JP6116919B2 - レーザ転写装置 - Google Patents
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Description
上記ステージは、前記真空室内に設置され有機発光材料を支持する熱転写体が配置された基板を支持する。
上記レーザ光学系は、光源と、分割素子と、走査機構とを有する。上記光源は、レーザ光を発光する。上記分割素子は、上記光源から発光されたレーザ光を複数の平行光に分割する。上記走査機構は、前記熱転写体の表面を前記分割素子により分割された複数のレーザ光により走査する。
上記制御部は、前記複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に照射させることにより、前記有機発光材料を所定パターンで前記基板上に転写させることが可能に構成される。
上記ステージは、前記真空室内に設置され有機発光材料を支持する熱転写体が配置された基板を支持する。
上記レーザ光学系は、光源と、分割素子と、走査機構とを有する。上記光源は、レーザ光を発光する。上記分割素子は、上記光源から発光されたレーザ光を複数の平行光に分割する。上記走査機構は、前記熱転写体の表面を前記分割素子により分割された複数のレーザ光により走査する。
上記制御部は、前記複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に照射させることにより、前記有機発光材料を所定パターンで前記基板上に転写させることが可能に構成される。
上記走査機構は、
前記複数のレーザ光を反射する反射面を有し、前記反射面の角度が可変に構成される走査ミラー部と、
前記走査ミラー部を駆動することで前記反射面の角度を変更することが可能なミラー駆動部とを有し、
上記制御部は、
前記ミラー駆動部及び前記移動機構を制御することで、前記複数のレーザ光で前記熱転写体の表面を前記第1の軸方向と交差する第2の軸方向に沿って走査させることが可能に構成される。
これにより、第1の軸方向と直交する方向に延在するストライプ状の発光層を形成することが可能となる。
これにより、レーザ光の強度分布をトップハット型にすることができ、分割素子の全域にわたって等しい強度分布でレーザ光を照射することができる。この結果、分割素子で分割された複数のレーザ光のそれぞれのスポット形状を矩形状とすることができる。このため、複数のレーザ光で熱転写体の表面を走査するときに、熱転写体の表面への各レーザ光の照射量が均一になるので、より高精度に発光材料を基板上へ転写することができる。
これにより、複数のレーザ光の熱転写体上でのスポット形状がそれぞれ異なる形状になることを防止することができるので、高精細の発光層パターンを形成することができる。
これにより、レーザ光学系を真空室の外部に設置することができ、レーザ光学系の第1の光学ユニット、分割素子、走査部及び第2の光学ユニットのメンテナンス性を確保することができる。
図1は、有機発光デバイスの構成の一例を示す概略断面図である。図示する有機発光デバイス1は、基板2と、下部電極層3と、正孔注入層4と、発光層5R,5G,5Bと、電子注入層6と、上部電極層7との積層構造を有する。
図2は、一実施形態に係る有機発光デバイスの製造システムを示す概略平面図である。本実施形態の製造システム10は、第1の処理ユニット11と、第2の処理ユニット12と、搬送ユニット13とを有する。また、図中のX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向は、相互に直交する3軸方向を示し、X軸方向は第1の軸方向、Y軸方向は第2の軸方向を示す。
第1の処理ユニット11は、本発明に係る第1のレーザ転写装置110と、第1のレーザ転写装置110へ搬送される基板を収容する第1の基板収容室111と、第1のレーザ転写装置110へ搬送される赤色有機発光材料の熱転写体を収容する第1の熱転写体収容室112とを有する。第1の基板収容室111は、正孔注入層4が成膜された基板2を収容する。第1の基板収容室111は、正孔注入層4等を成膜する成膜室21等と接続されていてもよい。
第2の処理ユニット12は、図2に示すように、第2のレーザ転写装置120と、第2のレーザ転写装置120から搬送される基板を収容する第2の基板収容室121と、第2のレーザ転写装置120へ搬送される緑色有機発光材料の熱転写体を収容する第2の熱転写体収容室122とを有する。第2の基板収容室121は、発光層5R,5Gが形成された基板2を収容する。第2の基板収容室121は、発光層5Bを成膜する成膜室22等と接続されていてもよい。
搬送ユニット13は、搬送室130と、搬送機構131とを有する。搬送室130は、図示しない真空ポンプに接続されており、内部を所定圧力の減圧雰囲気に維持することが可能に構成されている。搬送室130は、例えば直方体(六面体)形状のチャンバ構造を有しており、第1のレーザ転写装置110と第2のレーザ転写装置120との間に設置される。搬送機構131は、例えば多関節ロボットで構成されており、搬送室130を介して、第1のレーザ転写装置110から第2のレーザ転写装置120へ基板2を搬送する。
次に、以上のように構成される製造システム10の一動作例を説明する。
5R,5G…発光層
11…第1の処理ユニット
12…第2の処理ユニット
31…真空室
32…ステージ
32b…機構部(移動機構)
33…レーザ光学系
34…光源
34A…第1の光学ユニット
34B…分割素子
35…走査機構
35a,35b…走査部
35A…第1のガルバノミラー
35B…第2のガルバノミラー
35C…第1のミラー駆動部
35D…第3のガルバノミラー
35E…第4のガルバノミラー
35F…第2のミラー駆動部
36…光学レンズ部(第2の光学ユニット)
45…制御部
50R,50G…熱転写体
110…第1のレーザ転写装置
120…第2のレーザ転写装置
113,123…移載機構
315a,315b…透光部
314…天面
350A,350B,350C,350D…反射面
L,Ln,Ln1,Ln2…レーザ光
Claims (7)
- 真空雰囲気を維持可能な真空室と、
前記真空室内に設置され有機発光材料を支持する熱転写体が配置された基板を支持し、前記基板を第1の軸方向に沿って移動させる移動機構を有するステージと、
レーザ光を発光する光源と、前記光源から発光されたレーザ光を複数の平行光に分割する分割素子と、前記分割素子により分割された複数のレーザ光を反射する反射面を有し前記反射面の角度が可変に構成される走査ミラー部及び前記反射面の角度を変更することが可能なミラー駆動部とを有する走査機構とを有し、前記ステージに対向して配置され、前記複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に照射し、前記真空室外に設けられたレーザ光学系と、
前記移動機構及び前記ミラー駆動部を制御し、前記ステージを前記第1の軸方向に連続的に移動させながら、前記複数のレーザ光を前記第1の軸方向と交差する第2の軸方向に沿って走査させることにより、前記有機発光材料を所定パターンで前記基板上に転写させることが可能な制御部と
を具備するレーザ転写装置。 - 請求項1に記載のレーザ転写装置であって、
前記制御部は、前記複数のレーザ光を前記第1の軸方向に直交する方向における前記複数のレーザ光のスキャン速度ベクトルに前記第1の軸方向における前記ステージの移動速度ベクトルが合成された速度ベクトルに基づき走査する
レーザ転写装置。 - 請求項2に記載のレーザ転写装置であって、
前記制御部は、前記第1の軸方向に移動する前記基板に対して前記第1の軸方向と直交する前記方向に前記所定パターンを転写する
レーザ転写装置。 - 請求項2又は請求項3のいずれか1項に記載のレーザ転写装置であって、
前記走査機構は、前記第1の軸方向に直交する前記方向に沿って配設された複数の走査部を有する
レーザ転写装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のレーザ転写装置であって、
前記レーザ光学系は、前記光源から発光されたレーザ光の強度分布を均一化する第1の光学ユニットをさらに有するレーザ転写装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のレーザ転写装置であって、
前記レーザ光学系は、前記走査機構により前記第2の軸方向へ走査した複数のレーザ光を前記熱転写体の表面に垂直に入射させるための第2の光学ユニットをさらに有するレーザ転写装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のレーザ転写装置であって、
前記真空室は、前記ステージと対向し前記複数のレーザ光を透過させる透光部が形成された天面をさらに有し、
前記レーザ光学系は、前記天面の外側に設置されている
レーザ転写装置。
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