JP6123283B2 - Connection structure of conductive particles, anisotropic conductive material and circuit member - Google Patents

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Description

本発明は、導電性粒子、異方性導電材料及び回路部材の接続構造体に関する。   The present invention relates to a connection structure of conductive particles, an anisotropic conductive material, and a circuit member.

液晶表示用ガラスパネルに液晶駆動用ICを実装する方式は、COG(Chip on Glass)実装とCOF(Chip on Flex)実装との2種類に大別することができる。COG実装では、導電性粒子を含む異方性導電材料を用いて液晶用ICを直接ガラスパネル上に接合する。一方、COF実装では、金属配線を有するフレキシブルテープに液晶駆動用ICを接合し、導電性粒子を含む異方性導電材料を用いてそれらをガラスパネルに接合する。なお、ここでいう異方性導電材料とは、加圧方向に導通性を有しつつ非加圧方向には絶縁性を保つ材料という意味である。   The method of mounting the liquid crystal driving IC on the glass panel for liquid crystal display can be roughly classified into two types, COG (Chip on Glass) mounting and COF (Chip on Flex) mounting. In COG mounting, an IC for liquid crystal is directly bonded onto a glass panel using an anisotropic conductive material containing conductive particles. On the other hand, in COF mounting, a liquid crystal driving IC is bonded to a flexible tape having metal wiring, and these are bonded to a glass panel using an anisotropic conductive material containing conductive particles. Note that the anisotropic conductive material here means a material that has conductivity in the pressurizing direction and maintains insulation in the non-pressurizing direction.

異方性導電材料を用いて接合を行う際には、接合時の圧力で導電性粒子が十分に変形し、かつ、圧力により破壊しない必要がある。   When bonding using an anisotropic conductive material, it is necessary that the conductive particles be sufficiently deformed by the pressure at the time of bonding and not be destroyed by the pressure.

そのため、導電性粒子がポリマー粒子と該ポリマー粒子を被覆する金属層とから構成される場合、ポリマー粒子には、導電性粒子が変形し易いように、圧縮弾性率を低減すると共に破壊強度に優れることが求められる。   Therefore, when the conductive particles are composed of polymer particles and a metal layer covering the polymer particles, the polymer particles have a low compressive elastic modulus and excellent breaking strength so that the conductive particles are easily deformed. Is required.

特許文献1には、ウレタン化合物とアクリルモノマーとを含有するモノマー重合体で構成されるアクリル樹脂を主成分とする樹脂粒子が小さい荷重で大きく変形することが開示されている。特許文献2では、樹脂粒子の弾性率を低減するためにアルキレンジオールジアクリレートを含む原料モノマーの懸濁重合により得られる樹脂粒子を用いることが報告されている。   Patent Document 1 discloses that resin particles mainly composed of an acrylic resin composed of a monomer polymer containing a urethane compound and an acrylic monomer are largely deformed with a small load. Patent Document 2 reports the use of resin particles obtained by suspension polymerization of raw material monomers containing alkylene diol diacrylate in order to reduce the elastic modulus of the resin particles.

しかし、懸濁重合では得られる樹脂粒子は多分散となるため粒度分布が広く、導電性粒子に用いるためには樹脂粒子を分級してから用いる必要があるため、生産性に劣る。これに対し、シード重合を用いた場合には、単分散性の樹脂粒子が得られやすいことが知られている。例えば、特許文献3〜5にも、シード重合を利用して合成した低弾性樹脂粒子が開示されている。   However, in the suspension polymerization, the resin particles obtained are polydispersed and thus have a wide particle size distribution, and in order to be used for conductive particles, it is necessary to classify the resin particles before use, resulting in poor productivity. On the other hand, when seed polymerization is used, it is known that monodisperse resin particles are easily obtained. For example, Patent Documents 3 to 5 also disclose low-elasticity resin particles synthesized using seed polymerization.

また、特許文献6には、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート等の多官能性モノマーをシード重合する架橋粒子の作製が開示されている。   Patent Document 6 discloses the production of crosslinked particles that seed-polymerize polyfunctional monomers such as butanediol diacrylate and hexanediol diacrylate.

国際公開第03/104285号International Publication No. 03/104285 特許第4642286号公報Japanese Patent No. 4642286 特開2005−327509号公報JP 2005-327509 A 特許第3739232号公報Japanese Patent No. 3739232 特開2010−159328号公報JP 2010-159328 A 特許第4218848号公報Japanese Patent No. 4218848

しかしながら、従来の、ポリマー粒子と該ポリマー粒子を被覆する金属層とから構成される導電性粒子には、導通信頼性の点で更なる改善が求められている。   However, the conventional conductive particles composed of polymer particles and a metal layer covering the polymer particles are required to be further improved in terms of conduction reliability.

そこで、本発明は、導通信頼性に優れた導電性粒子、該導電性粒子を含む異方性導電材料及び回路部材の接続構造体を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the connection structure of the electroconductive particle excellent in conduction | electrical_connection reliability, the anisotropic conductive material containing this electroconductive particle, and a circuit member.

本発明は、架橋ポリマー粒子と、該架橋ポリマー粒子の表面に形成された金属被膜とを有する導電性粒子であって、上記架橋ポリマー粒子は、シード粒子を、下記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーを含む乳化液中で膨潤した後、該モノマーをシード重合して形成された粒子を、溶解度パラメータが15〜30MPa1/2である溶媒を含む溶剤で洗浄して得られ、架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合が7〜25mol%であり、かつ、架橋ポリマー粒子を、水中100℃で12時間放置した際の40%圧縮変形弾性率の変化率が40%以下である、導電性粒子を提供する。 The present invention is a conductive particle having a crosslinked polymer particle and a metal coating formed on the surface of the crosslinked polymer particle, wherein the crosslinked polymer particle is represented by the following formula (1). After swelling in an emulsion containing a monomer containing an alkanediol diacrylate compound, the particles formed by seed polymerization of the monomer are washed with a solvent containing a solvent having a solubility parameter of 15 to 30 MPa 1/2. The ratio of carbon-carbon double bonds remaining in the crosslinked polymer particles is 7 to 25 mol%, and the crosslinked polymer particles are allowed to stand at 100 ° C. for 12 hours in water for 40% compression deformation modulus. A conductive particle having a change rate of 40% or less is provided.

Figure 0006123283

式中、Lは炭素数4〜12のアルキレン基を示す。
Figure 0006123283

In the formula, L 1 represents an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms.

架橋ポリマー粒子の平均粒径を2.5〜5.0μmに調整することにより、狭ピッチの電極用途で使用することが可能となる。架橋ポリマー粒子の粒径のCv値を10%以下とすることにより、導通信頼性をより向上させることが可能となる。   By adjusting the average particle diameter of the crosslinked polymer particles to 2.5 to 5.0 μm, it can be used for narrow pitch electrode applications. By setting the Cv value of the particle diameter of the crosslinked polymer particles to 10% or less, the conduction reliability can be further improved.

シード粒子の重量平均分子量が3000〜50000であると、シード粒子が膨潤した際にモノマーを吸収し易くなる。   When the weight average molecular weight of the seed particles is 3000 to 50000, the monomer is easily absorbed when the seed particles swell.

架橋ポリマー粒子の破壊強度が15mN以上であることにより、導電性粒子を含む異方性導電材料を用いて実装した際に良好な圧痕が電極に現れ易くなる。   When the fracture strength of the crosslinked polymer particles is 15 mN or more, a good indentation is likely to appear on the electrode when mounted using an anisotropic conductive material containing conductive particles.

架橋ポリマー粒子の粒径が、シード粒子の粒径に対して3〜10倍であることにより、上記アルカンジオールジアクリレート化合物の特性が発現し易くなり、架橋ポリマー粒子の圧縮特性がより向上する。   When the particle diameter of the crosslinked polymer particles is 3 to 10 times the particle diameter of the seed particles, the characteristics of the alkanediol diacrylate compound are easily developed, and the compression characteristics of the crosslinked polymer particles are further improved.

導通信頼性をより向上させる観点から、架橋ポリマー粒子の室温における圧縮回復率が50%以上であるとよい。   From the viewpoint of further improving the conduction reliability, the compression recovery rate at room temperature of the crosslinked polymer particles is preferably 50% or more.

本発明は更に、上記導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、異方性導電材料を提供する。   The present invention further provides an anisotropic conductive material containing the conductive particles and a binder resin.

本発明は、第1の回路基板の主面上に第1の回路電極が形成された第1の回路部材と、第2の回路基板の主面上に第2の回路電極が形成され、第2の回路電極が第1の回路電極と対向するように配置された第2の回路部材と、第1の回路部材と第2の回路部材との間に介在する接続部と、を備え、接続部が、上記本発明の導電性粒子を含む、回路部材の接続構造体を提供する。   According to the present invention, a first circuit member having a first circuit electrode formed on the main surface of the first circuit board, a second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit board, A second circuit member disposed so that the two circuit electrodes face the first circuit electrode, and a connection portion interposed between the first circuit member and the second circuit member, and connected. A part provides the connection structure of a circuit member containing the electroconductive particle of the said invention.

本発明によれば、導通信頼性に優れた導電性粒子、該導電性粒子を含む異方性導電材料及び回路部材の接続構造体を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the connection structure of the electroconductive particle excellent in conduction | electrical_connection reliability, the anisotropic conductive material containing this electroconductive particle, and a circuit member can be provided.

本実施形態に係る導電性粒子を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the electroconductive particle which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る異方性導電材料を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the anisotropic conductive material which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る回路部材の接続構造体の作製方法を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the preparation methods of the connection structure of the circuit member which concerns on this embodiment.

以下、場合により図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、各図面において、同一又は同等の要素には同一の符号を付与し、重複する説明を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings, the same or equivalent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

<導電性粒子>
本実施形態の導電性粒子は、特定の構成を備える架橋ポリマー粒子と、該架橋ポリマー粒子の表面に形成された金属被膜と、を有する。
<Conductive particles>
The electroconductive particle of this embodiment has a crosslinked polymer particle provided with a specific structure, and a metal film formed on the surface of the crosslinked polymer particle.

(架橋ポリマー粒子)
本実施形態に係る架橋ポリマー粒子は、シード粒子を、特定のアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーを含む乳化液中で膨潤した後、モノマーをシード重合して形成された粒子を、溶解度パラメータが15〜30MPa1/2である溶媒を含む溶剤で洗浄して得られる粒子である。上記該架橋ポリマー粒子は、該架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合が7〜25mol%であり、かつ、該架橋ポリマー粒子を水中100℃で12時間放置した際の40%圧縮変形弾性率の変化率が40%以下であることを特徴とする。
(Crosslinked polymer particles)
The crosslinked polymer particles according to this embodiment swell the seed particles in an emulsion containing a monomer containing a specific alkanediol diacrylate compound, and then seed-polymerize the monomer, so that the solubility parameter Particles obtained by washing with a solvent containing a solvent of 15 to 30 MPa 1/2 . The cross-linked polymer particles have a ratio of carbon-carbon double bonds remaining in the cross-linked polymer particles of 7 to 25 mol%, and 40% when the cross-linked polymer particles are left at 100 ° C. in water for 12 hours. The rate of change of the compressive deformation elastic modulus is 40% or less.

(シード粒子)
シード粒子としては、特に限定されないが、アクリル系粒子、スチレン系粒子等のビニル系樹脂粒子が挙げられる。
(Seed particles)
The seed particles are not particularly limited, and examples thereof include vinyl resin particles such as acrylic particles and styrene particles.

アクリル系粒子は、(メタ)アクリル系単量体の重合により得られる粒子である。(メタ)アクリル系単量体としては、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジエチルアミノエチルアクリレート、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、ジエチルアミノエチルメタクリレート等が挙げられる。これら単量体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Acrylic particles are particles obtained by polymerization of (meth) acrylic monomers. Examples of (meth) acrylic monomers include acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, dodecyl acrylate, stearyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethylhexyl, tetrahydrofurfuryl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, n-octyl methacrylate, methacryl Examples include dodecyl acid, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, and diethylaminoethyl methacrylate. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系粒子は、(メタ)アクリル系単量体と、他の単量体との共重合により得られる粒子であってもよい。他の単量体としては、例えば、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のグリコールエステル類;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類;N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド等のN−アルキル置換(メタ)アクリルアミド類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル類;ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等の多官能性単量体;スチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体が挙げられる。これら他の単量体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   The acrylic particles may be particles obtained by copolymerization of a (meth) acrylic monomer and another monomer. Examples of other monomers include glycol esters of (meth) acrylic acid such as ethylene glycol mono (meth) acrylate and polyethylene glycol mono (meth) acrylate; alkyl vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; vinyl acetate , Vinyl esters such as vinyl butyrate; N-alkyl substituted (meth) acrylamides such as N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-methylmethacrylamide and N-ethylmethacrylamide; nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile Polyfunctional monomers such as divinylbenzene, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate; styrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, chloromethyls Ren, styrenic monomers such as α- methyl styrene. These other monomers may be used alone or in combination of two or more.

スチレン系粒子は、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体の重合により得られる粒子である。これらスチレン系単量体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Styrenic particles are particles obtained by polymerization of styrene monomers such as styrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, chloromethylstyrene, and α-methylstyrene. These styrene monomers may be used alone or in combination of two or more.

スチレン系粒子は、スチレン系単量体と、他の単量体との共重合により得られる粒子であってもよい。他の単量体としては、例えば、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のグリコールエステル類;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド等のN−アルキル置換(メタ)アクリルアミド類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル類;ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等の多官能性単量体;アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジエチルアミノエチルアクリレート、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の(メタ)アクリル系単量体が挙げられる。これら他の単量体は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   The styrenic particles may be particles obtained by copolymerization of a styrenic monomer and another monomer. Examples of other monomers include glycol esters of (meth) acrylic acid such as ethylene glycol mono (meth) acrylate and polyethylene glycol mono (meth) acrylate; alkyl vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; vinyl acetate , Vinyl esters such as vinyl butyrate, N-alkyl substituted (meth) acrylamides such as N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-methylmethacrylamide and N-ethylmethacrylamide; nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile Polyfunctional monomers such as divinylbenzene, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate; acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate , Isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, dodecyl acrylate, stearyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate , (Meth) acrylic monomers such as n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, n-octyl methacrylate, dodecyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, etc. Is mentioned. These other monomers may be used alone or in combination of two or more.

シード粒子は、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法等の公知の方法で合成することができる。   The seed particles can be synthesized by a known method such as an emulsion polymerization method, a soap-free emulsion polymerization method, or a dispersion polymerization method.

シード粒子の重量平均分子量(Mw)は、大きくなるとモノマーの吸収能力が低下したり、吸収させるモノマーと相分離して力学強度が低下し易くなり、小さくなると粒径が均一になり難くなる。そのため、シード粒子のMwは、50000以下にすることが好ましく、30000以下にすることがより好ましい。また、シード粒子のMwは、3000以上が好ましく、5000以上がより好ましい。なお、本明細書で規定するMwとは、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー法(GPC)により標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した値である。   When the weight average molecular weight (Mw) of the seed particles increases, the absorption capacity of the monomer decreases, or the mechanical strength tends to decrease due to phase separation with the monomer to be absorbed, and when the seed particles decrease, the particle diameter becomes difficult to be uniform. Therefore, the Mw of the seed particles is preferably 50000 or less, and more preferably 30000 or less. Moreover, 3000 or more are preferable and, as for Mw of a seed particle, 5000 or more are more preferable. In addition, Mw prescribed | regulated by this specification is the value measured using the analytical curve by a standard polystyrene by the gel permeation chromatography method (GPC).

シード粒子の平均粒径は、得られる架橋ポリマー粒子の設計粒径に応じて調製することができる。シード粒子の平均粒径が大きくなるとモノマーの吸収に時間がかかり、平均粒径が小さくなると粒径が不均一になり真球性も低下し易くなる。シード粒子の平均粒径は、0.1〜2μmが好ましく、0.5〜2.0μmがより好ましく、0.5〜1.5μmが更に好ましい。   The average particle size of the seed particles can be adjusted according to the design particle size of the obtained crosslinked polymer particles. When the average particle size of the seed particles increases, it takes time to absorb the monomer, and when the average particle size decreases, the particle size becomes non-uniform and the sphericity tends to decrease. The average particle size of the seed particles is preferably 0.1 to 2 μm, more preferably 0.5 to 2.0 μm, and still more preferably 0.5 to 1.5 μm.

シード粒子の粒径(直径)の変動係数であるCv値は、大きくなると得られる架橋ポリマー粒子の均一性が低下し易くなることから、10%以下にすることが好ましく、7%以下がより好ましく、5%以下が更に好ましい。   The Cv value, which is the coefficient of variation of the particle size (diameter) of the seed particles, is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, since the uniformity of the resulting crosslinked polymer particles tends to decrease as the seed particle size (diameter) increases. 5% or less is more preferable.

シード粒子の平均粒径及び粒径のCv値は、走査型電子顕微鏡(SEM)で対象となるシード粒子を100個観察して粒径を測定することにより算出することができ、マイクロトラック粒度分析計(日機装製)のような粒度分測定装置を用いて測定される粒径から算出することも可能である。   The average particle size of the seed particles and the Cv value of the particle size can be calculated by observing 100 seed particles of interest with a scanning electron microscope (SEM) and measuring the particle size. It is also possible to calculate from the particle size measured using a particle size measuring device such as a meter (manufactured by Nikkiso).

(架橋ポリマー粒子の製造方法)
架橋ポリマー粒子は、上記シード粒子を、下記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーを含む乳化液中で膨潤した後、モノマーをシード重合して形成された粒子を、溶解度パラメータが15〜30MPa1/2である溶媒を含む溶剤で洗浄して得られる。
(Method for producing crosslinked polymer particles)
The crosslinked polymer particles are obtained by swelling the seed particles in an emulsion containing a monomer containing an alkanediol diacrylate compound represented by the following formula (1), and then seed-polymerizing the monomers. It is obtained by washing with a solvent containing a solvent having a solubility parameter of 15 to 30 MPa 1/2 .

Figure 0006123283
Figure 0006123283

式中、Lは炭素数4〜12のアルキレン基を示す。該アルキレン基は、直鎖状でも分岐状でも環状でもよい。 In the formula, L 1 represents an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms. The alkylene group may be linear, branched or cyclic.

シード重合法は、公知の方法を参考にして行うことができる。以下にシード重合法の一般的な方法を説明するが、この方法に限定されるものではない。   The seed polymerization method can be performed with reference to a known method. A general method of the seed polymerization method will be described below, but is not limited to this method.

まず、モノマーと水性媒体とを含む乳化液に、シード粒子を添加する。シード粒子は、乳化液に直接添加してもよく、シード粒子を水性分散体に分散させた形態で添加してもよい。   First, seed particles are added to an emulsion containing a monomer and an aqueous medium. The seed particles may be added directly to the emulsion or may be added in a form in which the seed particles are dispersed in an aqueous dispersion.

乳化液は、公知の方法により作製できる。例えば、モノマーを水性媒体に添加して、ホモジナイザー、超音波処理機、ナノマイザー等の微細乳化機により水性媒体に分散させることで、乳化液を得ることができる。乳化液は、必要に応じて重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤は、モノマーに予め混合させた後、水性媒体中に分散させてもよいし、重合開始剤とモノマーとを別々に水性媒体に分散させたものを混合してもよい。得られた乳化液中のモノマー液滴の粒径は、シード粒子の粒径よりも小さいほうが、モノマーがシード粒子に効率よく吸収される。   The emulsion can be prepared by a known method. For example, an emulsion can be obtained by adding a monomer to an aqueous medium and dispersing the monomer in an aqueous medium using a fine emulsifier such as a homogenizer, an ultrasonic processor, or a nanomizer. The emulsion may contain a polymerization initiator as necessary. The polymerization initiator may be mixed in advance with the monomer and then dispersed in an aqueous medium, or a mixture of a polymerization initiator and a monomer separately dispersed in an aqueous medium may be mixed. When the particle size of the monomer droplets in the obtained emulsion is smaller than the particle size of the seed particles, the monomer is efficiently absorbed by the seed particles.

シード粒子を乳化液へ添加した後、シード粒子を膨潤させてモノマーを吸収させる。この吸収は、通常、シード粒子を添加した後の乳化液を、室温で1〜24時間攪拌することで行うことができる。また、乳化液を30〜50℃程度に加温することによりモノマーの吸収を促進することができる。   After the seed particles are added to the emulsion, the seed particles are swollen to absorb the monomer. This absorption can be normally performed by stirring the emulsion after adding the seed particles at room temperature for 1 to 24 hours. Moreover, absorption of a monomer can be accelerated | stimulated by heating an emulsion to about 30-50 degreeC.

シード粒子は、モノマーの吸収により膨潤する。シード粒子に対するモノマーの混合比率が小さくなると、モノマーのシード重合により作製される架橋ポリマー粒子の粒径の増加が小さくなり、架橋ポリマー粒子の生産性が低下する傾向にある。一方、モノマーの混合比率が大きくなるとシード粒子に吸収されないで、水性媒体中でモノマーが独自に懸濁重合してしまい、目的とする粒径以外の粒子が生成することがある。なお、モノマーの吸収の終了は、光学顕微鏡を用いてシード粒子を観察して粒径の拡大を確認することにより判定できる。   The seed particles swell upon absorption of the monomer. When the mixing ratio of the monomer to the seed particle is reduced, the increase in the particle size of the crosslinked polymer particle produced by the seed polymerization of the monomer is reduced, and the productivity of the crosslinked polymer particle tends to be lowered. On the other hand, when the mixing ratio of the monomer is increased, the monomer may not be absorbed by the seed particles, and the monomer may be uniquely suspension-polymerized in the aqueous medium, and particles other than the target particle size may be generated. The completion of monomer absorption can be determined by observing seed particles using an optical microscope and confirming the increase in particle size.

本実施形態に係る乳化液は、モノマーとして上記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含む。架橋ポリマー粒子の低弾性と圧縮回復性とを両立し易くする観点から、式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物の含有量は、モノマー全量を基準として、90mol%以上であることが好ましく、92.5mol%以上であることがより好ましく、95mol%以上であることが更に好ましい。   The emulsion according to the present embodiment contains an alkanediol diacrylate compound represented by the above formula (1) as a monomer. From the viewpoint of easily achieving both low elasticity and compression recovery of the crosslinked polymer particles, the content of the alkanediol diacrylate compound represented by the formula (1) may be 90 mol% or more based on the total amount of the monomers. Preferably, it is 92.5 mol% or more, more preferably 95 mol% or more.

上記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物としては、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,7−ヘプタンジオールジアクリレート、1,8−オクタンジオールジアクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。   Examples of the alkanediol diacrylate compound represented by the above formula (1) include 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, and 1,6-hexanediol. Diacrylate, 1,7-heptanediol diacrylate, 1,8-octanediol diacrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1,10-decanediol diacrylate Examples thereof include acrylate and neopentyl glycol diacrylate.

モノマーとして、上記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物と共に、他の多官能性モノマー及び/又は単官能性モノマーを併用することができる。   As a monomer, other polyfunctional monomers and / or monofunctional monomers can be used in combination with the alkanediol diacrylate compound represented by the above formula (1).

多官能性モノマーとしては、例えば、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン等のジビニル化合物;(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(ポリ)アルキレングリコール系ジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタントリ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルプロパントリアクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレート;エトキシ化ビスフェノールA系ジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールA系ジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリスヒドロキシメチルエタンジ(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;ジアリルフタレート及びその異性体;トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体が挙げられる。これらモノマーの中でも、新中村化学工業(株)製のNKエステル(A−TMPT−6P0、A−TMPT−3E0、A−TMM−3LMN、A−GLYシリーズ、A−9300、AD−TMP、AD−TMP−4CL、ATM−4E、A−DPH)等が、商業的に入手可能である。これらの多官能性モノマーは、単独で使用しても2種類以上を併用してもよい。   Examples of multifunctional monomers include divinyl compounds such as divinylbenzene, divinylbiphenyl, divinylnaphthalene; (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, and (poly) tetramethylene glycol. (Poly) alkylene glycol-based di (meth) acrylates such as di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( (Meth) trifunctional or higher (meth) such as (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethane tri (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylpropane triacrylate Acrylate; ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 1,1,1-trishydroxymethylethanedi (meta ) Acrylates, di (meth) acrylates such as ethoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate; diallyl phthalate and isomers thereof; triallyl isocyanurate and derivatives thereof. Among these monomers, NK ester (A-TMPT-6P0, A-TMPT-3E0, A-TMM-3LMN, A-GLY series, A-9300, AD-TMP, AD-manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. TMP-4CL, ATM-4E, A-DPH) and the like are commercially available. These polyfunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

単官能性モノマーとしては、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、o−エチルスチレン、m−エチルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−t−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、3,4−ジクロロスチレン等のスチレン及びその誘導体;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸エステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル;N−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物;フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、アクリル酸トリフルオロエチル、アクリル酸テトラフルオロプロピル等の含フッ素化モノマー;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエンが挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of the monofunctional monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, o-ethylstyrene, m-ethylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4- Dimethyl styrene, pn-butyl styrene, pt-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl Styrene such as styrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene and derivatives thereof; methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, acrylic acid Isobutyl, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acrylic acid n-o Chill, dodecyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, phenyl acrylate, methyl α-chloroacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, methacryl (Meth) acrylic acid esters such as isobutyl acid, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, dodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, Vinyl esters such as vinyl butyrate; N-vinyl compounds such as N-vinyl pyrrole, N-vinyl carbazole, N-vinyl indole, N-vinyl pyrrolidone; vinyl fluoride, vinylidene fluoride, tetrafluoroe Ren, hexafluoropropylene, trifluoroethyl acrylate, fluorine-containing monomers such as acrylic acid tetrafluoropropyl; butadiene include conjugated dienes such as isoprene. These can be used alone or in combination of two or more.

水性媒体としては、水、又は、水と水溶性溶媒(例えば、低級アルコール)との混合媒体が挙げられる。水性媒体には、界面活性剤が含まれている。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性イオン系の界面活性剤のうち、いずれも用いることができる。   Examples of the aqueous medium include water or a mixed medium of water and a water-soluble solvent (for example, lower alcohol). The aqueous medium contains a surfactant. As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic and zwitterionic surfactants can be used.

アニオン系界面活性剤としては、例えば、オレイン酸ナトリウム、ヒマシ油カリ等の脂肪酸油、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム等のアルキル硫酸エステル塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルカンスルホン酸塩、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム等のジアルキルスルホコハク酸塩、アルケルニルコハク酸塩(ジカリウム塩)、アルキルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩等が挙げられる。   Examples of the anionic surfactant include fatty acid oils such as sodium oleate and castor oil potassium, alkyl sulfate salts such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate, and alkylnaphthalene sulfone. Acid salts, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates such as sodium dioctyl sulfosuccinate, alkenyl succinates (dipotassium salts), alkyl phosphate esters, naphthalene sulfonate formalin condensates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates Examples thereof include salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates such as sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, and polyoxyethylene alkyl sulfate salts.

カチオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアミンアセテート、ステアリルアミンアセテート等のアルキルアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニウム塩が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts such as laurylamine acetate and stearylamine acetate, and quaternary ammonium salts such as lauryltrimethylammonium chloride.

ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミン又はアミド類等の炭化水素系ノニオン界面活性剤、シリコンのポリエチレンオキサイド付加物類、ポリプロピレンオキサイド付加物類等のポリエーテル変性シリコン系ノニオン界面活性剤、パーフルオロアルキルグリコール類等のフッ素系ノニオン界面活性剤が挙げられる。   Nonionic surfactants include, for example, hydrocarbon nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyalkylene glycol alkylamines, or amides. Agents, polyether-modified silicon-based nonionic surfactants such as polyethylene oxide adducts of silicon and polypropylene oxide adducts, and fluorine-based nonionic surfactants such as perfluoroalkyl glycols.

両性イオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルジメチルアミンオキサイド等の炭化水素界面活性剤、リン酸エステル系界面活性剤及び亜リン酸エステル系界面活性剤が挙げられる。   Examples of zwitterionic surfactants include hydrocarbon surfactants such as lauryl dimethylamine oxide, phosphate ester surfactants, and phosphite ester surfactants.

界面活性剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記界面活性剤の中でも、モノマーの重合時の分散安定性の観点から、アニオン系界面活性剤が好ましい。   One surfactant may be used alone, or two or more surfactants may be used in combination. Among the above surfactants, an anionic surfactant is preferable from the viewpoint of dispersion stability during polymerization of the monomer.

必要に応じて添加される重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−tert−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物が挙げられる。重合開始剤は、モノマー100質量部に対して、0.1〜7.0質量部の範囲で使用するとよい。   Examples of the polymerization initiator added as necessary include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, orthochlorobenzoyl peroxide, orthomethoxybenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, tert-butyl peroxide. Organic peroxides such as oxy-2-ethylhexanoate and di-tert-butyl peroxide; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobiscyclohexanecarbonitrile, 2,2 ′ -Azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile). The polymerization initiator may be used in the range of 0.1 to 7.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer.

次に、シード粒子に吸収させたモノマーをシード重合する。   Next, the monomer absorbed in the seed particles is seed-polymerized.

重合温度は、モノマー及び重合開始剤の種類に応じて、適宜選択することができる。重合温度は、25〜110℃が好ましく、50〜100℃がより好ましい。重合反応は、シード粒子が十分に膨潤し、モノマー及び任意に重合開始剤が完全に吸収された後に、昇温して行うのが好ましい。   The polymerization temperature can be appropriately selected according to the types of the monomer and the polymerization initiator. The polymerization temperature is preferably 25 to 110 ° C, more preferably 50 to 100 ° C. The polymerization reaction is preferably carried out at an elevated temperature after the seed particles are sufficiently swollen and the monomer and optionally the polymerization initiator are completely absorbed.

上記重合工程において、シード粒子の分散安定性を向上させるために、乳化液に高分子分散安定剤を添加してもよい。   In the polymerization step, a polymer dispersion stabilizer may be added to the emulsion in order to improve the dispersion stability of the seed particles.

高分子分散安定剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカルボン酸、セルロース類(ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等)、ポリビニルピロリドンが挙げられ、トリポリリン酸ナトリウム等の無機系水溶性高分子化合物も併用することができる。これらのうち、ポリビニルアルコール又はポリビニルピロリドンが好ましい。高分子分散安定剤の添加量は、モノマー100質量部に対して1〜10質量部が好ましい。   Examples of the polymer dispersion stabilizer include polyvinyl alcohol, polycarboxylic acid, celluloses (hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, etc.), polyvinyl pyrrolidone, and an inorganic water-soluble polymer compound such as sodium tripolyphosphate. Can do. Of these, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone is preferred. The addition amount of the polymer dispersion stabilizer is preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer.

水中でモノマーが単独に乳化重合した粒子の発生を抑えるために、亜硝酸塩類、亜硫酸塩類、ハイドロキノン類、アスコルビン酸類、水溶性ビタミンB類、クエン酸、ポリフェノール類等の水溶性の重合禁止剤を用いてもよい。   In order to suppress the generation of particles in which the monomer is emulsion-polymerized alone in water, water-soluble polymerization inhibitors such as nitrites, sulfites, hydroquinones, ascorbic acids, water-soluble vitamin Bs, citric acid, and polyphenols are used. It may be used.

シード重合が終了した後は、必要に応じて重合液から遠心分離により水性媒体を除去し、シード重合により形成した粒子を、溶解度パラメータが15〜30MPa1/2である溶媒を含む溶剤で洗浄した後、乾燥することで架橋ポリマー粒子が単離される。特定の溶媒を含む溶剤を用いて粒子を洗浄することで、粒子中に残存している重合開始剤が溶解し、架橋ポリマー粒子の保管安定性、及び、導電性粒子の導通信頼性を向上させることができる。上記溶媒としては、例えば、メタノール、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン等の有機溶媒を使用することができる。これらの溶媒は、1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。 After the seed polymerization is completed, the aqueous medium is removed from the polymerization solution by centrifugation as necessary, and the particles formed by the seed polymerization are washed with a solvent containing a solvent having a solubility parameter of 15 to 30 MPa 1/2 . Thereafter, the crosslinked polymer particles are isolated by drying. By washing the particles with a solvent containing a specific solvent, the polymerization initiator remaining in the particles dissolves, and the storage stability of the crosslinked polymer particles and the conduction reliability of the conductive particles are improved. be able to. As said solvent, organic solvents, such as methanol, ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone, can be used, for example. These solvent can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

架橋ポリマー粒子の平均粒径は、好ましくは10μm以下、より好ましくは8μm以下、更に好ましくは6μm以下、特に好ましくは5.0μm以下である。また、架橋ポリマー粒子の平均粒径は、好ましくは1μm以上、より好ましくは1.75μm以上であり、更に好ましくは2.5μm以上、特に好ましくは3.0μm以上である。平均粒径が小さくなると、架橋ポリマー粒子が凝集し易くなる可能性がある。   The average particle diameter of the crosslinked polymer particles is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, still more preferably 6 μm or less, and particularly preferably 5.0 μm or less. The average particle size of the crosslinked polymer particles is preferably 1 μm or more, more preferably 1.75 μm or more, still more preferably 2.5 μm or more, and particularly preferably 3.0 μm or more. If the average particle size is small, the crosslinked polymer particles may easily aggregate.

架橋ポリマー粒子の粒径(直径)のCv値は、架橋ポリマー粒子の各種用途における性能(例えば、架橋ポリマー粒子が異方性導電剤を構成する導電性粒子に用いられたときの接続信頼性や、架橋ポリマー粒子が生体検査素子に用いられたときの定量性)をより向上させる観点から、10%以下であることが好ましい。同様の観点から、架橋ポリマー粒子の粒径のCv値は、より好ましくは8%以下、更に好ましくは5%以下、より一層好ましくは4%以下である。   The Cv value of the particle diameter (diameter) of the crosslinked polymer particles is the performance of the crosslinked polymer particles in various applications (for example, connection reliability when the crosslinked polymer particles are used as conductive particles constituting an anisotropic conductive agent, From the viewpoint of further improving the quantitativeness when the crosslinked polymer particles are used in a biopsy element, it is preferably 10% or less. From the same viewpoint, the Cv value of the particle diameter of the crosslinked polymer particles is more preferably 8% or less, still more preferably 5% or less, and still more preferably 4% or less.

架橋ポリマー粒子の平均粒径及び粒径のCv値は、以下の測定法により求めることができる。
1)粒子を、超音波分散装置を使用して水に分散させ、1質量%の粒子を含む分散液を調製する。
2)粒度分布計(シスメックスフロー、シスメックス製)を用いて、上記分散液中の粒子約10万個の画像を、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、平均粒径と粒径のCv値を算出する。
The average particle diameter and the Cv value of the particle diameter of the crosslinked polymer particles can be determined by the following measurement method.
1) Disperse particles in water using an ultrasonic dispersion device to prepare a dispersion containing 1% by mass of particles.
2) Using a particle size distribution meter (Sysmex Flow, manufactured by Sysmex), an image of about 100,000 particles in the dispersion was observed with a scanning electron microscope (SEM), and the average particle size and the Cv value of the particle size were measured. Is calculated.

シード粒子と、上記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーから合成されるポリマーとの相互作用を十分に働かせる観点から、シード粒子の粒径に対して最終的に得られる架橋ポリマー粒子の粒径を3〜10倍となるように調整することが好ましく、3〜7倍となることがより好ましく、4〜6倍となることが更に好ましい。粒径比を上記範囲内にすることで、架橋ポリマー粒子の圧縮特性をより向上させることができる。   From the viewpoint of sufficiently allowing the interaction between the seed particles and the polymer synthesized from the monomer containing the alkanediol diacrylate compound represented by the above formula (1), the final particle size of the seed particles is obtained. It is preferable to adjust the particle diameter of the crosslinked polymer particles to be 3 to 10 times, more preferably 3 to 7 times, and still more preferably 4 to 6 times. By setting the particle size ratio within the above range, the compression characteristics of the crosslinked polymer particles can be further improved.

架橋ポリマー粒子の圧縮弾性率を低減する観点から、架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合(二重結合残存率)は、シード粒子を膨潤させるモノマー全量中に存在する炭素−炭素二重結合を基準として7〜25mol%であり、7〜23mol%であることが好ましく、7〜20mol%であることがより好ましい。なお、二重結合残存率は、作製した架橋ポリマー粒子の分散液から単離した架橋ポリマー粒子の粉体の赤外線吸収スペクトルを測定した後、1730cm−1付近に現れるカルボニル(−C=O)のピーク強度を基準とする815cm−1付近に現れる炭素−炭素二重結合のピーク強度と、上記モノマーの同ピーク強度とから算出することができる。 From the viewpoint of reducing the compression elastic modulus of the crosslinked polymer particles, the ratio of carbon-carbon double bonds remaining in the crosslinked polymer particles (double bond remaining ratio) is the amount of carbon present in the total amount of monomers that swell the seed particles. It is 7-25 mol% on the basis of a carbon double bond, it is preferable that it is 7-23 mol%, and it is more preferable that it is 7-20 mol%. The residual rate of double bonds was determined by measuring the infrared absorption spectrum of the powder of crosslinked polymer particles isolated from the prepared dispersion of crosslinked polymer particles, and then measuring the carbonyl (-C = O) appearing near 1730 cm -1 . It can be calculated from the peak intensity of the carbon-carbon double bond appearing in the vicinity of 815 cm −1 based on the peak intensity and the same peak intensity of the monomer.

架橋ポリマー粒子の圧縮特性を表す圧縮回復率は、以下の方法で測定することができる。   The compression recovery rate representing the compression characteristics of the crosslinked polymer particles can be measured by the following method.

圧縮回復率は、微小圧縮試験機(Fisher製)を用い、室温(25℃)条件にて荷重負荷速度0.33mN/秒で、四角柱の平滑な端面(50μm×50μm)により架橋ポリマー粒子を中心から5mNまで圧縮した後、逆に0.33mN/秒の速度で荷重を減らしていく際の、荷重値と圧縮変位との関係を測定して得られる。荷重を反転させる点から最終除荷値までの変位(L1)と、反転の点から初期荷重値までの変位(L2)との比(L1/L2)を%にて表した値が圧縮回復率である。本実施形態では5回測定した平均値を用いている。なお、本実施形態において「室温」とは、25℃である。   The compression recovery rate was measured by using a micro compression tester (manufactured by Fisher) at a room temperature (25 ° C.) load rate of 0.33 mN / sec. It is obtained by measuring the relationship between the load value and the compression displacement when the load is reduced at a speed of 0.33 mN / sec after compression from the center to 5 mN. The ratio (L1 / L2) of the displacement (L1) from the point of reversing the load to the final unloading value and the displacement (L2) from the point of reversal to the initial unloading value is expressed in% as a compression recovery rate. It is. In this embodiment, an average value measured five times is used. In this embodiment, “room temperature” is 25 ° C.

架橋ポリマー粒子の室温における圧縮回復率は、好ましくは50%以上であり、より好ましくは55%以上である。   The compression recovery rate of the crosslinked polymer particles at room temperature is preferably 50% or more, more preferably 55% or more.

架橋ポリマー粒子を圧縮した際の圧縮弾性率及び破壊強度は、以下の方法で測定することができる。   The compression modulus and breaking strength when the crosslinked polymer particles are compressed can be measured by the following method.

微小圧縮試験機(Fisher製)を用いて、室温条件にて荷重負荷速度1mN/秒で、四角柱の平滑な端面(50μm×50μm)により架橋ポリマー粒子を50mNまで圧縮したときの荷重及び圧縮変位を測定する。得られた測定値から、架橋ポリマー粒子が40%圧縮変形したときの圧縮弾性率(40%K値)を下記式により求めることができる。また、上記測定中の変位量が最も大きく変化する点の荷重を破壊強度(mN)とする。
40%K値(kgf/mm=9.81×10N/m)=(3/21/2)・F・S−3/2・R−1/2
F:架橋ポリマー粒子が40%圧縮変形したときの荷重(mN)
S:架橋ポリマー粒子が40%圧縮変形したときの圧縮変位(mm)
R:架橋ポリマー粒子の半径(mm)
Using a micro compression tester (Fisher), the load and compressive displacement when the crosslinked polymer particles are compressed to 50 mN with a square column smooth end face (50 μm × 50 μm) at a load rate of 1 mN / sec at room temperature. Measure. From the measured values obtained, the compression modulus (40% K value) when the crosslinked polymer particles are 40% compressively deformed can be determined by the following formula. Further, the load at the point at which the displacement during the measurement changes most greatly is defined as the breaking strength (mN).
40% K value (kgf / mm 2 = 9.81 × 10 6 N / m 2 ) = (3/2 1/2 ) · F · S −3 / 2 · R −1/2
F: Load (mN) when the crosslinked polymer particles are 40% compressively deformed
S: Compression displacement (mm) when the crosslinked polymer particles are 40% compressively deformed
R: radius of cross-linked polymer particles (mm)

架橋ポリマー粒子の40%圧縮変形したときの圧縮弾性率は、150〜400kgf/mm(1.47〜3.92×10N/m)であることが好ましく、200〜400kgf/mm(1.96〜3.92×10N/m)であることがより好ましく、250〜380kgf/mm(2.45〜3.73×10N/m)であることがさらに好ましい。 The compression modulus when the crosslinked polymer particles are 40% compressively deformed is preferably 150 to 400 kgf / mm 2 (1.47 to 3.92 × 10 9 N / m 2 ), and 200 to 400 kgf / mm 2. (1.96 to 3.92 × 10 9 N / m 2 ) is more preferable, and 250 to 380 kgf / mm 2 (2.45 to 3.73 × 10 9 N / m 2 ) is even more preferable. preferable.

40%K値が小さすぎると、架橋ポリマー粒子の柔軟性が高くなりすぎて、架橋ポリマー粒子の表面に導電層を形成した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む異方性導電材料を用いて電極間を接続する際に、導電性粒子と電極との間のバインダー樹脂を十分に排除でき難くなる。40%K値が大きすぎると、架橋ポリマー粒子の柔軟性が低すぎて、導電性粒子により電極が損傷することがある。   If the 40% K value is too small, the flexibility of the crosslinked polymer particles becomes too high, and an anisotropic conductive material containing conductive particles having a conductive layer formed on the surface of the crosslinked polymer particles and a binder resin is used. When connecting the electrodes, it becomes difficult to sufficiently eliminate the binder resin between the conductive particles and the electrodes. If the 40% K value is too large, the flexibility of the crosslinked polymer particles may be too low, and the electrode may be damaged by the conductive particles.

異方性導電材料を用いた実装時の導電性粒子に基づく圧痕を明確にする観点から、架橋ポリマー粒子の破壊強度は、15mN以上であることが好ましく、16mN以上であることがより好ましく、17mN以上であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of clarifying indentations based on conductive particles during mounting using an anisotropic conductive material, the breaking strength of the crosslinked polymer particles is preferably 15 mN or more, more preferably 16 mN or more, and 17 mN. More preferably, it is the above.

架橋ポリマー粒子を、100℃の水中で12時間放置した際の40%圧縮変形弾性率の変化率(40%K値変化率)は、40%以下である。架橋ポリマー粒子の40%K値変化率は、以下の方法で測定することができる。   When the cross-linked polymer particles are left in water at 100 ° C. for 12 hours, the change rate of 40% compression deformation modulus (40% K value change rate) is 40% or less. The 40% K value change rate of the crosslinked polymer particles can be measured by the following method.

上述の方法で40%K値を測定した架橋ポリマー粒子0.5gをイオン交換水25gに分散させ、耐圧容器中100℃で12時間放置(加熱試験)した後、取り出して、40%K値を測定する。得られた測定値から、40%K値変化率を下記式により求めることができる。
40%K値変化率(%)=[(加熱試験前の40%K値)−(加熱試験後の40%K値)]/(加熱試験前の40%K値)×100
0.5 g of the crosslinked polymer particles whose 40% K value was measured by the above-mentioned method were dispersed in 25 g of ion-exchanged water, left in a pressure vessel at 100 ° C. for 12 hours (heating test), then taken out, and the 40% K value was determined. taking measurement. From the obtained measured value, the 40% K value change rate can be obtained by the following formula.
40% K value change rate (%) = [(40% K value before heating test) − (40% K value after heating test)] / (40% K value before heating test) × 100

架橋ポリマー粒子の40%K値変化率は、導通信頼性をより一層向上する観点から、35%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、20%以下であることが更に好ましく、10%以下であることが特に好ましい。   The 40% K value change rate of the crosslinked polymer particles is preferably 35% or less, more preferably 30% or less, and further preferably 20% or less from the viewpoint of further improving the conduction reliability. Preferably, it is particularly preferably 10% or less.

<導電性粒子>
本実施形態の導電性粒子は、上記架橋ポリマー粒子と、該架橋ポリマー粒子の表面に形成された金属被膜と、を有する。図1は、本実施形態に係る導電性粒子を示す模式断面図である。図1に示すように、導電性粒子10は、架橋ポリマー粒子1と、架橋ポリマー粒子1の表面を被覆している金属被膜(金属層)2とを有する。
<Conductive particles>
The electroconductive particle of this embodiment has the said crosslinked polymer particle and the metal film formed on the surface of this crosslinked polymer particle. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing conductive particles according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the conductive particle 10 includes a crosslinked polymer particle 1 and a metal coating (metal layer) 2 that covers the surface of the crosslinked polymer particle 1.

金属層2を構成する金属は、特に限定されないが、例えば、金、パラジウム、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、カドミウム、錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金が挙げられる。なかでも、金属層2は、ニッケル、銅、パラジウム、金又は錫−銀合金を含むことが好ましい。   Although the metal which comprises the metal layer 2 is not specifically limited, For example, gold, palladium, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, Examples include germanium, cadmium, tin-lead alloy, tin-copper alloy, tin-silver alloy, and tin-lead-silver alloy. Especially, it is preferable that the metal layer 2 contains nickel, copper, palladium, gold | metal | money, or a tin-silver alloy.

架橋ポリマー粒子1の表面に金属層2を形成する方法は特に限定されない。金属層2を形成する方法として、例えば、無電解めっき法、電気めっき法、物理的蒸着法、金属粉末を含むペーストを架橋ポリマー粒子1の表面に塗布する方法が挙げられる。物理的蒸着法としては、真空蒸着、イオンプレーティング又はイオンスパッタリングを用いることができる。金属層2を形成する方法としては、無電解めっき法が好ましい。   The method for forming the metal layer 2 on the surface of the crosslinked polymer particle 1 is not particularly limited. Examples of the method for forming the metal layer 2 include an electroless plating method, an electroplating method, a physical vapor deposition method, and a method of applying a paste containing metal powder to the surface of the crosslinked polymer particle 1. As physical vapor deposition, vacuum vapor deposition, ion plating, or ion sputtering can be used. As a method for forming the metal layer 2, an electroless plating method is preferable.

金属層2は、単層であっても、2層以上が積層された複数の金属層であってもよい。電極間の接続抵抗を低減する観点から、導電性粒子10の表面(金属層2の最外層)は、金層、パラジウム層又は錫−銀合金層であることが好ましい。   The metal layer 2 may be a single layer or a plurality of metal layers in which two or more layers are laminated. From the viewpoint of reducing the connection resistance between the electrodes, the surface of the conductive particles 10 (the outermost layer of the metal layer 2) is preferably a gold layer, a palladium layer, or a tin-silver alloy layer.

金属層2の厚みは、0.02〜1μmであることが好ましく、0.02〜0.5μmであることがより好ましい。金属層2の厚みが0.02μm以上であれば、良好な導電性が発現し易くなり、1μm以下であれば、接続の際に導電性粒子が変形し易くなる。金属層2の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより求めることができる。   The thickness of the metal layer 2 is preferably 0.02 to 1 μm, and more preferably 0.02 to 0.5 μm. If the thickness of the metal layer 2 is 0.02 μm or more, good conductivity is easily developed, and if it is 1 μm or less, the conductive particles are easily deformed during connection. The thickness of the metal layer 2 can be calculated | required by observing the cross section of electroconductive particle, for example using a transmission electron microscope (TEM).

導電性粒子10の平均粒径は、1.02〜11μmが好ましく、1.5〜10μmがより好ましく、2〜7μmが更に好ましく、2.5〜5μmがより一層好ましい。   The average particle size of the conductive particles 10 is preferably 1.02 to 11 μm, more preferably 1.5 to 10 μm, still more preferably 2 to 7 μm, and even more preferably 2.5 to 5 μm.

導電性粒子10の粒径のCv値は、10%以下であることが好ましく、7%以下であることがより好ましく、5%以下であることが更に好ましい。導電性粒子10のCv値が10%以下であることにより、電気的な接続信頼性をより高くすることができる。   The Cv value of the particle diameter of the conductive particles 10 is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, and still more preferably 5% or less. When the Cv value of the conductive particles 10 is 10% or less, the electrical connection reliability can be further increased.

導電性粒子10の平均粒径及び粒径のCv値は、架橋ポリマー粒子1と同様の方法で測定することが可能である。   The average particle diameter and the Cv value of the particle diameter of the conductive particles 10 can be measured by the same method as that for the crosslinked polymer particles 1.

<異方性導電材料>
本実施形態の異方性導電材料は、上記導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。図2は、本実施形態に係る異方性導電材料を示す模式断面図である。異方性導電材料40は、絶縁性のバインダー樹脂20と、バインダー樹脂20中に分散された導電性粒子10とを備える。
<Anisotropic conductive material>
The anisotropic conductive material of the present embodiment includes the conductive particles and a binder resin. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the anisotropic conductive material according to the present embodiment. The anisotropic conductive material 40 includes an insulating binder resin 20 and conductive particles 10 dispersed in the binder resin 20.

バインダー樹脂20としては、熱硬化性樹脂、硬化剤、フィルム形成性ポリマー等を含有する熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。   As the binder resin 20, a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin, a curing agent, a film-forming polymer, or the like can be used.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、耐熱性の観点からエポキシ樹脂を用いることが好ましい。エポキシ樹脂としては、分子内に2個以上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物を用いることができ、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式型エポキシ樹脂、グリシジルアミン化合物、グリシジルエーテル化合物及びグリシジルエステル化合物が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a thermosetting resin, It is preferable to use an epoxy resin from a heat resistant viewpoint. As the epoxy resin, various epoxy compounds having two or more glycidyl groups in the molecule can be used. For example, bisphenol type epoxy resin, novolac type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic ring Formula type epoxy resins, glycidyl amine compounds, glycidyl ether compounds, and glycidyl ester compounds may be mentioned.

エポキシ樹脂として、不純物イオン(Na、Cl等)や、加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用いると、エレクトロマイグレーションを防止し易くなる。 When a high-purity product in which impurity ions (Na + , Cl −, etc.), hydrolyzable chlorine, etc. are reduced to 300 ppm or less is used as the epoxy resin, it becomes easy to prevent electromigration.

硬化剤としては特に限定されないが、潜在性硬化剤を用いることができる。潜在性硬化剤としては、例えば、イミダゾール化合物、ヒドラジド化合物、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミドが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent, A latent hardening | curing agent can be used. Examples of the latent curing agent include imidazole compounds, hydrazide compounds, boron trifluoride-amine complexes, sulfonium salts, amine imides, polyamine salts, and dicyandiamide.

フィルム形成性ポリマーは、異方性導電材料をフィルム状に形成することができるものであれば特に限定されない。フィルム形成性ポリマーとしては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。   The film-forming polymer is not particularly limited as long as the anisotropic conductive material can be formed into a film shape. Examples of the film-forming polymer include thermoplastic resins such as phenoxy resin, polyester resin, and polyamide resin.

バインダー樹脂20には、接着後の応力を低減するため又は接着性を向上するために、ブタジエンゴム、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム等を混合することができる。   The binder resin 20 can be mixed with butadiene rubber, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, silicone rubber, or the like in order to reduce stress after adhesion or to improve adhesion.

バインダー樹脂20には、無機フィラーを配合することもできる。無機フィラーとして、例えば、シリカ、マグネシア、ベントナイト、スメクタイト、アルミナ又は窒化ホウ素からなるフィラーを用いることができる。   The binder resin 20 can also contain an inorganic filler. As the inorganic filler, for example, a filler made of silica, magnesia, bentonite, smectite, alumina, or boron nitride can be used.

なお、バインダー樹脂20は、熱硬化性樹脂及び硬化剤に代えて、ラジカル重合性樹脂及び有機過酸化物等の光重合開始剤を含有する光硬化性樹脂組成物であってもよい。   The binder resin 20 may be a photocurable resin composition containing a photopolymerization initiator such as a radical polymerizable resin and an organic peroxide instead of the thermosetting resin and the curing agent.

異方性導電材料40は、例えば、以下のようにして作製することができる。まず、エポキシ樹脂、アクリルゴム、潜在性硬化剤及びフィルム形成性ポリマーを含有する熱硬化性樹脂組成物を、必要に応じて有機溶剤に溶解又は分散させて液状化してバインダー樹脂20を調製する。次いで、バインダー樹脂20中に導電性粒子10を分散させることで液状の異方性導電材料40が作製される。有機溶剤としては、樹脂成分を溶解することができ、常圧での沸点が50〜150℃であるものが好ましい。   The anisotropic conductive material 40 can be manufactured as follows, for example. First, a binder resin 20 is prepared by dissolving or dispersing a thermosetting resin composition containing an epoxy resin, an acrylic rubber, a latent curing agent, and a film-forming polymer in an organic solvent as necessary. Subsequently, the liquid anisotropic conductive material 40 is produced by dispersing the conductive particles 10 in the binder resin 20. The organic solvent is preferably one that can dissolve the resin component and has a boiling point of 50 to 150 ° C. at normal pressure.

液状の異方性導電材料40は、そのまま回路部材の接続に用いることができるが、フィルム状に成形して用いることもできる。フィルム状の異方性導電材料40は、液状の異方性導電材料40を離型性フィルム上に塗布し、硬化剤の活性温度以下で有機溶剤を除去した後、離型性フィルムから剥離することにより作製することができる。離型性フィルムとしては、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリオレフィンフィルム等の樹脂フィルムが好適に用いられる。異方性導電材料40は、フィルムの形状で使用すると、取扱性の点から便利である。   The liquid anisotropic conductive material 40 can be used as it is for connecting circuit members, but it can also be formed into a film and used. The film-like anisotropic conductive material 40 is peeled from the release film after the liquid anisotropic conductive material 40 is applied onto the release film, the organic solvent is removed below the activation temperature of the curing agent. Can be produced. As the releasable film, a resin film such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, and a polyolefin film is preferably used. When the anisotropic conductive material 40 is used in the form of a film, it is convenient from the viewpoint of handleability.

フィルム状の異方性導電材料40の厚みは、導電性粒子10の粒径及び異方性導電材料40の特性を考慮して相対的に決定されるが、1〜100μmであることが好ましく、3〜50μmであることがより好ましい。異方性導電材料40の厚みが1μm未満では十分な接着性が得られ難く、100μmを超えると導電性を得るために多量の導電性粒子10を必要とするために現実的ではない。   The thickness of the film-like anisotropic conductive material 40 is relatively determined in consideration of the particle size of the conductive particles 10 and the characteristics of the anisotropic conductive material 40, and is preferably 1 to 100 μm. It is more preferable that it is 3-50 micrometers. If the thickness of the anisotropic conductive material 40 is less than 1 μm, it is difficult to obtain sufficient adhesion, and if it exceeds 100 μm, a large amount of the conductive particles 10 is required to obtain conductivity, which is not realistic.

<接続構造体>
本実施形態に係る回路部材の接続構造体は、第1の回路基板の主面上に第1の回路電極が形成された第1の回路部材と、第2の回路基板の主面上に第2の回路電極が形成された第2の回路部材と、第1の回路部材と第2の回路部材との間に介在する接続部と、を備える。第2の回路部材は、第2の回路電極が第1の回路電極と対向するように配置されており、接続部は、上記本実施形態に係る導電性粒子を含む。
<Connection structure>
The circuit member connection structure according to the present embodiment includes a first circuit member in which a first circuit electrode is formed on the main surface of the first circuit board, and a first circuit member on the main surface of the second circuit board. A second circuit member on which two circuit electrodes are formed, and a connection portion interposed between the first circuit member and the second circuit member. The second circuit member is disposed so that the second circuit electrode faces the first circuit electrode, and the connection portion includes the conductive particles according to the present embodiment.

図3は、本実施形態に係る異方性導電材料を用いた回路部材の接続構造体の作製方法を示す模式断面図である。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method for producing a circuit member connection structure using the anisotropic conductive material according to the present embodiment.

まず、図3の(a)に示すように、第1の回路電極5が形成された第1の回路基板4と、第2の回路電極7が形成された第2の回路基板6とを準備し、異方性導電材料40をその間に配置する。このとき、第1の回路電極5と第2の回路電極7とが対向するように位置を調整する。その後、第1の回路基板4と第2の回路基板6とを、第1の回路電極5と第2の回路電極7とが対向する方向で加圧加熱しつつ積層して、図3の(b)に示す接続構造体42を得る。接続構造体42は、異方性導電材料40の硬化物により電気的に接続されている。   First, as shown in FIG. 3A, a first circuit board 4 on which a first circuit electrode 5 is formed and a second circuit board 6 on which a second circuit electrode 7 is formed are prepared. Then, the anisotropic conductive material 40 is disposed therebetween. At this time, the position is adjusted so that the first circuit electrode 5 and the second circuit electrode 7 face each other. After that, the first circuit board 4 and the second circuit board 6 are laminated while being pressurized and heated in the direction in which the first circuit electrode 5 and the second circuit electrode 7 face each other, as shown in FIG. A connection structure 42 shown in b) is obtained. The connection structure 42 is electrically connected by a cured product of the anisotropic conductive material 40.

第1の回路基板4及び第2の回路基板6としては、例えば、ガラス基板、ポリイミド等のテープ基板、ドライバーIC等のベアチップ及びリジット型のパッケージ基板が挙げられる。   Examples of the first circuit board 4 and the second circuit board 6 include a glass substrate, a tape substrate such as polyimide, a bare chip such as a driver IC, and a rigid package substrate.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

[シード粒子の合成]
(合成例1)
500mLの三口フラスコに、メタクリル酸メチル(MMA)70g、オクタンチオール(OCT)2.1g、ペルオキソ二硫酸カリウム(KPS)2.1g及び水400gを一括して仕込み、70℃のウォーターバスで加熱しながら、攪拌機を用いて約8時間撹拌をして、シード粒子を形成させた。
[Synthesis of seed particles]
(Synthesis Example 1)
A 500 mL three-necked flask is charged with 70 g of methyl methacrylate (MMA), 2.1 g of octanethiol (OCT), 2.1 g of potassium peroxodisulfate (KPS) and 400 g of water, and heated in a 70 ° C. water bath. Then, stirring was performed for about 8 hours using a stirrer to form seed particles.

(合成例2)
スチレン(ST)30g、オクタンチオール(OCT)3g、ペルオキソ二硫酸カリウム(KPS)1.5g及び水400gを使用した以外は、合成例1と同様にしてシード粒子を形成させた。
(Synthesis Example 2)
Seed particles were formed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 30 g of styrene (ST), 3 g of octanethiol (OCT), 1.5 g of potassium peroxodisulfate (KPS) and 400 g of water were used.

(合成例3)
スチレン(ST)40g、オクタンチオール(OCT)4g、ペルオキソ二硫酸カリウム(KPS)1.98g及び水400gを使用した以外は、合成例1と同様にしてシード粒子を形成させた。
(Synthesis Example 3)
Seed particles were formed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 40 g of styrene (ST), 4 g of octanethiol (OCT), 1.98 g of potassium peroxodisulfate (KPS) and 400 g of water were used.

(合成例4)
スチレン(ST)30g、オクタンチオール(OCT)2g、ペルオキソ二硫酸カリウム(KPS)1.5g及び水400gを使用した以外は、合成例1と同様にしてシード粒子を形成させた。
(Synthesis Example 4)
Seed particles were formed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 30 g of styrene (ST), 2 g of octanethiol (OCT), 1.5 g of potassium peroxodisulfate (KPS) and 400 g of water were used.

(合成例5)
メタクリル酸メチル(MMA)55g、オクタンチオール(OCT)1.7g、ペルオキソ二硫酸カリウム(KPS)1.70g及び水400gを一括して仕込み、70℃のウォーターバスで加熱しながら、攪拌機を用いて約8時間撹拌をして、シード粒子を形成させた。
(Synthesis Example 5)
Methyl methacrylate (MMA) 55g, octanethiol (OCT) 1.7g, potassium peroxodisulfate (KPS) 1.70g and water 400g are charged all together and heated with a water bath at 70 ° C, using a stirrer. Stir for about 8 hours to form seed particles.

各合成例で得られたシード粒子の粒径をマイクロトラックで測定し、平均粒径及び粒径のCv値を算出した。また、GPCを用いて、得られたシード粒子の分子量を測定した。結果を表1に示す。   The particle size of the seed particles obtained in each synthesis example was measured with a microtrack, and the average particle size and the Cv value of the particle size were calculated. Further, the molecular weight of the obtained seed particles was measured using GPC. The results are shown in Table 1.

Figure 0006123283
Figure 0006123283

(実施例1)
[架橋ポリマー粒子の作製]
重合開始剤であるジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネートを、モノマーであるヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)400gに対して2mol%溶解した後、ドデシル硫酸トリエタノールアミン20.4gが溶解したイオン交換水6800gと混合し、超音波ホモジナイザーで10分間処理して乳化液を調製した。
Example 1
[Production of crosslinked polymer particles]
After dissolving 2 mol% of di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate as a polymerization initiator with respect to 400 g of hexanediol diacrylate (HDDA) as a monomer, 6800 g of ion-exchanged water in which 20.4 g of triethanolamine dodecyl sulfate was dissolved. And the mixture was treated with an ultrasonic homogenizer for 10 minutes to prepare an emulsion.

この乳化液に、合成例1のシード粒子の分散液300g(固形分3.70g)を加えて室温で12時間攪拌した後、ポリビニルアルコール(日本合成化学、商品名「GH−17」)を6質量%含む水溶液1000gを加えて55℃で8時間重合を行い、粒子を形成させた。形成した粒子を、遠心分離を用いて分離し、分離した粒子を水洗浄後、メタノール、酢酸エチル/トルエンの混合溶媒の順で洗浄して、目的とする架橋ポリマー粒子を作製した。   To this emulsion, 300 g of the seed particle dispersion of Synthesis Example 1 (solid content: 3.70 g) was added and stirred at room temperature for 12 hours, and then polyvinyl alcohol (Nippon GOHSEI, trade name “GH-17”) was added. 1000 g of an aqueous solution containing mass% was added and polymerization was carried out at 55 ° C. for 8 hours to form particles. The formed particles were separated using centrifugal separation, and the separated particles were washed with water and then washed with methanol and a mixed solvent of ethyl acetate / toluene in this order to produce the desired crosslinked polymer particles.

(架橋ポリマー粒子の特性)
作製した架橋ポリマー粒子の特性を、以下の方法で測定した。
(Characteristics of crosslinked polymer particles)
The characteristics of the produced crosslinked polymer particles were measured by the following method.

架橋ポリマー粒子の粒径をフロー型粒径測定装置で測定し、平均粒径及び粒径のCv値を算出した。   The particle size of the crosslinked polymer particles was measured with a flow type particle size measuring device, and the average particle size and the Cv value of the particle size were calculated.

作製した架橋ポリマー粒子を真空乾燥し、赤外線吸収スペクトルをFT−IRを使用して測定した。得られた赤外線吸収スペクトルの1730cm−1付近に現れるカルボニルのピーク強度を基準とする815cm−1付近に現れる炭素−炭素二重結合のピーク強度と、重合前のモノマーについて測定した同ピーク強度とを比較することで、架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合(二重結合残存率)を算出した。 The produced crosslinked polymer particles were vacuum-dried, and the infrared absorption spectrum was measured using FT-IR. The peak intensity of the carbon-carbon double bond appearing in the vicinity of 815 cm −1 based on the peak intensity of the carbonyl appearing in the vicinity of 1730 cm −1 of the obtained infrared absorption spectrum, and the same peak intensity measured for the monomer before polymerization. By comparison, the ratio of carbon-carbon double bonds remaining in the crosslinked polymer particles (double bond residual ratio) was calculated.

微小圧縮試験機(Fisher製)を用いて架橋ポリマー粒子を圧縮したときの荷重及び圧縮変位を上述した条件で測定することで、室温における圧縮回復率、圧縮破壊強度及び40%K値を算出した。   By measuring the load and compression displacement when the crosslinked polymer particles were compressed using a micro compression tester (Fisher) under the above-mentioned conditions, the compression recovery rate at room temperature, the compression fracture strength, and the 40% K value were calculated. .

架橋ポリマー粒子0.5gをイオン交換水25gに分散させ、耐圧容器中100℃で12時間放置後(加熱試験)に再度圧縮特性を評価し、40%K値変化率を算出した。   After 0.5 g of the crosslinked polymer particles were dispersed in 25 g of ion-exchanged water, the compression characteristics were evaluated again after standing in a pressure vessel at 100 ° C. for 12 hours (heating test), and a 40% K value change rate was calculated.

[導電性粒子の作製]
得られた架橋ポリマー粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を無電界めっき法で形成し、さらにそのニッケル層の外側に厚み0.04μmの金層を形成して、導電性粒子作製した。得られた導電性粒子の圧縮特性を、架橋ポリマー粒子と同様に評価した。評価結果を表3に示す。
[Preparation of conductive particles]
A nickel layer having a thickness of 0.2 μm was formed by electroless plating on the surface of the obtained crosslinked polymer particles, and a gold layer having a thickness of 0.04 μm was formed outside the nickel layer to produce conductive particles. . The compression characteristics of the obtained conductive particles were evaluated in the same manner as the crosslinked polymer particles. The evaluation results are shown in Table 3.

(実施例2)
合成例1のシード粒子の分散液の代わりに、合成例2のシード粒子の分散液300g(固形分5.33g)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 2)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 300 g (solid content 5.33 g) of the seed particle dispersion of Synthesis Example 2 was used instead of the seed particle dispersion of Synthesis Example 1.

(実施例3)
合成例1のシード粒子の分散液の代わりに、合成例3のシード粒子の分散液300g(固形分8.18g)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 3)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1, except that 300 g of the seed particle dispersion of Synthesis Example 3 (solid content: 8.18 g) was used instead of the dispersion of seed particles of Synthesis Example 1.

(実施例4)
合成例1のシード粒子の分散液の代わりに、合成例4のシード粒子の分散液300g(固形分1.67g)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
Example 4
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 300 g (solid content: 1.67 g) of the seed particle dispersion of Synthesis Example 4 was used instead of the seed particle dispersion of Synthesis Example 1.

(実施例5)
合成例1のシード粒子の分散液の代わりに、合成例5のシード粒子の分散液300g(固形分0.90g)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 5)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 300 g (solid content: 0.90 g) of the seed particle dispersion of Synthesis Example 5 was used instead of the seed particle dispersion of Synthesis Example 1.

(実施例6)
HDDAの代わりに、1,4−ブタンジオールジアクリレート(BDDA)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 6)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 1,4-butanediol diacrylate (BDDA) was used instead of HDDA.

(実施例7)
HDDAの代わりに、2−メチルペンタンジオールジアクリレート(MPDA)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 7)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 2-methylpentanediol diacrylate (MPDA) was used instead of HDDA.

(実施例8)
HDDAの代わりに、1,9−ノナンジオールジアクリレート(NDDA)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 8)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 1,9-nonanediol diacrylate (NDDA) was used instead of HDDA.

(実施例9)
HDDAの代わりに、1,10−デカンジオールジアクリレート(ODDA)を用いた以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
Example 9
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that 1,10-decanediol diacrylate (ODDA) was used instead of HDDA.

(実施例10)
「55℃で8時間重合」を「60℃で8時間重合」に変更した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 10)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that “polymerization at 55 ° C. for 8 hours” was changed to “polymerization at 60 ° C. for 8 hours”.

(実施例11)
「55℃で8時間重合」を「50℃で8時間重合」に変更した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 11)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that “polymerization at 55 ° C. for 8 hours” was changed to “polymerization at 50 ° C. for 8 hours”.

(実施例12)
架橋ポリマー粒子合成後の洗浄において、水/メタノール混合溶媒でのみ洗浄した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 12)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the washing after the synthesis of the crosslinked polymer particles was carried out only with a water / methanol mixed solvent.

(実施例13)
架橋ポリマー粒子合成後の洗浄において、メタノールでのみ洗浄した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Example 13)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the washing after synthesis of the crosslinked polymer particles was carried out only with methanol.

(比較例1)
重合開始剤を過酸化ベンゾイルに変更し、「55℃で8時間重合」を「80℃で8時間重合」に変更した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Comparative Example 1)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator was changed to benzoyl peroxide and “polymerization at 55 ° C. for 8 hours” was changed to “polymerization at 80 ° C. for 8 hours”.

(比較例2)
重合開始剤をt−ブチルペルオクトエートに変更し、「55℃で8時間重合」を「70℃で8時間重合」に変更した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Comparative Example 2)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator was changed to t-butyl peroctoate and “polymerization at 55 ° C. for 8 hours” was changed to “polymerization at 70 ° C. for 8 hours”. .

(比較例3)
架橋ポリマー粒子合成後の洗浄において、水でのみ洗浄した以外は、実施例1と同様にして導電性粒子を作製した。
(Comparative Example 3)
Conductive particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the washing after the synthesis of the crosslinked polymer particles was carried out only with water.

作製した架橋ポリマー粒子の特性を表2に、作製した導電性粒子の特性を表3にそれぞれまとめて示す。   The properties of the produced crosslinked polymer particles are summarized in Table 2, and the properties of the produced conductive particles are summarized in Table 3, respectively.

Figure 0006123283
Figure 0006123283

Figure 0006123283
Figure 0006123283

[異方性導電材料の作製]
上記導電性粒子を用いて、異方性導電材料の作製を行った。
[Production of anisotropic conductive material]
An anisotropic conductive material was produced using the conductive particles.

フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製、商品名「PKHC」)5質量部、アクリルゴム(ブチルアクリレート40質量部、エチルアクリレート30質量部、アクリロニトリル30質量部及びグリシジルメタクリレート3質量部の共重合体、Mw85万)18質量部及びエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YL−983U」)15質量部を酢酸エチル10質量部に溶解し、カチオン系硬化剤(三新化学工業株式会社製、商品名「SI−60」)2質量部を添加し、熱硬化性樹脂組成物を調製した。次いで、上記熱硬化性樹脂組成物に、シリカフィラー(日本アエロジル社製、商品名「Aerosil R805」)10質量部の酢酸エチル分散液30質量部を加え混合した後、導電性粒子20質量部及び酢酸エチル10質量部を加えて超音波分散を行い、液状の異方性導電材料を作製した。   5 parts by mass of phenoxy resin (trade name “PKHC” manufactured by Union Carbide), acrylic rubber (40 parts by mass of butyl acrylate, 30 parts by mass of ethyl acrylate, 30 parts by mass of acrylonitrile and 3 parts by mass of glycidyl methacrylate, Mw 850,000 ) 18 parts by mass and 15 parts by mass of epoxy resin (trade name “YL-983U” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) are dissolved in 10 parts by mass of ethyl acetate, and a cationic curing agent (trade name, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.). "SI-60") 2 parts by mass was added to prepare a thermosetting resin composition. Next, after adding 30 parts by mass of an ethyl acetate dispersion of 10 parts by mass of a silica filler (trade name “Aerosil R805”, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) to the thermosetting resin composition, 20 parts by mass of conductive particles and Ultrasonic dispersion was performed by adding 10 parts by mass of ethyl acetate to prepare a liquid anisotropic conductive material.

液状の異方性導電材料を、シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み40μm、以下、「PETフィルム」と表記する)上にロールコータで塗布し、80℃で5分間乾燥して厚み23μmのフィルム状の異方性導電材料を作製した。   A liquid anisotropic conductive material was applied on a silicone-treated polyethylene terephthalate film (thickness 40 μm, hereinafter referred to as “PET film”) with a roll coater and dried at 80 ° C. for 5 minutes to form a film having a thickness of 23 μm. An anisotropic conductive material was prepared.

[接続構造体の作製]
作製したフィルム状の異方性導電材料を用いて、金バンプ(面積:30μm×90μm、スペース10μm、高さ:15μm、バンプ数:362)付きチップ(1.7mm×17mm、厚み:0.5mm)と、ITO回路付きガラス基板(ジオマテック製、厚み:0.7mm)との接続を、以下のとおり行い、接続構造体を作製した。
[Production of connection structure]
Using the produced film-like anisotropic conductive material, a chip (1.7 mm × 17 mm, thickness: 0.5 mm) with gold bumps (area: 30 μm × 90 μm, space 10 μm, height: 15 μm, number of bumps: 362) ) And a glass substrate with an ITO circuit (Geomatec, thickness: 0.7 mm) were connected as follows to produce a connection structure.

所定のサイズ(2mm×19mm)に切断したフィルム状異方性導電材料のPETフィルムが設けられた面とは反対側の面を、ITO回路付きガラス基板のITO回路が形成された面上に、80℃、0.98MPa(10kgf/cm)、5秒間の条件で貼り付けた。その後、PETフィルムを剥離し、異方性導電材料を介して、チップの金バンプとITO回路付きガラス基板との位置合わせを行い、170℃、70MPa、5秒間の条件で加熱及び加圧を行って本接続を行い、実装サンプル(接続構造体)を得た。 The surface opposite to the surface on which the PET film of the film-like anisotropic conductive material cut into a predetermined size (2 mm × 19 mm) is provided on the surface on which the ITO circuit of the glass substrate with the ITO circuit is formed, The film was attached at 80 ° C. and 0.98 MPa (10 kgf / cm 2 ) for 5 seconds. Then, the PET film is peeled off, and the gold bumps of the chip and the glass substrate with the ITO circuit are aligned through an anisotropic conductive material, and heated and pressed under conditions of 170 ° C., 70 MPa for 5 seconds. This connection was made to obtain a mounting sample (connection structure).

[導通抵抗試験]
作製した実装サンプル(接続構造体)の導通抵抗試験を以下のようにして行った。結果を表4に示す。初期の導通抵抗が1〜3Ω未満の場合を「A」、3〜10Ωの場合を「B」、10Ωを超える場合を「C」とした。
[Conduction resistance test]
The conduction resistance test of the produced mounting sample (connection structure) was performed as follows. The results are shown in Table 4. The case where the initial conduction resistance was less than 1 to 3Ω was “A”, the case where it was 3 to 10Ω was “B”, and the case where it exceeded 10Ω was “C”.

各実装サンプルのチップ電極/ガラス電極間の導通抵抗に関しては、14箇所測定したときの平均値を取った。なお、導通抵抗は、初期値と、温度85℃、湿度85%の条件で500時間放置する信頼性試験(吸湿耐熱試験)後の値とを測定した。異方性導電材料はチップ電極間の絶縁抵抗が高く、チップ電極/ガラス電極間の導通抵抗が低いことが重要である。信頼性試験後の導通抵抗が5Ω未満の場合を「A」、5〜10Ωの場合を「B」、10Ωを超える場合を「C」とした。   Regarding the conduction resistance between the chip electrode / glass electrode of each mounting sample, an average value was obtained when 14 locations were measured. In addition, the conduction resistance measured the initial value and the value after the reliability test (moisture absorption heat test) left to stand for 500 hours on conditions of temperature 85 degreeC and humidity 85%. It is important that the anisotropic conductive material has a high insulation resistance between the chip electrodes and a low conduction resistance between the chip electrode and the glass electrode. The case where the conduction resistance after the reliability test is less than 5Ω is “A”, the case where it is 5 to 10Ω is “B”, and the case where it exceeds 10Ω is “C”.

[圧痕の確認]
オリンパス社製BH3−MJL液晶パネル検査用顕微鏡を用いて、ノマルスキー微分干渉観察によりガラス基板側から圧痕の状態を観察した。結果を表4に示す。はっきり輪郭を確認できる場合を「良好」、それ以外を「不明瞭」とした。
[Confirmation of indentation]
Using an Olympus BH3-MJL liquid crystal panel inspection microscope, the state of indentation was observed from the glass substrate side by Nomarski differential interference observation. The results are shown in Table 4. The case where the outline could be clearly confirmed was defined as “good”, and the others were defined as “unclear”.

Figure 0006123283
Figure 0006123283

本発明の構成を備える導電性粒子を用いることで、導通信頼性に優れる回路部材の接続構造体を作製できることが確認された。   It was confirmed that by using the conductive particles having the configuration of the present invention, it is possible to produce a circuit member connection structure having excellent conduction reliability.

本発明によれば、導通信頼性に優れた導電性粒子が得られる。また、本発明によれば、該導電性粒子を含む異方性導電材料及び回路部材の接続構造体を提供することができる。   According to the present invention, conductive particles having excellent conduction reliability can be obtained. Moreover, according to this invention, the anisotropic conductive material containing this electroconductive particle and the connection structure of a circuit member can be provided.

1…架橋ポリマー粒子、2…金属層、4…第1の回路基板、5…第2の回路電極、6…第2の回路基板、7…第2の回路電極、10…導電性粒子、20…バインダー樹脂、40…異方性導電材料、42…接続構造体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Crosslinked polymer particle, 2 ... Metal layer, 4 ... 1st circuit board, 5 ... 2nd circuit electrode, 6 ... 2nd circuit board, 7 ... 2nd circuit electrode, 10 ... Conductive particle, 20 ... binder resin, 40 ... anisotropic conductive material, 42 ... connection structure.

Claims (9)

架橋ポリマー粒子と、該架橋ポリマー粒子の表面に形成された金属被膜と、を有する、導電性粒子の製造方法であって、
ード粒子を、下記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーを含む乳化液中で膨潤させた後、前記モノマーをシード重合して粒子を形成該粒子を溶解度パラメータが15〜30MPa1/2である溶媒を含む溶剤で洗浄して前記架橋ポリマー粒子を得る工程を備え
前記架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合が7〜25mol%であり、かつ、前記架橋ポリマー粒子を、100℃の水中で12時間放置した際の40%圧縮変形弾性率の変化率が40%以下であり、かつ、前記架橋ポリマー粒子の破壊強度が15mN以上である、導電性粒子の製造方法
Figure 0006123283

[式中、Lは炭素数4〜12のアルキレン基を示す。]
A method for producing conductive particles, comprising: crosslinked polymer particles; and a metal film formed on the surface of the crosslinked polymer particles,
Shea over de particles, after swollen with emulsion containing a monomer containing alkanediol diacrylate compound represented by the following formula (1), and seed polymerization to form particles of the monomer, the particles A step of washing with a solvent containing a solvent having a solubility parameter of 15 to 30 MPa 1/2 to obtain the crosslinked polymer particles ,
The proportion of carbon-carbon double bonds remaining in the crosslinked polymer particles is 7 to 25 mol%, and the crosslinked polymer particles have a 40% compression deformation elastic modulus when left in water at 100 ° C. for 12 hours. Ri der change rate is 40% or less, and the breaking strength of the crosslinked polymer particles is not less than 15 mN, the production method of the conductive particles.
Figure 0006123283

[Wherein, L 1 represents an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms. ]
前記架橋ポリマー粒子の室温における圧縮回復率が50%以上である、請求項1に記載の導電性粒子の製造方法The compression recovery ratio at room temperature of the crosslinked polymer particles is 50% or more, the method for fabricating a conductive particle of claim 1. 架橋ポリマー粒子と、該架橋ポリマー粒子の表面に形成された金属被膜と、を有する、導電性粒子の製造方法であって、
シード粒子を、下記式(1)で表されるアルカンジオールジアクリレート化合物を含有するモノマーを含む乳化液中で膨潤させた後、前記モノマーをシード重合して粒子を形成し、該粒子を溶解度パラメータが15〜30MPa 1/2 である溶媒を含む溶剤で洗浄して前記架橋ポリマー粒子を得る工程と、を備え、
前記架橋ポリマー粒子中に残存する炭素−炭素二重結合の割合が7〜25mol%であり、かつ、前記架橋ポリマー粒子を、100℃の水中で12時間放置した際の40%圧縮変形弾性率の変化率が40%以下であり、かつ、前記架橋ポリマー粒子の室温における圧縮回復率が50%以上である、導電性粒子の製造方法。
Figure 0006123283

[式中、Lは炭素数4〜12のアルキレン基を示す。]
A method for producing conductive particles, comprising: crosslinked polymer particles; and a metal film formed on the surface of the crosslinked polymer particles,
After the seed particles are swollen in an emulsion containing a monomer containing an alkanediol diacrylate compound represented by the following formula (1), the monomers are seed-polymerized to form particles, and the particles are treated with a solubility parameter. Washing with a solvent containing a solvent having a viscosity of 15 to 30 MPa 1/2 to obtain the crosslinked polymer particles,
The proportion of carbon-carbon double bonds remaining in the crosslinked polymer particles is 7 to 25 mol%, and the crosslinked polymer particles have a 40% compression deformation elastic modulus when left in water at 100 ° C. for 12 hours. The method for producing conductive particles, wherein the rate of change is 40% or less, and the compression recovery rate at room temperature of the crosslinked polymer particles is 50% or more.
Figure 0006123283

[Wherein, L 1 represents an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms. ]
前記架橋ポリマー粒子の破壊強度が15mN以上である、請求項3に記載の導電性粒子の製造方法 The manufacturing method of the electroconductive particle of Claim 3 whose breaking strength of the said crosslinked polymer particle is 15 mN or more. 前記シード粒子の重量平均分子量が3000〜50000である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性粒子の製造方法 The manufacturing method of the electroconductive particle as described in any one of Claims 1-4 whose weight average molecular weights of the said seed particle are 3000-50000. 前記架橋ポリマー粒子の平均粒径が1〜10μmであり、粒径のCv値が10%以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電性粒子の製造方法The average particle diameter of the said crosslinked polymer particle is 1-10 micrometers, and the manufacturing method of the electroconductive particle as described in any one of Claims 1-5 whose Cv value of a particle size is 10% or less. 前記架橋ポリマー粒子の粒径が、前記シード粒子の粒径に対して3〜10倍である、請求項1〜のいずれか一項に記載の導電性粒子の製造方法The particle size of the crosslinked polymer particles, wherein 3 to 10 times the particle size of the seed particles, method for producing a conductive particle according to any one of claims 1-6. 請求項1〜のいずれか一項に記載の導電性粒子の製造方法により得られた導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる工程を備える、異方性導電材料の製造方法 Claims 1-7 any one conductive particles obtained by the method for producing a conductive particle according to the comprises a step of dispersing in a binder resin, a manufacturing method of an anisotropic conductive material. 第1の回路基板の主面上に第1の回路電極が形成された第1の回路部材と、第2の回路基板の主面上に第2の回路電極が形成された第2の回路部材とを、前記第1の回路電極と前記第2の回路電極とが対向するように配置し、前記第1の回路部材と前記第2の回路部材との間に、請求項8に記載の製造方法により得られた異方性導電材料を配置する工程と、
前記第1の回路基板と前記第2の回路基板とを、前記第1の回路電極と前記第2の回路電極とが対向する方向に加圧加熱する工程と、を備える、回路部材の接続構造体の製造方法
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a major surface of a first circuit board, a second circuit member having a second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit board The manufacturing method according to claim 8, wherein the first circuit electrode and the second circuit electrode are opposed to each other, and between the first circuit member and the second circuit member. Arranging the anisotropic conductive material obtained by the method;
A circuit member connection structure comprising: pressurizing and heating the first circuit board and the second circuit board in a direction in which the first circuit electrode and the second circuit electrode face each other. Body manufacturing method .
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