JP6041126B2 - 反射パルス推定方法、及び反射パルス推定プログラム - Google Patents
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Description
(1)WFD方式で得られた波形データを利用することで、従来方式では抽出漏れの可能性がある地表面の反射パルスも、的確に抽出することができる。
(2)モーメント値を採用することで、レーザー計測の特性も踏まえたうえで、より的確に地表面の反射パルスを抽出することができる。
(3)合計モーメント値と収束閾値を比較することで、繰り返し計算の収束を自動的に判断することができる。
(4)モーメント値を正規化することで、反射強度の最大値と最小値が極端に異なる場合でも、適切に処理することができる。
本願発明は、レーザー計測によって得られたウェーブフォームデータから、反射パルス(対象物に反射した信号)を抽出するものであり、具体的には、プログラムによって必要な処理をコンピュータに実行させることで実施される。このコンピュータ装置は、CPU等のプロセッサ、ROMやRAMといったメモリを具備しており、さらにマウスやキーボード等の入力手段やディスプレイを含むこともあり、パーソナルコンピュータ(PC)や、iPad(登録商標)といったタブレットPC、あるいはPDA(Personal Data Assistance)などによって構成される。
実測波形を作成するには、図2のフロー図に示すように、まず計測値を読み出す(S01)。ここで計測値について詳しく説明する。既述のとおり一つのレーザーパルスに対して、ノイズを含めると多数の反射信号(リターン記録)が受信され、記録される。これらの受信信号は、所定の時間間隔(例えば1ns)で反射強度とともに記録され、例えば8ビットとして処理する場合は256の信号が記録される。この記録された個々の信号が、すなわち計測値である。なお、ここでは一つのレーザーに対して得られる計測値の個数をn個として説明する。
ここまで、第2反射パルスの位置を特定し、第1のガウス関数と第2のガウス関数で実測波形を最も近似できるとは限らない。そこで、既述したEMアルゴリズムのように、第3反射パルス、第4反射パルス、第5反射パルスというように、繰り返し処理を行って複数のモデル波形を作成し、その中から最も妥当なものをモデル波形として、反射パルスを推定することもできる。
繰り返し処理を行う場合、あらかじめ所定の収束条件を定めることで、自動的に収束判定できて便宜である。そこで、本願発明では合計モーメント値に基づく収束判定を行うことができる。
2 航空機
3 レーザーパルス
Claims (8)
- レーザー計測によって得られる複数の計測値の中から、計測対象物に反射した反射パルスを推定する反射パルス推定方法であって、
前記複数の計測値に含まれる反射強度に基づいて、実測波形を生成する実測波形生成工程と、
前記実測波形のうち極大値を示す位置付近に、第1反射パルスを設定する反射パルス設定工程と、
前記第1反射パルスに基づいて、反射強度分布のモデルとなるモデル波形を作成するモデル波形作成工程と、
前記実測波形、前記第1反射パルス、及び前記モデル波形に基づいて、実測波形を構成する計測値ごとにモーメント値を算出するモーメント値算出工程と、
前記モーメント値からモーメント分布を生成するとともに、該モーメント分布のうち極大値を示す位置に基づいて、第2反射パルスを推定する反射パルス推定工程と、を備え、
前記モーメント値算出工程では、計測値の位置から前記第1反射パルスの位置までの距離の関数として求められる距離値を算出するとともに、前記実測波形と前記モデル波形との差分により反射強度差を算出し、さらに該距離値と該反射強度差を乗算することで前記モーメント値を算出する、ことを特徴とする反射パルス推定方法。 - 前記モデル波形作成工程、前記モーメント値算出工程、及び前記反射パルス推定工程が繰り返し行われ、
2回目の前記モデル波形作成工程では、前記第1反射パルス及び前記第2反射パルスに基づいて、反射強度分布のモデルとなるモデル波形を作成し、
2回目の前記モーメント値算出工程では、前記実測波形、前記第1反射パルス、前記第2反射パルス、及び前記モデル波形に基づいて、実測波形を構成する計測値ごとにモーメント値を算出し、
2回目の前記反射パルス推定工程では、前記モーメント値からモーメント分布を生成するとともに、該モーメント分布のうち極大値を示す位置に基づいて、第3反射パルスを推定し、
さらに選択的に、前記モデル波形作成工程、前記モーメント値算出工程、及び前記反射パルス推定工程を繰り返し行うことで、第4反射パルス以降を推定し、
前記モーメント値算出工程で算出される前記距離値は、複数の反射パルスのうち当該計測値の位置から最も近い反射パルスの位置に基づいて算出される、ことを特徴とする請求項1記載の反射パルス推定方法。 - 計測値ごとの前記モーメント値を総和することで合計モーメント値を求める合計モーメント値算出工程と、
前記合計モーメント値と収束閾値を比較し、前記合計モーメント値が収束閾値以下又は未満となる場合に、反射パルス推定の終了を判定する収束判定工程と、を備え、
前記収束判定工程は、前記反射パルス推定工程の後に行い、反射パルス推定の終了を判定しない場合は、さらに、前記モデル波形作成工程、前記モーメント値算出工程、及び前記反射パルス推定工程を繰り返し行う、ことを特徴とする請求項2記載の反射パルス推定方法。 - 前記モーメント値算出工程では、前記距離値と前記反射強度差を乗算した値を、さらに複数の計測値の反射強度のうち最も大きい値の反射強度で除すことで前記モーメント値を算出する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の反射パルス推定方法。
- レーザー計測によって得られる複数の計測値の中から、計測対象物に反射した反射パルスを推定する処理を、コンピュータに実行させる反射パルス推定プログラムであって、
前記複数の計測値に含まれる反射強度に基づいて、実測波形を生成する実測波形生成処理と、
前記実測波形のうち極大値を示す位置付近を指定することで、第1反射パルスを生成する反射パルス設定処理と、
前記第1反射パルスに基づいて、反射強度分布のモデルとなるモデル波形を作成するモデル波形作成処理と、
前記実測波形、前記第1反射パルス、及び前記モデル波形に基づいて、実測波形を構成する計測値ごとにモーメント値を算出するモーメント値算出処理と、
前記モーメント値からモーメント分布を生成するとともに、該モーメント分布のうち極大値を示す位置に基づいて、第2反射パルスを推定する反射パルス推定処理と、を前記コンピュータに実行させる機能を備え、
前記モーメント値算出処理では、計測値の位置から前記第1反射パルスの位置までの距離の関数として求められる距離値が算出されるとともに、前記実測波形と前記モデル波形との差分により反射強度差が算出され、該距離値と該反射強度差の乗算により前記モーメント値が算出される、ことを特徴とする反射パルス推定プログラム。 - 前記モデル波形作成処理、前記モーメント値算出処理、及び前記反射パルス推定処理が繰り返し行われ、
2回目の前記モデル波形作成処理では、前記第1反射パルス及び前記第2反射パルスに基づいて、反射強度分布のモデルとなるモデル波形が作成され、
2回目の前記モーメント値算出処理では、前記実測波形、前記第1反射パルス、前記第2反射パルス、及び前記モデル波形に基づいて、実測波形を構成する計測値ごとにモーメント値が算出され、
2回目の前記反射パルス推定処理では、前記モーメント値からモーメント分布が生成されるとともに、該モーメント分布のうち極大値を示す位置に基づいて、第3反射パルスが推定され、
さらに選択的に、前記モデル波形作成処理、前記モーメント値算出処理、及び前記反射パルス推定処理を繰り返し行うことで、第4反射パルス以降を推定し、
前記モーメント値算出処理で算出される前記距離値は、複数の反射パルスのうち当該計測値の位置から最も近い反射パルスの位置に基づいて算出される、ことを特徴とする請求項5記載の反射パルス推定プログラム。 - 計測値ごとの前記モーメント値を総和することで合計モーメント値を求める合計モーメント値算出処理と、
前記合計モーメント値と収束閾値を比較し、前記合計モーメント値が収束閾値以下又は未満となる場合に、反射パルス推定の終了を判定する収束判定処理と、を前記コンピュータに実行させる機能を備え、
前記収束判定処理は、前記反射パルス推定処理の後に行われ、反射パルス推定の終了が判定されない場合は、さらに、前記モデル波形作成処理、前記モーメント値算出処理、及び前記反射パルス推定処理が繰り返し行われる、ことを特徴とする請求項6記載の反射パルス推定プログラム。 - 前記モーメント値算出処理では、前記距離値と前記反射強度差を乗算した値を、さらに複数の計測値の反射強度うち最も大きい値の反射強度で除すことで前記モーメント値が算出される、ことを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれかに記載の反射パルス推定プログラム。
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JP2012175634A JP6041126B2 (ja) | 2012-08-08 | 2012-08-08 | 反射パルス推定方法、及び反射パルス推定プログラム |
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