JP5703922B2 - Optical waveguide, opto-electric hybrid board, and electronic equipment - Google Patents
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Description
本発明は、光導波路、光電気混載基板および電子機器に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, and an electronic device.
近年、情報化の波とともに、大容量の情報を高速で通信可能な広帯域回線(ブロードバンド)の普及が進んでいる。また、これらの広帯域回線に情報を伝送する装置として、ルーター装置、WDM(Wavelength Division Multiplexing)装置等の伝送装置が用いられている。これらの伝送装置内には、LSIのような演算素子、メモリーのような記憶素子等が組み合わされた信号処理基板が多数設置されており、各回線の相互接続を担っている。 In recent years, with the wave of computerization, wideband lines (broadband) capable of communicating a large amount of information at high speed have been spreading. Also, as devices for transmitting information to these broadband lines, transmission devices such as router devices and WDM (Wavelength Division Multiplexing) devices are used. In these transmission apparatuses, a large number of signal processing boards in which arithmetic elements such as LSIs and storage elements such as memories are combined are installed, and each line is interconnected.
各信号処理基板には、演算素子や記憶素子等が電気配線で接続された回路が構築されているが、近年、処理する情報量の増大に伴って、各基板では、極めて高いスループットで情報を伝送することが要求されている。しかしながら、情報伝送の高速化に伴い、クロストークや高周波ノイズの発生、電気信号の劣化等の問題が顕在化しつつある。このため、電気配線がボトルネックとなって、信号処理基板のスループットの向上が困難になっている。また、同様の課題は、スーパーコンピューターや大規模サーバー等でも顕在化しつつある。 Each signal processing board has a circuit in which arithmetic elements, storage elements, etc. are connected by electrical wiring. However, with the increase in the amount of information to be processed in recent years, each board has a very high throughput. It is required to transmit. However, with the speeding up of information transmission, problems such as generation of crosstalk and high frequency noise and deterioration of electric signals are becoming apparent. For this reason, electrical wiring becomes a bottleneck, making it difficult to improve the throughput of the signal processing board. Similar problems are also becoming apparent in supercomputers and large-scale servers.
一方、光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部とを有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。 On the other hand, an optical communication technique for transferring data using an optical carrier wave has been developed, and in recent years, an optical waveguide is becoming popular as a means for guiding the optical carrier wave from one point to another point. This optical waveguide has a linear core part and a clad part provided so as to cover the periphery thereof. The core part is made of a material that is substantially transparent to the light of the optical carrier wave, and the cladding part is made of a material having a refractive index lower than that of the core part.
光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に搬送される。光導波路の入射側には、半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側には、フォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。 In the optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is conveyed to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the flickering pattern of the received light or its intensity pattern.
このような光導波路により信号処理基板内の電気配線を置き換えられると、前述したような電気配線の問題が解消され、信号処理基板のさらなる高スループット化が可能になると期待されている。 If the electrical wiring in the signal processing board is replaced by such an optical waveguide, it is expected that the problem of the electrical wiring as described above will be solved and the signal processing board can be further increased in throughput.
ところで、電気配線を光導波路に置き換える際には、2つの光電変換素子を備え、その間を光導波路で接続してなる光導波路モジュールが用いられる。 By the way, when replacing the electrical wiring with an optical waveguide, an optical waveguide module that includes two photoelectric conversion elements and connects between them by an optical waveguide is used.
例えば、特許文献1には、アレイ型光導波路ユニットを2つ重ね、これに光電変換素子を光学的に接続してなる光路変換デバイスが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an optical path conversion device in which two array type optical waveguide units are stacked and a photoelectric conversion element is optically connected thereto.
各アレイ型光導波路ユニットには、それぞれ光導波路となる4本のコアが形成されており、2つのアレイ型光導波路ユニットの合計で8本のコアが配置されている。各アレイ型光導波路ユニットのうち、コアの長さ方向の両端には、光軸に対して45度の角度をなすミラーが形成されている。このミラーにより、コアの光軸が上方に90度変換されている。 Each array type optical waveguide unit is formed with four cores each serving as an optical waveguide, and a total of eight cores of two array type optical waveguide units are arranged. In each array-type optical waveguide unit, mirrors that form an angle of 45 degrees with respect to the optical axis are formed at both ends of the core in the longitudinal direction. By this mirror, the optical axis of the core is converted 90 degrees upward.
また、各アレイ型光導波路ユニットには、その上面に、4本のコアが形成されたアレイ型光結合用光導波路ユニットが配設されている。そして、アレイ型光導波路ユニットのコアの光軸と、アレイ型光結合用光導波路ユニットのコアの光軸とが、ミラー上で交わるように各ユニットが配置されている。 Each array type optical waveguide unit is provided with an array type optical coupling optical waveguide unit having four cores formed on the upper surface thereof. Each unit is arranged such that the optical axis of the core of the array type optical waveguide unit and the optical axis of the core of the array type optical coupling optical waveguide unit intersect on the mirror.
2つのアレイ型光導波路ユニットでは、ミラーの形成位置がコアの長さ方向に沿ってずれている。このため、全部で8本分のコアの光軸はマトリクス状に分布することとなる。これらの光軸は、ミラーやアレイ型光結合用光導波路ユニットを介して、1つのアレイ型光電変換素子ユニットの各素子面の中心に接続される。 In the two array type optical waveguide units, the mirror formation position is shifted along the length direction of the core. For this reason, the optical axes of the eight cores in total are distributed in a matrix. These optical axes are connected to the center of each element surface of one array type photoelectric conversion element unit via a mirror or an array type optical coupling optical waveguide unit.
ここで、アレイ型光電変換素子ユニットは、基板上に光電変換素子のチップをマトリクス状に実装してなるものである。したがって、各チップの中心と各アレイ型光導波路ユニットのコアの光軸とを一致させるためには、マトリクス状に実装されたチップの配置とミラーの形成位置とが、マイクロメートルの精度で高度に一致していなければならない。 Here, the array type photoelectric conversion element unit is formed by mounting photoelectric conversion element chips in a matrix on a substrate. Therefore, in order to make the center of each chip coincide with the optical axis of the core of each array type optical waveguide unit, the arrangement of the chips mounted in a matrix and the formation position of the mirror are highly accurate with micrometer accuracy. Must match.
上述したようにアレイ型光導波路ユニット同士を積層する場合、まず、90度V字型ダイヤモンドブレードを用いて各アレイ型光導波路ユニットにそれぞれミラーを形成し、その後、ミラーの位置が互いにずれるようにしてアレイ型光導波路ユニット同士を積層する。この際、ミラー同士の間隔をマイクロメートルの精度で制御しながら積層する必要がある。しかしながら、一旦積層されると微妙な位置合わせは困難になるため、積層作業の効率は極めて低くなり、高精度な位置合わせは困難である。このため、従来の積層型の光導波路では、ミラー間の位置ズレに伴い、光電変換素子との光結合効率の低下が避けられなかった。 As described above, when stacking arrayed optical waveguide units, first, a mirror is formed on each arrayed optical waveguide unit using a 90-degree V-shaped diamond blade, and then the mirror positions are shifted from each other. Then, the array type optical waveguide units are stacked. At this time, it is necessary to stack the mirrors while controlling the distance between the mirrors with micrometer accuracy. However, once laminated, subtle alignment becomes difficult, so the efficiency of the laminating operation is extremely low, and highly accurate alignment is difficult. For this reason, in the conventional laminated optical waveguide, it is inevitable that the optical coupling efficiency with the photoelectric conversion element is reduced due to the positional deviation between the mirrors.
本発明の目的は、受発光素子との光結合効率が高く、高密度化しても高品質の光通信が可能な光導波路、および、前記光導波路を備えた信頼性の高い光電気混載基板および電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical waveguide having high optical coupling efficiency with a light emitting / receiving element and capable of high-quality optical communication even when the density is increased, and a highly reliable opto-electric hybrid board including the optical waveguide, and To provide electronic equipment.
このような目的は、下記(1)〜(9)の本発明により達成される。
(1) クラッド層と、第1コア部と前記第1コア部に隣接する側面クラッド部とを備える第1のコア層と、クラッド層と、第2コア部と前記第2コア部に隣接する側面クラッド部とを備える第2のコア層と、クラッド層との少なくとも5層が、下方からこの順で積層されてなる積層体と、
前記積層体の上面に設けられた第1の接続点と、
前記第1コア部の光路である第1の光路上に設けられるとともに前記積層体の下面に開口し、前記第1のコア層の上面まで及ぶ第1の凹部と、
前記第1の凹部の内壁面の一部で構成され、光反射により前記第1の接続点と光学的に接続されるよう前記第1の光路を変換する第1の光反射面と、
前記積層体の上面に設けられた第2の接続点と、
前記第2コア部の光路である第2の光路上に設けられるとともに前記積層体の下面に開口し、前記第2のコア層の上面まで及ぶ第2の凹部と、
前記第2の凹部の内壁面の一部で構成され、光反射により前記第2の接続点と光学的に接続されるよう前記第2の光路を変換する第2の光反射面と、
前記第1の光路が前記第1の光反射面により変換されてなる第1の変換光路を挟むように、かつ、前記第2の光路を横切るように、前記第2コア部内の前記第2の光路の一端側と他端側とにそれぞれ設けられた、前記第2コア部より屈折率の低い低屈折率層と、
を有し、
前記積層体の上面を平面視したとき、前記第1コア部と前記第2コア部とが互いに重なっており、かつ、前記第2の光反射面と前記第1の光反射面とが前記第2の光路の延在方向において互いにずれるように前記第1の凹部および前記第2の凹部がそれぞれ配置されていることを特徴とする光導波路。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (9) below.
(1) A first core layer including a cladding layer, a first core portion, and a side cladding portion adjacent to the first core portion, a cladding layer, a second core portion, and the second core portion adjacent to each other. A laminate in which at least five layers of a second core layer including a side cladding portion and a cladding layer are laminated in this order from below;
A first connection point provided on the upper surface of the laminate;
Open to the lower surface of the provided Rutotomoni the laminate in the first optical path is an optical path of said first core portion, a first recess extending to the upper surface of said first core layer,
A first light reflecting surface that is configured by a part of the inner wall surface of the first recess and converts the first optical path so as to be optically connected to the first connection point by light reflection;
A second connection point provided on the upper surface of the laminate;
Open to the lower surface of the provided Rutotomoni the laminate to the second optical path is an optical path of the second core portion, and a second recess extending to the upper surface of the second core layer,
A second light reflecting surface configured by a part of the inner wall surface of the second recess and converting the second optical path so as to be optically connected to the second connection point by light reflection;
The second optical path in the second core unit is arranged so that the first optical path is sandwiched by the first optical path converted by the first light reflecting surface and across the second optical path. A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the second core part, provided on one end side and the other end side of the optical path;
Have
When the top surface of the laminate is viewed in plan, the first core portion and the second core portion overlap each other, and the second light reflection surface and the first light reflection surface are the first light reflection surface. optical waveguide, wherein the Oite to 2 in the extending direction of the optical path so as to be offset from each other first recess and said second recess is disposed, respectively.
(2) 前記第1の凹部は、前記第1の光路を含み、かつ前記積層体の上面に直交する面で切断されたとき、その切断面が略V字状をなしている上記(1)に記載の光導波路。 (2) Said 1st recessed part contains said 1st optical path, and when cut | disconnected by the surface orthogonal to the upper surface of the said laminated body, the cut surface has comprised substantially V shape said (1 ). the optical waveguide according to.
(3) 前記第2の凹部は、前記第2の光路を含み、かつ前記積層体の上面に直交する面で切断されたとき、その切断面が略V字状をなしている上記(1)に記載の光導波路。 (3) the second recess comprises a second optical path, and when said cut with the plane perpendicular to the top surface of the stack (1) above, the cut surface is a substantially V-shaped the optical waveguide according to.
(4) 前記第1の変換光路は、前記第2コア部内において前記第2の光路と交差している上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光導波路。 (4) before Symbol first converting the optical path, an optical waveguide according to any one of (1) which intersects with the second optical path within said second core portion (3).
(5)(5) 前記第1のコア層および前記第2のコア層は、それぞれ、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を形成することにより製造されている上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の光導波路。Said 1st core layer and said 2nd core layer are each manufactured by forming a refractive index difference between the irradiation area | region of an active radiation, and a non-irradiation area | region, (1) thru | or (4) The optical waveguide according to any one of the above.
(6)(6)
前記第1のコア層および前記第2のコア層は、互いに同一の露光プロセスにより形成されている上記(5)に記載の光導波路。The optical waveguide according to (5), wherein the first core layer and the second core layer are formed by the same exposure process.
(7) 前記積層体の上面を平面視したとき、前記第1の凹部は、前記第1コア部の長手方向の途中に設けられており、前記第2の凹部は、前記第2コア部の長手方向の途中に設けられている上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の光導波路。(7) When the top surface of the stacked body is viewed in plan, the first recess is provided in the middle of the first core portion in the longitudinal direction, and the second recess is formed on the second core portion. The optical waveguide according to any one of (1) to (6), provided in the middle of the longitudinal direction.
(8) 上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。
(9) 上記(8)に記載の光電気混載基板を備えることを特徴とする電子機器。
(8) An opto-electric hybrid board comprising the optical waveguide according to any one of (1) to (7).
(9) An electronic apparatus comprising the opto-electric hybrid board according to (8).
本発明によれば、複数のミラーを備えた積層型の光導波路において、ミラー間の位置関係が高度に制御されているため、複数の受光部または複数の発光部を有する受発光素子との光結合効率が高く、高密度化しても高品質の光通信が可能な光導波路が得られる。 According to the present invention, in a laminated optical waveguide having a plurality of mirrors, the positional relationship between the mirrors is highly controlled, so that light with a plurality of light receiving parts or light receiving and emitting elements having a plurality of light emitting parts is obtained. An optical waveguide having high coupling efficiency and capable of high-quality optical communication even when the density is increased can be obtained.
また、本発明によれば、このような光導波路を備えることにより、光通信のS/N比を高めることができるので、信頼性の高い光電気混載基板および電子機器が得られる。 Further, according to the present invention, by providing such an optical waveguide, the S / N ratio of optical communication can be increased, and thus a highly reliable opto-electric hybrid board and electronic device can be obtained.
以下、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, the optical waveguide, the opto-electric hybrid board and the electronic apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<光導波路および光導波路モジュール>
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の第1実施形態およびこれを含む光導波路モジュール(本発明の光電気混載基板)について説明する。
<Optical waveguide and optical waveguide module>
<< First Embodiment >>
First, the first embodiment of the optical waveguide of the present invention and the optical waveguide module (the opto-electric hybrid board of the present invention) including the same will be described.
図1は、本発明の光導波路の第1実施形態およびこれを含む光導波路モジュールを示す(一部透過して示す)分解斜視図、図2は、図1のY−Y線断面図、図3、4は、それぞれ図2の部分拡大図である。なお、以下の説明では、図1〜4の上側を「上」、下側を「下」という。また、図2〜4では、図が煩雑になるのを避けるため、支持フィルムおよびカバーフィルムの図示を省略している。また、各図では、光導波路の上下方向を強調して描いている。 FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an optical waveguide of the present invention and an optical waveguide module including the optical waveguide, and FIG. 2 is a sectional view taken along line YY of FIG. 3 and 4 are partially enlarged views of FIG. In the following description, the upper side of FIGS. 1 to 4 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”. Moreover, in FIGS. 2-4, in order to avoid that a figure becomes complicated, illustration of a support film and a cover film is abbreviate | omitted. In each figure, the vertical direction of the optical waveguide is emphasized.
図1に示す光導波路1は、一方の端部から他方の端部に信号光を伝送する光配線として機能するものであり、ここでは、一例として図1に示す光入射端部1Aから信号光を入射し、光出射端部1Bから信号光を出射する場合について説明する。
An optical waveguide 1 shown in FIG. 1 functions as an optical wiring that transmits signal light from one end to the other end. Here, as an example, signal light from the
図1に示す光導波路1は、下側からクラッド層111、コア層(第1のコア層)131、クラッド層112、コア層(第2のコア層)132、およびクラッド層113をこの順で積層してなる積層体12を有しており、細長い帯状をなしている。
The optical waveguide 1 shown in FIG. 1 includes a
コア層131、132中には、図1、2に示すように、それぞれ、光入射端部1Aから光出射端部1Bにかけて並列して延在する2つのコア部14が形成されており、光導波路1全体には4つのコア部14が形成されている。コア層131、132のうち、コア部14以外の部分は側面クラッド部15である。なお、一部の図に示す各コア部14にはドットを付している。
As shown in FIGS. 1 and 2, two
このような光導波路1のうち、コア層131の光入射端部1Aにはミラー(第1の光反射面)1612が、光出射端部1Bにはミラー(第1の光反射面)1614が、それぞれコア部14ごとに設けられている。また、コア層132の光入射端部1Aにはミラー(第2の光反射面)1611が、光出射端部1Bにはミラー(第2の光反射面)1613が、それぞれコア部14ごとに設けられている。
In such an optical waveguide 1, a mirror (first light reflecting surface) 1612 is provided at the light incident end 1 </ b> A of the
これらのミラー1611、1612、1613、1614は、図2の左右方向に延在するコア部14の光路を、光導波路1の外部へと変換するものである。
These
具体的には、図2に示すミラー1612は、光入射端部1Aにおいてコア層131のコア部14の光路(第1の光路)が発光素子72の発光部721と光学的に接続されるよう、光路を上方に90°変換する。ここでは、変換後の光路、すなわち、発光部721とミラー1612との間の光路を、第1の変換光路とする。また、図2に示すミラー1614は、光出射端部1Bにおいてコア層131のコア部14の光路(第1の光路)が受光素子74の受光部741と光学的に接続されるよう、光路を上方に90°変換する。ここでは、変換後の光路、すなわち、ミラー1614と受光部741との間の光路を、第1の変換光路とする。
Specifically, the
一方、図2に示すミラー1611は、光入射端部1Aにおいてコア層132のコア部14の光路(第2の光路)が発光素子71の発光部711と光学的に接続されるよう、光路を上方に90°変換する。ここでは、変換後の光路、すなわち、発光部711とミラー1611との間の光路を、第2の変換光路とする。また、図2に示すミラー1613は、光出射端部1Bにおいてコア層132のコア部14の光路(第2の光路)が受光素子73の受光部731と光学的に接続されるよう、光路を上方に90°変換する。ここでは、変換後の光路、すなわち、ミラー1613と受光部731との間の光路を、第2の変換光路とする。
On the other hand, the
このようなミラー1611、1612、1613、1614を介することにより、発光素子71、72から出射した信号光を光導波路1のコア部14に入射させ、また、コア部14を伝搬してきた信号光を受光素子73、74に入射させることができる。その結果、発光素子71、72と受光素子73、74との間で光通信が可能になる。
Through
以下、光導波路1および光導波路モジュール10の各部について詳述する。
(コア層)
コア層131、132には、前述したように、それぞれ2つのコア部14と側面クラッド部15とが形成されている。
Hereinafter, each part of the optical waveguide 1 and the
(Core layer)
As described above, the core layers 131 and 132 are each formed with the two
図2に示す光導波路1では、例えばミラー1611を介して入射された信号光を、コア部14とクラッド部(各クラッド層112、113および各側面クラッド部15)との界面で全反射させ、他方の端部に伝搬させることができる。
In the optical waveguide 1 shown in FIG. 2, for example, the signal light incident through the
コア部14とクラッド部との界面で全反射を生じさせるためには、界面に屈折率差が存在する必要がある。コア部14の屈折率は、クラッド部の屈折率より大きければよく、その差は特に限定されないものの、クラッド部の屈折率の0.5%以上であるのが好ましく、0.8%以上であるのがより好ましい。一方、上限値は、特に設定されなくてもよいが、好ましくは5.5%程度とされる。屈折率の差が前記下限値未満であると光を伝達する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えても、光の伝送効率のそれ以上の増大は期待できない。
In order to cause total reflection at the interface between the
なお、前記屈折率差とは、コア部14の屈折率をA、クラッド部の屈折率をBとしたとき、次式で表わされる。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
The difference in refractive index is expressed by the following equation, where A is the refractive index of the
Refractive index difference (%) = | A / B-1 | × 100
また、図1に示す構成では、コア部14は平面視で直線状に形成されているが、途中で湾曲、分岐等していてもよく、その形状は任意である。
Moreover, in the structure shown in FIG. 1, although the
また、コア部14の横断面形状は、正方形または矩形(長方形)のような四角形であるのが一般的であるが、特に限定されず、真円、楕円のような円形、菱形、三角形、五角形のような多角形であってもよい。
The cross-sectional shape of the
コア部14の幅および高さは、特に限定されないが、それぞれ、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、20〜70μm程度であるのがさらに好ましい。
The width and height of the
コア層131、132の構成材料(主材料)としては、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等が挙げられる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよく、未重合のモノマーを含んでいてもよい。コア層131、132では、主材料は同一であるものの、材料の分子構造、添加物の濃度等が相違することにより、コア部14と側面クラッド部15との間の屈折率差が発現していてもよい。
The constituent materials (main materials) of the core layers 131 and 132 include acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate, polystyrene, epoxy resin, polyamide, polyimide, polybenzoxazole, polysilane, polysilazane, silicone resin, fluorine resin, In addition to various resin materials such as cyclic olefin resins such as polyurethane, benzocyclobutene resin and norbornene resin, glass materials such as quartz glass and borosilicate glass can be used. The resin material may be a composite material obtained by combining materials having different compositions, and may contain an unpolymerized monomer. In the core layers 131 and 132, although the main material is the same, a difference in refractive index between the
また、これらの中でも特にノルボルネン系樹脂が好ましい。ノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合(ROMP)、ROMPと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤(例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤)を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。 Of these, norbornene resins are particularly preferable. Norbornene-based resins include, for example, ring-opening metathesis polymerization (ROMP), combination of ROMP and hydrogenation reaction, polymerization by radical or cation, polymerization using a cationic palladium polymerization initiator, and other polymerization initiators (for example, It can be obtained by all known polymerization methods such as polymerization using nickel or other transition metal polymerization initiators).
(クラッド層)
クラッド層111、112、113は、コア層131、132の上部および下部に位置している。
(Clad layer)
The
クラッド層111、112、113の平均厚さは、コア層131、132の平均厚さ(各コア部14の平均高さ)の0.1〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.2〜1.25倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層111、112、113の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に大型化(厚膜化)するのを防止しつつ、クラッド層としての機能が好適に発揮される。
The average thickness of the
また、各クラッド層111、112、113の構成材料としては、例えば、前述したコア層131、132の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特にノルボルネン系樹脂が好ましい。 Moreover, as a constituent material of each cladding layer 111,112,113, the material similar to the constituent material of the core layers 131 and 132 mentioned above can be used, for example, but norbornene-type resin is especially preferable.
また、コア層131、132の構成材料およびクラッド層111、112、113の構成材料を選択する場合、両者の間の屈折率差を考慮して材料を選択すればよい。具体的には、コア層131とクラッド層111、112との境界において光を確実に全反射させるため、コア層131の構成材料の屈折率がクラッド層111、112の屈折率に比べ十分に大きくなるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路1の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、コア部14からクラッド層111、112に光が漏れ出るのを抑制することができる。
Moreover, when selecting the constituent material of the core layers 131 and 132 and the constituent material of the
なお、光の減衰を抑制する観点からは、コア層131の構成材料とクラッド層111、112の構成材料との密着性(親和性)が高いことも重要である。
From the viewpoint of suppressing light attenuation, it is also important that the adhesiveness (affinity) between the constituent material of the
(支持フィルム)
光導波路1の下面には、必要に応じて、図1に示すような支持フィルム2を積層するようにしてもよい。
(Support film)
A support film 2 as shown in FIG. 1 may be laminated on the lower surface of the optical waveguide 1 as necessary.
支持フィルム2は、光導波路1の下面を支持して、保護・補強する。これにより、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。 The support film 2 supports the lower surface of the optical waveguide 1 to protect and reinforce it. Thereby, the reliability and mechanical characteristics of the optical waveguide 1 can be improved.
このような支持フィルム2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、支持フィルム2として金属箔が用いられる。 Examples of the constituent material of the support film 2 include various resin materials such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin such as polyethylene and polypropylene, polyimide and polyamide, and metal materials such as copper, aluminum and silver. It is done. In the case of a metal material, a metal foil is used as the support film 2.
また、支持フィルム2の平均厚さは、特に限定されないが、5〜200μm程度であるのが好ましく、10〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、支持フィルム2は、適度な剛性を有するものとなるため、光導波路1を確実に支持するとともに、光導波路1の柔軟性を阻害し難くなる。 Moreover, although the average thickness of the support film 2 is not specifically limited, It is preferable that it is about 5-200 micrometers, and it is more preferable that it is about 10-100 micrometers. Thereby, since the support film 2 has moderate rigidity, while supporting the optical waveguide 1 reliably, it becomes difficult to inhibit the softness | flexibility of the optical waveguide 1. FIG.
なお、支持フィルム2と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。 The support film 2 and the optical waveguide 1 are bonded or bonded, and examples of the method include thermocompression bonding, bonding with an adhesive or a pressure sensitive adhesive, and the like.
このうち、接着層としては、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤の他、各種ホットメルト接着剤(ポリエステル系、変性オレフィン系)等が挙げられる。また、特に耐熱性の高いものとして、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミド、ポリイミドエーテル等の熱可塑性ポリイミド接着剤が好ましく用いられる。このような材料で構成された接着層は、比較的柔軟性に富んでいるため、光導波路1の形状が変化したとしても、その変化に自在に追従することができる。その結果、形状変化に伴う剥離を確実に防止し得るものとなる。 Among these, as an adhesive layer, various hot-melt-adhesives (polyester type | system | group, modified olefin type | system | group) etc. are mentioned other than an acrylic adhesive, a urethane type adhesive agent, a silicone type adhesive agent, for example. Moreover, as a thing with especially high heat resistance, thermoplastic polyimide adhesive agents, such as a polyimide, a polyimide amide, a polyimide amide ether, a polyester imide, a polyimide ether, are used preferably. Since the adhesive layer made of such a material is relatively flexible, even if the shape of the optical waveguide 1 changes, the change can be freely followed. As a result, it is possible to reliably prevent peeling due to the shape change.
このような接着層の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100μm程度であるのが好ましく、5〜60μm程度であるのがより好ましい。 The average thickness of such an adhesive layer is not particularly limited, but is preferably about 1 to 100 μm, and more preferably about 5 to 60 μm.
(カバーフィルム)
一方、光導波路1の上面には、必要に応じて、図1に示すようなカバーフィルム3を積層するようにしてもよい。
(Cover film)
On the other hand, you may make it laminate | stack the
カバーフィルム3は、光導波路1を保護するとともに、光導波路1を上方から支持するものである。これにより、汚れや傷などから光導波路1が保護され、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。
The
このようなカバーフィルム3の構成材料としては、支持フィルム2の構成材料と同様であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、カバーフィルム3として金属箔が用いられる。また、カバーフィルム3を貫通するように光路が設定された場合、カバーフィルム3の構成材料は実質的に透明であるのが好ましい。
As a constituent material of such a
また、カバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、3〜50μm程度であるのが好ましく、5〜30μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム3の厚さを前記範囲内とすることにより、カバーフィルム3は光通信において十分な光透過率を有するとともに、光導波路1を確実に保護するために十分な剛性を有するものとなる。
Moreover, although the average thickness of the
なお、カバーフィルム3と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着剤としては前述したようなものを用いることができる。
Note that the
(ミラー)
図2に示すミラー(光反射面)1611、1612、1613、1614は、それぞれ光導波路1に掘り込み加工を施し、これにより得られた凹部(空間)1601、1602、1603、1604の内壁面の一部で構成される。この内壁面の一部には、コア部14を光路に対して斜め45°に横切るよう形成された平面が含まれており、この平面がミラー1611、1612、1613、1614となる。
(mirror)
Mirrors (light reflecting surfaces) 1611, 1612, 1613, and 1614 shown in FIG. 2 are formed by digging into the optical waveguide 1, and the inner wall surfaces of the recesses (spaces) 1601, 1602, 1603, and 1604 obtained thereby. Consists of part. A part of the inner wall surface includes a plane formed so as to cross the
図2に示す凹部1602、1604は、それぞれクラッド層111およびコア層131にわたって形成されている。すなわち、凹部1602、1604は、それぞれ積層体12の下面からコア層(第1のコア層)131の上面まで及んでいる。また、図2に示す凹部1601、1603は、クラッド層111、コア層131、クラッド層112およびコア層132にわたって形成されている。すなわち、凹部1601、1603は、それぞれ積層体12の下面からコア層(第2のコア層)131の上面まで及んでいる。このような凹部1601、1602、1603、1604は、それぞれ積層体12に対して掘り込み加工を施すことにより形成される。そして、凹部1602、1604の内壁面のうち、コア部14の露出面がミラー1612、1614になっている。同様に、凹部1601、1603の内壁面のうち、コア部14の露出面がミラー1611、1613になっている。
なお、図2では省略されているが、凹部1601、1603はクラッド層113にまで及んでいてもよく、凹部1602、1604はクラッド層112にまで及んでいてもよい。さらに、図2では省略されているが、凹部1601、1603はカバーフィルム3にまで及んでいてもよく、凹部1601、1602、1603、1604は支持フィルム2から形成されていてもよい。
Although omitted in FIG. 2, the
図2に示す光導波路1では、このように、ミラーを形成すべきコア層とそれより下側の層とを含めて形成された凹部を有しているので、各層を積層して積層体12を形成した後、この積層体12に対してまとめて掘り込み加工を施すことで全てのミラーを形成することが可能な構造になっている。したがって、図2に示す光導波路1の構造は、掘り込み加工の際に、1つのコア部14の位置に基づいて加工の基準位置を一度決めれば、その後、全てのミラーを形成し終わるまでその基準位置を利用することができるので、ミラー間の位置ズレを最小限に抑えることが可能な構造であるといえる。
Since the optical waveguide 1 shown in FIG. 2 has the concave portion formed including the core layer in which the mirror is to be formed and the layer below the core layer, the
これに対し、従来の光導波路では、各コア層のそれぞれに、そのコア層のみを掘り込む加工または端部を切断する加工を施すことでミラーを形成していたが、ミラーを形成した後、ミラー間の位置合わせをしつつ各層を積層しなければならず、ミラー間の位置ズレが生じ易いという点で不利である。 On the other hand, in the conventional optical waveguide, each of the core layers was formed with a mirror by digging only the core layer or by cutting the end, but after forming the mirror, Each layer must be laminated while aligning the mirrors, which is disadvantageous in that misalignment between the mirrors is likely to occur.
図2に示す光導波路1は、積層体12を形成した後、全てのミラーを一回の加工プロセスで形成することができるので、ミラー間の位置精度が高いものとなり、1つの素子中に複数の発光部や受光部を備える受発光素子に対して、高い精度で位置合わせをすることができる構造である。よって、光導波路1は、高い効率で結合させ得るものとなる。
In the optical waveguide 1 shown in FIG. 2, since all the mirrors can be formed by one processing process after the
なお、ミラー1611、1612、1613、1614には、必要に応じて反射膜を成膜するようにしてもよい。この反射膜としては、Au、Ag、Al等の金属膜が好ましく用いられる。
また、凹部の形状は、ミラーを含む形状であれば、特に限定されない。
In addition, you may make it form a reflecting film in the
The shape of the recess is not particularly limited as long as it includes a mirror.
図2に示す凹部1602、1604は、それぞれコア層131のコア部14の光路(第1の光路)を含み、かつ積層体12の上面に直交する面で切断されたとき、その切断面が略V字状になっている。同様に、図2に示す凹部1601、1603は、それぞれコア層132のコア部14の光路(第2の光路)を含み、かつ積層体12の上面に直交する面で切断されたとき、その切断面が略V字状になっている。
The
このような形状の凹部は、外光や迷光がミラーに入射し難いため、光結合効率の高いミラーを形成し得るものとなる。また、左右対称の形状であるため、凹部を形成したとしても積層体12の剛性が不均一になり難い。このため、光導波路1を湾曲させた場合でも、凹部の形成によって曲率が不均一になるのを防止することができ、湾曲に伴う伝送効率の低下を防止することができる。
The concave portion having such a shape makes it possible to form a mirror with high optical coupling efficiency because it is difficult for external light and stray light to enter the mirror. Moreover, since it is a left-right symmetric shape, even if it forms a recessed part, the rigidity of the
略V字状とは、図2に示すような2つの斜辺の長さが等しい台形や、二等辺三角形等の形状を含む。なお、凹部の断面形状は、これらの形状に限定されず、例えば2つの斜辺のうちミラーが形成されていない辺は、第1の光路や第2の光路に対して垂直であってもよく、このような形状も略V字状に含む。 The substantially V shape includes a trapezoid in which the lengths of the two oblique sides are equal as shown in FIG. 2 and a shape such as an isosceles triangle. The cross-sectional shape of the recess is not limited to these shapes, and for example, the side of the two oblique sides where the mirror is not formed may be perpendicular to the first optical path or the second optical path. Such a shape is also included in a substantially V shape.
また、凹部の幅は、コア部14より広ければ特に限定されないが、図5に示すように、コア部14より幅広いのが好ましい。
Further, the width of the concave portion is not particularly limited as long as it is wider than the
また、図2では、光導波路1の途中に凹部を設けているが、光導波路1の端部に設けるようにしてもよい。この場合、凹部ではなく、光導波路1の角部を欠損させた欠損部にミラーが形成される。なお、光導波路1の途中に凹部を設けることにより、ミラーは凹部の内側に露出することとなり、外光の侵入を防止し易いため、安定性に優れる。 In FIG. 2, the recess is provided in the middle of the optical waveguide 1, but it may be provided at the end of the optical waveguide 1. In this case, the mirror is formed not in the recess but in the missing part where the corner of the optical waveguide 1 is missing. By providing a recess in the middle of the optical waveguide 1, the mirror is exposed to the inside of the recess and it is easy to prevent the intrusion of external light, so that the stability is excellent.
(発光素子および受光素子)
図2に示す発光素子71、72は、素子本体710、720と、その下面に設けられた発光部711、721と電極712、722とを有している。このような発光素子71、72の具体例としては、面発光レーザー(VCSEL)のような半導体レーザーや、発光ダイオード(LED)等が挙げられる。
(Light emitting element and light receiving element)
The
一方、図2に示す受光素子73、74は、素子本体730、740と、その下面に設けられた受光部731、741と電極732、742とを有している。このような受光素子73、74の具体例としては、フォトダイオード等が挙げられる。
On the other hand, the
なお、発光素子71、72や受光素子73、74としては、例えば、BGA(Ball Grid Array)タイプやLGA(Land Grid Array)タイプ等のパッケージ仕様の素子が用いられる。図2には、一例として表面実装型の素子を示している。
In addition, as the
また、光導波路1の上面には、電気配線77が設けられている。そして、発光素子71、72および受光素子73、74は、各種ハンダ、各種ろう材等からなるバンプ78により電気配線77に対して電気的かつ機械的に接続されている。
An
なお、光導波路1と発光素子71、72との隙間、および、光導波路1と受光素子73、74との隙間には、それぞれアンダーフィル(封止材)79が充填されている。これにより、発光素子71、72から出射した信号光が光導波路1に入射する際の入射効率や、光導波路1から出射した信号光が受光素子73、74に入射する際の入射効率を、それぞれ高めることができる。それとともに、振動、外力、異物付着等から発光素子71、72や受光素子73、74を保護することができる。
An underfill (sealing material) 79 is filled in the gap between the optical waveguide 1 and the
アンダーフィル79の構成材料は、透明な材料であれば特に限定されないが、例えば、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
The constituent material of the
また、図2では、光導波路1の上に発光素子71、72や受光素子73、74を載置するよう図示しているが、前述したように、光導波路1と各素子との間には、カバーフィルム3が介挿されていてもよい。
Further, in FIG. 2, the
(低屈折率層)
光導波路1は、前述したように、コア層131、132とクラッド層111、112、113とが交互に積層されてなる積層体12を有している。
(Low refractive index layer)
As described above, the optical waveguide 1 includes the
前述したように、コア層131のコア部14の光路が第1の光路であり、この第1の光路がミラー1612、1614により図2の上下方向に変換された光路が第1の変換光路である。
As described above, the optical path of the
同様に、コア層132のコア部14の光路が第2の光路であり、この第2の光路がミラー1611、1613により図2の上下方向に変換された光路が第2の変換光路である。
Similarly, the optical path of the
そして、これらの第1の変換光路および第2の変換光路が積層体12の上面と交わる点をそれぞれ接続点121とする。
A point where these first conversion optical path and second conversion optical path intersect with the upper surface of the laminate 12 is defined as a
ここで、ミラー1612と接続点121とを通過する第1の変換光路は、コア層132に形成されたコア部14中で第2の光路と交差することとなる。同様に、ミラー1614と接続点121と通過する第1の変換光路は、コア層132に形成されたコア部14中で第2の光路と交差する。
Here, the first conversion optical path that passes through the
コア部内で2つの光路が交差する場合、従来では、交差点において信号光の交錯や損失が生じ、光通信の混信やS/N比の低下といった不具合を招いていた。このため、できるだけ交差しないように光路を配置する必要があり、光導波路の配設パターンに制約があった。しかしながら、複数のコア層が積層された光導波路では、光路を交差させることが避けられないこともあり、高密度化の妨げとなっていた。 Conventionally, when two optical paths intersect in the core portion, signal light is mixed or lost at the intersection, leading to problems such as optical communication interference and a decrease in S / N ratio. For this reason, it is necessary to arrange the optical paths so as not to intersect as much as possible, and there is a restriction on the arrangement pattern of the optical waveguides. However, in an optical waveguide in which a plurality of core layers are laminated, it is inevitable that the optical paths are crossed, which hinders higher density.
これに対し、図2に示す光導波路1では、第2の光路を横切るように、かつ、第1の変換光路に沿って延在するように低屈折率層145が配置されている。図2では、例えば発光素子72の発光部721とミラー1612とをつなぐ第1の変換光路に沿って、コア層132のコア部14の第2の光路を横切るように2つの低屈折率層145が配置されている。また、例えばミラー1614と受光素子74の受光部741とをつなぐ第1の変換光路に沿って、コア層132のコア部14の第2の光路を横切るように3つの低屈折率層145が配置されている。
On the other hand, in the optical waveguide 1 shown in FIG. 2, the low
これらの低屈折率層145は、前述したように、第1の変換光路と第2の光路との交差における信号光の交錯や損失を抑制する作用をもたらす。以下、この作用を図3、4に基づいて説明する。 As described above, these low refractive index layers 145 have an effect of suppressing the crossing and loss of signal light at the intersection of the first conversion optical path and the second optical path. Hereinafter, this operation will be described with reference to FIGS.
図3は、図2のうち、ミラー1612周辺の部分拡大図である。図3に示す矢印L1、L2、L3は、発光素子72の発光部721から出射した信号光の光跡の一例である。
FIG. 3 is a partially enlarged view of the vicinity of the
光跡L1のようにミラー1612の端部より外側に向かって発光部721から出射された信号光は、従来であればミラー1612に入射することなく損失となっていたが、低屈折率層1451(145)を設けたことにより、この信号光は図3に示すコア層132のコア部14と低屈折率層1451との界面で反射され、ミラー1612に入射し得るよう、その進路が変更される。同様に、光跡L2のように出射された信号光は、コア層132のコア部14と低屈折率層1452(145)との界面で反射され、ミラー1612に入射し得るよう、その進路が変更される。その結果、この信号光は、図3に光跡L1、L2で示すように、ミラー1612で反射され、コア部14の延在方向(図3の右側)に向かって伝搬することとなり、損失光を信号光とすることができる。
The signal light emitted from the
また、図3に示す低屈折率層145のうちの一部(低屈折率層1451)は、コア層132中のみでなく、コア層131中にも延在している。光跡L3は、この延在部分によって反射されることにより、ミラー1612に入射している。そして、コア部14の右側に向かって伝搬する。
Further, a part (the low refractive index layer 1451) of the low
なお、ミラー1612における反射の後、これらの信号光は低屈折率層1451を透過する必要があるが、ミラー1612で反射された信号光は、低屈折率層1451に対して大きな入射角で入射することになるため、ほとんど反射されることなく透過する。
Note that these signal lights need to pass through the low
同様に、低屈折率層145を配置したことにより、コア層132のコア部14の第2の光路は途中で途切れることとなる。このため、第2の光路を伝搬する信号光は、低屈折率層1451、1452を透過する必要があるが、コア部14を伝搬する信号光は、その伝搬角が第2の光路とほぼ平行かそれに近い角度になっているので、低屈折率層1451、1452に対して大きな入射角で入射することとなり、ほとんど反射されることなく透過する。
Similarly, by arranging the low
以上のことから、第1の変換光路に沿って低屈折率層145を設けたことにより、第1の変換光路と交差する第2の光路における伝送効率を損なうことなく、第1の変換光路の伝送効率を高めることができる。すなわち、光導波路1と発光素子72との間の光結合効率を高めることができる。その結果、光導波路モジュール10全体のS/N比が向上し、光通信の品質を高めることができる。
From the above, by providing the low
また、発光素子72の発光部721とミラー1612とをつなぐ第1の変換光路に沿って設けられる低屈折率層1451は、ミラー1612に干渉するように設けられていてもよく、やや離れた位置に設けられていてもよいが、好ましくは、図3に示すように、ミラー1612と、コア層131のコア部14とクラッド層111との境界面と、が交わる位置(図3に示す交点M1)に設けられる。この位置は、ミラー1612の縁部にあたる位置であり、この位置に低屈折率層1451を設けることで、ミラー1612に入射できないで損失となる光量を最小限に抑え、光結合効率を最大化することができる。
Further, the low
なお、前記交点M1以外の位置に配置する場合であっても、低屈折率層1451を設ける位置はミラー1612の近傍であるのが好ましい。ミラー1612近傍とは、ミラー1612が設けられている範囲、および、前記交点M1から前記コア部14の厚さの50%以下の距離に相当する範囲である。低屈折率層1451がこの範囲内に位置していれば、上述したような効果が確実に得られる。また、後に説明するが、低屈折率層1451はミラー1612近傍に複数個設けられていてもよく、その場合も、各低屈折率層1451はそれぞれ前記範囲内に設けられるのが好ましい。
Even when the low
また、図3では、交点M1のみでなく、ミラー1612と、コア層131のコア部14とクラッド層112との境界面と、が交わる位置(図3に示す交点M2)にも低屈折率層145(1452)が設けられている。この位置も、ミラー1612の縁部にあたる位置である。すなわち、低屈折率層145は、前記交差点近傍において、第1の変換光路を挟むように、コア層132中の第1の光路の一端側(右側)と他端側(左側)の双方に設けられている。これにより、第1の変換光路は、2つの低屈折率層145で挟まれることとなり、前記交差点における信号光の交錯や損失が特に抑制される。その結果、第1の変換光路における伝送効率、すなわち発光素子72の発光部721とミラー1612との光結合効率を特に高めることができる。なお、2つの低屈折率層145で挟まれたコア部14の断片Fは、第2の光路に沿って信号光を伝搬するとともに、第1の変換光路に沿って信号光を伝搬する。すなわち、断片Fは、第1の変換光路に沿って伝搬する信号光をその内部に閉じ込めることで、図3の上下方向における導波路としての機能を有する。
In FIG. 3, the low refractive index layer is not only at the intersection M1 but also at a position where the
また、低屈折率層145の延在方向は、発光素子72とミラー1612とを繋ぐ第1の変換光路に応じて適宜設定される。具体的には、光導波路1のコア部14の延在方向(光路)に対して80〜100°の角度をなす方向に設定されるのが好ましく、85〜95°の角度をなす方向に設定されるのがより好ましい。図3の場合、第1の光路に対するミラー1612の角度は45°であり、第1の変換光路は第1の光路に対して直交しているため、それに応じて、低屈折率層145の延在方向も第1の光路に対して直交する方向(第1の変換光路に対して平行な方向)に設定される。なお、第1の光路に対する第1の変換光路の角度は、上記低屈折率層145の延在方向と同様、80〜100°程度であるのが好ましいが、光結合効率の観点から90°であるのがより好ましい。第1の変換光路の光路長を最短にすることができるからである。また、この場合、発光素子72の載置が容易であるという利点もある。
The extending direction of the low
さらには、低屈折率層145の延在方向が第1の光路に対して直交していると、光導波路1の製造時に露光プロセスを伴う場合、露光プロセスが容易になるという利点もある。これは、複数のコア層131、132に対して、それぞれ低屈折率層145を形成する際、一回の露光で形成することができるからである。
Furthermore, when the extending direction of the low
一方、図4は、図2のうち、ミラー1614周辺の部分拡大図である。図4に示す矢印L4、L5、L6は、それぞれコア層131のコア部14を伝搬し、ミラー1614で反射された後、受光素子74に入射する信号光の光跡の一例である。
On the other hand, FIG. 4 is a partially enlarged view around the
コア部14を伝搬してきた信号光は、ミラー1614に入射し、反射された後、受光素子74の受光部741に向かうが、光跡L4のような角度で反射した場合、その信号光は、従来であれば受光部741に入射することなく損失となっていたが、低屈折率層1453(145)を設けたことにより、この信号光は図4に示すコア層132のコア部14と低屈折率層1453との界面で反射され、受光部741に入射し得るよう、その進路が変更される。同様に、光跡L5のような角度で反射した信号光は、コア層132のコア部14と低屈折率層1455(145)との界面で反射され、受光部741に入射するよう、その進路が変更される。その結果、損失光を信号光とすることができるようになる。
The signal light that has propagated through the
また、図4に示す低屈折率層145のうちの一部(低屈折率層1453、1454)は、コア層132中のみでなく、コア層131中にも延在している。光跡L6は、この延在部分によって反射されることにより、受光部741に入射しており、これにより受光部741に入射する光量を多くすることができる。
Further, a part of the low
なお、コア部14を伝搬してきた信号光がミラー1614に入射するためには、低屈折率層1453、1454を透過する必要があるが、コア部14を伝搬してきた信号光は、その伝搬角がコア部14の第1の光路とほぼ平行かそれに近い角度になっているので、低屈折率層1453、1454に対して大きな入射角で入射することとなり、ほとんど反射されることなく透過する。
In addition, in order for the signal light that has propagated through the
同様に、低屈折率層145を配置したことにより、コア層132のコア部14の第2の光路は途中で途切れることとなる。このため、第2の光路を伝搬する信号光は、低屈折率層1453、1454、1455を透過する必要があるが、前述した理由により、ほとんど反射されることなく透過する。
Similarly, by arranging the low
以上のことから、第1の変換光路に沿って低屈折率層145を設けたことにより、第1の変換光路と交差する第2の光路における伝送効率を損なうことなく、第1の変換光路の伝送効率を高めることができる。すなわち、光導波路1と受光素子74との間の光結合効率を高めることができる。その結果、光導波路モジュール10全体のS/N比が向上し、光通信の品質を高めることができる。
From the above, by providing the low
また、ミラー1614と受光素子74の受光部741とをつなぐ第1の変換光路に沿って設けられる低屈折率層1453は、ミラー1614に干渉するように設けられていてもよく、やや離れた位置に設けられていてもよいが、好ましくは、図4に示すように、ミラー1614と、コア層131のコア部14とクラッド層111との境界面と、が交わる位置(図4に示す交点M3)に設けられる。この位置に設けることで、受光部741に入射できないで損失となる光量を最小限に抑えることができ、光結合効率を最大化することができる。
Further, the low
なお、前記交点M3以外の位置に配置する場合であっても、低屈折率層1453を設ける位置はミラー1614の近傍であるのが好ましい。ミラー1614近傍とは、ミラー1614が設けられている範囲、および、前記交点M3から前記コア部14の厚さの50%以下の距離に相当する範囲である。低屈折率層1453がこの範囲内に位置していれば、上述したような効果が確実に得られる。
Even when the low-refractive-
また、図4では、交点M3のみでなく、ミラー1614と、コア層131のコア部14とクラッド層112との境界面と、が交わる位置(図4に示す交点M4)にも低屈折率層145(1455)が設けられている。すなわち、低屈折率層145は、第1の変換光路を挟んで、コア層132中の第2の光路の一端側(右側)と他端側(左側)の双方に設けられている。これにより、第1の変換光路は、2つの低屈折率層145で挟まれることとなり、前記交差点における信号光の交錯や損失が特に抑制される。その結果、第1の変換光路における伝送効率、すなわちミラー1614と受光素子74の受光部741との光結合効率を特に高めることができる。
In FIG. 4, the low refractive index layer is not only at the intersection M3 but also at a position where the
さらに、図4では、ミラー1614と干渉する位置にも低屈折率層145(1454)が設けられている。これにより、ミラー1614と受光素子74の受光部741とをつなぐ第1の変換光路近傍には、3つの低屈折率層145が設けられている。このように低屈折率層145の数を増やすことで、損失光を信号光に変換する確率が高くなるため、その分、光結合効率を高めることができる。
Further, in FIG. 4, a low refractive index layer 145 (1454) is also provided at a position where it interferes with the
低屈折率層145の数は、特に限定されず、4つ以上であってもよい。これは、光出射側のみならず、光入射側でも同様である。 The number of the low refractive index layers 145 is not particularly limited, and may be four or more. This is the same not only on the light emitting side but also on the light incident side.
以上の説明では、ミラー1612、1614近傍について特に説明したが、低屈折率層145は、ミラー1612、1614近傍のみでなく、ミラー1611、1613近傍にも設けられている。これにより、発光素子71とミラー1611とをつなぐ第2の変換光路や、ミラー1613と受光素子73とをつなぐ第2の変換光路においても、光結合効率を高めることができる。
In the above description, the vicinity of the
上述したような低屈折率層145の厚さは、コア部14と低屈折率層145との界面で光反射を生じ得る厚さであれば特に限定されないが、好ましくは0.5〜50μm程度、より好ましくは1〜20μm程度とされる。低屈折率層145の厚さを前記範囲内とすることにより、前記界面で確実に光反射させるとともに、低屈折率層145を信号光が透過する際の損失を抑えることができる。
The thickness of the low
なお、低屈折率層145の屈折率は、コア部14の屈折率より低ければ特に限定されないが、側面クラッド部15の屈折率と同等であるのが好ましい。これにより、コア層131、132中にコア部14や側面クラッド部15を形成する際、余分な工程を増やすことなく低屈折率層145を形成することができる。
The refractive index of the low
なお、図2に示すコア層131およびコア層132には、同様のパターンが形成されている。このため、各コア層を形成する際の露光プロセスは一回で済み、製造工程の簡略化が可能である。
The same pattern is formed on the
また、上述したような低屈折率層145は、必要に応じて設ければよく、省略してもよい。
Further, the low
また、コア部14の屈折率と低屈折率層145の屈折率との大小関係は、前述したコア部の屈折率とクラッド部の屈折率との大小関係と同様に設定される。
The magnitude relationship between the refractive index of the
(漸増部)
図5は、図1に示す光導波路1を一部(カバーフィルム3およびクラッド層113)が透過するようにして示す平面図である。
(Gradual increase)
FIG. 5 is a plan view showing a part of the optical waveguide 1 shown in FIG. 1 (the
コア層131、132に形成されたコア部14の平面視における幅は、全長にわたって均一であってもよいが、図5に示すように光入射端部1Aから光出射端部1Bに向かって幅(外径)が徐々に広くなっているのが好ましい。特に、ミラー1612近傍で3つに分断されているコア部14では、低屈折率層1451より左側における幅よりも、右側(光出射端部1B側)における幅の方が広くなっているのが好ましい。さらに、図5には図示しないものの、低屈折率層1452より左側における幅よりも、右側における幅の方が広くなっているのが好ましい。これにより、発光素子72で出射され、ミラー1612で反射された信号光がコア部14に入射する確率を高めることができ、伝送効率の向上が図られる。同様に、ミラー1614近傍で4つに分断されているコア部14では、低屈折率層1453より左側(光入射端部1A側)における幅よりも、右側における幅の方が広くなっているのが好ましい。さらに、図5には図示しないものの、低屈折率層1454より左側における幅よりも、右側における幅の方が広くなっているのが好ましく、低屈折率層1455より左側における幅よりも、右側における幅の方が広くなっているのが好ましい。これにより、コア部14を伝搬してきた信号光がミラー1614に入射する確率を高めることができ、伝送効率の向上が図られる。
The width in plan view of the
幅の増加率の一例としては、増加前の幅を1としたとき、増加後の幅は1.02〜1.50程度であるのが好ましく、1.05〜1.40程度であるのがより好ましい。 As an example of the rate of increase in the width, when the width before the increase is 1, the width after the increase is preferably about 1.02 to 1.50, and is about 1.05 to 1.40. More preferred.
なお、図5では図示していないが、ミラー1611近傍やミラー1613近傍においても、上記のような構成になっているのが好ましい。
Although not shown in FIG. 5, it is preferable that the above configuration is also provided in the vicinity of the
このように光導波路1では、光入射端部1Aから光出射端部1Bに向かって幅が漸増していることにより、伝送効率の向上が図られる。なお、図5では、段階的に幅が漸増している例を示しているが、連続的に漸増していてもよい。 Thus, in the optical waveguide 1, the transmission efficiency is improved by gradually increasing the width from the light incident end 1 </ b> A toward the light exit end 1 </ b> B. Although FIG. 5 shows an example in which the width gradually increases in steps, the width may increase continuously.
また、図5に示す光導波路1は、コア部14の横断面形状が矩形(四角形)をなしているが、円形の場合等はコア部14の外径が漸増しているのが好ましい。
In the optical waveguide 1 shown in FIG. 5, the cross-sectional shape of the
以上、説明したように、光導波路1では、積層体12を形成した後、この積層体12に対して掘り込み加工を施すことで全てのミラー1611、1612、1613、1614を一回の加工プロセスで形成することが可能である。したがって、光導波路1は、掘り込み加工の際に、1つのコア部14の位置に基づいて加工の基準位置を一度決めてしまえば、その後、全てのミラーを形成し終わるまでその基準位置を利用することが可能な構造であるといえる。よって、光導波路1は、ミラー間の位置ズレを最小限に抑えたものとなり、受発光素子との光結合効率を高め得るものとなる。また、光結合効率の向上を多少犠牲にする場合、アライメント精度やミラー1611、1612、1613、1614の面精度(加工精度)の許容幅が緩和される。
As described above, in the optical waveguide 1, after forming the
また、上述したように、光導波路1では、各ミラー1611、1612、1613、1614によって、各第1の変換光路および第2の変換光路が光導波路1の上面の各接続点121に接続されているため、全てのコア部14の第1の光路または第2の光路に対して光導波路1の上面側からアクセスすることが可能になる。このため、光導波路1の上面に受発光素子を載置するのみで、容易に光結合が実現される。しかも、光導波路1では、第1の変換光路と第2の光路とが交差したとしても伝送効率や光結合効率が低下し難いため、光路設計の自由度が高い。例えば、光導波路1を上面から見たとき、図5に示すように、コア層131に形成されたコア部14は、コア層132に形成されたコア部14の陰に隠れて、直接見ることはできない。従来の光導波路では、陰に隠れたコア部に対して上面側から直接アクセスすることはできなかったが、光導波路1では、伝送効率を阻害することなく第1の変換光路と第2の光路の交差を可能にしているので、光導波路1の長手方向に沿って接続点121の位置をずらすのみで、陰に隠れたコア部に対しても上面側からアクセスすることが可能になる。そして、これらの効果はコア層の積層数を増やしても変わらない。このようなことから、光導波路1は、極めて容易に高密度化を可能にし、かつ容易に実装し得るものである。
Further, as described above, in the optical waveguide 1, the first conversion optical path and the second conversion optical path are connected to the connection points 121 on the upper surface of the optical waveguide 1 by the
なお、積層体12におけるコア層の積層数は特に限定されず、3層以上であってもよい。
The number of core layers stacked in the stacked
≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図6は、本発明の光導波路の第2実施形態およびこれを含む光導波路モジュールを示す(一部透過して示す)分解斜視図である。 FIG. 6 is an exploded perspective view showing a second embodiment of the optical waveguide of the present invention and an optical waveguide module including the optical waveguide module (partially shown).
以下、第2実施形態等について説明するが、以下の説明では、第1実施形態等との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 2nd Embodiment etc. are described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment etc., The description is abbreviate | omitted about the same matter.
本実施形態は、上面に開口する光ファイバーコネクター用のかん合穴18を有している以外、第1実施形態と同様である。また、図6に示す光導波路モジュール10は、表面実装型の受発光素子に代えて、発光用光ファイバーコネクター75および受光用光ファイバーコネクター76のような光ファイバーコネクターと、これらに接続された光ファイバー70と、を有している以外、図1に示す光導波路モジュール10と同様である。
This embodiment is the same as the first embodiment except that it has a
図6に示す発光用光ファイバーコネクター75は、コネクター本体751と、コネクター本体751を貫通する4つの貫通孔752と、コネクター本体751の下面から突出する2つのかん合ピン753と、を有している。また、各貫通孔752にはそれぞれ光ファイバー70が挿入されており、各光ファイバー70の端面がコネクター本体751の下面に露出するよう構成されている。
The light-emitting
同様に、図6に示す受光用光ファイバーコネクター76は、コネクター本体761と、コネクター本体761を貫通する4つの貫通孔762と、コネクター本体761の下面から突出する2つのかん合ピン763と、を有している。また、各貫通孔762にはそれぞれ光ファイバー70が挿入されており、各光ファイバー70の端面がコネクター本体761の下面に露出するよう構成されている。
Similarly, the optical fiber connector for receiving light 76 shown in FIG. 6 has a connector
一方、図6に示す光導波路1には、その上面に4つのかん合穴18が開口している。これらのかん合穴18は、上述した各かん合ピン753、763とかん合するよう構成されており、このかん合により、発光用光ファイバーコネクター75と受光用光ファイバーコネクター76の光導波路1に対する固定および位置合わせを行うことができる。
On the other hand, the optical waveguide 1 shown in FIG. 6 has four
なお、発光用光ファイバーコネクター75に設けられた各貫通孔752は、それぞれに挿入された各光ファイバー70の端面が、光導波路1のミラー1611、1612と接続される接続点121と重なるよう形成されている。同様に、受光用光ファイバーコネクター76に設けられた各貫通孔762は、それぞれに挿入された各光ファイバー70の端面が、光導波路1のミラー1613、1614と接続される接続点121と重なるよう形成されている。
In addition, each through-
このような構成の光導波路1によれば、第1実施形態と同様の作用、効果が得られるとともに、かん合穴18に各コネクターのかん合ピン753、763をかん合させるのみで、光ファイバー(受発光素子)との光結合を行うことができるので、光結合およびその解除を容易に行い得るという利点を有するものとなる。
According to the optical waveguide 1 having such a configuration, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained, and the optical fiber (only by engaging the engagement pins 753 and 763 of each connector with the
図7は、図6に示す光導波路1を一部(カバーフィルム3およびクラッド層113)が透過するようにして示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a part of the optical waveguide 1 shown in FIG. 6 (the
また、発光用光ファイバーコネクター75や受光用光ファイバーコネクター76は、それぞれ光ファイバーの端面がかん合ピンに対して線対称の位置関係になるよう配置されている場合が多い。このため、光導波路1についてもそれに合わせて、前記接続点121がかん合穴18に対して線対称の位置関係になるよう配置されていることが好ましい。すなわち、この位置関係を満足するように、ミラーや低屈折率層が配置されているのが好ましい。これにより、光導波路1は、汎用的な光ファイバーコネクターを接続可能なものとなる。
In many cases, the light-emitting
なお、発光用光ファイバーコネクター75や受光用光ファイバーコネクター76における光ファイバーの配置は、図6に示すような格子状の配置に限られず、例えば隣り合う光ファイバーの位置が光導波路1の長手方向に沿って互いにずれているような配置でもよい。この場合、光導波路1に形成されるミラーや低屈折率層の配置も、それに合わせたものにされる。
The arrangement of the optical fibers in the light-emitting
<光導波路の製造方法>
次に、光導波路1の製造方法の一例について説明する。ここでは、図2に示す光導波路1を製造する方法を例にする。
<Optical waveguide manufacturing method>
Next, an example of a method for manufacturing the optical waveguide 1 will be described. Here, a method for manufacturing the optical waveguide 1 shown in FIG. 2 is taken as an example.
図8〜11は、それぞれ図2に示す光導波路を製造する方法を説明するための図(断面図)である。 FIGS. 8-11 is a figure (sectional drawing) for demonstrating the method to manufacture the optical waveguide shown in FIG. 2, respectively.
光導波路1は、下方からクラッド層111、コア層131、クラッド層112、コア層132、およびクラッド層113をこの順で積層してなる積層体12と、この積層体12の一部を除去することで形成された凹部1601、1602、1603、1604と、を有している。
The optical waveguide 1 removes a
このような光導波路1は、各層を個別に製造し、各層に凹部を形成した後、層同士を積層する方法や、各層を個別に製造し、層同士を積層して積層体を得た後、この積層体に凹部を形成する方法等により製造されるが、ここでは、後者の方法について説明する。 In such an optical waveguide 1, after each layer is manufactured individually and a recess is formed in each layer, a method of stacking the layers or after manufacturing each layer individually and stacking the layers to obtain a laminate Although manufactured by a method of forming a recess in the laminate, the latter method will be described here.
以下、光導波路の製造方法を、[1]積層体を形成するための母材を製造する工程、[2]母材の一部に活性放射線を照射することで屈折率差を形成する工程、[3]凹部を形成する工程、に分けて説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the optical waveguide, [1] a step of manufacturing a base material for forming a laminate, [2] a step of forming a refractive index difference by irradiating a part of the base material with active radiation, [3] The process for forming the recess will be described separately.
[1]積層体を形成するための母材960は、例えば、層911、912を個別に支持基板上に成膜した後、それぞれを支持基板から剥離して互いに貼り合わせる方法等により製造される。
[1] The
具体的には、各層形成用の組成物901、902を支持基板951上に塗布して液状被膜を形成した後、液状被膜を均一化するとともに揮発成分を除去する(図8参照)。
Specifically, each layer-forming composition 901, 902 is applied onto a
塗布方法としては、例えば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法等の方法が挙げられる。 Examples of the coating method include a doctor blade method, a spin coating method, a dipping method, a table coating method, a spray method, an applicator method, a curtain coating method, and a die coating method.
また、液状被膜中の揮発成分を除去するには、液状被膜を加熱したり、減圧下に置いたり、あるいは乾燥ガスを吹き付けたりする方法が用いられる。これにより、層911、912が得られる。
In order to remove volatile components in the liquid film, a method of heating the liquid film, placing the liquid film under reduced pressure, or spraying a dry gas is used. Thereby, the
次いで、この層911、912を支持基板951から剥離し、積層する。これにより、図9に示す母材960が得られる。なお、この母材960は、支持基板951上に各組成物901、902を順次塗り重ねた後、揮発成分を除去することによっても形成可能である。
Next, the
また、層911、912の形成用組成物としては、例えば、前述した各層の構成材料を各種溶媒に溶解または分散してなる溶液(分散液)が挙げられる。
Examples of the composition for forming the
このうち、コア層を形成するための組成物901としては、ポリマー915と、モノマー、重合開始剤等の添加剤920と、を含有している。このような組成物から形成された層911、912では、活性放射線の照射によりモノマーが反応し、それに伴ってポリマー915とモノマーの存在比率に偏りが生じることにより、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を形成することができる。したがってこのような組成物901を用いることで、コア層131、132中にコア部14や側面クラッド部15を形成することができる。
Among these, the composition 901 for forming the core layer includes a
一方、クラッド層を形成するための組成物902としては、前述したクラッド層の構成材料を主成分とし、コア層中に屈折率差が生じたとき、含まれる最も高い屈折率よりも低屈折率の組成物が用いられる。なお、クラッド層を形成するための組成物902には、上述したようなモノマーが含まれていないので、活性放射線を照射したとしても屈折率差が形成されることはない。 On the other hand, the composition 902 for forming the cladding layer is mainly composed of the constituent material of the cladding layer described above, and has a lower refractive index than the highest refractive index included when a refractive index difference occurs in the core layer. The composition is used. Note that the composition 902 for forming the clad layer does not contain the monomer as described above, and therefore, no refractive index difference is formed even when irradiated with actinic radiation.
よって、組成物901から形成される層911と組成物902から形成される層912とを交互に積層することで、光導波路1を製造するための母材960が得られることになる。
Therefore, the
ここで、コア層を形成するための組成物901の構成成分について説明する。
(ポリマー)
ポリマー915は、コア層のベースポリマーとなるものである。
Here, the components of the composition 901 for forming the core layer will be described.
(polymer)
The
ポリマー915には、透明性が十分に高く(無色透明であり)、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが重合した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
The
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、組成物901中や層911中においてポリマー915と相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that the monomer is at least mixed and does not cause phase separation with the
このようなポリマー915としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やベンゾシクロブテン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、シリコーン系樹脂、ポリウレタン、フッ素系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(ポリマーアロイ、ポリマーブレンド(混合物)、共重合体など)用いることができる。
Examples of such a
これらの中でも、特に、環状オレフィン系樹脂を主とするものが好ましい。ポリマー915として環状オレフィン系樹脂を用いることにより、優れた光伝送性能や耐熱性を有するコア層を得ることができる。
Among these, those mainly composed of cyclic olefin resins are preferable. By using a cyclic olefin resin as the
環状オレフィン系樹脂としては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが用いられる。 As cyclic olefin resin, what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 is used, for example.
なお、コア層の各部の屈折率は、各部におけるポリマー915の屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定されるため、用いるモノマーの種類に応じてポリマー915の屈折率を適宜調整するようにしてもよい。
Note that the refractive index of each part of the core layer is determined according to the relative magnitude relationship between the refractive index of the
例えば、比較的高い屈折率を有するポリマー915を得るためには、分子構造中に、芳香族環(芳香族基)、窒素原子、臭素原子や塩素原子を有するモノマーを一般的に選択して、ポリマー915が合成(重合)される。一方、比較的低い屈折率を有するポリマー915を得るためには、分子構造中に、アルキル基、フッ素原子やエーテル構造(エーテル基)を有するモノマーを一般的に選択して、ポリマー915が合成(重合)される。
For example, in order to obtain a
また、以上のようなポリマー915は、主鎖から分岐し、活性放射線の照射により、その分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基(離脱性ペンダントグループ)を有していてもよい。離脱性基の離脱によりポリマー915の屈折率が低下するため、ポリマー915は、活性放射線の照射の有無によって屈折率差を形成することができる。
Further, the
このような離脱性基を有するポリマー915としては、例えば、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。
Examples of the
このうち、離脱により樹脂の屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 Among these, as the leaving group that causes a decrease in the refractive index of the resin by leaving, at least one of the -Si-diphenyl structure and the -O-Si-diphenyl structure is preferable.
側鎖に離脱性基を有するポリマー915の具体例としては、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。
Specific examples of the
一方、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、フリーラジカルの作用により比較的容易に離脱する。 On the other hand, examples of another leaving group include a substituent having an acetophenone structure at the terminal. This leaving group is released relatively easily by the action of free radicals.
前記離脱性基の含有量は、特に限定されないが、前記側鎖に離脱性基を有するポリマー915中の10〜80重量%であるのが好ましく、特に20〜60重量%であるのがより好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に可撓性と屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)との両立に優れる。
The content of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 60% by weight in the
例えば、離脱性基の含有量を多くすることにより、屈折率を変化させる幅を拡張することができる。 For example, the width for changing the refractive index can be expanded by increasing the content of the leaving group.
(添加剤)
添加剤920は、モノマーおよび重合開始剤を含んでいる。
(Additive)
((モノマー))
モノマーは、後述する活性放射線の照射により、活性放射線の照射領域において反応して反応物を形成し、それとともにモノマーが拡散移動することで、層911において照射領域と非照射領域との間に屈折率差を生じさせ得るような化合物である。
((monomer))
The monomer reacts in the irradiation region of the actinic radiation to form a reactant by irradiation with actinic radiation, which will be described later, and the monomer diffuses and moves with it, so that the
モノマーの反応物としては、モノマーがポリマー915中で重合して形成されたポリマー(重合体)、モノマーがポリマー915同士を架橋してなる架橋構造、および、モノマーがポリマー915に重合してポリマー915から分岐した分岐構造のうちの少なくとも1つが挙げられる。
As a reaction product of the monomer, a polymer (polymer) formed by polymerizing the monomer in the
ところで、照射領域と非照射領域との間に生じる屈折率差は、ポリマー915の屈折率とモノマーの屈折率との差に基づいて生じることから、添加剤920中に含まれるモノマーは、ポリマー915の屈折率との大小関係を考慮して選択される。
By the way, since the refractive index difference generated between the irradiated region and the non-irradiated region is generated based on the difference between the refractive index of the
具体的には、層911において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して高い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。一方、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して低い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。
Specifically, in the
なお、屈折率が「高い」または「低い」とは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味するものである。 Note that “high” or “low” in the refractive index does not mean an absolute value of the refractive index but means a relative relationship between certain materials.
そして、モノマーの反応(反応物の生成)により、層911において照射領域の屈折率が低下する場合、当該部分がコア層の側面クラッド部および低屈折率層となり、照射領域の屈折率が上昇する場合、当該部分がコア層のコア部となる。
When the refractive index of the irradiated region in the
なお、モノマーとしては、ポリマー915との相溶性を有し、ポリマー915との屈折率差が0.01以上であるものが好ましく用いられる。
As the monomer, a monomer having compatibility with the
このようなモノマーとしては、重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、ノルボルネン系モノマー、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Such a monomer is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable site, and examples thereof include norbornene monomers, acrylic acid (methacrylic acid) monomers, epoxy monomers, oxetane monomers, and vinyl ether monomers. , A styrene monomer, etc., and one or more of these can be used in combination.
これらの中でも、モノマーとしては、オキセタニル基またはエポキシ基等の環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマー、あるいはノルボルネン系モノマーを用いるのが好ましい。環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーを用いることにより、環状エーテル基の開環が起こり易いため、速やかに反応し得るモノマーが得られる。また、ノルボルネン系モノマーを用いることにより、光伝送性能に優れ、かつ、耐熱性および柔軟性に優れるコア層(光導波路1)が得られる。 Among these, it is preferable to use a monomer or oligomer having a cyclic ether group such as an oxetanyl group or an epoxy group, or a norbornene monomer as the monomer. By using a monomer or oligomer having a cyclic ether group, the cyclic ether group is likely to be opened, so that a monomer capable of reacting quickly can be obtained. Moreover, by using a norbornene-based monomer, a core layer (optical waveguide 1) having excellent optical transmission performance and excellent heat resistance and flexibility can be obtained.
このうち、環状エーテル基を有するモノマーの分子量(重量平均分子量)またはオリゴマーの分子量(重量平均分子量)は、それぞれ100以上400以下であるのが好ましい。 Among these, the molecular weight (weight average molecular weight) of the monomer having a cyclic ether group or the molecular weight (weight average molecular weight) of the oligomer is preferably 100 or more and 400 or less, respectively.
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。これらの中でも特に下記式(20)で表わされるものが好ましい。 Examples of the monomer having an oxetanyl group and the oligomer having an oxetanyl group include those described in JP 2010-090328 A. Among these, those represented by the following formula (20) are particularly preferable.
また、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。 Examples of the monomer having an epoxy group and the oligomer having an epoxy group include those described in JP 2010-090328 A.
これらのモノマーの添加量は、ポリマー100重量部に対し、1重量部以上50重量部以下であることが好ましく、2重量部以上20重量部以下であることがより好ましい。これにより、屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。 The addition amount of these monomers is preferably 1 part by weight or more and 50 parts by weight or less, and more preferably 2 parts by weight or more and 20 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer. Thereby, refractive index modulation can be performed, and there is an effect that both flexibility and heat resistance can be achieved.
((重合開始剤))
重合開始剤は、活性放射線の照射に伴ってモノマーに作用し、モノマーの反応を促すものであり、モノマーの反応性を考慮し、必要に応じて添加される。
((Polymerization initiator))
The polymerization initiator acts on the monomer with irradiation of actinic radiation to promote the reaction of the monomer, and is added as necessary in consideration of the reactivity of the monomer.
用いる重合開始剤としては、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。例えば、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、スチレン系モノマーには専らラジカル重合開始剤が、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマーには専らカチオン重合開始剤が好ましく用いられる。 The polymerization initiator to be used is appropriately selected according to the type of monomer polymerization reaction or crosslinking reaction. For example, radical polymerization initiators are preferably used exclusively for acrylic acid (methacrylic acid) monomers and styrene monomers, and cationic polymerization initiators are preferably used exclusively for epoxy monomers, oxetane monomers, and vinyl ether monomers.
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。 Examples of the radical polymerization initiator include benzophenones and acetophenones.
一方、カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。 On the other hand, examples of the cationic polymerization initiator include a Lewis acid generating type such as a diazonium salt, and a Bronsted acid generating type such as an iodonium salt and a sulfonium salt.
特に、モノマーとして環状エーテル基を有するモノマーを用いる場合には、以下のようなカチオン重合開始剤(光酸発生剤)が好ましく用いられる。具体的には、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。 In particular, when a monomer having a cyclic ether group is used as the monomer, the following cationic polymerization initiator (photoacid generator) is preferably used. Specifically, what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 is mentioned.
重合開始剤の含有量は、ポリマー100重量部に対し0.01重量部以上0.3重量部以下であることが好ましく、0.02重量部以上0.2重量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by weight or more and 0.3 parts by weight or less, more preferably 0.02 parts by weight or more and 0.2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer. . Thereby, there exists an effect of a reactive improvement.
なお、モノマーの反応性が著しく高い場合には、重合開始剤の添加を省略してもよい。
また、添加剤920は、モノマーや重合開始剤に加え、増感剤等を含んでいてもよい。
In addition, when the reactivity of a monomer is remarkably high, you may abbreviate | omit addition of a polymerization initiator.
Further, the additive 920 may contain a sensitizer and the like in addition to the monomer and the polymerization initiator.
このうち、増感剤は、光に対する重合開始剤の感度を増大して、重合開始剤の活性化(反応または分解)に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、重合開始剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。具体的には、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。 Among these, the sensitizer increases the sensitivity of the polymerization initiator to light and is suitable for the function of reducing the time and energy required for the activation (reaction or decomposition) of the polymerization initiator and for the activation of the polymerization initiator. It has a function of changing the wavelength of light to a wavelength. Specifically, what was described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 is mentioned.
増感剤の含有量は、組成物901中で、0.01重量%以上であるのが好ましく、0.5重量%以上であるのがより好ましく、1重量%以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、5重量%以下であるのが好ましい。 The content of the sensitizer in the composition 901 is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and further preferably 1% by weight or more. In addition, it is preferable that an upper limit is 5 weight% or less.
なお、組成物901には、添加剤920として上記の他に、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
In addition to the above as
以上のような組成物901から得られる層911は、ポリマー915中に一様に分散する添加剤920の作用により、所定の屈折率を有している。そして、後述する活性放射線の照射により、この屈折率が部分的に変調し、屈折率の偏りを生じるのである。
The
[2]次に、開口(窓)9351が形成されたマスク(マスキング)935を用意し、このマスク935を介して、母材960に活性放射線930を照射する(図10参照)。
[2] Next, a mask (masking) 935 in which an opening (window) 9351 is formed is prepared, and the
以下では、組成物901中に含まれるモノマーとして、ポリマー915より低い屈折率を有するものを用いる場合を一例に説明する。
Hereinafter, the case where a monomer having a refractive index lower than that of the
すなわち、ここで示す例では、活性放射線930の照射領域925が主に側面クラッド部および低屈折率層となる。
That is, in the example shown here, the
したがって、ここで示す例では、マスク935には、主に、形成すべき側面クラッド部および低屈折率層の各パターンと等価な開口(窓)9351が形成される。この開口9351は、照射する活性放射線930が透過する透過部を形成するものである。
Therefore, in the example shown here, the
マスク935は、予め形成(別途形成)されたもの(例えばプレート状のもの)でも、母材960上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。
The
マスク935として好ましいものの例としては、石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法(蒸着、スパッタリング等)により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。
Preferred examples of the
また、図10においては、マスク935の開口(窓)9351は、活性放射線930の照射領域925のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、該フォトマスク上に例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線930の遮蔽部を設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓(透過部)となる。
Further, in FIG. 10, the opening (window) 9351 of the
用いる活性放射線930は、重合開始剤に対して光化学的な反応(変化)を生じさせ得るもの、および、ポリマー915に含まれる離脱性基を離脱させ得るものであればよく、例えば、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光の他、電子線やX線等を用いることもできる。
The
これらの中でも、活性放射線930は、重合開始剤や離脱性基の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長200〜450nmの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、重合開始剤を比較的容易に活性化させるとともに、離脱性基を比較的容易に離脱させることができる。
Among these, the
また、活性放射線930の照射量は、0.05〜9J/cm2程度であるのが好ましく、0.1〜6J/cm2程度であるのがより好ましく、0.1〜3J/cm2程度であるのがさらに好ましい。
The irradiation dose of the
マスク935を介して母材960に活性放射線930を照射すると、母材960のうち、組成物901から形成された層911において、以下の現象が起こる。まず、層911の照射領域925において重合開始剤が活性化される。これにより、照射領域925においてモノマーが重合する。モノマーが重合すると、照射領域925におけるモノマーの量が減少するため、それに応じて非照射領域940中のモノマーが照射領域925に拡散移動する。前述したように、ポリマー915とモノマーは、互いに屈折率差が生じるように適宜選択されるため、モノマーの拡散移動に伴って照射領域925と非照射領域940との間に屈折率差が生じる。
When the
図12は、母材960において、照射領域925と非照射領域940との間で屈折率差が生じる様子を説明するための図であり、層911の横断面の位置を横軸にとり、横断面の屈折率を縦軸にとったときの屈折率分布を示す図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining a state in which a refractive index difference is generated between the
本実施形態では、モノマーとしてポリマー915より屈折率が小さいものを用いているため、モノマーの拡散移動に伴い、非照射領域940の屈折率が高くなるとともに、照射領域925の屈折率は低くなる(図12(a)参照)。
In this embodiment, since a monomer having a refractive index smaller than that of the
モノマーの拡散移動は、照射領域925においてモノマーが消費され、それに応じて形成されたモノマーの濃度勾配がきっかけとなって起こると考えられる。このため、非照射領域940全体のモノマーが一斉に照射領域925に向かうのではなく、照射領域925に近い部分から徐々に移動が始まり、これを補うように非照射領域940の中央部から外側へのモノマーの移動も生起される。その結果、図12(a)に示すように、照射領域925と非照射領域940との境界を挟んで、非照射領域940側に高屈折率領域H、照射領域925側に低屈折率領域Lが形成される。これら高屈折率領域Hおよび低屈折率領域Lは、それぞれ上述したようなモノマーの拡散移動に伴って形成されるため、必然的に滑らかな曲線で構成されることとなる。具体的には、高屈折率領域Hは、例えば上に凸の略U字状となり、低屈折率領域Lは、例えば下に凸の略U字状となる。
It is considered that the monomer diffusion movement is caused by the consumption of the monomer in the
なお、上述したようなモノマーが重合してなるポリマーの屈折率は、重合前のモノマーの屈折率とほぼ同じ(屈折率差が0〜0.001程度)であるため、照射領域925では、モノマーの重合が進むにつれ、モノマーの量およびモノマー由来の物質の量に応じて屈折率の低下が進むこととなる。 The refractive index of the polymer obtained by polymerizing the monomers as described above is almost the same as the refractive index of the monomer before polymerization (the difference in refractive index is about 0 to 0.001). As the polymerization proceeds, the refractive index decreases according to the amount of the monomer and the amount of the substance derived from the monomer.
一方、非照射領域940では、重合開始剤やモノマーが活性化されないため、モノマーは重合しない。
On the other hand, in the
また、照射領域925ではモノマーの重合が進むにつれてモノマーの拡散移動の容易性が徐々に低下する。これにより、照射領域925では、非照射領域940に近いほど自ずとモノマーの濃度が高くなり、屈折率の低下量が大きくなる。その結果、照射領域925に形成される低屈折率領域Lの分布形状は、左右非対称になり易く、非照射領域940側の勾配はより急峻なものとなる。
In addition, in the
また、ポリマー915は前述したように離脱性基を有していてもよい。この離脱性基は活性放射線930の照射に伴って離脱し、ポリマー915の屈折率を低下させる。したがって、照射領域925に活性放射線930が照射されると、層911では、前述したモノマーの拡散移動が開始されるとともに、ポリマー915から離脱性基が離脱し、照射領域925の屈折率は照射前から低下することとなる(図12(b)参照)。
Further, the
この屈折率の低下は、照射領域925全体で一律に生じるため、前述した高屈折率領域Hと低屈折率領域Lの屈折率差は、より拡大される。その結果、図12(b)に示すグレーデッドインデックス型の屈折率分布Wが得られる。グレーデッドインデックス型の屈折率分布とは、屈折率の極大値を有し、その極大値の両側では屈折率が裾を引くように連続的に低下するような分布のことをいう。
Since this decrease in refractive index occurs uniformly in the
なお、組成物901を用いて製造されたコア層では、コア部の屈折率分布がグレーデッドインデックス型になっている。このような分布は、屈折率が階段状に変化するステップインデックス型の分布に比べて、コア部を伝搬する信号光の閉じ込め作用が強い。このため、伝送効率の高いコア部が得られる。 Note that, in the core layer manufactured using the composition 901, the refractive index distribution of the core portion is a graded index type. Such a distribution has a stronger confinement effect of signal light propagating through the core portion than a step index type distribution in which the refractive index changes stepwise. For this reason, a core part with high transmission efficiency is obtained.
なお、活性放射線930の照射量を調整することにより、形成される屈折率差を制御することができ、例えば、照射量を多くすることで、屈折率差を拡大することができる。
In addition, the refractive index difference to be formed can be controlled by adjusting the irradiation amount of the
また、上記のような屈折率差の形成は、母材960に含まれる複数の層911において、活性放射線930の一回の照射で同時に生じる。このため、複数の層911に対して個別に照射する必要がなく、製造工程の大幅な簡略化が図られる。特に、前記各実施形態では、各コア層に形成されるパターンは、ミラーの有無を除いて互いに同じになっている。このため、各実施形態は、一回の照射で同時に形成するのに適した構造であるといえる。さらに、各層911間に形成されるパターンの層間の位置関係はほぼ完全に一致するため、個別に照射する場合に比べて、位置ズレが極めて少なくなり、層間の光結合効率の向上が図られる。
In addition, the formation of the refractive index difference as described above occurs simultaneously with one irradiation of the
一方、上記のような屈折率差の形成は、組成物902から形成された層912では生じない。
On the other hand, the formation of the refractive index difference as described above does not occur in the
次に、母材960に加熱処理を施す。この加熱処理において、光を照射した照射領域925中のモノマーがさらに重合する。一方で、この加熱工程において、非照射領域940のモノマーは揮発することとなる。これにより、非照射領域940ではモノマーがさらに少なくなり、屈折率が高くなってポリマー915に近い屈折率となる。
Next, the
この加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、30〜180℃程度であるのが好ましく、40〜160℃程度であるのがより好ましい。 The heating temperature in this heat treatment is not particularly limited, but is preferably about 30 to 180 ° C, and more preferably about 40 to 160 ° C.
また、加熱時間は、照射領域925のモノマーの重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、0.1〜2時間程度であるのが好ましく、0.1〜1時間程度であるのがより好ましい。
なお、この加熱処理は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
Further, the heating time is preferably set so that the polymerization reaction of the monomer in the
Note that this heat treatment may be performed as necessary and may be omitted.
以上のような原理で、母材960のうち、層911において相対的に屈折率の高い部分と低い部分とが形成される。その結果、層911は、コア層131およびコア層132となり、また、層912は、各クラッド層111、112、113となり、これらが積層されてなる積層体12が得られる(図11参照)。
Based on the principle as described above, in the
なお、モノマーとしてポリマー915より高い屈折率を有するものを用いる場合には、上記と反対に、モノマーの拡散移動に伴って移動先の屈折率が高くなるため、それに応じて、照射領域925および非照射領域940を設定するようにすればよい。
In the case where a monomer having a higher refractive index than that of the
また、活性放射線930として、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク935の使用を省略してもよい。
In addition, when light having high directivity such as laser light is used as the
[3]次に、積層体12に凹部1601、1602、1603、1604を形成する。
これらの凹部1601、1602、1603、1604は、積層体12の下面側から一部を除去する掘り込み加工により形成される。この掘り込み加工は、例えば、レーザー加工法、ダイシングソーによるダイシング加工法等により行うことができる。
[3] Next, recesses 1601, 1602, 1603, and 1604 are formed in the
These
なお、前記各実施形態は、凹部の形成にあたって、積層体12の形成後、全ての凹部をまとめて形成し得る構造になっているので、掘り込み加工を行う際には、一度基準位置を決めれば、その後、全ての凹部を形成し終わるまでその基準位置を利用し続けることが可能な形態である。したがって、凹部間の間隔等を高い精度で再現することができ、位置ズレによる光結合損失の発生を抑制することができる。
In each of the above-described embodiments, since the concave portion is formed so that all the concave portions can be formed together after the
また、基準位置を決める場合、以下のようにすれば基準位置の決定が容易である。
まず、コア部14の1つに対して凹部(ミラー)を形成する。次いで、ミラーを形成したコア部14に対して、凹部を形成したのとは反対の端部から光を入射する。これにより、入射光がミラーに反射してミラー形成位置が発光する。この発光を捉え、発光位置をその後の加工の基準位置として利用することにより、コア部14の位置に対して加工の基準位置を正確に合わせることができる。その後、発光位置を原点としながらその他の凹部(ミラー)をまとめて形成すれば、ミラー間の位置関係および離間距離を設計通りに正確に形成することができる。
以上のようにして、光導波路1が得られる。
Further, when determining the reference position, it is easy to determine the reference position as follows.
First, a recess (mirror) is formed for one of the
The optical waveguide 1 is obtained as described above.
<電子機器>
上述したような本発明の光導波路は、他の光学素子(受発光素子等)との光結合効率が高いものである。このため、本発明の光導波路を備えることにより、2点間で高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器(本発明の電子機器)が得られる。
<Electronic equipment>
The optical waveguide of the present invention as described above has high optical coupling efficiency with other optical elements (light emitting / receiving elements and the like). For this reason, by providing the optical waveguide of the present invention, a highly reliable electronic device (electronic device of the present invention) capable of performing high-quality optical communication between two points can be obtained.
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。 Examples of the electronic device including the optical waveguide of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a personal computer, a television, and a home server. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the optical waveguide of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electrical wiring are eliminated, and a dramatic improvement in performance can be expected.
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。 In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.
以上、本発明の光導波路、光電気混載基板および電子機器について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。 The optical waveguide, the opto-electric hybrid board, and the electronic device according to the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to this, and for example, an arbitrary component may be added to the optical waveguide. .
また、光導波路の製造方法は上記のものに限定されず、例えば、活性放射線の照射により分子結合を切断し、屈折率を変化させる方法(フォトブリーチ法)、組成物に光異性化または光二量化可能な不飽和結合を有する光架橋性ポリマーを含有させ、これに活性放射線を照射して分子構造を変化させるとともに屈折率を変化させる方法(光異性化法・光二量化法)等の方法を用いることもできる。 In addition, the method for producing an optical waveguide is not limited to the above-described ones. For example, a method in which molecular bonds are cut by irradiation with actinic radiation to change the refractive index (photo bleaching method), a composition is photoisomerized or photodimerized. Use a method such as a method (photoisomerization method or photodimerization method) that contains a photocrosslinkable polymer having an unsaturated bond and irradiates it with actinic radiation to change the molecular structure and change the refractive index. You can also.
また、光導波路の屈折率分布は、ステップインデックス型の分布等であってもよい。
また、光導波路の形態は、前記各実施形態で説明したような積層構造でなくてもよく、例えばコア部を覆うように管状のクラッド部が設けられた構造であってもよい。
Further, the refractive index distribution of the optical waveguide may be a step index type distribution or the like.
Further, the form of the optical waveguide does not have to be a laminated structure as described in each of the above embodiments, and may be a structure in which a tubular clad portion is provided so as to cover the core portion, for example.
次に、本発明の実施例について説明する。
1.光導波路の製造
(実施例1)
(1)脱離性基を有するノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で充満されたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン(HxNB)7.2g(40.1mmol)、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g(40.1mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
Next, examples of the present invention will be described.
1. Production of optical waveguide (Example 1)
(1) Synthesis of norbornene-based resin having a leaving group In a glove box where both moisture and oxygen concentrations are controlled to 1 ppm or less and filled with dry nitrogen, 7.2 g (40.1 mmol) of hexylnorbornene (HxNB) ), 12.9 g (40.1 mmol) of diphenylmethylnorbornenemethoxysilane was weighed into a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the top was sealed with a silicon sealer.
次に、100mLバイアルビン中に下記化学式(A)で表わされるNi触媒1.56g(3.2mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。 Next, 1.56 g (3.2 mmol) of Ni catalyst represented by the following chemical formula (A) and 10 mL of dehydrated toluene are weighed in a 100 mL vial, put a stirrer chip, tightly plugged, and thoroughly agitate the catalyst. Dissolved in.
この下記化学式(A)で表わされるNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン(THF)60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。 When 1 mL of the Ni catalyst solution represented by the following chemical formula (A) is accurately weighed with a syringe and quantitatively injected into the vial bottle in which the above two types of norbornene are dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity occurs. Was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.
100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。 In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (concentration 30%) and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare an aqueous solution of peracetic acid on the spot. Next, the total amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー#1を得た。ポリマー#1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー#1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50mol%であった。 Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 ° C. Polymer # 1 was obtained by heating and drying for 12 hours. The molecular weight distribution of the polymer # 1 was Mw = 100,000 and Mn = 40,000 by GPC measurement. The molar ratio of each structural unit in polymer # 1 was 50 mol% for the hexylnorbornene structural unit and 50 mol% for the diphenylmethylnorbornenemethoxysilane structural unit, as determined by NMR.
(2)組成物の製造
(2−1)コア層形成用の組成物の製造
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー(式(20)で示したモノマー、東亜合成製 CHOX、CAS#483303−25−9、分子量186、沸点125℃/1.33kPa)2g、重合開始剤(光酸発生剤) RhodorsilPhotoinitiator 2074(Rhodia社製、CAS# 178233−72−2)(1.36E-2g、酢酸エチル0.1mL中)を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄な感光性樹脂組成物を得た。
(2) Manufacture of composition (2-1) Manufacture of composition for core layer formation 10 g of the above-mentioned polymer # 1 was weighed into a 100 mL glass container, and 40 g of mesitylene and an antioxidant Irganox 1076 (manufactured by Ciba Geigy) ) 0.01 g, cyclohexyl oxetane monomer (monomer represented by the formula (20), manufactured by Toa Gosei CHOX, CAS # 483303-25-9, molecular weight 186, boiling point 125 ° C./1.33 kPa) 2 g, polymerization initiator (photoacid) Generating Agent) Rhodorsil Photoinitiator 2074 (manufactured by Rhodia, CAS # 178233-72-2) (1.36E-2 g in 0.1 mL of ethyl acetate) was added and dissolved uniformly, and then filtered through a 0.2 μm PTFE filter. A clean photosensitive resin composition was obtained.
(2−2)クラッド層形成用の組成物の製造
クラッド層形成用の組成物として、感光性ノルボルネン樹脂組成物(プロメラス社製 Avatrel2000Pワニス)を用意した。
(2-2) Manufacture of the composition for clad layer formation As the composition for clad layer formation, the photosensitive norbornene resin composition (Avatrel 2000P varnish by Promeras) was prepared.
(3)光導波路の製造
(母材の製造)
ポリエーテルスルホン(PES)フィルム上にクラッド層形成用の組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入し、クラッド層形成層を形成した。形成されたクラッド層形成層は、厚さが5μmであり、無色透明であった。
(3) Manufacture of optical waveguide (manufacture of base material)
A composition for forming a clad layer was uniformly applied on a polyethersulfone (PES) film by a doctor blade, and then placed in a dryer at 45 ° C. for 15 minutes to form a clad layer forming layer. The formed cladding layer forming layer had a thickness of 5 μm and was colorless and transparent.
次いで、形成したクラッド層形成層上にコア層形成用の組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、45℃の乾燥機に15分間投入し、溶剤を完全に除去した。 Next, the core layer forming composition was uniformly applied on the formed clad layer forming layer with a doctor blade, and then placed in a dryer at 45 ° C. for 15 minutes to completely remove the solvent.
以上のような、クラッド層形成層とコア層形成層とを交互に塗り重ねて、光導波路を製造するための母材を得た。なお、コア層形成層の厚さは50μmであった。 The base material for manufacturing the optical waveguide was obtained by alternately coating the clad layer forming layer and the core layer forming layer as described above. The core layer forming layer had a thickness of 50 μm.
また、コア部の屈折率は1.55、クラッド部の屈折率(側面クラッド部の屈折率とクラッド層の屈折率との平均)は1.53、低屈折率層の屈折率は1.54であった。 The refractive index of the core part is 1.55, the refractive index of the cladding part (average of the refractive index of the side cladding part and the refractive index of the cladding layer) is 1.53, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.54. Met.
(露光)
次いで、母材の上面にフォトマスクを圧着して紫外線を500mJ/cm2で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中150℃で1.5時間の加熱を行った。なお、フォトマスクには、図5に示す低屈折率層や側面クラッド部等の低屈折率領域に対応した開口が形成されたものを用いた。これにより、光導波路を製造するための積層体を得た。得られた積層体中のコア層では、側面クラッド部の幅が80μm、低屈折率層の厚さが5μmであった。また、コア部の幅については、光の進行方向に沿って徐々に拡大するよう、光入射端部近傍では45μm、中間部では50μm、光出射端部近傍では55μmとした。
(exposure)
Next, a photomask was pressed on the upper surface of the base material, and ultraviolet rays were selectively irradiated at 500 mJ / cm 2 . The mask was removed, and heating was performed at 150 ° C. in a dryer for 1.5 hours. Note that a photomask having an opening corresponding to a low refractive index region such as a low refractive index layer or a side cladding portion shown in FIG. 5 was used. Thereby, the laminated body for manufacturing an optical waveguide was obtained. In the core layer in the obtained laminate, the width of the side cladding portion was 80 μm, and the thickness of the low refractive index layer was 5 μm. The width of the core portion was 45 μm in the vicinity of the light incident end, 50 μm in the intermediate portion, and 55 μm in the vicinity of the light emitting end so as to gradually expand along the light traveling direction.
(凹部加工)
次いで、積層体に対してレーザー加工により、図2に示す凹部を形成した。これにより図2に示すミラー付き光導波路を得た。なお、得られた光導波路の長さは10cmであり、後述するいずれの光導波路についてもミラー間の長さが同じになるようにした。
(Concave processing)
Subsequently, the recessed part shown in FIG. 2 was formed with respect to the laminated body by laser processing. Thereby, the optical waveguide with a mirror shown in FIG. 2 was obtained. In addition, the length of the obtained optical waveguide was 10 cm, and the length between mirrors was made the same about any optical waveguide mentioned later.
(実施例2)
光入射端部のミラー1611、1612近傍に位置する低屈折率層を省略した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 2)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer located near the
(実施例3)
光出射端部のミラー1613、1614近傍に位置する低屈折率層を省略した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 3)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer located in the vicinity of the
(実施例4)
全ての低屈折率層を省略した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(実施例5)
図2のミラー1614近傍に設けられた低屈折率層のうち、低屈折率層145の数を1つ減らすようにした以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。なお、減らしたのは、ミラー1614に干渉している図4に示す低屈折率層1454である。
Example 4
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that all the low refractive index layers were omitted.
(Example 5)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the number of the low refractive index layers 145 in the low refractive index layers provided in the vicinity of the
(実施例6)
低屈折率層の厚さを1μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 6)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 1 μm.
(実施例7)
低屈折率層の厚さを10μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 7)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 10 μm.
(実施例8)
低屈折率層の厚さを20μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 8)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 20 μm.
(実施例9)
低屈折率層の厚さを25μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
Example 9
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 25 μm.
(実施例10)
低屈折率層の厚さを0.5μmに変更した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 10)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 0.5 μm.
(実施例11)
コア部の幅が50μmで一定になっている以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Example 11)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the width of the core portion was constant at 50 μm.
(比較例)
低屈折率層の形成を省略した以外は、実施例1と同様にして光導波路を得た。なお、得られた光導波路の断面図を図13に示す。以下、この光導波路の製造方法を説明する。
(Comparative example)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the formation of the low refractive index layer was omitted. A cross-sectional view of the obtained optical waveguide is shown in FIG. Hereinafter, a method for manufacturing the optical waveguide will be described.
まず、実施例1と同様にして、ポリエーテルスルホンフィルム上にクラッド層を形成した。また、同様に、ポリエーテルスルホンフィルム上にコア層形成層を製造した。 First, a clad layer was formed on a polyethersulfone film in the same manner as in Example 1. Similarly, a core layer forming layer was produced on the polyethersulfone film.
次いで、コア層形成層の上面にフォトマスクを圧着し、実施例1と同様にして紫外線を照射した。フォトマスクとしては、低屈折率層を形成するための開口の形成が省略されているものを用いた。なお、このプロセスを2つのコア層形成層に対して行い、2つのコア層を得た。 Next, a photomask was pressed onto the upper surface of the core layer forming layer, and ultraviolet rays were irradiated in the same manner as in Example 1. As the photomask, one in which the formation of the opening for forming the low refractive index layer is omitted is used. In addition, this process was performed with respect to two core layer formation layers, and two core layers were obtained.
次いで、各コア層に対してレーザー加工を施し、それぞれに凹部(ミラー)を形成した。 Next, laser processing was applied to each core layer, and a recess (mirror) was formed in each core layer.
その後、下側からクラッド層、ミラー付きコア層、クラッド層、ミラー付きコア層、クラッド層をこの順で積層した。これにより、図13に示す光導波路8を得た。 Thereafter, a clad layer, a core layer with a mirror, a clad layer, a core layer with a mirror, and a clad layer were laminated in this order from the lower side. Thereby, the optical waveguide 8 shown in FIG. 13 was obtained.
図13に示す光導波路8では、下側からクラッド層811、コア層831、クラッド層812、コア層832、クラッド層813がこの順で積層されており、コア層831、832中には実施例1で得られた光導波路と同条件のコア部および側面クラッド部が形成されている。また、各コア部に対応して凹部841、842、843、844が形成されており、これらの凹部841、842、843、844の内壁面の一部がミラーを構成している。
In the optical waveguide 8 shown in FIG. 13, the
2.光導波路の評価
2.1.光導波路の挿入損失の評価
850nmVCSEL(面発光レーザー)より発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して、実施例および比較例で得られた光導波路に導入し、200μmφの光ファイバーで受光を行って光の強度を測定した。なお、測定には挿入損失法を用いた。そして、比較例で得られた光導波路の挿入損失を1としたときの相対値を求め、これを以下の評価基準にしたがって評価した。
2. Evaluation of optical waveguide 2.1. Evaluation of insertion loss of optical waveguide Light emitted from an 850 nm VCSEL (surface emitting laser) is introduced into the optical waveguide obtained in the example and the comparative example via an optical fiber of 50 μmφ, and received by an optical fiber of 200 μmφ. The light intensity was measured. The insertion loss method was used for the measurement. And the relative value when the insertion loss of the optical waveguide obtained by the comparative example was set to 1 was calculated | required, and this was evaluated according to the following evaluation criteria.
また、評価にあたっては、第1の変換光路、第1の光路、第1の変換光路と経由する光路2本と、第2の変換光路、第2の光路、第2の変換光路と経由する光路2本の合計4本の光路に対応して、4本の光ファイバーが接続された発光用光ファイバーコネクターと、4本の光ファイバーが接続された受光用光ファイバーコネクターと、をそれぞれ使用し、各光路の挿入損失を測定した後、4本の光路の平均値を算出し、この平均値を前記光導波路の挿入損失として評価を行った。 In the evaluation, the first conversion optical path, the first optical path, two optical paths passing through the first conversion optical path, and the second conversion optical path, the second optical path, and the second conversion optical path are passed. A light-emitting optical fiber connector to which four optical fibers are connected and a light-receiving optical fiber connector to which four optical fibers are connected, corresponding to a total of four optical paths, are inserted into each optical path. After measuring the loss, the average value of the four optical paths was calculated, and this average value was evaluated as the insertion loss of the optical waveguide.
<挿入損失の評価基準>
AA:挿入損失の相対値が0.3未満である
A :挿入損失の相対値が0.3以上0.5未満である
B :挿入損失の相対値が0.5以上0.7未満である
C :挿入損失の相対値が0.7以上0.9未満である
D :挿入損失の相対値が0.9以上1未満である
E :挿入損失の相対値が1以上である
<Evaluation criteria for insertion loss>
AA: Relative value of insertion loss is less than 0.3 A: Relative value of insertion loss is 0.3 or more and less than 0.5 B: Relative value of insertion loss is 0.5 or more and less than 0.7 C: Relative value of insertion loss is 0.7 or more and less than 0.9 D: Relative value of insertion loss is 0.9 or more and less than 1 E: Relative value of insertion loss is 1 or more
2.2.光導波路の伝送損失の評価
挿入損失の評価後、光導波路のミラー近傍を切り落とし、全て同じ長さに揃えて、カットバック法により光導波路の伝送損失(単位dB/cm)を測定した。
結果を表1に示す。
2.2. Evaluation of Transmission Loss of Optical Waveguide After evaluating the insertion loss, the optical waveguide transmission loss (unit: dB / cm) was measured by the cut-back method by cutting off the vicinity of the mirror of the optical waveguide and making them all the same length.
The results are shown in Table 1.
表1から明らかなように、各実施例で得られた光導波路は、いずれも比較例で得られた光導波路に比べて挿入損失が抑えられていることが認められた。 As is clear from Table 1, it was confirmed that the optical waveguides obtained in each example had a lower insertion loss than the optical waveguides obtained in the comparative examples.
また、伝送損失については、実施例1、8、9、11および比較例で得られた光導波路を除いて、いずれもほぼ同等であった。なお、実施例8、9、11および比較例で得られた光導波路の伝送損失は、その他のものに比べて約20%大きかった。また、実施例1で得られた光導波路の伝送損失は、その他のものに比べて約20%小さかった。 The transmission loss was almost the same except for the optical waveguides obtained in Examples 1, 8, 9, and 11 and the comparative example. Note that the transmission loss of the optical waveguides obtained in Examples 8, 9, and 11 and the comparative example was about 20% larger than those of the other optical waveguides. In addition, the transmission loss of the optical waveguide obtained in Example 1 was about 20% smaller than the other ones.
以上の結果から、伝送損失の差を差し引いたとしても、各実施例で得られた光導波路は、比較例で得られた光導波路に比べて、光ファイバーとの結合部における損失が低くなっていると推察される。したがって、各実施例で得られた光導波路は、受発光素子等に対する光結合効率が高いことが明らかとなった。 From the above results, even when the difference in transmission loss is subtracted, the optical waveguide obtained in each example has a lower loss at the coupling portion with the optical fiber than the optical waveguide obtained in the comparative example. It is guessed. Therefore, it has been clarified that the optical waveguide obtained in each example has high optical coupling efficiency with respect to the light receiving and emitting elements.
1 光導波路
10 光導波路モジュール
111、112、113 クラッド層
12 積層体
121 接続点
131、132 コア層
14 コア部
145、1451、1452、1453、1454、1455 低屈折率層
15 側面クラッド部
1601、1602、1603、1604 凹部
1611、1612、1613、1614 ミラー
18 かん合穴
70 光ファイバー
71、72 発光素子
710、720 素子本体
711、721 発光部
712、722 電極
73、74 受光素子
730、740 素子本体
731、741 受光部
732、742 電極
75 発光用光ファイバーコネクター
751 コネクター本体
752 貫通孔
753 かん合ピン
76 受光用光ファイバーコネクター
761 コネクター本体
762 貫通孔
763 かん合ピン
77 電気配線
78 バンプ
79 アンダーフィル
8 光導波路
811、812、813 クラッド層
831、832 コア層
841、842、843、844 凹部
901、902 組成物
911、912 層
915 ポリマー
920 添加剤
925 照射領域
930 活性放射線
935 マスク
9351 開口
940 非照射領域
951 支持基板
960 母材
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
1A 光入射端部
1B 光出射端部
M1、M2、M3、M4 交点
L1、L2、L3、L4、L5、L6 光跡
F 断片
H 高屈折率領域
L 低屈折率領域
W 屈折率分布
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 10 Optical waveguide module 111,112,113 Clad layer 12 Laminated body 121 Connection point 131,132 Core layer 14 Core part 145,1451,1452,1453,1454,1455 Low refractive index layer 15 Side surface clad part 1601,1602 , 1603, 1604 Recess 1611, 1612, 1613, 1614 Mirror 18 Interlocking hole 70 Optical fiber 71, 72 Light emitting element 710, 720 Element main body 711, 721 Light emitting part 712, 722 Electrode 73, 74 Light receiving element 730, 740 Element main body 731, 741 Light-receiving portion 732, 742 Electrode 75 Light-emitting optical fiber connector 751 Connector main body 752 Through hole 753 Mating pin 76 Light-receiving optical fiber connector 761 Connector main body 762 Through hole 763 Mating pin 77 Electrical wiring 78 Bump 79 Underfill 8 Optical waveguide 811, 812, 813 Clad layer 831, 832 Core layer 841, 842, 843, 844 Recess 901, 902 Composition 911, 912 Layer 915 Polymer 920 Additive 925 Irradiation region 930 Active Radiation 935 Mask 9351 Opening 940 Non-irradiation area 951 Support substrate 960 Base material 2 Support film 3 Cover film 1A Light incident end 1B Light exit end M1, M2, M3, M4 Intersection L1, L2, L3, L4, L5, L6 Light trace F Fragment H High refractive index region L Low refractive index region W Refractive index distribution
Claims (9)
前記積層体の上面に設けられた第1の接続点と、
前記第1コア部の光路である第1の光路上に設けられるとともに前記積層体の下面に開口し、前記第1のコア層の上面まで及ぶ第1の凹部と、
前記第1の凹部の内壁面の一部で構成され、光反射により前記第1の接続点と光学的に接続されるよう前記第1の光路を変換する第1の光反射面と、
前記積層体の上面に設けられた第2の接続点と、
前記第2コア部の光路である第2の光路上に設けられるとともに前記積層体の下面に開口し、前記第2のコア層の上面まで及ぶ第2の凹部と、
前記第2の凹部の内壁面の一部で構成され、光反射により前記第2の接続点と光学的に接続されるよう前記第2の光路を変換する第2の光反射面と、
前記第1の光路が前記第1の光反射面により変換されてなる第1の変換光路を挟むように、かつ、前記第2の光路を横切るように、前記第2コア部内の前記第2の光路の一端側と他端側とにそれぞれ設けられた、前記第2コア部より屈折率の低い低屈折率層と、
を有し、
前記積層体の上面を平面視したとき、前記第1コア部と前記第2コア部とが互いに重なっており、かつ、前記第2の光反射面と前記第1の光反射面とが前記第2の光路の延在方向において互いにずれるように前記第1の凹部および前記第2の凹部がそれぞれ配置されていることを特徴とする光導波路。 A first core layer comprising a cladding layer, a first core portion and a side cladding portion adjacent to the first core portion, a cladding layer, a second core portion, and a side cladding portion adjacent to the second core portion A laminated body in which at least five layers of a second core layer comprising: and a clad layer are laminated in this order from below;
A first connection point provided on the upper surface of the laminate;
Open to the lower surface of the provided Rutotomoni the laminate in the first optical path is an optical path of said first core portion, a first recess extending to the upper surface of said first core layer,
A first light reflecting surface that is configured by a part of the inner wall surface of the first recess and converts the first optical path so as to be optically connected to the first connection point by light reflection;
A second connection point provided on the upper surface of the laminate;
Open to the lower surface of the provided Rutotomoni the laminate to the second optical path is an optical path of the second core portion, and a second recess extending to the upper surface of the second core layer,
A second light reflecting surface configured by a part of the inner wall surface of the second recess and converting the second optical path so as to be optically connected to the second connection point by light reflection;
The second optical path in the second core unit is arranged so that the first optical path is sandwiched by the first optical path converted by the first light reflecting surface and across the second optical path. A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the second core part, provided on one end side and the other end side of the optical path;
Have
When the top surface of the laminate is viewed in plan, the first core portion and the second core portion overlap each other, and the second light reflection surface and the first light reflection surface are the first light reflection surface. optical waveguide, wherein the Oite to 2 in the extending direction of the optical path so as to be offset from each other first recess and said second recess is disposed, respectively.
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