JP6078409B2 - 窒化リチウムの製造方法 - Google Patents
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Description
また、特許文献2(特開2002−3209号公報)には、窒素雰囲気下、0.4℃/min〜7.0℃/minの昇温速度で、50℃〜110℃まで金属リチウムを加熱する工程を有する窒化リチウムの製造方法が開示されている。
表面に酸素を含有する粒子状物質を有する金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、上記金属リチウムと上記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程を含む、窒化リチウムの製造方法であって、
上記金属リチウムは、上記金属リチウムの表面にマイクロクラックを有し、酸素を含有する上記粒子状物質が上記マイクロクラック部分に析出しているものであり、
上記金属リチウムが上記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、上記マイクロクラックは炭素と酸素を含む上記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法が提供される。
金属リチウムの表面にマイクロクラックを形成する工程と、
上記マイクロクラックが形成された上記金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、上記金属リチウムと上記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程と、
を含む、窒化リチウムの製造方法であって、
上記金属リチウムが上記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、上記マイクロクラックは炭素と酸素を含む上記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法が提供される。
まず、本発明に係る第1の実施形態の窒化リチウムの製造方法について説明する。
第1の実施形態の窒化リチウムの製造方法は、表面に酸素を主成分とする粒子状物質を有する金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、上記金属リチウムと上記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程を含んでいる。
炭素と酸素を構成成分とする上記皮膜は、通常は炭酸リチウムが主要物質であり、酸化リチウムを含むこともある。金属リチウム表面の炭素と酸素を構成成分とする上記皮膜は前述したようにリチウム箔の癒着などを防ぐ効果がある一方で、窒化の進行を抑制する作用があるため、酸素濃度や露点が適正に管理された雰囲気で製造された金属リチウムは、窒素ガス雰囲気下で加熱しても窒化反応は進行しないと考えられる。
また、このような金属リチウムに傷を加えても、傷の表面には速やかに酸化皮膜が形成され窒素との結合を阻害すると考えられる。
例えば、酸素濃度は好ましくは0.2ppm以上20ppm以下、より好ましくは0.5ppm以上15ppm以下の範囲内である。水分濃度は好ましくは50ppm以上1,000ppm以下、より好ましくは300ppm以上800ppm以下の範囲内である。雰囲気温度は好ましくは10℃以上50℃以下、より好ましくは15℃以上40℃以下の範囲内である。このような雰囲気に金属リチウムを保持する時間は、好ましくは10分間以上12時間以下、より好ましくは15分間以上3時間以下である。
また、酸素を主成分とする上記粒子状物質の粒子径は特に限定されないが、通常は0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である。
また、前述したように、金属リチウムの表面には炭素と酸素を含む皮膜が形成されており、上記マイクロクラックは、通常は炭素と酸素を含む上記皮膜に形成されている。
窒素ガス中の酸素濃度と水分濃度は低いほど好ましい。窒素ガス中の酸素濃度や水分濃度が高くなると金属リチウムは著しく酸化腐食し、窒化リチウムの形成を阻害するだけでなく、窒化リチウムに酸化リチウムや水酸化リチウムの混入を引き起こしてしまうからである。
具体的には、窒素ガス中の酸素濃度は100ppm以下が好ましく、60ppm以下がより好ましい。また、窒素ガス中の水分濃度は1000ppm以下が好ましく、500ppm以下がより好ましい。さらに、露点は−50℃以下が好ましく、−60℃以下がより好ましい。
また、窒素ガスの純度は、99.99%以上が好ましい。
つぎに、本発明に係る第2の実施形態の窒化リチウムの製造方法について説明する。
第2の実施形態の窒化リチウムの製造方法は、金属リチウムの表面にマイクロクラックを形成する工程と、上記マイクロクラックが形成された上記金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、上記金属リチウムと上記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程と、とを含んでいる。
例えば、酸素濃度は好ましくは0.2ppm以上20ppm以下、より好ましくは0.5ppm以上15ppm以下の範囲内である。水分濃度は好ましくは50ppm以上1,000ppm以下、より好ましくは300ppm以上800ppm以下の範囲内である。雰囲気温度は好ましくは10℃以上50℃以下、より好ましくは15℃以上40℃以下の範囲内である。このような雰囲気に金属リチウムを保持する時間は、好ましくは10分間以上12時間以下、より好ましくは15分間以上3時間以下である。
また、金属リチウムの表面には炭素と酸素を含む皮膜が形成されており、上記マイクロクラックは、通常は炭素と酸素を含む上記皮膜に形成されている。
以下、参考形態の例を付記する。
1.
表面に酸素を主成分とする粒子状物質を有する金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、前記金属リチウムと前記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程を含む、窒化リチウムの製造方法。
2.
1.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムは、前記金属リチウムの表面にマイクロクラックを有し、酸素を主成分とする前記粒子状物質が前記マイクロクラック部分に析出しているものである、窒化リチウムの製造方法。
3.
2.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記マイクロクラックのクラック幅が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。
4.
2.または3.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが前記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、前記マイクロクラックは炭素と酸素を含む前記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法。
5.
1.乃至4.いずれか一つに記載の窒化リチウムの製造方法において、
酸素を主成分とする前記粒子状物質が、酸化リチウムおよび水酸化リチウムから選択される少なくとも一方を含む、窒化リチウムの製造方法。
6.
1.乃至5.いずれか一つに記載の窒化リチウムの製造方法において、
酸素を主成分とする前記粒子状物質の粒子径が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。
7.
1.乃至6.いずれか一つに記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが箔状である、窒化リチウムの製造方法。
8.
金属リチウムの表面にマイクロクラックを形成する工程と、
前記マイクロクラックが形成された前記金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、前記金属リチウムと前記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程と、
を含む、窒化リチウムの製造方法。
9.
8.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記マイクロクラックのクラック幅が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。
10.
8.または9.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが前記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、前記マイクロクラックは炭素と酸素を含む前記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法。
11.
10.に記載の窒化リチウムの製造方法において、
マイクロクラックを形成する前記工程では、
酸素濃度が0.2ppm以上20ppm以下の範囲内であり、水分濃度が50ppm以上1000ppm以下の範囲内である雰囲気下に、前記金属リチウムを保持して、炭素と酸素を含む前記皮膜を増加させることにより、前記金属リチウムの表面に前記マイクロクラックを形成する、窒化リチウムの製造方法。
12.
8.乃至11.いずれか一つに記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが箔状である、窒化リチウムの製造方法。
酸素濃度0.1ppm以下、水分濃度1ppm(露点−76℃)以下に制御したアルゴングローブボックス内で、50mm×50mmに金属リチウム箔(電池グレード、純度99.5%、厚さ0.5mm)を切断した。次いで、内容積1000mlのセパラブルフラスコに金属リチウム箔を入れた。セパラブルフラスコのフタを取り付けた後でクランプを使用して締め付けた。セパラブルフラスコのフタには雰囲気ガス導入用のバルブ付き配管を2式取り付けた。セパラブルフラスコをアルゴングローブボックスから取り出し、マントルヒーターに設置した。セパラブルフラスコのフタに取り付けておいたバルブ付き配管の一つに雰囲気ガス導入配管を、もう一つにガス排気用配管を接続した。
アルゴングローブボックスからセパラブルフラスコを取り出した後、雰囲気ガス導入配管からセパラブルフラスコに酸素濃度1ppm、水分濃度560ppm(露点−26℃)のArガスを500ml/分で導入しながら20℃、30分間放置した。導入したArガスはガス排気配管からセパラブルフラスコの外部に放出した。
セパラブルフラスコから金属リチウム箔を取り出し、その小片を大気に触れないようにアルゴン雰囲気制御風袋を介して走査型電子顕微鏡にセットし、金属リチウム箔の表面状態の観察とエネルギー分散型蛍光分析(EDX)装置によりCおよびOの分析を行なった。
図1に、実施例1の金属リチウム箔表面の電子顕微鏡写真を示す。また、図2に、図1に示す実施例1の金属リチウム箔表面の拡大図を示す。
図1および図2に示すように、金属リチウムの表面には、一方向に伸びる多数のマイクロクラックとマイクロクラック内に析出した粒子径が0.05μm〜0.3μmの粒子状物質が観察された。
また、EDXにより、図2に示す金属リチウムのマトリックスに相当する部位Aおよび粒子状物質である部位BについてEDXを行い、CおよびOの分析を行なった。
部位Aには、CとOが検出され金属リチウムの表面にはきわめて薄い炭酸リチウムや酸化リチウムなどからなる皮膜があることが確認できた。なお、Cが22質量%、Oが78質量%検出された。
また、粒子状物質である部位BはOのみが検出され、酸化リチウムまたは水酸化リチウムが生成していることが確認できた。
得られた金属リチウム箔をセパラブルフラスコに入れた後、再度アルゴングローブボックスから取り出し、雰囲気ガス導入配管に窒素ガス配管を接続し、窒素ガス導入配管からセパラブルフラスコに酸素濃度1ppm、水分濃度63ppm(露点−46℃)の窒素ガスを500ml/分で導入しながら50℃、60分間加熱した。セパラブルフラスコのガス排気用配管から窒素ガスを排出した。
金属リチウム箔は、急速に黒色から紫色に変化し、X線回折装置(XRD)を用いたX線回折から窒化リチウム(Li3N)が生成していることを確認した。
金属リチウムの前処理条件および窒化反応の条件を表1に示す条件に変更した以外は実施例1と同様にして窒化リチウムの製造をおこなった。
また、実施例1と同様に、金属リチウム箔は急速に黒色から紫色に変化し、X線回折装置(XRD)を用いたX線回折から窒化リチウムが生成していることを確認した。
金属リチウムの前処理条件および窒化反応の条件を表1に示す条件に変更した以外は実施例1と同様にして窒化リチウムの製造をおこなった。
図3に比較例1の金属リチウム箔表面の電子顕微鏡写真を示す。比較例1の金属リチウム箔の表面は平滑であり、特別な析出物は認められなかった。
また、EDXにより、図3に示す金属リチウムの部位CについてEDXを行い、CおよびOの分析を行なった。
部位Cには、CとOが検出され金属リチウムの表面にはきわめて薄い炭酸リチウムや酸化リチウムなどからなる皮膜があることが確認できた。なお、Cが24質量%、Oが76質量%検出された。
金属リチウムの前処理条件および窒化反応の条件を表1に示す条件に変更した以外は実施例1と同様にして窒化リチウムの製造をおこなった。
比較例1と同様に、比較例2および3の金属リチウム箔の表面も平滑であり、特別な析出物は認められなかった。また、窒化反応後の金属リチウム箔は、変色がなく、X線回折からリチウムのままであること確認した。
Claims (9)
- 表面に酸素を含有する粒子状物質を有する金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、前記金属リチウムと前記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程を含む、窒化リチウムの製造方法であって、
前記金属リチウムは、前記金属リチウムの表面にマイクロクラックを有し、酸素を含有する前記粒子状物質が前記マイクロクラック部分に析出しているものであり、
前記金属リチウムが前記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、前記マイクロクラックは炭素と酸素を含む前記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項1に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記マイクロクラックのクラック幅が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項1または2に記載の窒化リチウムの製造方法において、
酸素を含有する前記粒子状物質が、酸化リチウムおよび水酸化リチウムから選択される少なくとも一方を含む、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項1乃至3いずれか一項に記載の窒化リチウムの製造方法において、
酸素を含有する前記粒子状物質の粒子径が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項1乃至4いずれか一項に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが箔状である、窒化リチウムの製造方法。 - 金属リチウムの表面にマイクロクラックを形成する工程と、
前記マイクロクラックが形成された前記金属リチウムを窒素ガス中で保持することにより、前記金属リチウムと前記窒素ガスとを反応させて窒化リチウムを生成する工程と、
を含む、窒化リチウムの製造方法であって、
前記金属リチウムが前記金属リチウムの表面に炭素と酸素を含む皮膜を有し、前記マイクロクラックは炭素と酸素を含む前記皮膜に形成されている、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項6に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記マイクロクラックのクラック幅が0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項6または7に記載の窒化リチウムの製造方法において、
マイクロクラックを形成する前記工程では、
酸素濃度が0.2ppm以上20ppm以下の範囲内であり、水分濃度が50ppm以上1000ppm以下の範囲内である雰囲気下に、前記金属リチウムを保持して、炭素と酸素を含む前記皮膜を増加させることにより、前記金属リチウムの表面に前記マイクロクラックを形成する、窒化リチウムの製造方法。 - 請求項6乃至8いずれか一項に記載の窒化リチウムの製造方法において、
前記金属リチウムが箔状である、窒化リチウムの製造方法。
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