マイクロミラーＭ１〜Ｍ９をこのようなタイミングでオンオフすることにより、図８（ａ）に示すような「Ｆ」字型の画像が露光描画されることとなる。第１の制御データ生成部５１は、予め記憶した各マイクロミラーＭ１〜Ｍ９の座標位置、ステージ１０の移動速度および入力された画像データに基づいて、各マイクロミラーＭ１〜Ｍ９のフレーム期間毎のオンオフの状態を算出することにより第１の制御データを生成する。

ここで、画像データ上における描画線のエッジの位置と、実際に露光描画される描画線のエッジの位置とが一致しない場合がある。本実施形態に係る露光描画装置１においては、ミラー制御データ補正部５４が、第２の制御データ生成部５３において生成された第２の制御データに基づいて第１の制御データを補正することにより実際に露光描画される描画線の線幅を増大または減少させ、これによって描画線のエッジ位置を補正することが可能となっている。

指示入力部６０は、露光描画される描画線の線幅を現状よりも増大または減少すべき指示入力を受け付ける。また、指示入力部６０は、描画線の線幅の補正量（増大量および減少量）を指示する指示入力を受け付ける。指示入力部６０は、上記指示入力を受け付けるためのキーボード、マウス、ＧＵＩ等のユーザインターフェースを含んで構成されており、受け付けた指示入力をコントローラ４４に通知する。

上記指示入力の内容は、コントローラ４４を介してＤＭＤ制御データ生成部５０に通知される。仮想マイクロミラー設定部５２は、描画線の線幅を増大または減少すべき指示入力を受け付けたことをコントローラ４４から通知されると、各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７を構成するマイクロミラーＭの各々に対して、仮想的なマイクロミラーである仮想マイクロミラーを設定する。すなわち、仮想マイクロミラー設定部５２は、ＤＭＤを構成する各マイクロミラーＭに対して仮想マイクロミラーを仮想配置する。

図９は、任意の１の実在のマイクロミラーに対応する描画点と、仮想マイクロミラー設定部５２によって設定された仮想マイクロミラーに対応する仮想描画点との配置を例示したものである。仮想マイクロミラー設定部５２は、図９に例示するように、実在のマイクロミラーに対応する描画点Ｐの周囲に４つの仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４を形成するように、実在のマイクロミラーの周囲に仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４にそれぞれ対応する４つの仮想マイクロミラーを設定する。仮想マイクロミラー設定部５２は、例えば、図９に示すように、仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４が実在のマイクロミラーに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って配列するように、仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４にそれぞれ対応する仮想マイクロミラーを設定するとともに、仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３が実在のマイクロミラーに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列するように、仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３にそれぞれ対応する仮想マイクロミラーを設定する。

図１０は、図９に示す描画点Ｐに対応する実在のマイクロミラーＭ_Ｒと、仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４にそれぞれ対応する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４との配置を例示した図である。図１０に示すように、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４は、ＤＭＤ２７を構成する各マイクロミラーの配列から外れた位置に設定され得る。

また、仮想マイクロミラー設定部５２は、指示入力部６０に入力された描画線の線幅の補正量（増大量または減少量）に応じて描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４との間の距離Ｌを変化させる。具体的には、仮想マイクロミラー設定部５２は、描画線の線幅の増大量または減少量が大きくなる程、描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４との間の距離Ｌが大きくなるように、仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４にそれぞれ対応する仮想マイクロミラーの配置を定める。なお、描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４との間の距離Ｌは、互いに同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。本実施形態において、仮想マイクロミラー設定部５２は、各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７を構成する全てのマイクロミラーＭに対して仮想マイクロミラーを設定する。仮想マイクロミラー設定部５２は、設定した仮想マイクロミラーの座標位置を第２の制御データ生成部５３に通知する。

第２の制御データ生成部５３は、仮想マイクロミラー設定部５２によって設定された仮想マイクロミラーの座標位置およびラスター形式の画像データに基づいて、仮想マイクロミラー設定部において設定された仮想マイクロミラーのそれぞれについて、これらのオンオフタイミングを示す第２の制御データを生成する。すなわち、第２の制御データ生成部５３は、仮想描画点において画像データによって示される画像の当該仮想描画点に対応する部分を描画する場合の、当該仮想マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態を示す第２の制御データを生成する。つまり、第２の制御データは、仮想マイクロミラーが実在するものとした場合に、画像データに基づいて当該仮想マイクロミラーについて設定されるべきオンオフタイミングを示すデータである。従って、仮想マイクロミラー（または仮想描画点）の座標位置が定まれば、画像データに基づいて第２の制御データを算出することが可能である。

制御データ補正部５４は、描画線の線幅を増大または減少すべき指示入力を受け付けたことをコントローラ４４から通知されると、各マイクロミラーについての第１の制御データを、当該マイクロミラーに対して設定された仮想マイクロミラーについての第２の制御データを用いて補正する。

ここで、図１１は、任意の１の実在のマイクロミラーＭ_Ｒについて生成された第１の制御データと、当該マイクロミラーＭ_Ｒについて設定された４つの仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の各々について生成された第２の制御データの形態を示す図である。なお、４つの仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４は、それぞれ、図９に示す仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４に対応するものである。第１の制御データは、フレーム期間Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・毎の実在のマイクロミラーＭ_Ｒのオンオフの状態に対応したデータ要素Ｄ_１、Ｄ_２、Ｄ_３、Ｄ_４、・・・を含んでいる。すなわち、データ要素Ｄ_１〜Ｄ_４には、実在のマイクロミラーＭ_Ｒのオン状態を示す論理値“１”またはオフ状態を示す論理値“０”が第１の制御データ生成部５１によって設定される。

第２の制御データは、フレーム期間Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・毎の仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の各々のオンオフの状態に対応したデータ要素Ｄ_１−１、Ｄ_２−１、Ｄ_３−１、Ｄ_４−１・・・；Ｄ_１−２、Ｄ_２−２、Ｄ_３−２、Ｄ_４−２・・・；Ｄ_１−３、Ｄ_２−３、Ｄ_３−３、Ｄ_４−３・・・；Ｄ_１−４、Ｄ_２−４、Ｄ_３−４、Ｄ_４−４・・・を含んでいる。すなわち、データ要素Ｄ_１−１〜Ｄ_４−１には、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１のオン状態を示す論理値“１”またはオフ状態を示す論理値“０”が第２の制御データ生成部５３によって設定される。同様に、データ要素Ｄ_１−２〜Ｄ_４−２、Ｄ_１−３〜Ｄ_４−３、Ｄ_１−４〜Ｄ_４−４には、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２、Ｍ_Ｖ３、Ｍ_Ｖ４のオン状態を示す論理値“１”またはオフ状態を示す論理値“０”が第２の制御データ生成部５３によって設定される。

制御データ補正部５４は、描画線の線幅を増大すべき指示入力を受け付けたことをコントローラ４４から通知されると、第１の制御データを構成するデータ要素Ｄ_１、Ｄ_２、Ｄ_３、Ｄ_４、・・・と、第２の制御データを構成するデータ要素Ｄ_１−１、Ｄ_２−１、Ｄ_３−１、Ｄ_４−１・・・；Ｄ_１−２、Ｄ_２−２、Ｄ_３−２、Ｄ_４−２・・・；Ｄ_１−３、Ｄ_２−３、Ｄ_３−３、Ｄ_４−３・・・；Ｄ_１−４、Ｄ_２−４、Ｄ_３−４、Ｄ_４−４・・・との論理和をフレーム期間毎に算出し、算出した値を補正後のマイクロミラーＭ_Ｒのオンオフタイミングを示すＤＭＤ制御データのデータ要素とする。具体的には、制御データ補正部５４は、描画線の線幅の増大が指示されると、第１の制御データにおけるフレーム期間Ｆ１のデータ要素Ｄ_１と、第２の制御データにおけるフレーム期間Ｆ１のデータ要素Ｄ_１−１、Ｄ_１−２、Ｄ_１−３、Ｄ_１−４との論理和を演算する。制御データ補正部５４は、かかる論理和演算によって得られた値をフレーム期間Ｆ１におけるマイクロミラーＭ_Ｒのデータ要素とする。同様に、制御データ補正部５４は、他のフレーム期間Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・における各データ要素の論理和演算を行うことに得られた値をそれぞれ、フレーム期間Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・におけるマイクロミラーＭ_Ｒのデータ要素とする。制御データ補正部５４は、このようにして得られたマイクロミラーＭ_Ｒのフレーム期間毎のデータ要素の集合を、ＤＭＤ制御データとして後段の露光ヘッド制御部１９に供給する。

一方、制御データ補正部５４は、描画線の線幅を減少すべき指示入力を受け付けたことをコントローラ４４から通知されると、第１の制御データを構成するデータ要素Ｄ_１、Ｄ_２、Ｄ_３、Ｄ_４、・・・と、第２の制御データを構成するデータ要素Ｄ_１−１、Ｄ_２−１、Ｄ_３−１、Ｄ_４−１・・・；Ｄ_１−２、Ｄ_２−２、Ｄ_３−２、Ｄ_４−２・・・；Ｄ_１−３、Ｄ_２−３、Ｄ_３−３、Ｄ_４−３・・・；Ｄ_１−４、Ｄ_２−４、Ｄ_３−４、Ｄ_４−４・・・との論理積をフレーム期間毎に算出し、算出した値を補正後のマイクロミラーＭ_Ｒのオンオフタイミングを示すＤＭＤ制御データのデータ要素とする。具体的には、制御データ補正部５４は、描画線の線幅の減少が指示されると、第１の制御データにおけるフレーム期間Ｆ１のデータ要素Ｄ_１と、第２の制御データにおけるフレーム期間Ｆ１のデータ要素Ｄ_１−１、Ｄ_１−２、Ｄ_１−３、Ｄ_１−４との論理積を演算する。制御データ補正部５４は、かかる論理積演算によって得られた値をフレーム期間Ｆ１におけるマイクロミラーＭ_Ｒのデータ要素とする。同様に、制御データ補正部５４は、他のフレーム期間Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・における各データ要素の論理積演算を行うことに得られた値をそれぞれ、フレーム期間Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、・・・におけるマイクロミラーＭ_Ｒのデータ要素とする。制御データ補正部５４は、このようにして得られたフレーム期間毎のデータ要素の集合を、ＤＭＤ制御データとして後段の露光ヘッド制御部１９に供給する。

このように、制御データ補正部５４は、第１の制御データの各データ要素を、第１の制御データと第２の制御データをデータ要素毎に論理演算することによって得られた各論理値によって補正する。なお、ＤＭＤ制御データ生成部５０は、描画線の線幅を増加または減少すべき指示入力がない場合には、第１の制御データ生成部５１において生成された第１の制御データを補正することなく、これをＤＭＤ制御データとして後段の露光ヘッド制御部１９に供給する。

露光ヘッド制御部１９は、コントローラ４４の制御の下、ＤＭＤ制御データ生成部５０から供給された各マイクロミラーＭのオンオフタイミングを示すＤＭＤ制御データに基づいて各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７の各マイクロミラーＭのオンオフを制御する。

コントローラ４４は、指示入力部６０から上記の指示入力等を受信するとともに、ラスター変換部４２、移動機構４６、ＤＭＤ制御データ生成部５０、露光ヘッド制御部１９に制御信号を供給することによって、これらの動作タイミング等を統括的に制御する。

なお、本実施形態において、ラスター変換処理部４２、ＤＭＤ制御データ生成部５０、露光ヘッド制御部１９およびコントローラ４４は、図１２に示すようにＣＰＵ２０１と、ＣＰＵ２０１において実行される各種プログラムを記憶したＲＯＭ２０２（Read Only Memory）と、ＣＰＵ２０１における演算処理に供されるデータ等を一時的に記憶するＲＡＭ（Random Access Memory）２０３と、各種データ等を記憶しておくためのＨＤＤ２０４と、を含むコンピュータによって構成されている。

図１３は、ＤＭＤ制御データ生成部５０として機能するＣＰＵ２０１が、第１の制御データを生成する際に実行する第１の制御データ生成処理プログラムにおける処理の流れを示すフローチャートである。この第１の制御データ生成プログラムは、ＲＯＭ２０２に予め記憶されており、例えば、露光描画を開始する際にユーザが、指示入力部６０に対して所定の入力操作を行うことにより実行される。

ステップＳ１０において、ＣＰＵ２０１は、ラスター形式に変換された描画対象画像の画像データをＲＡＭ２０３に取り込む。

ステップＳ１１において、ＣＰＵ２０１は、第１の制御データを生成する対象となるマイクロミラーＭ_ｉを選択する。ここでｉはマイクロミラーの識別番号である。

ステップＳ１２において、ＣＰＵ２０１は、ステップＳ１１において選択したマイクロミラーＭ_ｉの座標位置と、ステップＳ１０においてＲＡＭ２０３に取り込んだ画像データに基づいて、当該マイクロミラーＭ_ｉのフレーム期間毎のオンオフの状態を示す、図８（ｂ）または図１１に示すような形態の第１の制御データを生成して、これをＨＤＤ２０４に記憶する。

ステップＳ１３において、ＣＰＵ２０１は、マイクロミラーの識別番号であるｉの値が所定値ａと一致しているか否かを判断し、肯定判定の場合には、本ルーチンを終了させ、否定判定の場合には処理をステップＳ１４に移行する。なお、本実施形態において、所定値ａは、ＤＭＤ２７を構成するマイクロミラーの数と等しい値とされるが、これに限定されるものではない。

ステップＳ１４において、ＣＰＵ２０１は、ｉの値を１つインクリメントして処理をステップＳ１１に戻す。ステップＳ１１〜Ｓ１４の処理が繰り返されることにより、ＤＭＤ２７を構成する全てのマイクロミラーＭについて第１の制御データが生成され、ＨＤＤ２０４に記憶される。

なお、被露光基板Ｃに対して第１の制御データに基づいて露光描画を行う際には、ＣＰＵ２０１は、移動機構４６に対して制御信号を供給することによりステージ１０の移動を開始させるとともに、ＣＰＵ２０１は、露光ヘッド制御部１９として機能して、ＨＤＤ２０４から第１の制御データを読み出して、第１の制御データによって示されるオンオフタイミングにて各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７の各マイクロミラーＭのオンオフを制御する。これにより、ステージ１０の移動に連動するように各露光ヘッド３０から描画パターンに対応したパターン光が出射され、ステージ１０上に保持された被露光基板Ｃの被露光面に画像が描画される。

図１４は、ＤＭＤ制御データ生成部として機能するＣＰＵ２０１が、指示入力部６０に対する指示入力に基づいて、描画線の線幅を補正する際に実行する補正処理プログラムにおける処理の流れを示すフローチャートである。この補正処理プログラムは、ＲＯＭ２０２に予め記憶されており、例えば、ユーザが指示入力部６０に対して所定の入力操作を行うことにより実行される。なお、この補正処理プログラムの実行に先立って、上記第１の制御データ生成処理プログラムが実行され、ＨＤＤ２０４には、各マイクロミラーＭについての第１の制御データが記憶されているものとする。

ステップＳ２０において、ＣＰＵ２０１は、指示入力部６０で受け付けた指示入力の内容をＲＡＭ２０３に記憶する。具体的には、ＣＰＵ２０１は、指示入力部６０において受け付けた線幅の増大または減少を示す情報および線幅の補正量（増大量または減少量）を示す情報をＲＡＭ２０３に記憶する。

ステップＳ２１において、ＣＵＰ２０１は、補正処理対象となる第１の制御データに対応するマイクロミラーＭ_ｉを選択する。ここでｉはマイクロミラーの識別番号である。

ステップＳ２２において、ＣＰＵ２０１は、ステップＳ２０において選択したマイクロミラーＭ_ｉについて、図９に示すように、当該マイクロミラーＭ_ｉに対応する描画点Ｐの周囲に４つの仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４が形成されるように、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４を設定（仮想配置）する。ＣＰＵ２０１は、仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４が、マイクロミラーＭ_ｉに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って配列するように仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４を設定するとともに、仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３が、マイクロミラーＭ_ｉを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列するように仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１およびＭ_Ｖ３を設定する。ＣＰＵ２０１は、ステップＳ２０においてＲＡＭ２０３に記憶した線幅の補正量（増大量または減少量）が大きくなる程、描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４との間の距離Ｌが大きくなるように、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の配置を算出する。ＣＰＵ２０は、このようにして設定した仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の座標位置をＲＡＭ２０３に記憶する。

ステップＳ２３において、ＣＰＵ２０１は、ＲＡＭ２０３に記憶した仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の座標位置とラスター形式に変換された描画対象画像の画像データに基づいて、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の各々について、これらのオンオフタイミングを示す第２の制御データを生成する。すなわち、ＣＰＵ２１は、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４にそれぞれ対応する仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４において画像データによって示される描画対象画像の仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４に対応する部分を描画する場合の、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４のフレーム期間毎のオンオフの状態を示す第２の制御データを生成する。ＣＰＵ２０１は、生成した第２の制御データをＨＤＤ２０４に記憶する。

ステップＳ２４において、ＣＰＵ２０１は、指示入力部６０で受け付けた指示入力の内容が線幅の増大であるか減少であるかを判定する。ＣＰＵ２０１は、指示入力の内容が線幅の増大である場合には処理をステップＳ２５に移行し、指示入力の内容が線幅の減少である場合には処理をステップＳ２６に移行する。

ステップＳ２５において、ＣＰＵ２０１は、ＨＤＤ２０４から第１の制御データと第２の制御データを読み出し、上記したように、第１の制御データと第２の制御データとの論理和演算によって得られた論理値によって当該マイクロミラーＭ_ｉについての第１の制御データの各データ要素を補正する。ＣＰＵ２０１は、このようにして補正した第１の制御データをＨＤＤ２０４に記憶する。

ステップＳ２６において、ＣＰＵ２０１は、ＨＤＤ２０４から第１の制御データと第２の制御データを読み出し、上記したように、第１の制御データと第２の制御データとの論理積演算によって得られた論理値によって当該マイクロミラーＭ_ｉについての第１の制御データの各データ要素を補正する。ＣＰＵ２０は、このようにして補正した第１の制御データをＨＤＤ２０４に記憶する。

ステップＳ２７において、ＣＰＵ２０１は、マイクロミラーの識別番号であるｉの値が所定値ａと一致しているか否かを判断し、否定判定の場合には、処理をステップＳ２８に移行し、肯定判定の場合は、処理をステップＳ２９に移行する。なお、本実施形態において、所定値ａは、ＤＭＤ２７を構成するマイクロミラーの数と等しい値とされるが、これに限定されるものではない。

ステップＳ２８において、ＣＰＵ２０１は、ｉの値を１つインクリメントして処理をステップＳ２１に戻す。ステップＳ２１〜Ｓ２８の処理が繰り返されることにより、ＤＭＤ２７を構成する全てのマイクロミラーについて第１の制御データの補正処理が行われる。

ステップＳ２９において、ＣＰＵ２０１は、ＨＤＤ２０４に記憶した各マイクロミラーについての補正後の第１の制御データをＤＭＤ制御データとして露光ヘッド制御部１９に供給する。露光ヘッド制御部１９として機能するＣＰＵ２０１は、かかるＤＭＤ制御データに基づいて各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７の各マイクロミラーのオンオフを制御する。これにより、線幅が当初よりも増大または減少された描画線が露光ヘッド３０によって描画される。

図１５（ａ）〜図１５（ｃ）は、描画線の線幅を増大させる補正処理の一態様を示した図である。

図１５（ａ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒについてフレーム期間Ｆ５〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第１の制御データが生成されている場合が示されている。本実施形態では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４が配列するように（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４が設定される。なお、ここでは、理解を容易にするために、Ｘ方向に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ２に対応する仮想マイクロミラーについては考慮しないこととする。

図９に示すように、実在のマイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの進行方向前方に仮想描画点Ｐ_Ｖ２を形成する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２のオンオフのタイミングは、当該マイクロミラーＭ_Ｒよりも先行する。図１５（ａ）に示す例では、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２のオンオフのタイミングが、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも１フレーム期間分だけ先行している場合が示されている。一方、図９に示すように、実在のマイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの進行方向後方に描画点Ｐ_Ｖ４を形成する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ４のオンオフのタイミングは、当該マイクロミラーＭ_Ｒよりも遅延する。図１５（ａ）に示す例では、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ４のオンオフのタイミングが、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも１フレーム期間分だけ遅延している場合が示されている。

この場合において、描画線の線幅の増大が指示された場合には、上記したように、第１の制御データと第２の制御データの論理和演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１５（ａ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒがフレーム期間Ｆ４〜Ｆ９に亘りオン状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、マイクロミラーＭ_Ｒのオン期間が補正処理前よりも長くなるので、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）において描画線の線幅が増大する。

一方、図１５（ｂ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒについて全フレーム期間に亘りオフ状態とすべき第１の制御データが生成されている場合が示されている。本実施形態では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３が配列するように（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１およびＭ_Ｖ３が設定される。なお、ここでは、理解を容易にするために、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４に対応する仮想マイクロミラーについては考慮しないこととする。

図１５（ｂ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの上方に仮想描画点Ｐ_Ｖ１を形成する（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１についてフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第２の制御データが生成されている場合が示されている。これは、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の上方にステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線が存在することを意味する。この場合において、描画線の線幅の増大が指示された場合には、上記したように、第１の制御データと第２の制御データの論理和演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１５（ｂ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒがフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、当該マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の上方においてステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線の線幅が、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）において増大する。

一方、図１５（ｃ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの下方に仮想描画点Ｐ_Ｖ３を形成する（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ３についてフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第２の制御データが生成されている場合が示されている。これは、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の下方にステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線が存在することを意味する。この場合において、描画線の線幅の増大が指示された場合には、上記したように、第１の制御データと第２の制御データの論理和演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１５（ｃ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒがフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、当該マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の下方においてステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線の線幅が、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）において増大する。

図１６（ａ）〜図１６（ｃ）は、描画線の線幅を減少させる補正処理の一態様を示した図である。

図１６（ａ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒについてフレーム期間Ｆ５〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第１の制御データが生成されている場合が示されている。本実施形態では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４が配列するように（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４が設定される。なお、ここでは、理解を容易にするために、Ｘ方向に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ２に対応する仮想マイクロミラーについては考慮しないこととする。

図９に示すように、実在のマイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの進行方向前方に仮想描画点Ｐ_Ｖ２を形成する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２のオンオフのタイミングは、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも先行する。図１６（ａ）に示す例では、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２のオンオフのタイミングが、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも１フレーム期間分だけ先行している場合が示されている。一方、実在のマイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの進行方向後方に描画点Ｐ_Ｖ４を形成する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ４のオンオフのタイミングは、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも遅延する。図１６（ａ）に示す例では、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ４のオンオフのタイミングが、実在のマイクロミラーＭ_Ｒよりも１フレーム期間分だけ遅延している場合が示されている。

この場合において、描画線の線幅の減少が指示された場合には、上記したように第１の制御データと第２の制御データの論理積演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１６（ａ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒがフレーム期間Ｆ６およびＦ７においてのみオン状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、当該マイクロミラーＭ_Ｒのオン期間が補正処理前よりも短くなるので、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）において描画線の線幅が減少する。

このように、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４に対応する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４は、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）における描画線の線幅の増減に寄与する。また、描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４との間の距離Ｌを大きくすることで、実在のマイクロミラーＭ_Ｒと仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４とのオンオフタイミングのずれ量が大きくなり、その結果、論理和演算によって定まるマイクロミラーＭ_Ｒのオン期間がより長くなる一方、論理積演算によって定まるマイクロミラーＭ_Ｒのオン期間がより短くなるので、描画線の線幅の補正量がより大きくなる。

一方、図１６（ｂ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒについてフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第１の制御データが生成されている場合が示されている。本実施形態では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３が配列するように仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１およびＭ_Ｖ３が設定される。なお、ここでは、理解を容易にするために、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４に対応する仮想マイクロミラーについては考慮しないこととする。

図１６（ｂ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの上方に仮想描画点Ｐ_Ｖ１を形成する（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１についてフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第２の制御データが生成され、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの下方に描画点Ｐ_Ｖ３を形成する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ３について全フレーム期間に亘りオフ状態とすべき第２の制御データが生成されている場合が示されている。これは、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の上方にステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線が存在し、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の下方には描画線が存在しないことを意味する。この場合において、描画線の線幅の減少が指示された場合には、上記したように、第１の制御データと第２の制御データの論理積演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１６（ｂ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒが全フレーム期間に亘りオフ状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、当該マイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの移動軌跡の上方においてステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って伸びる描画線の線幅が、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）において減少する。

一方、図１６（ｃ）に示す例では、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの上方に仮想描画点Ｐ_Ｖ１を形成する（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１について全フレーム期間に亘りオフ状態とすべき第２の制御データが生成され、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐの下方に仮想描画点Ｐ_Ｖ３を形成する（図９参照）仮想マイクロミラーＭ_Ｖ３についてフレーム期間Ｆ４〜Ｆ８に亘りオン状態とすべき第２の制御データが生成されている場合が示されている。これは、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の下方にステージ１０の移動方向に沿って伸びる描画線が存在し、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の上方には描画線が存在しないことを意味する。この場合において、描画線の線幅の減少が指示された場合には、上記したように、第１の制御データと第２の制御データの論理積演算によって得られた値によって第１の制御データが補正される。すなわち、図１６（ｃ）に示す例では、マイクロミラーＭ_Ｒが全フレーム期間に亘りオフ状態となるように第１の制御データが補正される。これにより、当該マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の下方においてステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って伸びる描画線の線幅が、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）において減少する。

このように、実在のマイクロミラーＭ_Ｒに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列される仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３に対応する仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１およびＭ_Ｖ３は、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）における描画線の線幅の増減に寄与する。また、描画点Ｐと仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３との間の距離Ｌを大きくすることで、マイクロミラーＭ_Ｒによる描画点Ｐの移動軌跡の上方または下方に位置する描画線の線幅の補正量がより大きくなる。

以上の説明から明らかなように、本発明の実施形態に係る露光描画装置１においては、第１の制御データ生成部５１が、入力された画像データに基づいて、マイクロミラー毎のオンオフタイミングを定めた第１の制御データを生成する。露光ヘッド制御部１９は、この第１の制御データに基づいて、各マイクロミラーのオンオフを制御することにより、被露光基板Ｃ上に投影される各描画点において適切なタイミングでビームスポットを形成する。これにより、画像データに応じた露光描画を行うことが可能である。また、画像データにおける最小線幅の描画線は、複数のマイクロミラーに対応する複数の描画点によって描画されるので、高解像度化を達成することができる。

本発明の実施形態に係る露光描画装置１によれば、実際に露光描画される描画線のエッジ位置が画像データ上における描画線のエッジ位置と一致しない場合には、ユーザは、指示入力部６０から、描画線の線幅の増大または減少を指示することが可能である。描画線の線幅の増減が指示された場合には、仮想マイクロミラー設定部５２がＤＭＤ２７を構成するマイクロミラーの各々について、仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４を設定する。仮想マイクロミラー設定部５２は、図９に示すように、当該マイクロミラーによる描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４が配列するように仮想マイクロミラーＭ_Ｖ２およびＭ_Ｖ４を設定するとともに、当該マイクロミラーによる描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）に沿って仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３が配列するように仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１およびＭ_Ｖ３を設定する。第２の制御データ生成部５３は、設定された仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４の各々について、これらのオンオフタイミングを定めた第２の制御データを生成する。制御データ補正部５４は、第１の制御データを、第２の制御データとの論理演算によって算出した値によって補正する。このように、本発明の実施形態に係る露光描画装置１によれば、より簡便な処理によって被露光基板Ｃに描画される画像のエッジの位置を高精度に制御することが可能である。また、本発明の実施形態に係る露光描画装置１によれば、画像データ上で表現できる描画線の最小線幅よりも小さい単位で、描画線の線幅の補正を行うことが可能であり、エッジ位置の調整を高精度に行うことが可能である。

なお、上記の実施形態では、１つのマイクロミラーについて４つ仮想マイクロミラーＭ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４を設定する場合を例示したが、１つのマイクロミラーについて設定される仮想マイクロミラーの数は適宜増減することが可能である。例えば、ステージ１０の移動方向と直交する方向（Ｘ方向）については線幅補正が不要である場合には、実在のマイクロミラーに対応する描画点Ｐを間に挟んでステージ１０の移動方向（Ｙ方向）に沿って仮想描画点が配列するように２つの仮想マイクロミラーのみを設定すればよい。また、上記した実施形態では、図９に示すように、仮想描画点が、実在のマイクロミラーに対応する描画点Ｐを間に挟んで、ステージ１０の移動方向（Ｙ方向）およびこれと直交する方向（Ｘ方向）に仮想描画点が配列するように仮想マイクロミラーを設定する場合を例示したが、仮想描画点がＸ方向およびＹ方向以外の方向に配列するように仮想マイクロミラーを設定してもよい。例えば、実在のマイクロミラーを中心とする円の円周上に４つ以上の仮想マイクロミラーを設定してもよい。

また、線幅の補正量が大きい場合には、図１７に示すように、Ｙ方向に沿って配列された仮想描画点Ｐ_Ｖ２およびＰ_Ｖ４と描画点Ｐとの間に更に仮想描画点Ｐ_Ｖ５およびＰ_Ｖ６を配置するべく仮想マイクロミラーを設定するとともに、Ｘ方向に沿って配列された仮想描画点Ｐ_Ｖ１およびＰ_Ｖ３と描画点Ｐとの間に、更に仮想描画点Ｐ_Ｖ７およびＰ_Ｖ８を配置するべく仮想マイクロミラーを設定してもよい。すなわち、図１７に示す場合において仮想マイクロミラー設定部は、仮想描画点Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ８にそれぞれ対応する８つの仮想マイクロミラーを設定する。

また上記の実施形態では、各露光ヘッド３０内に設けられたＤＭＤ２７を構成する全てのマイクロミラーについて仮想マイクロミラーを設定する場合を例示したが、ＤＭＤ２７を構成する一部のマイクロミラーについてのみ仮想マイクロミラーを設定することとしてもよい。例えば、ＤＭＤ２７を構成する複数のマイクロミラーのうち、ＤＭＤ２７の外周部に位置するマイクロミラーによって描画される描画線のエッジのみが画像データ上における描画線のエッジと一致しない場合には、外周部に位置するマイクロミラーについてのみ仮想マイクロミラーを設定してもよい。これにより、外周部に位置するマイクロミラーによって描画される描画線については、画像データ上における描画線のエッジと一致するように線幅補正を行うことが可能となる。また、露光ヘッド間で描画線の線幅にばらつきがある場合には、特定の露光ヘッド内のマイクロミラーについてのみ仮想マイクロミラーを設定してもよい。これにより、露光ヘッド間における描画線の線幅のばらつきを抑制すことが可能である。これらの場合、仮想マイクロミラーを設定するマイクロミラーの指定を指示入力部６０を介して行うようにしてもよい。

また、本発明の実施形態に係る露光描画装置１によれば、実在のマイクロミラーと仮想マイクロミラーとの間の距離Ｌを変化させることにより、描画線の線幅の増減量を変化させることが可能である。かかる距離Ｌを、単一の露光ヘッド内におけるマイクロミラー間で異ならせることにより、単一の露光ヘッド内に設けられた各マイクロミラーによって描画される描画線の線幅のばらつきを抑制することとしてもよい。すなわち、仮想マイクロミラー設定部５２は、仮想マイクロミラーを設定する１のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離と、仮想マイクロミラーを設定する他のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離とが異なるように、上記１のマイクロミラーおよび上記他のマイクロミラーに対してそれぞれ仮想マイクロミラーを設定してもよい。また、距離Ｌを露光ヘッド間で異ならせてもよい。露光ヘッド間で光学系のばらつき等に起因する光量ばらつきによって描画線の線幅にばらつきが生じる場合には、露光ヘッド間で線幅の補正量を異ならせることにより、上記の描画線幅のばらつきを解消することが可能となる。ＤＭＤ２７を構成するマイクロミラー間若しくは露光ヘッド間で距離Ｌを異ならせる場合に、各マイクロミラーについての距離Ｌの指定を指示入力部６０を介して行うようにしてもよい。

また、本実施形態では、第１の制御データ生成部５０によって生成された第１の制御データを補正することによって線幅補正を行うこととしたが、ラスター変換処理部４２におおいて生成されたラスター形式の画像データに対する補正処理も併用することとしてもよい。例えば、１μｍ単位の線幅補正はラスター形式の画像データ上で行い、１μｍ以下の線幅補正については、第１の制御データ上で行うこととしてもよい。

また、上記した実施形態では、マイクロミラーのオン状態に論理値“１”を割り当て、オフ状態に論理値“０”を割り当てる場合を例示したが、マイクロミラーのオン状態に論理値“０”を割り当て、オフ状態に論理値“１”を割り当てる場合にも適用可能である。この場合、制御データ補正部５４は、指示入力部６０に入力された指示が線幅の増大を示すものである場合、仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理積を演算することによって得られた値によって補正する。一方、制御データ補正部５４は、指示入力部６０に入力された指示が線幅の減少を示すものである場合、仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理和を演算することによって得られた値によって補正する。

１ 露光描画装置
１０ ステージ
１９ 露光ヘッド制御部
２７ ＤＭＤ
３０ 露光ヘッド
４６ 移動機構
５０ ＤＭＤ制御データ生成部
５１ 第１の制御データ生成部
５２ 仮想マイクロミラー設定部
５３ 第２の制御データ生成部
５４ 制御データ補正部
６０ 指示入力部
Ｍ、Ｍ_Ｒ マイクロミラー
Ｍ_Ｖ１〜Ｍ_Ｖ４ 仮想マイクロミラー
Ｐ_Ｖ１〜Ｐ_Ｖ４ 仮想描画点

Claims (13)

1. 描画対象に描画する画像を示す画像データを取得する画像データ取得部と、
   入射した光を複数のマイクロミラーのオンオフによって空間変調して前記画像データに対応したパターン光を生成し、前記パターン光を前記描画対象に照射する露光ヘッドと、
   前記露光ヘッドが前記描画対象に前記パターン光を照射している状態において、前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置を移動させる移動機構と、
   前記画像データに基づいて、前記複数のマイクロミラーの各々について当該マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第１の制御データを生成する第１の制御データ生成部と、
   前記第１の制御データに基づいて、前記複数のマイクロミラーのオンオフを制御する制御部と、
   前記複数のマイクロミラーの少なくとも１つに対して、当該マイクロミラーに対応する描画点とは異なる位置に少なくとも１つの仮想的な仮想描画点を形成する仮想マイクロミラーを設定する仮想マイクロミラー設定部と、
   前記仮想描画点において前記画像データによって示される画像の当該仮想描画点に対応する部分を描画する場合の当該仮想マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第２の制御データを生成する第２の制御データ生成部と、
   前記仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理演算を行うことによって得られた値によって補正する制御データ補正部と、
   を含む露光描画装置。
2. 前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定する１のマイクロミラーに対して複数の仮想マイクロミラーを設定する請求項１に記載の露光描画装置。
3. 前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向に沿って配列するように、前記１のマイクロミラーに対して少なくとも２つの仮想マイクロミラーを設定する請求項２に記載の露光描画装置。
4. 前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向と交差する方向に沿って配列するように、前記１のマイクロミラーに対して少なくとも２つの仮想マイクロミラーを設定する請求項２に記載の露光描画装置。
5. 前記仮想マイクロミラー設定部は、前記仮想描画点が、前記１のマイクロミラーに対応する描画点を間に挟んで前記移動機構による前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置の移動方向およびこれと直交する方向に沿って配列するように前記１のマイクロミラーに対して複数の仮想マイクロミラーを設定する請求項２に記載の露光描画装置。
6. 前記パターン光によって描画される画像の線幅の増減を指示する指示入力を受け付ける指示入力部を更に含み、
   前記制御データ補正部は、前記指示入力部に入力された指示が線幅の増大を示すものであるか線幅の減少を示すものであるかに応じて、仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理和または論理積を演算することによって得られた値によって補正する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光描画装置。
7. 前記指示入力部は、前記パターン光によって描画される画像の線幅の補正量を指示する指示入力を更に受け付け、
   前記仮想マイクロミラー設定部は、前記指示入力部に入力された線幅の補正量が大きくなる程、当該マイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離が大きくなるように仮想マイクロミラーを設定する請求項６に記載の露光描画装置。
8. 前記仮想マイクロミラー設定部は、前記複数のマイクロミラーの各々について複数の仮想マイクロミラーを設定する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光描画装置。
9. 前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定する１のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離と、仮想マイクロミラーを設定する他のマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離とが異なるように、前記１のマイクロミラーおよび前記他のマイクロミラーに対してそれぞれ仮想マイクロミラーを設定する請求項８に記載の露光描画装置。
10. 複数の露光ヘッドを含み、
    前記仮想マイクロミラー設定部は、仮想マイクロミラーを設定するマイクロミラーに対応する描画点と当該仮想描画点との間の距離が露光ヘッド間で異なるように、前記複数の露光ヘッド内のマイクロミラーについて仮想マイクロミラーを設定する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光描画装置。
11. 複数の露光ヘッドを含み、
    前記仮想マイクロミラー設定部は、前記複数の露光ヘッドのうちの一部の露光ヘッド内のマイクロミラーに対してのみ仮想マイクロミラーを設定する請求項１乃至１０のいずれか１つに記載の露光描画装置。
12. 入射した光を複数のマイクロミラーのオンオフによって空間変調して描画対象に描画する画像を示す画像データに対応したパターン光を生成し、前記パターン光を前記描画対象に照射する露光ヘッドと、前記露光ヘッドから前記描画対象に前記パターン光を照射している状態において前記露光ヘッドに対する前記描画対象の相対位置を移動させる移動機構と、を含む露光描画装置を用いて前記描画対象に露光描画を行う露光描画方法であって、
    前記画像データに基づいて、前記複数のマイクロミラーの各々について当該マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第１の制御データを生成するステップと、
    前記複数のマイクロミラーの少なくとも１つに対して、当該マイクロミラーに対応する描画点とは異なる位置に少なくとも１つの仮想的な仮想描画点を形成する仮想マイクロミラーを設定するステップと、
    前記仮想描画点において前記画像データによって示される画像の当該仮想描画点に対応する部分を描画する場合の当該仮想マイクロミラーのフレーム期間毎のオンオフの状態に対応した複数の論理値を含む第２の制御データを生成するステップと、
    前記仮想マイクロミラーが設定されたマイクロミラーに対応する第１の制御データにおけるフレーム期間毎の論理値を、当該仮想マイクロミラーに対応する第２の制御データにおける対応するフレーム期間の論理値との論理演算を行うことによって得られた値によって補正する制御データ補正部と、
    補正された第１の制御データに基づいて前記複数のマイクロミラーのオンオフを制御するステップと、
    を含む露光描画方法。
13. コンピュータを、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光描画装置における前記制御部、前記第１の制御データ生成部、前記仮想マイクロミラー設定部、前記第２の制御データ生成部および前記制御データ補正部として機能させるためのプログラム。