JP6083975B2 - 流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 - Google Patents
流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 Download PDFInfo
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Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
1.リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、該構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、
ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱するように構成されたヒータを備え、該ヒータは、前記構造から前記対向面上への流体フローを加熱する流体ヒータを備え、該加熱された流体フローは前記部分を加熱する、流体ハンドリング構造。
2.リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、該構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、
ヒータに隣接する対向面の部分を加熱するように構成されたヒータを備え、該ヒータは、前記空間の周囲の閉じた経路内に配置された複数の要素を備える、流体ハンドリング構造。
3.前記センサに隣接する前記対向面の部分の温度を測定するように構成されたセンサをさらに備える、条項1又は2に記載の流体ハンドリング構造。
4.前記対向面に向き合い且つ開口を有する流体閉じ込め表面を備える、条項1から3のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
5.前記ヒータは、前記開口を通して流れる流体を加熱するように構成されたギャップ流体ヒータを備える、条項4に記載の流体ハンドリング構造。
6.前記開口は、閉じた経路に配置される、条項5に記載の流体ハンドリング構造。
7.前記開口は、複数の開口である、条項5又は6に記載の流体ハンドリング構造。
8.前記流体フローの温度が閉じた経路に沿った位置の関数として選択的に変化するように前記ギャップ流体ヒータが前記複数の開口からの流体フローを加熱するように構成された、条項6に従属する条項7に記載の流体ハンドリング構造。
9.前記複数の開口は、複数の閉じた経路に沿って配置され、各閉じた経路が他の閉じた経路から径方向に離間する、条項7又は条項8に記載の流体ハンドリング構造。
10.前記ヒータは、前記複数の開口から出力された流体を加熱するように構成されたギャップ流体ヒータを備え、該ギャップ流体ヒータは、前記複数の閉じた経路のうちの第1の経路に沿った前記複数の開口に、前記複数の閉じた経路のうちの第2の経路に沿った前記複数の開口に提供される流体と温度が異なる流体を提供するように構成される、条項9に記載の流体ハンドリング構造。
11.前記第1の閉じた経路が前記第2の閉じた経路の径方向外側にあり、前記第1の閉じた経路に沿った前記複数の開口に供給される流体の温度が前記第2の閉じた経路に沿った前記複数の開口に供給される流体の温度よりも高い、条項10に記載の流体ハンドリング構造。
12.前記ギャップ流体ヒータが少なくとも2つの異なる閉じた経路に沿って配置された複数の開口に同じ温度の流体を提供するように構成された、条項5から11のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
13.前記開口が連続的なスリットを有するか又は複数の開口である、条項4から12のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
14.前記構造からの前記流体フローが液体を含む、条項1から13のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
15.前記構造からの前記流体フローが気体を含み、前記流体が液体を含む場合、前記液体流体フローは、前記気体流体フローとは異なる前記流体ハンドリング構造の開口を通して供給される、条項1から14のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
16.前記対向面の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御するように構成された制御システムを備える、条項1から15のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
17.前記制御システムは、前記対向面の複数の異なる位置における前記対向面の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御するように構成される、条項16に記載の流体ハンドリング構造。
18.前記制御システムは、複数の異なる時間における前記対向面の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御するように構成される、条項16又は17に記載の流体ハンドリング構造。
19.センサに隣接する前記対向面の部分の温度を測定するように構成されたセンサを含み、前記制御システムが前記センサから出力される前記対向面の温度の測定値に基づいて前記ヒータからの出力するように構成された、条項16から18のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
20.前記ヒータが赤外線レーザを備える、条項1から19のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
21.リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、該構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、センサの下の前記対向面の部分の温度を測定するセンサを備える、流体ハンドリング構造。
22.前記センサが前記空間の周囲の閉鎖ループに配置された複数の要素を備える、条項21に記載の流体ハンドリング構造。
23.リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、且つ、該空間における該対向面との該液浸流体の接触面積が9500mm2より大きくなるように構成された、流体ハンドリング構造。
24.リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、且つ、所与の時間に放射にさらすことができる基板の面積に対する該空間における該対向面との該液浸流体の接触面積の比率が60よりも大きくなるように構成された、流体ハンドリング構造。
25.450mmの直径を有する基板を露光するように構成されたリソグラフィ装置と併用するように構成された、条項23又は24に記載の流体ハンドリング構造。
26.前記対向面が放射を感知する基板の表面を備える、条項1から25のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
27.前記対向面が前記基板を支持する基板テーブルの表面を備える、条項1から26のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
28.前記対向面が前記基板テーブルによって支持されるセンサの表面を備える、条項1から27のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
29.前記対向面がセンサを支持するテーブルの表面を備える、条項1から28のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
30.条項1から29のいずれかに記載の前記流体ハンドリング構造を備える、液浸リソグラフィ装置。
31.リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら、前記流体ハンドリング構造に対して前記対向面を移動させるステップと、
ヒータを用いて、該ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱するステップと、
を含み、
前記ヒータは、前記構造から前記対向面上への流体フローを加熱する流体ヒータを備え、該加熱された流体フローが前記部分を加熱する、方法。
32.リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら流体ハンドリング構造に対して対向面を移動させるステップと、
ヒータを用いて前記ヒータに隣接する対向面の部分を加熱するステップと、
を含み、
前記ヒータは、前記空間の周囲の閉じた経路内に配置された複数の要素を備える、方法。
33.リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら、流体ハンドリング構造に対して対向面を移動させるステップと、
前記流体ハンドリング構造の一部を形成するセンサを用いて前記少なくとも1つのセンサの下の対向面の部分の温度を測定するステップと、
を含む方法。
34.リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら、前記流体ハンドリング構造に対して前記対向面を移動させるステップと、を含み、
前記構造が、前記空間における前記対向面との前記液浸流体と接触面積が9500mm2より大きくなるように構成された、方法。
35.リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら、前記流体ハンドリング構造に対して前記対向面を移動させるステップと、を含み、
前記構造が、所与の時間に放射にさらすことができる基板の面積に対する前記空間における前記対向面との前記液浸流体の接触面積の比率が60よりも大きくなるように構成された、方法。
Claims (14)
- リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、該構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、
ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱するヒータを備え、
さらに、前記構造の内部に配置された流体ヒータを備え、
前記流体ヒータは、前記構造内で流体と接触し、
前記流体ヒータは、加熱された流体が前記構造から前記対向面上の開口を通って流れ、前記部分を加熱するように、前記構造内で流体を加熱する、流体ハンドリング構造。 - リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、該構造は、投影システムの最終要素と対向面との間の空間に、該構造に対する該対向面の移動中、液浸流体を閉じ込めるように構成され、該構造は、
ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱するヒータを備え、
さらに、前記構造の内部に配置された流体ヒータを備え、
前記流体ヒータは、前記構造内で流体と接触し、
前記流体ヒータは、加熱された流体が前記空間の周囲の閉じた経路内に配置された複数の開口を通り、前記構造から流出するように、前記構造内で流体を加熱する、流体ハンドリング構造。 - 前記センサに隣接する前記対向面の部分の温度を測定するセンサをさらに備える、請求項1又は2に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記対向面に向き合い且つ開口を有する流体閉じ込め表面を備える、請求項1から3のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記開口は、閉じた経路に配置される、請求項4に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記開口は、複数の開口である、請求項4又は5に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記複数の開口は、複数の閉じた経路に沿って配置され、各閉じた経路が他の閉じた経路から径方向に離間する、請求項6に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記ヒータは、前記複数の開口から出力された流体を加熱する流体ヒータを備え、該流体ヒータは、前記複数の閉じた経路のうちの第1の経路に沿った前記複数の開口に、前記複数の閉じた経路のうちの第2の経路に沿った前記複数の開口に提供される流体とは温度が異なる流体を提供する、請求項7に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記構造からの前記流体は気体を含み、
前記流体が液体を含む場合、該液体流体は、気体流体とは異なる流体ハンドリング構造の開口を通して供給される、請求項1から8のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。 - 前記対向面の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御する制御システムを備える、請求項1から9のいずれかに記載の流体ハンドリング構造。
- 前記制御システムは、前記対向面の複数の異なる位置における前記対向面の複数の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御する、請求項10に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記制御システムは、複数の異なる時間における前記対向面の複数の温度測定値に基づいて前記ヒータからの出力を制御する、請求項10又は11に記載の流体ハンドリング構造。
- 請求項1から12のいずれかに記載の前記流体ハンドリング構造を備える液浸リソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を操作する方法であって、
流体ハンドリング構造によって投影システムの最終要素と対向面との間の空間に閉じ込められた液浸液を通してパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記液浸液の閉じ込めを維持しながら、前記流体ハンドリング構造に対して前記対向面を移動させるステップと、
ヒータを用いて該ヒータに隣接する前記対向面の部分を加熱するステップであって、該ヒータが前記流体ハンドリング構造の内部に配置された流体ヒータを備え、該流体ヒータが前記流体ハンドリング構造内で流体と接触し、該流体ヒータが、加熱された流体が前記構造から前記対向面上の開口を通って流れ、前記部分を加熱するように、前記構造内で流体を加熱する、ステップと、
を含む、方法。
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