JP6094750B2 - 量子干渉装置、原子発振器、磁気センサー及び量子干渉装置の製造方法 - Google Patents
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Description
シウム原子に、周波数差が9.192631770GHzの2種類のD1線又はD2線のレーザー光を同時に照射すると、EIT現象が起こる。
性がある。EIT信号のピーク位置が変動すると共鳴する光の周波数も変動するため、原子発振器の周波数も変動する。これにより、従来の原子発振器では、高い長期安定度を実現することが難しいという問題があった。
本適用例に係る量子干渉装置は、金属原子と、前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を含む光を照射する光源と、前記金属原子を透過した前記光を検出する光検出部と、を有し、前記金属原子の、第1の基底準位と第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ1、前記第1の基底準位よりも高い第2の基底準位と前記第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ2、前記第1の基底準位と前記第1の励起準位よりも高い第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ3、前記第2の基底準位と前記第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ4とした時、前記共鳴光対の前記中心波長は、(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい。
本適用例に係る量子干渉装置は、金属原子と、前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を含む光を照射する光源と、前記金属原子を透過した前記光を検出する光検出部と、を有し、周波数の異なる2光波を前記金属原子に照射した時に、前記2光波が前記金属原子を透過する透過率が極小値となる2つの中心波長の間に、前記共鳴光対の前記中心波長がある。
を考慮すると互いに反対向きの非対称な形状になるが、これらが重なり合うことで実際にはより対称な形状に近づく。EIT信号がより対称に近づくことで、時間の経過とともに共鳴光対の強度が低下しても、EIT信号のピーク位置の変動がより小さくなるので原子発振器の周波数の変動が小さくなり、長期安定度を向上させることができる。
上記適用例に係る量子干渉装置において、前記光検出部の出力信号と周波数とをプロットしたグラフにおいて、極大値の時の前記周波数を中心としてグラフの形状が線対称になる周波数帯を有するようにしてもよい。
本適用例に係る原子発振器は、上記のいずれかの量子干渉装置を含む。
本適用例に係る磁気センサーは、上記のいずれかの量子干渉装置を含む。
本適用例に係る量子干渉装置の製造方法は、金属原子と、2光波を含む光を発生させて前記金属原子に照射する光源と、前記金属原子を透過した光を検出する光検出部と、を含む物理パッケージを準備する物理パッケージ準備工程と、前記金属原子の、第1の基底準位と第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ1、前記第1の基底準位よりも高い第2の基底準位と前記第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ2、前記第1の基底準位と前記第1の励起準位よりも高い第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ3、前記第2の基底準位と前記第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ4とした時、前記2光波の中心波長を、(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい波長に設定する中心波長設定工程と、を含む。
上記適用例に係る量子干渉装置の製造方法において、前記中心波長設定工程では、前記2光波の周波数差を、前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる周波数を中心に掃引させた状態で、前記2光波の中心波長を(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい所与の範囲で掃引しながら前記光検出部の出力信号を取得し、前記2光波の中心波長を、前記光検出部の出力信号が、極大値の時の周波数を中心として線対称に近づけるように設定するようにしてもよい。
上記適用例に係る量子干渉装置の製造方法において、前記中心波長設定工程では、取得した前記光検出部の出力信号の周波数スペクトルを観測し、前記2光波の周波数差を掃引した掃引周波数の2次成分のスペクトルと1次成分のスペクトルとの差が最も大きくなる時の値を、前記2光波の中心波長としてもよい。
[原子発振器の構成]
図1は、本実施形態の原子発振器の構成例を示す図である。図1に示すように、本実施形態の原子発振器1は、半導体レーザー10、減光フィルター(NDフィルター)11、1/4波長板12、ガスセル13、光検出器14、磁場発生部15、検波回路16、電圧制御水晶発振器(VCXO)17、変調回路18、低周波発振器19、周波数変換回路20、検波回路21、変調回路22、低周波発振器23、駆動回路24、磁場設定回路25、バイアス設定回路26、メモリー27及び周波数変換回路28を含んで構成されている。なお、本実施形態の原子発振器1は、適宜、図1の構成要素(各部)の一部を省略又は変更し、あるいは、他の構成要素を付加した構成としてもよい。
出力信号を周波数変換し、所望の周波数(例えば、10.00・・・MHz)のクロック信号を生成する。このクロック信号が外部出力される。周波数変換回路20は、例えば、DDS(Direct Digital Synthesizer)により実現することができる。
次に、検波回路16による検波原理について説明する。前述のように、本実施形態では、変調回路18が、低周波発振器19が発生させる数十Hz〜数百Hz程度の正弦波を変調信号として電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振信号を周波数変調し、周波数変換回路20に入力している。これにより、半導体レーザー10が発生させる2光波の周波数差を正弦波の振幅によって決まる数百Hz〜数kHz程度の範囲で掃引し、検波回路16により光検出器14の出力信号をこの正弦波で同期検波することで、光検出器14の出力に現れるEIT信号の左右の面積が等しいところをピークとみなして検出している。EIT信号が左右対称(極大値の時の周波数を中心として線対称)の場合、図4(A)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波(掃引信号)のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップと一致している状態では、光検出器14の出力信号には、直流成分と周波数が2fs(周期が1/2fs)の一定振幅の低周波数成分が含まれるが、周波数がfs(周期が1/fs)の低周波数成分は極めて小さい。従って、検波回路16によってfsの周波数成分はほとんど検波されない。一方、図4(B)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも低い方向にずれた状態では、光検出器14の出力信号は、周波数が2fs(周期が1/2fs)で1/fs周期毎に振幅が変化する。つまり、光検出器14の出力信号には、直流成分と2fsの周波数成分以外に、fsの周波数成分も含まれる。そのため、検波回路16によってfsの周波数成分が検波され、検波回路16の出力信号の電圧値は、図4(A)の場合の電圧値(基準電圧値)よりも高い電圧値となる。この検波回路16の出力信号が電圧制御水晶発振器(VCXO)17に入力されるので、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数は高い方向(2光波の周波数差がω12に近づく方向)に変化する。一方、図示を省略するが、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも高い方向にずれた状態では、光検出器14の出力信号は、図4(B)の信号に対して位相が180度異なる信号となる。従って、検波回路16の出力信号の電圧値は負(基準電圧値よりも低い電圧値)となり、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の発振周波数は低い方向(2光波の周波数差がω12に近づく方向)に変化する。
場合の電圧値(基準電圧値)よりも低い電圧値となる。また、図5(B)に示すように、周波数がfs(周期が1/fs)の正弦波のゼロクロス点a,c,eがEIT信号のピークトップよりも低い方向に所定量だけずれた状態では、光検出器14の出力信号には、直流成分と周波数が2fs(周期が1/2fs)の一定振幅の低周波数成分が含まれるが、周波数がfs(周期が1/fs)の低周波数成分は極めて小さい。従って、検波回路16によってfsの周波数成分はほとんど検波されず、この状態で安定する。すなわち、EIT信号が左右非対称の場合には、EIT信号のピークトップからずれた位置にロックがかかる。
検波回路16がEIT信号の左右の面積が等しいところをピークとみなして周波数をロックする性質を持つため、EIT信号が非対称にゆがんでいた場合、光源や外環境の変化によってEIT信号の強度が下がったときにロックする周波数もずれてしまう可能性がある。図6(A)及び図6(B)は、EIT信号(光検出器14の出力信号))とロック周波数(共鳴光対の周波数差)とをプロットしたグラフの一例である。図6(A)及び図6(B)において、縦軸はガスセル13を透過する光の透過率(検出器14の出力信号強度)であり、横軸は周波数(共鳴光対の周波数差)である。例えば、図6(A)に示すように、EIT信号が左側(低周波側)に傾いていた場合、EIT信号の強度が下がるにつれて、ロック周波数がf1→f2→f3のように下がっていく。逆に、図6(B)に示すように、EIT信号が右側(高周波側)に傾いていた場合、EIT信号の強度が下がるにつれて、ロック周波数がf1→f2→f3のように上がっていく。従って、EIT信号が非対称であれば、時間の経過とともに周波数が変動し、高い長期安定度を実現することが難しい。
させることができるので、原子発振器の長期安定度を従来よりも向上させることができる。
図10は、本実施形態の原子発振器1の製造方法の一例を示すフローチャート図である。
図1に示したガスセル13の周辺の磁場の強度が変化すると、ガスセル13に収容されているアルカリ金属原子の基底準位と励起準位におけるゼーマン分裂準位が変化する。このゼーマン分裂準位の変化に応じて、アルカリ金属原子にEIT現象を発生させる共鳴光対の周波数差ω12も変化する。そして、このω12は、磁場の強度Bの2乗に比例することが知られている。電圧制御水晶発振器(VCXO)17の周波数はω12に比例するので、電圧制御水晶発振器(VCXO)17の周波数から磁場強度を算出することができる。従って、ガスセル13の近傍に磁気測定対象物を配置することで磁気センサーを実現することができる。
本発明は本実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
本実施形態の原子発振器や磁気センサーでは、第1のフィードバックループにより、半導体レーザー10の出射光に含まれる2つの1次サイドバンドの光(周波数f0+fmの光と周波数f0−fmの光)がアルカリ金属原子にEIT現象を発生させる共鳴光対となるように、すなわち変調周波数fmがω12/2に一致するように制御がかかるが、これに限られない。例えば、図12(A)及び図12(B)に示すように、一方の1次サイドバンドの光(周波数f0+fmの光又は周波数f0−fmの光)と中心波長λ0(周波数f0)の光が共鳴光対となるように、すなわち、変調周波数fmがω12に一致するように制御してもよい。この場合、バイアス設定回路26は、共鳴光対の中間の波長がλaとλbの間の波長になるように半導体レーザー10のバイアス電流を設定すればよい。
本実施形態の原子発振器や磁気センサーを、電気光学変調器(EOM:Electro-Optic Modulator)を用いた構成に変形してもよい。すなわち、半導体レーザー10は、周波数変換回路20の出力信号(変調信号)による変調がかけられず、設定されたバイアス電流に応じた単一波長λ0(周波数f0)の光を発生させる。この波長λ0の光は、電気光学変
調器(EOM)に入射し、周波数変換回路20の出力信号(変調信号)によって変調がかけられる。その結果、図3と同様の周波数スペクトルを有する光を発生させることができる。そして、この電気光学変調器(EOM)が発生させる光がガスセル13に照射される。この原子発振器や磁気センサーでは、半導体レーザー10と電気光学変調器(EOM)により光源が構成される。なお、電気光学変調器(EOM)の代わりに、音響光学変調器(AOM:Acousto-Optic Modulator)を用いてもよい。
本実施形態の原子発振器や磁気センサーでは、1つの半導体レーザー10の出射光に含まれる2つの1次サイドバンドの光を共鳴光対として使用しているが、2つの半導体レーザーに、それぞれ単一波長の光を発生させ、これらを共鳴光対として使用してもよい。この場合も、共鳴光対の中間の波長がλaとλbの間の波長になるように2つの半導体レーザーのバイアス電流をそれぞれ設定すればよい。
Claims (8)
- 金属原子と、
前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を含む光を照射する光源と、
前記金属原子を透過した前記光を検出する光検出部と、を有し、
前記金属原子の、第1の基底準位と第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ1、前記第1の基底準位よりも高い第2の基底準位と前記第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ2、前記第1の基底準位と前記第1の励起準位よりも高い第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ3、前記第2の基底準位と前記第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ4とした時、前記共鳴光対の中心波長は、(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい、量子干渉装置。 - 金属原子と、
前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる共鳴光対を含む光を照射する光源と、
前記金属原子を透過した前記光を検出する光検出部と、を有し、
周波数の異なる2光波を前記金属原子に照射した時に、前記2光波が前記金属原子を透過する透過率が極小値となる2つの中心波長の間に、前記共鳴光対の前記中心波長がある、量子干渉装置。 - 前記光検出部の出力信号と周波数とをプロットしたグラフにおいて、極大値の時の前記周波数を中心としてグラフの形状が線対称になる周波数帯を有する、請求項1又は2に記載の量子干渉装置。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の量子干渉装置を含む原子発振器。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の量子干渉装置を含む磁気センサー。
- 金属原子と、2光波を含む光を発生させて前記金属原子に照射する光源と、前記金属原子を透過した光を検出する光検出部と、を含む物理パッケージを準備する物理パッケージ準備工程と、
前記金属原子の、第1の基底準位と第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ1、前記第1の基底準位よりも高い第2の基底準位と前記第1の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ2、前記第1の基底準位と前記第1の励起準位よりも高い第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ3、前記第2の基底準位と前記第2の励起準位とのエネルギー差に相当する波長をλ4とした時、前記2光波の中心波長を、(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい波長に設定する中心波長設定工程と、
を含む、量子干渉装置の製造方法。 - 前記中心波長設定工程では、
前記2光波の周波数差を、前記金属原子に電磁誘起透過現象を発生させる周波数を中心に掃引させた状態で、前記2光波の中心波長を(λ3+λ4)/2よりも大きく、かつ、(λ1+λ2)/2よりも小さい所与の範囲で掃引しながら前記光検出部の出力信号を取得し、前記2光波の中心波長を、前記光検出部の出力信号が、極大値の時の周波数を中心として線対称に近づけるように設定する、請求項6に記載の量子干渉装置の製造方法。 - 前記中心波長設定工程では、
取得した前記光検出部の出力信号の周波数スペクトルを観測し、前記2光波の周波数差を掃引した掃引周波数の2次成分のスペクトルと1次成分のスペクトルとの差が最も大きくなる時の値を、前記2光波の中心波長とする、請求項7に記載の量子干渉装置の製造方
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