JP6048287B2 - 粒子状物質の製造方法 - Google Patents
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Description
前記粒子の表面に前記コート層をスパッタ成膜する成膜工程を含み、
前記成膜工程は、有機材料を含むターゲットを用い、前記粒子を減圧下で移動させかつ加熱しつつおこなう方法である。
実施例1の粒子状物質の製造方法は、有機材料を含むターゲットのみを用い、負極材料としての粒子状物質を製造する方法である。実施例1の粒子状物質の製造方法を模式的に表す説明図を図1に示す。
先ず、市販のSiO粉末をボールミルに入れて、Ar雰囲気下で、回転数450rpmで20時間ミリングした。その後、不活性ガス雰囲気中、かつ900℃の温度下で、2時間加熱処理を行った。これにより、SiO粉末が不均化されて、粒子状のケイ素酸化物(SiOx)が得られた。このSiOxについて、CuKαを使用したX線回折(XRD)測定を行ったところ、単体ケイ素と二酸化ケイ素とに由来する特有のピークが確認された。このことから、SiOxには単体ケイ素と二酸化ケイ素が生成していること、つまり、SiOxが不均化されていることがわかった。SiOxの平均粒径は、2〜10μm程度であった。上記工程により不均化されたSiOx(つまり負極活物質)は、実施例1の製造方法における粒子である。
以下の準備工程、仮焼成工程、焼成工程により、スパッタ成膜に用いるターゲットを準備した。
円板状のバッキングプレートを準備した。バッキングプレートは無酸素銅を材料としてなる。このバッキングプレートに、SUS304製の成形用リングを載せ、成形用リングの内部に有機材料としてのα−NPDを100ml入れた。そして、成形用リング内の有機材料を均した。以上の工程で、バッキングプレート、成形用リングおよび有機材料からなるターゲット前駆材を得た。
上記準備工程で得たターゲット前駆材を、真空チャンバに入れ、真空度5×10−3Pa、150℃で2時間加熱した。この仮焼成工程により、有機材料を脱気し、かつ、有機材料中の水分を除去した。なお、このときの昇温速度は1℃/分であった。
仮焼成工程後のターゲット前駆材を、さらに真空チャンバ内において真空度5×10−3Paかつ、200℃で1時間加熱することで、ターゲット前駆材の更なる脱気および水分除去をおこなった。その後、ターゲット前駆材を当該真空チャンバ内において280℃で1時間加熱することで、ターゲット前駆材を焼成した。この焼成工程により、有機材料中の不純物を除去し、有機材料自体をなじませて、有機材料の材料充填率を高めることができる。なお、α−NPDの融点は280℃〜285℃であるため、この温度域にまで昇温することで、有機材料を溶融(可塑化)することができる。
上記工程で得た粒子1およびターゲット2を用い、RF電源によるスパッタ成膜を行なった。スパッタ成膜に用いた装置は、図1に示すように、真空チャンバ3、ターゲット2(有機ターゲット)、試料台4、加振動器5、試料皿6および図略のヒータを備える。加振動器5は作動部50と駆動部51と駆動軸部52とを持つ。駆動部51は作動部50を動作(振動)させる部分であり、具体的にはモータである。作動部50は真空チャンバ3の内部に配置され、駆動部51は真空チャンバ3の外部に配置されている。駆動軸部52は駆動部51と作動部50とを接続する部分であり、駆動部51の駆動力を作動部50に伝達する。駆動軸部52は、真空チャンバ3に形成されている軸穴30に挿通されている。軸穴30と駆動軸部52との間は気密にシールされている。作動部50の上には試料台4が載置されている。試料台4は作動部50に伴って振動可能である。また、作動部50には図略の電極が取り付けられている。
Claims (6)
- 粒子と、炭素(C)を含み前記粒子の表面に形成されているコート層と、を含む粒子状物質を製造する方法であって、
前記粒子の表面に前記コート層をスパッタ成膜する成膜工程を含み、
前記成膜工程は、有機材料を含むターゲットを用い、前記粒子を減圧下で移動させかつ加熱しつつおこない、
前記成膜工程における加熱温度は500℃以上600℃以下である粒子状物質の製造方法。 - 前記有機材料は、銅フタロシアニン、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ポリフィリン含有錯体、ルテニウム錯体、フェニルアラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン、アルギニン、ヒスチジン、ペクチン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン、N,N’−ジフェニルN,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン、トリフェニルアミン誘導体、クマリン、ローダミン、フルオレセイン、ピレン、ポリアミド、ポリオレフィン、バソクプロイン、シロール誘導体、ポリピロール系高分子材料、ポリアニリン系高分子材料、ポリチオフェン系高分子材料、オリゴチオフェン系高分子材料、ポリアセチレン系高分子材料、ポリパラフェニレンビニレン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリシラン、ポリイミド、ポリフルオレンからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の粒子状物質の製造方法。
- 前記ターゲットとして、さらに、無機材料を含むものを用いる請求項1または請求項2に記載の粒子状物質の製造方法。
- 前記成膜工程は、真空度100Pa以下でおこなう請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の粒子状物質の製造方法。
- 前記粒子として、平均粒径3nm〜100μmのものを用いる請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の粒子状物質の製造方法。
- 前記有機材料はN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジンおよび/またはN,N’−ジフェニルN,N’−ジ(m−トリル)ベンジジンである請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の粒子状物質の製造方法。
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