JP6064135B2 - ボンディングウェハにmemsを取付ける方法 - Google Patents
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- ボンディングウェハにMEMSを取付ける方法であって、
前記MEMS上に付着層を形成することであって、前記付着層は、シリコン層と、該シリコン層上の第1のシリコンゲルマニウム層とを含む、前記付着層を形成すること、
前記MEMSの上方に、前記第1のシリコンゲルマニウム層上の第2のシリコンゲルマニウム層を含む第1共晶層を形成することであって、前記第1のシリコンゲルマニウム層は、前記第2のシリコンゲルマニウム層の平均ゲルマニウム濃度よりも低い平均ゲルマニウム濃度を有する、前記第1共晶層を形成すること、
チェッカーボードパターンに前記第1のシリコンゲルマニウム層および前記第1共晶層をパターン化すること、
前記ボンディングウェハの上方にアルミニウムからなる第2共晶層を形成することであって、前記第1共晶層の前記第2のシリコンゲルマニウム層のゲルマニウムおよび前記第2共晶層のアルミニウムは共晶対である、前記第2共晶層を形成すること、
前記第1共晶層および前記第2共晶層が接触した状態で熱および圧力を加えて前記MEMSと前記ボンディングウェハとの間に共晶接合を形成すること、
を含む、方法。 - 前記第1のシリコンゲルマニウム層が、漸変濃度のゲルマニウムを有する、請求項1に記載の方法。
- 漸変濃度は、前記シリコン層との境界よりも前記第1共晶層との境界において高い濃度のゲルマニウムを有することによって特徴付けられる、請求項2に記載の方法。
- 前記パターン化することが、前記第1及び第2のシリコンゲルマニウム層のエッチングを実行することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記チェッカーボードパターンが、前記第1共晶層の行および列のセグメントを含む、請求項1に記載の方法。
- MEMSをボンディングウェハに取付ける方法であって、
前記MEMSの上方にシリコンからなる支持層を形成すること、
前記支持層上に第1のシリコンゲルマニウム層を含む付着層を形成すること、
前記付着層の前記第1のシリコンゲルマニウム層上に第2のシリコンゲルマニウム層を含む第1共晶層を形成することであって、前記第1のシリコンゲルマニウム層は、前記第2のシリコンゲルマニウム層の平均ゲルマニウム濃度よりも低い平均ゲルマニウム濃度を有する、前記第1共晶層を形成すること、
前記第1及び第2のシリコンゲルマニウム層によって生じる応力を軽減するために、前記付着層および前記第1共晶層を行および列に形成された複数のセグメントを含むチェッカーボードパターンにパターン化すること、
前記ボンディングウェハの上方にアルミニウムからなる第2共晶層を形成することであって、前記第1共晶層の前記第2のシリコンゲルマニウム層のゲルマニウムおよび前記第2共晶層のアルミニウムは共晶対である、前記第2共晶層を形成すること、
前記複数のセグメントおよび前記第2共晶層で共晶接合を形成して、前記MEMSを前記ボンディングウェハに取付けること、
を含む、方法。 - 前記複数のセグメントは四角形状である、請求項6に記載の方法。
- アルミニウムからなる共晶接合形成層を有するボンディングウェハに取付けるように準備されたMEMSであって、
前記MEMSの上方にあるシリコンからなる支持層と、
前記ボンディングウェハに取付けるための、前記支持層の上方にあるチェッカーボードパターンに形成された複数のセグメントであって、
前記複数のセグメントは行および列の交互点に存在し、
前記複数のセグメントは、前記支持層の上方にある第1のシリコンゲルマニウム層と、前記第1のシリコンゲルマニウム層上に設けられ、前記共晶接合形成層のアルミニウムと共晶対であるゲルマニウムを含有する第2のシリコンゲルマニウム層とを含み、前記第1のシリコンゲルマニウム層は、前記第2のシリコンゲルマニウム層の平均ゲルマニウム濃度よりも低い平均ゲルマニウム濃度を有する、複数のセグメントと、
を備える、MEMS。
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