JP6113029B2 - Removal device and abatement device - Google Patents

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本発明は、除去装置、および除害装置に関する。詳しくは、生成物・堆積物を除去する除去装置、および除害装置に関する。   The present invention relates to a removal device and an abatement device. Specifically, the present invention relates to a removal device that removes products and deposits, and an abatement device.

半導体や太陽電池、液晶などを製造する際の工程の1つである成膜のための装置では、Si膜を生成するための真空チャンバ内でシランガス(SiH4)等のプロセスガスを使用する。
使用された後の排ガスは、半導体製造工程用の装置である真空チャンバに接続された真空ポンプの反応炉から外部に排気されるが、こうした排ガスには、上述したようなシランガスをはじめ、六フッ化タングステン(WF6)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)など、成膜工程により様々な有毒ガスが含まれることが多い。そのため、真空ポンプの排気側には、こうした排ガスを酸化することで無害なガスとして排出するための除害装置が接続される。
この除害装置は、燃焼式やプラズマ式など様々な種類がある。例えば燃焼式除害装置の場合、燃やして空気(酸素)と反応させる酸化反応を起こすことで、有毒ガスを無害なガスに変えている。例えば、シランガス(SiH4)であれば、酸化反応の結果、無害な二酸化ケイ素;シリカ(SiO2)が発生する。
このシリカは固体・粉体であり、上述した酸化反応によって(シリカに)変化する際にエネルギーが与えられ、酸化反応を起こす空間である燃焼炉の空間を飛散する。つまり、まっすぐに落下せずに飛散するので、その多くが燃焼炉の壁面ならびに焼却炉にプロセスガスを導入するためのノズル近傍に付着し、時間の経過とともに堆積してしまう。
そのため、当該堆積物を取り除くために定期的なメンテナンス(オーバーホール)の実施が必要になる。一般的に、このメンテナンスは三ヶ月に一度程度の頻度で実施されるが、運用面・費用面を鑑みたときに、当該メンテナンスから次のメンテナンスを行う迄の間隔(フリーメンテナンス期間)は長ければ長い方がよい。
In an apparatus for film formation, which is one of the processes when manufacturing semiconductors, solar cells, liquid crystals, and the like, a process gas such as silane gas (SiH 4 ) is used in a vacuum chamber for generating a Si film.
The exhaust gas after being used is exhausted to the outside from a reactor of a vacuum pump connected to a vacuum chamber, which is an apparatus for a semiconductor manufacturing process. Examples of such exhaust gas include silane gas as described above, and six fluorocarbons. Various toxic gases such as tungsten nitride (WF 6 ) and dichlorosilane (SiH 2 Cl 2 ) are often contained in the film forming process. For this reason, a detoxifying device is connected to the exhaust side of the vacuum pump to discharge such exhaust gas as harmless gas.
There are various types of abatement devices such as a combustion type and a plasma type. For example, in the case of a combustion-type abatement apparatus, a poisonous gas is changed to a harmless gas by causing an oxidation reaction that burns and reacts with air (oxygen). For example, in the case of silane gas (SiH 4 ), harmless silicon dioxide; silica (SiO 2 ) is generated as a result of the oxidation reaction.
This silica is a solid / powder, and is given energy when it is changed (to silica) by the oxidation reaction described above, and scatters in the space of the combustion furnace, which is a space where the oxidation reaction occurs. That is, since it does not fall straight and scatters, most of it adheres to the wall surface of the combustion furnace and the vicinity of the nozzle for introducing the process gas to the incinerator, and accumulates over time.
Therefore, it is necessary to perform regular maintenance (overhaul) to remove the deposit. In general, this maintenance is performed about once every three months. However, in consideration of operation and cost, if the interval from the maintenance to the next maintenance (free maintenance period) is long Longer is better.

特開2009−204289号公報JP 2009-204289 A

プロセスガスを燃焼炉に導入するノズル出口付近に堆積する堆積物を機械的に取り除く技術として、特許文献1に記載されているような掻き取り器などがある。
特許文献1には、炉内開口周囲若しくは開口近傍のガス通路に固着した堆積物を除去するための掻き取り器について記載されている。
図11は、従来の掻き取り器1000を説明するための図である。
図11に示したように、特許文献1には、ガス通路2001内では畳まれた状態で挿脱自在なL字形状の掻き取りヘッド1001を有する掻き取り器1000がガス通路2001内で挿通保持され、炉内の空間まで挿入されさた際に、掻き取りヘッド1001が炉内開口周囲側に拡散し、炉内壁面2000に固着された堆積物3000を機械的に除去する構成になっている。
As a technique for mechanically removing deposits deposited in the vicinity of the nozzle outlet for introducing the process gas into the combustion furnace, there is a scraper as described in Patent Document 1.
Patent Document 1 describes a scraper for removing deposits adhering to a gas passage around or near the opening in the furnace.
FIG. 11 is a view for explaining a conventional scraper 1000.
As shown in FIG. 11, in Patent Document 1, a scraper 1000 having an L-shaped scraping head 1001 that can be inserted and removed in a folded state in the gas passage 2001 is inserted and held in the gas passage 2001. Then, when inserted into the space in the furnace, the scraping head 1001 diffuses around the opening in the furnace and mechanically removes the deposit 3000 fixed to the furnace inner wall surface 2000. .

しかしながら、特許文献1に記載の掻き取り器1000では、燃焼式除害装置が複数のインレットノズル(即ち、ガス導入口)を有する場合、壁面(炉内壁面2000)から飛び出るように温度センサが配設された構成では、当該温度センサは掻き取り器1000が生成物(堆積物)を掻き取る際の障害となる。
一般的に、掻き取り器1000は、硬度の高い生成物を掻き取るために硬い金属で作られているため、燃焼式除害装置に取り付けられた温度センサに接触すると温度センサが壊れてしまう虞があった。例えば、上述した生成物のうちシリカ(SiO2)は非常に硬いので、そうした硬い生成物を掻き取るための掻き取り器1000も同等以上に硬い物質(例えば、ステンレススチール等)である必要がある。また、掻き取り器1000自体に生成物が付着する場合もあり、掻き取り器1000の動作経路によっては掻き取り器1000自体に付着した生成物が接触してしまうことで温度センサが損傷してしまう虞もあった。
そのため、掻き取り器1000、特に生成物を掻き取る部位である掻き取りヘッド1001は、温度センサを避けて動作する構成にする必要があった。
他の課題点として、インレットノズルの出口(ガス導入孔の出口)付近で燃焼が起こると当該インレットノズルのガス出口近傍に生成物が溜まっていってしまう。この生成物が堆積していくことで当該インレットノズルの開口口(ガス導入口)を塞いでしまったり、配設された温度センサに生成物が付着することで温度センサが誤検知し、異常値が観測されてしまう不具合があった。
However, in the scraper 1000 described in Patent Document 1, when the combustion-type abatement apparatus has a plurality of inlet nozzles (that is, gas inlets), the temperature sensor is arranged so as to protrude from the wall surface (furnace wall surface 2000). In the provided configuration, the temperature sensor becomes an obstacle when the scraper 1000 scrapes off the product (deposit).
Generally, the scraper 1000 is made of a hard metal to scrape a product having a high hardness, so that the temperature sensor may be broken when it comes into contact with the temperature sensor attached to the combustion type abatement apparatus. was there. For example, since silica (SiO 2 ) is very hard among the products described above, the scraper 1000 for scraping off such hard products needs to be a harder material (for example, stainless steel or the like). . In addition, the product may adhere to the scraper 1000 itself, and depending on the operation path of the scraper 1000, the product attached to the scraper 1000 itself may come into contact with the temperature sensor to be damaged. There was also a fear.
Therefore, the scraper 1000, particularly the scraping head 1001, which is a part for scraping the product, has to be configured to operate while avoiding the temperature sensor.
As another problem, when combustion occurs in the vicinity of the outlet of the inlet nozzle (the outlet of the gas introduction hole), the product accumulates in the vicinity of the gas outlet of the inlet nozzle. As this product accumulates, the inlet (gas inlet) of the inlet nozzle is blocked, or when the product adheres to the installed temperature sensor, the temperature sensor detects falsely, resulting in an abnormal value. There was a defect that would be observed.

そこで、本発明は、温度センサ近傍に付着する生成物・堆積物の量を低減させ、メンテナンスの周期を長くするための除去装置、および除害装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、温度センサに干渉せずに生成物・堆積物を除去するための除去装置、および除害装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a removal device and a detoxification device for reducing the amount of products / deposits adhering to the vicinity of a temperature sensor and extending a maintenance cycle.
Another object of the present invention is to provide a removal device and a detoxification device for removing products and deposits without interfering with a temperature sensor.

上記目的を達成するために、請求項1記載の本願発明では、配設される除害装置に付着した堆積物を除去する除去装置であって、前記除害装置に対向する面に凹部が形成され、前記凹部内にて互いに対向する面の少なくとも一方に、他面に非接触である凸部が形成されることを特徴とする除去装置を提供する。
請求項2記載の本願発明では、回転運動、または、平行移動のいずれかの動作により前記堆積物を除去することを特徴とする請求項1に記載の除去装置を提供する。
請求項3記載の本願発明では、前記凹部は、前記動作により前記除害装置に設けられた温度センサと交差する部分に、当該温度センサと非接触になる寸法をもって形成され、前記凸部は、前記動作により前記温度センサと非接触になる寸法をもって形成されることを特徴とする請求項2に記載の除去装置を提供する。
請求項4記載の本願発明では、前記凸部は前記除害装置と対向する面における略中心線と所定の角度を有するテーパ形状であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の除去装置を提供する。
請求項5記載の本願発明では、除害用チャンバと、前記除害用チャンバへ気体を案内するインレットノズルと、前記インレットノズルを配設するための孔を有し、前記除害用チャンバに配設されたノズル固定部材と、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の除去装置と、を備えることを特徴とする除害装置を提供する。
請求項6記載の本願発明では、前記ノズル固定部材は、取り外しが可能であることを特徴とする請求項5に記載の除害装置を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention according to claim 1 is a removal device that removes deposits attached to a disposing device that is disposed, and a recess is formed on a surface facing the removing device. A removing device is provided in which a convex portion that is non-contact with the other surface is formed on at least one of the surfaces facing each other in the concave portion.
According to a second aspect of the present invention, there is provided the removing apparatus according to the first aspect, wherein the deposit is removed by an operation of either rotational movement or parallel movement.
In this invention of Claim 3, the said recessed part is formed in the part which cross | intersects the temperature sensor provided in the said abatement apparatus by the said operation | movement with the dimension which becomes non-contact with the said temperature sensor, The said convex part is The removal device according to claim 2, wherein the removal device is formed with a size that is not in contact with the temperature sensor by the operation.
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the convex portion has a taper shape having a predetermined angle with a substantially center line on a surface facing the abatement apparatus. A removal apparatus according to item 1 is provided.
According to the present invention of claim 5, there is provided a detoxification chamber, an inlet nozzle for guiding gas to the detoxification chamber, and a hole for arranging the inlet nozzle, and is disposed in the detoxification chamber . An abatement device comprising the nozzle fixing member provided and the removing device according to any one of claims 1 to 4 is provided.
In this invention of Claim 6, the said nozzle fixing member can be removed, The abatement apparatus of Claim 5 characterized by the above-mentioned is provided.

本発明によれば、生成物・堆積物を除去するための除去装置、および除害装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the removal apparatus for removing a product and a deposit, and a detoxification apparatus can be provided.

本発明の実施形態に係る除去装置を備える除害装置が配設されるシステム・レイアウトを説明するための概略構成例を示した図である。It is the figure which showed the schematic structural example for demonstrating the system layout by which the abatement apparatus provided with the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention is arrange | positioned. 本発明の実施形態に係る除去装置を備える除害装置の概略構成例を示した図である。It is the figure which showed the example of schematic structure of the abatement apparatus provided with the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を備えるインレットヘッド周辺を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an inlet head periphery provided with the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る除去装置の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of the removal apparatus which concerns on embodiment of this invention. 従来の掻き取り器を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conventional scraper.

(i)実施形態の概要
本発明の第1実施形態に係る除去装置(または、スクレイパー、除去ヘッド。以後、除去装置に統一して記述)は、切り欠き部が形成され、さらに、切り欠き部にニゲ構造が設けられる。また、本発明の第2実施形態に係るインレットヘッド(ノズル固定部材)は、一部にストッパ(壁部)が配設される。また、本発明の第3実施形態に係る除去装置は、導入孔近傍に配設される。
このような構成により、本発明の第1実施形態に係る除去装置は、温度センサに干渉することなく、温度センサ近傍を含めたインレットヘッドの導入孔(インレッドノズルの開口)付近に付着する堆積物を定期的に除去する(掻き取る)ことができる。そして、本発明の第1実施形態に係る除去装置を配設する除害装置は、温度センサ近傍を含めたインレットヘッドの導入孔付近に付着する堆積物を定期的に除去できるので、インレットヘッドや除害装置のメンテナンス周期を長くすることができる。
また、このような構成により、本発明の第2実施形態および第3実施形態に係る除去装置は、温度センサに干渉することなく、インレットヘッドの導入孔(インレッドノズルの開口)付近に付着する堆積物を定期的に除去する(掻き取る)ことができる。そして、本発明の第2実施形態に係るインレットヘッド、または本発明の第3実施形態に係る除去装置を配設する除害装置は、インレットヘッドの導入孔付近に付着する堆積物を定期的に除去できるので、メンテナンスの周期を長くすることができる。
(I) Outline of Embodiment The removal device (or scraper, removal head, which will be collectively described as the removal device hereinafter) according to the first embodiment of the present invention has a notch portion, and further the notch portion. Is provided with a relief structure. Further, the inlet head (nozzle fixing member) according to the second embodiment of the present invention is partially provided with a stopper (wall portion). Moreover, the removal apparatus according to the third embodiment of the present invention is disposed in the vicinity of the introduction hole.
With such a configuration, the removal apparatus according to the first embodiment of the present invention is a deposit that adheres to the vicinity of the inlet hole (inlet nozzle opening) of the inlet head including the vicinity of the temperature sensor without interfering with the temperature sensor. Objects can be removed (scraped) regularly. The detoxifying apparatus provided with the removing apparatus according to the first embodiment of the present invention can periodically remove deposits adhering to the vicinity of the inlet hole of the inlet head including the vicinity of the temperature sensor. The maintenance cycle of the abatement apparatus can be lengthened.
Further, with such a configuration, the removing device according to the second and third embodiments of the present invention adheres to the vicinity of the inlet head introduction hole (opening of the inred nozzle) without interfering with the temperature sensor. Deposits can be removed (scraped) periodically. And the detoxification apparatus which arrange | positions the inlet head which concerns on 2nd Embodiment of this invention, or the removal apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention regularly deposits adhering to the inlet hole vicinity of an inlet head. Since it can be removed, the maintenance cycle can be lengthened.

(ii)実施形態の詳細
以下、本発明の好適な実施の形態について、図1から図10を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る除去装置1(詳細は図3等を用いて後述する)が配設されるインレットヘッド40(図2)を備える除害装置400が配設されるシステム・レイアウトを説明するための概略構成例を示した図である。
なお、上述した本発明の実施形態では、除去装置1が配設されたインレットヘッド40が配設される除害装置400は、一例として燃焼式の除害装置とする。しかし、本発明の実施形態に係る除害装置400は燃焼式に限定されることはなく、例えば、他に、プラズマ式やガソリンエンジン式の除害装置400などに配設することができる。
クリーンルーム200内に設置されるウェハ成膜装置などのプロセス装置(プロセスチャンバ)100は、真空配管500を介してドライポンプ300と連結される。そして、ドライポンプ300は、排気配管600を介して除害装置400と連結される。
除害装置400の外装体を形成するケーシングは、略円筒状の形状であり、上下端には蓋部としてインレットヘッド40(図2)が構成されている。なお、ケーシングは必ずしも略円筒状で有る必要はなく、内部が空間且つ外部から隔離されている構成であればよい。
(Ii) Details of Embodiments Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
FIG. 1 shows a system in which an abatement apparatus 400 including an inlet head 40 (FIG. 2) on which a removal apparatus 1 (details will be described later with reference to FIG. 3) according to an embodiment of the present invention is arranged. -It is the figure which showed the example of schematic structure for demonstrating a layout.
In the above-described embodiment of the present invention, the abatement apparatus 400 provided with the inlet head 40 provided with the removing apparatus 1 is a combustion-type abatement apparatus as an example. However, the abatement apparatus 400 according to the embodiment of the present invention is not limited to the combustion type, and can be disposed in, for example, a plasma type or gasoline engine type abatement apparatus 400 or the like.
A process apparatus (process chamber) 100 such as a wafer deposition apparatus installed in the clean room 200 is connected to a dry pump 300 via a vacuum pipe 500. The dry pump 300 is connected to the abatement apparatus 400 via the exhaust pipe 600.
The casing forming the exterior body of the abatement apparatus 400 has a substantially cylindrical shape, and the inlet head 40 (FIG. 2) is configured as a lid at the upper and lower ends. In addition, the casing does not necessarily need to be substantially cylindrical, and may have a configuration in which the interior is isolated from the space and the outside.

図2は、本発明の実施形態に係る除去装置1が配設されたインレットヘッド40が配設される除害装置400の概略構成例を示した図であり、図中の矢印Gは除害ガスを含むガスの流れを示している。
プロセス装置100から排出された有毒ガスを含む排出ガスは、真空配管500を通ってドライポンプ300を経由し、排気配管600を通って除害装置400へ運ばれる。
そして、インレット三方弁401により、可燃排気ダクトに排出されるガスとコンバスタ(燃焼炉)404へ送られるガスとに分かれる。
本発明の実施形態は、コンバスタ404へ向かう排出ガスの流れを追って説明する。
当該排出ガスは、1または複数のインレット配管402を通ってガス導入部であるインレットヘッド40(ノズル固定部材)を経由し、コンバスタ404へ運ばれる。
コンバスタ404は、有毒ガスを含む除害ガスを燃焼処理する空間であり、内部温度は約800℃前後である。
本発明の実施形態に係る除害装置400は、燃焼炉であるコンバスタ404とガス温度冷却部であるクエンチ405とを備えている。
コンバスタ404は、半導体製造工程の図示していないCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長法)装置から真空ポンプ(図示しない)を介して排出される、可燃性ガスやクリーニングガスの処理対象ガスを、インレット配管402を介して、除害装置400の導入口であり、コンバスタ404の上流端に配設されたインレットヘッド40から導入して高温で燃焼分解する。
なお、可燃性ガスは、無色の気体で有毒なシランガス(SiH4)、無色(黄色)の毒性高圧ガスの六フッ化タングステン(WF6)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)などであり、クリーニングガスはアンモニア(NH3)などである。
本発明の実施形態では、真空ポンプから排気され、インレットヘッド40から導入された排出ガスをコンバスタ404で燃焼分解する。この燃焼分解によって、排出ガスに含まれていた有毒ガスが無害化される。
この燃焼分解によって生じた排出ガスは、ガス温度冷却部であるクエンチ405で約800℃から約80℃に冷却される。なお、排出ガスの冷却は冷却水を使用している。
そして、冷却済みの排出ガスや燃焼分解によって生じた微粒子ダストが、コンバスタ404の排出口(下流端)から排出され、粉体除去部であるサイクン406を経由し、湿式除害部であるパックドタワー407へ導入される。フッ化水素(HF)や塩化水素(HCl)などの水溶性ガスは、この部分で溶解される。
なお、本実施形態では、サイクン406およびパックドタワー407はポリプロピレンで製造されている。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration example of a detoxifying device 400 in which the inlet head 40 in which the removing device 1 according to the embodiment of the present invention is arranged is arranged. The flow of gas including gas is shown.
Exhaust gas containing toxic gas discharged from the process apparatus 100 is transported to the abatement apparatus 400 through the vacuum pipe 500, the dry pump 300, and the exhaust pipe 600.
The inlet three-way valve 401 separates the gas discharged into the combustible exhaust duct and the gas sent to the combustor (combustion furnace) 404.
The embodiment of the present invention will be described following the flow of exhaust gas toward the combustor 404.
The exhaust gas passes through one or a plurality of inlet pipes 402 and is conveyed to a combustor 404 via an inlet head 40 (nozzle fixing member) which is a gas introduction unit.
The combustor 404 is a space for burning a detoxifying gas including a toxic gas, and has an internal temperature of about 800 ° C.
The abatement apparatus 400 according to the embodiment of the present invention includes a combustor 404 that is a combustion furnace and a quench 405 that is a gas temperature cooling unit.
The combustor 404 is configured to process a combustible gas or a cleaning gas to be processed from a CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus (not shown) of a semiconductor manufacturing process through a vacuum pump (not shown). The gas is introduced from the inlet head 40 which is an inlet of the abatement apparatus 400 through the inlet pipe 402 and is disposed at the upstream end of the combustor 404, and is burned and decomposed at a high temperature.
The flammable gas is a colorless and toxic silane gas (SiH 4 ), a colorless (yellow) toxic high-pressure gas such as tungsten hexafluoride (WF 6 ), dichlorosilane (SiH 2 Cl 2 ), etc., and a cleaning gas. Is ammonia (NH 3 ).
In the embodiment of the present invention, exhaust gas exhausted from the vacuum pump and introduced from the inlet head 40 is combusted and decomposed by the combustor 404. By this combustion decomposition, the toxic gas contained in the exhaust gas is rendered harmless.
Exhaust gas generated by this combustion decomposition is cooled from about 800 ° C. to about 80 ° C. by quench 405 which is a gas temperature cooling unit. Cooling water is used for cooling the exhaust gas.
Then, the cooled exhaust gas and particulate dust generated by combustion decomposition are discharged from the discharge port (downstream end) of the combustor 404, and the packed tower which is a wet detoxification section passes through the cyclone 406 which is a powder removal section. 407. Water-soluble gases such as hydrogen fluoride (HF) and hydrogen chloride (HCl) are dissolved in this portion.
In this embodiment, the cyclone 406 and the packed tower 407 are made of polypropylene.

上述したCVD装置で使用される上述したプロセスガスを燃焼分解すると、微粒子ダストとして粉体が発生する。例えば、シランガス(SiH4)やジクロルシラン(SiH2Cl2)を燃焼分解すると二酸化ケイ素;シリカ(SiO2)が発生し、六フッ化タングステン(WF6)を燃焼分解すると酸化タングステン(W23)が発生する。
これらの粉体が、インレットノズルの出口(ガス導入口)や壁面に付着および堆積することで形成された堆積物(生成物)を取り除くために、本発明の実施形態では、インレットヘッド40に除去装置1が配設される。
When the above-described process gas used in the above-described CVD apparatus is combusted and decomposed, powder is generated as fine particle dust. For example, when silane gas (SiH 4 ) or dichlorosilane (SiH 2 Cl 2 ) is combusted and decomposed, silicon dioxide; silica (SiO 2 ) is generated, and when tungsten hexafluoride (WF 6 ) is combusted and decomposed, tungsten oxide (W 2 O 3). ) Occurs.
In order to remove the deposit (product) formed by adhering and depositing these powders on the outlet (gas inlet) and wall surface of the inlet nozzle, in the embodiment of the present invention, the powder is removed by the inlet head 40. A device 1 is arranged.

図3は、本発明の実施形態に係る除去装置1を備える除害装置400におけるインレットヘッド40周辺を説明するための図である。
図3(a)は、図2α部(インレット配管402、インレットヘッド40、除去装置1)の拡大図であって軸線方向の断面図を示し、図3(b)は、インレッドヘッド40に配設される温度センサ(サーモカップル)50を拡大して示した図である。
本発明の各実施形態では、一例として、インレットヘッド40には、図示していないインレットノズルが配設される導入孔409が4つ設けられたマルチインレットの構成にしているが、この導入孔409の数は、必要に応じて6つや8つにしても良いし、或いは1つにしても良い等と、適宜変更することが可能である。
本発明の各実施形態では、インレットヘッド40の略中央を軸10が貫通している。当該軸10の先には、略水平に、且つ当該インレットヘッド40のコンバスタ404(図2)に対向する面を滑るように取り付けられた除去装置1(スクレイパー)が備え付けられ、手動(ハンドルなどで操作)或いは自動(モータなどで操作)により軸10を動作させることで回転あるいは平行移動させる構成になっている。この除去装置1により、インレットヘッド40がコンバスタ404に対向する面の全体または一部に付着した堆積物を掻き取ることができる。
FIG. 3 is a view for explaining the periphery of the inlet head 40 in the abatement apparatus 400 including the removal apparatus 1 according to the embodiment of the present invention.
3 (a) is an enlarged view of FIG. 2α (inlet pipe 402, inlet head 40, removal device 1) and shows a sectional view in the axial direction, and FIG. 3 (b) is arranged in the inred head 40. It is the figure which expanded and showed the temperature sensor (thermo couple) 50 provided.
In each embodiment of the present invention, as an example, the inlet head 40 has a multi-inlet configuration in which four inlet holes 409 in which an inlet nozzle (not shown) is provided are provided. The number can be changed as appropriate, such as six, eight, or one as necessary.
In each embodiment of the present invention, the shaft 10 passes through the approximate center of the inlet head 40. At the tip of the shaft 10 is provided a removal device 1 (scraper) attached so as to slide substantially horizontally and on the surface of the inlet head 40 facing the combustor 404 (FIG. 2). The shaft 10 is rotated or translated by operating (operation) or automatically (operating with a motor or the like). With this removing device 1, the deposit attached to the whole or a part of the surface of the inlet head 40 facing the combustor 404 can be scraped off.

ここで、本発明の各実施形態における「回転」および「平行移動」について図10を用いて説明する。図10(a)〜(c)内の矢印は除去装置1の動きを示している。
本発明の各実施形態における「回転」とは、インレッドヘッド40の略中央(即ち、除去装置1が軸10に備え付けられている点)を中心として1度から360度の範囲における角度運動として定義する。よって、図10(a)に示したような除去装置1の軌跡(動作面積)が扇形となるような往復運動や、図10(b)に示したような除去装置1の略中心が軸10に備え付けられて回る運動も含める。
また、本発明の各実施形態における「平行移動」とは、図10(c)に示したように、除去装置1が、インレッドヘッド40のコンバスタ404に対向する面の表面上を、当該除去装置1の軌跡(動作面積)が四角形となるような移動をする動作として定義する。
Here, “rotation” and “translation” in each embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The arrows in FIGS. 10A to 10C indicate the movement of the removing device 1.
“Rotation” in each embodiment of the present invention is an angular movement in the range of 1 to 360 degrees around the approximate center of the inred head 40 (that is, the point where the removing device 1 is provided on the shaft 10). Define. Therefore, the reciprocating motion such that the trajectory (operation area) of the removing device 1 as shown in FIG. 10A has a fan shape, or the approximate center of the removing device 1 as shown in FIG. Also included are exercises that go around.
In addition, “parallel movement” in each embodiment of the present invention means that the removal device 1 removes the surface of the surface facing the combustor 404 of the inred head 40 as shown in FIG. It is defined as an operation that moves so that the trajectory (operation area) of the device 1 is a square.

図10の各図に示したように、本発明の各実施形態では、上述したような動作をする除去装置1はインレッドヘッド40のコンバスタ404側の表面に配設された温度センサ50に接触してしまう。   As shown in each drawing of FIG. 10, in each embodiment of the present invention, the removal device 1 that operates as described above contacts the temperature sensor 50 disposed on the surface of the inread head 40 on the combustor 404 side. Resulting in.

(第1実施形態)
図4は、本発明の第1実施形態に係る除去装置1を説明するための図であり、除去装置1が配設されたインレットヘッド40(除害装置400に配設される)をコンバスタ404側から見た図である。本発明の第1実施形態に係るインレットヘッド40は、一例として、導入孔409を4つ備えるマルチインレットとして説明する。
なお、本発明の各実施形態では、便宜上、気体が流れる方向を「軸線方向」、当該軸線方向と垂直な方向を「径(直径・半径)」として説明する。
また、本発明の各実施形態に係る除去装置1の材料は、一例として、ステンレススチールや、ニッケル基超合金であるInconel:インコネル(登録商標)や、ハステロイ(耐食性のあるもの)が望ましい。
本発明の第1実施形態では、除害装置400に配設されるインレットヘッド40に、除去装置1が配設される。
より詳しくは、インレットヘッド40の一部に貫通孔を設け、この貫通孔に、コンバスタ404側面を摺動する除去装置1が取り付けられた軸10を挿入する。
本発明の第1実施形態では、軸10により除去装置1を回転動作させて、導入孔409に挿入されるインレットノズルの出口(即ち、コンバスタ404側から見ればガス導入口であり、一方、インレットヘッド40側から見ればガス出口となる)付近、および、インレットヘッド40のコンバスタ404との対向面全体に付着した堆積物(生成物)を掻き取る構造になっている。
さらに、本発明の第1実施形態では、除去装置1の長手方向の長さを温度センサ50が取り付けられた位置にまで届くリーチ(寸法)で構成している。そのため、除去装置1が手動または自動で回転動作する際に、インレットヘッド40の表面に突出して設けられた温度センサ50と除去装置1が接触してしまうのを避けるために、除去装置1の一部(即ち、温度センサ50の位置に合わせた位置)に切り欠き部Cが設けられている。
更に、本発明の第1実施形態では、この切り欠き部Cにニゲ構造E(後述)が設けられる。このニゲ構造Eにより、仮に、除去装置1が、当該ニゲ構造Eの内側に生成物を付着させた状態で温度センサ50周辺を摺動しても、除去装置1によって温度センサ50を損傷してしまうような不具合が発生する可能性を小さくすることができる。
(First embodiment)
FIG. 4 is a view for explaining the removal apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention. An inlet head 40 (disposed in the abatement apparatus 400) in which the removal apparatus 1 is disposed is connected to a combustor 404. It is the figure seen from the side. The inlet head 40 according to the first embodiment of the present invention will be described as a multi-inlet including four introduction holes 409 as an example.
In each embodiment of the present invention, for convenience, the direction in which the gas flows is described as an “axial direction”, and the direction perpendicular to the axial direction is described as a “diameter (diameter / radius)”.
Further, as an example, the material of the removal apparatus 1 according to each embodiment of the present invention is desirably stainless steel, nickel-based superalloy Inconel: Inconel (registered trademark), or hastelloy (corrosion-resistant).
In 1st Embodiment of this invention, the removal apparatus 1 is arrange | positioned at the inlet head 40 arrange | positioned at the abatement apparatus 400. FIG.
More specifically, a through hole is provided in a part of the inlet head 40, and the shaft 10 to which the removing device 1 that slides on the side surface of the combustor 404 is attached is inserted into the through hole.
In the first embodiment of the present invention, the removal device 1 is rotated by the shaft 10, and the outlet of the inlet nozzle inserted into the inlet hole 409 (that is, the gas inlet when viewed from the combustor 404 side, while the inlet It is structured to scrape deposits (products) adhering to the vicinity of the gas outlet when viewed from the head 40 side) and the entire surface facing the combustor 404 of the inlet head 40.
Furthermore, in 1st Embodiment of this invention, the length of the longitudinal direction of the removal apparatus 1 is comprised by the reach (dimension) which reaches even the position where the temperature sensor 50 was attached. Therefore, when the removal device 1 is rotated manually or automatically, in order to avoid the temperature sensor 50 protruding from the surface of the inlet head 40 from coming into contact with the removal device 1, A notch C is provided in the portion (that is, a position that matches the position of the temperature sensor 50).
Furthermore, in the first embodiment of the present invention, the notch C is provided with a relief structure E (described later). Even if the removal device 1 slides around the temperature sensor 50 in a state where the product is adhered to the inner side of the Nige structure E, the temperature sensor 50 is damaged by the removal device 1 due to the Nige structure E. The possibility of occurrence of such a problem can be reduced.

図5は、本発明の第1実施形態に係る除去装置1を説明するための図である。
図5(a)は、本発明の第1実施形態に係る除去装置1を、当該除去装置1がインレットヘッド40に配設される場合の軸線方向下または上から見た略図(軸線方向下からの場合は断面図)である。
図5(b)は、本発明の第1実施形態に係る除去装置1を、当該除去装置1がインレットヘッド40に配設される場合の水平方向断面図である。
図5(a)に示すように、本発明の第1実施形態に係る除去装置1は、Φ3の径Aを有する温度センサ50の近傍を摺動する際の温度センサ50との接触を避けるために、凹状の空間・空隙である切り欠き部Cを有する。
本発明の第1実施形態では、一例として、切り欠き部Cの長さ(即ち、切り欠き部Cを形成する、除去装置1の長手方向での対向面同士の最短距離)tを6mm、切り欠き部Cの角度・勾配(除去装置1の長手方向の中心線と切り欠き部Cを構成する端線とのなす角)θを33.4度、除去装置1における切り欠き部Cが形成される長手部分の幅Wを4mm、除去装置1における切り欠き部Cが形成される長手部分の軸線方向高さHを15mm、そして、切り欠き部Cの高さhを12mmとして構成されている。しかしながら、切り欠き部Cの寸法(各数値)は一例であってこれに限られることはなく、インレットヘッド40に配設される温度センサ50の寸法や、インレットヘッド40の形状に合わせ適宜変更が可能である。
更に、本発明の第1実施形態では、同図に示したように、切り欠き部Cに、くさび形(あるいは矩形状)に切り取られた空隙であるニゲ構造Eが形成される。このニゲ構造Eは、除去装置1における切り欠き部Cを構成する端線が、除去装置1の長手方向の中心線を略中心として、除去装置1の短手方向と所定の角度・勾配(∠R−なす角θ)を対称(中心線対称)に有する、テーパ形状により構成されている(ニゲ構造Eのテーパ部)。
FIG. 5 is a view for explaining the removal apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 (a) is a schematic view (from the bottom in the axial direction) of the removal device 1 according to the first embodiment of the present invention as seen from below or above in the axial direction when the removal device 1 is disposed on the inlet head 40. Is a cross-sectional view).
FIG. 5B is a horizontal cross-sectional view of the removing device 1 according to the first embodiment of the present invention when the removing device 1 is disposed on the inlet head 40.
As shown in FIG. 5A, the removal device 1 according to the first embodiment of the present invention avoids contact with the temperature sensor 50 when sliding in the vicinity of the temperature sensor 50 having a diameter A of Φ3. And has a notch C which is a concave space / air gap.
In the first embodiment of the present invention, as an example, the length of the cutout portion C (that is, the shortest distance between the opposing surfaces in the longitudinal direction of the removal device 1 that forms the cutout portion C) t is 6 mm. The angle / gradient of the notch C (the angle between the longitudinal center line of the removal device 1 and the end line constituting the notch C) θ is 33.4 degrees, and the notch C in the removal device 1 is formed. The longitudinal width W is 4 mm, the longitudinal height H of the longitudinal portion where the notch C is formed in the removing device 1 is 15 mm, and the height h of the notch C is 12 mm. However, the dimension (each numerical value) of the notch C is an example and is not limited to this, and may be appropriately changed according to the dimension of the temperature sensor 50 disposed in the inlet head 40 and the shape of the inlet head 40. Is possible.
Furthermore, in the first embodiment of the present invention, as shown in the figure, a notch portion C is formed with a relief structure E that is a gap cut out in a wedge shape (or rectangular shape). In this rugged structure E, the end line constituting the notch C in the removing device 1 is centered on the center line in the longitudinal direction of the removing device 1, and the short direction of the removing device 1 and a predetermined angle / gradient (∠ R—the angle θ formed by R—symmetrically (centerline symmetric), and has a tapered shape (tapered portion of Nige structure E).

本発明の第1実施形態に係る除害装置400に配設されるインレットヘッド40は、上述した除去装置1が設けられる。
本発明の第1実施形態に係る除去装置1が設けられた除害装置400では、この除去装置1が軸10を中心に回転運動(図10(a)(b))を行ってインレッドヘッド40のコンバスタ404側に堆積した生成物を掻き取る。そして、その際、当該回転運動の軌道上に配設温度センサ50が配設されていたとしても、当該温度センサ50に干渉せずに温度センサ50の近傍を掻き取りつつ、生成物を切り欠き部Cのニゲ構造Eのエリアに溜めることができる。
The inlet head 40 disposed in the abatement apparatus 400 according to the first embodiment of the present invention is provided with the above-described removal apparatus 1.
In the abatement apparatus 400 provided with the removal apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, the removal apparatus 1 performs a rotational motion (FIGS. 10A and 10B) about the shaft 10 to thereby move the in-red head. The product deposited on the 40 combustor 404 side is scraped off. At that time, even if the temperature sensor 50 is disposed on the orbit of the rotational motion, the product is notched while scraping the vicinity of the temperature sensor 50 without interfering with the temperature sensor 50. It can be stored in the area of the relief structure E of the part C.

このニゲ構造Eを有する切り欠き部Cが形成された除去装置1が配設される構成により、当該除去装置1が配設されたインレットヘッド40を備える除害装置400では、インレットヘッド40の堆積物を除去する際、仮に、除去装置1が、当該ニゲ構造Eの内側に生成物を付着させた状態で温度センサ50周辺を摺動しても、除去装置1によって温度センサ50を損傷してしまうような不具合が発生する可能性を小さくすることができる。
また、仮に、温度センサ50を組み立てる際に組立誤差などにより位置にズレが生じていたうえに温度センサ50が除去装置1に接触した場合であっても、温度センサ50は、このニゲ構造Eに形成されたテーパ部と接触しながら徐々に荷重がかかっていくため、急激な力が掛かりにくくなり、温度センサ50が損傷してしまう可能性を低減させることができる。
このように、本発明の第1実施形態では、インレットヘッド40の堆積物を除去する際に温度センサ50を損傷してしまう可能性を小さくすることができるので、インレットヘッド40のコンバスタ404側の壁面に粉体が付着して形成される堆積物の量を効率的に低減させることができ、その結果、除害装置400のメンテナンス周期を長くすることができるという効果を得られる。
In the abatement apparatus 400 including the inlet head 40 in which the removal device 1 is disposed, the deposition head 1 is deposited by the configuration in which the removal device 1 in which the cutout portion C having the relief structure E is formed is disposed. When removing the object, even if the removal device 1 slides around the temperature sensor 50 with the product attached to the inside of the Nige structure E, the temperature sensor 50 is damaged by the removal device 1. The possibility of occurrence of such a problem can be reduced.
Further, even when the temperature sensor 50 is assembled due to an assembling error or the like and the temperature sensor 50 comes into contact with the removing device 1 when the temperature sensor 50 is assembled, the temperature sensor 50 is not connected to the relief structure E. Since the load is gradually applied while being in contact with the formed tapered portion, it is difficult to apply an abrupt force, and the possibility that the temperature sensor 50 is damaged can be reduced.
As described above, in the first embodiment of the present invention, the possibility of damaging the temperature sensor 50 when removing deposits on the inlet head 40 can be reduced, so that the combustor 404 side of the inlet head 40 can be reduced. The amount of deposit formed by the powder adhering to the wall surface can be efficiently reduced, and as a result, the effect that the maintenance cycle of the abatement apparatus 400 can be lengthened can be obtained.

本発明の第1実施形態では、除去装置1に形成される切り欠き部Cは、当該除去装置1の長手方向の中心線と、所定の角度(なす角θ)を有する矩形の形状としたが、除去装置1の切り欠き部Cはこの形状に限定される必要はない。
上述したような切り欠き部Cを設けた場合、除去装置1によってインレットヘッド40の表面(コンバスタ404に対向する面)上から掻き取られた生成物(堆積物)が、除去装置1の切り欠き部Cが形成された凹状部分(切り欠き部Cの内側・内部)にも徐々に溜まっていく虞がある。
そこで、次に説明する第1実施形態の変形例では、除去装置1に設ける切り欠き部Cおよびニゲ構造Eの形状を工夫する。具体的には、除去装置1に形成される切り欠き部Cの断面(即ち、ニゲ構造Eの断面)を変化させる。
In the first embodiment of the present invention, the cutout portion C formed in the removal device 1 has a rectangular shape having a predetermined angle (angle θ formed) with the longitudinal center line of the removal device 1. The notch C of the removing device 1 is not necessarily limited to this shape.
When the notch C as described above is provided, the product (deposit) scraped off from the surface of the inlet head 40 (surface facing the combustor 404) by the removing device 1 is notched by the removing device 1. There is also a possibility that the concave portion in which the portion C is formed (inside and inside of the cutout portion C) is gradually accumulated.
Therefore, in a modification of the first embodiment described below, the shapes of the notch C and the relief structure E provided in the removal device 1 are devised. Specifically, the cross section of the cutout portion C formed in the removal apparatus 1 (that is, the cross section of the Nige structure E) is changed.

図6は、本発明の第1実施形態の変形例1係る除去装置2、変形例2係る除去装置3、変形例3係る除去装置4を説明するための図である。
(第1実施形態の変形例1)
図6(a)は、本発明の第1実施形態の変形例1に係る除去装置2がインレットヘッド40に配設される場合の、軸線方向下または上から見た略図(軸線方向下からの場合は断面図)である。
図6(a)に示したように、本発明の第1実施形態の変形例1に係る除去装置2には、除去装置2が温度センサ50上を通過する際に切り欠き部Cが温度センサ50と対面する片面または両面に、温度センサ50側へ突出する凸部が形成された切り欠き部Cが形成され(同図は、両面に形成された例が図示されている)、この凸部の両側にニゲ構造Eが形成される。
この構成により、切り欠き部Cの凸部を形成する面が壁(障害)になるので、ニゲ構造E内に溜まった生成物が温度センサ50の方向へ成長してしまうのを抑制することができる。
(第1実施形態の変形例2)
図6(b)は、本発明の第1実施形態の変形例2に係る除去装置3がインレットヘッド40に配設される場合の、軸線方向下または上から見た略図(軸線方向下からの場合は断面図)である。
図6(b)に示したように、本発明の第1実施形態の変形例2に係る除去装置3には、除去装置3が温度センサ50上を通過する際に切り欠き部Cが温度センサ50と対面する片面または両面に、温度センサ50側へ突出する凸部が形成され、さらに、当該凸部を形成する面が階段状に形成された切り欠き部Cが形成され(同図は、両面に形成された例が図示されている)、この凸部の階段状面の両側にニゲ構造Eが形成される。
この構成により、切り欠き部Cの凸部を形成する階段状面が壁(障害)になるので、ニゲ構造E内に溜まった生成物が温度センサ50の方向へ成長してしまうのを抑制することができる。
(第1実施形態の変形例3)
図6(c)は、本発明の第1実施形態の変形例3に係る除去装置4がインレットヘッド40に配設される場合の、軸線方向下または上から見た略図(軸線方向下からの場合は断面図)である。
あるいは、図6(c)に示したように、本発明の第1実施形態の変形例3に係る除去装置4には、除去装置4が温度センサ50上を通過する際に切り欠き部Cが温度センサ50と対面する片面または両面に、曲線で形成された切り欠き部Cが形成され(同図は、両面に形成された例が図示されている)、この切り欠き部Cを形成する曲線と除去装置4の長手方向の外形を形作る端に挟まれた空隙にニゲ構造Eが形成されるように構成してもよい。
FIG. 6 is a diagram for explaining a removal device 2 according to Modification 1 of the first embodiment of the present invention, a removal device 3 according to Modification 2, and a removal device 4 according to Modification 3.
(Modification 1 of the first embodiment)
FIG. 6A is a schematic diagram viewed from below or above in the axial direction when the removing device 2 according to the first modification of the first embodiment of the present invention is disposed in the inlet head 40 (from the bottom in the axial direction). (Case is a cross-sectional view).
As shown in FIG. 6A, the removal device 2 according to the first modification of the first embodiment of the present invention has a notch C as a temperature sensor when the removal device 2 passes over the temperature sensor 50. A notch C is formed on one surface or both surfaces facing the surface 50 with a protrusion protruding toward the temperature sensor 50 (the figure shows an example formed on both surfaces). Nige structure E is formed on both sides of the substrate.
With this configuration, since the surface forming the convex portion of the notch C becomes a wall (obstacle), it is possible to suppress the product accumulated in the relief structure E from growing in the direction of the temperature sensor 50. it can.
(Modification 2 of the first embodiment)
FIG. 6B is a schematic view (from the bottom in the axial direction) viewed from below or in the axial direction when the removing device 3 according to the second modification of the first embodiment of the present invention is disposed in the inlet head 40. (Case is a cross-sectional view).
As shown in FIG. 6B, the removal device 3 according to the second modification of the first embodiment of the present invention has a notch C as a temperature sensor when the removal device 3 passes over the temperature sensor 50. A convex portion that protrudes toward the temperature sensor 50 is formed on one surface or both surfaces that face 50, and further, a cutout portion C is formed in which the surface that forms the convex portion is formed in a stepped shape ( An example of formation on both surfaces is shown), and a relief structure E is formed on both sides of the stepped surface of this convex portion.
With this configuration, the stepped surface that forms the convex portion of the notch C becomes a wall (obstruction), so that the product accumulated in the relief structure E is prevented from growing in the direction of the temperature sensor 50. be able to.
(Modification 3 of the first embodiment)
FIG. 6C is a schematic view (from the bottom in the axial direction) viewed from below or above in the axial direction when the removing device 4 according to the third modification of the first embodiment of the present invention is disposed in the inlet head 40. (Case is a cross-sectional view).
Alternatively, as illustrated in FIG. 6C, the removal device 4 according to the third modification of the first embodiment of the present invention has a notch C when the removal device 4 passes over the temperature sensor 50. A notch portion C formed with a curve is formed on one surface or both surfaces facing the temperature sensor 50 (in the figure, an example formed on both surfaces is shown), and a curve forming this notch portion C is shown. Alternatively, the relief structure E may be formed in a gap sandwiched between ends forming the outer shape of the removal device 4 in the longitudinal direction.

上述したニゲ構造Eを有する切り欠き部Cが形成された、本発明の第1実施形態の変形例1に係る除去装置2、変形例2に係る除去装置3、変形例3に係る除去装置4が配設されるインレットヘッド40を備える除害装置400では、インレットヘッド40の堆積物(生成物)を除去する際、仮に、除去装置(2、3、4)が、当該ニゲ構造E(切り欠き部C)の内側に掻き取った生成物が付着してしまった状態で温度センサ50周辺を摺動したとしても、断面積に変化があることで、付着した生成物が温度センサ50に干渉してしまうくらいの大きさにまで到達する時間(期間)を、より効率よく延ばす(時間/期間を稼ぐ)ことができる。
また、仮に、ニゲ構造Eの空隙に生成物が溜まったとしても、温度センサ50が位置する場所を中心に外側へ向かって断面が大きくなるように切り欠き部Cが構成されているので、堆積する生成物が温度センサ50に干渉するような形に成長しにくくすることができる。
そのため、本発明の第1実施形態の各変形例1〜変形例3に係る除害装置400では、除去装置(2、3、4)によって温度センサ50を損傷してしまうような不具合が発生する可能性を、より効率よく小さくすることができる。
このように、本発明の第1実施形態の各変形例1〜3では、インレットヘッド40の堆積物を除去する際に温度センサ50を損傷してしまう可能性をより効率よく小さくすることができるので、インレットヘッド40のコンバスタ404側の壁面に粉体が付着して形成される堆積物の量を効率的に低減させることができ、その結果、除害装置400のメンテナンス周期を長くすることができるという効果を得られる。
The removal device 2 according to the first modification of the first embodiment of the present invention, the removal device 3 according to the second modification, and the removal device 4 according to the third modification, in which the above-described cutout portion C having the relief structure E is formed. In the abatement apparatus 400 having the inlet head 40 in which the deposit head 40 is disposed, when removing the deposit (product) of the inlet head 40, the removal apparatus (2, 3, 4) temporarily has Even if the product scraped off inside the notch C) is attached to the periphery of the temperature sensor 50, the attached product interferes with the temperature sensor 50 due to a change in the cross-sectional area. Thus, the time (period) to reach such a large size can be extended more efficiently (time / period can be earned).
Further, even if the product accumulates in the voids of the Nige structure E, the cutout portion C is configured so that the cross section increases toward the outside centering on the location where the temperature sensor 50 is located. It is possible to make it difficult for the product to be grown to interfere with the temperature sensor 50.
Therefore, in the abatement apparatus 400 according to each of the first to third modifications of the first embodiment of the present invention, such a problem that the temperature sensor 50 is damaged by the removal apparatus (2, 3, 4) occurs. The possibility can be reduced more efficiently.
As described above, in each of the first to third modifications of the first embodiment of the present invention, the possibility of damaging the temperature sensor 50 when removing the deposit on the inlet head 40 can be reduced more efficiently. Therefore, the amount of deposits formed by the powder adhering to the wall surface on the combustor 404 side of the inlet head 40 can be efficiently reduced, and as a result, the maintenance cycle of the abatement apparatus 400 can be lengthened. The effect that you can do it.

(第1実施形態の変形例4)
図7は、本発明の第1実施形態の変形例4に係る除去装置5を説明するための図である。
図7(a)は、本発明の第1実施形態の変形例4に係る除去装置5を、当該除去装置5がインレットヘッド40に配設される場合の軸線方向下または上から見た略図(軸線方向下からの場合は断面図)である。
図7(b)は、本発明の第1実施形態の変形例4に係る除去装置5を、当該除去装置5がインレットヘッド40に配設される場合の水平方向から見た略図である。
図7に示したように、本発明の第1実施形態の変形例4に係る除去装置5には、除去装置5が温度センサ50上を通過する際に切り欠き部Cが温度センサ50と対面する片面または両面に、ブラシ70が配設される(同図は、両面に配設された例が図示されている)。除去装置5がインレットヘッド40に付着・堆積した生成物を掻き取る際に、除去装置5に形成された切り欠き部Cのブラシ70に生成物が絡まるように構成するようにしてもよい。
(Modification 4 of the first embodiment)
FIG. 7 is a view for explaining a removal device 5 according to Modification 4 of the first embodiment of the present invention.
FIG. 7A is a schematic view of the removing device 5 according to the fourth modification of the first embodiment of the present invention when viewed from below or above in the axial direction when the removing device 5 is disposed in the inlet head 40 (FIG. It is a cross-sectional view when viewed from below in the axial direction.
FIG. 7B is a schematic view of the removing device 5 according to the fourth modification of the first embodiment of the present invention as viewed from the horizontal direction when the removing device 5 is disposed on the inlet head 40.
As shown in FIG. 7, in the removing device 5 according to the fourth modification of the first embodiment of the present invention, the notch C faces the temperature sensor 50 when the removing device 5 passes over the temperature sensor 50. The brush 70 is disposed on one or both sides (an example in which the brush 70 is disposed on both sides is shown in the figure). When the removal device 5 scrapes off the product adhering / depositing on the inlet head 40, the product may be entangled with the brush 70 of the notch C formed in the removal device 5.

(第2実施形態)
図8は、本発明の第2実施形態に係るインレットヘッド41および除去装置6を説明するための図である。
図8に示したように、本発明の第2実施形態に係るインレットヘッド41には、生成物を掻き取って除去するために除去装置6がインレットヘッド41の表面を摺動する際に除去装置6が温度センサ50に接触するのを防止するためのストッパ60が、温度センサ50の近傍に温度センサ50を取り囲むように配設される。
なお、本発明の第2実施形態では、ストッパ60は中央に空洞が形成された円筒形状としたが、これに限ることはない。動作する除去装置6が温度センサ50との接触を阻止する(即ち、除去装置6の運動が、このストッパ60により一旦中断され、非連続になる)ための形状であればよく、例えば、温度センサ50を包囲する形状であれば四角形や矩形であってもよい。あるいは、全周を包囲する(取り囲む)形状に限らず、温度センサ50を挟むように設けられた1又は複数の板状の部材で構成することもできる。
この構成により、ストッパ60が壁(障害)になるので、除去装置6が温度センサ50に接触・干渉するのを防止することができる。
(Second Embodiment)
FIG. 8 is a view for explaining the inlet head 41 and the removing device 6 according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 8, the inlet head 41 according to the second embodiment of the present invention has a removing device when the removing device 6 slides on the surface of the inlet head 41 to scrape and remove the product. A stopper 60 for preventing 6 from contacting the temperature sensor 50 is disposed in the vicinity of the temperature sensor 50 so as to surround the temperature sensor 50.
In the second embodiment of the present invention, the stopper 60 has a cylindrical shape with a cavity formed in the center, but is not limited thereto. Any shape may be used so that the removing device 6 that operates operates to prevent contact with the temperature sensor 50 (that is, the movement of the removing device 6 is temporarily interrupted by the stopper 60 and becomes discontinuous). As long as the shape surrounds 50, it may be a rectangle or a rectangle. Alternatively, the shape is not limited to a shape that surrounds (encloses) the entire circumference, but may be configured by one or a plurality of plate-like members provided so as to sandwich the temperature sensor 50.
With this configuration, since the stopper 60 becomes a wall (obstacle), the removal device 6 can be prevented from contacting / interfering with the temperature sensor 50.

上述したストッパ60を有するインレットヘッド41により、本発明の第2実施形態に係る除去装置6が配設されるインレットヘッド41を備える除害装置400では、インレットヘッド41の堆積物(生成物)を除去する際、仮に、除去装置6に掻き取った生成物が付着してしまった状態で温度センサ50近傍を摺動したとしても、ストッパ60の存在により、付着した生成物が温度センサ50に干渉してしまうのを防止することができる。
そのため、本発明の第2実施形態に係る除害装置400では、除去装置6によって温度センサ50を損傷してしまうような不具合が発生する可能性を小さくすることができる。
このように、本発明の第2実施形態では、インレットヘッド41の堆積物を除去する際に温度センサ50を損傷してしまう可能性をより小さくすることができるので、インレットヘッド41のコンバスタ404側の壁面に粉体が付着して形成される堆積物の量を効率的に低減させることができ、その結果、除害装置400のメンテナンス周期を長くすることができるという効果を得られる。
In the detoxifying apparatus 400 including the inlet head 41 in which the removing apparatus 6 according to the second embodiment of the present invention is provided by the inlet head 41 having the stopper 60 described above, the deposit (product) of the inlet head 41 is removed. When removing, even if the scraped product has adhered to the removing device 6 and slides in the vicinity of the temperature sensor 50, the adhered product interferes with the temperature sensor 50 due to the presence of the stopper 60. Can be prevented.
Therefore, in the abatement apparatus 400 according to the second embodiment of the present invention, it is possible to reduce the possibility that a malfunction that damages the temperature sensor 50 by the removing apparatus 6 occurs.
As described above, in the second embodiment of the present invention, the possibility of damaging the temperature sensor 50 when removing the deposits on the inlet head 41 can be further reduced, so that the combustor 404 side of the inlet head 41 can be reduced. The amount of deposits formed by adhering powder to the wall surface can be efficiently reduced, and as a result, the maintenance cycle of the abatement apparatus 400 can be lengthened.

(第3実施形態)
図9は、本発明の第3実施形態に係る除去装置7を説明するための図であり、除去装置7が配設されたインレットヘッド40の一部概略図である。
図9に示したように、本発明の第3実施形態に係る除去装置7は、インレットヘッド40に形成される導入孔409の近傍に、摺動(回転運動)した際に温度センサ50に接触しない動作範囲内で動くように、インレットヘッド40に配設される。例えば、導入孔409の外側に任意の一点をとり、その点を中心として導入孔409にむけて引かれた2つの接線が動作の最小範囲となるように決めておく等する。
なお、インレットヘッド40に設けられる導入孔409の数と等しい数の除去装置7を、一対一対応で配設することが望ましい。
この構成により、除去装置7が温度センサ50に干渉することなく、除去装置7がインレットヘッド40に設けられた導入孔409付近に付着・堆積した生成物を掻き取るための動作をすることができる。
(Third embodiment)
FIG. 9 is a view for explaining the removing device 7 according to the third embodiment of the present invention, and is a partial schematic view of the inlet head 40 provided with the removing device 7.
As shown in FIG. 9, the removing device 7 according to the third embodiment of the present invention contacts the temperature sensor 50 when sliding (rotating) in the vicinity of the introduction hole 409 formed in the inlet head 40. It is arranged in the inlet head 40 so as to move within an operating range that does not. For example, an arbitrary point is taken outside the introduction hole 409, and two tangent lines drawn toward the introduction hole 409 around the point are determined so as to be within the minimum range of operation.
It is desirable that the number of removing devices 7 equal to the number of introduction holes 409 provided in the inlet head 40 is arranged in a one-to-one correspondence.
With this configuration, the removal device 7 can perform an operation for scraping off the product adhered and deposited near the introduction hole 409 provided in the inlet head 40 without interfering with the temperature sensor 50. .

上述した本発明の第3実施形態に係る除去装置7が配設されるインレットヘッド40を備える除害装置400では、インレットヘッド40に形成された導入孔409付近に堆積した堆積物(生成物)を除去する際、除去装置7は導入孔409近傍にのみ配設されているので温度センサ50周辺を摺動しない。よって、動作する除去装置7が温度センサ50に干渉してしまうのを防止することができる。
そのため、本発明の第3実施形態に係る除害装置400では、除去装置7によって温度センサ50を損傷してしまうような不具合が発生する可能性を防止することができる。
このように、本発明の第3実施形態では、インレットヘッド40の堆積物を除去する際に温度センサ50を損傷してしまう可能性を防止することができるので、インレットヘッド40のコンバスタ404側の壁面に粉体が付着して形成される堆積物の量を効率的に低減させることができ、その結果、除害装置400のメンテナンス周期を長くすることができるという効果を得られる。
In the abatement apparatus 400 including the inlet head 40 in which the removing apparatus 7 according to the third embodiment of the present invention described above is disposed, the deposit (product) deposited in the vicinity of the introduction hole 409 formed in the inlet head 40. Since the removal device 7 is disposed only in the vicinity of the introduction hole 409, the periphery of the temperature sensor 50 does not slide. Therefore, it is possible to prevent the operating removal device 7 from interfering with the temperature sensor 50.
Therefore, in the abatement apparatus 400 according to the third embodiment of the present invention, it is possible to prevent the possibility that a malfunction that would damage the temperature sensor 50 by the removing apparatus 7 occurs.
As described above, in the third embodiment of the present invention, it is possible to prevent the temperature sensor 50 from being damaged when the deposit on the inlet head 40 is removed, so that the combustor 404 side of the inlet head 40 can be prevented. The amount of deposit formed by the powder adhering to the wall surface can be efficiently reduced, and as a result, the effect that the maintenance cycle of the abatement apparatus 400 can be lengthened can be obtained.

本発明の実施形態に係る除害装置400では、インレットヘッド40は、コンバスタ404に対して取り外し可能な構成としたが、インレットヘッド40とコンバスタ404とを一体型に構成してもよい。   In the abatement apparatus 400 according to the embodiment of the present invention, the inlet head 40 is configured to be detachable from the combustor 404, but the inlet head 40 and the combustor 404 may be configured integrally.

1 除去装置
2 除去装置
3 除去装置
4 除去装置
5 除去装置
6 除去装置
7 除去装置
10 軸
40 インレットヘッド
41 インレットヘッド
50 温度センサ
60 ストッパ
70 ブラシ
100 プロセス装置
200 クリーンルーム
300 ドライポンプ
400 除害装置
401 インレット三方弁
402 インレット配管
404 コンバスタ
405 クエンチ
406 サイクン
407 パックドタワー
409 導入孔
500 真空配管
600 排気配管
1000 掻き取り器(従来)
1001 掻き取りヘッド(従来)
2000 炉内壁面(従来)
2001 ガス通路(従来)
3000 堆積物(従来)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Remover 2 Remover 3 Remover 4 Remover 5 Remover 6 Remover 6 Remover 7 Remover 10 Shaft 40 Inlet head 41 Inlet head 50 Temperature sensor 60 Stopper 70 Brush 100 Process device 200 Clean room 300 Dry pump 400 Detoxifier 401 Inlet Three-way valve 402 Inlet piping 404 Combustor 405 Quench 406 Cyclone 407 Packed tower 409 Introduction hole 500 Vacuum piping 600 Exhaust piping 1000 Scraper (conventional)
1001 Scraping head (conventional)
2000 Furnace wall (conventional)
2001 Gas passage (conventional)
3000 sediment (conventional)

Claims (6)

配設される除害装置に付着した堆積物を除去する除去装置であって、
前記除害装置に対向する面に凹部が形成され、
前記凹部内にて互いに対向する面の少なくとも一方に、他面に非接触である凸部が形成されることを特徴とする除去装置。
A removal device that removes deposits attached to an abatement device disposed,
A recess is formed on the surface facing the abatement device,
A removing device, wherein a convex portion that is non-contact with the other surface is formed on at least one of the surfaces facing each other in the concave portion.
回転運動、または、平行移動のいずれかの動作により前記堆積物を除去することを特徴とする請求項1に記載の除去装置。   The removal apparatus according to claim 1, wherein the deposit is removed by an operation of either a rotational movement or a parallel movement. 前記凹部は、前記動作により前記除害装置に設けられた温度センサと交差する部分に、当該温度センサと非接触になる寸法をもって形成され、
前記凸部は、前記動作により前記温度センサと非接触になる寸法をもって形成されることを特徴とする請求項2に記載の除去装置。
The recess is formed in a portion that intersects with the temperature sensor provided in the abatement apparatus by the operation with a dimension that is not in contact with the temperature sensor,
The removal device according to claim 2, wherein the convex portion is formed with a dimension that is not in contact with the temperature sensor by the operation.
前記凸部は前記除害装置と対向する面における略中心線と所定の角度を有するテーパ形状であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の除去装置。   The removal device according to any one of claims 1 to 3, wherein the convex portion has a tapered shape having a predetermined angle with a substantially center line on a surface facing the removal device. 除害用チャンバと、
前記除害用チャンバへ気体を案内するインレットノズルと、
前記インレットノズルを配設するための孔を有し、前記除害用チャンバに配設されたノズル固定部材と、
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の除去装置と、
を備えることを特徴とする除害装置。
An abatement chamber;
An inlet nozzle for guiding the gas to the abatement chamber;
A nozzle fixing member having a hole for disposing the inlet nozzle and disposed in the abatement chamber;
The removal apparatus according to any one of claims 1 to 4,
An abatement device comprising:
前記ノズル固定部材は、取り外しが可能であることを特徴とする請求項5に記載の除害装置。   6. The abatement apparatus according to claim 5, wherein the nozzle fixing member is removable.
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JP4771826B2 (en) * 2006-02-20 2011-09-14 株式会社タクマ Simple dust removal device
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