JP6086387B2 - Method for producing carbon nanotube - Google Patents
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Description
本発明は、複数の芳香環が連結しπ電子共役系を保持してなる環状化合物をテンプレートに用いて、カーボンナノチューブ(CNT)を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a carbon nanotube (CNT) by using, as a template, a cyclic compound in which a plurality of aromatic rings are connected to hold a π-electron conjugated system.
従来、炭素原子を含むナノ構造体としては、2次元のグラフェンシートを筒状に巻いた構造を有するカーボンナノチューブが知られている。 Conventionally, as a nanostructure containing a carbon atom, a carbon nanotube having a structure in which a two-dimensional graphene sheet is wound in a cylindrical shape is known.
カーボンナノチューブは、高い導電性、高い機械的強度、優れた弾性、耐熱性、軽さ等の性質を有していることから、化学分野、電子工学分野、生命科学分野等の様々な分野への応用が期待されている。 Since carbon nanotubes have properties such as high conductivity, high mechanical strength, excellent elasticity, heat resistance, and lightness, they can be used in various fields such as chemistry, electronics, and life science. Application is expected.
カーボンナノチューブの製造方法としては、例えば、アーク放電法、レーザー・ファネス法及び化学気相成長法(CVD法)等が知られている。しかし、これらの製造方法では、チューブの径や長さの制御が困難であり、様々な径と長さを有するカーボンナノチューブの混合物でしか得られないという問題がある。カーボンナノチューブは上記の用途に用いる場合その物性が均質であることが望まれるため、所望の化学構造を有するカーボンナノチューブを選択的に製造する方法が強く求められている。 Known methods for producing carbon nanotubes include, for example, an arc discharge method, a laser fanes method, a chemical vapor deposition method (CVD method), and the like. However, in these production methods, it is difficult to control the diameter and length of the tube, and there is a problem that it can be obtained only with a mixture of carbon nanotubes having various diameters and lengths. Since carbon nanotubes are desired to have uniform physical properties when used in the above applications, a method for selectively producing carbon nanotubes having a desired chemical structure is strongly demanded.
近年、カーボンナノチューブの最小の構成単位である、シクロパラフェニレン化合物の研究が報告されている。 In recent years, research on cycloparaphenylene compounds, which are the smallest structural units of carbon nanotubes, has been reported.
例えば、非特許文献1には、1,4−ジヨードベンゼン及びベンゾキノンを原料に用いて、9、12又は18個のベンゼン環が連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を混合物として製造する方法が記載されている。
For example, Non-Patent
非特許文献2及び3には、1,4−シクロヘキサンジオンと1,4−ジヨードベンゼンとを用いて、規則的にベンゼン環が12個連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を製造する方法が記載されている。
非特許文献4には、正方形のビフェニレン白金錯体を臭素で還元的脱離して規則的にベンゼン環が8個連なった輪状構造を有するシクロパラフェニレン化合物を製造する方法が記載されている。
Non-Patent
上記非特許文献に開示されているシクロパラフェニレン化合物は、複数のフェニレン基が単結合で連結した輪状の化学構造を有し、アームチェア型の単層カーボンナノチューブ(CNT)の最小の構成単位として興味深い物性を有している。 The cycloparaphenylene compound disclosed in the above non-patent document has a ring-shaped chemical structure in which a plurality of phenylene groups are linked by a single bond, and is the smallest structural unit of an armchair-type single-walled carbon nanotube (CNT). Has interesting physical properties.
本発明は、所望の径を有するカーボンナノチューブ(以下、「CNT」と表記する)を選択的に製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for selectively producing carbon nanotubes having a desired diameter (hereinafter referred to as “CNT”).
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意研究を行った結果、複数の芳香族環が連結しπ電子共役系を保持してなる環状化合物をテンプレートに用いて、これをエタノール等の炭素源と共に加熱処理することにより、当該テンプレートの輪の径が保持された単層カーボンナノチューブ(SWCNTs)が製造できることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors used a cyclic compound in which a plurality of aromatic rings are connected and held a π-electron conjugated system as a template. It has been found that single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) in which the diameter of the template ring is maintained can be produced by heat treatment with a carbon source.
典型的なテンプレートとして、2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物が挙げられる。これを「カーボンナノリング」と表記する。カーボンナノリングの具体例としては、アームチェア型単層カーボンナノチューブの最短骨格である「シクロパラフェニレン化合物」(非特許文献1〜4を参照)、当該シクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個のフェニレン基が2価の縮合多環芳香族炭化水素基(例えば、2,6−ナフチレン基等)で置換された「修飾シクロパラフェニレン化合物」等が挙げられる。
A typical template includes a cyclic compound formed by connecting divalent aromatic hydrocarbon groups. This is expressed as “carbon nanoring”. Specific examples of the carbon nanoring include “cycloparaphenylene compound” (see Non-Patent
本発明のCNTの製造方法によれば、上記テンプレート(環状化合物)を用いてこれに炭素源を作用させることにより、環状化合物の中心軸方向にグラフェンシートを成長させて、当該環状化合物の直径の大きさをほぼ保持したカーボンナノチューブ(CNT)を選択的に製造することができる。そのため、本発明方法は、直径がほぼ一定のCNTを選択的に製造し得る極めて画期的な製造方法である。例えば、図1に、n個のパラフェニレンが連結したシクロパラフェニレン化合物([n]CPP)に炭素源を反応させてアームチェア型単層カーボンナノチューブが形成される模式図を示す。 According to the method for producing CNTs of the present invention, a graphene sheet is grown in the central axis direction of the cyclic compound by using the template (cyclic compound) and causing a carbon source to act on the template. Carbon nanotubes (CNT) having substantially the same size can be selectively produced. Therefore, the method of the present invention is a very innovative manufacturing method capable of selectively manufacturing CNTs having a substantially constant diameter. For example, FIG. 1 shows a schematic diagram in which an armchair single-walled carbon nanotube is formed by reacting a carbon source with a cycloparaphenylene compound ([n] CPP) in which n paraphenylenes are linked.
かかる知見に基づきさらに研究を行った結果、本発明を完成するに至った。 As a result of further research based on this finding, the present invention has been completed.
即ち、本発明は、下記のカーボンナノチューブ(CNT)の製造方法及びカーボンナノチューブ(CNT)を提供する。 That is, the present invention provides the following carbon nanotube (CNT) production method and carbon nanotube (CNT).
項1.複数の芳香族環が連結してなる環状化合物に炭素源を反応させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
項2.前記反応が、気体状の炭素源を供給して減圧下で加熱して反応させる、項1に記載の製造方法。
項3.前記複数の芳香族環が連結してなる環状化合物が、複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)である、項1又は2に記載の製造方法。
項4.前記複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)が、シクロパラフェニレン化合物、又は当該シクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個のフェニレン基が2価の縮合多環芳香族炭化水素基で置換された修飾シクロパラフェニレン化合物である、項3に記載の製造方法。
項5.前記複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)が、一般式(1): Item 5. The cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting the plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups is represented by the general formula (1):
(式中、aは6以上の整数を示す。)
で表されるシクロパラフェニレン化合物、又は、当該一般式(1)で表されるシクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個のフェニレン基が、一般式(2):(In the formula, a represents an integer of 6 or more.)
Or at least one phenylene group of the cycloparaphenylene compound represented by the general formula (1) is represented by the general formula (2):
(式中、bは1以上の整数を示す。)
で表される基で置換された修飾シクロパラフェニレン化合物である、項4に記載の製造方法。(In the formula, b represents an integer of 1 or more.)
Item 5. The production method according to
項6.前記シクロパラフェニレン化合物が、一般式(1)におけるaが6〜100の整数である化合物である、項5に記載の製造方法。 Item 6. Item 6. The production method according to Item 5, wherein the cycloparaphenylene compound is a compound in which a in the general formula (1) is an integer of 6 to 100.
項7.前記複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)が、一般式(1)で表されるシクロパラフェニレン化合物である、項5又は6に記載の製造方法。 Item 7. Item 7. The production method according to Item 5 or 6, wherein the cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting a plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups is a cycloparaphenylene compound represented by the general formula (1). .
項8.前記複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)が、一般式(3): Item 8. The cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting the plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups is represented by the general formula (3):
(式中、R2は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;R4は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;mは同じか又は異なり、それぞれ0以上の整数;nは同じか又は異なり、それぞれ1以上の整数を示す。)
で表される環状化合物、一般式(4):Wherein R 2 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; R 4 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon Group is the same or different, and each is an integer of 0 or more; n is the same or different and each represents an integer of 1 or more.)
A cyclic compound represented by the general formula (4):
(式中、dは1以上の整数を示す。)
で表される環状化合物、又は一般式(13):(In the formula, d represents an integer of 1 or more.)
Or a cyclic compound represented by the general formula (13):
(式中、R7は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基基;lは10、11又は13である。)
で示される環状化合物である、項3に記載の製造方法。(Wherein R 7 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; l is 10, 11 or 13)
項9.前記炭素源が、炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物及びエステル化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種である、項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
Item 9. Item 9. The production method according to any one of
項10.前記反応が、気体状の炭素源を供給しながら、10−4〜105Paの圧力下で400〜1200℃で加熱処理して反応させる、項1〜9のいずれかに記載の製造方法。Item 10. Item 10. The production method according to any one of
項11.複数の芳香族環が連結してなる環状化合物に炭素源を反応させることにより得られたカーボンナノチューブ。
項12.前記反応が、気体状の炭素源を供給して減圧下で加熱して反応させる、項11に記載のカーボンナノチューブ。
Item 12. Item 12. The carbon nanotube according to
項13.単層カーボンナノチューブである、項11又は12に記載のカーボンナノチューブ。
Item 13. Item 13. The carbon nanotube according to
本発明の製造方法によれば、複数の芳香族環が連結しπ電子共役系を保持してなる環状化合物をテンプレートに用いることにより、当該テンプレートの輪の径が保持された単層カーボンナノチューブ(SWCNTs)が製造できる。 According to the production method of the present invention, a single-walled carbon nanotube in which the diameter of the ring of the template is maintained by using a cyclic compound in which a plurality of aromatic rings are connected and a π-electron conjugated system is maintained as a template. SWCNTs) can be manufactured.
テンプレートとして、例えば、シクロパラフェニレン化合物、修飾シクロパラフェニレン化合物等の複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)を用いることができる。これらのテンプレートは種々のものを選択することができ、公知の方法及び本明細書に記載の方法に基づき容易に製造することができる。 As the template, for example, a cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting a plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups such as a cycloparaphenylene compound and a modified cycloparaphenylene compound can be used. Various templates can be selected and can be easily manufactured based on a known method and a method described in the present specification.
本発明の製造方法を用いれば、このテンプレートの構造に由来して、アームチェア型、キラル型等の種々のCNTを製造することができる。例えば、シクロパラフェニレン化合物をテンプレートとすれば、一定の直径を有するアームチェア型CNTを選択的に製造することができる。また、修飾シクロパラフェニレン化合物をテンプレートとすれば、一定の直径を有するキラル型CNTを選択的に製造することができる。 By using the production method of the present invention, various CNTs such as an armchair type and a chiral type can be produced from the structure of the template. For example, if a cycloparaphenylene compound is used as a template, an armchair CNT having a certain diameter can be selectively produced. Further, if a modified cycloparaphenylene compound is used as a template, chiral CNTs having a certain diameter can be selectively produced.
本発明の製造方法では、従来のCNTの製造方法で必須である触媒を用いる必要がないため、反応終了後に得られたCNTと触媒の分離作業が不要となる。そして、従来の方法では使用した触媒等に起因する不純物が多数存在するが、本発明の方法では純度の高いCNTを製造することが出来る。また、本発明の製造方法では、比較的低温の加熱処理で実施することができるため、製造装置の制約がなく安価に製造することができる。 In the production method of the present invention, it is not necessary to use a catalyst that is indispensable in the conventional CNT production method, so that the separation work of the CNT obtained after the reaction and the catalyst is not required. In the conventional method, there are a large number of impurities due to the catalyst or the like used, but in the method of the present invention, highly pure CNT can be produced. Moreover, in the manufacturing method of this invention, since it can implement by comparatively low-temperature heat processing, there is no restriction | limiting of a manufacturing apparatus and it can manufacture cheaply.
このように、本発明の方法は、所望の直径を有するCNTを選択的かつ効率的に製造することができる画期的な方法である。 Thus, the method of the present invention is an epoch-making method capable of selectively and efficiently producing CNTs having a desired diameter.
本発明のCNTの製造方法は、複数の芳香族環が連結してなる環状化合物を炭素源と反応させることを特徴とする。 The CNT production method of the present invention is characterized in that a cyclic compound formed by connecting a plurality of aromatic rings is reacted with a carbon source.
1.複数の芳香族環が連結してなる環状化合物(テンプレート)
本発明のCNTの製造方法において、複数の芳香族環が連結してなる環状化合物を製造原料として用いることができる。換言すれば、当該環状化合物を、CNTの鋳型(テンプレート)として用いることができる。 1. Cyclic compound (template) formed by connecting multiple aromatic rings
In the CNT production method of the present invention, a cyclic compound formed by connecting a plurality of aromatic rings can be used as a production raw material. In other words, the cyclic compound can be used as a template (template) for CNT.
複数の芳香族環が連結してなる環状化合物とは、複数の芳香族環がπ電子共役系を保持して輪状に連結した化合物を意味する。芳香族環が連結してなる環状化合物として、例えば、複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)等が挙げられる。 The cyclic compound formed by connecting a plurality of aromatic rings means a compound in which a plurality of aromatic rings are connected in a ring shape while maintaining a π-electron conjugated system. Examples of the cyclic compound formed by connecting aromatic rings include a cyclic compound (carbon nano ring) formed by connecting a plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups.
複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)としては、例えば、シクロパラフェニレン化合物、当該シクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個のフェニレン基が2価の縮合多環芳香族炭化水素基で置換された修飾シクロパラフェニレン化合物等が挙げられる。 Examples of the cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting a plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups include, for example, a cycloparaphenylene compound and at least one phenylene group of the cycloparaphenylene compound is divalent condensed poly. And modified cycloparaphenylene compounds substituted with a ring aromatic hydrocarbon group.
シクロパラフェニレン化合物としては、6個以上のフェニレン基を有するシクロパラフェニレン化合物が挙げられる。具体的には、一般式(1): Examples of the cycloparaphenylene compound include cycloparaphenylene compounds having 6 or more phenylene groups. Specifically, the general formula (1):
(式中、aは6以上の整数を示す。)
で表される化合物が挙げられる。aは好ましくは6〜100、より好ましくは8〜50、さらに好ましくは8〜30、さらに好ましくは9〜20の整数、特に好ましくは10〜18である。具体的には、aは6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20等が挙げられ、特に9、10、11、12、13、14、15、16、17、18等が挙げられる。(In the formula, a represents an integer of 6 or more.)
The compound represented by these is mentioned. a is preferably 6 to 100, more preferably 8 to 50, still more preferably 8 to 30, still more preferably 9 to 20, and particularly preferably 10 to 18. Specifically, a includes 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, etc., and in particular, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 etc. are mentioned.
一般式(1)で表される化合物におけるリングの直径は、aが9〜12の場合には1.2〜1.7nm程度であり、aが13〜16の場合には1.8〜2.4nm程度であり、また、aが13〜18の場合には1.8〜2.5nm程度である。 The diameter of the ring in the compound represented by the general formula (1) is about 1.2 to 1.7 nm when a is 9 to 12, and 1.8 to 2 when a is 13 to 16. .4 nm, and when a is 13-18, it is about 1.8-2.5 nm.
本発明のCNTの製造方法では、出発物質である環状化合物の径がCNTの直径にほぼ転写されるため、ほぼ均一な径を有するCNTを製造することができる。 In the method for producing CNTs of the present invention, the diameter of the cyclic compound as a starting material is almost transferred to the diameter of the CNTs, so that CNTs having a substantially uniform diameter can be produced.
また、修飾シクロパラフェニレン化合物は、上記シクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個(好ましくは1〜4個、より好ましくは1〜2個、特に好ましくは1個)のフェニレン基が2価の縮合多環芳香族炭化水素基で置換された化合物である。 The modified cycloparaphenylene compound is a divalent condensed polycyclic ring in which at least one (preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1) phenylene group of the above cycloparaphenylene compound is used. It is a compound substituted with an aromatic hydrocarbon group.
2価の縮合多環芳香族炭化水素基としては、例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ナフタセン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ペンタセン、ヘキサセン、ペリレン等の2個以上(2〜7個、さらに2〜4個、特に2個)のベンゼン環が縮合した炭化水素から2個の水素原子を除いて得られる2価の基が挙げられる。縮合多環芳香族炭化水素基の2つの結合手の位置は、修飾シクロパラフェニレン化合物がリングを形成し得るものであれば特に限定はない。 Examples of the divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group include two or more (2 to 7, further 2 to 4, such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, naphthacene, triphenylene, pyrene, chrysene, pentacene, hexacene, and perylene. And especially a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from a hydrocarbon condensed with a benzene ring. The position of the two bonds of the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group is not particularly limited as long as the modified cycloparaphenylene compound can form a ring.
2価の縮合多環芳香族炭化水素基として、好ましくは、一般式(2): As the divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group, the general formula (2):
(式中、bは1以上の整数を示す。)
で表される基が挙げられる。bは好ましくは1〜6、より好ましくは1〜3、さらに好ましくは1又は2の整数であり、特に好ましくは1である。(In the formula, b represents an integer of 1 or more.)
The group represented by these is mentioned. b is preferably an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
複数の2価の芳香族炭化水素基が連結してなる環状化合物(カーボンナノリング)の具体例としては、例えば、一般式(3): Specific examples of the cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting a plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups include, for example, the general formula (3):
(式中、R2は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;R4は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;mは同じか又は異なり、それぞれ0以上の整数;nは同じか又は異なり、それぞれ1以上の整数を示す。)
で表される環状化合物、又は、一般式(4):Wherein R 2 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; R 4 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon Group is the same or different, and each is an integer of 0 or more; n is the same or different and each represents an integer of 1 or more.)
Or a cyclic compound represented by the general formula (4):
(式中、dは1以上の整数を示す。)
で表される環状化合物、一般式(13):(In the formula, d represents an integer of 1 or more.)
A cyclic compound represented by the general formula (13):
(式中、R7は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基基;lは10、11又は13である。)
で示される環状化合物等が挙げられる。(Wherein R 7 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; l is 10, 11 or 13)
And the like, and the like.
一般式(3)において、R2及びR4で示されるフェニレン基としては、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、1,4−フェニレン基が好ましい。In the general formula (3), the phenylene groups represented by R 2 and R 4 may be the same or different, but are preferably 1,4-phenylene groups.
一般式(3)において、R2及びR4で示される2価の縮合多環芳香族炭化水素基としては、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、上述した2個以上(2〜7個、さらに2〜4個、特に2個)のベンゼン環が縮合した炭化水素から2個の水素原子を除いて得られる2価の基が挙げられる。具体的には、上述したとおりであり、好ましくは上記一般式(2)で表される基が挙げられる。In the general formula (3), the divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group represented by R 2 and R 4 may be the same or different, but two or more (2-7, Furthermore, the bivalent group obtained by remove | excluding two hydrogen atoms from the hydrocarbon which 2-4 (especially 2) benzene rings condensed is mentioned. Specifically, it is as having mentioned above, Preferably group represented by the said General formula (2) is mentioned.
一般式(3)において、mとしては、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、0以上の整数である。好ましくは10以下の整数、より好ましくは5以下の整数、さらに好ましくは3以下の整数、特に好ましくは1又は2である。mが2以上の場合、複数のR4が直接結合する構成を有する。この場合、直接結合しているR4は同一であっても異なっていてもよい。In the general formula (3), m may be the same or different, but is an integer of 0 or more. The integer is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, still more preferably 3 or less, and particularly preferably 1 or 2. When m is 2 or more, a plurality of R 4 are directly bonded. In this case, R 4 directly bonded may be the same or different.
一般式(3)において、nとしては、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、1以上の整数である。好ましくは10以下の整数、より好ましくは5以下の整数、さらに好ましくは3以下の整数、特に好ましくは1又は2である。nが2以上の場合、複数のR2が直接結合する構成を有する。この場合、直接結合しているR2は同一であっても異なっていてもよい。In general formula (3), n may be the same or different, but is an integer of 1 or more. The integer is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, still more preferably 3 or less, and particularly preferably 1 or 2. When n is 2 or more, a plurality of R 2 are directly bonded. In this case, R 2 directly bonded may be the same or different.
一般式(3)において、R2及びR4の少なくとも1つが2価の縮合多環芳香族炭化水素基(特に、一般式(2)で表される基)の場合、キラルなカーボンナノリングになり得る。さらに、このカーボンナノリングを、後述する本発明の製造方法のテンプレートとして用いることにより、このカーボンナノリングに由来する直径をほぼ保持したキラルなCNTを製造することができる。In the general formula (3), when at least one of R 2 and R 4 is a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group (particularly, a group represented by the general formula (2)), Can be. Furthermore, by using this carbon nanoring as a template for the production method of the present invention described later, chiral CNTs that substantially retain the diameter derived from this carbon nanoring can be produced.
一般式(4)において、dは好ましくは1〜3の整数、より好ましくは1又は2を示す。 In the general formula (4), d is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2.
一般式(13)において、R7で示されるフェニレン基及び2価の縮合多環芳香族炭化水素基としては、具体的には、一般式(3)におけるR2及びR4として説明したものと同様である。また、好ましい具体例も同様である。また、lは10、11又は13である。In the general formula (13), as the phenylene group represented by R 7 and the divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group, specifically, those described as R 2 and R 4 in the general formula (3) It is the same. The same applies to preferred specific examples. L is 10, 11 or 13.
つまり、化合物(13)としては、具体的には、 That is, as the compound (13), specifically,
である。 It is.
2.炭素源
本発明の製造方法で用いる炭素源としては、種々の炭素又は炭素含有化合物を用いることができ、上記のテンプレート(環状化合物)から、その輪の中心軸方向にCNTのグラフェンシートを成長させることができるものであれば特に限定はない。例えば、炭素、炭化水素化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、エステル化合物等が挙げられる。これらの1種又はその2種以上を用いることができる。 2. Carbon source As the carbon source used in the production method of the present invention, various carbons or carbon-containing compounds can be used. From the template (cyclic compound), a graphene sheet of CNT is grown in the central axis direction of the ring. There is no particular limitation as long as it can be used. For example, carbon, a hydrocarbon compound, an alcohol compound, an ether compound, an ester compound, and the like can be given. One of these or two or more of them can be used.
炭化水素化合物としては、例えば、飽和又は不飽和の脂肪族炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon compound include saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon compounds and aromatic hydrocarbon compounds.
飽和の脂肪族炭化水素化合物としては、例えば、C1〜100(好ましくはC1〜10、より好ましくはC1〜4)の直鎖状、分岐状又は環状のアルカンが挙げられる。具体例として、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。 Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon compound include a linear, branched or cyclic alkane having 1 to 100 (preferably C1 to 10, more preferably C1 to 4). Specific examples include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane and the like.
不飽和の脂肪族炭化水素化合としては、例えば、二重結合を1〜3個有する、C2〜100(好ましくはC2〜10、より好ましくはC2〜6)の直鎖状、分岐状又は環状のアルケンが挙げられる。具体例として、エチレン、プロペン、1−ブテン、2−ブテン、ブタジエン等が挙げられ、好ましくはエチレンである。或いは、三重結合を1〜3個有する、C2〜100(好ましくはC2〜10、より好ましくはC2〜4)の直鎖状又は分岐状のアルキンが挙げられる。具体例として、アセチレン、プロピン等が挙げられ、好ましくはアセチレンである。 Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon compound include C2 to 100 (preferably C2 to 10, more preferably C2 to 6) linear, branched or cyclic having 1 to 3 double bonds. Alkenes are mentioned. Specific examples include ethylene, propene, 1-butene, 2-butene, butadiene and the like, preferably ethylene. Or the linear or branched alkyne of C2-100 (preferably C2-10, more preferably C2-4) which has 1-3 triple bonds is mentioned. Specific examples include acetylene and propyne, and acetylene is preferred.
芳香族炭化水素化合物としては、例えば、単環又は多環の芳香族炭化水素が挙げられ、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、クメン、エチルベンゼン、フェナントレン、アントラセン等が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon compound include monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbons, and specifically include benzene, toluene, xylene, naphthalene, cumene, ethylbenzene, phenanthrene, anthracene, and the like.
アルコール化合物としては、例えば、C1〜50(好ましくはC1〜10、より好ましくはC1〜4)の直鎖状、分岐状又は環状のモノ若しくはポリアルコールが挙げられる。具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、エチレングリコール等が挙げられる。好ましくは、メタノール、エタノール、プロパノール等である。 Examples of the alcohol compound include C1-50 (preferably C1-10, more preferably C1-4) linear, branched, or cyclic mono- or polyalcohol. Specific examples include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, ethylene glycol and the like. Preferred are methanol, ethanol, propanol and the like.
エーテル化合物としては、例えば、C2〜50(好ましくはC2〜10、より好ましくはC2〜4)の直鎖状、分岐状又は環状のエーテルが挙げられる。具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。 Examples of ether compounds include C2-50 (preferably C2-10, more preferably C2-4) linear, branched or cyclic ethers. Specific examples include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, diisobutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like.
エステル化合物としては、例えば、式:R5−C(=O)O−R6(式中、R5は水素原子又はC1〜10のアルキル基を示す。R6はC1〜10のアルキル基を示す。)で表される化合物が挙げられる。R5及びR6で示されるC1〜10アルキル基としては、同一又は異なって、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。具体例としては、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等が挙げられる。Examples of the ester compound include the formula: R 5 —C (═O) O—R 6 (wherein R 5 represents a hydrogen atom or a C 1-10 alkyl group. R 6 represents a C 1-10 alkyl group. The compound represented by this is shown. The C1-10 alkyl group represented by R 5 and R 6 may be the same or different, and may be a straight chain such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl or the like. A branched alkyl group is exemplified. Specific examples include methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate and the like.
本発明の製造方法を考慮すると、上記のうち減圧下で気体になり得る炭素源が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のC1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のモノアルコール;メタン、エタン等のC1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルカン;エチレン等のC2〜4のアルケン;アセチレン等のC2〜4のアルキン等が好ましい。 In consideration of the production method of the present invention, a carbon source that can become a gas under reduced pressure is preferable, for example, C1-6 linear, branched or cyclic monoalcohol such as methanol, ethanol, propanol, etc .; methane C1-6 linear, branched or cyclic alkane such as ethane; C2-4 alkene such as ethylene; C2-4 alkyne such as acetylene, and the like are preferable.
3.CNTの製法
本発明のCNTの製造方法は、上記の複数の芳香族環が連結してなる環状化合物(テンプレート)を炭素源と反応させることを特徴とする。具体的には、気体状の炭素源を供給して減圧下で加熱することが好ましい。本発明の製造方法は、例えば、該環状化合物をテンプレートとして用いて、炭素源の存在下に化学気相成長(CVD)法により実施することができる。典型的には、適当な担体上にテンプレートを配置して、該テンプレートに、減圧及び加熱条件下、炭素源を含む原料ガスを用いて化学気相成長(CVD)させることによりCNTを製造することができる。本発明の製造方法では、従来のCVD法で用いられる触媒(金属触媒等)を使用すること無く、テンプレートからグラフェンシートを拡張させて(π電子共役系を広げて)CNTを製造することができる(例えば、図1を参照)。得られるCNTは単層CNT(SWCNTs)である。 3. CNT Production Method The CNT production method of the present invention is characterized in that a cyclic compound (template) formed by linking a plurality of aromatic rings is reacted with a carbon source. Specifically, it is preferable to supply a gaseous carbon source and heat under reduced pressure. The production method of the present invention can be carried out, for example, by chemical vapor deposition (CVD) in the presence of a carbon source using the cyclic compound as a template. Typically, a CNT is produced by placing a template on a suitable carrier and subjecting the template to chemical vapor deposition (CVD) using a source gas containing a carbon source under reduced pressure and heating conditions. Can do. In the production method of the present invention, a CNT can be produced by expanding a graphene sheet from a template (expanding a π-electron conjugated system) without using a catalyst (metal catalyst or the like) used in a conventional CVD method. (See, for example, FIG. 1). The obtained CNTs are single-walled CNTs (SWCNTs).
テンプレートを配置する担体としては、テンプレートを担持できてCNTを製造する過程で悪影響を与えない材質であれば特に限定はなく、例えば、シリカ、アルミナ、マグネシア、セリア、多孔性ゼオライト、メソポーラスシリカ等が挙げられる。担体の形状も特に限定はなく、粉末状、粒子状、平板状等の種々の形状のものが例示される。 The carrier for placing the template is not particularly limited as long as it is a material that can carry the template and does not adversely affect the process of producing CNTs. For example, silica, alumina, magnesia, ceria, porous zeolite, mesoporous silica, etc. Can be mentioned. The shape of the carrier is not particularly limited, and examples thereof include various shapes such as powder, particles, and flat plate.
また、担体として基板を用いてもよい。基板としては、例えば、サファイア単結晶基板、シリコン基板、石英ガラス基板、多孔性シリコン基板、多孔性アルミナ基板等が挙げられ、好ましくはサファイア単結晶基板である。基板上にテンプレートを配置する方法は特に限定はなく、例えばテンプレートを適当な溶媒に溶解した溶液を基板上にコーティングすることにより配置することができる。 Further, a substrate may be used as the carrier. Examples of the substrate include a sapphire single crystal substrate, a silicon substrate, a quartz glass substrate, a porous silicon substrate, and a porous alumina substrate, and a sapphire single crystal substrate is preferable. The method for disposing the template on the substrate is not particularly limited. For example, the template can be disposed by coating the substrate with a solution obtained by dissolving the template in an appropriate solvent.
溶媒としては、テンプレートを溶解し得るものであれば特に限定はなく、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、芳香族炭化水素類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、エステル類(例えば、酢酸エチル等)等が挙げられる。テンプレートを含む溶液の濃度は、テンプレートの溶解性、基板のサイズ等により適宜変更可能である。通常、基板上にテンプレート分子が重ならずに単一分子の状態で配置できるように低濃度であることが好ましい。例えば、0.00001〜0.01重量%、好ましくは0.0001〜0.005重量%が挙げられる。 The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the template. For example, alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.), ethers (for example, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), aromatic carbonization, etc. Examples thereof include hydrogens (for example, benzene, toluene, xylene and the like), esters (for example, ethyl acetate and the like), and the like. The concentration of the solution containing the template can be appropriately changed depending on the solubility of the template, the size of the substrate, and the like. Usually, the concentration is preferably low so that the template molecules can be arranged in a single molecule state without overlapping on the substrate. For example, 0.00001-0.01 weight%, Preferably 0.0001-0.005 weight% is mentioned.
テンプレートを含む溶液を基板上にコーティングする方法は特に限定はなく、例えば、スピンコート、スプレイコート、ディップコート等が挙げられ、好ましくはスピンコートである。スピンコートを用いた場合、その回転数は例えば1000〜10000rpm程度、回転時間は10〜30秒程度である。その後、乾燥して溶媒を除いてテンプレートを基板に配置することができる。 The method for coating the solution containing the template on the substrate is not particularly limited, and examples thereof include spin coating, spray coating, dip coating, and the like, preferably spin coating. When spin coating is used, the number of rotations is, for example, about 1000 to 10,000 rpm, and the rotation time is about 10 to 30 seconds. The template can then be placed on the substrate by drying and removing the solvent.
テンプレートを配置した担体を反応器に移し炭素源を用いたCVD法に供することが好ましい。通常、当該担体を設置した反応器を真空引きし、炭素源を含む気体を供給した後又は供給しつつ、適当な温度及び圧力下で実施する。反応は、温度、圧力、炭素源の供給量が安定させて実施することが好ましい。 It is preferable that the support on which the template is arranged is transferred to a reactor and subjected to a CVD method using a carbon source. Usually, the reaction is carried out at an appropriate temperature and pressure after evacuating the reactor containing the carrier and supplying or supplying a gas containing a carbon source. The reaction is preferably carried out while stabilizing the temperature, pressure, and supply amount of the carbon source.
反応の雰囲気ガスは、反応条件下においてテンプレートやCNTと反応せず不活性であれば特に限定はなく、例えば、ヘリウム、アルゴン、水素、窒素、ネオン、クリプトン等、又はこれらの混合気体が挙げられる。特に、ヘリウム、アルゴン等が好ましい。 The atmosphere gas for the reaction is not particularly limited as long as it does not react with the template or CNT under the reaction conditions and is inactive, and examples thereof include helium, argon, hydrogen, nitrogen, neon, krypton, or a mixed gas thereof. . In particular, helium, argon and the like are preferable.
炭素源の供給は、通常、炭素源を気体状にしたものを供給することが出来る。炭素源の供給量は特に限定はなく、気体状の炭素源の場合は、通常5〜2000mL/分であればよい。或いは、気体状の炭素源と上記の雰囲気ガスで希釈した混合気体を供給してもよい。 In general, the carbon source can be supplied in a gaseous form. The supply amount of the carbon source is not particularly limited, and in the case of a gaseous carbon source, it may normally be 5 to 2000 mL / min. Alternatively, a mixed gas diluted with a gaseous carbon source and the above atmospheric gas may be supplied.
反応器内の圧力は、通常、減圧下(大気圧以下)が好ましく、例えば、10−4〜105Pa程度、好ましくは10−3〜105Pa程度、より好ましくは102〜104Pa程度である。The pressure in the reactor is usually preferably under reduced pressure (atmospheric pressure or less), for example, about 10 −4 to 10 5 Pa, preferably about 10 −3 to 10 5 Pa, more preferably 10 2 to 10 4 Pa. Degree.
反応器内の温度は、通常、400〜1200℃、好ましくは450〜700℃、より好ましくは450〜500℃である。反応時間は、例えば、5〜30分、好ましくは10〜15分である。 The temperature in the reactor is usually 400 to 1200 ° C, preferably 450 to 700 ° C, more preferably 450 to 500 ° C. The reaction time is, for example, 5 to 30 minutes, preferably 10 to 15 minutes.
得られたCNTの構造は、ラマン分光法及び透過型電子顕微鏡(TEM)観察により評価することが出来る。 The structure of the obtained CNT can be evaluated by Raman spectroscopy and transmission electron microscope (TEM) observation.
また、TEMにおいて、単層カーボンナノチューブのTEM像から、CNTの直径、単層CNTがバンドルを形成していることや、単層カーボンナノチューブの壁面に欠陥の有無等を確認することができる。例えば、実施例1で[12]シクロパラフェニレンから製造したCNTについて、透過型電子顕微鏡により測定したCNTの直径分布の結果を図4に示す。 Further, in the TEM, from the TEM image of the single-walled carbon nanotube, it is possible to confirm the diameter of the CNT, the single-walled CNT forming a bundle, the presence or absence of defects on the wall surface of the single-walled carbon nanotube, and the like. For example, FIG. 4 shows the result of the CNT diameter distribution measured with a transmission electron microscope for the CNT produced from [12] cycloparaphenylene in Example 1.
ラマン分光法において、1枚のグラフェンシートを継ぎ目なく円筒状に巻いたものは、ブリージングモードと呼ばれる振動モードが出現する。この振動モードの振動数はチューブの直径に反比例することが知られているので、ラマン散乱によりブリージングモードの振動数を測定すると、CNTの直径の分布を知ることができる。 In Raman spectroscopy, a vibration mode called a breathing mode appears when one graphene sheet is seamlessly wound into a cylindrical shape. Since it is known that the frequency of this vibration mode is inversely proportional to the diameter of the tube, the distribution of the diameter of the CNT can be known by measuring the frequency of the breathing mode by Raman scattering.
また、ラマン分光法において、CNT固有のラマンバンドであるGバンドのスペクトル強度と、アモルファスカーボン由来のDバンドのスペクトルの強度の比(G/D比)を、合成後の単層カーボンナノチューブの純度を表す指標(不純物の混入度合いを表す尺度)とすることができる。 In Raman spectroscopy, the ratio of the spectral intensity of the G band, which is a Raman band unique to CNT, and the intensity of the spectrum of the D band derived from amorphous carbon (G / D ratio) is used to determine the purity of the single-walled carbon nanotube after synthesis. Can be used as an index (a scale representing the degree of impurity contamination).
また、ラマン分光法において、用いるレーザーの波長により検出されるCNTが異なるため、異なる波長のレーザーを用いてCNTの物性評価を行うことが出来る。本発明の方法で得られるCNTは、例えば、レーザーの励起波長が514nm及び488nmでは半導体のCNTが検出され、励起波長が633nmでは金属のCNTが検出される。 In Raman spectroscopy, since the detected CNT differs depending on the wavelength of the laser used, the physical properties of the CNT can be evaluated using lasers having different wavelengths. As for the CNT obtained by the method of the present invention, for example, semiconductor CNT is detected at laser excitation wavelengths of 514 nm and 488 nm, and metal CNT is detected at an excitation wavelength of 633 nm.
本発明の製造方法は、テンプレートの環状化合物の直径をほぼ忠実に再現したCNTを製造することができる。そのため、従来の一般的なCVD法で製造されるCNTと比べて直径の分布が極めて小さいという特徴を有している。例えば、実施例1において、12個のフェニレン基が連結した[12]シクロパラフェニレン(リングの直径1.65nm)をテンプレートに用いた場合、得られたCNTの直径は1.4〜1.6nmであり、[12]CPPのそれとほぼ一致している(図4)。よって、本発明の製造方法は、テンプレートによる直径を制御したCNTの製造方法として有用である。 The production method of the present invention can produce CNTs that reproduce the diameter of the cyclic compound of the template almost faithfully. Therefore, it has a feature that the distribution of diameter is extremely small as compared with CNTs manufactured by a conventional general CVD method. For example, in Example 1, when [12] cycloparaphenylene (ring diameter: 1.65 nm) in which 12 phenylene groups are linked is used as a template, the obtained CNT has a diameter of 1.4 to 1.6 nm. [12] It almost coincides with that of CPP (FIG. 4). Therefore, the production method of the present invention is useful as a method for producing CNTs with a controlled diameter using a template.
また、本発明の製造方法は、触媒や高温を必要とせず、比較的低い温和な条件で実施することができる。これは、出発物質としてテンプレートを用いているため、触媒や高温を用いなくても、より温和な条件でグラフェンシートが形成(π共役系が成長)できるためと考えられる。 Moreover, the production method of the present invention does not require a catalyst or a high temperature, and can be carried out under relatively low conditions. This is presumably because a graphene sheet can be formed (pi-conjugated system grows) under milder conditions without using a catalyst or high temperature because a template is used as a starting material.
また、本発明の製造方法では、金属触媒等の触媒を用いる必要がないため、得られたCNTには触媒に由来する不純物を含まない。そのため、面倒な精製工程を経ずに高純度のCNTを得ることができる。しかも、触媒の金属微粒子を含まないため、得られたCNTをデバイス、トランジスタ、集積回路、メモリ、センサー、配線等の用途に問題無く使用できる。 Moreover, in the manufacturing method of this invention, since it is not necessary to use catalysts, such as a metal catalyst, the obtained CNT does not contain the impurity derived from a catalyst. Therefore, high-purity CNT can be obtained without going through a troublesome purification process. In addition, since the metal fine particles of the catalyst are not included, the obtained CNTs can be used without problems in applications such as devices, transistors, integrated circuits, memories, sensors, and wiring.
4.テンプレートの製造
本発明の製造方法におけるテンプレートとして用いる複数の芳香族環が連結してなる環状化合物は、例えば以下の様にして製造することができる。 4). Cyclic compounds more aromatic rings formed by connecting used as a template in the method for manufacturing a template for manufacturing the present invention can be prepared, for example, in the following manner.
シクロパラフェニレン化合物(特に、一般式(1)で表される化合物)は、例えば、非特許文献1〜4に記載された方法に従い又はこれに準じて製造することができる。また、カーボンナノリング(シクロパラフェニレン化合物及び/又は修飾シクロパラフェニレン化合物)は、例えば、反応式1〜3で示す製造方法により製造することもできる。
The cycloparaphenylene compound (particularly, the compound represented by the general formula (1)) can be produced, for example, according to or according to the methods described in
<反応式1>
<
(式中、R1は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又は水酸基の保護基;R2は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;R4は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基;m’は同じか又は異なり、それぞれ1以上の整数;nは同じか又は異なり、それぞれ1以上の整数;Xは同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子;Yは同じか又は異なり、それぞれ一般式(9):(Wherein R 1 is the same or different and each represents a hydrogen atom or hydroxyl protecting group; R 2 is the same or different and each represents a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; is R 4 the same? Or different, each phenylene group or divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; m ′ is the same or different, each is an integer of 1 or more; n is the same or different, each is an integer of 1 or more; is X the same? Or different, each halogen atom; Y is the same or different and each has the general formula (9):
(式中、R3は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又はC1〜10のアルキル基であり、R3は互いに結合して隣接する−O−B−O−とともに環を形成してもよい。)
で示される基を示す。)(Wherein, R 3 are identical or different, are each a hydrogen atom or an alkyl group C1-10, R 3 may form a ring -O-B-O- with the adjacent bonded to each other. )
The group shown by is shown. )
R1は水素原子又は水酸基の保護基である。水酸基の保護基としては、例えば、アルコキシアルキル基(例えば、メトキシメチル基(−CH2−O−CH3、以下、「−MOM」と表記する場合がある)等)、アルカノイル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基等)、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等)、テトラヒドロピラニル基(THP)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基等)、アラルキル基(例えば、ベンジル基等)などが挙げられ、好ましくはアルコキシアルキル基、特にメトキシメチル基である。R 1 is a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group. Examples of the hydroxyl-protecting group include an alkoxyalkyl group (for example, methoxymethyl group (—CH 2 —O—CH 3 , hereinafter sometimes referred to as “-MOM”)), an alkanoyl group (for example, acetyl group). Group, propionyl group etc.), silyl group (eg trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group etc.), tetrahydropyranyl group (THP), alkyl group (eg methyl group, ethyl group etc.), aralkyl Group (for example, benzyl group etc.) etc. are mentioned, Preferably it is an alkoxyalkyl group, especially a methoxymethyl group.
R2及びR4は前述したとおりである。R 2 and R 4 are as described above.
m’は、好ましくは1〜30の整数、より好ましくは1〜20の整数、さらに好ましくは1〜10の整数、特に好ましくは1〜2の整数を示す。 m ′ is preferably an integer of 1 to 30, more preferably an integer of 1 to 20, still more preferably an integer of 1 to 10, and particularly preferably an integer of 1 to 2.
nは前述したとおりである。 n is as described above.
Xで示されるハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。臭素原子及びヨウ素原子が好ましく、特に臭素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom represented by X include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. A bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
Yで示される一般式(9)に示される1価の基(以下、「ボロン酸又はそのエステル基」と表記する)において、R3で示されるアルキル基としては、好ましくはC1〜8であり、より好ましくはC1〜5のアルキル基であり、直鎖状又は分岐状のいずれでもよい。また、R3がアルキル基である場合には、それぞれのアルキル基を構成する炭素原子が、互いに結合してホウ素原子及び2個の酸素原子とともに環を形成してもよい。この場合、Yとしては、例えば、下記式(9a)〜(9c):In the monovalent group represented by the general formula (9) represented by Y (hereinafter referred to as “boronic acid or its ester group”), the alkyl group represented by R 3 is preferably C1-8. And more preferably a C1-5 alkyl group, which may be linear or branched. When R 3 is an alkyl group, the carbon atoms constituting each alkyl group may be bonded to each other to form a ring together with a boron atom and two oxygen atoms. In this case, as Y, for example, the following formulas (9a) to (9c):
で示される基とすることができる。化合物(6)におけるYが、上記式(9a)〜(9c)で示される基であると、化合物(5)と化合物(6)の反応をより効率的に進行させることができる。 It can be set as group shown by these. When Y in the compound (6) is a group represented by the above formulas (9a) to (9c), the reaction between the compound (5) and the compound (6) can proceed more efficiently.
化合物(5)及び(6):
化合物(5)及び(6)は、非特許文献3、本願明細書の合成例1〜5等に従い又はこれらに準じて合成できる。 Compounds (5) and (6):
Compounds (5) and (6) can be synthesized in accordance with
化合物(7a)の合成:
化合物(5)と化合物(6)とを反応させることにより、化合物(7a)を製造することができる。化合物(5)と化合物(6)との反応は、鈴木・宮浦カップリング反応を用いることができる。鈴木・宮浦カップリング反応は、炭素−炭素結合の反応であり、ハロゲン化アリール化合物と有機ホウ素化合物とをカップリングさせる反応である。化合物(5)はハロゲン原子を有するハロゲン化アリール化合物であり、上記化合物(6)はボロン酸又はそのエステル基を有する有機ホウ素化合物である。 Synthesis of compound (7a):
Compound (7a) can be produced by reacting compound (5) with compound (6). For the reaction between the compound (5) and the compound (6), a Suzuki-Miyaura coupling reaction can be used. The Suzuki-Miyaura coupling reaction is a carbon-carbon bond reaction, and is a reaction in which an aryl halide compound and an organic boron compound are coupled. The compound (5) is a halogenated aryl compound having a halogen atom, and the compound (6) is an organoboron compound having a boronic acid or an ester group thereof.
上記反応における化合物(6)の使用量は、化合物(5)1モルに対して、好ましくは0.01〜0.5モル、より好ましくは0.05〜0.4モル、更に好ましくは0.08〜0.2モルである。 The amount of compound (6) used in the above reaction is preferably 0.01 to 0.5 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, still more preferably 0. It is 08-0.2 mol.
上記反応においては、通常、パラジウム系触媒が用いられる。このパラジウム系触媒としては、例えば、Pd(PPh3)4(Phはフェニル基)、PdCl2(PPh3)2(Phはフェニル基)、Pd(OAc)2(Acはアセチル基)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)(Pd2(dba)3)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)クロロホルム錯体、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、ビス(トリt−ブチルホスフィノ)パラジウム(0)、及び(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム(II)等が挙げられる。本工程では、Pd(PPh3)4、Pd2(dba)3等が好ましい。In the above reaction, a palladium catalyst is usually used. Examples of the palladium-based catalyst include Pd (PPh 3 ) 4 (Ph is a phenyl group), PdCl 2 (PPh 3 ) 2 (Ph is a phenyl group), Pd (OAc) 2 (Ac is an acetyl group), Tris ( Dibenzylideneacetone) dipalladium (0) (Pd 2 (dba) 3 ), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) chloroform complex, bis (dibenzylideneacetone) palladium (0), bis (tri-t-butylphosphine) Fino) palladium (0), (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene) dichloropalladium (II), and the like. In this step, Pd (PPh 3 ) 4 , Pd 2 (dba) 3 and the like are preferable.
パラジウム系触媒の使用量は、収率の観点から、原料の上記化合物(5)1モルに対して、通常、0.0001〜0.1モル、好ましくは0.0005〜0.02モル、より好ましくは0.001〜0.01モルである。 From the viewpoint of yield, the amount of the palladium-based catalyst is usually 0.0001 to 0.1 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol, relative to 1 mol of the compound (5) as a raw material. Preferably it is 0.001-0.01 mol.
上記反応において、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を使用することができる。このリン配位子としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス[2−(ジフェニルホスフィノ)エチル]ホスフィン、ビス(2−メトキシフェニル)フェニルホスフィン、2−(ジ−t−ブチルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、2−(ジフェニルホスフィノ)−2’−(N,N−ジメチルアミノ)ビフェニル、トリ−t−ブチルホスフィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン、1,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)ヘキサン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、ビス(2−ジフェニルホスフィノエチル)フェニルホスフィン、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシ−1,1’−ビフェニル(S−Phos)、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)、ビス(2−ジフェニルホスフィノフェニル)エーテル(DPEPhos)等が挙げられる。本工程では、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。
In the above reaction, a phosphorus ligand capable of coordinating with a palladium atom which is a central element of the palladium-based catalyst can be used as necessary. Examples of the phosphorus ligand include triphenylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri-m-tolylphosphine, tri-p-tolylphosphine, tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine, tris [2- (Diphenylphosphino) ethyl] phosphine, bis (2-methoxyphenyl) phenylphosphine, 2- (di-t-butylphosphino) biphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) biphenyl, 2- (diphenylphosphino) -2 '-(N, N-dimethylamino) biphenyl, tri-t-butylphosphine, bis (diphenylphosphino) methane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,2-bis (dimethylphosphino)
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の上記化合物(5)1モルに対して、通常、0.001〜1.0モル、好ましくは0.01〜0.8モル、より好ましくは0.05〜0.3モルである。 When using a phosphorus ligand, the usage-amount is 0.001-1.0 mol normally with respect to 1 mol of said compounds (5) of a raw material from a viewpoint of a yield, Preferably 0.01- 0.8 mol, more preferably 0.05 to 0.3 mol.
上記反応においては、上記パラジウム系触媒に加えて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を添加することが好ましい。この塩基は、鈴木・宮浦カップリング反応において、ホウ素原子上にアート錯体を形成し得る化合物であれば特に限定はされない。具体的には、例えば、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム等が挙げられる。これらのうち、フッ化セシウム、炭酸セシウム及びリン酸カリウムが好適である。この塩基の使用量は、原料の化合物(5)1モルに対して、通常、0.01〜10モル、好ましくは0.1〜5.0モル、より好ましくは0.5〜1.0モルである。 In the above reaction, it is preferable to add a base (boron atom activator) in addition to the palladium catalyst. The base is not particularly limited as long as it is a compound that can form an art complex on a boron atom in the Suzuki-Miyaura coupling reaction. Specifically, for example, potassium fluoride, cesium fluoride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, potassium phosphate, sodium acetate , Potassium acetate, calcium acetate and the like. Of these, cesium fluoride, cesium carbonate, and potassium phosphate are preferred. The amount of the base used is usually 0.01 to 10 mol, preferably 0.1 to 5.0 mol, more preferably 0.5 to 1.0 mol, per 1 mol of the raw material compound (5). It is.
上記カップリング反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル等の環状エーテル類;塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジブロモエタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、アセトニトリル等のニトリル類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは、1種のみを用いてよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのうち、本発明では、テトラヒドロフラン等が好ましい。 The coupling reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and benzene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; cyclic ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diisopropyl ether; Halogenated hydrocarbons such as methyl chloride, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, dibromoethane; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile; methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and the like Alcohols; dimethyl sulfoxide and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, tetrahydrofuran is preferred in the present invention.
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent. The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
反応後、必要に応じて、精製工程を備えることができる。この精製工程において、溶媒(溶剤)除去、洗浄、クロマト分離等といった一般的な後処理に供することができる。 After the reaction, a purification step can be provided as necessary. In this purification step, it can be subjected to general post-treatment such as solvent (solvent) removal, washing, chromatographic separation and the like.
上記の製法によれば、化合物(6)におけるR2のnの数を適宜選択することにより、化合物(7a)の芳香環の数、即ち、分子の長さを自由に且つ正確に設計することができる。According to the above production method, the number of aromatic rings of the compound (7a), that is, the length of the molecule can be designed freely and accurately by appropriately selecting the number n of R 2 in the compound (6). Can do.
化合物(8)の合成:
この反応は、化合物(7a)と、ボロン酸又はそのエステル基(−B(OR3)2;R3は前記に同じ)を有するホウ素化合物(以下、単に「ホウ素化合物」と言うこともある。)とから、化合物(8)を形成する工程である。 Synthesis of compound (8):
This reaction may be referred to as a compound (7a) and a boron compound having boronic acid or an ester group thereof (—B (OR 3 ) 2 ; R 3 is the same as above) (hereinafter simply referred to as “boron compound”). ) To form a compound (8).
この反応においては、化合物(7a)に含まれるハロゲン原子Xが、ホウ素化合物に含まれるボロン酸又はそのエステル基Yに置換される。その結果、ホウ素化合物由来のボロン酸又はそのエステル基Yを有する化合物(8)が形成される。この化合物(8)を形成する反応は、ボリル化反応である。 In this reaction, the halogen atom X contained in the compound (7a) is substituted with a boronic acid or its ester group Y contained in the boron compound. As a result, a boronic acid-derived boronic acid or a compound (8) having an ester group Y thereof is formed. The reaction to form this compound (8) is a borylation reaction.
上記反応に使用されるホウ素化合物としては、具体的には、2−フェニル−1,3,2−ジオキサボリナン、(4,4,5,5)−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン、4,4,4’,4’,5,5,5’,5’−オクタメチル−2,2’−ビ[1,3,2−ジオキサボロラン](ビスピナコラートジボロン)、5,5,5’,5’−テトラメチル−5,5’,6,6’−テトラヒドロ−2,2’−ビ[4H−1,3,2−ジオキサボリン]、1,1,2,2−テトラヒドロキシ−1,2−ジボラエタン等が挙げられる。 Specific examples of the boron compound used in the above reaction include 2-phenyl-1,3,2-dioxaborinane, (4,4,5,5) -tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane, 4 4,4 ′, 4 ′, 5,5,5 ′, 5′-octamethyl-2,2′-bi [1,3,2-dioxaborolane] (bispinacolatodiboron), 5,5,5 ′ , 5′-tetramethyl-5,5 ′, 6,6′-tetrahydro-2,2′-bi [4H-1,3,2-dioxaborin], 1,1,2,2-tetrahydroxy-1, 2-Diboraethane etc. are mentioned.
上記反応におけるホウ素化合物の使用量は、化合物(7a)1モルに対して、好ましくは1〜10モルであり、より好ましくは1.5〜7モルであり、さらに好ましくは2〜5モルである。 The amount of the boron compound used in the above reaction is preferably 1 to 10 mol, more preferably 1.5 to 7 mol, and still more preferably 2 to 5 mol, per 1 mol of compound (7a). .
上記反応は、通常、触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム系触媒が使用される。このパラジウム系触媒としては、上記カップリング反応の説明において示されたパラジウム系触媒を使用することができる。特に、Pd2(dba)3、Pd(PPh3)4等が好ましい。The above reaction is usually carried out in the presence of a catalyst, and preferably a palladium catalyst is used. As the palladium-based catalyst, the palladium-based catalyst shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, Pd 2 (dba) 3 , Pd (PPh 3 ) 4 and the like are preferable.
パラジウム系触媒を用いる場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7a)1モルに対して、通常、0.001〜1モル、好ましくは0.005〜0.1モル、より好ましくは0.01〜0.05モルである。 When using a palladium-based catalyst, the amount used is usually 0.001 to 1 mol, preferably 0.005 to 0.1 mol, relative to 1 mol of the starting compound (7a), from the viewpoint of yield. More preferably, it is 0.01-0.05 mol.
本反応において、触媒とともにリン配位子を用いることができる。このリン配位子も、カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。特に、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 In this reaction, a phosphorus ligand can be used together with the catalyst. As the phosphorus ligand, those shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7a)1モルに対して、通常、0.01〜1.0モル、好ましくは0.05〜0.5モル、より好ましくは0.08〜0.2モルである。 When a phosphorus ligand is used, the amount used is generally 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0, relative to 1 mol of the starting compound (7a) from the viewpoint of yield. 0.5 mol, more preferably 0.08 to 0.2 mol.
また、本反応において、必要に応じて、塩基を使用してもよい。使用される塩基は、上記カップリング反応の説明において示された塩基を使用することができる。この塩基の使用量は、原料の化合物(7a)1モルに対して、通常、0.1〜5.0モル程度、好ましくは0.5〜1.0モルである。 In this reaction, a base may be used as necessary. As the base to be used, the base shown in the description of the coupling reaction can be used. The amount of the base used is usually about 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol, per 1 mol of the starting compound (7a).
本反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。 This reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. As the reaction solvent, those shown in the above description of the coupling reaction can be used.
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent. The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
なお、ホウ素化合物が環状のボロン酸エステル基を有する化合物である場合には、該ボロン酸エステル基を有する化合物(8)を製造してから加水分解し、ボロン酸基に変換してもよい。 When the boron compound is a compound having a cyclic boronic acid ester group, it may be hydrolyzed and converted to a boronic acid group after producing the compound (8) having the boronic acid ester group.
化合物(7b)の合成:
この工程は、化合物(8)と化合物(10)から、化合物(7b)を形成する工程である。 Synthesis of compound (7b):
This step is a step of forming compound (7b) from compound (8) and compound (10).
この工程においては、化合物(8)に含まれるボロン酸又はそのエステル基Yが、−[R4]m’−Xに置換される。これによりカーボンナノリングの大きさを適宜調節することができる。In this step, the boronic acid or its ester group Y contained in the compound (8) is substituted with — [R 4 ] m ′ —X. Thereby, the magnitude | size of a carbon nanoring can be adjusted suitably.
化合物(10)の使用量は、化合物(8)1モルに対して、好ましくは0.1〜10モルであり、より好ましくは0.5〜5モルであり、さらに好ましくは0.8〜2モルである。 The amount of compound (10) to be used is preferably 0.1 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, further preferably 0.8 to 2 mol, per 1 mol of compound (8). Is a mole.
この反応は、通常、触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム系触媒が使用される。このパラジウム系触媒としては、上記カップリング反応の説明において示されたパラジウム系触媒を使用することができる。特に、(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム(II)、Pd2(dba)3、Pd(PPh3)4等が好ましい。This reaction is usually performed in the presence of a catalyst, and a palladium-based catalyst is preferably used. As the palladium-based catalyst, the palladium-based catalyst shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene) dichloropalladium (II), Pd 2 (dba) 3 , Pd (PPh 3 ) 4 and the like are preferable.
パラジウム系触媒を用いる場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(8)1モルに対して、通常、0.001〜1モル、好ましくは0.005〜0.2モル、より好ましくは0.01〜0.1モルである。 When using a palladium catalyst, the amount used is usually 0.001 to 1 mol, preferably 0.005 to 0.2 mol, relative to 1 mol of the starting compound (8), from the viewpoint of yield. More preferably, it is 0.01-0.1 mol.
触媒とともにリン配位子を用いることができる。このリン配位子も、カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。特に、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 A phosphorus ligand can be used together with the catalyst. As the phosphorus ligand, those shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ′, 4 ′, 6′-tri-isopropyl-1,1′-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable. .
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(8)1モルに対して、通常、0.01〜1.0モル、好ましくは0.05〜0.5モル、より好ましくは0.08〜0.2モルである。 When a phosphorus ligand is used, the amount used is generally 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0, relative to 1 mol of the starting compound (8) from the viewpoint of yield. 0.5 mol, more preferably 0.08 to 0.2 mol.
本反応において、必要に応じて、塩基を使用してもよい。使用される塩基は、上記カップリング反応の説明において示された塩基を使用することができる。好ましい塩基は、炭酸ナトリウム、リン酸カリウム等である。この塩基の使用量は、原料の化合物(8)1モルに対して、通常、0.1〜5.0モル程度、好ましくは0.5〜1.0モルである。 In this reaction, a base may be used as necessary. As the base to be used, the base shown in the description of the coupling reaction can be used. Preferred bases are sodium carbonate, potassium phosphate and the like. The amount of the base to be used is generally about 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol, per 1 mol of the raw material compound (8).
本反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。本工程では、トルエン、1,4−ジオキサン、水、これらの混合溶媒等が好ましい。 This reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. As the reaction solvent, those shown in the above description of the coupling reaction can be used. In this step, toluene, 1,4-dioxane, water, a mixed solvent thereof and the like are preferable.
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent. The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
<反応式2>
<
(式中、R1、R2、R4、m、n、X及びYは前記に同じ。)(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , m, n, X and Y are the same as above)
化合物(7)及び(8)から化合物(11)の合成:
この工程は、化合物(7)と化合物(8)から、化合物(11)を形成する工程である。ここで、化合物(7)は上記化合物(7a)と化合物(7b)を併せた化合物である。 Synthesis of Compound (11) from Compounds (7) and (8):
This step is a step of forming the compound (11) from the compound (7) and the compound (8). Here, the compound (7) is a compound obtained by combining the compound (7a) and the compound (7b).
化合物(11)は、化合物(7)と化合物(8)をカップリング反応させて、輪状の化合物を形成するカップリング工程を経ることにより得られる。化合物(7)と化合物(8)は共にU字型形状を有するため効率的に化合物(11)を得ることが出来る。 Compound (11) can be obtained through a coupling step in which compound (7) and compound (8) are subjected to a coupling reaction to form a ring-shaped compound. Since both compound (7) and compound (8) have a U-shaped shape, compound (11) can be obtained efficiently.
上記カップリング反応において化合物(8)の使用量は、化合物(7)1モルに対して、好ましくは0.8〜3.0モルであり、より好ましくは1.0〜2.0モルであり、更に好ましくは1.2〜1.8モルである。 In the coupling reaction, the amount of compound (8) used is preferably 0.8 to 3.0 mol, more preferably 1.0 to 2.0 mol, relative to 1 mol of compound (7). More preferably, it is 1.2-1.8 mol.
この反応は、通常、触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム系触媒が使用される。このパラジウム系触媒としては、上記カップリング反応の説明において示されたパラジウム系触媒を使用することができる。特に、Pd2(dba)3、Pd(PPh3)4等が好ましい。This reaction is usually performed in the presence of a catalyst, and a palladium-based catalyst is preferably used. As the palladium-based catalyst, the palladium-based catalyst shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, Pd 2 (dba) 3 , Pd (PPh 3 ) 4 and the like are preferable.
パラジウム系触媒を用いる場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7)1モルに対して、通常、0.001〜1モル、好ましくは0.005〜0.1モル、より好ましくは0.01〜0.05モルである。 In the case of using a palladium-based catalyst, the amount used is usually 0.001 to 1 mol, preferably 0.005 to 0.1 mol, based on 1 mol of the starting compound (7), from the viewpoint of yield. More preferably, it is 0.01-0.05 mol.
触媒とともにリン配位子を用いることができる。このリン配位子も、カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。特に、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 A phosphorus ligand can be used together with the catalyst. As the phosphorus ligand, those shown in the description of the coupling reaction can be used. In particular, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7)1モルに対して、通常、0.01〜1.0モル、好ましくは0.05〜0.5モル、より好ましくは0.08〜0.2モルである。 When a phosphorus ligand is used, the amount used is usually 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0, relative to 1 mol of the starting compound (7) from the viewpoint of yield. 0.5 mol, more preferably 0.08 to 0.2 mol.
本反応において、必要に応じて、塩基を使用してもよい。使用される塩基は、上記カップリング反応の説明において示された塩基を使用することができる。好ましい塩基は、フッ化セシウム、炭酸セシウム及びリン酸カリウム等である。この塩基の使用量は、原料の化合物(7)1モルに対して、通常、0.1〜5.0モル程度、好ましくは0.5〜1.0モルである。 In this reaction, a base may be used as necessary. As the base to be used, the base shown in the description of the coupling reaction can be used. Preferred bases are cesium fluoride, cesium carbonate, potassium phosphate and the like. The amount of the base used is usually about 0.1 to 5.0 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol, per 1 mol of the starting compound (7).
本反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記カップリング反応の説明で示されたものを使用することができる。本反応では、テトラヒドロフラン等が好ましい。 This reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. As the reaction solvent, those shown in the above description of the coupling reaction can be used. In this reaction, tetrahydrofuran or the like is preferable.
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent. The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
化合物(11)から環状化合物(3)の合成:
環状化合物(3)は、化合物(11)が有するシクロヘキサン環部をベンゼン環に変換(芳香環化)することにより得られる。 Synthesis of cyclic compound (3) from compound (11):
The cyclic compound (3) is obtained by converting the cyclohexane ring part of the compound (11) into a benzene ring (aromatic cyclization).
本反応は、例えば、一般的な酸化反応を施せばよい。その具体例としては、例えば、酸の存在下、化合物(11)を加熱する(酸処理する)方法の他、酸素存在下(空気雰囲気、酸素雰囲気等)加熱する方法、キノン類、金属酸化剤等と反応させる方法等も挙げられる。これにより、通常、脱水素反応等が適用され、化合物(11)が有するシクロヘキサン環部を、ベンゼン環に化学変化(芳香環化)させて、環状化合物(3)を合成することができる。即ち、変換前の輪状の化合物が有する、シクロヘキサン環部におけるOR1も脱離され、且つ脱水素反応も進行して、環状化合物(3)が得られる。For this reaction, for example, a general oxidation reaction may be performed. Specific examples thereof include, for example, a method of heating (acid treatment) compound (11) in the presence of an acid, a method of heating in the presence of oxygen (air atmosphere, oxygen atmosphere, etc.), quinones, and metal oxidizer. The method of making it react with etc. is also mentioned. Thereby, dehydrogenation reaction etc. are applied normally and the cyclohexane ring part which compound (11) has can be chemically changed to a benzene ring (aromatic cyclization), and a cyclic compound (3) is compoundable. That is, OR 1 in the cyclohexane ring part of the ring-shaped compound before conversion is also eliminated, and the dehydrogenation reaction proceeds to obtain the cyclic compound (3).
上記酸処理を行う場合、その具体的な方法等は特に限定されないが、例えば、以下の方法等が好ましい。
(A)化合物(11)と酸とを溶媒に溶解させた後、得られた溶液を加熱して反応させる方法。
(B)化合物(11)を溶媒に溶解させた後、得られた溶液と酸とを混合して得られた混合物を加熱して反応させる方法。In the case of performing the acid treatment, the specific method and the like are not particularly limited. For example, the following method and the like are preferable.
(A) A method in which the compound (11) and an acid are dissolved in a solvent, and then the obtained solution is heated and reacted.
(B) A method in which the compound (11) is dissolved in a solvent, and then the mixture obtained by mixing the resulting solution and an acid is heated and reacted.
なお、上記反応を行う場合、無溶媒による酸処理とすることもできる。 In addition, when performing the said reaction, it can also be set as the acid treatment by a non-solvent.
酸は、特に限定されないが、触媒等に使用される強酸が好ましい。例えば、硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、タングストリン酸、タングストケイ酸、モリブドリン酸、モリブドケイ酸、三フッ化ホウ素エチラート、四塩化スズ等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Although an acid is not specifically limited, The strong acid used for a catalyst etc. is preferable. Examples thereof include sulfuric acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, tungstophosphoric acid, tungstosilicic acid, molybdophosphoric acid, molybdosilicic acid, boron trifluoride ethylate, and tin tetrachloride. These can be used alone or in combination of two or more.
酸の使用量は製造条件等により異なるが、上記(A)の方法の場合、化合物(11)1モルに対して、0.01〜100モルが好ましく、0.5〜50モル当量がより好ましく、1〜20モルがより好ましい。 Although the amount of the acid used varies depending on the production conditions and the like, in the case of the above method (A), 0.01 to 100 mol is preferable and 0.5 to 50 mol equivalent is more preferable with respect to 1 mol of compound (11). 1 to 20 mol is more preferable.
また、上記(B)の方法の場合、酸の使用量は、化合物(11)1モルに対して、0.01〜100モルが好ましく、0.5〜50モルがより好ましく、1〜20モル当量がより好ましい。 In the case of the method (B), the amount of acid used is preferably 0.01 to 100 mol, more preferably 0.5 to 50 mol, and more preferably 1 to 20 mol, relative to 1 mol of compound (11). The equivalent is more preferable.
酸処理の反応に用いられる溶媒は、非極性溶媒であっても極性溶媒であってもよい。例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等のアルカン類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン等のハロアルカン類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ペンタメチルベンゼン等のベンゼン類;クロルベンゼン、ブロムベンゼン等のハロベンゼン類;ジエチルエーテル、アニソール等のエーテル類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。上記溶媒は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The solvent used for the acid treatment reaction may be a nonpolar solvent or a polar solvent. For example, alkanes such as hexane, heptane, and octane; haloalkanes such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, and ethylene chloride; benzenes such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and pentamethylbenzene; chlorobenzene, bromobenzene, and the like Halobenzenes; ethers such as diethyl ether and anisole; dimethyl sulfoxide and the like. The said solvent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
溶媒を用いる場合において、原材料から環状化合物(3)に至るまでの反応中間体が、使用した1の溶媒に対して低い溶解性となることがあり、この場合、他の溶媒を、予め、又は反応の途中から、添加しておいてもよい。 In the case of using a solvent, the reaction intermediate from the raw material to the cyclic compound (3) may have low solubility in one solvent used. In this case, the other solvent is used in advance or It may be added in the middle of the reaction.
溶媒を使用する場合のその使用量は、製造条件等により適宜選択されるが、化合物(11)100質量部に対して、100〜100000質量部が好ましく、1000〜10000質量部がより好ましい。 Although the usage-amount in the case of using a solvent is suitably selected by manufacturing conditions etc., 100-100000 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of compounds (11), and 1000-10000 mass parts is more preferable.
上記(A)〜(B)の方法における加熱温度は、通常、50℃以上であり、好ましくは80℃以上であり、より好ましくは100℃以上であり、更に好ましくは120℃以上である。溶媒を用いる場合は、上記溶媒の沸点温度以下の範囲から選択される。 The heating temperature in the methods (A) to (B) is usually 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 120 ° C. or higher. When using a solvent, it selects from the range below the boiling point temperature of the said solvent.
加熱手段としては、オイルバス、アルミブロック恒温槽、ヒートガン、バーナー、マイクロ波の照射等が挙げられる。マイクロ波を照射する場合には、マイクロ波反応に使用される公知のマイクロ波反応装置を用いることができる。加熱の際には還流冷却を併用してもよい。 Examples of the heating means include an oil bath, an aluminum block thermostat, a heat gun, a burner, and microwave irradiation. In the case of irradiation with microwaves, a known microwave reaction apparatus used for microwave reaction can be used. In heating, reflux cooling may be used in combination.
反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
反応後に、必要に応じて、精製工程を備えることができる。即ち、溶媒(溶剤)除去(溶媒を使用した場合)、洗浄、クロマト分離等といった一般的な後処理に供することができる。得られる環状化合物(3)は、通常、アモルファス(非結晶)であるので、公知の再結晶法を利用して結晶化させることができる。結晶化物においては、再結晶操作において用いた有機溶媒が、分子を構成する輪の内部に包含されることがある。 After the reaction, a purification step can be provided as necessary. That is, it can be subjected to general post-treatment such as solvent (solvent) removal (when a solvent is used), washing, chromatographic separation, and the like. Since the obtained cyclic compound (3) is usually amorphous (non-crystalline), it can be crystallized using a known recrystallization method. In the crystallized product, the organic solvent used in the recrystallization operation may be included in the ring constituting the molecule.
なお、上記反応式において、m及びnの数を適宜調節することにより、2価の芳香族環が14個以上連なった環状化合物を得ることができる。例えば、mが共に0であり、nが1である化合物の場合、2価の芳香族環が14個連なった環状化合物を得ることができる。また、mが1及び0であり、nが1である化合物の場合、2価の芳香族環が15個連なった環状化合物を得ることができる。さらに、mが共に1であり、nが1である化合物の場合、2価の芳香族環が16個連なった環状化合物を得ることができる。 In the above reaction formula, by appropriately adjusting the numbers of m and n, a cyclic compound in which 14 or more divalent aromatic rings are linked can be obtained. For example, in the case of a compound in which both m is 0 and n is 1, a cyclic compound in which 14 divalent aromatic rings are connected can be obtained. In the case of a compound in which m is 1 and 0 and n is 1, a cyclic compound in which 15 divalent aromatic rings are connected can be obtained. Further, in the case of a compound in which both m is 1 and n is 1, a cyclic compound in which 16 divalent aromatic rings are connected can be obtained.
<反応式3>
<
(式中、dは1以上の整数を示す。R1及びXは前記に同じ。)(In the formula, d represents an integer of 1 or more. R 1 and X are the same as above.)
化合物(12)の合成:
この反応では、複数の化合物(5)が、結合(ホモカップリング)して輪状の化合物(12)が形成される。化合物(5)は2つのハロゲン原子を持っており、ニッケル化合物を用いることにより、そのハロゲン原子が結合している炭素原子同士、即ち、1の化合物(5)におけるハロゲン原子に結合している炭素原子と、他の化合物(5)におけるハロゲン原子に結合している炭素原子と、を結合させることができる。それにより、連続的に、化合物(5)同士のカップリング反応を進め、炭素原子同士を結合させ、輪状の化合物(12)を得ることができる。 Synthesis of compound (12):
In this reaction, a plurality of compounds (5) are combined (homocoupled) to form a ring-shaped compound (12). Compound (5) has two halogen atoms, and by using a nickel compound, the carbon atoms to which the halogen atoms are bonded, that is, the carbon bonded to the halogen atoms in one compound (5). An atom and the carbon atom couple | bonded with the halogen atom in another compound (5) can be combined. Thereby, the coupling reaction of the compounds (5) can be continuously carried out, and the carbon atoms can be bonded to each other to obtain the ring-shaped compound (12).
化合物(5)は、1位及び4位の2箇所でベンゼン環と結合しており、このベンゼン環が、それぞれアキシアル、エクアトリアルの配置にあることにより、L字型の構造を有する化合物とすることができる。化合物(5)として、L字型構造等の構造を有する化合物を用いることにより、輪状構造を有する化合物(12)の形成を容易にすることができる。 Compound (5) is bonded to a benzene ring at two positions, 1-position and 4-position, and this benzene ring is in an axial or equatorial arrangement, thereby forming a compound having an L-shaped structure. Can do. By using a compound having a structure such as an L-shaped structure as the compound (5), formation of the compound (12) having a ring structure can be facilitated.
本反応においては、通常、ニッケル化合物が用いられる。このニッケル化合物としては特に限定されないが、0価のNiの塩又は2価のNiの塩が好ましい。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの錯体は、試薬として投入するもの及び反応中で生成するものの両方を意味する。 In this reaction, a nickel compound is usually used. The nickel compound is not particularly limited, but a zero-valent Ni salt or a divalent Ni salt is preferable. These can be used alone or in combination of two or more. These complexes mean both those charged as reagents and those produced in the reaction.
上記0価のNiの塩としては、特に制限されないが、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジカルボニル、ニッケルカルボニル等が挙げられる。 The zero-valent Ni salt is not particularly limited, and examples thereof include bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0), bis (triphenylphosphine) nickel dicarbonyl, nickel carbonyl and the like.
また、上記2価のNiの塩としては、酢酸ニッケル(II)、トリフルオロ酢酸ニッケル(II)、硝酸ニッケル(II)、塩化ニッケル(II)、臭化ニッケル(II)、ニッケル(II)アセチルアセトナート、過塩素酸ニッケル(II)、クエン酸ニッケル(II)、シュウ酸ニッケル(II)、シクロヘキサン酪酸ニッケル(II)、安息香酸ニッケル(II)、ステアリン酸ニッケル(II)、ステアリン酸ニッケル(II)、スルファミンニッケル(II)、炭酸ニッケル(II)、チオシアン酸ニッケル(II)、トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル(II)、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(II)、ビス(4−ジエチルアミノジチオベンジル)ニッケル(II)、シアン化ニッケル(II)、フッ化ニッケル(II)、ホウ化ニッケル(II)、ホウ酸ニッケル(II)、次亜リン酸ニッケル(II)、硫酸アンモニウムニッケル(II)、水酸化ニッケル(II)、シクロペンタジエニルニッケル(II)、及びこれらの水和物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。 Examples of the divalent Ni salt include nickel acetate (II), nickel trifluoroacetate (II), nickel nitrate (II), nickel chloride (II), nickel bromide (II), nickel (II) acetyl. Acetonate, nickel (II) perchlorate, nickel (II) citrate, nickel (II) oxalate, nickel (II) cyclohexanebutyrate, nickel (II) benzoate, nickel (II) stearate, nickel stearate ( II), sulfamine nickel (II), nickel carbonate (II), nickel thiocyanate (II), nickel trifluoromethanesulfonate (II), bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (II), bis (4- Diethylaminodithiobenzyl) nickel (II), nickel (II) cyanide, difluoride Kell (II), nickel boride (II), nickel borate (II), nickel hypophosphite (II), ammonium nickel sulfate (II), nickel hydroxide (II), cyclopentadienyl nickel (II), And hydrates thereof, and mixtures thereof.
0価のNiの塩及び2価のNiの塩としては、配位子を事前に配位させた化合物を使用してもよい。 As the zero-valent Ni salt and the divalent Ni salt, a compound in which a ligand is coordinated in advance may be used.
ニッケル化合物の使用量は、原料の上記化合物(5)1モルに対して、通常、試薬として投入するニッケル化合物の量が0.01〜50モル、好ましくは0.1〜10モル、より好ましくは0.5〜5モルであり、特に好ましくは1〜3モルである。 The amount of nickel compound used is usually 0.01 to 50 mol, preferably 0.1 to 10 mol, more preferably 0.1 to 10 mol, based on 1 mol of the starting compound (5). It is 0.5-5 mol, Most preferably, it is 1-3 mol.
本反応において、ニッケル化合物とともに、ニッケル(ニッケル原子)に配位し得る配位子を用いることができる。この配位子としては、例えば、カルボン酸系、アミド系、ホスフィン系、オキシム系、スルホン酸系、1,3−ジケトン系、シッフ塩基系、オキサゾリン系、ジアミン系、一酸化炭素、カルベン系の配位子等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。上記配位子における配位原子は窒素原子、リン原子、酸素原子、硫黄原子等であり、これらの配位子には配位原子を1箇所のみ有する単座配位子と2箇所以上を有する多座配位子がある。また、一酸化炭素、カルベン系に関しては、炭素原子を配位原子とする配位子である。 In this reaction, a ligand capable of coordinating to nickel (nickel atom) can be used together with the nickel compound. Examples of the ligand include carboxylic acid, amide, phosphine, oxime, sulfonic acid, 1,3-diketone, Schiff base, oxazoline, diamine, carbon monoxide, and carbene. And a ligand. These can be used alone or in combination of two or more. Coordination atoms in the above ligand are a nitrogen atom, a phosphorus atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and the like. These ligands include a monodentate ligand having only one coordination atom and a polydentate having two or more. There are bidentate ligands. In addition, carbon monoxide and carbene are ligands having a carbon atom as a coordination atom.
単座の配位子としては、トリフェニルホスフィン、トリメトキシホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ(i−プロピル)ホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン、トリ(イソプロポキシ)ホスフィン、トリ(シクロペンチル)ホスフィン、トリ(シクロヘキシル)ホスフィン、トリ(オルト−トルイル)ホスフィン、トリ(メシチル)ホスフィン、トリ(フェノキシ)ホスフィン、トリ−(2−フリル)ホスフィン、ビス(p−スルホナートフェニル)フェニルホスフィンカリウム、ジ(tert−ブチル)メチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。 Monodentate ligands include triphenylphosphine, trimethoxyphosphine, triethylphosphine, tri (i-propyl) phosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine, tri (isopropoxy) phosphine, Tri (cyclopentyl) phosphine, tri (cyclohexyl) phosphine, tri (ortho-tolyl) phosphine, tri (mesityl) phosphine, tri (phenoxy) phosphine, tri- (2-furyl) phosphine, bis (p-sulfonate phenyl) phenyl Examples include phosphine potassium, di (tert-butyl) methylphosphine, methyldiphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, triethylamine, and pyridine.
二座の配位子としては、2,2’−ビピリジル、4,4’−(tert−ブチル)ビピリジル、フェナントロリン、2,2’−ビピリミジル、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、2−(ジメチルアミノ)エタノール、テトラメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、2−アミノメチルピリジン、又は(NE)−N−(ピリジン−2−イルメチリデン)アニリン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、1,1’−ビス(tert−ブチル)フェロセン、ジフェニルホスフィノメタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン、1,2−ビス(ジペンタフルオロフェニルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン、1,3−(ジシクロヘキシルホスフィノ)プロパン、1,2−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)プロパン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン、1,5−シクロオクタジエン、BINAP、BIPHEMP、PROPHOS、DIOP、DEGUPHOS、DIPAMP、DuPHOS、NORPHOS、PNNP、SKEWPHOS、BPPFA、SEGPHOS、CHIRAPHOS、JOSIPHOS等、及びこれらの混合物が挙げられる。また、BINAPとしては、BINAPの誘導体も含まれ、上記BIPHEMPとしては、BIPHEMPの誘導体も含まれる。 Bidentate ligands include 2,2'-bipyridyl, 4,4 '-(tert-butyl) bipyridyl, phenanthroline, 2,2'-bipyrimidyl, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane 2- (dimethylamino) ethanol, tetramethylethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N′-dimethylethylenediamine, 2-aminomethylpyridine, or (NE) -N- (pyridin-2-ylmethylidene) aniline, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 1,1′-bis (tert-butyl) ferrocene, diphenylphosphinomethane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenyl) Phosphino) propane, 1,5-bis (diphenylphosphino) pentane, 1,2-bis Dipentafluorophenylphosphino) ethane, 1,2-bis (dicyclohexylphosphino) ethane, 1,3- (dicyclohexylphosphino) propane, 1,2-bis (di-tert-butylphosphino) ethane, 1, 3-bis (di-tert-butylphosphino) propane, 1,2-bis (diphenylphosphino) benzene, 1,5-cyclooctadiene, BINAP, BIPHEMP, PROPHOS, DIOP, DEGUPHOS, DIPAMP, DuPHOS, NORPHOS, PNNP, SKEWPHOS, BPPFA, SEGPHOS, CHIRAPHOS, JOSIPHOS, etc., and mixtures thereof. In addition, the BINAP includes a BINAP derivative, and the BIPHEM includes the BIPHEM derivative.
配位子を使用する場合、その使用量は、原料の化合物(5)1モルに対して、通常、0.01〜50モル、好ましくは0.1〜10モル、より好ましくは0.5〜5モルであり、特に好ましくは1〜3モルである。 When a ligand is used, the amount used is usually 0.01 to 50 mol, preferably 0.1 to 10 mol, more preferably 0.5 to 1 mol, relative to 1 mol of the starting compound (5). 5 mol, particularly preferably 1 to 3 mol.
上記反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等)、脂肪族ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等)、エーテル類(ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン(DME)、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、tert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、エステル類(酢酸エチル、プロピオン酸エチル等)、酸アミド類(ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセタミド(DMA)、N−メチルピロリドン(1−メチル−2−ピロリジノン)(NMP)、ニトリル類(アセトニトリル、プロピオニトリル等)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The above reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, cyclohexane, heptane, etc.), aliphatic halogenated hydrocarbons (dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, etc.), aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, Xylene, chlorobenzene, etc.), ethers (diethyl ether, dibutyl ether, dimethoxyethane (DME), cyclopentyl methyl ether (CPME), tert-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), esters (ethyl acetate, ethyl propionate, etc.) ), Acid amides (dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMA), N-methylpyrrolidone (1-methyl-2-pyrrolidinone) (NMP), nitriles (acetonitrile, propionitrile, etc.), dimethyl Sulfoxide (DMSO) and the like. They may be used in combination of at least one kind alone or two kinds.
上記反応における溶媒量は、原料の上記化合物(5)100質量部に対して、通常、1〜1000質量部、好ましくは5〜200質量部、より好ましくは10〜100質量部である。 The amount of the solvent in the reaction is usually 1 to 1000 parts by mass, preferably 5 to 200 parts by mass, and more preferably 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound (5) as a raw material.
上記反応における反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature in the above reaction is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
化合物(4)の合成:
化合物(12)から化合物(4)への変換は、前記<反応式2>の化合物(11)から化合物(3)に変換する方法と同様にして実施することが出来る。 Synthesis of compound (4):
The conversion from the compound (12) to the compound (4) can be carried out in the same manner as the method for converting from the compound (11) to the compound (3) in the above <
なお、上記反応式において、例えば、dが1である化合物の場合、2価の芳香族環が9個連なった環状化合物を得ることができる。また、dが2である化合物の場合、2価の芳香族環が12個連なった環状化合物を得ることができる。 In the above reaction formula, for example, in the case of a compound where d is 1, a cyclic compound in which nine divalent aromatic rings are connected can be obtained. In the case of a compound in which d is 2, a cyclic compound in which twelve divalent aromatic rings are connected can be obtained.
上記説明した方法により、9個、12個、又は14個以上の2価の芳香族環が連なった環状化合物を得ることができる。それ以外にも、化合物(13)として、一般式(13): By the method described above, a cyclic compound in which 9, 12, or 14 or more divalent aromatic rings are linked can be obtained. In addition, as the compound (13), the general formula (13):
(式中、R7は同じか又は異なり、それぞれフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基基;lは10、11又は13である。)
で示される環状化合物を合成することも可能である。(Wherein R 7 is the same or different and each is a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; l is 10, 11 or 13)
It is also possible to synthesize a cyclic compound represented by
この方法では、以下に示す原料を用いて、以下に示す方法1、方法2等を採用することにより、様々な数の2価の芳香族環が連なった環状化合物が得られる。なお、この方法は、上記した反応式1〜3を用いる方法を包含する方法である。
In this method, a cyclic compound in which various numbers of divalent aromatic rings are linked can be obtained by employing the following
<原料>
ここでは、原料として、一般式(I):<Raw material>
Here, as a raw material, general formula (I):
(式中、R1は前記に同じ;Y’は同じか又は異なり、それぞれハロゲン原子、又はボロン酸又はそのエステル基である。)
で示される化合物、及び
一般式(II):(Wherein R 1 is the same as above; Y ′ is the same or different, and each is a halogen atom, or a boronic acid or an ester group thereof.)
And a compound represented by the general formula (II):
(式中、Y’は前記に同じである。)
で示される化合物
よりなる群から選ばれる1種の化合物、又は2種以上の化合物を反応させて得られる化合物を原料として用いる。(In the formula, Y ′ is the same as above.)
As a raw material, a compound obtained by reacting one compound selected from the group consisting of the compounds represented by the above or two or more compounds is used.
より好ましくは、化合物(5)、一般式(Ib): More preferably, compound (5), general formula (Ib):
(式中、R1及びYは前記に同じである。)
で示される化合物、化合物(10)、及び化合物(6)
よりなる群から選ばれる1種の化合物、又は2種以上の化合物を反応させて得られる化合物を用いて、環状化合物を製造することができる種々様々な化合物の組合せ及び反応を用いることで、環状化合物を得ることができる。(In the formula, R 1 and Y are the same as above.)
A compound represented by formula (10), and compound (6):
By using a combination of various compounds and reactions capable of producing a cyclic compound by using one compound selected from the group consisting of, or a compound obtained by reacting two or more compounds, a cyclic compound is obtained. A compound can be obtained.
なお、上記したように、反応式1〜3を用いる方法はこの一例である。 In addition, as above-mentioned, the method using Reaction formula 1-3 is this example.
ハロゲン原子(Y’で表記)としては特に限定されない。具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。本発明においては、臭素原子及びヨウ素原子が好ましく、特に臭素原子が好ましい。また、Y’(Y’がハロゲン原子の場合)は同一であっても異なっていてもよい。 The halogen atom (indicated by Y ′) is not particularly limited. Specifically, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. In the present invention, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is particularly preferable. Y ′ (when Y ′ is a halogen atom) may be the same or different.
ボロン酸又はそのエステル基(Y又はY’で表記)としては、上記説明した通りである。 The boronic acid or its ester group (indicated by Y or Y ′) is as described above.
化合物(Ib)は、化合物(5)の両末端のハロゲン原子を、例えばホウ素化合物を用いたボリル化反応によりボロン酸若しくはそのエステル基に変換することで得られる。 Compound (Ib) can be obtained by converting halogen atoms at both ends of compound (5) into boronic acid or an ester group thereof by, for example, a borylation reaction using a boron compound.
上記ホウ素化合物としては、上記説明したものが挙げられる。 Examples of the boron compound include those described above.
ホウ素化合物の使用量は、化合物(5)1モルに対して1〜10モルが好ましく、1.5〜7モルがより好ましい。 1-10 mol is preferable with respect to 1 mol of compounds (5), and, as for the usage-amount of a boron compound, 1.5-7 mol is more preferable.
反応は、通常、触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム系触媒が使用される。このパラジウム系触媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。本工程では、Pd2(dba)3、Pd(PPh3)4、(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム(II)等が好ましい。The reaction is usually performed in the presence of a catalyst, and a palladium-based catalyst is preferably used. As this palladium-type catalyst, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. In this step, Pd 2 (dba) 3 , Pd (PPh 3 ) 4 , (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene) dichloropalladium (II) and the like are preferable.
本工程でパラジウム系触媒を用いる場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)1モルに対して、通常、0.001〜1モルが好ましく、0.005〜0.1モルがより好ましい。 In the case of using a palladium-based catalyst in this step, the amount used is usually preferably 0.001 to 1 mol, preferably 0.005 to 0.005 mol per mol of the raw material compound (5) from the viewpoint of yield. 1 mole is more preferred.
また、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を触媒とともに用いることができる。このリン配位子としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。本工程では、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 Moreover, if necessary, a phosphorus ligand that can be coordinated to a palladium atom that is a central element of the palladium-based catalyst can be used together with the catalyst. As this phosphorus ligand, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. In this step, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)1モルに対して、通常、0.01〜1.0モルが好ましく、0.05〜0.5モルがより好ましい。 When a phosphorus ligand is used, the amount used is preferably 0.01 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0, relative to 1 mol of the starting compound (5) from the viewpoint of yield. More preferred is 5 moles.
また、上記パラジウム系触媒に加えて、必要に応じて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を使用することもできる。塩基としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、好ましくは、酢酸カリウム等である。この塩基の使用量は、原料の化合物(5)1モルに対して、通常、0.1〜5.0モル程度が好ましく、0.5〜1.0モルがより好ましい。
In addition to the palladium catalyst, a base (boron atom activator) may be used as necessary. Examples of the base include those described in the method using the
また、反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本工程では、ジメチルスルホキシド等が好ましい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。尚、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
なお、ホウ素化合物が環状のボロン酸エステル基を有する化合物である場合には、該ボロン酸エステル基を有する化合物を製造してから加水分解し、ボロン酸基に変換してもよい。 In addition, when a boron compound is a compound which has a cyclic boronic ester group, after manufacturing the compound which has this boronic ester group, it may hydrolyze and may convert into a boronic acid group.
原料として用いる化合物のうち、化合物(I)、化合物(II)の2種以上の化合物を反応させて得られる化合物は、例えば、一般式(14): Of the compounds used as raw materials, compounds obtained by reacting two or more compounds of compound (I) and compound (II) include, for example, general formula (14):
(式中、R1及びY’は前記に同じである。)
で示される化合物、
一般式(15):(Wherein R 1 and Y ′ are the same as above).
A compound represented by
Formula (15):
(式中、R1、R2、Y’及びnは前記に同じである。)
で示される化合物、化合物(7a)、化合物(8)、一般式(16):(In the formula, R 1 , R 2 , Y ′ and n are the same as above.)
A compound represented by formula (7a), compound (8), general formula (16):
(式中、R8はR2又はR4と同じ;m1はn又はm’と同じ;Y’は前記に同じである。)
で示される化合物等が挙げられる。(Wherein R 8 is the same as R 2 or R 4 ; m1 is the same as n or m ′; Y ′ is the same as above.)
And the like.
化合物(14)
化合物(14)は、例えば、化合物(I)を用いた反応により得ることができる。より具体的には、化合物(5)と、化合物(Ib)を用いて、化合物(5)の末端のハロゲン原子と、化合物(Ib)化合物の末端のボロン酸又はそのエステル基とを反応させて、三量体化することで、化合物(14)が得られる。 Compound (14)
Compound (14) can be obtained, for example, by a reaction using compound (I). More specifically, using the compound (5) and the compound (Ib), the terminal halogen atom of the compound (5) is reacted with the boronic acid at the terminal of the compound (Ib) compound or its ester group. The compound (14) is obtained by trimerization.
(式中、R1、X、Y及びY’は前記に同じである。)
この反応では、シクロヘキサン環の屈曲部を利用して、C字型の鎖状化合物として、化合物(14)を得ることができる。(Wherein R 1 , X, Y and Y ′ are the same as above).
In this reaction, the compound (14) can be obtained as a C-shaped chain compound by utilizing the bent portion of the cyclohexane ring.
化合物(5)と、化合物(Ib)との反応は、鈴木・宮浦カップリング反応を用いることができる。 For the reaction between the compound (5) and the compound (Ib), a Suzuki-Miyaura coupling reaction can be used.
化合物(5)と、化合物(Ib)との使用量は、目的とする化合物(14)によって適宜調整することが好ましい。 It is preferable to adjust the usage-amount of a compound (5) and a compound (Ib) suitably with the target compound (14).
より詳細には、化合物(14)の両末端をハロゲン原子とする場合には化合物(5)を過剰量とすることが好ましい。具体的には、化合物(Ib)の使用量は、化合物(5)1モルに対して、0.05〜0.2モルが好ましく、0.075〜0.15モルがより好ましい。 More specifically, when both ends of the compound (14) are halogen atoms, the compound (5) is preferably used in excess. Specifically, the amount of compound (Ib) to be used is preferably 0.05 to 0.2 mol, more preferably 0.075 to 0.15 mol, per 1 mol of compound (5).
また、化合物(14)の両末端をボロン酸又はそのエステル基とする場合には化合物(Ib)を過剰量とすることが好ましい。具体的には、化合物(Ib)の使用量は、化合物(5)1モルに対して、5〜20モルが好ましく、7〜15モルがより好ましい。 Moreover, when making both ends of a compound (14) into boronic acid or its ester group, it is preferable to make compound (Ib) into excess amount. Specifically, the amount of compound (Ib) to be used is preferably 5 to 20 mol, more preferably 7 to 15 mol, per 1 mol of compound (5).
上記の反応は、通常、触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム系触媒が使用される。このパラジウム系触媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。本工程では、Pd(PPh3)4、Pd2(dba)3等が好ましい。The above reaction is usually performed in the presence of a catalyst, and a palladium catalyst is preferably used. As this palladium-type catalyst, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. In this step, Pd (PPh 3 ) 4 , Pd 2 (dba) 3 and the like are preferable.
パラジウム系触媒を用いる場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)と、化合物(Ib)のうち少ないほうの化合物1モルに対して、通常、0.001〜1モルが好ましく、0.005〜0.5モルがより好ましい。 In the case of using a palladium-based catalyst, the amount used is usually 0.001 to 1 mol with respect to 1 mol of the lesser compound of the starting compound (5) and compound (Ib) from the viewpoint of yield. Is preferable, and 0.005-0.5 mol is more preferable.
また、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を触媒とともに用いることができる。このリン配位子としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。本工程では、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 Moreover, if necessary, a phosphorus ligand that can be coordinated to a palladium atom that is a central element of the palladium-based catalyst can be used together with the catalyst. As this phosphorus ligand, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. In this step, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)と、化合物(Ib)のうち少ないほうの化合物1モルに対して、通常、0.01〜1.0モルが好ましく、0.05〜0.5モルがより好ましい。 When using a phosphorus ligand, the amount used is usually 0.01 to 1 mol of the compound (5) as the starting material and 1 mol of the smaller compound (Ib) from the viewpoint of yield. 1.0 mol is preferable, and 0.05 to 0.5 mol is more preferable.
また、上記パラジウム系触媒に加えて、必要に応じて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を使用することもできる。この塩基は、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、好ましくは、フッ化セシウム、炭酸セシウム、炭酸銀、リン酸カリウム等である。この塩基の使用量は、原料の化合物(5)と、化合物(Ib)のうち少ないほうの化合物1モルに対して、通常、0.1〜5.0モル程度が好ましく、0.5〜4.0モルがより好ましい。
In addition to the palladium catalyst, a base (boron atom activator) may be used as necessary. Examples of this base include those described in the method using the
また、反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本工程では、環状エーテル類(テトラヒドロフラン等)が好ましい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
化合物(15)
化合物(15)は、上記のように反応式(1)に従って化合物(7a)を得た後、さらに化合物(7a)の末端のハロゲン原子と、化合物(Ib)の末端のボロン酸又はそのエステル基を反応させることで得られる。 Compound (15)
The compound (15) is obtained by obtaining the compound (7a) according to the reaction formula (1) as described above, and further, the halogen atom at the terminal of the compound (7a) and the boronic acid at the terminal of the compound (Ib) or its ester group. It is obtained by reacting.
(式中、R1、R2、X、Y、Y’及びnは前記に同じである。)(Wherein R 1 , R 2 , X, Y, Y ′ and n are the same as above).
また、化合物(8)の末端のボロン酸又はそのエステル基と、化合物(5)の末端のハロゲン原子を反応させることによっても得られる。 It can also be obtained by reacting the terminal boronic acid or the ester group of compound (8) with the terminal halogen atom of compound (5).
(式中、R1、R2、X、Y、Y’及びnは前記に同じである。)(Wherein R 1 , R 2 , X, Y, Y ′ and n are the same as above).
この反応では、シクロヘキサン環の屈曲部を利用して、C字型の鎖状化合物として、化合物(15)を得ることができる。 In this reaction, the compound (15) can be obtained as a C-shaped chain compound by utilizing the bent portion of the cyclohexane ring.
上記反応は、鈴木・宮浦カップリング反応を用いることが好ましい。 It is preferable to use the Suzuki-Miyaura coupling reaction for the above reaction.
ここでは、化合物(Ib)又は化合物(5)を過剰量とすることが好ましい。具体的には、化合物(Ib)の使用量は、化合物(7a)1モルに対して、5〜20モルが好ましく、7〜15モルがより好ましい。また、化合物(5)の使用量は、化合物(8)1モルに対して、5〜20モルが好ましく、7〜15モルがより好ましい。 Here, it is preferable to make compound (Ib) or compound (5) into an excess amount. Specifically, the amount of compound (Ib) to be used is preferably 5 to 20 mol, more preferably 7 to 15 mol, per 1 mol of compound (7a). Moreover, 5-20 mol is preferable with respect to 1 mol of compounds (8), and, as for the usage-amount of a compound (5), 7-15 mol is more preferable.
ここでは、通常、パラジウム系触媒が用いられる。このパラジウム系触媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、Pd(PPh3)4等が好ましい。Here, a palladium-based catalyst is usually used. As this palladium-type catalyst, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, Pd (PPh 3 ) 4 and the like are preferable.
上記パラジウム系触媒の使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7a)又は化合物(8)1モルに対して、通常、0.001〜1モルが好ましく、0.005〜0.5モルがより好ましい。 From the viewpoint of yield, the amount of the palladium-based catalyst is usually preferably 0.001 to 1 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol per mol of the raw material compound (7a) or compound (8). Mole is more preferred.
また、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を使用することができる。このリン配位子としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 Moreover, if necessary, a phosphorus ligand that can be coordinated to a palladium atom that is a central element of the palladium-based catalyst can be used. As this phosphorus ligand, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
上記リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(7a)又は化合物(8)1モルに対して、通常、0.001〜1.0モルが好ましく、0.01〜0.8モルがより好ましい。 When the phosphorus ligand is used, the amount used is usually preferably 0.001 to 1.0 mol with respect to 1 mol of the starting compound (7a) or compound (8) from the viewpoint of yield. 0.01 to 0.8 mol is more preferable.
上記パラジウム系触媒に加えて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を添加することが好ましい。この塩基は、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。好ましくは、炭酸ナトリウム、炭酸銀等である。この塩基(上記活性化剤)の使用量は、原料の化合物(7a)又は化合物(8)1モルに対して、通常、0.01〜10モルが好ましく、0.1〜5.0モルがより好ましい。
In addition to the palladium catalyst, a base (boron atom activator) is preferably added. Examples of this base include those described in the method using the
反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本工程では、芳香族炭化水素類(トルエン等)が好ましい。また、水を含む系であってもよい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
化合物(16)
化合物(16)は、例えば、化合物(I)及び化合物(II)を用いた反応により得ることができる。より具体的には、化合物(5)又は化合物(10)の末端のハロゲン原子と、化合物(6)又は化合物(Ib)の末端のボロン酸又はそのエステル基とを反応させて得られる。 Compound (16)
Compound (16) can be obtained, for example, by a reaction using compound (I) and compound (II). More specifically, it is obtained by reacting the terminal halogen atom of compound (5) or compound (10) with the terminal boronic acid of compound (6) or compound (Ib) or its ester group.
(式中、R1、R2、R4、R8、X、Y、Y’、n、m’及びm1は前記に同じである。)(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 8 , X, Y, Y ′, n, m ′ and m1 are the same as above).
この反応では、シクロヘキサン環の屈曲部を利用して、L字型の鎖状化合物として、化合物(16)を得ることができる。 In this reaction, compound (16) can be obtained as an L-shaped chain compound by utilizing the bent portion of the cyclohexane ring.
上記反応は、鈴木・宮浦カップリング反応を用いることが好ましい。 It is preferable to use the Suzuki-Miyaura coupling reaction for the above reaction.
ここでは、化合物(6)又は化合物(10)を過剰量とすることが好ましい。具体的には、化合物(6)の使用量は、化合物(5)1モルに対して、5〜20モルが好ましく、7〜15モルがより好ましい。また、化合物(10)の使用量は、化合物(Ib)1モルに対して、5〜20モルが好ましく、7〜15モルがより好ましい。 Here, it is preferable to make compound (6) or compound (10) into an excessive amount. Specifically, the amount of compound (6) to be used is preferably 5 to 20 mol, more preferably 7 to 15 mol, per 1 mol of compound (5). Moreover, 5-20 mol is preferable with respect to 1 mol of compound (Ib), and, as for the usage-amount of a compound (10), 7-15 mol is more preferable.
ここでは、通常、パラジウム系触媒が用いられる。このパラジウム系触媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、Pd(PPh3)4等が好ましい。Here, a palladium-based catalyst is usually used. As this palladium-type catalyst, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, Pd (PPh 3 ) 4 and the like are preferable.
上記パラジウム系触媒の使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)又は化合物(Ib)1モルに対して、通常、0.0001〜0.5モルが好ましく、0.0005〜0.2モルがより好ましい。 The amount of the palladium catalyst used is usually preferably from 0.0001 to 0.5 mol, preferably from 0.0005 to 0, per 1 mol of the starting compound (5) or compound (Ib) from the viewpoint of yield. More preferred is 2 moles.
また、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を使用することができる。このリン配位子としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 Moreover, if necessary, a phosphorus ligand that can be coordinated to a palladium atom that is a central element of the palladium-based catalyst can be used. As this phosphorus ligand, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
上記リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(5)又は化合物(Ib)1モルに対して、通常、0.001〜1.0モルが好ましく、0.01〜0.8モルがより好ましい。 When the above phosphorus ligand is used, the amount used is usually preferably 0.001 to 1.0 mol with respect to 1 mol of the starting compound (5) or compound (Ib) from the viewpoint of yield. 0.01 to 0.8 mol is more preferable.
上記パラジウム系触媒に加えて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を添加することが好ましい。この塩基は、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。好ましくは、炭酸銀等である。この塩基(上記活性化剤)の使用量は、原料の化合物(5)又は化合物(Ib)1モルに対して、通常、0.01〜10モルが好ましく、0.1〜5.0モルがより好ましい。
In addition to the palladium catalyst, a base (boron atom activator) is preferably added. Examples of this base include those described in the method using the
反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本発明では、環状エーテル類(テトラヒドロフラン等)が好ましい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
<方法1>
9〜13個(特に9個、11個又は13個)の芳香族環が連なった環状化合物は、例えば、
一般式(III):
X−R9−X
(式中、R9は、3〜4個の一般式(17):<
Cyclic compounds in which 9 to 13 (especially 9, 11 or 13) aromatic rings are linked are, for example,
General formula (III):
X-R 9 -X
(In the formula, R 9 represents 3 to 4 general formulas (17):
(式中、R1は前記に同じである。)
で示される構造単位と、6個以上(特に6〜9個)のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基と、からなる2価の基;Xは前記に同じである。]
で示される鎖状化合物の末端原子同士(特にハロゲン原子同士)を、分子内閉環反応により反応させて輪状の化合物を得る工程
を備える。(Wherein R 1 is the same as defined above.)
And a divalent group comprising 6 or more (especially 6 to 9) phenylene groups or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; X is the same as defined above. ]
And a step of obtaining a ring-shaped compound by reacting terminal atoms (particularly, halogen atoms) of the chain compound represented by formula (1) by an intramolecular ring-closing reaction.
ここでは、化合物(III)を、分子内閉環反応により輪状の化合物を得る。なお、化合物(III)は、上記説明した原料を用いて反応させることにより得られる。 Here, a ring-shaped compound is obtained from the compound (III) by an intramolecular ring-closing reaction. In addition, compound (III) is obtained by making it react using the raw material demonstrated above.
化合物(III)は、上記説明した化合物のなかでも、化合物(14)、及び化合物(15)のうち両末端がハロゲン原子である化合物を包含する概念である。そのため、化合物(III)のうち、他の化合物についても、化合物(14)、及び化合物(15)のうち両末端がハロゲン原子である化合物と同様の方法により得ることができる。 Compound (III) is a concept that includes compounds having both ends being a halogen atom among the compounds (14) and (15) among the compounds described above. Therefore, other compounds of compound (III) can also be obtained by the same method as the compound (14) and compound (15) in which both ends are halogen atoms.
ここでは、化合物(III)の末端原子同士が結合して輪状の化合物が形成される。化合物(III)は、2つのハロゲン原子を有しており、ニッケル化合物を用いることにより、そのハロゲン原子同士を結合させ、分子内閉環反応を起こさせることができる。 Here, the terminal atoms of the compound (III) are bonded to form a ring-shaped compound. Compound (III) has two halogen atoms. By using a nickel compound, the halogen atoms can be bonded to each other to cause an intramolecular ring-closing reaction.
この工程において、化合物(III)が有する環の数がそのまま環状化合物(特にカーボンナノリング)が有する環の数となる。このことから、化合物(III)を好適に選択することにより、連結する芳香族環の個数を自在に設計することができ、所望の数の芳香族環が連なった環状化合物を、短工程で効率良く製造することができる。 In this step, the number of rings that compound (III) has becomes the number of rings that the cyclic compound (especially carbon nanorings) has as it is. From this, it is possible to freely design the number of aromatic rings to be linked by suitably selecting the compound (III), and to efficiently produce a cyclic compound in which a desired number of aromatic rings are linked in a short process. Can be manufactured well.
分子内閉環反応においては、ニッケル化合物が用いられる。このニッケル化合物としては、上記反応式3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。
In the intramolecular ring closure reaction, a nickel compound is used. Examples of the nickel compound include those described in the method using the
上記ニッケル化合物の使用量は、使用する原料によって異なるが、通常、原料の化合物(III)1モルに対して、通常、試薬として投入するニッケル化合物の量が0.01〜50モル、好ましくは0.1〜10モルである。 The amount of the nickel compound used varies depending on the raw material used, but usually the amount of the nickel compound charged as a reagent is usually 0.01 to 50 mol, preferably 0, relative to 1 mol of the raw material compound (III). .1-10 moles.
ニッケル化合物とともに、ニッケル(ニッケル原子)に配位し得る配位子を用いることができる。この配位子としては、上記反応式3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。
A ligand capable of coordinating to nickel (nickel atom) can be used together with the nickel compound. Examples of the ligand include those described in the method using the
上記配位子を使用する場合、その使用量は、化合物(III)1モルに対して、通常、0.01〜50モル、好ましくは0.1〜10モルである。 When using the said ligand, the usage-amount is 0.01-50 mol normally with respect to 1 mol of compound (III), Preferably it is 0.1-10 mol.
反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本工程では、環状エーテル類(テトラヒドロフラン等)が好ましい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応溶媒を使用する場合、原料の濃度は種々調整することが好ましいが、原料の濃度を高くしすぎないことが好ましい。具体的には、化合物(III)の濃度は、0.1〜5mmol/Lが好ましく、0.2〜3mol/Lがより好ましい。 When using a reaction solvent, it is preferable to adjust the concentration of the raw material in various ways, but it is preferable not to make the concentration of the raw material too high. Specifically, the concentration of compound (III) is preferably 0.1 to 5 mmol / L, and more preferably 0.2 to 3 mol / L.
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
これにより、輪状の化合物が得られる。原料として、化合物(14)のうち両末端がハロゲン原子である化合物を使用した場合には、一般式(12b): Thereby, a ring-shaped compound is obtained. When a compound in which both ends are halogen atoms is used as the raw material in the compound (14), the general formula (12b):
(式中、R1は前記に同じである。)
で示される化合物が得られる。(Wherein R 1 is the same as defined above.)
Is obtained.
また、原料として、化合物(15)のうち両末端がハロゲン原子で、R2が1,4−フェニレン基、nが1である化合物を使用した場合には、一般式(18):Further, when a compound in which both ends of the compound (15) are halogen atoms, R 2 is a 1,4-phenylene group and n is 1 is used as a raw material, the general formula (18):
(式中、R1は前記に同じである。)
で示される化合物が得られる。(Wherein R 1 is the same as defined above.)
Is obtained.
また、同様の方法により、一般式(19): In the same manner, the general formula (19):
(式中、R1は前記に同じである。)
で示される化合物等も得られる。(Wherein R 1 is the same as defined above.)
And the like can also be obtained.
<方法2>
10〜13個(特に10個)の芳香族環が連なった環状化合物は、例えば、
一般式(IV−1):
Y’−R10a−Y’
(式中、R10aは、3個の一般式(17)で示される構造単位と、6個以上(特に6〜9個)のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基と、からなる2価の基;Y’は前記に同じである。)
で示される化合物と、
一般式(IV−2):
Y’−R10b−Y’
(式中、R10bは、1個以上(特に1〜4個)のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基からなる2価の基;Y’は前記に同じである。)
で示される化合物とを反応させて輪状の化合物を得る工程か、
一般式(V−1):
Y’−R11a−Y’
[式中、R11aは、2個の一般式(17)で示される構造単位と、4個以上(特に4〜8個)のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基と、からなる2価の基;Y’は前記に同じである。]
で示される化合物と、
一般式(V−2):
Y’−R11b−Y’
[式中、R11bは、1個の一般式(17)で示される構造単位と、2個以上(特に2〜6個)のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基と、からなる2価の基;Y’は前記に同じである。]
で示される化合物とを反応させて輪状の化合物を得る工程
を備える。<
A cyclic compound in which 10 to 13 (particularly 10) aromatic rings are linked is, for example,
Formula (IV-1):
Y'-R 10a -Y '
(Wherein R 10a represents three structural units represented by the general formula (17), 6 or more (especially 6 to 9) phenylene groups or divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon groups; A divalent group comprising: Y ′ is the same as defined above.)
A compound represented by
General formula (IV-2):
Y′-R 10b -Y ′
(In the formula, R 10b is a divalent group consisting of one or more (particularly 1 to 4) phenylene groups or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group; Y ′ is the same as above).
Or a step of obtaining a ring-shaped compound by reacting with a compound represented by
Formula (V-1):
Y′-R 11a -Y ′
[Wherein, R 11a represents two structural units represented by the general formula (17), 4 or more (particularly 4 to 8) phenylene groups or divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon groups, A divalent group consisting of: Y ′ is the same as defined above. ]
A compound represented by
General formula (V-2):
Y′-R 11b -Y ′
[Wherein, R 11b represents one structural unit represented by the general formula (17), two or more (particularly 2 to 6) phenylene groups, or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group, A divalent group consisting of: Y ′ is the same as defined above. ]
A step of obtaining a ring-shaped compound by reacting with a compound represented by the formula:
つまり、上記化合物(IV−1)と化合物(IV−2)との反応、又は化合物(V−1)と化合物(V−2)との反応により、輪状の化合物を得る。 That is, a ring-shaped compound is obtained by the reaction between the compound (IV-1) and the compound (IV-2) or the reaction between the compound (V-1) and the compound (V-2).
化合物(IV−1)は、化合物(14)を包含し、化合物(IV−2)は、化合物(II)、化合物(6)、化合物(10)等を包含する。 Compound (IV-1) includes compound (14), and compound (IV-2) includes compound (II), compound (6), compound (10) and the like.
このことから、化合物(IV−1)と化合物(IV−2)との反応、具体的には、例えば、以下の反応: From this, the reaction between the compound (IV-1) and the compound (IV-2), specifically, for example, the following reaction:
(式中、R1及びY’は前記に同じである。)
により輪状の化合物が得られる。(Wherein R 1 and Y ′ are the same as above).
Gives a ring-shaped compound.
また、化合物(V−1)は、化合物(8)を包含し、化合物(V−2)は、化合物(I)、化合物(Ib)、化合物(5)、化合物(16)等を包含する。 Compound (V-1) includes compound (8), and compound (V-2) includes compound (I), compound (Ib), compound (5), compound (16) and the like.
このことから、化合物(V−1)と化合物(V−2)との反応、具体的には、例えば、以下の反応: From this, the reaction between the compound (V-1) and the compound (V-2), specifically, for example, the following reaction:
(式中、R1、R2、X、Y及びnは前記に同じである。)
により輪状の化合物が得られる。(Wherein R 1 , R 2 , X, Y and n are the same as above).
Gives a ring-shaped compound.
このように、シクロヘキサン環の角度を利用して明らかに略長方形又は略正三角形の形状の輪状の化合物を合成できないようないびつな形状の輪状の化合物が得られると考えられる組合せであっても採用できる。これにより、様々な環の数を有する環状化合物の合成が可能となる。 In this way, even in a combination where it is considered that a ring-shaped compound having a roughly rectangular or substantially equilateral triangular shape cannot be synthesized by using the angle of the cyclohexane ring, a ring-shaped compound having a distorted shape cannot be obtained. it can. This makes it possible to synthesize cyclic compounds having various numbers of rings.
ここでは、上記の反応のみに限られず、様々な化合物(IV−1)と化合物(IV−2)の組合せ、化合物(V−1)と化合物(V−2)の組合せが採用し得る。 Here, the reaction is not limited to the above reaction, and various combinations of compound (IV-1) and compound (IV-2), and combinations of compound (V-1) and compound (V-2) may be employed.
上記反応は、鈴木−宮浦カップリング反応を用いることが好ましい。つまり、化合物(IV−1)と化合物(IV−2)の片方の化合物の両末端をハロゲン原子、もう片方の化合物の両末端をボロン酸又はそのエステル基とすることが好ましい。また、化合物(V−1)と化合物(V−2)の片方の化合物の両末端をハロゲン原子、もう片方の化合物の両末端をボロン酸又はそのエステル基とすることが好ましい。 It is preferable to use the Suzuki-Miyaura coupling reaction for the above reaction. That is, it is preferable that both ends of one of the compounds (IV-1) and (IV-2) are halogen atoms and both ends of the other compound are boronic acid or an ester group thereof. Further, it is preferable that both ends of one of the compounds (V-1) and (V-2) are halogen atoms and both ends of the other compound are boronic acid or an ester group thereof.
化合物(IV−2)の使用量は、化合物(IV−1)1モルに対して、0.01〜5.0モルが好ましく、0.05〜3.0モルがより好ましい。同様に、化合物(V−2)の使用量は、化合物(V−1)1モルに対して、0.01〜5.0モルが好ましく、0.05〜3.0モルがより好ましい。 0.01-5.0 mol is preferable with respect to 1 mol of compound (IV-1), and, as for the usage-amount of compound (IV-2), 0.05-3.0 mol is more preferable. Similarly, 0.01-5.0 mol is preferable with respect to 1 mol of compound (V-1), and, as for the usage-amount of compound (V-2), 0.05-3.0 mol is more preferable.
ここでは、通常、パラジウム系触媒が用いられる。このパラジウム系触媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、Pd(OAc)2(Acはアセチル基)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、ビス(トリt−ブチルホスフィノ)パラジウム(0)等が好ましい。Here, a palladium-based catalyst is usually used. As this palladium-type catalyst, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, Pd (OAc) 2 (Ac is an acetyl group), bis (dibenzylideneacetone) palladium (0), bis (tri-t-butylphosphino) palladium (0), and the like are preferable.
上記パラジウム系触媒の使用量は、収率の観点から、原料の化合物(IV−1)又は化合物(V−1)1モルに対して、通常、0.0001〜1.0モルが好ましく、0.0005〜0.5モルがより好ましい。 From the viewpoint of yield, the amount of the palladium-based catalyst is usually preferably from 0.0001 to 1.0 mol, based on 1 mol of the starting compound (IV-1) or compound (V-1). .0005 to 0.5 mol is more preferable.
また、必要に応じて、上記パラジウム系触媒の中心元素であるパラジウム原子に配位し得る、リン配位子を使用することができる。このリン配位子としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’,4’,6’−トリ−イソプロピル−1,1’−ビフェニル(X−Phos)等が好ましい。 Moreover, if necessary, a phosphorus ligand that can be coordinated to a palladium atom that is a central element of the palladium-based catalyst can be used. As this phosphorus ligand, what was demonstrated by the method using the said Reaction formulas 1-3 is mentioned. Of these, 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ', 4', 6'-tri-isopropyl-1,1'-biphenyl (X-Phos) and the like are preferable.
上記リン配位子を使用する場合、その使用量は、収率の観点から、原料の化合物(IV−1)又は化合物(V−1)1モルに対して、通常、0.001〜1.0モルが好ましく、0.01〜0.8モルがより好ましい。 When using the said phosphorus ligand, the usage-amount is 0.001-1. With respect to 1 mol of compounds (IV-1) or a compound (V-1) of a raw material from a viewpoint of a yield normally. 0 mol is preferable, and 0.01 to 0.8 mol is more preferable.
上記パラジウム系触媒に加えて、塩基(ホウ素原子の活性化剤)を添加することが好ましい。この塩基は、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。好ましくは、水酸化ナトリウム、リン酸カリウム等である。この塩基(上記活性化剤)の使用量は、原料の化合物(IV−1)又は化合物(V−1)1モルに対して、通常、0.01〜10モルが好ましく、0.1〜5.0モルがより好ましい。
In addition to the palladium catalyst, a base (boron atom activator) is preferably added. Examples of this base include those described in the method using the
反応は、通常、反応溶媒の存在下で行われる。この反応溶媒としては、上記反応式1〜3を用いる方法にて説明したものが挙げられる。これらのうち、本工程では、環状エーテル類(ジオキサン等)が好ましい。また、水を含む系としてもよい。
The reaction is usually performed in the presence of a reaction solvent. Examples of the reaction solvent include those described in the method using the
反応溶媒を使用する場合、原料の濃度は種々調整することが好ましいが、原料の濃度を高くしすぎないことが好ましい。例えば、化合物(14)と化合物(II)とを反応させる場合には、化合物(14)の濃度は、0.1〜5mmol/Lが好ましく、0.2〜3mol/Lがより好ましい。また、同様に、化合物(8)と化合物(5)とを反応させる場合には、化合物(8)の濃度は、0.1〜5mmol/Lが好ましく、0.2〜3mol/Lがより好ましい。 When using a reaction solvent, it is preferable to adjust the concentration of the raw material in various ways, but it is preferable not to make the concentration of the raw material too high. For example, when reacting compound (14) and compound (II), the concentration of compound (14) is preferably from 0.1 to 5 mmol / L, more preferably from 0.2 to 3 mol / L. Similarly, when the compound (8) and the compound (5) are reacted, the concentration of the compound (8) is preferably 0.1 to 5 mmol / L, more preferably 0.2 to 3 mol / L. .
反応温度は、通常、0℃以上であり且つ上記反応溶媒の沸点温度以下である範囲から選択される。 The reaction temperature is usually selected from the range of 0 ° C. or higher and lower than the boiling temperature of the reaction solvent.
また、反応雰囲気は、特に限定されないが、好ましくは不活性ガス雰囲気であり、アルゴンガス雰囲気、窒素ガス雰囲気等とすることができる。なお、空気雰囲気とすることもできる。 The reaction atmosphere is not particularly limited, but is preferably an inert gas atmosphere, and may be an argon gas atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, or the like. An air atmosphere can also be used.
このようにして得られる輪状の化合物は、3〜4個の一般式(17): The ring-shaped compound thus obtained has 3 to 4 general formulas (17):
(式中、R1は前記に同じである。)
で示される構造単位と、
6〜9個のフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基と、
からなり、且つ、
一般式(17)で示される構造単位とフェニレン基又は2価の縮合多環芳香族炭化水素基とを合計で10、11又は13個有する、輪状の化合物である。(Wherein R 1 is the same as defined above.)
A structural unit represented by
6 to 9 phenylene groups or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group;
And
A cyclic compound having a total of 10, 11 or 13 structural units represented by the general formula (17) and a phenylene group or a divalent condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group.
<シクロヘキサン環のベンゼン化>
上記のようにして輪状の化合物を得た後、シクロヘキサン環部をベンゼン環に変換することにより、環状化合物が得られる。<Benzeneation of cyclohexane ring>
After obtaining a ring-shaped compound as described above, a cyclic compound is obtained by converting the cyclohexane ring portion into a benzene ring.
その方法は、前記<反応式2>の化合物(11)から化合物(3)に変換する方法と同様にして実施することができる。
The method can be carried out in the same manner as the method for converting the compound (11) in the above <
なお、環の数が10、11又は13個の輪状の化合物を用いてシクロヘキサン環部をベンゼン環に変換すれば、10、11又は13個の芳香族環が連なった環状化合物が得られる。 In addition, if a cyclohexane ring part is converted into a benzene ring using a ring-shaped compound having 10, 11, or 13 rings, a cyclic compound in which 10, 11 or 13 aromatic rings are linked is obtained.
以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited at all by these Examples.
薄層クロマトグラフィー(TLC)には、E. Merckシリカゲル60 F254プレコートプレート(0.25 mm厚)を用いた。クロマトグラムは、UVランプ(254 nm)を用いて分析した。フラッシュカラムクロマトグラフィー(FCC)は、E. Merckシリカゲル60 F254(230〜400メッシュ)を用いて行った。分取薄層クロマトグラフィー(PTLC)には、Wakogel B5-Fシリカコートプレート(0.75 mm厚)を作製して用いた。リサイクル分取ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)には、JAI LC-9204型(分取カラムJAIGEL-1H/JAIGEL-2H、クロロホルム)を用いて行った。質量スペクトルは、Waters Micromass LCT Premier(エレクトロスプレーイオン化飛行時間質量スペクトル分析、ESI-TOFMS)、JEOL JMS700(高速原子衝撃質量分析装置、FAB-MS)Bruker Daltonics Ultraflex III TOF/TOF(MALDI-TOF-MS)を用いて得た。元素分析は、Yanako MT-6を用いて行った。融点は、MPA100型OptiMelt融点測定装置を用いて行った。核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、JEOL GSX-270(1H 270MHz, 13C 67.5MHz)分光計、JEOL JNM-ECS400(1H 400MHz, 13C 100MHz)、JEOL JNM-ECA-600(1H 600MHz, 13C 150MHz)分光計を用いて、CDCl3又はDMSO-d6中で行った。1H NMRについての化学シフトは、テトラメチルシラン(δ0.00 ppm)、CHCl3(δ7.26 ppm)、又はCDCl2(δ5.32 ppm)と比較してppmで表した。13C NMRについての化学シフトは、CDCl3(δ77.0 ppm)と比較してppmで表した。For thin layer chromatography (TLC), E. Merck silica gel 60 F254 precoated plates (0.25 mm thick) were used. The chromatogram was analyzed using a UV lamp (254 nm). Flash column chromatography (FCC) was performed using E. Merck silica gel 60 F254 (230-400 mesh). For preparative thin layer chromatography (PTLC), a Wakogel B5-F silica-coated plate (0.75 mm thick) was prepared and used. For recycle preparative gel permeation chromatography (GPC), JAI LC-9204 type (preparation column JAIGEL-1H / JAIGEL-2H, chloroform) was used. Mass spectra are Waters Micromass LCT Premier (electrospray ionization time-of-flight mass spectrometry, ESI-TOFMS), JEOL JMS700 (fast atom bombardment mass spectrometer, FAB-MS) Bruker Daltonics Ultraflex III TOF / TOF (MALDI-TOF-MS) ) Was used. Elemental analysis was performed using Yanako MT-6. Melting | fusing point was performed using MPA100 type | mold OptiMelt melting | fusing point measuring apparatus. Nuclear magnetic resonance (NMR) spectra, JEOL GSX-270 (1 H 270MHz, 13 C 67.5MHz) spectrometer, JEOL JNM-ECS400 (1 H 400MHz, 13 C 100MHz), JEOL JNM-ECA-600 (1 H 600MHz , 13 C 150 MHz) using a spectrometer in CDCl 3 or DMSO-d6. Chemical shifts for 1 H NMR were expressed in ppm relative to tetramethylsilane (δ0.00 ppm), CHCl 3 (δ7.26 ppm), or CDCl 2 (δ5.32 ppm). Chemical shifts for 13 C NMR were expressed in ppm relative to CDCl 3 (δ 77.0 ppm).
合成例1:化合物(5a)の製造
内容積1 Lの丸底フラスコに、塩化リチウム1.68 g(33 mmol)と、セリウム(III)トリクロリド・七水和物14.4 g(0.33 mol)とを入れ、このフラスコをオイルバスに浸し、真空下、90℃で、2時間加熱し乾燥させた。得られた反応剤混合物を粉末状に砕いた後、その粉末状の反応剤混合物を再びフラスコに入れた。更に、フラスコをオイルバスに浸し、真空下、90℃で、1時間加熱した。このフラスコに攪拌子を入れ、フラスコを再びオイルバスに浸し、攪拌しながら、真空下、150℃で、3時間加熱した。フラスコ内の内容物が冷めないうちに、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。ここに乾燥テトラヒドロフラン(THF)200 mLを入れて懸濁させ、生じた懸濁液を、室温(約23℃、以下同様)で、8時間程度攪拌した。この懸濁液に、1,4-シクロヘキサンジオン1.68 g(15 mmol)のTHF溶液15 mLをキャニュラを用いて入れて、室温で、2時間攪拌した後、-78℃に冷却して、懸濁液Aを得た。 Synthesis Example 1 Production of Compound (5a) In a 1 L round bottom flask having an internal volume of 1.68 g (33 mmol) of lithium chloride and 14.4 g (0.33 mol) of cerium (III) trichloride heptahydrate, The flask was immersed in an oil bath and dried by heating at 90 ° C. for 2 hours under vacuum. After the obtained reactant mixture was crushed into a powder, the powdered reactant mixture was put into the flask again. Further, the flask was immersed in an oil bath and heated at 90 ° C. for 1 hour under vacuum. A stir bar was placed in the flask, and the flask was again immersed in an oil bath and heated at 150 ° C. for 3 hours under vacuum while stirring. Before the contents in the flask were cooled, argon gas was charged into the flask. 200 mL of dry tetrahydrofuran (THF) was added and suspended therein, and the resulting suspension was stirred at room temperature (about 23 ° C., hereinafter the same) for about 8 hours. To this suspension, 15 mL of a THF solution of 1.68 g (15 mmol) of 1,4-cyclohexanedione was added using a cannula, stirred at room temperature for 2 hours, cooled to -78 ° C, and suspended. Liquid A was obtained.
上記とは別の内容積1 Lの丸底フラスコに、1,4-ジブロモベンゼン10.7 g(45 mmol)及び乾燥THF90 mLを入れた。ここにn-ブチルリチウムのヘキサン溶液29.5 mL(1.57 M、45 mmol)を、-78℃の温度条件下で、徐々に滴下した(添加速度4.5 cm3/分)。滴下終了後、-78℃で、30分間、攪拌し、得られた溶液を、上記の懸濁液Aにキャニュラを用いて入れて、混合物を得た。In a 1 L round bottom flask different from the above, 10.7 g (45 mmol) of 1,4-dibromobenzene and 90 mL of dry THF were placed. Here, 29.5 mL (1.57 M, 45 mmol) of a hexane solution of n-butyllithium was gradually added dropwise at a temperature of -78 ° C. (addition rate: 4.5 cm 3 / min). After completion of dropping, the mixture was stirred at −78 ° C. for 30 minutes, and the obtained solution was put into the above suspension A using a cannula to obtain a mixture.
そして、この混合物を-78℃で、1時間攪拌した後、次いで、室温で2時間攪拌した。その後、混合物に飽和NH4Cl水溶液50 mLを加え、反応を停止させた。生成物をセライトでろ過し、得られたろ液をエバポレーターで濃縮した。そして、得られた残渣(濃縮物)に酢酸エチルを添加して粗生成物を抽出し、無水Na2SO4により乾燥を行い、酢酸エチル溶液を得た。その溶液をエバポレーターで濃縮し、残渣(濃縮物)をクロロホルムにより再結晶することで、白色固体物質5.32 gを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(5a):The mixture was stirred at −78 ° C. for 1 hour, and then stirred at room temperature for 2 hours. Then, 50 mL of saturated NH 4 Cl aqueous solution was added to the mixture to stop the reaction. The product was filtered through celite, and the resulting filtrate was concentrated with an evaporator. Then, ethyl acetate was added to the resulting residue (concentrate) was extracted the crude product, and dried by anhydrous Na 2 SO 4, to obtain an ethyl acetate solution. The solution was concentrated by an evaporator, and the residue (concentrate) was recrystallized from chloroform to obtain 5.32 g of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (5a):
で示される化合物であった。この化合物の収率は83%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 83%.
1H NMR (270 MHz, CDCl3) δ1.71 (s, 2H), d 2.07 (s, 8H), 7.34 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 7.47 (d, J = 8.6 Hz, 4H); 13C NMR (67.5 MHz, CDCl3) δ33.2 (CH2), 72.3 (4°), 121.5 (4°), 127.2 (CH), 131.6 (CH), 144.6 (4°); HRMS (FAB, negative) m/z calcd for C18H17Br2O2[M-H]−: 422.9595, found 422.9576; mp : 177.7-178.7℃. 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ1.71 (s, 2H), d 2.07 (s, 8H), 7.34 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 7.47 (d, J = 8.6 Hz, 4H) ; 13 C NMR (67.5 MHz, CDCl 3 ) δ33.2 (CH 2 ), 72.3 (4 °), 121.5 (4 °), 127.2 (CH), 131.6 (CH), 144.6 (4 °); HRMS (FAB , negative) m / z calcd for C 18 H 17 Br 2 O 2 [MH] − : 422.9595, found 422.9576; mp: 177.7-178.7 ℃.
合成例2:化合物(5a)の水酸基のMOM保護の形成
攪拌子を入れた200 mL丸底フラスコに、上記の合成例1により得られた化合物(5a)4.69 g(11 mmol)と、乾燥ジクロロメタン(CH2Cl2)44 mLと、ジイソプロピルエチルアミン7.7 mL(44 mmol)とを入れて、フラスコを氷浴に浸した。そして、フラスコ内の混合物を0℃で30分間攪拌した後、クロロメチルメチルエーテル3.5 mL(46 mmol)を入れた。次いで、その混合物を、撹拌しながら、室温で18時間反応させた後に、飽和NH4Cl水溶液20 mLを加え、反応を停止させた。生成物をCH2Cl2(20 mL×3)で抽出し、抽出後の有機層を無水Na2SO4で乾燥し溶液を得た。その溶液をエバポレーターで濃縮し、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2)で精製し、無色固体物質5.48 gを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この無色固体物質を解析した結果、下記式(5b): Synthesis Example 2: Formation of MOM protection of hydroxyl group of compound (5a) In a 200 mL round bottom flask containing a stir bar, 4.69 g (11 mmol) of compound (5a) obtained in Synthesis Example 1 above and dry dichloromethane 44 mL of (CH 2 Cl 2 ) and 7.7 mL (44 mmol) of diisopropylethylamine were added, and the flask was immersed in an ice bath. And after stirring the mixture in a flask for 30 minutes at 0 degreeC, chloromethyl methyl ether 3.5 mL (46 mmol) was put. The mixture was then allowed to react with stirring at room temperature for 18 hours, after which 20 mL of saturated aqueous NH 4 Cl was added to quench the reaction. The product was extracted with CH 2 Cl 2 (20 mL × 3), and the organic layer after extraction was dried over anhydrous Na 2 SO 4 to obtain a solution. The solution was concentrated by an evaporator, and the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (CH 2 Cl 2 ) to obtain 5.48 g of a colorless solid substance. As a result of analyzing this colorless solid substance by nuclear magnetic resonance analysis ( 1 H NMR, 13 C NMR) and mass spectrometry, the following formula (5b):
で示される化合物であった。この化合物の収率は97%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 97%.
1H NMR (270 MHz, CDCl3) δ1.71 (s, 2H), 2.07 (s, 8H), 7.34 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.47 (d, J = 9 Hz, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ33.0 (CH2), 56.2 (CH3), 77.9 (4°), 92.3 (CH2), 121.8 (4°), 128.7 (CH), 131.6 (CH), 141.6 (br, 4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C22H26Br2O4Na [M+Na]+: 535.0096, found 535.0103. mp : 107.1-108.9℃. 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ1.71 (s, 2H), 2.07 (s, 8H), 7.34 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.47 (d, J = 9 Hz, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ33.0 (CH 2 ), 56.2 (CH 3 ), 77.9 (4 °), 92.3 (CH 2 ), 121.8 (4 °), 128.7 (CH), 131.6 (CH) , 141.6 (br, 4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 22 H 26 Br 2 O 4 Na [M + Na] + : 535.0096, found 535.0103.mp: 107.1-108.9 ° C.
合成例3:化合物(6a)(1,4-Benzenediboronic acid neopentyl glycol ester)の製造
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコにp-フェニレンビスボロン酸(1,4-Benzenediylbisboranic acid)125 mg(0.75 mmol、1当量)、ネオペンチルグルコール250 mg(2.4 mmol、3当量)、p-トルエンスルホン酸50 mg及び乾燥ベンゼン(benzene)10 mLを収容した。その後、その混合物を、70℃で、12時間還流し反応させた。フラスコ内の混合物(反応物)を室温まで冷却した後に、目的の生成物をCH2Cl2で抽出した。抽出後の有機層を飽和NaHCO3水溶液で洗浄した後に、溶媒を減圧留去し、生成物226.9 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この生成物を解析した結果、下記式(6a): Synthesis Example 3: Production of Compound (6a) (1,4-Benzenediboronic acid neopentyl glycol ester) In a 50 mL round bottom flask containing a stirrer, p-phenylenebisboronic acid (125 mg, 0.75) was added. mmol, 1 equivalent), neopentyl glycol 250 mg (2.4 mmol, 3 equivalents), p-toluenesulfonic acid 50 mg and dry benzene (benzene) 10 mL. Thereafter, the mixture was reacted by refluxing at 70 ° C. for 12 hours. After cooling the mixture (reactant) in the flask to room temperature, the desired product was extracted with CH 2 Cl 2 . The organic layer after extraction was washed with a saturated aqueous NaHCO 3 solution, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 226.9 mg of the product. And as a result of analyzing this product by nuclear magnetic resonance analysis ( 1 H NMR) and mass spectrometry, the following formula (6a):
に示される化合物であった。この化合物の収率は99%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 99%.
1H NMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.02 (s, 12H), 3.77 (s, 8H), 7.78 (s, 4H); LRMS (EI) m/z calcd for C16H24Br2O4[M]+: 302.1861, found 302. 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.02 (s, 12H), 3.77 (s, 8H), 7.78 (s, 4H); LRMS (EI) m / z calcd for C 16 H 24 Br 2 O 4 [ M] + : 302.1861, found 302.
合成例4:化合物(6b)(4,4'-Biphenyldiboronic acid neopentyl glycol ester)の製造
適当な原料化合物を用いて合成例3と同様にして化合物(6b): Synthesis Example 4: Production of Compound (6b) (4,4'-Biphenyldiboronic acid neopentyl glycol ester) Compound (6b):
を得た。この化合物は市販されている。 Got. This compound is commercially available.
合成例5:ボロン酸又はそのエステル基を有する化合物(6c)の製造
攪拌子を入れた20 mL丸底フラスコに、2,6-ジブロモナフタレン115.4 mg(0.40 mmol)、ビス(ネオペンチルグリコール)ジボロン273.3 mg(1.2 mmol)、(1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム(II)10.3 mg(13μmol)、及び酢酸カリウム(KOAc)244.8 mg(2.5 mmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥ジメチルスルホキシド2 mLを導入し、混合物とした後に、混合物を撹拌しながら、80℃で21時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応物)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液からエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をヘキサンで再結晶し、白色固体物質47.8mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(6c): Synthesis Example 5: Production of compound (6c) having boronic acid or its ester group Into a 20 mL round bottom flask containing a stirring bar, 115.4 mg (0.40 mmol) of 2,6-dibromonaphthalene, bis (neopentylglycol) diboron Add 273.3 mg (1.2 mmol), (1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene) dichloropalladium (II) 10.3 mg (13 μmol), and potassium acetate (KOAc) 244.8 mg (2.5 mmol). Filled into flask. Thereto, 2 mL of dry dimethyl sulfoxide was introduced to form a mixture, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 21 hours while stirring. Subsequently, the mixture (reaction product) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel. After the solvent was distilled off under reduced pressure from the obtained filtrate with an evaporator, the residue (concentrate) was recrystallized with hexane to obtain 47.8 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following equation (6c):
で示される化合物であった。この化合物の収率は31%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 31%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.06 (s, 12H), 3.83 (s, 8H), 7.83 (s, 4H), 8.33 (s, 2H). LRMS (EI) m/z calcd for C20H26B2O4[M]+: 352, found 352. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.06 (s, 12H), 3.83 (s, 8H), 7.83 (s, 4H), 8.33 (s, 2H). LRMS (EI) m / z calcd for C 20 H 26 B 2 O 4 [M] + : 352, found 352.
合成例6:化合物(7a−1)の製造(その1)
攪拌子を入れた200 mL丸底フラスコに、フッ化セシウム(Cesium fluoride)400 mg(2.6 mmol)、合成例2で得られた化合物(5b)2.07 g(4 mmol)、合成例3で得られた化合物(6a)151.2 mg(0.5 mmol)、及び[Pd(PPh3)4]30.1 mg(0.026 mmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥THF60 mLを導入し、混合物とした後に、この混合物を撹拌しながら、65℃で26時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、その混合物(反応液)をセライトでろ過した。得られたろ液からエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(hexane/EtOAc)で精製し、白色固体物質319.9 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(7a−1): Synthesis Example 6 Production of Compound (7a-1) (Part 1)
In a 200 mL round bottom flask containing a stir bar, 400 mg (2.6 mmol) of cesium fluoride, 2.07 g (4 mmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, and obtained in Synthesis Example 3 The compound (6a) 151.2 mg (0.5 mmol) and [Pd (PPh 3 ) 4 ] 30.1 mg (0.026 mmol) were added, and argon gas was charged into the flask. Thereto, 60 mL of dry THF was introduced to form a mixture, and this mixture was reacted at 65 ° C. for 26 hours while stirring. Next, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through celite. After the solvent was distilled off from the obtained filtrate under reduced pressure with an evaporator, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 319.9 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formulas (7a-1):
で示される化合物であった。この化合物の収率は68%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 68%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.11 (brs, 8H), 2.30−2.40 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 33.0 (CH2), 56.0 (CH3), 77.9 (4o), 78.1 (4o), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 121.7 (4o), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4o), 131.5 (CH), 139.5 (4o), 139.8 (4o); HRMS (FAB) m/z calcd for C50H56Br2O8Na [M+Na]+: 965.2240, found 965.2195; mp : 184.7-186.4℃. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.11 (brs, 8H), 2.30-2.40 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 ( s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 33.0 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 77.9 (4 o ), 78.1 (4 o ), 92.2 (CH 2 ) , 92.3 (CH 2 ), 121.7 (4 o ), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4 o ), 131.5 (CH), 139.5 (4 o ), 139.8 (4 o ); HRMS (FAB) m / z calcd for C 50 H 56 Br 2 O 8 Na [M + Na] + : 965.2240, found 965.2195; mp: 184.7-186.4 ° C.
合成例7:化合物(7a−2)の製造
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコにフッ化セシウム(Cesium fluoride)165 mg(1.1 mmol)、合成例2で得られた化合物(5b)521.3 mg(1 mmol)、上記の化合物(6b)75.5 mg(0.2 mmol)、及び[Pd(PPh3)4]6.8 mg(6μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥THF60 mLを導入し、混合物とした後に、この混合物を撹拌しながら、65℃で26時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をセライトでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(hexane/EtOAc)で精製し、白色固体物質126.5 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(7a−2): Synthesis Example 7: Production of Compound (7a-2) In a 50 mL round bottom flask containing a stirring bar, 165 mg (1.1 mmol) of cesium fluoride and 521.3 mg of Compound (5b) obtained in Synthesis Example 2 (1 mmol), the above compound (6b) 75.5 mg (0.2 mmol), and [Pd (PPh 3 ) 4 ] 6.8 mg (6 μmol) were added, and argon gas was charged into the flask. Thereto, 60 mL of dry THF was introduced to form a mixture, and this mixture was reacted at 65 ° C. for 26 hours while stirring. Subsequently, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through celite. After the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 126.5 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formulas (7a-2):
で示される化合物であった。この化合物の収率は62%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 62%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.11 (brs, 8H), 2.34−2.37 (brm, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 33.0 (CH2), 56.0 (CH3), 77.2 (4°), 77.9 (4°), 78.1 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 121.7 (4o), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4°), 131.5 (CH), 139.5 (4°), 139.8 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C56H60Br2O8Na [M+Na]+: 1041.2553, found 1041.2532. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.11 (brs, 8H), 2.34−2.37 (brm, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 ( s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 33.0 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 77.2 (4 °), 77.9 (4 °), 78.1 (4 °) , 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 121.7 (4 o ), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4 °), 131.5 (CH), 139.5 (4 °), 139.8 (4 ° ); HRMS (FAB) m / z calcd for C 56 H 60 Br 2 O 8 Na [M + Na] + : 1041.2553, found 1041.2532.
合成例8:化合物(7a−3)の製造(その1)
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコにフッ化セシウム80.2 mg(0.53 mmol)、合成例2で得られた化合物(5b)349.7 mg(0.68 mmol)、合成例5で得られた化合物(6c)32.0 mg(84μmol)、及び[Pd(PPh3)4]4.7 mg(4μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥THF60 mLを導入し、混合物とした後に、この混合物を撹拌しながら、60℃で24時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をセライトでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(hexane/EtOAc)で精製し、白色固体物質66.1 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(7a−3): Synthesis Example 8 Production of Compound (7a-3) (Part 1)
In a 50 mL round bottom flask containing a stir bar, cesium fluoride 80.2 mg (0.53 mmol), compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, 349.7 mg (0.68 mmol), compound obtained in Synthesis Example 5 (6c) 32.0 mg (84 μmol) and [Pd (PPh 3 ) 4 ] 4.7 mg (4 μmol) were added, and argon gas was charged into the flask. Thereto, 60 mL of dry THF was introduced to form a mixture, and this mixture was reacted at 60 ° C. for 24 hours while stirring. Subsequently, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through celite. After the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 66.1 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formulas (7a-3):
で示される化合物であった。この化合物の収率は79%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 79%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.13 (brs, 8H), 2.36 (brs, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 7.33 (d, J = 8.3 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8.3 Hz, 4H) 7.71 (d, J = 8.3 Hz, 4H), 7.74 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 7.94 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 8.03 (s, 2H). LRMS (FAB) m/z calcd for C54H58Br2O8 [M]+: 994.2478, found 994. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.13 (brs, 8H), 2.36 (brs, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 7.33 (d, J = 8.3 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8.3 Hz, 4H) 7.71 (d, J = 8.3 Hz, 4H), 7.74 (d, J = 8.6 Hz, 4H), 7.94 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 8.03 (s, 2H) .LRMS (FAB) m / z calcd for C 54 H 58 Br 2 O 8 [M ] + : 994.2478, found 994.
合成例9:化合物(8a)(ボリル化反応物)の製造
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコに、合成例6、又は後述の合成例26で得られた化合物(7a−1)285.4 mg(0.30 mmol)、[Pd2(dba)3]6.0 mg(6.6μmol)、2-(ジシクロヘキシルホスフィノ-2',4',6'-トリ-イソプロピル-1,1'-ビフェニル(以下、「X−Phos」ともいう)13.3 mg(28μmol)、ビスピナコレートジボロン227.5 mg(0.9 mmol)、及び酢酸カリウム(KOAc)180.1 mg(1.8 mmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥ジオキサン(1,4-dioxane)15 mLを導入し、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、90℃で5時間反応させた。フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をゲル浸透クロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、白色固体物質271.7 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(8a): Synthesis Example 9: Production of Compound (8a) (Borylation Reaction Product) In a 50 mL round bottom flask containing a stirrer, 285.4 mg of Compound (7a-1) obtained in Synthesis Example 6 or Synthesis Example 26 described below was added. (0.30 mmol), [Pd 2 (dba) 3 ] 6.0 mg (6.6 μmol), 2- (dicyclohexylphosphino-2 ′, 4 ′, 6′-tri-isopropyl-1,1′-biphenyl (hereinafter “ 13.3 mg (also referred to as “X-Phos”) (28 μmol), bispinacolate diboron 227.5 mg (0.9 mmol), and potassium acetate (KOAc) 180.1 mg (1.8 mmol) were charged, and argon gas was charged into the flask. To the mixture, 15 mL of dry dioxane (1,4-dioxane) was introduced to form a mixture, which was allowed to react for 5 hours at 90 ° C. with stirring, and the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature. The mixture (reaction solution) was filtered through silica gel, and the resulting filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator. , The residue (concentrate) was purified by gel permeation chromatography (chloroform) to give a white solid material 271.7 mg. The nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and by mass spectrometry, the white solid As a result of analyzing the substance, the following formula (8a):
で示される化合物であった。この化合物の収率は87%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 87%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.32 (s, 24H) 2.14 (brs, 8H), 2.36 (brs, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.46 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.49 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.45 (δ, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 24.9 (CH3), 33.0 (CH2), 56.0 (CH3), 78.2 (4o), 78.3 (4o), 83.8 (4o), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 126.2 (4o), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 134.8 (4o), 134.9 (CH), 139.5 (4o), 139.7 (4o); HRMS (FAB) m/z calcd for C62H80B2O12Na [M+Na]+: 1061.5753, found 1061.5719; mp : 225.1-226.6 ℃. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.32 (s, 24H) 2.14 (brs, 8H), 2.36 (brs, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.43 (s, 4H ), 4.48 (s, 4H), 7.46 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.49 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.45 (δ, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 24.9 (CH 3 ), 33.0 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 78.2 (4 o ), 78.3 (4 o ), 83.8 (4 o ), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 126.2 (4 o ), 126.9 (CH), 127.4 (CH) , 134.8 (4 o ), 134.9 (CH), 139.5 (4 o ), 139.7 (4 o ); HRMS (FAB) m / z calcd for C 62 H 80 B 2 O 12 Na [M + Na] + : 1061.5753 , found 1061.5719; mp: 225.1-226.6 ° C.
合成例10:化合物(8b)(ボリル化反応物)の製造
撹拌子を入れた50 mL丸型フラスコに、合成例7で得られた化合物(7a−2)137 mg(134μmol)、[Pd2(dba)3]2.8 mg(3.1μmol)、ビスピナコレートジボロン106 mg(419μmol)、及び酢酸カリウム(KOAc)75.7 mg(771μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥ジオキサン(1,4-dioxane)5 mLを導入し、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、90℃で5時間反応させた。フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した(EtOAc)。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をゲル浸透クロマトグラフィーで精製し、白色固体物質119 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(8b): Synthesis Example 10 Production of Compound (8b) (Borylation Reaction Product) In a 50 mL round flask containing a stirring bar, 137 mg (134 μmol) of the compound (7a-2) obtained in Synthesis Example 7 [Pd 2 (dba) 3 ] 2.8 mg (3.1 μmol), bispinacolate diboron 106 mg (419 μmol), and potassium acetate (KOAc) 75.7 mg (771 μmol) were added, and argon gas was charged into the flask. Thereto, 5 mL of dry dioxane (1,4-dioxane) was introduced to prepare a mixture. The mixture was reacted at 90 ° C. for 5 hours with stirring. The mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel (EtOAc). After the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator, the residue (concentrate) was purified by gel permeation chromatography to obtain 119 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (8b):
で示される化合物であった。この化合物の収率は87%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 87%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.32 (s, 24H) 2.15 (brs, 8H), 2.37 (brs, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.49 (s, 4H), 7.47 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.50 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.60 (δ, J = 9 Hz, 4H), 7.70 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.78 (d, J = 8 Hz, 2H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ24.9 (CH3), 33.0 (CH2), 33.1 (CH2) 56.1 (CH3), 77.1 (4o), 78.3 (4o), 78.4 (4o), 83.9 (4o), 92.3 (CH2), 126.3 (CH), 127.0 (CH), 127.4 (CH), 127.5 (CH), 134.9 (CH), 139.6 (4o), 139.7 (4o), 139.8 (4o); HRMS (FAB) m/z calcd for C56H60Br2O8Na [M+Na]+: 1041.2553, found 1041.2532. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.32 (s, 24H) 2.15 (brs, 8H), 2.37 (brs, 8H), 3.41 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.43 (s, 4H ), 4.49 (s, 4H), 7.47 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.50 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.60 (δ, J = 9 Hz, 4H), 7.70 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8.5 Hz, 4H), 7.78 (d, J = 8 Hz, 2H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ24.9 (CH 3 ), 33.0 (CH 2 ), 33.1 (CH 2 ) 56.1 (CH 3 ), 77.1 (4 o ), 78.3 (4 o ), 78.4 (4 o ), 83.9 (4 o ), 92.3 (CH 2 ), 126.3 (CH) , 127.0 (CH), 127.4 (CH), 127.5 (CH), 134.9 (CH), 139.6 (4 o ), 139.7 (4 o ), 139.8 (4 o ); HRMS (FAB) m / z calcd for C 56 H 60 Br 2 O 8 Na [M + Na] + : 1041.2553, found 1041.2532.
合成例11:有機環14個の輪状の化合物(11a)の製造
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコに、合成例6で得られた化合物(7a−1)19.7 mg(21μmol)、合成例9で得られた化合物(8a)29.1 mg(28μmol)、[Pd(OAc)2]0.9 mg(4.0μmol)、及びX−Phos2.0 mg(4.2μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。乾燥させた1,4-ジオキサン10 mLと、10 Mの水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液18 mL(0.18 mmol)を導入し、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。その後、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc=1/1)で精製し、白色固体物質を得た(14.6 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(11a): Synthesis Example 11: Production of 14-ring organic compound (11a) In a 50 mL round bottom flask containing a stirrer, 19.7 mg (21 μmol) of compound (7a-1) obtained in Synthesis Example 6 was synthesized. Compound (8a) 29.1 mg (28 μmol), [Pd (OAc) 2 ] 0.9 mg (4.0 μmol), and X-Phos 2.0 mg (4.2 μmol) obtained in 9 were placed, and argon gas was charged into the flask. did. 10 mL of dried 1,4-dioxane and 18 mL (0.18 mmol) of 10 M aqueous sodium hydroxide (NaOH) were introduced to form a mixture. The mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours with stirring. Thereafter, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel. After evaporating the solvent of the obtained filtrate with an evaporator under reduced pressure, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (CHCl 3 / EtOAc = 1/1) to obtain a white solid substance (14.6 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (11a):
で示される、フェニレン基及びシクロヘキシレン誘導体基が14個連続的に結合してなる輪状の化合物であった。この輪状の化合物の収率は45%であった。 It was a ring-shaped compound formed by continuously bonding 14 phenylene groups and 14 cyclohexylene derivative groups. The yield of this ring-shaped compound was 45%.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.18 (brs, 16H), 2.39 (brs, 16H), 3.42 (s, 12H), 3.43 (s, 12H), 4.46 (s, 8H), 4.48 (s, 8H), 7.57 (m, 40H). LRMS (FAB) m/z calcd for C100H112O16 [M]+: 1569.7984, found 1570. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 2.18 (brs, 16H), 2.39 (brs, 16H), 3.42 (s, 12H), 3.43 (s, 12H), 4.46 (s, 8H), 4.48 (s, 8H), 7.57 (m, 40H). LRMS (FAB) m / z calcd for C 100 H 112 O 16 [M] + : 1569.7984, found 1570.
合成例12:ベンゼン環14個を含むシクロパラフェニレンからなるカーボンナノリング(3a)の製造(その1)
攪拌子を入れた2 mLガラスバイアルに、合成例11により得られた輪状の化合物(11a)9.1 mg(5.0μmol)、0.1 Mのp-トルエンスルホン酸水溶液50μL(5.0μmol)、及び、乾燥m-キシレン1 mLを入れ、混合物とした。このバイアルをマイクロ波反応装置(Initiator Synthesis System, Biotage社製)に入れ、撹拌しながら、150℃で30分間反応させた。次いで、バイアル内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、白色固体物質を得た(1.1 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(3a): Synthesis Example 12: Production of carbon nanoring (3a) composed of cycloparaphenylene containing 14 benzene rings (part 1)
In a 2 mL glass vial containing a stir bar, 9.1 mg (5.0 μmol) of the ring-shaped compound (11a) obtained in Synthesis Example 11, 50 μL (5.0 μmol) of 0.1 M p-toluenesulfonic acid aqueous solution, and dry m -1 mL of xylene was added to make a mixture. This vial was placed in a microwave reactor (Initiator Synthesis System, manufactured by Biotage), and reacted at 150 ° C. for 30 minutes while stirring. Next, the mixture (reaction solution) in the vial was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel. The obtained filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator, and the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (CH 2 Cl 2 / hexane) to obtain a white solid substance (1.1 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (3a):
で示される、ベンゼン環14個からなる[14]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。そして、[14]シクロパラフェニレンの収率は20%であった。 It was [14] cycloparaphenylene (amorphous) which consists of 14 benzene rings shown by these. The yield of [14] cycloparaphenylene was 20%.
1H NMR (600 MHz CDCl3) δ7.65 (s, 56H). MS (MALDI-TOF) m/z calcd for C84H56 [M]+: 1064.4382, found 1064.424. 1 H NMR (600 MHz CDCl 3 ) δ7.65 (s, 56H). MS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 84 H 56 [M] + : 1064.4382, found 1064.424.
合成例13:ベンゼン環14個を含むシクロパラフェニレンからなるカーボンナノリング(3a)の製造(その2)
撹拌子を入れた20 mLシュレンク管に、合成例11で得られた輪状の化合物(11a)7.9 mg(5.0μmol)、硫酸水素ナトリウム一水和物15.4 mg(11.3μmol)、乾燥m-キシレン1 mL、及び、乾燥させたジメチルスルホキシド(DMSO)1 mLを入れ、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、150℃で48時間反応させた。次いで、シュレンク管内の混合物(反応液)を室温まで冷却し、混合物(反応液)をCHCl3で抽出した。抽出後の有機層をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下、溶媒留去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、白色固体物質を得た(2.0 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析)によって、この白色固体物質を解析した結果、上記式(3a)で示される、ベンゼン環14個からなる[14]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。この[14]シクロパラフェニレンの収率は37%であった。 Synthesis Example 13: Production of carbon nanoring (3a) composed of cycloparaphenylene containing 14 benzene rings (part 2)
In a 20 mL Schlenk tube containing a stir bar, 7.9 mg (5.0 μmol) of the annular compound (11a) obtained in Synthesis Example 11, 15.4 mg (11.3 μmol) of sodium hydrogensulfate monohydrate, dry m-
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.65 (s, 56H); 13C NMR (98.5 MHz, CDCl3) δ 127.4 (CH), 138.8 (4o); HRMS (MALDI-TOF) m/z calcd for C84H56 [M]+: 1064.4382, found 1064.438. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.65 (s, 56H); 13 C NMR (98.5 MHz, CDCl 3 ) δ 127.4 (CH), 138.8 (4 o ); HRMS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 84 H 56 [M] + : 1064.4382, found 1064.438.
合成例14:有機環15個の輪状化合物(11b)の製造
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコに、合成例7で得られた化合物(7a−2)20.0 mg(20μmol)、合成例9で得られた化合物(8a)285.4 mg(29μmol)、[Pd(OAc)2]1.0 mg(4.4μmol)、及びX−Phos2.2 mg(4.6μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。乾燥1,4-ジオキサン20 mLと、10 MのNaOH水溶液19 mL(0.19 mmol)を導入し、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。その後、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc=1/1)で精製し、白色固体物質を得た(10.4 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(11b): Synthesis Example 14: Production of 15 organic ring-shaped compound (11b) In a 50 mL round bottom flask containing a stirring bar, 20.0 mg (20 μmol) of the compound (7a-2) obtained in Synthesis Example 7 was synthesized. Compound (8a) 285.4 mg (29 μmol), [Pd (OAc) 2 ] 1.0 mg (4.4 μmol), and X-Phos 2.2 mg (4.6 μmol) were added, and argon gas was charged into the flask. . 20 mL of dry 1,4-dioxane and 19 mL (0.19 mmol) of 10 M NaOH aqueous solution were introduced to form a mixture. The mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours with stirring. Thereafter, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel. After the solvent was distilled off under reduced pressure with the evaporator of the obtained filtrate, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (CHCl 3 / EtOAc = 1/1) to obtain a white solid substance (10.4 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (11b):
に示される、フェニレン基及びシクロヘキシレン誘導体基が15個連続的に結合してなる輪状の化合物であった。この輪状化合物の収率は32%であった。 It was a ring-shaped compound formed by continuously bonding 15 phenylene groups and cyclohexylene derivative groups. The yield of this cyclic compound was 32%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.18 (brs, 16H), 2.39 (brs, 16H), 3.44 (m, 24H), 4.48 (m, 16H), 7.57 (m, 44H). HRMS (FAB) m/z calcd for C106H116O16[M]+: 1645.8297, found 1646. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.18 (brs, 16H), 2.39 (brs, 16H), 3.44 (m, 24H), 4.48 (m, 16H), 7.57 (m, 44H). HRMS (FAB) m / z calcd for C 106 H 116 O 16 [M] + : 1645.8297, found 1646.
合成例15:ベンゼン環15個を含むシクロパラフェニレンからなるカーボンナノリング(3b)の製造(その1)
攪拌子を入れた2 mLガラスバイアルに、合成例14で得られた輪状の化合物(11b)9.8 mg(6.0μmol)、0.1 Mのp-トルエンスルホン酸水溶液120μL(12μmol)、及び乾燥m-キシレン1 mLを入れ、混合物とした。この混合物を入れたバイアルを、上記合成例12と同様にマイクロ波反応装置に入れ、撹拌しながら、150℃で30分間反応させた。次いで、バイアル内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、白色固体物質を得た(0.5 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(3b): Synthesis Example 15: Production of carbon nanoring (3b) composed of cycloparaphenylene containing 15 benzene rings (part 1)
In a 2 mL glass vial containing a stir bar, 9.8 mg (6.0 μmol) of the ring-shaped compound (11b) obtained in Synthesis Example 14, 120 μL (12 μmol) of 0.1 M p-toluenesulfonic acid aqueous solution, and dry m-
で示される、ベンゼン環15個からなる[15]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。この[15]シクロパラフェニレンの収率は7%であった。 [15] cycloparaphenylene (amorphous) consisting of 15 benzene rings. The yield of [15] cycloparaphenylene was 7%.
1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 7.67 (s, 60H). MS (MALDI-TOF) m/z calcd for C90H60 [M]+: 1140.4695, found 1140.513. 1 H NMR (400 MHz CDCl 3 ) δ 7.67 (s, 60H). MS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 90 H 60 [M] + : 1140.4695, found 1140.513.
合成例16:ベンゼン環15個を含むシクロパラフェニレンからなるカーボンナノリング(3b)の製造(その2)
撹拌子を入れた20 mLシュレンク管に、合成例14で得られた輪状の化合物(11b)7.4 mg(4.5μmol)、硫酸水素ナトリウム一水和物14.7 mg(10.6μmol)、乾燥m-キシレン1 mL、及び、乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)1 mLを入れ、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、150℃で48時間反応させた。次いで、シュレンク管内の混合物(反応液)を室温まで冷却し、混合物(反応液)をCHCl3で抽出した。抽出後の有機層をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下、溶媒留去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、白色固体物質を得た(2.2 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、上記式(3b)で示される、ベンゼン環15個からなる[15]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。この[15]シクロパラフェニレンの収率は43%であった。 Synthesis Example 16: Production of carbon nanoring (3b) composed of cycloparaphenylene containing 15 benzene rings (part 2)
In a 20 mL Schlenk tube containing a stir bar, 7.4 mg (4.5 μmol) of the ring-shaped compound (11b) obtained in Synthesis Example 14, 14.7 mg (10.6 μmol) of sodium hydrogen sulfate monohydrate, dry m-
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.67 (s, 60H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 127.3 (CH), 138.8 (4o); HRMS (MALDI-TOF) m/z calcd for C90H60 [M]+: 1140.4695, found 1140.469. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.67 (s, 60H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 127.3 (CH), 138.8 (4 o ); HRMS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 90 H 60 [M] + : 1140.4695, found 1140.469.
合成例17:有機環16個の輪状化合物(11c)の製造
撹拌子を入れた50 mL丸型フラスコに、合成例7で得られた化合物(7a−2)42.8 mg(38.0μmol)、合成例10で得られた化合物(8b)26.7 mg(26.2μmol)[Pd(OAc)2]1.3 mg(5.7μmol)、及びX−Phos6.9 mg(14.4μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。乾燥1,4-ジオキサン13.5 mLと、10 MのNaOH水溶液27.0μL(270μmol)を導入し、混合物とした後に、混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。その後、フラスコ内の混合物(反応液)を室温まで冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した(EtOAc)。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(CHCl3:EtOAc=1:1)で精製し、白色固体物質を得た(15.5 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(11c): Synthesis Example 17: Production of Ring Compound (11c) with 16 Organic Rings In a 50 mL round flask containing a stir bar, 42.8 mg (38.0 μmol) of Compound (7a-2) obtained in Synthesis Example 7 was synthesized. Compound (8b) 26.7 mg (26.2 μmol) [Pd (OAc) 2 ] 1.3 mg (5.7 μmol) obtained in 10 and X-Phos 6.9 mg (14.4 μmol) were charged, and argon gas was charged into the flask. did. After introducing 13.5 mL of dry 1,4-dioxane and 27.0 μL (270 μmol) of 10 M NaOH aqueous solution to make a mixture, the mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours while stirring. Thereafter, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel (EtOAc). After the obtained filtrate was evaporated under reduced pressure using an evaporator, the residue (concentrate) was purified by silica gel preparative thin layer chromatography (CHCl 3 : EtOAc = 1: 1) to obtain a white solid substance (15.5 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (11c):
で示される、フェニレン基及びシクロヘキシレン誘導体基が16個連続的に結合してなる輪状の化合物であった。この輪状化合物の収率は32%であった。 It was a ring-shaped compound formed by continuously bonding 16 phenylene groups and 16 cyclohexylene derivative groups. The yield of this cyclic compound was 32%.
1H NMR (270 MHz, CDCl3) δ 2.19 (brs, 16H), 2.40 (brs, 16H), 3.43 (s, 12H), 3.45 (s, 12H), 4.48 (s, 8H), 4.50 (s, 8H), 7.50−7.70 (m, 48H); 13C NMR (98.5 MHz, CDCl3) δ 33.1 (CH2), 56.1 (CH3), 78.2 (4o), 92.3 (CH2), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 127.5 (CH), 139.6 (CH), 139.8 (4o); HRMS (FAB) m/z calcd for C112H120O16Na [M+Na]+: 1743.8474, found 1743.8496. 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 2.19 (brs, 16H), 2.40 (brs, 16H), 3.43 (s, 12H), 3.45 (s, 12H), 4.48 (s, 8H), 4.50 (s, 8H), 7.50-7.70 (m, 48H); 13 C NMR (98.5 MHz, CDCl 3 ) δ 33.1 (CH 2 ), 56.1 (CH 3 ), 78.2 (4 o ), 92.3 (CH 2 ), 126.9 (CH ), 127.4 (CH), 127.5 (CH), 139.6 (CH), 139.8 (4 o ); HRMS (FAB) m / z calcd for C 112 H 120 O 16 Na [M + Na] + : 1743.8474, found 1743.8496 .
合成例18:ベンゼン環16個を含むシクロパラフェニレンからなるカーボンナノリング(3c)の製造
撹拌子を入れた20 mLシュレンク管に、合成例17で得られた輪状化合物(11c)12.5 mg(7.26μmol)、硫酸水素ナトリウム一水和物20.0 mg(145μmol)、乾燥m-キシレン1.2 mL、及び、乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)1.2 mLを入れ、混合物とした。この混合物を撹拌しながら、160℃で48時間反応させた。次いで、シュレンク管内の混合物(反応液)を室温まで冷却し、混合物(反応液)をCHCl3で抽出した。抽出後の有機層をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下、溶媒留去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、白色固体物質を得た(2.5 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR、13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(3c): Synthesis Example 18: Production of carbon nanoring (3c) composed of cycloparaphenylene containing 16 benzene rings A 20 mL Schlenk tube containing a stirrer was charged with 12.5 mg (7.26) of the cyclic compound (11c) obtained in Synthesis Example 17. μmol), 20.0 mg (145 μmol) of sodium hydrogensulfate monohydrate, 1.2 mL of dry m-xylene, and 1.2 mL of dry dimethyl sulfoxide (DMSO) were added to form a mixture. The mixture was reacted at 160 ° C. for 48 hours with stirring. Next, the mixture (reaction solution) in the Schlenk tube was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was extracted with CHCl 3 . The organic layer after extraction was dried over Na 2 SO 4 and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product was purified by silica gel preparative thin layer chromatography (CH 2 Cl 2 / hexane) to give a white solid material (2.5 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR, 13 C NMR ) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (3c):
で示される、ベンゼン環16個からなる[16]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。この[16]シクロパラフェニレンの収率は28%であった。 It was [16] cycloparaphenylene (amorphous) consisting of 16 benzene rings. The yield of [16] cycloparaphenylene was 28%.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.68 (s, 64H); 13C NMR (98.5 MHz, CDCl3) δ 127.3 (CH), 138.9 (4o); HRMS (MALDI-TOF) m/z calcd for C96H64 [M]+: 1216.5008, found 121. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.68 (s, 64H); 13 C NMR (98.5 MHz, CDCl 3 ) δ 127.3 (CH), 138.9 (4 o ); HRMS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 96 H 64 [M] + : 1216.5008, found 121.
合成例19:ナフチレン環を含む有機環14個の輪状化合物(11d)の製造(その1)
攪拌子を入れた50 mL丸底フラスコに、合成例8で得られた化合物(7a−3)20.0 mg(20μmol)、合成例9で得られた化合物(8a)29.4 mg(28μmol)、[Pd(OAc)2]0.9 mg(4.0μmol)、及びX−Phos2.0 mg(4.2μmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。乾燥1,4-ジオキサン10 mLと、10 Mの水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液10μL(0.10 mmol)を導入し、混合物とした後に、混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。その後、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)をシリカゲルでろ過した。得られたろ液をエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc=1/1)で精製し、白色固体物質を得た(4.0 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(11d): Synthesis Example 19 Production of Ring Compound (11d) with 14 Organic Rings Containing Naphthylene Ring (Part 1)
In a 50 mL round bottom flask containing a stir bar, 20.0 mg (20 μmol) of the compound (7a-3) obtained in Synthesis Example 8, 29.4 mg (28 μmol) of the compound (8a) obtained in Synthesis Example 9, [Pd (OAc) 2 ] 0.9 mg (4.0 μmol) and X-Phos 2.0 mg (4.2 μmol) were added, and argon gas was charged into the flask. After introducing 10 mL of dry 1,4-dioxane and 10 μL (0.10 mmol) of 10 M sodium hydroxide (NaOH) aqueous solution to make a mixture, the mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours while stirring. Thereafter, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through silica gel. After the solvent was distilled off under reduced pressure with the evaporator of the obtained filtrate, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (CHCl 3 / EtOAc = 1/1) to obtain a white solid substance (4.0 mg). Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (11d):
で示される、フェニレン基、ナフチレン基及びシクロヘキシレン基誘導体を含む有機環が14個連続的に結合してなる輪状化合物であった。この輪状化合物の収率は12%であった。 It was a cyclic compound in which 14 organic rings containing a phenylene group, a naphthylene group, and a cyclohexylene group derivative were continuously bonded. The yield of this cyclic compound was 12%.
1H NMR (270 MHz, CDCl3) δ 2.14 (brs, 16H), 2.38 (brs, 16H), 3.43 (m, 24H), 4.48 (m, 16H), 7.60 (m, 38H), 7.91 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 8.01 (s, 2H). LRMS (FAB) m/z calcd for C104H114O16[M]+: 1619.8140, found 1620. 1 H NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 2.14 (brs, 16H), 2.38 (brs, 16H), 3.43 (m, 24H), 4.48 (m, 16H), 7.60 (m, 38H), 7.91 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 8.01 (s, 2H). LRMS (FAB) m / z calcd for C 104 H 114 O 16 [M] + : 1619.8140, found 1620.
合成例20:化合物(7a−3)の製造(その2)
攪拌子を入れた100 mL丸底フラスコに合成例2で得られた化合物(5b)を2.49 g(4.84 mmol)、合成例5で得られた化合物(6c)を190 mg(500μmol)、Pd(PPh3)4を15.0 mg(13.0μmol)、炭酸ナトリウム(Na2CO3)を268 mg(2.53 mmol)、臭化テトラn-ブチルアンモニウム(n-Bu4NBr)を555 mg(499μmol)、乾燥THFを20 mL、アルゴンガスをバブリングした水を5 mL入れた。混合物を撹拌しながら、60℃で24時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、混合物(反応液)を減圧下でろ過した。残渣(濃縮物)をEtOAcで抽出し、Na2SO4で乾燥し、減圧下でろ過した。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(hexane/EtOAc=8:1〜2:1)で精製し、白色固体物質359 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR及び13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(7a−3): Synthesis Example 20 Production of Compound (7a-3) (Part 2)
In a 100 mL round bottom flask containing a stirrer, 2.49 g (4.84 mmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, 190 mg (500 μmol) of the compound (6c) obtained in Synthesis Example 5 and Pd ( PPh 3 ) 4 15.0 mg (13.0 μmol), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) 268 mg (2.53 mmol), tetra n-butylammonium bromide (n-Bu 4 NBr) 555 mg (499 μmol), dried 20 mL of THF and 5 mL of water bubbled with argon gas were added. The mixture was reacted at 60 ° C. for 24 hours with stirring. Subsequently, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered under reduced pressure. The residue (concentrate) was extracted with EtOAc, dried over Na 2 SO 4 and filtered under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel chromatography (hexane / EtOAc = 8: 1 to 2: 1) to obtain 359 mg of a white solid substance. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR and 13 C NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formulas (7a-3):
で示される化合物であった。この化合物の収率は72%であった。 It was a compound shown by. The yield of this compound was 72%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.12 (brs, 8H), 2.27-2.48 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 7.33 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.55 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.70 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.75 (dd, J = 8 Hz, 1 Hz, 4H), 7.94 (d, J = 8 Hz, 2H), 8.04 (d, J = 1 Hz, 2H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 33.0 (CH2), 56.1 (CH3), 77.2 (4°), 77.9 (4°), 78.1 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 121.7 (4°), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4°), 131.5 (CH), 139.5 (4°), 139.8 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C54H58Br2O8Na [M+Na]+: 1015.2396, found 1015.2394; mp: 193.6-194.4℃. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.12 (brs, 8H), 2.27-2.48 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.50 ( s, 4H), 7.33 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.55 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.70 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.75 (dd, J = 8 Hz, 1 Hz, 4H), 7.94 (d, J = 8 Hz, 2H), 8.04 (d, J = 1 Hz, 2H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 33.0 (CH 2 ), 56.1 (CH 3 ), 77.2 (4 °), 77.9 (4 °), 78.1 (4 °), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 121.7 (4 °) , 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4 °), 131.5 (CH), 139.5 (4 °), 139.8 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 54 H 58 Br 2 O 8 Na [M + Na] + : 1015.2396, found 1015.2394; mp: 193.6-194.4 ℃.
合成例21:ナフチレン環を含む有機環14個の輪状化合物(11d)の製造(その2)
攪拌子を入れた50 mLシュレンク管に、合成例20で得られた化合物(7a−3)を40.1 mg(40.3μmol)、合成例9で得られた化合物(8a)を50.2 mg(48.3μmol)、Pd2(dba)3を3.6 mg(3.9μmol)、X−Phosを3.7 mg(7.8μmol)、K3PO4を85.0 mg(400μmol)入れた。その後、フラスコを脱気し、アルゴンガスで3回充填した。このフラスコにアルゴンガスをバブリングした1,4-ジオキサン20 mL及びアルゴンをバブリングした水80μLをアルゴン気流下で添加した。80℃で24時間攪拌した後、シリカゲル層を通過させて溶媒を除去した(EtOAc)。その後、減圧下に減圧下に溶媒留去して粗生成物を得た。粗生成物をゲル浸透クロマトグラフィー及び分取薄層クロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc=1:1)で精製し、白色固体物質22.6 mgを得た。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR及び13C NMR)及び質量分析によって、この白色固体物質を解析した結果、下記式(11d): Synthesis Example 21 Production of Ring Compound (11d) with 14 Organic Rings Containing Naphthylene Ring (Part 2)
In a 50 mL Schlenk tube containing a stirrer, 40.1 mg (40.3 μmol) of the compound (7a-3) obtained in Synthesis Example 20 and 50.2 mg (48.3 μmol) of the compound (8a) obtained in Synthesis Example 9 were obtained. Then, 3.6 mg (3.9 μmol) of Pd 2 (dba) 3 , 3.7 mg (7.8 μmol) of X-Phos, and 85.0 mg (400 μmol) of K 3 PO 4 were added. The flask was then evacuated and filled with argon gas three times. To this flask, 20 mL of 1,4-dioxane bubbled with argon gas and 80 μL of water bubbled with argon were added under an argon stream. After stirring at 80 ° C. for 24 hours, the solvent was removed by passing through a silica gel layer (EtOAc). Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product was purified by gel permeation chromatography and preparative thin layer chromatography (CHCl 3 / EtOAc = 1: 1) to give 22.6 mg of white solid material. Then, by nuclear magnetic resonance analysis (1 H NMR and 13 C NMR) and mass spectrometry, the results of analysis of this white solid material, the following formula (11d):
で示される輪状化合物であった。この輪状化合物の収率は35%であった。 It was a ring-shaped compound shown by. The yield of this cyclic compound was 35%.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.80-2.66 (brm, 32H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 18H), 4.45 (s, 4H), 4.46 (s, 4H), 4.49 (s, 4H), 4.53 (s, 4H), 7.40-7.66 (m, 32H), 7.69 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.73 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 9 Hz, 2H), 8.02 (s, 2H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 33.0 (CH2), 55.9 (CH3), 56.1(CH3), 77.94 (4°), 78.00 (4°), 78.1 (4°), 78.2 (4°), 92.1 (CH2), 92.2 (CH2), 125.4 (CH), 125.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 128.7 (CH), 137.9 (4°), 139.4 (4°) 139.5 (4°), 139.6 (4°) 139.7 (4°), 140.1 (4°) 141.6 (br, 4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C104H114O16Na [M+Na]+: 1641.8005, found 1641.8009; mp: 235.0-240.0℃(dec.). 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.80-2.66 (brm, 32H), 3.42 (s, 6H), 3.44 (s, 18H), 4.45 (s, 4H), 4.46 (s, 4H), 4.49 ( s, 4H), 4.53 (s, 4H), 7.40-7.66 (m, 32H), 7.69 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.73 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 9 Hz, 2H), 8.02 (s, 2H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 33.0 (CH 2 ), 55.9 (CH 3 ), 56.1 (CH 3 ), 77.94 (4 °), 78.00 (4 °), 78.1 (4 °), 78.2 (4 °), 92.1 (CH 2 ), 92.2 (CH 2 ), 125.4 (CH), 125.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 128.7 (CH), 137.9 (4 °), 139.4 (4 °) 139.5 (4 °), 139.6 (4 °) 139.7 (4 °), 140.1 (4 °) 141.6 (br HRMS (FAB) m / z calcd for C 104 H 114 O 16 Na [M + Na] + : 1641.8005, found 1641.8009; mp: 235.0-240.0 ° C (dec.).
合成例22:ナフチレン環を含む有機環14個からなるカーボンナノリング(3d)の製造
攪拌子及び冷却器を入れた20 mLシュレンク管に、合成例19又は21で得られた輪状化合物(11d)16.2 mg(10.0μmol)、硫酸水素ナトリウム一水和物(NaHSO4・H2O)27.2 mg(197μmol)、乾燥DMSO1 mL及びm-キシレン2.0 mLを入れた。空気雰囲気下で攪拌しながら混合物を150℃で24時間加熱した。混合物を室温まで冷却し、シリカゲル層を通過させて溶媒を除去した(CHCl3)。その後、減圧下に溶媒留去して粗生成物を得た。粗生成物を薄層クロマトグラフィー(CH2Cl2/hexane)で精製し、淡黄色固体物質を得た(2.8 mg)。そして、核磁気共鳴分析(1H NMR及び13C NMR)及び質量分析によって、この淡黄色固体物質を解析した結果、下記式(3d): Synthesis Example 22: Production of carbon nanoring (3d) consisting of 14 organic rings containing a naphthylene ring Into a 20 mL Schlenk tube containing a stirrer and a condenser, a ring compound (11d) obtained in Synthesis Example 19 or 21 16.2 mg (10.0 μmol), sodium hydrogen sulfate monohydrate (NaHSO 4 · H 2 O) 27.2 mg (197 μmol),
で示される、ナフチレン環を含む有機環14個からなるカーボンナノリングであった。このカーボンナノリングの収率は25%であった。 It was a carbon nanoring consisting of 14 organic rings including a naphthylene ring. The yield of this carbon nanoring was 25%.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.657 (brs, 44H), 7.670 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.74 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.77 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.87 (d, J = 9 Hz, 2H), 8.01 (s, 2H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 125.5 (CH), 125.7 (CH), 127.3 (CH), 127.4 (CH), 127.5 (CH), 127.6 (CH), 128.7 (CH), 133.1 (4°), 137.3 (4°), 138.7 (4°), 138.78 (4°), 138.82 (4°), 138.84 (4°), 138.9 (4°), 139.1 (4°); HRMS (MALDI-TOF) m/z calcd for C84H56 [M]+: 1114.4543, found 1114.4539. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.657 (brs, 44H), 7.670 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.74 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.77 (d, J = 9 Hz , 2H), 7.87 (d, J = 9 Hz, 2H), 8.01 (s, 2H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 125.5 (CH), 125.7 (CH), 127.3 (CH), 127.4 ( CH), 127.5 (CH), 127.6 (CH), 128.7 (CH), 133.1 (4 °), 137.3 (4 °), 138.7 (4 °), 138.78 (4 °), 138.82 (4 °), 138.84 ( 4 °), 138.9 (4 °), 139.1 (4 °); HRMS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 84 H 56 [M] + : 1114.4543, found 1114.4539.
合成例23:[9]シクロパラフェニレン及び[12]シクロパラフェニレンの製造
(1)輪状の化合物(12a)及び(12b−1)の製造
200 mLの攪拌機つきの、ガラスの丸底フラスコに、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0価)452 mg(1.64 mmol)、合成例2で得られた化合物(5b)423 mg(823μmol)、2,2'-ビピリジル257 mg(1.65 mmol)を収容した。ここに、THF166 mLをシリンジで添加した。次いで、混合物を還流下に24時間攪拌した。室温まで冷却した後、シリカゲル層を通過させ、EtOAc/CHCl3の混合溶媒で洗浄した。その後、減圧下に、溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc)で精製し、下記式(12a): Synthesis Example 23: Production of [9] cycloparaphenylene and [12] cycloparaphenylene (1) Production of annular compounds (12a) and (12b-1)
In a glass round bottom flask equipped with a 200 mL stirrer, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (zero valent) 452 mg (1.64 mmol), 423 mg (823 μmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2 was obtained. ), 2,2′-bipyridyl 257 mg (1.65 mmol). Here, 166 mL of THF was added by a syringe. The mixture was then stirred under reflux for 24 hours. After cooling to room temperature, the mixture was passed through a silica gel layer and washed with a mixed solvent of EtOAc / CHCl 3 . Thereafter, the solvent was removed under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc), and the following formula (12a):
で表される環化四量体(68.1 mg)と、下記式(12b−1): A cyclized tetramer (68.1 mg) represented by the following formula (12b-1):
で表される環化三量体(95.5 mg)を得た。収率は、それぞれ、環化四量体が23%、環化三量体が32%であった。これらの物質については、1H NMR及び13C NMRによって解析した。The cyclized trimer represented by (95.5 mg) was obtained. Yields were 23% for cyclized tetramer and 32% for cyclized trimer, respectively. These materials were analyzed by 1 H NMR and 13 C NMR.
環化四量体(12a):
1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 2.16 (brs, 16H), 2.37 (brs, 16H), 3.42 (s, 16H), 4.45 (s, 16H), 7.50 (s, 32H).
環化三量体(12b−1):
1H NMR (600 MHz, 50 ℃, CDCl3) δ 2.07 (brs, 12H), 2.28-2.34 (m, 12H), 3.43 (s, 18H), 4.58 (s, 12H), 7.40 (d, J = 8 Hz, 12H), 7.46 (d, J = 8 Hz, 12H); 13C NMR (150 MHz, 50 ℃, CDCl3) δ 33.3 (CH2), 55.9 (CH3), 78.1 (4°), 92.4 (CH2), 126.8 (CH), 127.3 (CH), 139.4 (4°), 141.2 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C66H78NaO12[M・Na]+: 1085.5391, found: 1085.538; mp : 182.3-187.0℃.Cyclized tetramer (12a):
1 H NMR (400 MHz CDCl 3 ) δ 2.16 (brs, 16H), 2.37 (brs, 16H), 3.42 (s, 16H), 4.45 (s, 16H), 7.50 (s, 32H).
Cyclized trimer (12b-1):
1 H NMR (600 MHz, 50 ° C, CDCl 3 ) δ 2.07 (brs, 12H), 2.28-2.34 (m, 12H), 3.43 (s, 18H), 4.58 (s, 12H), 7.40 (d, J = 8 Hz, 12H), 7.46 (d, J = 8 Hz, 12H); 13 C NMR (150 MHz, 50 ° C, CDCl 3 ) δ 33.3 (CH 2 ), 55.9 (CH 3 ), 78.1 (4 °), 92.4 (CH 2 ), 126.8 (CH), 127.3 (CH), 139.4 (4 °), 141.2 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 66 H 78 NaO 12 [M ・ Na] + : 1085.5391, found: 1085.538; mp: 182.3-187.0 ° C.
(2)[9]シクロパラフェニレン(4b)の製造
20 mLの攪拌機及び冷却器つきシュレンク管に、上記式(12b−1)で表される環化三量体、又は後述の合成例30で得られた化合物(12b−1)26.6 mg(25μmol)、硫酸水素ナトリウム・一水和物69.1 mg(400μmol)、乾燥ジメチルスルホキシド1.5 mL及び乾燥m-キシレン5 mLを収容し、攪拌しながら150℃で48時間加熱した。室温まで冷却した後、混合物(反応液)をCHCl3で抽出した。抽出後、Na2SO4で乾燥した後に、減圧下、溶媒留去して粗生成物を得た。その後、TLC(CH2Cl2/ヘキサン)により、黄色固体4.2 mgを単離した。そして、1H NMR及び13C NMRによって、この物質を解析した結果、下記式(4b):(2) Production of [9] cycloparaphenylene (4b)
In a Schlenk tube with a 20 mL stirrer and a condenser, the cyclized trimer represented by the above formula (12b-1) or 26.6 mg (25 μmol) of the compound (12b-1) obtained in Synthesis Example 30 described later Sodium hydrogen sulfate monohydrate 69.1 mg (400 μmol), dry dimethyl sulfoxide 1.5 mL and dry m-xylene 5 mL were accommodated and heated at 150 ° C. for 48 hours with stirring. After cooling to room temperature, the mixture (reaction solution) was extracted with CHCl 3 . After extraction and drying with Na 2 SO 4 , the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. Thereafter, 4.2 mg of a yellow solid was isolated by TLC (CH 2 Cl 2 / hexane). And as a result of analyzing this substance by 1 H NMR and 13 C NMR, the following formula (4b):
で表される、9個のp−フェニレン基からなる[9]シクロパラフェニレン(アモルファス)であった。収率は24%であった。 [9] cycloparaphenylene (amorphous) consisting of 9 p-phenylene groups. The yield was 24%.
[9]シクロパラフェニレン(アモルファス)と、THFとを反応容器に収容し、飽和溶液とした。次いで、この反応容器を開口した状態で、ペンタンの蒸気中に静置(10℃、24時間)することにより、[9]シクロパラフェニレンの結晶を得た。結晶のX線構造解析より、[9]シクロパラフェニレン結晶の輪の中に、THFが包接されていた。[9]シクロパラフェニレン結晶は、隣り合うものどうしで、5度〜45度の角度を維持しつつ、これらが規則的に配列しており、結晶の配列により、多数の輪からなる筒状を形成していた。 [9] Cycloparaphenylene (amorphous) and THF were placed in a reaction vessel to obtain a saturated solution. Next, the reaction vessel was opened and left standing in a vapor of pentane (10 ° C., 24 hours) to obtain [9] cycloparaphenylene crystals. From the X-ray structure analysis of the crystal, THF was included in the ring of [9] cycloparaphenylene crystal. [9] Cycloparaphenylene crystals are arranged regularly while adjoining each other while maintaining an angle of 5 to 45 degrees. Was forming.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.52 (s, 36H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 127.3 (CH), 137.9 (4°); HRMS (MALDI-TOF) m/z calcd for C54H36[M・]+: 684.2817, found: 684.2834. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.52 (s, 36H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 127.3 (CH), 137.9 (4 °); HRMS (MALDI-TOF) m / z calcd for C 54 H 36 [M ・] + : 684.2817, found: 684.2834.
(3)[12]シクロパラフェニレン(4a)の製造
上記(1)で得られた化合物(12a)を、上記(2)と同様に処理して、下記式(4a):(3) Production of [12] cycloparaphenylene (4a) The compound (12a) obtained in the above (1) is treated in the same manner as in the above (2) to obtain the following formula (4a):
で表される、12個のp−フェニレン基からなる[12]シクロパラフェニレン([12]CPP)を得た。 [12] cycloparaphenylene ([12] CPP) consisting of 12 p-phenylene groups was obtained.
1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 7.61 (s, 48H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 127.33, 138.52. 1 H NMR (400 MHz CDCl 3 ) δ 7.61 (s, 48H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 127.33, 138.52.
合成例24:化合物(Ib−1)の製造Synthesis Example 24 Production of Compound (Ib-1)
攪拌子を入れた50 mlシュレンク管に、上記の合成例2により得られた化合物(5b)518 mg(1.0 mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン(bis(pinacolate)diboron)636 mg(2.5 mmol)、1,1'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロリド−ジクロロメタン錯体(PdCl2(dppf)・CH2Cl2)23.2 mg(30μmol)、酢酸カリウム(KOAc)624 mg(6.35 mmol)、及び乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)20 mLを入れた。シュレンク管を攪拌しながら80℃で17時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後に、水でクエンチした。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をリサイクル分取ゲル浸透クロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、白色固体の目的化合物390 mgを得た(収率64%)。In a 50 ml Schlenk tube containing a stirrer, 518 mg (1.0 mmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2 above, 636 mg (2.5 mmol) of bis (pinacolate) diboron, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene-palladium (II) dichloride-dichloromethane complex (PdCl 2 (dppf) · CH 2 Cl 2 ) 23.2 mg (30 μmol), potassium acetate (KOAc) 624 mg (6.35 mmol) , And 20 mL of dry dimethyl sulfoxide (DMSO). The Schlenk tube was heated at 80 ° C. for 17 hours with stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature and then quenched with water. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc) and the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by recycle preparative gel permeation chromatography (chloroform) to obtain 390 mg of the target compound as a white solid (yield 64%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ1.33 (s, 24H), 2.09 (br, 4H), 2.31 (br, 4H), 3.40 (s, 6H), 4.41 (s, 4H), 7.43 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.76 (d, J = 8 Hz, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ24.9 (CH3), 32.9 (CH2), 56.0 (CH3), 78.3 (4°), 83.8 (4°), 92.2 (CH2), 126.2 (CH), 128.1 (4°), 134.8 (CH); HRMS (FAB) m/z calcd for C34H50B2NaO8[M・Na]+: 631.3584, found 631.3605. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ1.33 (s, 24H), 2.09 (br, 4H), 2.31 (br, 4H), 3.40 (s, 6H), 4.41 (s, 4H), 7.43 (d , J = 8 Hz, 4H), 7.76 (d, J = 8 Hz, 4H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ24.9 (CH 3 ), 32.9 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ) , 78.3 (4 °), 83.8 (4 °), 92.2 (CH 2 ), 126.2 (CH), 128.1 (4 °), 134.8 (CH); HRMS (FAB) m / z calcd for C 34 H 50 B 2 NaO 8 [M ・ Na] + : 631.3584, found 631.3605.
なお、両末端臭素原子の化合物(5b)ではなく、両末端ヨウ素原子の化合物を用いて同様の条件(ただし、ビス(ピナコレート)ジボロンを2.7 mmol、PdCl2(dppf)・CH2Cl2を32μmol、KOAcを9.0 mmolとした)で同様の反応を行ったところ、収率を83%まで向上させることが可能であった。It should be noted that the same conditions (however, 2.7 mmol of bis (pinacolato) diboron and 32 μmol of PdCl 2 (dppf) · CH 2 Cl 2 ) were used instead of the compound (5b) at both ends instead of the compound at both ends bromine atom. , KOAc was adjusted to 9.0 mmol), and the yield could be improved to 83%.
合成例25:化合物(14−1)の製造Synthesis Example 25 Production of Compound (14-1)
攪拌子を入れた200 ml丸底ガラスフラスコに、上記の合成例2により得られた化合物(5b)5.58 g(10.9 mmol)、上記の合成例24により得られた化合物(Ib−1)608 mg(1.00 mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)114 mg(98.2μmol)、炭酸銀(Ag2CO3)983 mg(3.57 mmol)及び乾燥THF100 mLを入れた。得られた混合物を撹拌しながら、還流下に38時間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後に、水でクエンチした。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc=5/1〜1/1)で精製し、無色固体の目的化合物789 mgを得た(収率65%)。In a 200 ml round bottom glass flask containing a stir bar, 5.58 g (10.9 mmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2 above, 608 mg of the compound (Ib-1) obtained in Synthesis Example 24 above. (1.00 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (Pd (PPh 3 ) 4 ) 114 mg (98.2 μmol), silver carbonate (Ag 2 CO 3 ) 983 mg (3.57 mmol) and dry THF 100 mL It was. The resulting mixture was reacted under reflux for 38 hours with stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature and then quenched with water. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc) and the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc = 5/1 to 1/1) to obtain 789 mg of the target compound as a colorless solid (yield 65%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ2.11(brs, 12H), 2.28-2.43 (m, 12H), 3.40 (s, 6H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.46 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.31 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.43 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.47-7.57 (m, 16H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ32.8 (CH2), 55.9 (CH3), 77.8 (4°), 77.9 (4°), 78.0 (4°), 92.0 (CH2), 92.1 (CH2), 121.5 (4°), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 128.6 (CH), 131.4 (CH), 139.4 (4°), 139.5 (4°), 141.5 (br, 4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C66H78Br2NaO12[M・Na]+: 1243.3752, found: 1243.3760. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ2.11 (brs, 12H), 2.28-2.43 (m, 12H), 3.40 (s, 6H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.46 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.31 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.43 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.47-7.57 (m, 16H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ32.8 (CH 2 ), 55.9 (CH 3 ), 77.8 (4 °), 77.9 (4 °), 78.0 (4 °), 92.0 (CH 2 ) , 92.1 (CH 2 ), 121.5 (4 °), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 128.6 (CH), 131.4 (CH), 139.4 (4 °), 139.5 (4 °), 141.5 (br, 4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 66 H 78 Br 2 NaO 12 [M ・ Na] + : 1243.3752, found: 1243.3760.
なお、反応条件を60℃24時間とし、他は同様に行ったところ、収率は59%であった。 The reaction was conducted at 60 ° C. for 24 hours, and the others were carried out in the same manner. The yield was 59%.
合成例26:化合物(7a−1)の製造(その2)Synthesis Example 26 Production of Compound (7a-1) (Part 2)
攪拌子を入れた200 ml丸底フラスコに、フッ化セシウム(Cesium fluoride)400 mg(2.6 mmol)、合成例2で得られた化合物(5b)2.07 g(4 mmol)、化合物(6d)(1,4-ベンゼンジボロン酸ビス(ピナコール)エステル、1,4-benzenediboronic acid bis(pinacol) ester)151.2 mg(0.5 mmol)、及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)30.1 mg(0.026 mmol)を入れ、アルゴンガスをフラスコ内に充填した。そこに、乾燥THF60 mlを導入し、混合物とした後に、この混合物を撹拌しながら、65℃で26時間反応させた。次いで、フラスコ内の混合物(反応液)を室温に冷却し、その混合物(反応液)をセライトでろ過した。得られたろ液からエバポレーターで溶媒を減圧留去した後に、残渣(濃縮物)をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc)で精製し、白色固体の目的化合物319.9 mgを得た(収率68%)。In a 200 ml round bottom flask containing a stir bar, 400 mg (2.6 mmol) of cesium fluoride, 2.07 g (4 mmol) of compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, and compound (6d) (1 , 4-Benzenediboronic acid bis (pinacol) ester, 1,4-benzenediboronic acid bis (pinacol) ester) 151.2 mg (0.5 mmol), and tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (Pd (PPh 3 ) 4 ) 30.1 mg (0.026 mmol) was charged, and argon gas was charged into the flask. Thereto, 60 ml of dry THF was introduced to form a mixture, and this mixture was reacted at 65 ° C. for 26 hours while stirring. Next, the mixture (reaction solution) in the flask was cooled to room temperature, and the mixture (reaction solution) was filtered through celite. After evaporating the solvent from the obtained filtrate under reduced pressure with an evaporator, the residue (concentrate) was purified by silica gel chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 319.9 mg of the target compound as a white solid (yield 68%).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ2.11 (brs, 8H), 2.30−2.40 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (s, 4H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ33.0 (CH2), 56.0 (CH3), 77.9 (4°), 78.1 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 121.7 (4°), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4°), 131.5 (CH), 139.5 (4°), 139.8 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C50H56Br2O8Na [M+Na]+: 965.2240, found 965.2195; mp : 184.7-186.4℃. 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ2.11 (brs, 8H), 2.30-2.40 (brm, 8H), 3.42 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 4.44 (s, 4H), 4.48 (s, 4H), 7.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.45 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.51 (d, J = 9 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 9 Hz , 4H), 7.65 (s, 4H); 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ33.0 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 77.9 (4 °), 78.1 (4 °), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 121.7 (4 °), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (4 °), 131.5 (CH), 139.5 (4 °), 139.8 (4 °); HRMS ( FAB) m / z calcd for C 50 H 56 Br 2 O 8 Na [M + Na] + : 965.2240, found 965.2195; mp: 184.7-186.4 ° C.
合成例27:化合物(16a)の製造Synthesis Example 27: Production of compound (16a)
攪拌子を入れた100 mlフラスコに、合成例2で得られた化合物(5b)366 mg(712μmol)、化合物(6d)(1,4-ベンゼンジボロン酸ビス(ピナコール)エステル、1,4-benzenediboronic acid bis(pinacol) ester)1.99 g(6.03 mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)70.6 mg(61.1μmol)、炭酸銀(Ag2CO3)284 mg(1.03 mmol)、及び乾燥THF30 mLを入れた。この混合物を撹拌しながら、65℃で24時間反応させ、混合物を水でクエンチした。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ EtOAc = 10/1-5/1)で精製し、無色固体の目的化合物290 mgを得た(収率54%)。In a 100 ml flask containing a stir bar, 366 mg (712 μmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, compound (6d) (1,4-benzenediboronic acid bis (pinacol) ester, 1,4- benzenediboronic acid bis (pinacol) ester) 1.99 g (6.03 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (Pd (PPh 3 ) 4 ) 70.6 mg (61.1 μmol), silver carbonate (Ag 2 CO 3 ) 284 mg (1.03 mmol) and 30 mL of dry THF were added. The mixture was allowed to react with stirring at 65 ° C. for 24 hours and the mixture was quenched with water. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc) and the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc = 10 / 1-5 / 1) to obtain 290 mg of the target compound as a colorless solid (yield 54%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ1.35 (s, 24H), 2.17 (br, 4H), 2.38 (br, 4H), 3.44 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 7.52 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.58 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.58 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.86 (d, J = 8 Hz, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ24.9 (CH3), 33.1 (CH2), 56.0 (CH3), 78.2 (4°), 83.8 (4°), 92.3 (CH2), 126.3 (CH), 127.1 (CH), 127.3 (br, CH), 135.3 (CH), 140.1 (4°), 143.2 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C34H50B2NaO8 [M・Na]+: 783.4210, found 783.4240. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ1.35 (s, 24H), 2.17 (br, 4H), 2.38 (br, 4H), 3.44 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 7.52 (d , J = 8 Hz, 4H), 7.58 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.58 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.86 (d, J = 8 Hz, 4H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ24.9 (CH 3 ), 33.1 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 78.2 (4 °), 83.8 (4 °), 92.3 (CH 2 ), 126.3 (CH), 127.1 ( CH), 127.3 (br, CH), 135.3 (CH), 140.1 (4 °), 143.2 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 34 H 50 B 2 NaO 8 [M ・ Na] + : 783.4210, found 783.4240.
合成例28:化合物(21)の製造Synthesis Example 28 Production of Compound (21)
攪拌子を入れた100 mlフラスコに、合成例27で得られた化合物(16a)155 mg(204μmol)、合成例2で得られた化合物(5b)1.22 g(2.37 mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)25.4 mg(22.0 mmol)、炭酸ナトリウム(Na2CO3)107 mg(1.01 mmol)、乾燥トルエン12 mL、及び乾燥酢酸エチル(EtOAc)3 mLを入れた。この混合物を撹拌しながら、70℃で24時間反応させた。室温まで冷却後、混合物を減圧下に濃縮した。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、Na2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ EtOAc = 6/1〜1/1)で精製し、無色固体の目的化合物239 mgを得た(収率44%)。In a 100 ml flask containing a stirrer, 155 mg (204 μmol) of the compound (16a) obtained in Synthesis Example 27, 1.22 g (2.37 mmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2, tetrakis (triphenylphosphine) ) Palladium (0) (Pd (PPh 3 ) 4 ) 25.4 mg (22.0 mmol), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) 107 mg (1.01 mmol), dry toluene 12 mL, and dry ethyl acetate (EtOAc) 3 mL. I put it in. The mixture was reacted for 24 hours at 70 ° C. with stirring. After cooling to room temperature, the mixture was concentrated under reduced pressure. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc), dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc = 6/1 to 1/1) to obtain 239 mg of the target compound as a colorless solid (44% yield).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ2.10 (br, 12H), 2.27-2.49 (m, 12H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.47 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 7.32 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.44 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.50 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.64 (s, 8H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 33.0 (CH2), 56.0 (CH3), 77.9 (4°), 78.1 (4°), 78.2 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 121.7 (4°), 126.9 (CH), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (CH), 131.5 (CH), 139.4 (4°), 139.5 (4°), 139.7 (4°), 139.8 (4°), 141.6 (br, 4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C76H86Br2NaO8[M・Na]+: 1395.4378, found 1395.4364. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ2.10 (br, 12H), 2.27-2.49 (m, 12H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.47 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 7.32 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.44 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.50 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.64 (s, 8H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 33.0 (CH 2 ), 56.0 (CH 3 ), 77.9 (4 °), 78.1 (4 °), 78.2 (4 °), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 121.7 (4 °), 126.9 (CH), 126.9 (CH), 127.4 (CH), 127.4 (CH), 128.7 (CH), 131.5 (CH), 139.4 (4 °), 139.5 (4 °), 139.7 (4 °), 139.8 (4 °), 141.6 (br, 4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 76 H 86 Br 2 NaO 8 [M ・ Na] + : 1395.4378, found 1395.4364.
合成例29:化合物(15a)の製造Synthesis Example 29: Production of compound (15a)
攪拌子を入れた50 ml丸底ガラスフラスコに、上記の合成例9により得られた化合物(8a)102 mg(98.2μmol)、上記の合成例2により得られた化合物(5b)500 mg(972μmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)11.1 mg(9.60μmol)、炭酸銀(Ag3CO3)108 mg(355μmol)、及び乾燥THF10mLを入れた。その後、得られた混合物を撹拌しながら、60℃で19時間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後に、水でクエンチした。その後、酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ EtOAc = 3/1〜2/3)で精製し、無色固体の目的化合物93.9 mgを得た(収率58%)。In a 50 ml round bottom glass flask containing a stirrer, 102 mg (98.2 μmol) of the compound (8a) obtained in the above Synthesis Example 9 and 500 mg (972 μmol) of the compound (5b) obtained in the above Synthesis Example 2 were added. ), Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (Pd (PPh 3 ) 4 ) 11.1 mg (9.60 μmol), silver carbonate (Ag 3 CO 3 ) 108 mg (355 μmol), and dry THF 10 mL. Thereafter, the obtained mixture was reacted at 60 ° C. for 19 hours while stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature and then quenched with water. Then extracted with ethyl acetate (EtOAc) and the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc = 3/1 to 2/3) to obtain 93.9 mg of the target compound as a colorless solid (yield 58%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ2.15 (br, 16H), 2.27-2.42 (m, 16H), 3.40 (s, 6H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.45 (s, 4H), 4.47 (s, 4H), 4.49 (s, 4H), 7.31 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.43 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45-7.56 (m, 20H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.63 (s, 4H); HRMS (FAB) m/z calcd for C94H108Br2NaO16[M・Na]+: 1673.5896, found 1673.5862. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ2.15 (br, 16H), 2.27-2.42 (m, 16H), 3.40 (s, 6H), 3.41 (s, 6H), 3.43 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.43 (s, 4H), 4.45 (s, 4H), 4.47 (s, 4H), 4.49 (s, 4H), 7.31 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.43 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45-7.56 (m, 20H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.63 (s, 4H); HRMS (FAB) m / z calcd for C 94 H 108 Br 2 NaO 16 [M ・ Na] + : 1673.5896, found 1673.5862.
合成例30:輪状の化合物(12b−1)の製造(その2)Synthesis Example 30 Production of Ring-shaped Compound (12b-1) (Part 2)
攪拌子を入れた50 ml丸底ガラスフラスコに、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)(Ni(cod)2)14.5 mg(52.7μmol)、上記の合成例25により得られた化合物(14−1)30.6 mg(25.0μmol)、及び2,2'-ビピリジル(2,2'-bipyridyl)7.82 mg(50.1μmol)を入れた。その後、乾燥THFを15.5 mL添加した。得られた混合物を撹拌しながら、還流下に24時間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後に、シリカゲルでろ過し、酢酸エチル(EtOAc)で洗浄し、その後減圧下に溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/ EtOAc)で精製し、無色固体の目的化合物12.2 mgを得た(収率46%)。In a 50 ml round bottom glass flask containing a stir bar, 14.5 mg (52.7 μmol) of bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) (Ni (cod) 2 ), obtained by Synthesis Example 25 above. 30.6 mg (25.0 μmol) of the compound (14-1) and 7.82 mg (50.1 μmol) of 2,2′-bipyridyl were added. Thereafter, 15.5 mL of dry THF was added. The resulting mixture was reacted under reflux for 24 hours with stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature, then filtered through silica gel, washed with ethyl acetate (EtOAc), and then the solvent was removed under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 12.2 mg of the target compound as a colorless solid (yield 46%).
合成例31:輪状の化合物(20a−1)の製造(その1)Synthesis Example 31 Production of Ring-shaped Compound (20a-1) (Part 1)
攪拌子を入れた50 ml丸底ガラスフラスコに、上記の合成例2により得られた化合物(5b)21.0 mg(40.9μmol)、上記の合成例9により得られた化合物(8a)49.4 mg(47.6μmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)(Pd2(dba)3)3.8 mg(8.0μmol)、リン酸カリウム(K3PO4)84.9 mg(405μmol)、1,4-ジオキサン20mL及び水80μLを入れた。その後、得られた混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後に、シリカゲル層でろ過し、酢酸エチル(EtOAc)で洗浄し、その後減圧下に溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)、及び分取薄層クロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc = 1/1)で精製し、無色固体の目的化合物9.3 mgを得た(収率20%)。In a 50 ml round bottom glass flask containing a stir bar, 21.0 mg (40.9 μmol) of the compound (5b) obtained in Synthesis Example 2 and 49.4 mg (47.6 mg) of the compound (8a) obtained in Synthesis Example 9 were obtained. μmol), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) (Pd 2 (dba) 3 ) 3.8 mg (8.0 μmol), potassium phosphate (K 3 PO 4 ) 84.9 mg (405 μmol), 1,4-dioxane 20 mL And 80 μL of water. Thereafter, the resulting mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours while stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature, then filtered through a silica gel layer, washed with ethyl acetate (EtOAc), and then the solvent was removed under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (chloroform) and preparative thin layer chromatography (
1H NMR (600 MHz, CD2Cl2, 35℃) δ 1.67 (s, 4H), 1.93-2.53 (m, 20H), 2.31 (br, 4H), 3.36 (s, 6H), 3.37 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 4.55 (s, 4H), 4.58 (s, 4H), 7.29 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.40-7.47 (m, 12H), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.66 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.68 (s, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3, 50℃) δ32.8 (CH2), 33.2 (CH2), 34.0 (CH2), 55.5 (CH3), 55.9 (CH3), 56.2 (CH3), 77.9 (4°), 78.3 (4°), 78.4 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 92.6 (CH2), 126.6 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 139.3 (4°), 139.3 (4°), 139.5 (4°), 139.5 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C34H50B2NaO8 [M・Na]+: 631.3584, found 631.3605. 1 H NMR (600 MHz, CD 2 Cl 2 , 35 ° C) δ 1.67 (s, 4H), 1.93-2.53 (m, 20H), 2.31 (br, 4H), 3.36 (s, 6H), 3.37 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 4.55 (s, 4H), 4.58 (s, 4H), 7.29 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.40-7.47 (m, 12H ), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.66 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.68 (s, 4H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 , 50 ° C) δ32.8 ( CH 2 ), 33.2 (CH 2 ), 34.0 (CH 2 ), 55.5 (CH 3 ), 55.9 (CH 3 ), 56.2 (CH 3 ), 77.9 (4 °), 78.3 (4 °), 78.4 (4 ° ), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 92.6 (CH 2 ), 126.6 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 139.3 (4 °), 139.3 (4 °), 139.5 (4 °), 139.5 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 34 H 50 B 2 NaO 8 [M ・ Na] + : 631.3584, found 631.3605.
合成例32:化合物(20a−1)の製造(その2)Synthesis Example 32 Production of Compound (20a-1) (Part 2)
攪拌子を入れた50 mlシュレンク管に、上記の合成例25により得られた化合物(14−1)29.5 mg(24.1μmol)、化合物(6d)(1,4-ベンゼンジボロン酸ビス(ピナコール)エステル、1,4-benzenediboronic acid bis(pinacol) ester)11.1 mg(33.6μmol)、酢酸パラジウム(II)(Pd(OAc)2)2.15 mg(9.58μmol)、2-(ジシクロヘキシルホスフィノ)-2',4',6'-トリイソプロピル-1,1'-ビフェニル(X-Phos)4.57 mg(9.59μmol)、10 M NaOH水溶液20.0 mL(200μmol)及び1,4-ジオキサン20mLを入れた。その後、得られた混合物を撹拌しながら、80℃で17時間反応させた。さらに水を添加し、酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)、及び分取薄層クロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc = 1/1)で精製し、無色固体の目的化合物5.04 mgを得た(収率18%)。In a 50 ml Schlenk tube containing a stirrer, 29.5 mg (24.1 μmol) of the compound (14-1) obtained in Synthesis Example 25, compound (6d) (bis (pinacol) 1,4-benzenediboronate) Ester, 1,4-benzenediboronic acid bis (pinacol) ester) 11.1 mg (33.6 μmol), palladium acetate (II) (Pd (OAc) 2 ) 2.15 mg (9.58 μmol), 2- (dicyclohexylphosphino) -2 ′ 4,4 ′, 6′-triisopropyl-1,1′-biphenyl (X-Phos) 4.57 mg (9.59 μmol), 10 M NaOH aqueous solution 20.0 mL (200 μmol) and 1,4-dioxane 20 mL were added. Thereafter, the resulting mixture was reacted at 80 ° C. for 17 hours while stirring. Further water was added and extracted with ethyl acetate (EtOAc), the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (chloroform) and preparative thin layer chromatography (
1H NMR (600 MHz, CD2Cl2, 35℃) δ 1.67 (s, 4H), 1.93-2.53 (m, 20H), 2.31 (br, 4H), 3.36 (s, 6H), 3.37 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 4.55 (s, 4H), 4.58 (s, 4H), 7.29 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.40-7.47 (m, 12H), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.66 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.68 (s, 4H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3, 50℃) δ32.8 (CH2), 33.2 (CH2), 34.0 (CH2), 55.5 (CH3), 55.9 (CH3), 56.2 (CH3), 77.9 (4°), 78.3 (4°), 78.4 (4°), 92.2 (CH2), 92.3 (CH2), 92.6 (CH2), 126.6 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 139.3 (4°), 139.3 (4°), 139.5 (4°), 139.5 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C34H50B2NaO8 [M・Na]+: 631.3584, found 631.3605. 1 H NMR (600 MHz, CD 2 Cl 2 , 35 ° C) δ 1.67 (s, 4H), 1.93-2.53 (m, 20H), 2.31 (br, 4H), 3.36 (s, 6H), 3.37 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.48 (s, 4H), 4.55 (s, 4H), 4.58 (s, 4H), 7.29 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.40-7.47 (m, 12H ), 7.60 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.66 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.68 (s, 4H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 , 50 ° C) δ32.8 ( CH 2 ), 33.2 (CH 2 ), 34.0 (CH 2 ), 55.5 (CH 3 ), 55.9 (CH 3 ), 56.2 (CH 3 ), 77.9 (4 °), 78.3 (4 °), 78.4 (4 ° ), 92.2 (CH 2 ), 92.3 (CH 2 ), 92.6 (CH 2 ), 126.6 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 128.3 (CH), 139.3 (4 °), 139.3 (4 °), 139.5 (4 °), 139.5 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 34 H 50 B 2 NaO 8 [M ・ Na] + : 631.3584, found 631.3605.
合成例33:化合物(19a)の製造Synthesis Example 33: Production of compound (19a)
攪拌子を入れた20 ml J-Youngシュレンク管に、上記の合成例28により得られた化合物(21)70.0 mg(50.9μmol)、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)(Ni(cod)2)48.2 mg(17.5μmol)、2,2'-ビピリジル(2,2'-bipyridyl)27.1 mg(17.3μmol)、及び乾燥1,4-ジオキサン2 mLを入れた。その後、得られた混合物を撹拌しながら、80℃で24時間反応させた。室温まで冷却後、混合物を減圧下に濃縮した。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、Na2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/EtOAc = 2/1)で精製し、無色固体の目的化合物26.1 mgを得た(収率42%)。In a 20 ml J-Young Schlenk tube containing a stir bar, 70.0 mg (50.9 μmol) of the compound (21) obtained in Synthesis Example 28 above, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) (Ni (cod) 2 ) 48.2 mg (17.5 μmol), 2,2′-bipyridyl (2,2′-bipyridyl) 27.1 mg (17.3 μmol), and 2 mL of dry 1,4-dioxane were added. Thereafter, the resulting mixture was reacted at 80 ° C. for 24 hours while stirring. After cooling to room temperature, the mixture was concentrated under reduced pressure. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc), dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (CHCl 3 / EtOAc = 2/1) to obtain 26.1 mg of the target compound as a colorless solid (yield 42%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3, 50℃) δ 1.86 (br, 4H), 2.08 (br, 4H), 2.21-2.47 (m, 16H), 3.39 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 3.44 (s, 6H), 4.52 (s, 4H), 4.54 (s, 4H), 4.62 (s, 4H), 7.35 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.42 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.44 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8 Hz, 8H), 7.56-7.62 (m, 16H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3, 50℃) δ 32.8 (CH2), 33.4 (CH2), 33.7 (CH2), 55.7 (CH3), 55.8 (CH3), 56.2 (CH3), 77.9 (4o), 78.0 (4o), 78.3 (4o), 92.2 (CH2), 92.4 (CH2), 92.5 (CH2), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 126.9 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH), 127.5 (CH), 127.9 (CH), 139.2 (4°), 139.3 (4°), 139.4 (4°), 139.5 (4°), 139.6 (4°); HRMS (FAB) m/z calcd for C76H86NaO8 [M・Na]+: 1237.6011, found 1237.6014. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 , 50 ° C) δ 1.86 (br, 4H), 2.08 (br, 4H), 2.21-2.47 (m, 16H), 3.39 (s, 6H), 3.44 (s, 6H) , 3.44 (s, 6H), 4.52 (s, 4H), 4.54 (s, 4H), 4.62 (s, 4H), 7.35 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.42 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.44 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.54 (d, J = 8 Hz, 8H), 7.56-7.62 (m, 16H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 , 50 ° C) δ 32.8 (CH 2 ), 33.4 (CH 2 ), 33.7 (CH 2 ), 55.7 (CH 3 ), 55.8 (CH 3 ), 56.2 (CH 3 ), 77.9 (4 o ), 78.0 (4 o ), 78.3 ( 4 o ), 92.2 (CH 2 ), 92.4 (CH 2 ), 92.5 (CH 2 ), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 126.8 (CH), 126.9 (CH), 127.2 (CH), 127.3 (CH ), 127.5 (CH), 127.9 (CH), 139.2 (4 °), 139.3 (4 °), 139.4 (4 °), 139.5 (4 °), 139.6 (4 °); HRMS (FAB) m / z calcd for C 76 H 86 NaO 8 [M ・ Na] + : 1237.6011, found 1237.6014.
合成例34:化合物(18a)の製造Synthesis Example 34 Production of Compound (18a)
攪拌子を入れた50 ml丸底ガラスフラスコに、上記の合成例29により得られた化合物(15a)41.3 mg(25.0μmol)、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)(Ni(cod)2)13.8 mg(50.2μmol)、及び2,2'-ビピリジル(2,2'-bipyridyl)を入れた。乾燥THF12.5 mLを添加した後、得られた混合物を撹拌しながら、還流下に24時間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、シリカゲルでろ過し、酢酸エチル(EtOAc)で洗浄し、その後減圧下に溶媒を除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/EtOAc)で精製し、無色固体の目的化合物19.0 mgを得た(収率51%)。In a 50 ml round bottom glass flask containing a stir bar, 41.3 mg (25.0 μmol) of the compound (15a) obtained in Synthesis Example 29 above, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0) (Ni ( cod) 2 ) 13.8 mg (50.2 μmol) and 2,2′-bipyridyl (2,2′-bipyridyl) were added. After adding 12.5 mL of dry THF, the resulting mixture was reacted under reflux for 24 hours with stirring. The reaction mixture was cooled to room temperature, then filtered through silica gel, washed with ethyl acetate (EtOAc), and then the solvent was removed under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane / EtOAc) to obtain 19.0 mg of the target compound as a colorless solid (yield 51%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3, 50℃) δ 1.90-2.46 (m, 32H), 3.38 (s, 6H), 3.40 (s, 6H), 3.40 (s, 6H), 3.45 (s, 6H), 4.40 (s, 4H), 4.42 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 4.52 (s, 4H), 7.42 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45-7.52 (m, 20H), 7.55 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.63 (s, 4H); HRMS (FAB) m/z calcd for C94H108NaO8[M・Na]+: 1515.7535, found 1515.7530. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 , 50 ° C) δ 1.90-2.46 (m, 32H), 3.38 (s, 6H), 3.40 (s, 6H), 3.40 (s, 6H), 3.45 (s, 6H) , 4.40 (s, 4H), 4.42 (s, 4H), 4.50 (s, 4H), 4.52 (s, 4H), 7.42 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.45-7.52 (m, 20H), 7.55 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.59 (d, J = 8 Hz, 4H), 7.63 (s, 4H); HRMS (FAB) m / z calcd for C 94 H 108 NaO 8 [M ・ Na ] + : 1515.7535, found 1515.7530.
合成例35:[10]シクロパラフェニレン(13a)の製造Synthesis Example 35: Production of [10] cycloparaphenylene (13a)
20 mLの攪拌機及び冷却器つきシュレンク管に、上記の合成例31又は32により得られた化合物(20a−1)9.3 mg(8.2μmol)、硫酸水素ナトリウム・一水和物(NaHSO4・H2O)28 mg(20μmol)、乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)1.5 mL及び乾燥m−キシレン(m-xylene)5 mLを入れ、攪拌しながら150℃で72時間加熱した。室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)水溶液でクエンチし、溶媒として酢酸エチル(EtOAc)を用いてセライトでろ過し、酢酸エチル(EtOAc)で抽出した。さらに、有機相をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下に濃縮した。その後、TLC(ヘキサン/CH2Cl2=1/1)により、黄色固体の目的化合物1.5 mgを得た(収率24%)。In a Schlenk tube with a 20 mL stirrer and a condenser, 9.3 mg (8.2 μmol) of the compound (20a-1) obtained in Synthesis Example 31 or 32 above, sodium hydrogen sulfate monohydrate (NaHSO 4 .H 2) O) 28 mg (20 μmol), dry dimethyl sulfoxide (DMSO) 1.5 mL and dry m-xylene 5 mL were added and heated at 150 ° C. for 72 hours with stirring. After cooling to room temperature, it was quenched with saturated aqueous sodium bicarbonate (NaHCO 3 ), filtered through celite using ethyl acetate (EtOAc) as a solvent, and extracted with ethyl acetate (EtOAc). Furthermore, the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and then concentrated under reduced pressure. Thereafter, 1.5 mg of the target compound as a yellow solid was obtained by TLC (hexane / CH 2 Cl 2 = 1/1) (yield 24%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.56 (s, 40H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 127.4 (CH), 138.2 (4°); HRMS (MALDI) m/z calcd for C60H40 [M・]+: 760.3125, found: 760.3153. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.56 (s, 40H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 127.4 (CH), 138.2 (4 °); HRMS (MALDI) m / z calcd for C 60 H 40 [M ・] + : 760.3125, found: 760.3153.
合成例36:[11]シクロパラフェニレン(13b)の製造Synthesis Example 36: Production of [11] cycloparaphenylene (13b)
20 mLの攪拌機及び冷却器つきシュレンク管に、上記の合成例33により得られた化合物(19a)20.7 mg(17.0μmol)、硫酸水素ナトリウム・一水和物(NaHSO4・H2O)51.6 mg(37.4μmol)、o−クロラニル(o-chloranil)20.7 mg(84.2μmol)、乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)1.5 mL及び乾燥m−キシレン(m-xylene)4 mLを入れた。攪拌しながら150℃で48時間加熱した。室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)水溶液でクエンチし、溶媒として酢酸エチル(EtOAc)を用いてセライトでろ過した。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出した。さらに、有機相をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下に濃縮した。その後、TLC(ヘキサン/CH2Cl2=1/1)により、黄色固体の目的化合物4.6 mgを得た(収率32%)。In a Schlenk tube with a 20 mL stirrer and condenser, 20.7 mg (17.0 μmol) of the compound (19a) obtained in Synthesis Example 33 above, 51.6 mg of sodium bisulfate monohydrate (NaHSO 4 .H 2 O) (37.4 μmol), 20.7 mg (84.2 μmol) of o-chloranil, 1.5 mL of dry dimethyl sulfoxide (DMSO) and 4 mL of dry m-xylene were added. The mixture was heated at 150 ° C. for 48 hours with stirring. After cooling to room temperature, it was quenched with saturated aqueous sodium bicarbonate (NaHCO 3 ) and filtered through celite using ethyl acetate (EtOAc) as a solvent. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc). Furthermore, the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and then concentrated under reduced pressure. Then, 4.6 mg of the target compound as a yellow solid was obtained by TLC (hexane / CH 2 Cl 2 = 1/1) (yield 32%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.58 (s, 44H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 127.3 (CH), 138.4 (4°); HRMS (MALDI) m/z calcd for C66H44 [M・]+: 836.3438, found: 836.3437。 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.58 (s, 44H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 127.3 (CH), 138.4 (4 °); HRMS (MALDI) m / z calcd for C 66 H 44 [M ・] + : 836.3438, found: 836.3437.
合成例37:[13]シクロパラフェニレン(13c)の製造Synthesis Example 37: Production of [13] cycloparaphenylene (13c)
20 mLの攪拌機及び冷却器つきシュレンク管に、上記の合成例34により得られた化合物(18a)4.0 mg(2.7μmol)、硫酸水素ナトリウム・一水和物(NaHSO4・H2O)7.4 mg(54μmol)、o−クロラニル(o-chloranil)3.3 mg(13μmol)、乾燥ジメチルスルホキシド(DMSO)1.5 mL及び乾燥m−キシレン(m-xylene)4 mLを入れた。攪拌しながら150℃で48時間加熱した。室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム(NaHCO3)水溶液でクエンチし、溶媒として酢酸エチル(EtOAc)を用いてセライトでろ過した。生成物を酢酸エチル(EtOAc)で抽出し、有機相をNa2SO4で乾燥した後に、減圧下に濃縮した。その後、TLC(ヘキサン/CH2Cl2=1/1)により、黄色固体の目的化合物9.3 mgを得た(収率20%)。A stirrer and a condenser with Schlenk tube 20 mL, compounds obtained by the above Synthesis Example 34 (18a) 4.0 mg (2.7μmol ), sodium bisulfate monohydrate (NaHSO 4 · H 2 O) 7.4 mg (54 μmol), o-chloranil (3.3 mg, 13 μmol), dry dimethyl sulfoxide (DMSO) (1.5 mL) and dry m-xylene (4 mL) were added. The mixture was heated at 150 ° C. for 48 hours with stirring. After cooling to room temperature, it was quenched with saturated aqueous sodium bicarbonate (NaHCO 3 ) and filtered through celite using ethyl acetate (EtOAc) as a solvent. The product was extracted with ethyl acetate (EtOAc) and the organic phase was dried over Na 2 SO 4 and then concentrated under reduced pressure. Then, 9.3 mg of the target compound as a yellow solid was obtained by TLC (hexane / CH 2 Cl 2 = 1/1) (yield 20%).
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.64 (s, 52H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 127.4 (CH), 138.7 (4°); HRMS (MALDI) m/z calcd for C78H52 [M・]+: 988.4064, found: 988.4086. 1 H NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ 7.64 (s, 52H); 13 C NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ 127.4 (CH), 138.7 (4 °); HRMS (MALDI) m / z calcd for C 78 H 52 [M ・] + : 988.4064, found: 988.4086.
実施例1([12]シクロパラフェニレン→CNT)
サファイア単結晶基板(C面)上に、合成例23(3)で得られた[12]シクロパラフェニレン([12]CPP)(4a)のトルエン溶液(0.001wt%)をスピンコートにて塗布した。スピンコートの条件は、回転数が4000rpm、回転時間は60secであった。 Example 1 ([12] cycloparaphenylene → CNT)
A toluene solution (0.001 wt%) of [12] cycloparaphenylene ([12] CPP) (4a) obtained in Synthesis Example 23 (3) was applied on a sapphire single crystal substrate (C surface) by spin coating. did. The spin coating conditions were a rotation speed of 4000 rpm and a rotation time of 60 seconds.
作成した[12]CPPを塗布したサファイア単結晶基板を、石英製の反応管の端部に設置したのち、反応管内の真空引きを行った(最終到達圧力は0.01 torr程度(1.33 Pa程度))。続いて、反応管にエタノールを供給(圧力 7 torr(933.25Pa))するとともに、電気炉で中央部を500℃まで加熱した。温度とエタノールの供給量が安定するまで待ったのち、[12]CPPを塗布したサファイア基板を反応管の中央部へ素早く移動させて、化学気相成長(CVD)によるナノチューブの成長を開始した。反応開始から15分後、サファイア単結晶基板を500℃の反応管中央部から室温の端部へと移動させることで、ナノチューブの成長を終了させた。 The prepared [12] CPP-coated sapphire single crystal substrate was placed at the end of a quartz reaction tube, and then the inside of the reaction tube was evacuated (final ultimate pressure was about 0.01 torr (about 1.33 Pa)) . Subsequently, ethanol was supplied to the reaction tube (pressure 7 torr (933.25 Pa)), and the central part was heated to 500 ° C. in an electric furnace. After waiting for the temperature and ethanol supply to stabilize, the sapphire substrate coated with [12] CPP was quickly moved to the center of the reaction tube to start nanotube growth by chemical vapor deposition (CVD). 15 minutes after the start of the reaction, the growth of the nanotube was terminated by moving the sapphire single crystal substrate from the central part of the reaction tube at 500 ° C. to the end part at room temperature.
カーボンナノチューブの生成及び構造は、透過型電子顕微鏡(transmission electron microscope; TEM)観察及びラマン分光法によって評価した。なお、透過型電子顕微鏡はJEOL社製 JEM-2100F/HRを用い、ラマン分光器はHoriba Jobin Yvon社製 LabRAM HR-800を用いた。 The formation and structure of the carbon nanotubes were evaluated by transmission electron microscope (TEM) observation and Raman spectroscopy. The transmission electron microscope used was JEOL JEM-2100F / HR, and the Raman spectrometer used Horiba Jobin Yvon LabRAM HR-800.
透過型電子顕微鏡の観察結果を図2及び図3に示す。これらの図より得られたCNTの直径を測定したところ、直径がほぼ均一なCNTが得られていることが確認された(図4)。図4より、原料の[12]シクロパラフェニレンに由来して、直径が1.5〜1.6nmのCNTが選択的に生成していることが確認された。 The observation results of the transmission electron microscope are shown in FIGS. When the diameters of the CNTs obtained from these figures were measured, it was confirmed that CNTs having a substantially uniform diameter were obtained (FIG. 4). From FIG. 4, it was confirmed that CNTs having a diameter of 1.5 to 1.6 nm were selectively generated from [12] cycloparaphenylene as a raw material.
ラマン分光法によりCNTの物性を測定した。ラマン分光法では、励起に用いるレーザーの励起波長によって検出されるCNTが異なる。図5に、励起波長が488nm、514nm及び633nmのレーザーを用いてCNTを評価した結果を示す。合成したCNTの直径は1.6nm程度であり、励起波長が488nm及び514nmの場合には半導体性CNTが検出され、励起波長が633nmの場合には金属性CNTが検出された。図5より、励起波長に488および633nmを用いた場合にCNTに特有のラマンバンドが観測された。つまり、今回得られたCNTは半導体性及び金属性の両方の特性が混在している性質を有していることが確認された。 The physical properties of CNT were measured by Raman spectroscopy. In Raman spectroscopy, the detected CNT differs depending on the excitation wavelength of the laser used for excitation. FIG. 5 shows the results of evaluating CNTs using lasers having excitation wavelengths of 488 nm, 514 nm, and 633 nm. The diameter of the synthesized CNT was about 1.6 nm. When the excitation wavelengths were 488 nm and 514 nm, semiconducting CNT was detected, and when the excitation wavelength was 633 nm, metallic CNT was detected. From FIG. 5, Raman bands peculiar to CNT were observed when 488 and 633 nm were used as excitation wavelengths. That is, it was confirmed that the CNT obtained this time has a property in which both semiconductor properties and metallic properties are mixed.
実施例2([9]シクロパラフェニレン→CNT)
サファイア単結晶基板(C面)上に、合成例23(2)で得られた[9]シクロパラフェニレン([9]CPP)(4b)のトルエン溶液(0.001wt%)を スピンコートにて塗布した。スピンコートの条件は、回転数が4000rpm、回転時間は60secであった。 Example 2 ([9] cycloparaphenylene → CNT)
A toluene solution (0.001 wt%) of [9] cycloparaphenylene ([9] CPP) (4b) obtained in Synthesis Example 23 (2) was applied on a sapphire single crystal substrate (C surface) by spin coating. did. The spin coating conditions were a rotation speed of 4000 rpm and a rotation time of 60 seconds.
作成した[9]CPPを塗布したサファイア単結晶基板を、石英製の反応管の端部に設置したのち、反応管内の真空引きを行った(最終到達圧力は 0.01 torr程度(1.33 Pa程度))。続いて、反応管にエタノールを供給(圧力 7 torr(933.25Pa))するとともに、電気炉で中央部を500℃まで加熱した。温度とエタノールの供給量が安定するまで待ったのち、[9]CPPを塗布したサファイア基板を反応管の中央部へ素早く移動させて、化学気相成長(CVD)によるナノチューブの成長を開始した。 反応開始から15分後、サファイア単結晶基板を500℃の反応管中央部から室温の端部へと移動させることで、ナノチューブの成長を終了させた。 The prepared [9] CPP-coated sapphire single crystal substrate was placed at the end of a quartz reaction tube, and then the inside of the reaction tube was evacuated (final ultimate pressure was about 0.01 torr (about 1.33 Pa)) . Subsequently, ethanol was supplied to the reaction tube (pressure 7 torr (933.25 Pa)), and the central part was heated to 500 ° C. in an electric furnace. After waiting for the temperature and ethanol supply to stabilize, the sapphire substrate coated with [9] CPP was quickly moved to the center of the reaction tube to start nanotube growth by chemical vapor deposition (CVD). 15 minutes after the start of the reaction, the growth of the nanotube was terminated by moving the sapphire single crystal substrate from the central part of the reaction tube at 500 ° C. to the end part at room temperature.
カーボンナノチューブの生成およびその構造はラマン分光法によって評価した。なお、ラマン分光器はHoriba Jobin Yvon社製 LabRAM HR-800を用いた。 The formation of carbon nanotubes and their structure were evaluated by Raman spectroscopy. The Raman spectrometer used was LabRAM HR-800 manufactured by Horiba Jobin Yvon.
ラマン分光法によりCNTの物性を測定した。図6に、励起波長が488nm、514nm及び 633nmのレーザーを用いてCNTを評価した結果を示す。直径が1.0nmから1.2nm程度のCNTであり、励起波長が488nm及び 514nmの場合には半導体性CNTが検出され、励起波長が633nmの場合には金属性CNTが検出された。図6より、励起波長に488、 514、633nmを用いた場合にCNTに特有のラマンバンドが観測された。 The physical properties of CNT were measured by Raman spectroscopy. FIG. 6 shows the results of evaluating CNTs using lasers having excitation wavelengths of 488 nm, 514 nm, and 633 nm. When the excitation wavelength was 488 nm and 514 nm, semiconducting CNT was detected, and when the excitation wavelength was 633 nm, metallic CNT was detected. From FIG. 6, Raman bands peculiar to CNT were observed when 488, 514, and 633 nm were used as excitation wavelengths.
実施例3([14]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例12又は13で得られた[14]シクロパラフェニレン(3a)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 3 ([14] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [14] cycloparaphenylene (3a) obtained in Synthesis Example 12 or 13 in the same manner as in Example 1.
実施例4([15]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例15又は16で得られた[15]シクロパラフェニレン(3b)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 4 ([15] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [15] cycloparaphenylene (3b) obtained in Synthesis Example 15 or 16 in the same manner as in Example 1.
実施例5([16]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例18で得られた[16]シクロパラフェニレン(3c)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 5 ([16] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [16] cycloparaphenylene (3c) obtained in Synthesis Example 18 in the same manner as in Example 1.
実施例6(1個のナフチレンを含む[14]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例22で得られた化合物(3d)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 6 ([14] cycloparaphenylene → CNT containing one naphthylene)
CNT which processed the compound (3d) obtained by the synthesis example 22 like Example 1. FIG.
実施例7([10]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例35で得られた[10]シクロパラフェニレン(13a)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 7 ([10] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [10] cycloparaphenylene (13a) obtained in Synthesis Example 35 in the same manner as in Example 1.
実施例8([11]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例36で得られた[11]シクロパラフェニレン(13b)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 8 ([11] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [11] cycloparaphenylene (13b) obtained in Synthesis Example 36 in the same manner as in Example 1.
実施例9([13]シクロパラフェニレン→CNT)
合成例37で得られた[13]シクロパラフェニレン(13c)を実施例1と同様に処理したCNT。 Example 9 ([13] cycloparaphenylene → CNT)
CNT obtained by treating [13] cycloparaphenylene (13c) obtained in Synthesis Example 37 in the same manner as in Example 1.
Claims (8)
で表されるシクロパラフェニレン化合物、又は、当該一般式(1)で表されるシクロパラフェニレン化合物の少なくとも1個のフェニレン基が、一般式(2):
で表される基で置換された修飾シクロパラフェニレン化合物である、請求項3に記載の製造方法。 The cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting the plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups is represented by the general formula (1):
Or at least one phenylene group of the cycloparaphenylene compound represented by the general formula (1) is represented by the general formula (2):
The manufacturing method of Claim 3 which is the modified cycloparaphenylene compound substituted by group represented by these.
で表される環状化合物、一般式(4):
で表される環状化合物、又は一般式(13):
で示される環状化合物である、請求項2に記載の製造方法。 The cyclic compound (carbon nanoring) formed by connecting the plurality of divalent aromatic hydrocarbon groups is represented by the general formula (3)
A cyclic compound represented by the general formula (4):
Or a cyclic compound represented by the general formula (13):
The manufacturing method of Claim 2 which is a cyclic compound shown by these.
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US11739178B2 (en) | 2019-09-27 | 2023-08-29 | University Of Oregon | Nanohoop-functionalized polymer embodiments and methods of making and using the same |
US11505644B2 (en) | 2019-09-27 | 2022-11-22 | University Of Oregon | Polymer embodiments comprising nanohoop-containing polymer backbones and methods of making and using the same |
CN111986834B (en) * | 2020-07-29 | 2022-03-22 | 北海惠科光电技术有限公司 | Manufacturing method of carbon nanotube conductive film, display panel and display device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005097014A (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Fuji Xerox Co Ltd | Carbon nanotube production apparatus, production method, and gas decomposer used therein |
JP2009538809A (en) * | 2006-03-29 | 2009-11-12 | ハイピリオン カタリシス インターナショナル インコーポレイテッド | Method for producing single-walled carbon nanotubes from a metal layer |
JP2009280450A (en) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Nagoya Institute Of Technology | Production method and production apparatus for carbon nanotube |
US20100222432A1 (en) * | 2005-08-11 | 2010-09-02 | Kansas State University Research Foundation | Synthetic Carbon Nanotubes |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005097014A (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Fuji Xerox Co Ltd | Carbon nanotube production apparatus, production method, and gas decomposer used therein |
US20100222432A1 (en) * | 2005-08-11 | 2010-09-02 | Kansas State University Research Foundation | Synthetic Carbon Nanotubes |
JP2009538809A (en) * | 2006-03-29 | 2009-11-12 | ハイピリオン カタリシス インターナショナル インコーポレイテッド | Method for producing single-walled carbon nanotubes from a metal layer |
JP2009280450A (en) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Nagoya Institute Of Technology | Production method and production apparatus for carbon nanotube |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
JPN6012026888; BRIAN D.Steinberg, LAWRENCE T.Scott: 'New Strategies for Synthesizing Short Sections of Carbon Nanotubes' Angew.Chem.Int.Ed. Vol.48, 2009, p.5400-5402 * |
JPN6012026889; 佐藤健太郎: 'グラフェンからナノチューブまで 化学合成で新炭素材料に挑む' 現代化学 No.461, 20090801, p.16-20, 株式会社 東京化学同人 * |
JPN6016026469; Jasti R. et al.: 'Progress and challenge for the bottom-up synthesis of carbon nanotube with discrete chirality' Chemical Physics Letters Vol.494、No.1-3, 20100709, p.1-7 * |
JPN6016026470; Hiroki Ago et al: J. Phys. Chem. B Vol.109,No.20, 20050501, p.10035-10041 * |
JPN6016026471; GU G. et al: ADVANCED FUNCTIONAL MATERIALS Vol.11,No.4, 20010801, p.295-298 * |
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