JP6053184B2 - Touch panel - Google Patents

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Description

本発明は、例えばスマートフォン等の多機能携帯電話や携帯型ゲーム機等に具備されたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a touch panel provided in, for example, a multi-function mobile phone such as a smartphone or a portable game machine.

例えばスマートフォンやノート型のモバイル機器は、持ち運びによりいろいろな環境で使用される。   For example, smartphones and notebook mobile devices are used in various environments by being carried around.

従来のタッチパネルは、例えば特許文献1に示すように、感知電極としてITO(酸化インジウムスズ)膜を用いるようにしている。   A conventional touch panel uses, for example, an ITO (indium tin oxide) film as a sensing electrode as disclosed in Patent Document 1.

また、従来では、平面の端を折り曲げて成形した三次多面の形状を有するタッチパネルが開示されている(特許文献2参照)。さらに、モバイル端子装置の表面、及び4つの側面にそれぞれ静電式タッチセンサが設けられた立方体形状の情報処理装置も開示されている(特許文献3参照)。   Conventionally, a touch panel having a tertiary polyhedral shape formed by bending an end of a plane has been disclosed (see Patent Document 2). Furthermore, a cube-shaped information processing device in which electrostatic touch sensors are provided on the surface and four side surfaces of the mobile terminal device is also disclosed (see Patent Document 3).

特開2009−259003号公報JP 2009-259003 A 特開2001−154592号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-154592 特開2010−262557号公報JP 2010-262557 A

ところで、タッチパネルの低湿度環境での使用は、静電気による帯電や蓄電による放電現象が発生する。それらはノイズとなって静電容量方式の感知電極部分に混入し、誤動作やセンサーの静電破壊といった故障を引き起こすことがあった。   By the way, when the touch panel is used in a low humidity environment, charging due to static electricity or discharging due to electricity storage occurs. They may become noise and enter the capacitive sensing electrode portion, causing malfunctions such as malfunction and electrostatic breakdown of the sensor.

これに対して、筐体部分にシールド用の金属部材を使用したり、センサー基板上にシールドラインを設けてノイズ混入の影響を低減しようという対策が施されてきたが、金属材料はシステム全体の重量を増してしまい、また、部品代も高くつくため、使用用途が限定されていた。   On the other hand, measures have been taken to reduce the influence of noise contamination by using a shielding metal member for the housing part or providing a shield line on the sensor board. Since the weight is increased and the cost of parts is high, the usage is limited.

また、センサー基板上のシールドラインも十分にノイズを除去するためには、広い面積のシールド層が必要で、限られた面積のものでは、いずれも十分にシールド効果を発揮できるものではなかった。   Further, the shield line on the sensor substrate also requires a large shield layer in order to sufficiently remove noise, and none of the shield lines with a limited area can sufficiently exhibit the shielding effect.

特に、特許文献2に記載の三次多面の形状を有するタッチパネルや、特許文献3に記載の複数の面にそれぞれ静電式タッチセンサが設けられた情報処理装置においては、タッチパネル毎のシールドのほか、隣接するタッチパネル間のシールドも必要になり、シールドラインの形成が複雑になる。   In particular, in a touch panel having a third-order polyhedral shape described in Patent Document 2 and an information processing apparatus in which electrostatic touch sensors are provided on a plurality of surfaces described in Patent Document 3, in addition to a shield for each touch panel, Shielding between adjacent touch panels is also necessary, and the formation of shield lines is complicated.

本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、2つ以上の面にタッチパネル部を有するタッチパネルにおいて、各タッチパネル部のタッチ面の面積を確保しながら、シールド効果も得ることができるタッチパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problem, and in a touch panel having touch panel portions on two or more surfaces, a touch panel capable of obtaining a shielding effect while securing the area of the touch surface of each touch panel portion. The purpose is to provide.

[1] 本発明に係るタッチパネルは、電子機器の複数の面のうち、少なくとも電子機器の主面と、該主面に隣接する1以上の側面とにそれぞれ設置される複数のタッチパネル部を有し、複数のタッチパネル部は、それぞれ複数の感知電極を有し、複数の感知電極は、複数のタッチパネル部において共通とされた可撓性基板上に形成され、可撓性基板上の、電子機器の稜線に対応する部分の少なくとも一部にシールド膜が配置されていることを特徴とする。 [1] A touch panel according to the present invention has a plurality of touch panel units respectively installed on at least a main surface of an electronic device and at least one side surface adjacent to the main surface among a plurality of surfaces of the electronic device. The plurality of touch panel units each have a plurality of sensing electrodes, and the plurality of sensing electrodes are formed on a flexible substrate common to the plurality of touch panel units. A shield film is disposed on at least a part of the portion corresponding to the ridgeline.

ここで、電子機器の稜線は、電子機器の主面と側面とで共有する辺、隣接する2つの側面で共有する辺を指す。辺は直線、曲線を含む。また、シールド膜には一定電位が印加される場合と、グランド接続される場合、フローティングの場合がある。   Here, the ridge line of the electronic device indicates a side shared by the main surface and the side surface of the electronic device and a side shared by two adjacent side surfaces. The side includes a straight line and a curved line. In addition, there is a case where a constant potential is applied to the shield film, a case where it is grounded, and a case where it is floating.

さらに、「可撓性基板上」とは、可撓性基板に直接感知電極が形成される場合や、可撓性基板に直接感知電極が形成されない場合を含む。また、「可撓性基板上」とは、可撓性基板に直接シールド膜が設けられる場合や、可撓性基板に直接シールド膜が設けられない場合を含む。   Furthermore, “on the flexible substrate” includes the case where the sensing electrode is directly formed on the flexible substrate and the case where the sensing electrode is not directly formed on the flexible substrate. Further, “on the flexible substrate” includes a case where the shield film is directly provided on the flexible substrate and a case where the shield film is not directly provided on the flexible substrate.

[2] 本発明において、シールド膜は、可撓性基板の2つの対向する面のうち、電子機器とは反対側の面上に配置されていてもよい。「面上に配置」とは、面に直接配置される場合や、直接配置されない場合を含む。以下同様である。 [2] In the present invention, the shield film may be disposed on a surface opposite to the electronic device among the two opposing surfaces of the flexible substrate. The “arrangement on the surface” includes a case where it is arranged directly on the surface and a case where it is not arranged directly on the surface. The same applies hereinafter.

[3] 本発明において、シールド膜は、可撓性基板の2つの対向する面のうち、電子機器に向かう面に配置されていてもよい。 [3] In the present invention, the shield film may be disposed on the surface facing the electronic device among the two opposing surfaces of the flexible substrate.

[4] 本発明において、各タッチパネル部に対応する複数の感知電極は、各タッチパネル部においてそれぞれ独立であってもよい。 [4] In the present invention, the plurality of sensing electrodes corresponding to each touch panel unit may be independent in each touch panel unit.

[5] 本発明において、可撓性基板は、シールド膜を有する側とその反対側とを電気的に接続するスルーホールを有し、該スルーホールを介して反対側に少なくとも感知電極の配線が集中していてもよい。 [5] In the present invention, the flexible substrate has a through hole that electrically connects the side having the shield film and the opposite side, and at least the wiring of the sensing electrode is connected to the opposite side through the through hole. You may concentrate.

[6] 本発明において、複数の感知電極の少なくとも1つが2以上のタッチパネル部において共通であってもよい。 [6] In the present invention, at least one of the plurality of sensing electrodes may be common to two or more touch panel units.

[7] 本発明において、複数の感知電極を覆う保護層をさらに有し、保護層にシールド膜が形成されていてもよい。 [7] In the present invention, a protective layer that covers the plurality of sensing electrodes may be further provided, and a shield film may be formed on the protective layer.

[8] 本発明において、各タッチパネル部は、複数の感知電極が形成されたセンサ領域を有し、シールド膜は、各タッチパネル部におけるセンサ領域を囲む領域にそれぞれ形成されていてもよい。 [8] In the present invention, each touch panel unit may have a sensor region in which a plurality of sensing electrodes are formed, and the shield film may be formed in a region surrounding the sensor region in each touch panel unit.

[9] 本発明において、可撓性基板に形成された複数の感知電極が、複数の第1感知電極と複数の第2感知電極とを有してもよい。 [9] In the present invention, the plurality of sensing electrodes formed on the flexible substrate may include a plurality of first sensing electrodes and a plurality of second sensing electrodes.

[10] この場合、第1感知電極及び第2感知電極は共に、可撓性基板の一方の主面に形成されていてもよい。 [10] In this case, both the first sensing electrode and the second sensing electrode may be formed on one main surface of the flexible substrate.

[11] あるいは、第1感知電極は、可撓性基板の一方の主面に形成され、第2感知電極は、可撓性基板の他方の主面に形成されていてもよい。 [11] Alternatively, the first sensing electrode may be formed on one main surface of the flexible substrate, and the second sensing electrode may be formed on the other main surface of the flexible substrate.

[12] [9]において、複数の第1感知電極と複数の第2感知電極とが、それぞれ別の可撓性基板の表面に設けられ、複数の第1感知電極が設けられた第1可撓性基板と、複数の第2感知電極が設けられた第2可撓性基板とを積層してもよい。 [12] In [9], the plurality of first sensing electrodes and the plurality of second sensing electrodes are provided on the surfaces of different flexible substrates, respectively, and the first possible electrode having the plurality of first sensing electrodes is provided. A flexible substrate and a second flexible substrate provided with a plurality of second sensing electrodes may be stacked.

[13] 本発明において、複数の感知電極が、複数の第1感知電極と複数の第2感知電極とを有し、可撓性基板の一方の主面に複数の第2感知電極が設けられ、複数の第2感知電極上に絶縁膜が設けられ、複数の第1感知電極は、絶縁膜上に形成されていてもよい。 [13] In the present invention, the plurality of sensing electrodes include a plurality of first sensing electrodes and a plurality of second sensing electrodes, and the plurality of second sensing electrodes are provided on one main surface of the flexible substrate. The insulating film may be provided on the plurality of second sensing electrodes, and the plurality of first sensing electrodes may be formed on the insulating film.

[14] 本発明において、複数の感知電極は、金属細線による多数のセルが組み合わされて構成されていてもよい。 [14] In the present invention, the plurality of sensing electrodes may be configured by combining a large number of cells made of fine metal wires.

本発明に係るタッチパネルによれば、2つ以上の面にタッチパネル部を有するタッチパネルにおいて、各タッチパネル部のタッチ面の面積を確保しながら、シールド効果も得ることができる。   According to the touch panel according to the present invention, in a touch panel having touch panel portions on two or more surfaces, it is possible to obtain a shielding effect while ensuring the area of the touch surface of each touch panel portion.

図1Aは、本実施の形態に係るタッチパネルが設置された電子機器を示す斜視図であり、図1Bはその断面図である。FIG. 1A is a perspective view showing an electronic device provided with a touch panel according to the present embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view thereof. 図2Aは本実施の形態に係るタッチパネルの要部の一例を示す断面図であり、図2Bは他の例を示す断面図である。2A is a cross-sectional view showing an example of a main part of the touch panel according to the present embodiment, and FIG. 2B is a cross-sectional view showing another example. 導電性フィルムの要部を上から見て示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of an electroconductive film seeing from the top. 図4Aは第1変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図4Bは第2変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。4A is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to a first modification, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to a second modification. 第1変形例に係るタッチパネルの導電性フィルムの要部を上から見て示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the electroconductive film of the touchscreen which concerns on a 1st modification seeing from the top. 第2変形例に係るタッチパネルの導電性フィルムの要部を上から見て示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the electroconductive film of the touchscreen which concerns on a 2nd modification seeing from the top. 第3変形例に係るタッチパネルの導電性フィルムの要部を上から見て示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the electroconductive film of the touchscreen which concerns on a 3rd modification seeing from the top. 図8Aは第4変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図8Bは第5変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図8Cは第6変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。FIG. 8A is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the fourth modification, FIG. 8B is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the fifth modification, and FIG. 8C is a touch panel according to the sixth modification. It is sectional drawing which shows the principal part. 図9Aは第7変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図9Bは第8変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。FIG. 9A is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to a seventh modification, and FIG. 9B is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to an eighth modification. 図10Aは第9変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図10Bは第10変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。FIG. 10A is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the ninth modification, and FIG. 10B is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the tenth modification. 図11Aは第11変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図11Bは第12変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。FIG. 11A is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the eleventh modification, and FIG. 11B is a cross-sectional view showing the main part of the touch panel according to the twelfth modification. 図12Aは第13変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図であり、図12Bは第14変形例に係るタッチパネルの要部を示す断面図である。12A is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to a thirteenth modification, and FIG. 12B is a cross-sectional view showing a main part of a touch panel according to a fourteenth modification.

以下、本発明に係るタッチパネルの実施の形態例を図1A〜図12Bを参照しながら説明する。本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。   Hereinafter, embodiments of a touch panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 12B. The present invention is not limited to the following embodiments. In the present specification, “˜” indicating a numerical range is used as a meaning including numerical values described before and after the numerical value as a lower limit value and an upper limit value.

先ず、第1の本実施の形態に係るタッチパネル10は、図1A及び図1Bに示すように、電子機器12と筐体14との間に設置される。   First, the touch panel 10 according to the first embodiment is installed between the electronic device 12 and the housing 14 as shown in FIGS. 1A and 1B.

電子機器12は、主面である表面16aと、該表面16aに対向する裏面16bと、表面16aに隣接する4つの側面18a〜18dとを有する。電子機器12は、少なくとも画像やテキスト等を表示する表示パネル20を有し、この表示パネル20の表示面が電子機器の主面(表面16a)を構成している。表示パネル20としては、例えば液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ(Organic Electro−Luminescence)等が挙げられる。また、電子機器12は、表示パネル20の裏面側に表示パネル20の制御や後述するタッチパネル10の制御、データ通信の制御等を行う電子回路が実装された回路基板22が設置されている。   The electronic device 12 includes a surface 16a that is a main surface, a back surface 16b that faces the surface 16a, and four side surfaces 18a to 18d that are adjacent to the surface 16a. The electronic device 12 includes a display panel 20 that displays at least an image, text, and the like, and the display surface of the display panel 20 constitutes a main surface (front surface 16a) of the electronic device. Examples of the display panel 20 include a liquid crystal display and an organic EL display (Organic Electro-Luminescence). In the electronic device 12, a circuit board 22 on which an electronic circuit for controlling the display panel 20, a touch panel 10 to be described later, control of data communication, and the like is mounted on the back side of the display panel 20.

筐体14は、透明性及び可撓性を有するカバー層24にて構成され、電子機器12の表面16a、4つの側面(第1側面18a〜第4側面18d)及び裏面16bを保護する。カバー層24は、1層構造の樹脂層でもよいし、樹脂層が多層に積層された積層体でもよい。   The housing 14 is configured by a cover layer 24 having transparency and flexibility, and protects the front surface 16a, four side surfaces (first side surface 18a to fourth side surface 18d) and the back surface 16b of the electronic device 12. The cover layer 24 may be a resin layer having a single-layer structure or a laminate in which resin layers are laminated in multiple layers.

タッチパネル10は、センサ本体である導電性フィルム26と制御回路28(IC回路等で構成)とを有する。制御回路28は、回路基板22に実装されている。   The touch panel 10 includes a conductive film 26 that is a sensor body and a control circuit 28 (configured by an IC circuit or the like). The control circuit 28 is mounted on the circuit board 22.

導電性フィルム26は、筐体14の内面、すなわち、電子機器12と対向する部分に、筐体14の形状に沿うように三次元形状に形成されている。例えば図1Aの例では、電子機器12の外形形状が四角錐台の形状を有することから、タッチパネル10を構成する導電性フィルム26も電子機器12の形状に沿うように、三次元形状に形成されている。   The conductive film 26 is formed in a three-dimensional shape so as to follow the shape of the housing 14 on the inner surface of the housing 14, that is, the portion facing the electronic device 12. For example, in the example of FIG. 1A, since the outer shape of the electronic device 12 has a quadrangular pyramid shape, the conductive film 26 constituting the touch panel 10 is also formed in a three-dimensional shape so as to follow the shape of the electronic device 12. ing.

導電性フィルム26は、図2A〜図3に示すように、透明性及び可撓性を有する基板(以下、可撓性基板30と記す)と、可撓性基板30の一方の面(例えば表面30a)に形成された複数の第1感知電極32aと、可撓性基板30の他方の面(例えば裏面30b)に形成された複数の第2感知電極32bとを有する。なお、図3は、三次元形状に成形された導電性フィルム26を平面状に展開した状態を示している。これは、図5〜図7においても同様である。   As shown in FIGS. 2A to 3, the conductive film 26 includes a transparent and flexible substrate (hereinafter referred to as a flexible substrate 30) and one surface (for example, a surface) of the flexible substrate 30. 30a) and a plurality of second sensing electrodes 32b formed on the other surface (for example, the back surface 30b) of the flexible substrate 30. In addition, FIG. 3 has shown the state which expand | deployed the electroconductive film 26 shape | molded by the three-dimensional shape in planar shape. The same applies to FIGS. 5 to 7.

第1感知電極32a及び第2感知電極32bは、それぞれ多数のセル34が組み合わされて構成されたメッシュパターン36を有することが好ましい。第1感知電極32aは、第1方向(y方向)に延在し、且つ、第1方向と直交する第2方向(x方向)に配列されている。第2感知電極32bは、第2方向(x方向)に延在し、且つ、第2方向と直交する第1方向(y方向)に配列されている。ここで、「セル」とは、複数の金属細線38によって二次元的に区画された形状を指す。   Each of the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b preferably has a mesh pattern 36 formed by combining a number of cells 34. The first sensing electrodes 32a extend in the first direction (y direction) and are arranged in a second direction (x direction) orthogonal to the first direction. The second sensing electrodes 32b extend in the second direction (x direction) and are arranged in a first direction (y direction) orthogonal to the second direction. Here, the “cell” refers to a shape two-dimensionally partitioned by a plurality of fine metal wires 38.

そして、図3に示すように、導電性フィルム26のうち、電子機器12の表面16aと対向する第1センサ領域40Aに、複数の第1感知電極32a及び複数の第2感知電極32bによる第1タッチパネル部42Aが構成される。同様に、電子機器12の第1側面18aと対向する第2センサ領域40Bに、第2タッチパネル部42Bが構成され、電子機器12の第2側面18bと対向する第3センサ領域40Cに、第3タッチパネル部42Cが構成される。また、電子機器12の第3側面18cと対向する第4センサ領域40Dに、第4タッチパネル部42Dが構成され、電子機器12の第4側面18dと対向する第5センサ領域40Eに、第5タッチパネル部42Eが構成される。   As shown in FIG. 3, the first sensor region 40A facing the surface 16a of the electronic device 12 in the conductive film 26 has a first sensing electrode 32a and a plurality of second sensing electrodes 32b. A touch panel unit 42A is configured. Similarly, the second touch panel portion 42B is configured in the second sensor region 40B facing the first side surface 18a of the electronic device 12, and the third sensor region 40C facing the second side surface 18b of the electronic device 12 is third. A touch panel unit 42C is configured. The fourth touch panel portion 42D is configured in the fourth sensor region 40D facing the third side surface 18c of the electronic device 12, and the fifth touch panel is formed in the fifth sensor region 40E facing the fourth side surface 18d of the electronic device 12. Part 42E is configured.

第1センサ領域40A〜第5センサ領域40Eには、それぞれ独立に第1感知電極32a及び第2感知電極32bが形成される。つまり、第1〜第5タッチパネル部42A〜42Eにおける各第1感知電極32a及び各第2感知電極32bは、第1〜第5タッチパネル部42A〜42Eにおいて共通とされた可撓性基板30に形成される。   In the first sensor region 40A to the fifth sensor region 40E, the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b are independently formed. That is, the first sensing electrodes 32a and the second sensing electrodes 32b in the first to fifth touch panel units 42A to 42E are formed on the flexible substrate 30 that is common to the first to fifth touch panel units 42A to 42E. Is done.

さらに、導電性フィルム26には、第1センサ領域40A〜第5センサ領域40Eに対応して第1端子配線領域44A〜第5端子配線領域44Eが区画される。第1端子配線領域44Aには、第1センサ領域40Aにおける複数の第1感知電極32aからの第1端子配線部46aと複数の第2感知電極32bからの第2端子配線部46bが形成される。   Further, the conductive film 26 has a first terminal wiring area 44A to a fifth terminal wiring area 44E corresponding to the first sensor area 40A to the fifth sensor area 40E. In the first terminal wiring region 44A, the first terminal wiring portions 46a from the plurality of first sensing electrodes 32a and the second terminal wiring portions 46b from the plurality of second sensing electrodes 32b in the first sensor region 40A are formed. .

すなわち、可撓性基板30の表面30aのうち、第1端子配線領域44Aには、各第1感知電極32aの端部にそれぞれ第1結線部48aを介して電気的に接続された金属細線38による第1端子配線部46aが形成されている。各第1結線部48aから導出された第1端子配線部46aは、可撓性基板30における第2センサ領域40B側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第1端子部50aに電気的に接続される。   That is, in the surface 30a of the flexible substrate 30, the first terminal wiring region 44A has a thin metal wire 38 electrically connected to the end of each first sensing electrode 32a via the first connection portion 48a. A first terminal wiring portion 46a is formed. The first terminal wiring portions 46a led out from the respective first connection portions 48a are routed toward the side on the second sensor region 40B side of the flexible substrate 30 and are electrically connected to the corresponding first terminal portions 50a. Connected to.

可撓性基板30の裏面30bのうち、第1端子配線領域44Aには、各第2感知電極32bの端部にそれぞれ第2結線部48bを介して電気的に接続された金属細線38による第2端子配線部46bが形成されている。各第2結線部48bから導出された第2端子配線部46bは、可撓性基板30における第3センサ領域40C側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第2端子部50bに電気的に接続される。   Of the back surface 30b of the flexible substrate 30, the first terminal wiring region 44A is provided with a first metal wire 38 electrically connected to the end of each second sensing electrode 32b via the second connection portion 48b. A two-terminal wiring portion 46b is formed. The second terminal wiring part 46b led out from each second connection part 48b is routed toward the side on the third sensor region 40C side in the flexible substrate 30 and electrically connected to the corresponding second terminal part 50b. Connected to.

同様に、第2端子配線領域44Bには、第2センサ領域40Bからの第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bが形成され、可撓性基板30における第2センサ領域40B側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第1端子部50a及び第2端子部50bに電気的に接続される。   Similarly, the first terminal wiring portion 46a and the second terminal wiring portion 46b from the second sensor region 40B are formed in the second terminal wiring region 44B, and the side on the second sensor region 40B side of the flexible substrate 30 is formed. And are electrically connected to the corresponding first terminal portion 50a and second terminal portion 50b.

第3端子配線領域44Cには、第3センサ領域40Cからの第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bが形成され、可撓性基板30における第3センサ領域40C側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第1端子部50a及び第2端子部50bに電気的に接続される。   In the third terminal wiring region 44C, the first terminal wiring portion 46a and the second terminal wiring portion 46b from the third sensor region 40C are formed, and toward the side of the flexible substrate 30 on the third sensor region 40C side. It is routed and electrically connected to the corresponding first terminal portion 50a and second terminal portion 50b.

第4端子配線領域44Dには、第4センサ領域40Dからの第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bが形成され、可撓性基板30における第4センサ領域40D側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第1端子部50a及び第2端子部50bに電気的に接続される。   In the fourth terminal wiring region 44D, the first terminal wiring portion 46a and the second terminal wiring portion 46b from the fourth sensor region 40D are formed, and toward the side of the flexible substrate 30 on the fourth sensor region 40D side. It is routed and electrically connected to the corresponding first terminal portion 50a and second terminal portion 50b.

第5端子配線領域44Eには、第5センサ領域40Eからの第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bが形成され、可撓性基板30における第5センサ領域40E側の辺に向かって引き回され、それぞれ対応する第1端子部50a及び第2端子部50bに電気的に接続される。   In the fifth terminal wiring region 44E, the first terminal wiring portion 46a and the second terminal wiring portion 46b from the fifth sensor region 40E are formed, and toward the side of the flexible substrate 30 on the fifth sensor region 40E side. It is routed and electrically connected to the corresponding first terminal portion 50a and second terminal portion 50b.

上述した第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bの引き回しは、あくまでも一例であり、電子機器12の三次元形状や、各センサ領域40A〜40Eでの第1感知電極32a及び第2感知電極32bの形成範囲等によって様々な形態が考えられる。   The routing of the first terminal wiring portion 46a and the second terminal wiring portion 46b described above is merely an example, and the three-dimensional shape of the electronic device 12 and the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode in each of the sensor regions 40A to 40E. Various forms are conceivable depending on the formation range of the electrode 32b.

導電性フィルム26を電子機器12に取り付けることで、第1端子配線領域44A〜第5端子配線領域44Eにおける各第1端子部50a及び第2端子部50bが、電子機器12の裏面16b側、すなわち、回路基板22側に位置することとなる。従って、導電性フィルム26の少なくとも第1端子部50aと第2端子部50b(図3参照)を、例えばコネクタを通じて制御回路28(図1B参照)に電気的に接続することが可能となる。つまり、5つのタッチパネル部42A〜42Eからの配線を簡単に1つに集約することが可能となり、複雑な配線が不要となる。   By attaching the conductive film 26 to the electronic device 12, the first terminal portion 50a and the second terminal portion 50b in the first terminal wiring region 44A to the fifth terminal wiring region 44E are on the back surface 16b side of the electronic device 12, that is, It will be located on the circuit board 22 side. Therefore, at least the first terminal portion 50a and the second terminal portion 50b (see FIG. 3) of the conductive film 26 can be electrically connected to the control circuit 28 (see FIG. 1B) through, for example, a connector. That is, the wiring from the five touch panel units 42A to 42E can be easily integrated into one, and complicated wiring is not necessary.

そして、本実施の形態においては、図1A〜図2Bに示すように、可撓性基板30(図2A及び図2B参照)上の、電子機器12の稜線52に対応する部分の少なくとも一部にシールド膜54が配置されている。シールド膜54は、可撓性基板30の2つの対向する面30a及び30bのうち、電子機器12とは反対側の表面30a上に配置されている。すなわち、シールド膜54は、図3において二点鎖線で示すように、各タッチパネル部42A〜42Eにおけるセンサ領域40A〜40Eを囲む領域、にそれぞれ形成されている。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 1A to 2B, at least a part of the portion corresponding to the ridgeline 52 of the electronic device 12 on the flexible substrate 30 (see FIGS. 2A and 2B). A shield film 54 is disposed. The shield film 54 is disposed on the surface 30 a opposite to the electronic device 12 among the two opposing surfaces 30 a and 30 b of the flexible substrate 30. That is, the shield film 54 is formed in each of the regions surrounding the sensor regions 40A to 40E in the touch panel portions 42A to 42E, as indicated by a two-dot chain line in FIG.

ここで、「可撓性基板上」、「面上」とは、可撓性基板30に直接シールド膜54が形成されていなくてもよく、図1A〜図2Bの例では、筐体14を構成するカバー層24の稜線52にシールド膜54を形成した例を示している。   Here, “on the flexible substrate” and “on the surface” means that the shield film 54 does not have to be formed directly on the flexible substrate 30. In the example of FIGS. The example which formed the shield film 54 in the ridgeline 52 of the cover layer 24 to comprise is shown.

また、電子機器12の稜線52とは、電子機器12の主面(表面16a、裏面16b)と側面とで共有する辺、隣接する2つの側面で共有する辺を指す。辺は直線、曲線を含む。また、稜線52の方向を法線方向とする断面形状を見たとき、図2Aに示すように、稜線52の部分で折れ曲がった折線形状や、図2Bに示すように、曲線形状であってもよい。   Further, the ridgeline 52 of the electronic device 12 refers to a side shared by the main surface (front surface 16a, back surface 16b) and side surface of the electronic device 12, and a side shared by two adjacent side surfaces. The side includes a straight line and a curved line. Further, when the cross-sectional shape having the normal direction as the direction of the ridge line 52 is seen, even if the ridge line shape is bent at the ridge line 52 as shown in FIG. 2A or the curved shape as shown in FIG. Good.

シールド膜54には一定電位が印加される場合、グランドに接続される場合(接地電位が印加される場合を含む)、フローティングの場合等がある。また、シールド膜54として、1つの連続した金属膜で構成してもよいし、第1感知電極32a及び第2感知電極32bと同様に、金属細線38によるメッシュパターン36にて構成してもよい。   The shield film 54 may be applied with a constant potential, connected to the ground (including a case where a ground potential is applied), or may be floating. Further, the shield film 54 may be constituted by one continuous metal film, or may be constituted by the mesh pattern 36 by the thin metal wires 38, similarly to the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b. .

一般に、タッチパネルの低湿度環境での使用は、静電気による帯電や蓄電による放電現象が発生する。それらはノイズとなって静電容量方式の感知電極部分に混入し、誤動作やセンサーの静電破壊といった故障を引き起こすことがある。特に、電子機器12の稜線部分に電界が集中するため、静電気による帯電、蓄電は電子機器12の稜線部分に発生することになる。   In general, when a touch panel is used in a low humidity environment, charging due to static electricity or discharging due to power storage occurs. They may become noise and enter the capacitive sensing electrode portion, causing malfunctions such as malfunction and electrostatic breakdown of the sensor. In particular, since the electric field concentrates on the ridge line portion of the electronic device 12, charging and storage due to static electricity occur in the ridge line portion of the electronic device 12.

そこで、本実施の形態においては、可撓性基板30上に積層されたカバー層24のうち、電子機器12の稜線52に対応する部分にシールド膜54を配置したので、電子機器12の稜線部分での電界の集中が回避され、静電気による帯電、蓄電を効果的に低減できる。その結果、誤動作やセンサーの静電破壊といった故障の発生を抑制することができ、信頼性の高いタッチパネルを提供することができる。   Therefore, in the present embodiment, since the shield film 54 is disposed in a portion corresponding to the ridgeline 52 of the electronic device 12 in the cover layer 24 laminated on the flexible substrate 30, the ridgeline portion of the electronic device 12. The concentration of the electric field is avoided, and charging and storage due to static electricity can be effectively reduced. As a result, it is possible to suppress a failure such as malfunction or electrostatic breakdown of the sensor, and to provide a highly reliable touch panel.

また、本実施の形態では、カバー層24にシールド膜54を形成することで、可撓性基板30の表面30aへの第1端子配線部46aの配線形成及び可撓性基板30の裏面30bへの第2端子配線部46bの配線形成を、シールド膜54に制約されることなく行うことができる。   In the present embodiment, the shield film 54 is formed on the cover layer 24 to form the wiring of the first terminal wiring portion 46 a on the front surface 30 a of the flexible substrate 30 and to the back surface 30 b of the flexible substrate 30. The second terminal wiring portion 46 b can be formed without being restricted by the shield film 54.

なお、第1感知電極32a及び第2感知電極32bとしては、上述した金属細線38によるメッシュパターン36を有する構造のほか、従来から使用されているITO(酸化インジウムスズ)による透明電極膜を使用してもよい。また、導電性フィルム26の裏面側と該裏面側と対向する電子機器12の表面や側面との間に、空気層を介在させてもよいし、透明粘着剤を介在させてもよい。   As the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b, a transparent electrode film made of ITO (indium tin oxide), which has been conventionally used, is used in addition to the structure having the mesh pattern 36 by the metal thin wires 38 described above. May be. Moreover, an air layer may be interposed between the back surface side of the conductive film 26 and the surface or side surface of the electronic device 12 facing the back surface side, or a transparent adhesive may be interposed.

次に、本実施の形態に係るタッチパネル10の変形例について図4A〜図12Bを参照しながら説明する。   Next, a modified example of the touch panel 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 12B.

先ず、第1変形例に係るタッチパネル10Aは、本実施の形態に係るタッチパネル10とほぼ同様の構成を有するが、図4A及び図5に示すように、シールド膜54が可撓性基板30の表面30aに形成されている点で異なる。   First, the touch panel 10A according to the first modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10 according to the present embodiment, but the shield film 54 is the surface of the flexible substrate 30 as shown in FIGS. 4A and 5. It differs in that it is formed in 30a.

この場合、可撓性基板30の表面30aに第1感知電極32a及び第1結線部48aと共にシールド膜54を形成することができるため、工程の簡略化を図ることができる。また、シールド膜54を形成する際に、第1感知電極32aと同様に、金属細線38のメッシュパターン36によるシールド膜54を形成することで、第1感知電極32aと同一の露光用マスクを使用することができ、さらなる工程の簡略化を図ることができる。   In this case, since the shield film 54 can be formed on the surface 30a of the flexible substrate 30 together with the first sensing electrode 32a and the first connection portion 48a, the process can be simplified. Further, when the shield film 54 is formed, the same exposure mask as that of the first sense electrode 32a is used by forming the shield film 54 with the mesh pattern 36 of the fine metal wires 38 in the same manner as the first sense electrode 32a. And further simplification of the process can be achieved.

なお、可撓性基板30の表面30aへの第1端子配線部46aの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、少なくとも第1タッチパネル部42Aにおける第1端子配線部46aをスルーホール56(内壁に導電材が形成された貫通孔)を介して可撓性基板30の裏面30bに導出することが好ましい。図5の例では、第1〜第5タッチパネル部42A〜42Eの各第1端子配線部46aをそれぞれスルーホール56を介して可撓性基板30の裏面30bに導出した例を示す。   Since the formation of the first terminal wiring part 46a on the surface 30a of the flexible substrate 30 is restricted by the shield film 54, at least the first terminal wiring part 46a in the first touch panel part 42A is passed through the through hole 56 (. It is preferable to lead out to the back surface 30b of the flexible substrate 30 through a through hole in which a conductive material is formed on the inner wall. 5 shows an example in which the first terminal wiring portions 46a of the first to fifth touch panel portions 42A to 42E are led out to the back surface 30b of the flexible substrate 30 through the through holes 56, respectively.

第2変形例に係るタッチパネル10Bは、上述したタッチパネル10Aとほぼ同様の構成を有するが、図4B及び図6に示すように、シールド膜54が可撓性基板30の裏面30bに形成されている点で異なる。   The touch panel 10B according to the second modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10A described above, but a shield film 54 is formed on the back surface 30b of the flexible substrate 30 as shown in FIGS. 4B and 6. It is different in point.

この場合も、可撓性基板30の裏面30bに第2感知電極32b及び第2結線部48bと共にシールド膜54を形成することができるため、工程の簡略化を図ることができる。   Also in this case, since the shield film 54 can be formed on the back surface 30b of the flexible substrate 30 together with the second sensing electrode 32b and the second connection portion 48b, the process can be simplified.

なお、可撓性基板30の裏面30bへの第2端子配線部46bの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第2端子配線部46bをスルーホール56を介して可撓性基板30の表面30aに導出することが好ましい。図6の例では、第1〜第5タッチパネル部42A〜42Eの各第2端子配線部46bをそれぞれスルーホール56を介して可撓性基板30の表面30aに導出した例を示す。   Since the formation of the second terminal wiring portion 46 b on the back surface 30 b of the flexible substrate 30 is restricted by the shield film 54, the second terminal wiring portion 46 b is connected to the flexible substrate 30 through the through hole 56. It is preferable to lead to the surface 30a. In the example of FIG. 6, an example is shown in which the second terminal wiring portions 46 b of the first to fifth touch panel portions 42 </ b> A to 42 </ b> E are led out to the surface 30 a of the flexible substrate 30 through the through holes 56.

上述したタッチパネル10Aでは、可撓性基板30の表面30aのうち、電子機器12の稜線52に対応する部分にシールド膜54を配置している。また、タッチパネル10Bでは、可撓性基板30の裏面30bのうち、電子機器12の稜線52に対応する部分にシールド膜54を配置している。従って、これらタッチパネル10A及び10Bにおいても、電子機器12の稜線部分での電界の集中が回避され、静電気による帯電、蓄電を効果的に低減できる。   In the touch panel 10 </ b> A described above, the shield film 54 is disposed on a portion of the surface 30 a of the flexible substrate 30 corresponding to the ridgeline 52 of the electronic device 12. In the touch panel 10 </ b> B, the shield film 54 is disposed on the portion of the back surface 30 b of the flexible substrate 30 corresponding to the ridgeline 52 of the electronic device 12. Therefore, also in these touch panels 10A and 10B, concentration of the electric field at the ridge line portion of the electronic device 12 is avoided, and charging and storage due to static electricity can be effectively reduced.

次に、第3変形例に係るタッチパネル10Cは、本実施の形態に係るタッチパネル10とほぼ同様の構成を有するが、図7に示すように、第1方向(y方向)に沿って並ぶ第2センサ領域40B、第1センサ領域40A及び第3センサ領域40Cにわたって複数の第1感知電極32aが連続して形成され、第2方向(x方向)に沿って並ぶ第4センサ領域40D、第1センサ領域40A及び第5センサ領域40Eにわたって複数の第2感知電極32bが連続して形成されている点で異なる。   Next, the touch panel 10C according to the third modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10 according to the present embodiment. However, as shown in FIG. 7, the second touch panel 10C is arranged along the first direction (y direction). A plurality of first sensing electrodes 32a are continuously formed across the sensor region 40B, the first sensor region 40A, and the third sensor region 40C, and are arranged in the second direction (x direction). The difference is that a plurality of second sensing electrodes 32b are formed continuously over the region 40A and the fifth sensor region 40E.

すなわち、複数の第1感知電極32aは、第1タッチパネル部42A、第2タッチパネル部42B及び第3タッチパネル部42Cにおいて共通とされ、複数の第2感知電極32bは、第1タッチパネル部42A、第4タッチパネル部42D及び第5タッチパネル部42Eにおいて共通とされている。   That is, the plurality of first sensing electrodes 32a are common to the first touch panel unit 42A, the second touch panel unit 42B, and the third touch panel unit 42C, and the plurality of second sensing electrodes 32b are the first touch panel unit 42A and the fourth touch panel unit 42A. The touch panel unit 42D and the fifth touch panel unit 42E are common.

この場合、第1タッチパネル部42Aの外周部に第1端子配線領域44A及び第2端子配線領域44Bを区画する必要がないため、電子機器12の表面のほぼ全域をセンサ領域とすることが可能となる。   In this case, since it is not necessary to partition the first terminal wiring area 44A and the second terminal wiring area 44B on the outer peripheral portion of the first touch panel portion 42A, it is possible to make almost the entire surface of the electronic device 12 the sensor area. Become.

このタッチパネル10Cでは、電子機器12の稜線52に対応する部分を跨ぐように第1感知電極32a及び第2感知電極32bが形成されることから、図2A及び図2Bに示すように、可撓性基板30以外の部分、例えばカバー層24にシールド膜54を形成することが好ましい。   In the touch panel 10C, the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b are formed so as to straddle the portion corresponding to the ridgeline 52 of the electronic device 12, and therefore, as shown in FIG. 2A and FIG. A shield film 54 is preferably formed on a portion other than the substrate 30, for example, on the cover layer 24.

また、第1感知電極32a及び第2感知電極32bとして、ITOを用いるよりも、金属細線38によるメッシュパターン36を用いることが好ましい。すなわち、従来使用されていたITOでは、成形性が不十分で三次元形状に変形した際に、割れや断線等が発生するという問題があるからである。   Moreover, it is preferable to use the mesh pattern 36 by the metal fine wire 38 rather than using ITO as the 1st sensing electrode 32a and the 2nd sensing electrode 32b. That is, the conventionally used ITO has a problem that when it is deformed into a three-dimensional shape due to insufficient formability, cracking, disconnection, or the like occurs.

つまり、三次元形状に成形した可撓性基板30に第1感知電極32a及び第2感知電極32bを形成することは困難が伴い、生産性及びコストの面でも問題が生じる。そこで、平面状の可撓性基板30に第1感知電極32a及び第2感知電極32bを形成して導電性フィルム26とした後、導電性フィルム26自体を三次元形状に成形することで、三次元形状を有する導電性フィルム26を容易に作製することができる。しかしながら、上述したように、第1感知電極32a及び第2感知電極32bをITOで構成した場合は、三次元形状への成形時に、割れや断線等が生じ、歩留まりが大幅に低下するという問題がある。一方、金属細線38によるメッシュパターン36は、加工性にも優れ、三次元形状に変形した際に、断線等が発生しにくいという利点がある。従って、三次元形状を有する導電性フィルム26を断線等をほとんど生じさせずに容易に作製することができる。また、シールド膜54として、金属細線38によるメッシュパターン36にて構成することで、シールド膜54の断線も予防することができ、好ましい。   That is, it is difficult to form the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b on the flexible substrate 30 formed into a three-dimensional shape, and there are problems in terms of productivity and cost. Therefore, after forming the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b on the planar flexible substrate 30 to form the conductive film 26, the conductive film 26 itself is formed into a three-dimensional shape, thereby obtaining the tertiary. The conductive film 26 having the original shape can be easily produced. However, as described above, in the case where the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b are made of ITO, there is a problem that cracking, disconnection, etc. occur during molding into a three-dimensional shape, and the yield is greatly reduced. is there. On the other hand, the mesh pattern 36 formed of the fine metal wires 38 is excellent in workability and has an advantage that disconnection or the like hardly occurs when deformed into a three-dimensional shape. Therefore, the conductive film 26 having a three-dimensional shape can be easily manufactured with almost no disconnection or the like. Further, it is preferable that the shield film 54 is constituted by the mesh pattern 36 made of the fine metal wires 38, so that disconnection of the shield film 54 can be prevented.

次に、第4変形例に係るタッチパネル10Dは、本実施の形態に係るタッチパネル10とほぼ同様の構成を有するが、図8Aに示すように、可撓性基板30の表面30a(裏面30bでもよい)に、第1感知電極32aと第2感知電極32bが形成されている点で異なる。   Next, the touch panel 10D according to the fourth modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10 according to the present embodiment, but as shown in FIG. 8A, the front surface 30a (the back surface 30b may be used) of the flexible substrate 30. ) In that the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b are formed.

第5変形例に係るタッチパネル10Eは、上述したタッチパネル10Dとほぼ同様の構成を有するが、図8Bに示すように、シールド膜54が可撓性基板30の表面30aに形成されている点で異なる。   The touch panel 10E according to the fifth modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10D described above, but differs in that the shield film 54 is formed on the surface 30a of the flexible substrate 30 as shown in FIG. 8B. .

この場合、可撓性基板30の表面30aへの第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bをスルーホール56を介して可撓性基板30の裏面30bに導出することが好ましい。   In this case, since the wiring formation of the first terminal wiring part 46a and the second terminal wiring part 46b on the surface 30a of the flexible substrate 30 is restricted by the shield film 54, the first terminal wiring part 46a and the second terminal It is preferable to lead out the wiring part 46 b to the back surface 30 b of the flexible substrate 30 through the through hole 56.

第6変形例に係るタッチパネル10Fは、上述したタッチパネル10Dとほぼ同様の構成を有するが、図8Cに示すように、シールド膜54が可撓性基板30の裏面30bに形成されている点で異なる。   The touch panel 10F according to the sixth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10D described above, but differs in that the shield film 54 is formed on the back surface 30b of the flexible substrate 30 as shown in FIG. 8C. .

この場合、第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bの配線形成を、シールド膜54に制約されることなく行うことができる。   In this case, the wiring formation of the first terminal wiring portion 46 a and the second terminal wiring portion 46 b can be performed without being restricted by the shield film 54.

上述したタッチパネル10D〜10Fにおいても、電子機器12の稜線部分での電界の集中が回避され、静電気による帯電、蓄電を効果的に低減できる。   Also in the touch panels 10D to 10F described above, concentration of an electric field at the ridge line portion of the electronic device 12 is avoided, and charging and storage due to static electricity can be effectively reduced.

次に、第7変形例に係るタッチパネル10Gは、本実施の形態に係るタッチパネル10とほぼ同様の構成を有するが、図9Aに示すように、導電性フィルム26が以下のように異なる。   Next, the touch panel 10G according to the seventh modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10 according to the present embodiment, but as shown in FIG. 9A, the conductive film 26 is different as follows.

すなわち、導電性フィルム26は、2つの可撓性基板(第1可撓性基板30A及び第2可撓性基板30B)を貼り合わせたタイプの導電性フィルム26としてもよい。この導電性フィルム26は、第1可撓性基板30Aの表面30Aaに第1感知電極32a、第1端子配線部46a及び第1結線部48aが形成され、第2可撓性基板30Bの表面30Baに第2感知電極32b、第2端子配線部46b及び第2結線部48bが形成されている。そして、第1可撓性基板30Aの裏面30Abと第2可撓性基板30Bの表面30Baとの間に、例えば透明粘着剤を介在させて積層することで導電性フィルム26が構成される。   That is, the conductive film 26 may be a conductive film 26 of a type in which two flexible substrates (the first flexible substrate 30A and the second flexible substrate 30B) are bonded together. In the conductive film 26, a first sensing electrode 32a, a first terminal wiring portion 46a, and a first connection portion 48a are formed on the surface 30Aa of the first flexible substrate 30A, and the surface 30Ba of the second flexible substrate 30B. The second sensing electrode 32b, the second terminal wiring portion 46b, and the second connection portion 48b are formed. Then, the conductive film 26 is configured by laminating, for example, a transparent adhesive between the back surface 30Ab of the first flexible substrate 30A and the front surface 30Ba of the second flexible substrate 30B.

第8変形例に係るタッチパネル10Hは、上述したタッチパネル10Gとほぼ同様の構成を有するが、図9Bに示すように、シールド膜54が第1可撓性基板30Aの表面30Aaに形成されている点で異なる。   The touch panel 10H according to the eighth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10G described above, but the shield film 54 is formed on the surface 30Aa of the first flexible substrate 30A as shown in FIG. 9B. It is different.

この場合、第1可撓性基板30Aの表面30Aaへの第1端子配線部46aの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第1端子配線部46aをスルーホール56を介して第1可撓性基板30Aの裏面30Abに導出することが好ましい。   In this case, since the formation of the wiring of the first terminal wiring portion 46a on the surface 30Aa of the first flexible substrate 30A is restricted by the shield film 54, the first terminal wiring portion 46a is connected to the first via the through hole 56. It is preferable to lead out to the back surface 30Ab of the flexible substrate 30A.

第9変形例に係るタッチパネル10Iは、上述したタッチパネル10Gとほぼ同様の構成を有するが、図10Aに示すように、シールド膜54が第2可撓性基板30Bの表面30Baに形成されている点で異なる。   The touch panel 10I according to the ninth modified example has substantially the same configuration as the touch panel 10G described above, but the shield film 54 is formed on the surface 30Ba of the second flexible substrate 30B as shown in FIG. 10A. It is different.

この場合、第2可撓性基板30Bの表面30Baへの第2端子配線部46bの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第2端子配線部46bをスルーホール56を介して第2可撓性基板30Bの裏面30Bbに導出することが好ましい。   In this case, since the formation of the wiring of the second terminal wiring part 46b on the surface 30Ba of the second flexible substrate 30B is restricted by the shield film 54, the second terminal wiring part 46b is connected to the second terminal via the through hole 56. It is preferable to lead out to the back surface 30Bb of the flexible substrate 30B.

第10変形例に係るタッチパネル10Jは、上述したタッチパネル10Gとほぼ同様の構成を有するが、図10Bに示すように、シールド膜54が第2可撓性基板30Bの裏面30Bbに形成されている点で異なる。   The touch panel 10J according to the tenth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10G described above, but as shown in FIG. 10B, the shield film 54 is formed on the back surface 30Bb of the second flexible substrate 30B. It is different.

この場合、第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bの配線形成を、シールド膜54に制約されることなく行うことができる。   In this case, the wiring formation of the first terminal wiring portion 46 a and the second terminal wiring portion 46 b can be performed without being restricted by the shield film 54.

これらタッチパネル10G〜10Jにおいても、上述したタッチパネル10D〜10Fと同様に、電子機器12の稜線部分での電界の集中が回避され、静電気による帯電、蓄電を効果的に低減できる。   In these touch panels 10G to 10J, similarly to the touch panels 10D to 10F described above, concentration of an electric field at the ridge line portion of the electronic device 12 is avoided, and charging and storage due to static electricity can be effectively reduced.

次に、第11変形例に係るタッチパネル10Kは、本実施の形態に係るタッチパネル10とほぼ同様の構成を有するが、図11Aに示すように、導電性フィルム26が以下のように異なる。   Next, touch panel 10K according to the eleventh modification has substantially the same configuration as touch panel 10 according to the present embodiment, but as shown in FIG. 11A, conductive film 26 is different as follows.

すなわち、導電性フィルム26は、1つの可撓性基板30の表面30aに絶縁層58を積層したタイプの導電性フィルム26としてもよい。この導電性フィルム26は、絶縁層58の表面58aに第1感知電極32a、第1端子配線部46a及び第1結線部48aが形成され、可撓性基板30の表面30aに第2感知電極32b、第2端子配線部46b及び第2結線部48bが形成されている。   That is, the conductive film 26 may be a type of the conductive film 26 in which the insulating layer 58 is laminated on the surface 30 a of one flexible substrate 30. In the conductive film 26, the first sensing electrode 32 a, the first terminal wiring part 46 a, and the first connection part 48 a are formed on the surface 58 a of the insulating layer 58, and the second sensing electrode 32 b is formed on the surface 30 a of the flexible substrate 30. A second terminal wiring portion 46b and a second connection portion 48b are formed.

第12変形例に係るタッチパネル10Lは、上述したタッチパネル10Kとほぼ同様の構成を有するが、図11Bに示すように、シールド膜54が絶縁層58の表面58aに形成されている点で異なる。   The touch panel 10L according to the twelfth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10K described above, but differs in that the shield film 54 is formed on the surface 58a of the insulating layer 58 as shown in FIG. 11B.

この場合、絶縁層58の表面58aへの第1端子配線部46aの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第1端子配線部46aをスルーホール56を介して可撓性基板30の表面30aに導出することが好ましい。   In this case, since the formation of the first terminal wiring portion 46 a on the surface 58 a of the insulating layer 58 is restricted by the shield film 54, the first terminal wiring portion 46 a is connected to the flexible substrate 30 through the through hole 56. It is preferable to lead out to the surface 30a.

第13変形例に係るタッチパネル10Mは、上述したタッチパネル10Kとほぼ同様の構成を有するが、図12Aに示すように、シールド膜54が可撓性基板30の表面30aに形成されている点で異なる。   The touch panel 10M according to the thirteenth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10K described above, but differs in that the shield film 54 is formed on the surface 30a of the flexible substrate 30 as shown in FIG. 12A. .

この場合、可撓性基板30の表面30aへの第2端子配線部46bの配線形成が、シールド膜54に制約されるため、第2端子配線部46bをスルーホール56を介して可撓性基板30の裏面30bに導出することが好ましい。   In this case, since the wiring formation of the second terminal wiring portion 46 b on the surface 30 a of the flexible substrate 30 is restricted by the shield film 54, the second terminal wiring portion 46 b is connected to the flexible substrate through the through hole 56. 30 is preferably led out to the back surface 30b.

第14変形例に係るタッチパネル10Nは、上述したタッチパネル10Kとほぼ同様の構成を有するが、図12Bに示すように、シールド膜54が可撓性基板30の裏面30bに形成されている点で異なる。   The touch panel 10N according to the fourteenth modification has substantially the same configuration as the touch panel 10K described above, but differs in that the shield film 54 is formed on the back surface 30b of the flexible substrate 30 as shown in FIG. 12B. .

この場合、第1端子配線部46a及び第2端子配線部46bの配線形成を、シールド膜54に制約されることなく行うことができる。   In this case, the wiring formation of the first terminal wiring portion 46 a and the second terminal wiring portion 46 b can be performed without being restricted by the shield film 54.

これらタッチパネル10K〜10Nにおいても、上述したタッチパネル10G〜10Jと同様に、電子機器12の稜線部分での電界の集中が回避され、静電気による帯電、蓄電を効果的に低減できる。   In these touch panels 10K to 10N, similarly to the touch panels 10G to 10J described above, concentration of the electric field at the ridge line portion of the electronic device 12 is avoided, and charging and storage due to static electricity can be effectively reduced.

次に、本実施の形態に係る導電性フィルム26の好ましい態様について以下に説明する。   Next, the preferable aspect of the electroconductive film 26 which concerns on this Embodiment is demonstrated below.

各セル34は、多角形で構成されている。多角形としては、三角形、四角形(正方形、長方形、平行四辺形、ひし形等)、五角形、六角形、ランダム多角形等が挙げられる。また、多角形を構成する辺の一部が曲線からなっていてもよい。セル34の一辺の長さは50〜500μmが好ましい。一辺の長さが短すぎると、開口率及び透過率が低下し、それに伴って、透明性が劣化するという問題がある。反対に、一辺の長さが長すぎると、金属細線38が視認されやすくなる可能性がある。   Each cell 34 is formed of a polygon. Examples of polygons include triangles, quadrangles (squares, rectangles, parallelograms, rhombuses, etc.), pentagons, hexagons, random polygons, and the like. Further, a part of the sides constituting the polygon may be a curved line. The length of one side of the cell 34 is preferably 50 to 500 μm. When the length of one side is too short, there is a problem that the aperture ratio and the transmittance are reduced, and accordingly, the transparency is deteriorated. On the other hand, if the length of one side is too long, the fine metal wires 38 may be easily recognized.

金属細線38の線幅は1μm以上5μm以下が好ましく、さらに好ましくは、1μm以上4μm以下である。第1感知電極32a及び第2感知電極32bの表面抵抗は、0.1〜100オーム/sq.の範囲にあることが好ましい。下限値は、1オーム/sq.以上、3オーム/sq.以上、5オーム/sq.以上、10オーム/sq.以上であることが好ましい。上限値は、70オーム/sq.以下、50オーム/sq.以下であることが好ましい。   The line width of the fine metal wire 38 is preferably 1 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 4 μm or less. The surface resistance of the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b is 0.1-100 ohm / sq. It is preferable that it exists in the range. The lower limit is 1 ohm / sq. 3 ohm / sq. 5 ohm / sq. 10 ohm / sq. The above is preferable. The upper limit is 70 ohm / sq. Hereinafter, 50 ohm / sq. The following is preferable.

上述した第1端子配線部46a、第2端子配線部46b、第1端子部50a、第2端子部50b等を構成する金属配線、並びに第1感知電極32a及び第2感知電極32bを構成する金属細線は、それぞれ単一の導電性素材にて構成されているのが好ましい。単一の導電性素材は、銀、銅、金、アルミニウムのうちの1種類からなる金属、もしくはこれらの少なくとも1つを含む合金からなるのが好ましい。   The metal wires constituting the first terminal wiring portion 46a, the second terminal wiring portion 46b, the first terminal portion 50a, the second terminal portion 50b, etc., and the metals constituting the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b. Each thin wire is preferably made of a single conductive material. The single conductive material is preferably made of a metal made of one of silver, copper, gold, and aluminum, or an alloy containing at least one of them.

本実施の形態における導電性フィルム26は、可視光透過率の点から少なくとも第1センサ領域40Aの開口率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましく、95%以上であることが最も好ましい。開口率とは、金属細線38を除いた透光性部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅6μm、細線ピッチ240μmの正方形の格子状の開口率は、95%である。   The conductive film 26 in the present embodiment preferably has an aperture ratio of at least the first sensor region 40A of 85% or more, more preferably 90% or more, and 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. Most preferably. The aperture ratio is the ratio of the entire light-transmitting portion excluding the thin metal wires 38. For example, the aperture ratio of a square lattice having a line width of 6 μm and a fine line pitch of 240 μm is 95%.

上述の例では、導電性フィルム26を投影型静電容量方式のタッチパネル10に適用した例を示したが、その他、表面型静電容量方式のタッチパネルや、抵抗膜式のタッチパネルにも適用することができる。   In the above-described example, the example in which the conductive film 26 is applied to the projected capacitive touch panel 10 has been described. However, the conductive film 26 may also be applied to a surface capacitive touch panel or a resistive touch panel. Can do.

なお、筐体14は、電子機器12のタッチパネル10のほか、表示装置の電磁波シールドフィルムや、表示装置の表示パネルに設置される光学フィルムとしても利用することができる。表示装置としては液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL、無機EL等が挙げられる。   In addition to the touch panel 10 of the electronic device 12, the housing 14 can be used as an electromagnetic wave shielding film of a display device or an optical film installed on a display panel of the display device. Examples of the display device include a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL, and an inorganic EL.

導電性フィルム26を製造する方法としては、例えば可撓性基板30に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属部及び光透過性部を形成して第1感知電極32a及び第2感知電極32bを形成するようにしてもよい。なお、さらに金属部に物理現像及び/又はめっき処理を施すことによって金属部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。   As a method for producing the conductive film 26, for example, an exposed portion and an unexposed portion are obtained by exposing a photosensitive material having an emulsion layer containing a photosensitive silver halide to the flexible substrate 30 and performing development processing. The first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b may be formed by forming a metal part and a light transmissive part respectively. Further, a conductive metal may be supported on the metal part by further performing physical development and / or plating treatment on the metal part.

あるいは、可撓性基板30上にめっき前処理材を用いて感光性被めっき層を形成し、その後、露光、現像処理した後にめっき処理を施すことにより、露光部及び未露光部にそれぞれ金属部及び光透過性部を形成して第1感知電極32a及び第2感知電極32bを形成してもよい。なお、さらに金属部に物理現像及び/又はめっき処理を施すことによって金属部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。   Alternatively, a photosensitive layer to be plated is formed on the flexible substrate 30 using a pre-plating treatment material, and then exposed and developed, and then subjected to a plating treatment, whereby the exposed portion and the unexposed portion are respectively metal parts. In addition, the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b may be formed by forming a light transmitting portion. Further, a conductive metal may be supported on the metal part by further performing physical development and / or plating treatment on the metal part.

めっき前処理材を用いる方法のさらに好ましい形態としては、次の2通りの形態が挙げられる。なお、下記のより具体的な内容は、特開2003−213437号公報、特開2006−64923号公報、特開2006−58797号公報、特開2006−135271号公報等に開示されている。   The following two forms are mentioned as a more preferable form of the method using a plating pretreatment material. The following more specific contents are disclosed in JP 2003-213437 A, JP 2006-64923 A, JP 2006-58797 A, JP 2006-135271 A, and the like.

(a) 可撓性基板30上に、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を含む被めっき層を塗布し、その後、露光・現像した後にめっき処理して金属部を被めっき材料上に形成させる態様。 (A) A plating layer containing a functional group that interacts with the plating catalyst or its precursor is applied on the flexible substrate 30, and then exposed to light and developed, and then subjected to plating to form a metal part on the material to be plated. A mode to be formed.

(b) 可撓性基板30上に、ポリマー及び金属酸化物を含む下地層と、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を含む被めっき層とをこの順に積層し、その後、露光・現像した後にめっき処理して金属部を被めっき材料上に形成させる態様。 (B) On the flexible substrate 30, a base layer containing a polymer and a metal oxide and a layer to be plated containing a functional group that interacts with a plating catalyst or a precursor thereof are laminated in this order. A mode in which the metal part is formed on the material to be plated by plating after development.

その他の方法としては、可撓性基板30上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングすることによって、第1感知電極32a及び第2感知電極32bを形成するようにしてもよい。   As another method, the photoresist film on the metal foil formed on the flexible substrate 30 is exposed and developed to form a resist pattern, and the metal foil exposed from the resist pattern is etched to form a first pattern. The first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b may be formed.

あるいは、可撓性基板30上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、メッシュパターン36を形成するようにしてもよい。   Alternatively, the mesh pattern 36 may be formed by printing a paste containing metal fine particles on the flexible substrate 30 and performing metal plating on the paste.

あるいは、可撓性基板30上に、メッシュパターン36をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。   Alternatively, the mesh pattern 36 may be printed on the flexible substrate 30 by a screen printing plate or a gravure printing plate.

あるいは、可撓性基板30上に、第1感知電極32a及び第2感知電極32bをインクジェットにより形成するようにしてもよい。   Alternatively, the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b may be formed on the flexible substrate 30 by inkjet.

あるいは、フィルム上に樹脂層を形成し、エンボスパターンが形成されたモールドを樹脂層に圧着させて樹脂層に陰刻パターンを形成した後、樹脂層の陰刻パターンを含む全面に電極材料を塗布する。その後、樹脂層の表面上の電極材料を除去することによって、樹脂層の陰刻パターンに充填された電極材料によるメッシュパターンを形成するようにしてもよい。   Alternatively, a resin layer is formed on the film, a mold having an emboss pattern formed thereon is pressed onto the resin layer to form an intaglio pattern on the resin layer, and then an electrode material is applied to the entire surface of the resin layer including the intaglio pattern. Thereafter, by removing the electrode material on the surface of the resin layer, a mesh pattern made of the electrode material filled in the intaglio pattern of the resin layer may be formed.

次に、本実施の形態に係る導電性フィルム26において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法を中心にして述べる。   Next, in the conductive film 26 according to the present embodiment, a method using a silver halide photographic light-sensitive material that is a particularly preferable embodiment will be mainly described.

本実施の形態に係る導電性フィルム26の製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の3通りの形態が含まれる。   The manufacturing method of the conductive film 26 according to the present embodiment includes the following three modes depending on the photosensitive material and the type of development processing.

(1) 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。 (1) A mode in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material not containing physical development nuclei is chemically developed or thermally developed to form a metallic silver portion on the photosensitive material.

(2) 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。 (2) An embodiment in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material containing physical development nuclei in a silver halide emulsion layer is dissolved and physically developed to form a metallic silver portion on the photosensitive material.

(3) 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。 (3) A photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material containing no physical development nuclei and an image receiving sheet having a non-photosensitive layer containing physical development nuclei are overlapped and developed by diffusion transfer, and the metallic silver portion is non-photosensitive Form formed on top.

上記(1)の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。   The aspect (1) is an integrated black-and-white development type, and a light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material. The resulting developed silver is chemically developed silver or heat developed silver, and is highly active in the subsequent plating or physical development process in that it is a filament with a high specific surface.

上記(2)の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。   In the above aspect (2), the light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material by dissolving silver halide grains close to the physical development nucleus and depositing on the development nucleus in the exposed portion. A characteristic film is formed. This is also an integrated black-and-white development type. Although the development action is precipitation on the physical development nuclei, it is highly active, but developed silver is a sphere with a small specific surface.

上記(3)の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。   In the above aspect (3), the silver halide grains are dissolved and diffused in the unexposed area and deposited on the development nuclei on the image receiving sheet, whereby a light transmitting conductive film or the like is formed on the image receiving sheet. A conductive film is formed. This is a so-called separate type in which the image receiving sheet is peeled off from the photosensitive material.

いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる(拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる)。   In either embodiment, either negative development processing or reversal development processing can be selected (in the case of the diffusion transfer method, negative development processing is possible by using an auto-positive type photosensitive material as the photosensitive material). .

ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」(共立出版社、1955年刊行)、C.E.K.Mees編「The Theory of Photographic Processes, 4th ed.」(Mcmillan社、1977年刊行)に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開2004−184693号、同2004−334077号、同2005−010752号の各公報、特願2004−244080号、同2004−085655号の各明細書に記載された技術を適用することができる。   The chemical development, thermal development, dissolution physical development, and diffusion transfer development mentioned here have the same meanings as are commonly used in the industry, and are general textbooks of photographic chemistry such as Shinichi Kikuchi, “Photochemistry” (Kyoritsu Publishing) (Published in 1955), C.I. E. K. It is described in "The Theory of Photographic Processes, 4th ed." Edited by Mees (Mcmillan, 1977). Although this case is an invention related to liquid processing, a technique of applying a thermal development system as another development system can also be referred to. For example, the techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-184893, 2004-334077, and 2005-010752, and Japanese Patent Application Nos. 2004-244080 and 2004-085655 can be applied. it can.

ここで、本実施の形態に係る導電性フィルム26の各層の構成について、以下に詳細に説明する。   Here, the configuration of each layer of the conductive film 26 according to the present embodiment will be described in detail below.

[可撓性基板30]
可撓性基板30としては、例えば光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。具体的には、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;COC(シクロオレフィン共重合体);COP(シクロオレフィンポリマー)等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。これらの材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましい。また、例えばインサート成形で可撓性基板30を作製する場合は、ポリカーボネート、COC、COP等が好ましく、その中でも、薄肉形成において有利な流動性の高いポリカーボネートが特に好ましい。
[Flexible substrate 30]
As the flexible substrate 30, for example, various materials used as substrate materials for optical disks can be arbitrarily selected and used. Specifically, acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; amorphous polyolefins; polyesters; COC (cycloolefin copolymers); Cycloolefin polymer) and the like, and these may be used in combination as desired. Among these materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable from the viewpoint of moisture resistance, dimensional stability, and low price. For example, when the flexible substrate 30 is produced by insert molding, polycarbonate, COC, COP and the like are preferable, and among them, polycarbonate having high fluidity advantageous for thin-wall formation is particularly preferable.

[銀塩乳剤層]
導電性フィルム26の金属細線38となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。
[Silver salt emulsion layer]
The silver salt emulsion layer to be the fine metal wires 38 of the conductive film 26 contains additives such as a solvent and a dye in addition to the silver salt and the binder.

本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。   Examples of the silver salt used in the present embodiment include inorganic silver salts such as silver halide and organic silver salts such as silver acetate. In the present embodiment, it is preferable to use silver halide having excellent characteristics as an optical sensor.

銀塩乳剤層の塗布銀量(銀塩の塗布量)は、銀に換算して1〜30g/m2が好ましく、1〜25g/m2がより好ましく、5〜20g/m2がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、導電性フィルム26とした場合に所望の表面抵抗を得ることができる。 Silver coating amount of silver salt emulsion layer (coating amount of silver salt) is preferably from 1 to 30 g / m 2 in terms of silver, more preferably 1 to 25 g / m 2, more preferably 5 to 20 g / m 2 . By setting the coated silver amount within the above range, a desired surface resistance can be obtained when the conductive film 26 is used.

本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン(PVP)、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。   Examples of the binder used in the present embodiment include gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinyl amine, chitosan, polylysine, and polyacryl. Examples include acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.

本実施の形態の銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀/バインダー体積比で1/4以上が好ましく、1/2以上がより好ましい。銀/バインダー体積比は、100/1以下が好ましく、50/1以下がより好ましい。また、銀/バインダー体積比は1/1〜4/1であることがさらに好ましい。1/1〜3/1であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀/バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有する導電性フィルム26を得ることができる。なお、銀/バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量/バインダー量(重量比)を銀量/バインダー量(重量比)に変換し、さらに、銀量/バインダー量(重量比)を銀量/バインダー量(体積比)に変換することで求めることができる。   The content of the binder contained in the silver salt emulsion layer of the present embodiment is not particularly limited, and can be appropriately determined as long as dispersibility and adhesion can be exhibited. The binder content in the silver salt emulsion layer is preferably ¼ or more, more preferably ½ or more in terms of the silver / binder volume ratio. The silver / binder volume ratio is preferably 100/1 or less, and more preferably 50/1 or less. The silver / binder volume ratio is more preferably 1/1 to 4/1. Most preferably, it is 1/1 to 3/1. By setting the silver / binder volume ratio in the silver salt emulsion layer within this range, even when the amount of coated silver is adjusted, variation in the resistance value can be suppressed, and the conductive film 26 having a uniform surface resistance can be obtained. . The silver / binder volume ratio is converted from the amount of silver halide / binder amount (weight ratio) of the raw material to the amount of silver / binder amount (weight ratio), and the amount of silver / binder amount (weight ratio) is further converted to the amount of silver. / It can obtain | require by converting into binder amount (volume ratio).

<溶媒>
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
<Solvent>
The solvent used for forming the silver salt emulsion layer is not particularly limited. For example, water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, etc. Sulphoxides such as, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.

<その他の添加剤>
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。
<Other additives>
There are no particular restrictions on the various additives used in the present embodiment, and known ones can be preferably used.

[その他の層構成]
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。
[Other layer structure]
A protective layer (not shown) may be provided on the silver salt emulsion layer. An undercoat layer, for example, can be provided below the silver salt emulsion layer.

次に、導電性フィルム26の作製方法の各工程について説明する。   Next, each process of the manufacturing method of the electroconductive film 26 is demonstrated.

[露光]
本実施の形態では、第1感知電極32a等を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、第1感知電極32a等を露光と現像等によって形成する。すなわち、可撓性基板30上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、X線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
[exposure]
This embodiment includes the case where the first sensing electrode 32a and the like are applied by a printing method, but the first sensing electrode 32a and the like are formed by exposure, development, and the like except for the printing method. That is, exposure is performed on a photosensitive material having a silver salt-containing layer provided on the flexible substrate 30 or a photosensitive material coated with a photopolymer for photolithography. The exposure can be performed using electromagnetic waves. Examples of the electromagnetic wave include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays. Furthermore, a light source having a wavelength distribution may be used for exposure, or a light source having a specific wavelength may be used.

[現像処理]
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
[Development processing]
In this embodiment, after the emulsion layer is exposed, development processing is further performed. The development processing can be performed by a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like. The development processing in the present invention can include a fixing processing performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed portion. For the fixing process in the present invention, a fixing process technique used for a silver salt photographic film, photographic paper, a printing plate-making film, a photomask emulsion mask, or the like can be used.

現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。   The light-sensitive material that has been subjected to development and fixing processing is preferably subjected to water washing treatment or stabilization treatment.

現像処理後の露光部に含まれる金属部の質量は、露光前の露光部に含まれていた金属の質量に対して50質量%以上の含有率であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる金属の質量が露光前の露光部に含まれていた金属の質量に対して50質量%以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。   The mass of the metal part contained in the exposed part after the development treatment is preferably 50% by mass or more, and 80% by mass or more, based on the mass of the metal contained in the exposed part before exposure. More preferably. If the mass of the metal contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of the metal contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity can be obtained.

以上の工程を経て導電性フィルム26は得られる。現像処理後の導電性フィルム26に対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により各透明導電層の表面抵抗を所望の表面抵抗(0.1〜100オーム/sq.の範囲)に調整することができる。   The conductive film 26 is obtained through the above steps. The conductive film 26 after the development process may be further subjected to a calendar process, and the surface resistance of each transparent conductive layer is set to a desired surface resistance (range of 0.1 to 100 ohm / sq.) By the calendar process. Can be adjusted.

[物理現像及びめっき処理]
本実施の形態では、露光及び現像処理により形成された金属部の導電性を向上させる目的で、金属部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び/又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属部に担持させてもよい。なお、金属部に物理現像及び/又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。
[Physical development and plating]
In the present embodiment, physical development and / or plating treatment for supporting conductive metal particles on the metal part may be performed for the purpose of improving the conductivity of the metal part formed by exposure and development processing. In the present invention, the conductive metal particles may be supported on the metal silver portion by only one of physical development and plating treatment, or the conductive metal particles may be supported on the metal portion by combining physical development and plating treatment. Good. In addition, the thing which performed the physical development and / or the plating process to the metal part is called a "conductive metal part."

本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントB&Wフィルム、インスタントスライドフィルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。   “Physical development” in the present embodiment means that metal particles such as silver ions are reduced by a reducing agent on metal or metal compound nuclei to deposit metal particles. This physical phenomenon is used for instant B & W film, instant slide film, printing plate manufacturing, and the like, and the technology can be used in the present invention. Further, the physical development may be performed simultaneously with the development processing after exposure or separately after the development processing.

本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき(化学還元めっきや置換めっき)、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。   In the present embodiment, the plating treatment can use electroless plating (chemical reduction plating or displacement plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating. For the electroless plating in the present embodiment, a known electroless plating technique can be used, for example, an electroless plating technique used in a printed wiring board or the like can be used. Plating is preferred.

[酸化処理]
本実施の形態では、現像処理後の金属部、並びに、物理現像及び/又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ100%にすることができる。
[Oxidation treatment]
In the present embodiment, it is preferable to oxidize the metal part after the development process and the conductive metal part formed by physical development and / or plating process. By performing the oxidation treatment, for example, when a metal is slightly deposited on the light transmissive portion, the metal can be removed and the light transmissive portion can be made almost 100% transparent.

[可撓性基板等の厚み]
本実施の形態に係る導電性フィルム26における可撓性基板30の厚さは、5〜350μmであることが好ましく、30〜150μmであることがさらに好ましい。5〜350μmの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
[Thickness of flexible substrate, etc.]
The thickness of the flexible substrate 30 in the conductive film 26 according to the present embodiment is preferably 5 to 350 μm, and more preferably 30 to 150 μm. If it is the range of 5-350 micrometers, the transmittance | permeability of a desired visible light will be obtained and handling will also be easy.

可撓性基板30上に設けられる金属部(金属細線等)の厚さは、可撓性基板30上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属部の厚さは、0.01〜200μmから選択可能であるが、30μm以下であることが好ましく、20μm以下であることがより好ましく、0.01〜9μmであることがさらに好ましく、0.05〜5μmであることが最も好ましい。また、金属部はパターン状であることが好ましい。金属部は1層でもよく、2層以上の重層構成であってもよい。   The thickness of the metal part (metal fine wire or the like) provided on the flexible substrate 30 can be appropriately determined according to the coating thickness of the silver salt-containing layer coating applied on the flexible substrate 30. The thickness of the metal part can be selected from 0.01 to 200 μm, preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, further preferably 0.01 to 9 μm, Most preferably, it is 05-5 micrometers. Moreover, it is preferable that a metal part is pattern shape. The metal part may be a single layer or a multilayer structure of two or more layers.

本実施の形態に係る導電性フィルム26の製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る導電性フィルム26の製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀/バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。また、金属細線とした後に、該金属細線には、少なくとも金属粒子とバインダーを含むようにしてもよい。この場合、金属細線にて構成される第1感知電極32a及び第2感知電極32bを、金属細線の断線をほとんど引き起こすことなく、可撓性基板30の三次元形状に追従して変形させることができる。   In the method for manufacturing the conductive film 26 according to the present embodiment, steps such as plating are not necessarily performed. This is because in the method for producing the conductive film 26 according to the present embodiment, a desired surface resistance can be obtained by adjusting the coating silver amount of the silver salt emulsion layer and the silver / binder volume ratio. In addition, you may perform a calendar process etc. as needed. In addition, after forming a fine metal wire, the fine metal wire may include at least metal particles and a binder. In this case, the first sensing electrode 32a and the second sensing electrode 32b configured by the fine metal wires can be deformed following the three-dimensional shape of the flexible substrate 30 with almost no disconnection of the fine metal wires. it can.

[現像処理後の硬膜処理]
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、2,3−ジヒドロキシ−1,4−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平2−141279号公報に記載のものを挙げることができる。
[Hardening after development]
It is preferable to perform a film hardening process by immersing the film in a hardener after the silver salt emulsion layer is developed. Examples of the hardener include dialdehydes such as glutaraldehyde, adipaldehyde, 2,3-dihydroxy-1,4-dioxane, and those described in JP-A-2-141279 such as boric acid. it can.

本実施の形態に係る導電性フィルム26には、反射防止層等の機能層を付与してもよい。   The conductive film 26 according to the present embodiment may be provided with a functional layer such as an antireflection layer.

[カレンダー処理]
金属部にカレンダー処理を施して平滑化するようにしてもよい。これによって金属部の導電性が顕著に増大する。カレンダー処理は、カレンダーロールにより行うことができる。カレンダーロールは通常一対のロールからなる態様が好ましい。
[Calendar processing]
You may make it smooth by giving a calendar process to a metal part. This significantly increases the conductivity of the metal part. The calendar process can be performed by a calendar roll. In general, the calendar roll is preferably composed of a pair of rolls.

カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等のプラスチックロール又は金属ロールが好適に用いられる。特に、両面に乳剤層を有する場合は、金属ロール同士で処理することが好ましい。片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせとすることもできる。線圧力の上限値は1960N/cm(200kgf/cm、面圧に換算すると699.4kgf/cm2)以上、さらに好ましくは2940N/cm(300kgf/cm、面圧に換算すると935.8kgf/cm2)以上である。線圧力の上限値は、6880N/cm(700kgf/cm)以下である。 As a roll used for the calendering process, a plastic roll such as epoxy, polyimide, polyamide, polyimide amide or a metal roll is preferably used. In particular, when emulsion layers are provided on both sides, it is preferable to treat with metal rolls. When an emulsion layer is provided on one side, a combination of a metal roll and a plastic roll can be used from the viewpoint of preventing wrinkles. The upper limit of the linear pressure is 1960 N / cm (200 kgf / cm, converted to a surface pressure of 699.4 kgf / cm 2 ) or more, more preferably 2940 N / cm (300 kgf / cm, converted to a surface pressure of 935.8 kgf / cm 2). ) That's it. The upper limit of the linear pressure is 6880 N / cm (700 kgf / cm) or less.

カレンダーロールで代表される平滑化処理の適用温度は10℃(温調なし)〜100℃が好ましく、より好ましい温度は、金属メッシュパターンや金属配線パターンの画線密度や形状、バインダー種によって異なるが、おおよそ10℃(温調なし)〜50℃の範囲にある。   The application temperature of the smoothing treatment represented by the calender roll is preferably 10 ° C. (no temperature control) to 100 ° C., and the more preferable temperature varies depending on the line density and shape of the metal mesh pattern and metal wiring pattern, and the binder type. , Approximately 10 ° C. (no temperature control) to 50 ° C.

なお、本発明は、下記表1及び表2に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。   In addition, this invention can be used in combination with the technique of the publication gazette and international publication pamphlet which are described in following Table 1 and Table 2. FIG. Notations such as “JP,” “Gazette” and “No. Pamphlet” are omitted.

Figure 0006053184
Figure 0006053184

Figure 0006053184
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なお、本発明に係るタッチパネルは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   Note that the touch panel according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can of course have various configurations without departing from the gist of the present invention.

10、10A〜10N…タッチパネル 12…電子機器
14…筐体 16a、30a…表面
16b、30b…裏面 18a〜18d…側面
24…カバー層 26…導電性フィルム
30…可撓性基板 32a…第1感知電極
32b…第2感知電極 34…セル
36…メッシュパターン 38…金属細線
40A〜40E…第1センサ領域〜第5センサ領域
42A〜42E…第1タッチパネル部〜第5タッチパネル部
44A〜44E…第1端子配線領域〜第5端子配線領域
46a、46b…第1端子配線部、第2端子配線部
52…稜線 54…シールド膜
56…スルーホール 58…絶縁層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A-10N ... Touch panel 12 ... Electronic device 14 ... Housing | casing 16a, 30a ... Front surface 16b, 30b ... Back surface 18a-18d ... Side surface 24 ... Cover layer 26 ... Conductive film 30 ... Flexible board 32a ... 1st sensing Electrode 32b ... 2nd sensing electrode 34 ... Cell 36 ... Mesh pattern 38 ... Metal fine wire 40A-40E ... 1st sensor area-5th sensor area 42A-42E ... 1st touch panel part-5th touch panel part 44A-44E ... 1st Terminal wiring region to fifth terminal wiring region 46a, 46b: first terminal wiring part, second terminal wiring part 52 ... ridge line 54 ... shield film 56 ... through hole 58 ... insulating layer

Claims (14)

電子機器の複数の面のうち、少なくとも前記電子機器の主面と、該主面に隣接する1以上の側面とにそれぞれ設置される複数のタッチパネル部を有し、
前記複数のタッチパネル部は、それぞれ複数の感知電極を有し、
前記複数の感知電極は、前記複数のタッチパネル部において共通とされた可撓性基板上に形成され、
前記可撓性基板上の、前記電子機器の稜線に対応する部分の少なくとも一部にシールド膜が配置されていることを特徴とするタッチパネル。
Among a plurality of surfaces of an electronic device, the electronic device has a plurality of touch panel units respectively installed on at least a main surface of the electronic device and one or more side surfaces adjacent to the main surface;
Each of the plurality of touch panel units includes a plurality of sensing electrodes,
The plurality of sensing electrodes are formed on a flexible substrate common to the plurality of touch panel units,
A touch panel, wherein a shield film is disposed on at least a part of a portion corresponding to a ridge line of the electronic device on the flexible substrate.
請求項1記載のタッチパネルにおいて、
前記シールド膜は、前記可撓性基板の2つの対向する面のうち、前記電子機器とは反対側の面上に配置されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 1.
The touch panel, wherein the shield film is disposed on a surface opposite to the electronic device among two opposing surfaces of the flexible substrate.
請求項1記載のタッチパネルにおいて、
前記シールド膜は、前記可撓性基板の2つの対向する面のうち、前記電子機器に向かう面に配置されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 1.
The touch panel, wherein the shield film is disposed on a surface facing the electronic device among two opposing surfaces of the flexible substrate.
請求項1〜3のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
各前記タッチパネル部に対応する前記複数の感知電極は、各前記タッチパネル部においてそれぞれ独立であることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 3,
The plurality of sensing electrodes corresponding to each of the touch panel units are independent in each of the touch panel units.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記可撓性基板は、前記シールド膜を有する側とその反対側とを電気的に接続するスルーホールを有し、該スルーホールを介して前記反対側に少なくとも前記感知電極の配線が集中していることを特徴とするタッチパネル。
In the touch panel of any one of Claims 1-4,
The flexible substrate has a through hole that electrically connects the side having the shield film and the opposite side, and at least the wiring of the sensing electrode is concentrated on the opposite side through the through hole. A touch panel characterized by being.
請求項1〜3のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記複数の感知電極の少なくとも1つが2以上の前記タッチパネル部において共通であることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 3,
The touch panel, wherein at least one of the plurality of sensing electrodes is common to the two or more touch panel units.
請求項1〜6のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記複数の感知電極を覆う保護層をさらに有し、
前記保護層に前記シールド膜が形成されていることを特徴とするタッチパネル。
In the touch panel according to any one of claims 1 to 6,
A protective layer covering the plurality of sensing electrodes;
The touch panel, wherein the shield film is formed on the protective layer.
請求項1〜7のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
各前記タッチパネル部は、前記複数の感知電極が形成されたセンサ領域を有し、
前記シールド膜は、各前記タッチパネル部における前記センサ領域を囲む領域にそれぞれ形成されていることを特徴とするタッチパネル。
In the touch panel of any one of Claims 1-7,
Each of the touch panel units has a sensor region in which the plurality of sensing electrodes are formed,
The touch panel, wherein the shield film is formed in a region surrounding the sensor region in each touch panel unit.
請求項1〜8のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記可撓性基板に形成された前記複数の感知電極が、複数の第1感知電極と複数の第2感知電極とを有することを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 8,
The touch panel, wherein the plurality of sensing electrodes formed on the flexible substrate includes a plurality of first sensing electrodes and a plurality of second sensing electrodes.
請求項9記載のタッチパネルにおいて、
前記第1感知電極及び前記第2感知電極は共に、前記可撓性基板の一方の主面に形成されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 9,
The touch panel, wherein the first sensing electrode and the second sensing electrode are both formed on one main surface of the flexible substrate.
請求項9記載のタッチパネルにおいて、
前記第1感知電極は、前記可撓性基板の一方の主面に形成され、
前記第2感知電極は、前記可撓性基板の他方の主面に形成されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 9,
The first sensing electrode is formed on one main surface of the flexible substrate,
The touch panel, wherein the second sensing electrode is formed on the other main surface of the flexible substrate.
請求項9記載のタッチパネルにおいて、
前記複数の第1感知電極と前記複数の第2感知電極とが、それぞれ別の可撓性基板の表面に設けられ、
前記複数の第1感知電極が設けられた第1可撓性基板と、前記複数の第2感知電極が設けられた第2可撓性基板とを積層したことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 9,
The plurality of first sensing electrodes and the plurality of second sensing electrodes are provided on the surfaces of different flexible substrates, respectively.
A touch panel comprising: a first flexible substrate provided with the plurality of first sensing electrodes; and a second flexible substrate provided with the plurality of second sensing electrodes.
請求項1〜8のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記複数の感知電極が、複数の第1感知電極と複数の第2感知電極とを有し、
前記可撓性基板の一方の主面に前記複数の第2感知電極が設けられ、
前記複数の第2感知電極上に絶縁膜が設けられ、
前記複数の第1感知電極は、前記絶縁膜上に形成されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 8,
The plurality of sensing electrodes include a plurality of first sensing electrodes and a plurality of second sensing electrodes;
The plurality of second sensing electrodes are provided on one main surface of the flexible substrate,
An insulating film is provided on the plurality of second sensing electrodes;
The touch panel, wherein the plurality of first sensing electrodes are formed on the insulating film.
請求項1〜13のいずれか1項に記載のタッチパネルにおいて、
前記複数の感知電極は、金属細線による多数のセルが組み合わされて構成されていることを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 13,
The touch panel, wherein the plurality of sensing electrodes are configured by combining a large number of cells made of fine metal wires.
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