JP6118635B2 - 高周波焼入装置 - Google Patents
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Description
さらに焼入水回収パンで回収された焼入水を前記熱伝導配管を経由して焼入水タンクに戻す流路と、焼入水回収パンで回収された焼入水をバイパス流路を経由して焼入水タンクに戻す流路とを切り換える切換手段を備えたので、焼入水回収パンの高温の焼入水を、必要に応じていずれかの流路を経由させることができる。
ここで、熱伝導配管は、熱交換器を含むものであってもよい。
従来は捨てられるだけであった高温の焼入水の熱を有効利用することができ、暖房するための燃料や電力等が不要である。すなわち、環境に優しい。
高周波焼入装置1は、誘導加熱装置50(加熱処理部)、冷却装置51(冷却水供給システム)、図示しないワーク支持装置を有する。
排水管6の他端は、三方切換弁8の第3ポート17cに接続されている。
図示しない制御装置によって、誘導加熱装置50と冷却装置51とが制御され、ワーク3が焼入される。
図3に示す高周波焼入装置25では、図2に示す高周波焼入装置1と同じ符合を付した構成は、同じ部材であり、重複する説明は省略する。
また、高周波焼入装置25は、立ち位置10の床下に配置された熱伝導配管21を有している。熱伝導配管21の両端には、途中にポンプ22を備えた配管24の両端が接続されている。配管24には、外部配管32が接続されており、外部配管32を介して配管24内に熱媒を供給することができる。ポンプ22は、熱媒を加圧して配管24及び熱伝導配管21内を循環させる。
高周波焼入装置25のその他の構成は、図2の高周波焼入装置1の構成と同じである。
図4、図5に示す高周波焼入装置26では、図2に示す高周波焼入装置1と同じ符合を付した構成は、同じ部材であり、重複する説明は省略する。
高周波焼入装置26では、供給管16における焼入水タンク11と供給ポンプ12の間の部位に、焼入水タンク11に近い方から順に、配管30の一端、電磁弁33、配管31の一端が接続又は配置されている。すなわち、供給管16における配管30の接続部と、配管31の接続部の間の部位に電磁弁33が設けられている。
この状態で供給ポンプ12、回収ポンプ7を駆動すると、図4において黒塗りで示す様に焼入水タンク11内の焼入水が流れる。すなわち、焼入水タンク11内の焼入水は、電磁弁33を通過して焼入水噴射装置4からワーク3へ向けて噴射される。ワーク3を冷却した焼入水は、回収パン5に回収される。回収パン5に回収された高温の焼入水は、回収ポンプ7で加圧されて排水管6を通り、三方切換弁8の第2ポート17bから配管27を介して配管30、熱伝導配管29に供給される。配管30上の電磁弁35は閉じられているので、高温の焼入水は熱伝導配管29側へ流れる。また、電磁弁37が閉じられているので、熱伝導配管29を通過した焼入水は、配管28の電磁弁34を通過し、配管18を介して焼入水タンク11に戻される。熱伝導配管29を通過した焼入水は、立ち位置10の床面を加熱し、焼入水自身の温度は低下する。すなわち、配管18を介して焼入水タンク11に回収される焼入水の温度は、熱伝導配管29に達する前の焼入水の温度よりも低い。
この状態で供給ポンプ12を駆動すると、図5において黒塗りで示す様に、焼入水タンク11内の低温の焼入水が、供給管16、配管30(電磁弁35)を介して熱伝導配管29に供給される。熱伝導配管29を通過する低温の焼入水は、立ち位置10の床面を冷却しながら配管28、31を介して供給管16に戻り、焼入水噴射装置4からワーク3に向けて噴射供給される。
ここで、配管31から供給管16に戻った焼入水の温度は、焼入水タンク11に貯留された焼入水の温度よりも高い。しかし、ワーク3を急冷するには十分に低温である。
ワーク3を冷却して昇温した焼入水は、回収パン5に回収され、排水管6、三方切換弁8、配管18を介して焼入水タンク11に戻される。
図6、図7に示す高周波焼入装置49では、図2に示す高周波焼入装置1と同じ符合を付した構成は、同じ部材であり、重複する説明は省略する。
高周波焼入装置49は、図6に示す様に、チラー13とは別にチラー43が設けられている。チラー43は、配管45及び配管46を介して中空の加熱導体2(誘導コイル)と接続されている。配管45にはポンプ48が設けられている。チラー43は、冷却水を貯留すると共に、貯留した冷却水を冷却する機能を有する。チラー43で冷却された冷却水は、ポンプ48で加圧されて加熱導体2に循環供給可能である。チラー43、配管45、配管46、ポンプ48は、高周波電流が通電されて加熱する加熱導体2を冷却するための装備である。
熱伝導配管39の他端は、配管40を介して三方切換弁41の第3ポート42cに接続されている。熱伝導配管39は、立ち位置10の床下に配置されている。
図6に示す様に、回収パン5の高温の焼入水は、熱伝導配管39に供給され、立ち位置10の床下を巡りながら配管40、三方切換弁41、配管56を介して焼入水タンク11に戻される。
この状態で供給ポンプ12、回収ポンプ7を駆動すると、ワーク3を冷却して回収パン5に回収された高温の焼入水は、図7において黒塗りで示す様に、排水管6から三方切換弁8に至り、第2ポート17bから配管56を介して焼入水タンク11に戻される。配管56に至った焼入水は、逆止弁57によって三方切換弁41側へ流れることはできない。
2 加熱導体(誘導コイル)
3 ワーク
4 焼入水噴射装置
5 回収パン(焼入水回収パン)
7 回収ポンプ(焼入水回収ポンプ)
8 三方切換弁(切換手段)
9、21、29、39 配管(立ち位置に配置される配管)
10 立ち位置
11 焼入水タンク(焼入水供給タンク)
12 供給ポンプ(焼入水供給ポンプ)
14 配管系統
15 バイパス管(バイパス流路)
51、52、53、54 冷却装置(焼入水供給システム)
Claims (4)
- 誘導コイルを備えていてワークを誘導加熱する加熱処理部と、焼入水供給システムとを備え、
前記焼入水供給システムは、焼入水タンクと、焼入水供給ポンプと、焼入水噴射口と、焼入水回収パンと、焼入水回収ポンプとを有し、焼入水タンク内に貯留された焼入水を焼入水供給ポンプで加圧して焼入水噴射口からワークに向かって噴射してワークを冷却し、ワークを冷却後の焼入水を焼入水回収パンで回収して焼入水回収ポンプによって焼入水タンクに戻す配管系統を備え、
近傍の床に作業者の立ち位置があって、当該立ち位置で作業者が作業を行う高周波焼入装置において、
前記立ち位置に熱伝導配管が設けられていて、当該熱伝導配管は、前記焼入水供給システムの焼入水回収パンと焼入水タンクとの間に接続され、さらに前記熱伝導配管をバイパスするバイパス流路が設けられ、
焼入水回収パンで回収された焼入水を前記熱伝導配管を経由して焼入水タンクに戻す流路と、
焼入水回収パンで回収された焼入水をバイパス流路を経由して焼入水タンクに戻す流路とを切り換える切換手段を備えたことを特徴とする高周波焼入装置。 - 前記熱伝導配管が伝熱フィンを有することを特徴とする請求項1に記載の高周波焼入装置。
- 作業者の立ち位置の床に、熱媒を流通させる熱媒配管が配置されており、焼入水が流れる前記熱伝導配管と前記熱媒配管の間で、熱交換させる熱交換器を設けたことを特徴とする請求項1に記載の高周波焼入装置。
- 焼入水タンクから前記熱伝導配管を経由して焼入水噴射口に焼入水を供給する回路に切り換え可能であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の高周波焼入装置。
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