JP6098142B2 - Manufacturing method of optical waveguide - Google Patents

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Description

本発明は、光導波路の製造方法に関するものである。 The present invention relates to the production how the optical waveguide.

光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部と、を有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。   An optical communication technique for transferring data using an optical carrier wave has been developed. In recent years, an optical waveguide has been widely used as a means for guiding the optical carrier wave from one point to another point. This optical waveguide has a linear core part and a clad part provided so as to cover the periphery thereof. The core part is made of a material that is substantially transparent to the light of the optical carrier wave, and the cladding part is made of a material having a refractive index lower than that of the core part.

光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に伝送(搬送)される。光導波路の入射側には半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側にはフォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。   In the optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is transmitted (conveyed) to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the flickering pattern of the received light or its intensity pattern.

このような光導波路と発光素子および受光素子とを光結合させるにあたり、光導波路のコア部の途中に形成したミラーを介してコア部の光路を変換し、光導波路の主面に垂直な方向に光路を導くことによって光結合させる構造が検討されている。例えば特許文献1には、ビルドアップ基板と、ビルドアップ基板上に設けられた光導波路と、光導波路上に配置された発光素子と、を有する光モジュールが開示されており、このうち、発光素子と光導波路内のコアとが、光導波路に形成されたミラーを介して光学的に接続されている。   When optically coupling such an optical waveguide with a light-emitting element and a light-receiving element, the optical path of the core part is converted via a mirror formed in the middle of the core part of the optical waveguide, and in a direction perpendicular to the main surface of the optical waveguide. A structure for optical coupling by guiding an optical path has been studied. For example, Patent Document 1 discloses an optical module having a build-up substrate, an optical waveguide provided on the build-up substrate, and a light emitting element disposed on the optical waveguide. And a core in the optical waveguide are optically connected via a mirror formed in the optical waveguide.

かかる構造の光モジュールについては小型化の要請が強くあり、そのため、光導波路中に並列配置された複数のコアの間隔を狭める試みがなされている。これにより、光モジュールの単位面積当たりの伝送容量については増大が図られる。しかしながら、コアの間隔を狭めると、コアに合わせて発光素子を配置したとき、発光素子同士が互いに干渉し合う場合があり、このような立体障害が光モジュールの小型化を阻む要因の1つになっている。また、ミラー同士の間隔が狭まることによって、発光素子から出射した光がその発光素子に対応して設けられたミラーとは異なるミラーに入射してしまったり、あるいは、ミラーから出射した光信号がそのミラーに対応して設けられた受光素子とは異なる受光素子に入射してしまったりする現象(クロストーク)が発生し、通信品質が低下するおそれがある。   There is a strong demand for downsizing the optical module having such a structure, and therefore, attempts have been made to reduce the interval between a plurality of cores arranged in parallel in the optical waveguide. As a result, the transmission capacity per unit area of the optical module is increased. However, when the interval between the cores is narrowed, the light emitting elements may interfere with each other when the light emitting elements are arranged in accordance with the cores. Such a steric hindrance is one of the factors that hinder the miniaturization of the optical module. It has become. Further, since the distance between the mirrors is narrowed, the light emitted from the light emitting element is incident on a mirror different from the mirror provided corresponding to the light emitting element, or the optical signal emitted from the mirror is changed. There is a possibility that a phenomenon (crosstalk) in which the light is incident on a light receiving element different from the light receiving element provided corresponding to the mirror occurs, and the communication quality is deteriorated.

そこで、特許文献2には、並列配置された複数のコア部において、隣り合うコア部間で光入出射部の位置を延伸方向に互いにずらすことにより、光入出射部同士の間隔を確保することが提案されている。   Therefore, in Patent Document 2, in a plurality of core portions arranged in parallel, the positions of the light incident / exit portions are shifted from each other in the extending direction between adjacent core portions, thereby ensuring the interval between the light incident / exit portions. Has been proposed.

しかしながら、このような構造を備えた光導波路では、各コア部で異なった位置にミラー(光入出射部)を形成する必要があるため、製造工程が非常に複雑にならざるを得ない。このため、ミラーごとの光の反射角や反射率といった特性の均一化が図り難く、全体の通信品質の低下を招き易くなる。また、製造歩留まりが悪化するとともに、製造コストの上昇が避けられない。   However, in an optical waveguide having such a structure, it is necessary to form mirrors (light incident / exit portions) at different positions in each core portion, and thus the manufacturing process must be very complicated. For this reason, it is difficult to make uniform the characteristics such as the reflection angle and reflectance of light for each mirror, and the overall communication quality is likely to be deteriorated. In addition, the manufacturing yield is deteriorated and the manufacturing cost is inevitably increased.

特開2006−145789号公報JP 2006-145789 A 特開2004−198579号公報JP 2004-198579 A

本発明の目的は、通信品質の高い光導波路を効率よく製造可能な光導波路の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for producing efficiently manufacturable optical waveguide having a high communication quality optical waveguides.

このような目的は、下記(1)〜(6)の本発明により達成される。
(1) 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層と、前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、平面視で線状をなす第1の傾斜面および第2の傾斜面と、を備えるコア部形成層を用意する工程と、
前記第1の傾斜面の一部分とそこから前記第1の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と、前記第2の傾斜面の一部分とそこから前記第2の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第2のコア部を形成すべき第2の領域と、についてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域と前記第1の傾斜面とが重なる部分については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (6) below.
(1) The first core portion and the second core portion that are linearly arranged in parallel, and provided in each of the core portions, the position of which is long between the first core portion and the second core portion. A method of manufacturing an optical waveguide having mirrors that are offset from each other in a direction,
A curable resin layer composed of a curable resin material before curing, and a first inclined surface and a second inclined surface which are provided so as to cross each of the curable resin layers obliquely and form a linear shape in plan view; Preparing a core part forming layer comprising:
A first region which is a linear region extending from a part of the first inclined surface and a direction intersecting with a longitudinal direction of the first inclined surface, and the first core portion is to be formed; About a part of the second inclined surface and a second region which is a linear region extending in a direction intersecting with the longitudinal direction of the second inclined surface and is to form the second core portion, The curable resin is cured so that the curable resin material before curing is cured, and the curable resin material before curing is not cured at a portion where the second region and the first inclined surface overlap each other. Applying a curing treatment to the layer;
And a step of removing the uncured curable resin material that has not been cured in the curable resin layer.

(2) 並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層を用意し、そのうち前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と前記第2のコア部を形成すべき第2の領域とについてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域の途中の一部については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、前記第1の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす傾斜面であって前記第2の領域の前記途中の一部に対応する位置に設けられた第1の傾斜面と、前記第2の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす第2の傾斜面と、を形成する工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
(2) The first core portion and the second core portion that are linearly arranged in parallel, and provided in each of the core portions, the position of which is long between the first core portion and the second core portion. A method of manufacturing an optical waveguide having mirrors that are offset from each other in a direction,
A curable resin layer composed of a curable resin material before curing is prepared, of which a first region where the first core part is to be formed and a second region where the second core part is to be formed; For the curable resin layer, the curable resin material before curing is cured, and the curable resin material before curing is not cured for a part of the second region. A step of applying a curing treatment;
An inclined surface provided obliquely across the curable resin layer and extending in a direction intersecting with the longitudinal direction of the first region in a plan view, and one of the intermediate portions of the second region. Forming a first inclined surface provided at a position corresponding to the portion, and a second inclined surface that is linear in a plan view extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the second region;
And a step of removing the uncured curable resin material that has not been cured in the curable resin layer.

(3) 前記光導波路は、前記各コア部の側面を覆うように設けられたクラッド部を有するものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記クラッド部を設ける工程を有する上記(1)または(2)に記載の光導波路の製造方法。
(3) The optical waveguide has a clad portion provided so as to cover a side surface of each core portion,
The manufacturing method of the said optical waveguide is a manufacturing method of the optical waveguide as described in said (1) or (2) which further has the process of providing the said clad part.

(4) 前記クラッド部は、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するよう構成されている上記(3)に記載の光導波路の製造方法。   (4) The method for manufacturing an optical waveguide according to (3), wherein the cladding portion is configured to fill a portion where the second core portion is interrupted.

(5) 前記硬化性樹脂材料は、光硬化性を有するものであり、
前記硬化処理は、硬化させるべき領域またはその領域の反転領域に光を照射する処理である上記(1)ないし(4)のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
(5) The curable resin material has photocurability,
5. The method of manufacturing an optical waveguide according to any one of (1) to (4), wherein the curing process is a process of irradiating light to a region to be cured or an inverted region of the region.

(6) 前記ミラーは、前記各コア部を横切る面と、その上に成膜された反射膜と、を備えたものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記反射膜を成膜する工程を有する上記(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
(6) The mirror includes a surface that traverses each of the core portions, and a reflective film formed thereon.
The method for manufacturing an optical waveguide according to any one of (1) to (5), further including a step of forming the reflective film.

本発明によれば、通信品質の高い光導波路を効率よく製造することができる。 According to the present invention, it is possible to manufacture a highly communication quality optical waveguides efficiently.

本発明の光導波路の実施形態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of the top view which shows embodiment of the optical waveguide of this invention, and a top view. 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of each top view for demonstrating 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of each top view for demonstrating 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of each top view for demonstrating 1st Embodiment of the manufacturing method of the optical waveguide of this invention. 本発明の光導波路の他の実施形態の製造途中の状態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of the top view which shows the state in the middle of manufacture of other embodiment of the optical waveguide of this invention, and a top view. 本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to the AA line of each top view for demonstrating 2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical waveguide of this invention.

以下、本発明の光導波路の製造方法および光導波路について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of an optical waveguide and an optical waveguide of the present invention are explained in detail based on a suitable embodiment shown in an accompanying drawing.

<光導波路>
まず、本発明の光導波路の実施形態について説明する。
<Optical waveguide>
First, an embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.

図1は、本発明の光導波路の実施形態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図1では、図1の左右方向に延伸している光導波路の右端部および左端部のみを図示し、それらの間については図示を省略している(図1の一点鎖線部分)。また、図1の平面図では、上側クラッド部12を透過した図を図示している。   FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of an optical waveguide of the present invention and a cross-sectional view corresponding to the line AA in the plan view. 1, only the right end portion and the left end portion of the optical waveguide extending in the left-right direction in FIG. 1 are shown, and the illustration between them is omitted (the chain line portion in FIG. 1). Further, the plan view of FIG. 1 shows a view through the upper clad portion 12.

図1に示す光導波路1は、層状の下側クラッド部11と、その上に設けられた平面視で線状をなすコア部13と、下側クラッド部11上においてコア部13を覆うように設けられた上側クラッド部12と、を備えている。   The optical waveguide 1 shown in FIG. 1 has a layered lower clad part 11, a core part 13 that is linearly provided on the lower clad part 11, and a core part 13 on the lower clad part 11. And an upper clad portion 12 provided.

光導波路1は、2本のコア部13を備えており、このうち、図1の平面図において上側に位置しているものをコア部(第1のコア部)131とし、下側に位置しているものをコア部(第2のコア部)132とする。これらは、平面視で直線状をなしており、互いに平行である。   The optical waveguide 1 includes two core portions 13, and of these, the one located on the upper side in the plan view of FIG. 1 is the core portion (first core portion) 131 and located on the lower side. The core portion (second core portion) 132 is used. These are linear in a plan view and are parallel to each other.

また、コア部131、132の両端部は傾斜面21、22になっており、その傾斜面21、22上にはそれぞれ反射膜(ミラー)14が設けられている。この反射膜14により、コア部131、132の光路を変換し、他の光学部品と光導波路1とを光学的に接続することができる。なお、図1では、コア部131、132に粗のドットを付し、反射膜14にそれより密のドットを付している。   Further, both end portions of the core portions 131 and 132 are inclined surfaces 21 and 22, and a reflective film (mirror) 14 is provided on each of the inclined surfaces 21 and 22. With this reflective film 14, the optical paths of the core portions 131 and 132 can be converted, and other optical components and the optical waveguide 1 can be optically connected. In FIG. 1, coarse dots are attached to the core portions 131 and 132, and denser dots are attached to the reflective film 14.

また、コア部131は、全体的にコア部132に対して左側にずれている。その結果、コア部131に設けられた反射膜14についても、コア部132に設けられた反射膜14に対して左側にずれている。このように反射膜14が長手方向にずれていることにより、反射膜14の位置に対応して他の光学部品を載置したとき、ずれていない場合に比べて、隣り合う反射膜14同士の離間距離、すなわち他の光学部品同士の離間距離を十分に確保することができる。その結果、他の光学部品同士の干渉を避けるとともに、クロストークの発生を抑えることができる。加えて、コア部131とコア部132との離間距離をより狭めることができるので、光導波路1の高密度化を図ることができ、光通信の大容量化を図ることができる。   In addition, the core part 131 is shifted to the left with respect to the core part 132 as a whole. As a result, the reflective film 14 provided in the core part 131 is also shifted to the left with respect to the reflective film 14 provided in the core part 132. Since the reflective film 14 is displaced in the longitudinal direction as described above, when another optical component is placed corresponding to the position of the reflective film 14, the adjacent reflective films 14 are compared with each other as compared with the case where they are not displaced. A sufficient separation distance, that is, a separation distance between other optical components can be ensured. As a result, interference between other optical components can be avoided and occurrence of crosstalk can be suppressed. In addition, since the distance between the core portion 131 and the core portion 132 can be further reduced, the optical waveguide 1 can be increased in density, and the capacity of optical communication can be increased.

また、コア部131は、長手方向の途中で途切れており、その途切れた箇所23には上側クラッド部12が充填されている。コア部131が途切れた箇所23は、コア部132に設けられた反射膜14の位置に対応している。同様に、コア部132も、長手方向の途中で途切れており、その途切れた箇所24には上側クラッド部12が充填されている。そして、コア部132が途切れた箇所24は、コア部131に設けられた反射膜14の位置に対応している。   The core portion 131 is interrupted in the middle of the longitudinal direction, and the interrupted portion 23 is filled with the upper cladding portion 12. The portion 23 where the core 131 is interrupted corresponds to the position of the reflective film 14 provided on the core 132. Similarly, the core portion 132 is also interrupted in the middle of the longitudinal direction, and the upper cladding portion 12 is filled in the interrupted portion 24. The portion 24 where the core portion 132 is interrupted corresponds to the position of the reflective film 14 provided on the core portion 131.

このような構成の光導波路1は、各反射膜14を設けるための傾斜面21、22を形成し易いという利点がある。すなわち、傾斜面21、22を形成する際に、コア部131、132の位置を狙って精度よく加工しなくても、複数のコア部131、132に対してまとめて加工すればよいので、加工の位置精度をあまり考慮することなく、傾斜面を容易に形成することができる。これは、コア部131、132に対し、前述した途切れた箇所23、24をあえて設けることにより、隣り合うコア部ごと、まとめて加工することを可能にしたためである。そして、途切れた箇所23、24には上側クラッド部12が充填されることによって、伝送損失の増大を抑えることができる。なお、かかる利点については、後に詳述する。   The optical waveguide 1 having such a configuration has an advantage that the inclined surfaces 21 and 22 for providing the respective reflection films 14 can be easily formed. That is, when the inclined surfaces 21 and 22 are formed, it is only necessary to process the plurality of core parts 131 and 132 collectively without processing the core parts 131 and 132 with high accuracy. It is possible to easily form the inclined surface without much consideration of the positional accuracy. This is because the above-mentioned discontinuous portions 23 and 24 are provided for the core portions 131 and 132 so that the adjacent core portions can be processed together. And the increase in transmission loss can be suppressed by filling the upper clad part 12 in the discontinuous portions 23 and 24. Such advantages will be described in detail later.

以上のことから、光導波路1は、他の光学部品の実装が容易であり、かつ、複数のコア部131、132間で生じるクロストークを抑制し得るものとなる。また、上述したように、複数のコア部131、132に対して傾斜面21、22を一括で形成することができるので、傾斜面21、22の加工精度に基づく反射膜14の反射角や反射率といった光学特性を高められるとともに、均一化を図り易い。よって、光導波路1は、通信品質の低下を確実に抑え得るものとなる。   From the above, the optical waveguide 1 can be easily mounted with other optical components, and can suppress crosstalk generated between the plurality of core portions 131 and 132. Further, as described above, since the inclined surfaces 21 and 22 can be collectively formed with respect to the plurality of core portions 131 and 132, the reflection angle and reflection of the reflective film 14 based on the processing accuracy of the inclined surfaces 21 and 22 are reflected. The optical characteristics such as the rate can be improved and uniformization is easy. Therefore, the optical waveguide 1 can reliably suppress a decrease in communication quality.

<光導波路の製造方法>
次に、本発明の光導波路の製造方法について説明する。
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態について説明する。
<Optical waveguide manufacturing method>
Next, the manufacturing method of the optical waveguide of this invention is demonstrated.
<< First Embodiment >>
First, a first embodiment of the optical waveguide manufacturing method of the present invention will be described.

図2〜4は、それぞれ、本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図2〜4では、図1に示す光導波路1のうち、右端部近傍について図示している。   2 to 4 are a plan view for explaining the first embodiment of the optical waveguide manufacturing method of the present invention and a cross-sectional view corresponding to the line AA of each plan view. 2 to 4 show the vicinity of the right end portion of the optical waveguide 1 shown in FIG.

本実施形態に係る光導波路1の製造方法は、[1]硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層100に、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する工程と、[2]第2の溝220と重なる部分は除く第1の領域1310および第1の溝210と重なる部分は除く第2の領域1320について硬化性樹脂材料を硬化させる工程と、[3]硬化させなかった硬化性樹脂材料を除去する工程と、[4]第1の溝210の一部(傾斜面21)と第2の溝220の一部(傾斜面22)にそれぞれ反射膜14を成膜する工程と、[5]硬化させた硬化性樹脂層100を覆うように上側クラッド部12を設ける工程と、を有する。以下、各工程について順次説明する。   In the method of manufacturing the optical waveguide 1 according to the present embodiment, [1] the first groove 210 and the second groove that are linear in a plan view are formed on the curable resin layer 100 made of the curable resin material before curing. The step of forming the groove 220, and [2] curing the curable resin material in the first region 1310 excluding the portion overlapping the second groove 220 and the second region 1320 excluding the portion overlapping the first groove 210. A step, [3] a step of removing the curable resin material that has not been cured, and [4] a part of the first groove 210 (inclined surface 21) and a part of the second groove 220 (inclined surface 22). And (5) a step of providing the upper clad portion 12 so as to cover the cured curable resin layer 100. Hereinafter, each process will be described sequentially.

[1]
[1−1] まず、層状の下側クラッド部11上に、硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層100を用意する(図2(a)参照)。硬化前の硬化性樹脂材料とは、熱や光等のエネルギーを付与することにより、硬化反応を生じる材料であり、本硬化する前の状態、すなわち未硬化または半硬化の状態(未固化または半固化の状態も含む。)にある硬化性樹脂材料(固化性樹脂材料も含む。)のことを指す。
[1]
[1-1] First, a curable resin layer 100 made of a curable resin material before curing is prepared on the lower clad portion 11 in a layered form (see FIG. 2A). The curable resin material before curing is a material that generates a curing reaction by applying energy such as heat or light, and is in a state before being fully cured, that is, an uncured or semi-cured state (unsolidified or semi-cured It also refers to the curable resin material (including the solidified resin material) in the solidified state.

硬化性樹脂層100は、最終的に光導波路を形成するためのものであり、その平面視形状は特に限定されないが、一般的には長尺状に形成される。そして、その長手方向に沿ってコア部が形成され、光配線として用いられることとなる。本実施形態では、図2(a)の左右方向を長手方向とする硬化性樹脂層100を用意する。なお、以下の説明では、この長手方向に延伸する2本の並列するコア部を形成する場合について説明する。なお、形成するコア部の数は、特に限定されず、3本以上であってもよい。   The curable resin layer 100 is for finally forming an optical waveguide, and its planar view shape is not particularly limited, but is generally formed in a long shape. And a core part is formed along the longitudinal direction, and will be used as an optical wiring. In the present embodiment, a curable resin layer 100 having a longitudinal direction in the left-right direction in FIG. In the following description, a case where two parallel core portions extending in the longitudinal direction are formed will be described. In addition, the number of core parts to form is not specifically limited, Three or more may be sufficient.

このような硬化性樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。   Examples of such curable resin materials include acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate, polystyrene, cyclic ether resins such as epoxy resins and oxetane resins, polyamides, polyimides, polybenzoxazoles, polysilanes, polysilazanes. , Silicone resin, fluorine resin, polyurethane, polyolefin resin, polybutadiene, polyisoprene, polychloroprene, polyester such as PET and PBT, polyethylene succinate, polysulfone, polyether, benzocyclobutene resin and norbornene Various resin materials such as a cyclic olefin resin such as a resin can be used. Note that the resin material may be a composite material in which materials having different compositions are combined.

また、このような硬化性樹脂材料は、熱や光等のエネルギーを付与することで硬化反応を生じる材料であるが、ポジ型材料であっても、ネガ型材料であってもよい。なお、以下の説明では、一例として、光を照射した領域にある硬化性樹脂材料に硬化反応が生じるネガ型材料を用いる場合について説明する。   In addition, such a curable resin material is a material that causes a curing reaction by applying energy such as heat and light, but may be a positive type material or a negative type material. In the following description, as an example, a case where a negative material that causes a curing reaction in a curable resin material in a region irradiated with light is used will be described.

硬化性樹脂層100は、硬化前の硬化性樹脂材料を下側クラッド部11上に塗布し、乾燥させることにより形成される。   The curable resin layer 100 is formed by applying a curable resin material before curing onto the lower clad portion 11 and drying it.

塗布方法は、特に限定されず、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法、インクジェット法等の方法が挙げられる。   The coating method is not particularly limited, and examples thereof include a doctor blade method, a spin coating method, a dipping method, a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, a die coating method, and an ink jet method.

また、このような方法で形成された液状被膜を乾燥させる方法も、特に限定されないが、例えば、液状被膜を加熱したり、減圧下に置いたり、あるいは乾燥ガスを吹き付けたりする方法が用いられる。   Also, the method for drying the liquid film formed by such a method is not particularly limited. For example, a method of heating the liquid film, placing it under reduced pressure, or spraying a dry gas is used.

[1−2] 次に、硬化性樹脂層100に対し、図2(b)に示すように、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する。これらの第1の溝210および第2の溝220は、所定の離間距離で並列するものであり、その延伸方向は互いに非平行であっても構わないが、好ましくは互いに平行とされる。   [1-2] Next, as illustrated in FIG. 2B, the first groove 210 and the second groove 220 that are linear in a plan view are formed in the curable resin layer 100. The first groove 210 and the second groove 220 are arranged in parallel at a predetermined separation distance, and the extending directions may be non-parallel to each other, but are preferably parallel to each other.

また、これらの第1の溝210および第2の溝220は、図2(b)に示すように、横断面形状が略V字状をなしている。その結果、第1の溝210および第2の溝220には、それぞれ硬化性樹脂層100を斜めに横切る傾斜面が2つずつ形成されることとなる。すなわち、第1の溝210には、図2(b)においてその最深部より左側と右側にそれぞれ傾斜面が形成される。本実施形態では、このうち、左側の傾斜面を「第1の傾斜面211」とする。同様に、第2の溝220には、図2(b)においてその最深部より左側と右側にそれぞれ傾斜面が形成されるが、本実施形態では、このうち、左側の傾斜面を「第2の傾斜面221」とする。これらの第1の傾斜面211および第2の傾斜面221は、その上に反射膜が形成されることによって、コア部の光路を変換するミラー(光路変換部)として機能する。このような第1の傾斜面211および第2の傾斜面221が形成された硬化性樹脂層100を「コア部形成層10」という。   Further, as shown in FIG. 2B, the first groove 210 and the second groove 220 have a substantially V-shaped cross section. As a result, each of the first groove 210 and the second groove 220 is formed with two inclined surfaces that obliquely cross the curable resin layer 100. That is, in the first groove 210, inclined surfaces are respectively formed on the left side and the right side from the deepest portion in FIG. In the present embodiment, among these, the left inclined surface is referred to as a “first inclined surface 211”. Similarly, in the second groove 220, inclined surfaces are formed on the left side and the right side of the deepest portion in FIG. 2B, respectively, but in this embodiment, the left inclined surface is referred to as “the second inclined surface”. The inclined surface 221 ". The first inclined surface 211 and the second inclined surface 221 function as mirrors (optical path conversion units) that convert the optical path of the core part by forming a reflective film thereon. The curable resin layer 100 on which the first inclined surface 211 and the second inclined surface 221 are formed is referred to as a “core portion forming layer 10”.

第1の溝210および第2の溝220の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、ダイシング法、インプリント法、レーザー加工法、電子線加工法等が挙げられる。   A method for forming the first groove 210 and the second groove 220 is not particularly limited, and examples thereof include a dicing method, an imprint method, a laser processing method, and an electron beam processing method.

また、第1の溝210および第2の溝220の最深部は、硬化性樹脂層100の途中で止まっていても、下側クラッド部11に到達していても、さらには下側クラッド部11を貫通していてもよい。   Moreover, even if the deepest part of the 1st groove | channel 210 and the 2nd groove | channel 220 stops in the middle of the curable resin layer 100, has reached the lower side cladding part 11, and also the lower side cladding part 11 May be penetrated.

また、溝の本数は、コア部13の本数や、反射膜14同士の間において必要とされる離間距離等に応じて適宜設定される。   Further, the number of grooves is appropriately set according to the number of core portions 13, the separation distance required between the reflective films 14, and the like.

なお、第1の溝210および第2の溝220の横断面形状は、図2に示す形状に限定されない。例えば、第1の傾斜面211や第2の傾斜面221の傾斜角度(下側クラッド部11の上面との角度)は、10〜85°程度の範囲から適宜選択されるが、好ましくは45°とされる。一方、最深部より右側の傾斜面については、傾斜角度が1〜179°の範囲から第1の傾斜面211および第2の傾斜面221との干渉を避けつつ適宜選択されるが、好ましくは30〜90°とされる。   In addition, the cross-sectional shape of the 1st groove | channel 210 and the 2nd groove | channel 220 is not limited to the shape shown in FIG. For example, the inclination angle of the first inclined surface 211 and the second inclined surface 221 (the angle with the upper surface of the lower cladding portion 11) is appropriately selected from the range of about 10 to 85 °, preferably 45 °. It is said. On the other hand, the inclined surface on the right side from the deepest part is appropriately selected from the range of an inclination angle of 1 to 179 ° while avoiding interference with the first inclined surface 211 and the second inclined surface 221, but preferably 30. ˜90 °.

[2]
図3(c)に示すコア部形成層10のうち、コア部(第1のコア部)131を形成しようとする領域を「第1の領域1310」とし、コア部(第2のコア部)132を形成しようとする領域を「第2の領域1320」とする。具体的には、第1の領域1310および第2の領域1320は、それぞれ、図3(c)の左右方向に延伸する、互いに平行な帯状の領域であり、このうち第1の領域1310は、第1の傾斜面211より左側に向かって延伸している。また、第2の領域1320は、第2の傾斜面221より左側に向かって延伸している。また、第1の領域1310および第2の領域1320は、図3(c)に示すように、平面視において第1の溝210および第2の溝220と交差するよう設定される。
[2]
In the core portion forming layer 10 shown in FIG. 3C, a region where the core portion (first core portion) 131 is to be formed is referred to as a “first region 1310”, and the core portion (second core portion). A region in which 132 is to be formed is referred to as a “second region 1320”. Specifically, each of the first region 1310 and the second region 1320 is a belt-like region extending in the left-right direction in FIG. 3C and parallel to each other. Among these, the first region 1310 is It extends toward the left side from the first inclined surface 211. Further, the second region 1320 extends from the second inclined surface 221 toward the left side. Further, as shown in FIG. 3C, the first region 1310 and the second region 1320 are set so as to intersect the first groove 210 and the second groove 220 in plan view.

これらの第1の領域1310および第2の領域1320に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、第1の領域1310および第2の領域1320が硬化する。一方、この硬化処理では、第2の領域1320と第1の溝210とが重なる部分については、光を照射しないようにする。これにより、この部分については、硬化性樹脂材料が硬化しない。なお、図3のうち、光の照射領域にはドットを付している。また、図3のうち、第1の領域1310および第2の領域1320は、二点鎖線で示している。   The first region 1310 and the second region 1320 are each irradiated with light. As a result, a curing reaction occurs in the curable resin material of the irradiated portion, and the first region 1310 and the second region 1320 are cured. On the other hand, in this curing process, the portion where the second region 1320 and the first groove 210 overlap is not irradiated with light. Thereby, about this part, curable resin material does not harden | cure. In FIG. 3, dots are attached to the light irradiation areas. In FIG. 3, the first region 1310 and the second region 1320 are indicated by two-dot chain lines.

照射する光の波長は、硬化性樹脂材料が有する感光性に応じて適宜選択されるが、例えば10〜1000nm程度とされる。また、照射するのは光に限定されず、電子線、イオン線、粒子線等であってもよい。   Although the wavelength of the light to irradiate is suitably selected according to the photosensitivity which curable resin material has, it is set as about 10-1000 nm, for example. Irradiation is not limited to light, and may be an electron beam, an ion beam, a particle beam, or the like.

一方、熱硬化性樹脂材料の場合、上記の光照射領域に対応する領域を選択的に加熱するようにすればよい。加熱方法としては、例えば、赤外線照射、ヒーター加熱等が挙げられる。   On the other hand, in the case of a thermosetting resin material, a region corresponding to the light irradiation region may be selectively heated. Examples of the heating method include infrared irradiation and heater heating.

なお、硬化性樹脂材料としてポジ型材料を用いる場合、上記の光照射領域や加熱領域は反転させるようにすればよい。   When a positive material is used as the curable resin material, the light irradiation region and the heating region may be reversed.

また、第1の領域1310および第2の領域1320は、平面視において第1の溝210および第2の溝220と交差していればよく、その交差角は特に限定されないが、好ましくは60〜120°程度とされ、より好ましくは略直角とされる。   Moreover, the 1st area | region 1310 and the 2nd area | region 1320 should just cross | intersect the 1st groove | channel 210 and the 2nd groove | channel 220 in planar view, Although the crossing angle is not specifically limited, Preferably 60- It is set to about 120 °, and more preferably substantially right angle.

[3]
次いで、コア部形成層10において、硬化させなかった硬化前の硬化性樹脂材料を除去する。これにより、硬化させた硬化性樹脂材料のみが残存し、図3(d)に示す第1のコア部131および第2のコア部132が形成される。そして、第1の傾斜面211と第1の領域1310との交差部分は、コア部131に設けられた傾斜面21となる。同様に、第2の傾斜面221と第2の領域1320との交差部分は、コア部132に設けられた傾斜面22となる。
[3]
Next, the curable resin material before curing that has not been cured in the core portion forming layer 10 is removed. Thereby, only the cured curable resin material remains, and the first core portion 131 and the second core portion 132 shown in FIG. 3D are formed. The intersection between the first inclined surface 211 and the first region 1310 becomes the inclined surface 21 provided in the core portion 131. Similarly, the intersection of the second inclined surface 221 and the second region 1320 becomes the inclined surface 22 provided in the core portion 132.

また、前述した硬化処理において硬化させなかった第2の領域1320と第1の傾斜面211とが重なる部分が除去されることにより、コア部131、132が途中で途切れることとなり、図1に示す途切れた箇所23、24が得られる。   Further, by removing a portion where the second region 1320 that has not been cured in the above-described curing process and the first inclined surface 211 are removed, the core portions 131 and 132 are interrupted in the middle, as shown in FIG. Discontinuous portions 23 and 24 are obtained.

なお、このようなプロセスによって途切れた箇所23、24が形成された結果、途切れた箇所23、24に臨むコア部131、132の端面231、241(図1参照)の傾斜角度(下側クラッド部11の上面との角度)は、ほぼ90°になる。これは、上記硬化処理において下側クラッド部11の上面に対して垂直な方向に沿って光が照射される(あるいは熱が付与される)ため、照射領域と非照射領域との界面は、自ずと、下側クラッド部11の上面に対して垂直になるからである。このような端面231、241では、コア部131、132を伝搬してきた光が通過するときの反射や散乱に伴う損失を最小限に抑えることができる。その結果、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。   In addition, as a result of forming the discontinuous portions 23 and 24 by such a process, the inclination angle (lower cladding portion) of the end surfaces 231 and 241 (see FIG. 1) of the core portions 131 and 132 facing the discontinuous portions 23 and 24 is formed. 11) is approximately 90 °. This is because light is irradiated (or heat is applied) along a direction perpendicular to the upper surface of the lower clad portion 11 in the above-described curing process, so that the interface between the irradiated region and the non-irradiated region is naturally This is because it is perpendicular to the upper surface of the lower clad portion 11. In such end faces 231 and 241, it is possible to minimize a loss due to reflection and scattering when light propagating through the core parts 131 and 132 passes. As a result, the optical waveguide 1 with a small transmission loss is obtained.

端面231、241の傾斜角度は、ほぼ90°であるのが最良であるが、好ましくは90±5°程度とされる。   The inclination angle of the end faces 231 and 241 is best approximately 90 °, but is preferably about 90 ± 5 °.

一方、後述するようにして、この途切れた箇所23、24が他の部材(上側クラッド部12等)で充填される場合、端面231、241での反射や散乱は大幅に抑えられることになるので、端面231、241の傾斜角度は上記範囲に限定されない。   On the other hand, as will be described later, when the interrupted portions 23 and 24 are filled with other members (the upper clad portion 12 and the like), reflection and scattering at the end surfaces 231 and 241 are greatly suppressed. The inclination angles of the end surfaces 231 and 241 are not limited to the above range.

硬化させなかった硬化性樹脂材料を除去するには、例えば、硬化性樹脂材料を溶解する処理液を用いる方法、各種ウェットエッチング法、各種ドライエッチング法等が挙げられる。このうち、簡便性や除去精度等の観点から、処理液を用いる方法が好ましく用いられる。このような処理液に接触することで、硬化させなかった硬化性樹脂材料が処理液に溶解し、処理液とともに除去されることとなる。一方、このような処理液は、硬化させた硬化性樹脂材料には作用しないので、これらのみを選択的に残存させることができる。
このような処理液としては、例えば、アルカリ現像液といった現像液が用いられる。
In order to remove the curable resin material that has not been cured, for example, a method using a treatment liquid for dissolving the curable resin material, various wet etching methods, various dry etching methods, and the like can be given. Among these, from the viewpoint of simplicity and removal accuracy, a method using a treatment liquid is preferably used. By contacting such a treatment liquid, the curable resin material that has not been cured is dissolved in the treatment liquid and removed together with the treatment liquid. On the other hand, since such a treatment liquid does not act on the cured curable resin material, only these can be selectively left.
As such a processing solution, for example, a developing solution such as an alkali developing solution is used.

コア部形成層10に対して処理液を接触させる方法としては、例えば、スプレー法、ディッピング法等が挙げられる。   Examples of the method for bringing the treatment liquid into contact with the core portion forming layer 10 include a spray method and a dipping method.

以上のようにして、傾斜面(ミラー)21、22を備えた第1のコア部131および第2のコア部132が形成される。このような第1のコア部131および第2のコア部132を備えた光導波路では、傾斜面21、22において光路が変換される。したがって、この時点でも光配線として機能するが、本実施形態では、以下の工程[4]、[5]をさらに行う。   As described above, the first core portion 131 and the second core portion 132 including the inclined surfaces (mirrors) 21 and 22 are formed. In the optical waveguide provided with the first core portion 131 and the second core portion 132, the optical path is converted at the inclined surfaces 21 and 22. Therefore, although it functions as an optical wiring at this point, the following steps [4] and [5] are further performed in this embodiment.

第1のコア部131および第2のコア部132の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、10〜70μm程度であるのがさらに好ましい。   The width and height of the first core part 131 and the second core part 132 are not particularly limited, but are preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 70 μm. More preferably, it is about.

また、第1のコア部131と第2のコア部132の間隔は、5〜250μm程度であるのが好ましく、10〜200μm程度であるのがより好ましく、10〜120μm程度であるのがさらに好ましい。   The distance between the first core portion 131 and the second core portion 132 is preferably about 5 to 250 μm, more preferably about 10 to 200 μm, and further preferably about 10 to 120 μm. .

[4]
次いで、形成した傾斜面21、22にそれぞれ反射膜14を成膜する(図4(e)参照)。
[4]
Next, the reflective film 14 is formed on each of the formed inclined surfaces 21 and 22 (see FIG. 4E).

反射膜14としては、例えば、金属膜、炭素膜、樹脂膜、セラミック膜、シリコン膜等が挙げられる。このうち、金属膜が好ましく用いられる。金属膜によれば、金属特有の光沢による反射率の高い反射膜14が得られる。金属膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、クロム、ニッケル、銅、亜鉛、銀、白金、金、鉛等が挙げられる。   Examples of the reflective film 14 include a metal film, a carbon film, a resin film, a ceramic film, and a silicon film. Among these, a metal film is preferably used. According to the metal film, it is possible to obtain the reflective film 14 having a high reflectance due to the gloss unique to the metal. Examples of the constituent material of the metal film include aluminum, iron, chromium, nickel, copper, zinc, silver, platinum, gold, lead and the like.

反射膜14の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜500μm程度であるのが好ましく、0.5〜300μm程度であるのがより好ましい。これにより、十分な反射率を有するとともに、剥がれ難い反射膜14が得られる。   The average thickness of the reflective film 14 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 500 μm, and more preferably about 0.5 to 300 μm. Thereby, the reflective film 14 having sufficient reflectivity and hardly peeled off is obtained.

反射膜14の成膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法のような物理蒸着法、CVD法のような化学蒸着法、めっき法、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法等が挙げられる。このうち、蒸着法では、マスクを介して蒸着することにより、傾斜面21、22に対して選択的に反射膜14を成膜することができる。また、熱転写法、金属箔転写法、印刷法、塗布法のような方法では、処理装置や部材を傾斜面21、22に接触させる必要があるが、本実施形態のように第1の溝210や第2の溝220があることによって、これらの処理装置や部材を傾斜面21、22に接触させ易い。このため、反射膜14の成膜を効率よく行うことができる。   Examples of the method for forming the reflective film 14 include a vacuum evaporation method, a physical vapor deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition method such as a CVD method, a plating method, a thermal transfer method, a metal foil transfer method, a printing method, and a coating method. Etc. Among these, in the vapor deposition method, the reflective film 14 can be selectively formed on the inclined surfaces 21 and 22 by vapor deposition through a mask. In addition, in a method such as a thermal transfer method, a metal foil transfer method, a printing method, or a coating method, it is necessary to bring the processing device or member into contact with the inclined surfaces 21 and 22, but the first groove 210 as in this embodiment. Further, the presence of the second groove 220 makes it easy to bring these processing devices and members into contact with the inclined surfaces 21 and 22. For this reason, the reflective film 14 can be formed efficiently.

[5]
次いで、硬化させた硬化性樹脂層を覆うように、すなわち第1のコア部131および第2のコア部132を覆うように、上側クラッド部12を成膜する。これにより、第1のコア部131および第2のコア部132は、それぞれ下面が下側クラッド部11で覆われ、両側面と上面が上側クラッド部12で覆われる。その結果、入出射面以外がクラッド部で囲われた状態となる。また、途切れた箇所23、24にも、上部クラッド部12が充填される。これにより、図4(f)に示す光導波路1が得られる。
[5]
Next, the upper cladding portion 12 is formed so as to cover the cured curable resin layer, that is, to cover the first core portion 131 and the second core portion 132. Thereby, the lower surface of the first core portion 131 and the second core portion 132 is covered with the lower cladding portion 11, and both side surfaces and the upper surface are covered with the upper cladding portion 12. As a result, other than the incident / exit surface is surrounded by the clad portion. Further, the upper clad portion 12 is also filled in the interrupted portions 23 and 24. Thereby, the optical waveguide 1 shown in FIG. 4F is obtained.

上側クラッド部12は、液状の原材料を塗布し、乾燥、硬化させることにより成膜される。この原材料としては、特に限定されないが、例えば、各種ポリマー、各種モノマー、各種重合開始剤、各種添加剤等を、必要に応じて溶媒で希釈してなるものが挙げられる。   The upper clad portion 12 is formed by applying a liquid raw material, drying and curing. Although it does not specifically limit as this raw material, For example, what dilutes various polymers, various monomers, various polymerization initiators, various additives, etc. with a solvent as needed is mentioned.

同様に、前述した下側クラッド部11についても上側クラッド部12と同様に形成することができる。   Similarly, the lower clad portion 11 described above can be formed in the same manner as the upper clad portion 12.

コア部13の屈折率は、下側クラッド部11および上側クラッド部12の屈折率より大きければよいが、その差は0.3%以上であるのが好ましく、0.5%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は特に設定されないが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率差が前記下限値未満の場合、光を伝搬する効果が低下するおそれがあり、一方、屈折率差が前記上限値を上回る場合、光の伝送効率のそれ以上の向上は期待できない。   Although the refractive index of the core part 13 should just be larger than the refractive index of the lower side cladding part 11 and the upper side cladding part 12, it is preferable that the difference is 0.3% or more, and it is 0.5% or more. More preferred. On the other hand, the upper limit value is not particularly set, but is preferably about 5.5%. If the difference in refractive index is less than the lower limit value, the effect of propagating light may be reduced. On the other hand, if the difference in refractive index exceeds the upper limit value, further improvement in light transmission efficiency cannot be expected.

なお、前記屈折率差とは、コア部13の屈折率をA、クラッド部の屈折率をBとしたとき、次式で表される。   The difference in refractive index is expressed by the following equation, where A is the refractive index of the core 13 and B is the refractive index of the cladding.

屈折率差(%)=|A/B−1|×100
以上のような方法によれば、隣り合うコア部131、132において、傾斜面21、22の位置をコア部の長手方向にずらした光導波路1を製造する際、コア部131、132をそれぞれ横切るように第1の溝210および第2の溝220を形成しさえすれば、コア部131、132に対してそれぞれ異なる位置に傾斜面21、22を加工する場合に比べて、加工の容易性が飛躍的に高まる。これにより、短時間で高精度の傾斜面21、22を形成することができる。その結果、他の光学部品に対して高い結合効率で接続し得る光導波路が得られる。
Refractive index difference (%) = | A / B-1 | × 100
According to the above method, when manufacturing the optical waveguide 1 in which the positions of the inclined surfaces 21 and 22 are shifted in the longitudinal direction of the core portion in the adjacent core portions 131 and 132, the core portions 131 and 132 are crossed respectively. As long as the first groove 210 and the second groove 220 are formed as described above, it is easier to process than when the inclined surfaces 21 and 22 are processed at different positions with respect to the core portions 131 and 132, respectively. Increase dramatically. Thereby, the highly accurate inclined surfaces 21 and 22 can be formed in a short time. As a result, an optical waveguide that can be connected to other optical components with high coupling efficiency is obtained.

また、第1の溝210および第2の溝220は、硬化処理前の硬化性樹脂層100を加工してなるものであるので、加工バラツキを抑えることができる。これにより、特に精度の高い加工を行うことができる。   Moreover, since the 1st groove | channel 210 and the 2nd groove | channel 220 are formed by processing the curable resin layer 100 before a hardening process, processing variation can be suppressed. Thereby, a highly accurate process can be performed.

このような効果は、光導波路1に設けられるコア部13の数が多ければ多いほど、顕著になる。   Such an effect becomes more remarkable as the number of core portions 13 provided in the optical waveguide 1 is larger.

図5は、本発明の光導波路の他の実施形態の製造途中の状態を示す平面図および平面図のA−A線に対応する断面図である。なお、図5では、コア部形成層の一部のみを図示しており、その他の部位については図示を省略している。   FIG. 5 is a plan view showing a state in the middle of manufacturing of another embodiment of the optical waveguide of the present invention and a cross-sectional view corresponding to line AA in the plan view. In FIG. 5, only a part of the core portion forming layer is illustrated, and the other portions are not illustrated.

図5に示すコア部形成層10は、これに形成されている溝の数およびこれに形成しようとするコア部の数がそれぞれ異なる以外、図3(c)に示すコア部形成層10と同様である。   The core portion forming layer 10 shown in FIG. 5 is the same as the core portion forming layer 10 shown in FIG. 3C except that the number of grooves formed in the core portion forming layer 10 and the number of core portions to be formed in the core portion forming layer 10 are different. It is.

図5に示すコア部形成層10には、平面視で線状をなす3本の溝230、240、250が形成されている。これらの溝230〜250は、所定の離間距離で並列しており、その延伸方向は互いに平行である。   In the core portion forming layer 10 shown in FIG. 5, three grooves 230, 240, and 250 that are linear in a plan view are formed. These grooves 230 to 250 are arranged in parallel at a predetermined separation distance, and the extending directions thereof are parallel to each other.

また、これらの溝230〜250の横断面形状は、上述した第1の溝210や第2の溝220と同様、図5に示すような略V字状とされる。   Moreover, the cross-sectional shape of these grooves 230 to 250 is substantially V-shaped as shown in FIG. 5 like the first groove 210 and the second groove 220 described above.

一方、コア部形成層10には、コア部を形成しようとする領域が6本設定されている。これらの領域1330、1340、1350、1360、1370、1380は、上述した第1の領域1310や第2の領域1320と同様、図5の左右方向に延伸しており、互いに平行とされる。これらの領域1330〜1380に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、領域1330〜1380が硬化する。一方、この硬化処理では、領域1340と溝230とが重なる部分については、光を照射しないようにする。これにより、この部分については、硬化性樹脂材料が硬化しない。同様に、領域1350と溝230、240とがそれぞれ重なる部分、領域1370と溝230とが重なる部分、および、領域1380と溝230、240とがそれぞれ重なる部分についても、光を照射しないようにする。これにより、この部分についても、硬化性樹脂材料が硬化しない。なお、図5のうち、光の照射領域にはドットを付している。   On the other hand, the core part forming layer 10 has six regions where the core part is to be formed. These regions 1330, 1340, 1350, 1360, 1370, and 1380 extend in the left-right direction in FIG. 5 and are parallel to each other, like the first region 1310 and the second region 1320 described above. These regions 1330 to 1380 are respectively irradiated with light. Thereby, hardening reaction arises in curable resin material of an irradiation part, and field 1330-1380 hardens. On the other hand, in this curing process, light is not irradiated to the portion where the region 1340 and the groove 230 overlap. Thereby, about this part, curable resin material does not harden | cure. Similarly, light is not applied to a portion where the region 1350 and the grooves 230 and 240 overlap, a portion where the region 1370 and the groove 230 overlap, and a portion where the region 1380 and the grooves 230 and 240 overlap each other. . Thereby, also about this part, curable resin material does not harden | cure. In FIG. 5, dots are attached to the light irradiation areas.

この硬化処理の後、上述した各工程を経ることにより、隣り合うコア部同士で傾斜面(反射膜)の位置が長手方向にずれている光導波路が得られる。このような光導波路を製造するには、従来、コア部ごとに凹部を加工する必要があり、加工作業に多くの手間を要していたのに対し、図5では、6本のコア部に傾斜面を形成するにあたって、3本の溝230〜250を形成し、その溝230〜250に合わせて露光領域を適宜設定することのみで、傾斜面の位置を長手方向にずらした光導波路を容易に製造することができる。   After this curing process, an optical waveguide in which the positions of the inclined surfaces (reflective films) are shifted in the longitudinal direction between the adjacent core portions is obtained through the above-described steps. In order to manufacture such an optical waveguide, it has been conventionally necessary to process the concave portion for each core portion, and much work is required for the processing operation, whereas in FIG. In forming the inclined surface, it is easy to form an optical waveguide in which the position of the inclined surface is shifted in the longitudinal direction only by forming three grooves 230 to 250 and appropriately setting the exposure region according to the grooves 230 to 250. Can be manufactured.

また、図5の場合、溝230〜250は、それぞれ2本のコア部に対して傾斜面を形成するのに寄与している。これら2つの傾斜面は、共通する1本の溝の壁面の一部からなるので、互いの位置精度が非常に高くなる。そして、溝230〜250の加工自体、凹部を形成する加工に比べて、加工精度を高め易いという利点もある。これらの観点から、本発明によれば、互いの位置精度、そして面精度の高い傾斜面を形成することができ、その結果、他の光学部品に対して高い結合効率で接続し得る光導波路が得られる。   In the case of FIG. 5, the grooves 230 to 250 contribute to the formation of inclined surfaces with respect to the two core portions, respectively. Since these two inclined surfaces consist of a part of the wall surface of one common groove | channel, a mutual positional accuracy becomes very high. And there is also an advantage that the processing accuracy of the grooves 230 to 250 can be easily improved as compared with the processing of forming the recesses. From these viewpoints, according to the present invention, it is possible to form inclined surfaces with high positional accuracy and high surface accuracy, and as a result, an optical waveguide that can be connected to other optical components with high coupling efficiency. can get.

≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide manufacturing method of the present invention will be described.

図6は、本発明の光導波路の製造方法の第2実施形態を説明するための平面図および各平面図のA−A線に対応する断面図である。   FIG. 6 is a plan view for explaining the second embodiment of the optical waveguide manufacturing method of the present invention and a cross-sectional view corresponding to the line AA of each plan view.

以下、第2実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。   Hereinafter, although 2nd Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.

第2実施形態は、硬化性樹脂層100に対して硬化処理を施す工程と、硬化性樹脂層100に対して第1の傾斜面211および第2の傾斜面221を形成する工程の順序が、第1実施形態に対して入れ替わっていること以外、第1実施形態と同様である。   In the second embodiment, the order of the step of performing a curing process on the curable resin layer 100 and the step of forming the first inclined surface 211 and the second inclined surface 221 on the curable resin layer 100 are as follows. It is the same as that of 1st Embodiment except having replaced with respect to 1st Embodiment.

まず、図6(a)に示す硬化性樹脂層100のうち、コア部(第1のコア部)131を形成しようとする領域を「第1の領域1310」とし、コア部(第2のコア部)132を形成しようとする領域を「第2の領域1320」とする。   First, in the curable resin layer 100 shown in FIG. 6A, a region where the core portion (first core portion) 131 is to be formed is referred to as a “first region 1310”, and the core portion (second core) is formed. Part) 132 is to be formed as a “second region 1320”.

これらの第1の領域1310および第2の領域1320に対し、それぞれ光を照射する。これにより、照射部の硬化性樹脂材料に硬化反応が生じ、第1の領域1310および第2の領域1320が硬化する。なお、この硬化処理では、第2の領域1320のうち、後述する第1の溝210と重なる部分については、光を照射しないようにする。なお、図6のうち、光の照射領域にはドットを付している。また、図6のうち、第1の領域1310および第2の領域1320は、二点鎖線で示している。   The first region 1310 and the second region 1320 are each irradiated with light. As a result, a curing reaction occurs in the curable resin material of the irradiated portion, and the first region 1310 and the second region 1320 are cured. In this curing process, the portion of the second region 1320 that overlaps the first groove 210 described later is not irradiated with light. In FIG. 6, dots are attached to the light irradiation areas. In FIG. 6, the first region 1310 and the second region 1320 are indicated by two-dot chain lines.

次に、図6(b)に示す硬化性樹脂層100に対し、平面視で線状をなす第1の溝210および第2の溝220を形成する。これにより、第1の溝210および第2の溝220には、それぞれ硬化性樹脂層100を斜めに横切る傾斜面が2つずつ形成されることとなる。その結果、第1の傾斜面211および第2の傾斜面221が形成される。このようにしてコア部形成層10が得られる。   Next, the 1st groove | channel 210 and the 2nd groove | channel 220 which make a linear shape by planar view are formed with respect to the curable resin layer 100 shown in FIG.6 (b). As a result, two inclined surfaces that obliquely cross the curable resin layer 100 are formed in each of the first groove 210 and the second groove 220. As a result, the first inclined surface 211 and the second inclined surface 221 are formed. In this way, the core portion forming layer 10 is obtained.

以後、第1実施形態と同様の工程を経て、光導波路1が得られる。
このような本実施形態においても、第1実施形態と同様の作用・効果が得られる。
Thereafter, the optical waveguide 1 is obtained through the same steps as in the first embodiment.
In this embodiment as well, the same operations and effects as in the first embodiment can be obtained.

<電子機器>
上述したような本発明の光導波路は、前述したように、ミラーを介した他の光学部品との結合効率が高いものであって、かつ製造が容易なものとなる。このため、本発明の光導波路を備えることにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
<Electronic equipment>
As described above, the optical waveguide of the present invention as described above has high coupling efficiency with other optical components via a mirror, and is easy to manufacture. For this reason, a highly reliable electronic device is obtained by providing the optical waveguide of the present invention.

本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、テレビ、ホーム・サーバー、パーソナルコンピューター、スーパーコンピューター等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。   Examples of the electronic device provided with the optical waveguide of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a television, a home server, a personal computer, and a supercomputer. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the optical waveguide of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electrical wiring are eliminated, and a dramatic improvement in performance can be expected.

さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。   In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.

以上、本発明の光導波路の製造方法および光導波路を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。   As mentioned above, although the manufacturing method and optical waveguide of the optical waveguide of this invention were demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to these.

1 光導波路
10 コア部形成層
100 硬化性樹脂層
11 下側クラッド部
12 上側クラッド部
13、131、132 コア部
1310 第1の領域
1320 第2の領域
1330〜1380 領域
14 反射膜
21、22 傾斜面
210 第1の溝
220 第2の溝
230〜250 溝
211 第1の傾斜面
221 第2の傾斜面
23、24 途切れた箇所
231、241 端面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 10 Core part formation layer 100 Curable resin layer 11 Lower clad part 12 Upper clad part 13,131,132 Core part 1310 1st area | region 1320 2nd area | region 1330-1380 area | region 14 Reflecting film 21,22 Inclination Surface 210 1st groove 220 2nd groove 230-250 Groove 211 1st inclined surface 221 2nd inclined surface 23, 24 The part 231,241 where it interrupted End surface

Claims (6)

並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層と、前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、平面視で線状をなす第1の傾斜面および第2の傾斜面と、を備えるコア部形成層を用意する工程と、
前記第1の傾斜面の一部分とそこから前記第1の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と、前記第2の傾斜面の一部分とそこから前記第2の傾斜面の長手方向と交差する方向に伸びる線状の領域であって前記第2のコア部を形成すべき第2の領域と、についてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域と前記第1の傾斜面とが重なる部分については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
The first core portion and the second core portion, which are linearly arranged in parallel, are provided in each of the core portions, respectively, and the positions thereof are mutually in the longitudinal direction between the first core portion and the second core portion. A method of manufacturing an optical waveguide having a mirror that is displaced,
A curable resin layer composed of a curable resin material before curing, and a first inclined surface and a second inclined surface which are provided so as to cross each of the curable resin layers obliquely and form a linear shape in plan view; Preparing a core part forming layer comprising:
A first region which is a linear region extending from a part of the first inclined surface and a direction intersecting with a longitudinal direction of the first inclined surface, and the first core portion is to be formed; About a part of the second inclined surface and a second region which is a linear region extending in a direction intersecting with the longitudinal direction of the second inclined surface and is to form the second core portion, The curable resin is cured so that the curable resin material before curing is cured, and the curable resin material before curing is not cured at a portion where the second region and the first inclined surface overlap each other. Applying a curing treatment to the layer;
And a step of removing the uncured curable resin material that has not been cured in the curable resin layer.
並列する線状をなす第1のコア部および第2のコア部と、前記各コア部にそれぞれ設けられ、その位置が前記第1のコア部と前記第2のコア部とで長手方向に互いにずれているミラーと、を有する光導波路を製造する方法であって、
硬化前の硬化性樹脂材料で構成された硬化性樹脂層を用意し、そのうち前記第1のコア部を形成すべき第1の領域と前記第2のコア部を形成すべき第2の領域とについてはそれぞれ前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させるとともに、前記第2の領域の途中の一部については前記硬化前の硬化性樹脂材料を硬化させないように、前記硬化性樹脂層に対して硬化処理を施す工程と、
前記硬化性樹脂層をそれぞれ斜めに横切るよう設けられ、前記第1の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす傾斜面であって前記第2の領域の前記途中の一部に対応する位置に設けられた第1の傾斜面と、前記第2の領域の長手方向と交差する方向に伸びる平面視で線状をなす第2の傾斜面と、を形成する工程と、
前記硬化性樹脂層のうち、硬化させなかった前記硬化前の硬化性樹脂材料を除去する工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
The first core portion and the second core portion, which are linearly arranged in parallel, are provided in each of the core portions, respectively, and the positions thereof are mutually in the longitudinal direction between the first core portion and the second core portion. A method of manufacturing an optical waveguide having a mirror that is displaced,
A curable resin layer composed of a curable resin material before curing is prepared, of which a first region where the first core part is to be formed and a second region where the second core part is to be formed; For the curable resin layer, the curable resin material before curing is cured, and the curable resin material before curing is not cured for a part of the second region. A step of applying a curing treatment;
An inclined surface provided obliquely across the curable resin layer and extending in a direction intersecting with the longitudinal direction of the first region in a plan view, and one of the intermediate portions of the second region. Forming a first inclined surface provided at a position corresponding to the portion, and a second inclined surface that is linear in a plan view extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the second region;
And a step of removing the uncured curable resin material that has not been cured in the curable resin layer.
前記光導波路は、前記各コア部の側面を覆うように設けられたクラッド部を有するものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記クラッド部を設ける工程を有する請求項1または2に記載の光導波路の製造方法。
The optical waveguide has a clad portion provided so as to cover a side surface of each core portion,
The method for manufacturing an optical waveguide according to claim 1, further comprising a step of providing the clad portion.
前記クラッド部は、前記第2のコア部が途切れた部分を充填するよう構成されている請求項3に記載の光導波路の製造方法。   The method of manufacturing an optical waveguide according to claim 3, wherein the cladding portion is configured to fill a portion where the second core portion is interrupted. 前記硬化性樹脂材料は、光硬化性を有するものであり、
前記硬化処理は、硬化させるべき領域またはその領域の反転領域に光を照射する処理である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
The curable resin material has photocurability,
5. The method of manufacturing an optical waveguide according to claim 1, wherein the curing process is a process of irradiating light to a region to be cured or an inverted region of the region.
前記ミラーは、前記各コア部を横切る面と、その上に成膜された反射膜と、を備えたものであり、
当該光導波路の製造方法は、さらに、前記反射膜を成膜する工程を有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
The mirror includes a surface that traverses each of the core parts, and a reflective film formed thereon.
6. The method for manufacturing an optical waveguide according to claim 1, further comprising a step of forming the reflective film.
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