JP6071916B2 - 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム - Google Patents
紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6071916B2 JP6071916B2 JP2014020564A JP2014020564A JP6071916B2 JP 6071916 B2 JP6071916 B2 JP 6071916B2 JP 2014020564 A JP2014020564 A JP 2014020564A JP 2014020564 A JP2014020564 A JP 2014020564A JP 6071916 B2 JP6071916 B2 JP 6071916B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- energy
- laser system
- parameter
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 claims description 21
- 230000006870 function Effects 0.000 description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 13
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 11
- 230000009471 action Effects 0.000 description 8
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000012549 training Methods 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000012905 input function Methods 0.000 description 1
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001755 vocal effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
関連出願への相互参照
本出願は、2007年9月11日出願の米国特許出願出願番号第11/900、527号に対する優先権を請求するものであり、かつ2006年11月9日に公開の公開番号第20060251135号である2006年7月6日出願の「2チャンバ式ガス放電レーザシステムのためのタイミング制御」という名称の米国特許出願出願番号第11/482、339号に関し、2006年8月6日に公開の公開番号第20060146900号である2006年12月29日出願の「放電タイミングによる多チャンバガス放電レーザ帯域幅制御」という名称の米国特許出願第11/323、604号にも関し、これらの特許の開示内容は、本明細書においてこの引用により組み込まれる。
例示的なエネルギコントローラの目的は、各パルスの測定レーザシステム出力パルスエネルギ又は選択した数のパルスにわたって、例えば、所定のバースト内で平均化されたパルスエネルギを指定の設定値(例えば、10mJ)で一定に保つことであるが、パルスエネルギは、選択した設定値から変動する可能性があることが多い。Cymer、Inc.により販売されているXLAシリーズレーザシステムのような本出願人の譲受人のレーザシステムに過去に現れたようなエネルギ制御システムの場合、このようなエネルギ制御は、以前のパルスからのエネルギ誤差から計算されるパルス電力サブシステムに指令する電圧を計算する(例えば、レーザシステム出力シャッターでの測定シャッターエネルギからエネルギ設定値を引く)ことによって達成することができたと考えられる。このようなシステムは、図1に示しており、かつ各々が測定エネルギE測定を有することができるパルス24のレーザビームを出力するレーザ22と、レーザ22への、より具体的には、レーザのためのタイミング及びエネルギコントローラへの、又は直接に共振充電器へのような放電電圧システムへの電圧指令信号V指令を生成するアルゴリズムを実行することができるエネルギコントローラサーボ36に対してE測定からエネルギ設定値E設定値を引いて「エネルギ誤差」E誤差を供給するための加算器32を含むことができるコントローラ30とを有するレーザシステム20を収容することができる。代替的に、サーボ36は、タイミング及びエネルギコントローラ又はレーザシステムの一部であり、かつレーザシステム20によって生成されるレーザパルスのビームにおける次回放電生成レーザパルスに向けてレーザ内の電極の間で送出される電圧を制御するために当業技術で公知の固体スイッチ式パルス電力システム(SSPPM)にV指令信号を供給することができる。トリガ信号は、例えば、レーザタイミング及びエネルギコントローラか、又は何らかの外部ソース、例えば、集積回路フォトリソグラフィシステム、例えば、スキャナ、又は薄膜トランジスタ結晶化システム又はレーザ生成プラズマ極紫外線光源プラズマ発生システムのような光を使用する応用システム上のコントローラをトリガする光源により生成することができる。個別のトリガ信号は、レーザにより受信することができ、又は信号発射の望ましい時間を受信することができ、これは、他の以前のトリガ信号又は信号発射の望ましい時間と共に、トリガ間隔を定めるために使用することができる。しかし、このようなトリガ間隔は、レーザタイミング及びエネルギ制御システム又は外部ソースによって生成されるトリガ信号のタイミングに従って随時又は長期にわたって変動する場合がある。
x軸は、秒単位である。負荷サイクルは、第1のパターン40の5%から連続的に毎回2.5%の等しい増分で最終パターン40の40%まで増大している。
緩やかに変化するレーザ効率の負荷サイクルに基づく変化が、図示のように観測されており、オフセット線42に示されている。この影響は、エネルギコントローラサーボ、例えば、図1のサーボ36が望ましいエネルギオフセット線までこれを実質的に平坦化し、すなわち、望ましいパルスエネルギ設定値を維持することができるほど十分にゆっくりとしたものである(数分の程度)。
入力:トリガ間隔(次回パルスのための)、例えば、前と同様にレーザシステム20内のレーザ22を制御するためにも使用される次回パルスまでの全てのパルスの履歴、
エネルギ誤差及びdEdV推定値(例えば、以前のバースト又は直前のバースト内のパルス1に対して図1のコントローラ30及びサーボ36によって供給される時の)、例えば、最終バーストまでの各バーストの第1のパルスの履歴。
出力:電圧指令(例えば、次回バーストに向けてパルス1に対する)、次回バースト内の第1のパルスに対して電圧及び従ってパルスエネルギを制御するのに使用される。
DC(i+1) = (DC(i) + e-Tmin/τ -1) * e-TrigInt/τ
ここで、DCは、負荷サイクルであり、iは、離散時間指数であり、Triglntは、例えば単チャンバレーザシステムにおける又は例えばシードレーザ/増幅器レーザシステムに対してはチャンバの1つにおけるトリガ間隔、例えば、レーザの最終発射(電極間の放電)と現在の発射との間の時間であり、τは、秒単位の負荷サイクル窓サイズであり、Tminは、基準100%負荷サイクルに対する最小時間、例えば、4kHzレーザシステムに対して、1/繰返し数最大=1/4000Hz=250μsecである。
この曲線はまた、忘却因子(λ)を同じく使用する再帰的最小自乗公式を用いて当て嵌めることができる。このような再帰的最小自乗法の判断基準は、開示する内容の実施形態の態様により以下のように修正することができる。
推定値は、以下の方程式を使用して計算することができる。
ε(t) = (ε(t) ‐ Etarget)/ dε/dV
に等しく、y(t)は、第1のパルスの電圧(VFP)に等しい出力[1x1]であり、φ(t)は、回帰ベクトル[2x1]であり、かつ
Tは、例えば以下のような行列転置演算子を構成する。
Vfeedforward=f(トリガ間隔)
このようなモデルは、以下のようないくつかの部分集合の関数表現に分けることができる。
Vfeedforward=f(DC)
DC=g(トリガ間隔)
バーストのフィードフォワード部分の電圧は、次に、トリガ間隔の関数として判断することができる。このモデルでは、例えば、一定エネルギを生成するのに必要とされるトリガ間隔と電圧の間の何らかの反復可能な関係を仮定することができる。これは、例えば、最初の出荷前試験中に同じレーザシステムを使用して、又は試験からの実験データからの一連のレーザに対して、又はレーザシリーズ内の類似のレーザの多くの出荷前試験を用いて判断することができるが、所定のレーザに対して更新する(適応させる)こともできる。
適応アルゴリズムは、例えば、アルゴリズムが新しい情報の方を重視して古い情報を軽視又は恐らくは全く重視しないことを可能にすることができる忘却関数を組み込むことができる。代替的に、アルゴリズムは、以前の入力、例えば、トリガ間隔入力からの情報のいずれも忘却しないとすることができる。
一方、(DC[k]−DC[k−1])の絶対値が公差EnergyFFDutyCycleToleranceよりも小さい場合、以下を実施することができる。
エネルギフィードフォワードEnergyFeedForwardの値、すなわち、電圧指令信号は、以下のように計算することができる。
バーストの第1の発射に対して、次に、フィードフォワード値V指令は、デルタを保持する値をゼロに設定して、内部DCオフセット値+内部DC勾配値DCSlopelnternalxエネルギ負荷サイクル値に設定することができる。
図10は、電圧指令信号V指令がコントローラ30’により利用されて、レーザ内の電極(図示せず)に望ましい選択した電圧を送出してそれぞれのレーザ22出力パルス24の出力エネルギEを維持するためにパルス電力モジュール38によって送出される電圧を制御する図9と類似のシステムを概略ブロック図の形式で示している。
22 レーザ
30’ コントローラ
E 出力パルスエネルギ
V 電圧指令V指令
Claims (20)
- パルスのバースト内における初期パルスの出力パルスエネルギを制御するためのガス放電レーザシステムエネルギコントローラであって、
トリガ間隔を入力として用いてフィルタリング後のパラメータを計算するシステムを含み、
前記システムは、前記フィルタリング後のパラメータと、複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧と、の関係を定義する曲線に当てはめられたパラメータをも計算し、かつ、前記曲線に当てはめられたパラメータ及び現在のフィルタリング後のパラメータを用いて次のバーストの初期パルスの放電電圧を計算する、ガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。 - 前記フィルタリング後のパラメータは、非パルスエネルギのレーザパラメータ性能測定基準に基づいて更新される1又は2以上の係数を有する適応モデルを用いて計算されるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、非適応モデルを用いて計算されるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、デューティサイクル(duty cycle)である、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧と線形関係を有するように選択されるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、最小自乗解析を用いて決定されるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、再帰的最小自乗解析を用いて決定されるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、忘却因子を用いて決定されるものである、請求項7に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータを計算するために入力として用いられる、前記トリガ間隔及び複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧は、次のバーストの初期パルスのための放電電圧が計算されるのと同じレーザシステムから得られるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータを計算するために入力として用いられる、前記トリガ間隔及び複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧は、複数のレーザシステムから得られるものである、請求項1に記載のガス放電レーザシステムエネルギコントローラ。
- ガス放電レーザシステムにおけるパルスバーストの初期パルスの出力パルスエネルギを制御するための方法であって、
入力としてトリガ間隔を用いてフィルタリング後のパラメータを計算するステップと、
前記フィルタリング後のパラメータと、複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧と、の関係を定義する曲線に当てはめられたパラメータを計算するステップと、
前記曲線に当てはめられたパラメータと現在のフィルタリング後のパラメータを用いて、次のバーストの初期パルスのための放電電圧を計算するステップと、
を具備する、方法。 - 前記フィルタリング後のパラメータは、非パルスエネルギレーザの性能測定基準に基づいて更新される1又は2以上の係数を有する適応モデルを用いて計算されるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、非適応モデルを用いて計算されるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、デューティサイクル(duty cycle)である、請求項11に記載の方法。
- 前記フィルタリング後のパラメータは、複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧と線形関係を有するように選択されるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、最小自乗解析を用いて決定されるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、再帰的最小自乗解析を用いて決定されるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータは、忘却因子を用いて決定されるものである、請求項17に記載の方法。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータを計算するために入力として用いられる、前記トリガ間隔及び複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧は、次のバーストの初期パルスのための放電電圧が計算されるのと同じレーザシステムから得られるものである、請求項11に記載の方法。
- 前記曲線に当てはめられたパラメータを計算するために入力として用いられる、前記トリガ間隔及び複数の以前のバーストの初期パルスで一定のパルスエネルギを維持するために必要な放電電圧は、複数のレーザシステムから得られるものである、請求項11に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/900,527 | 2007-09-11 | ||
US11/900,527 US7830942B2 (en) | 2007-09-11 | 2007-09-11 | Ultraviolet laser light source pulse energy control system |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010524852A Division JP2010539703A (ja) | 2007-09-11 | 2008-09-10 | 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014078765A JP2014078765A (ja) | 2014-05-01 |
JP6071916B2 true JP6071916B2 (ja) | 2017-02-01 |
Family
ID=40431765
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010524852A Pending JP2010539703A (ja) | 2007-09-11 | 2008-09-10 | 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム |
JP2014020564A Active JP6071916B2 (ja) | 2007-09-11 | 2014-02-05 | 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010524852A Pending JP2010539703A (ja) | 2007-09-11 | 2008-09-10 | 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7830942B2 (ja) |
JP (2) | JP2010539703A (ja) |
KR (1) | KR101539958B1 (ja) |
TW (1) | TWI382619B (ja) |
WO (1) | WO2009035608A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8872123B2 (en) * | 2013-01-10 | 2014-10-28 | Asml Netherlands B.V. | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
TWI618453B (zh) * | 2013-01-10 | 2018-03-11 | Asml荷蘭公司 | 用以調整雷射光束脈衝時序以調節極端紫外光劑量之方法及系統 |
US10816905B2 (en) * | 2015-04-08 | 2020-10-27 | Cymer, Llc | Wavelength stabilization for an optical source |
US9939732B2 (en) * | 2015-10-27 | 2018-04-10 | Cymer, Llc | Controller for an optical system |
US11081852B2 (en) * | 2017-04-24 | 2021-08-03 | Cymer, Llc | Laser light energy and dose control using repetition rate based gain estimators |
CN115210970A (zh) * | 2020-03-03 | 2022-10-18 | 西默有限公司 | 用于光源的控制系统 |
JPWO2023007685A1 (ja) * | 2021-07-29 | 2023-02-02 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR900000836B1 (ko) * | 1986-03-28 | 1990-02-17 | 금성전선 주식회사 | Co2의 레이저의 전원장치 제어회로 |
JP3315556B2 (ja) * | 1994-04-27 | 2002-08-19 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置 |
US5982800A (en) | 1997-04-23 | 1999-11-09 | Cymer, Inc. | Narrow band excimer laser |
US6625191B2 (en) * | 1999-12-10 | 2003-09-23 | Cymer, Inc. | Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system |
US6865210B2 (en) | 2001-05-03 | 2005-03-08 | Cymer, Inc. | Timing control for two-chamber gas discharge laser system |
US7039086B2 (en) | 2001-04-09 | 2006-05-02 | Cymer, Inc. | Control system for a two chamber gas discharge laser |
US6690704B2 (en) * | 2001-04-09 | 2004-02-10 | Cymer, Inc. | Control system for a two chamber gas discharge laser |
US7830934B2 (en) | 2001-08-29 | 2010-11-09 | Cymer, Inc. | Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing |
JP3957517B2 (ja) * | 2002-01-28 | 2007-08-15 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及びその制御方法 |
US7852889B2 (en) | 2006-02-17 | 2010-12-14 | Cymer, Inc. | Active spectral control of DUV light source |
-
2007
- 2007-09-11 US US11/900,527 patent/US7830942B2/en active Active
-
2008
- 2008-09-10 TW TW097134662A patent/TWI382619B/zh active
- 2008-09-10 JP JP2010524852A patent/JP2010539703A/ja active Pending
- 2008-09-10 WO PCT/US2008/010580 patent/WO2009035608A1/en active Application Filing
- 2008-09-10 KR KR1020107007124A patent/KR101539958B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-02-05 JP JP2014020564A patent/JP6071916B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7830942B2 (en) | 2010-11-09 |
TWI382619B (zh) | 2013-01-11 |
TW200922057A (en) | 2009-05-16 |
KR20100067100A (ko) | 2010-06-18 |
JP2014078765A (ja) | 2014-05-01 |
KR101539958B1 (ko) | 2015-07-28 |
US20090067457A1 (en) | 2009-03-12 |
WO2009035608A1 (en) | 2009-03-19 |
JP2010539703A (ja) | 2010-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6071916B2 (ja) | 紫外線レーザ光源パルスエネルギ制御システム | |
JP5718048B2 (ja) | レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置 | |
KR101346609B1 (ko) | 방전 타이밍을 통한 멀티 챔버 가스 방전 레이저 대역폭제어 시스템 및 그 방법 | |
TW201036294A (en) | Line narrowed high average power high pulse repetition laser micro-photolithography light source bandwidth control system and fluorine injection control system | |
US8915262B2 (en) | Mass flow controller algorithm with adaptive valve start position | |
JP6557353B2 (ja) | 光源のための波長安定化 | |
TWI625906B (zh) | 用於在氣體放電光源中之氣體最佳化的方法 | |
US9130337B1 (en) | System and method for automatic gas optimization in a two-chamber gas discharge laser system | |
US8368041B2 (en) | System and method for compensating for thermal effects in an EUV light source | |
US9832824B2 (en) | Semiconductor device | |
US8428092B2 (en) | High-power laser unit wherein laser output can be accurately corrected | |
WO2020168583A1 (zh) | 一种准分子激光脉冲能量稳定性控制方法及系统 | |
JP2006505960A5 (ja) | ||
WO2008019167A3 (en) | Output energy control for lasers | |
JP5202315B2 (ja) | 放電タイミングによる多室ガス放電レーザの帯域幅制御 | |
JP2008505447A (ja) | ダイナミックインピーダンスのリアルタイム推定を用いたdc電力供給装置 | |
JP3957517B2 (ja) | レーザ装置及びその制御方法 | |
JP3747607B2 (ja) | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置 | |
JP3763436B2 (ja) | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置及びその制御方法 | |
JP6948403B2 (ja) | 繰り返し率ベースの利得推定器を用いる改善されたレーザ光エネルギー及びドーズの制御 | |
JPH06169123A (ja) | レーザ装置の出力制御装置 | |
JP3765044B2 (ja) | エキシマレーザ装置のエネルギー制御装置 | |
US11942752B2 (en) | Method and laser system for generating output laser pulses with an optical component with temperature-dependent power efficiency and associated computer program product | |
CN114281147B (zh) | 一种光模块输出光功率自动稳定电路及方法 | |
TW200908489A (en) | Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140703 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150223 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150522 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20150622 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150623 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150723 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151207 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20160304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160714 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6071916 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |