JP6040387B1 - Lens inspection device - Google Patents

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Abstract

【課題】高精度かつ高効率にレンズを検査する。【解決手段】レンズ検査装置1は、複数の姿勢調整ユニット10と、姿勢調整ユニット10に対してレンズLを供給するレンズ供給領域79Aと、姿勢調整ユニット10からレンズを搬出するレンズ搬出装置79Bと、レンズ供給領域IN及びレンズ搬出領域OUTを通過するように、複数の姿勢調整ユニット10を移動させる移送装置60と、姿勢調整ユニット10がレンズ供給領域INからレンズ搬出領域OUTまで移動される間に存する複数の検査領域A1〜A6とを備えており、姿勢調整ユニット10は、複数の前記検査領域A1〜A6のそれぞれにおいて、レンズLの姿勢制御を個別に行いながら、レンズLの検査を行う。【選択図】図1A lens is inspected with high accuracy and high efficiency. A lens inspection device includes a plurality of posture adjustment units, a lens supply region for supplying a lens to the posture adjustment unit, and a lens unloading device for unloading the lens from the posture adjustment unit. The transfer device 60 that moves the plurality of posture adjustment units 10 so as to pass through the lens supply region IN and the lens carry-out region OUT, and during the movement of the posture adjustment unit 10 from the lens supply region IN to the lens carry-out region OUT The posture adjustment unit 10 inspects the lens L while individually controlling the posture of the lens L in each of the plurality of inspection regions A1 to A6. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、レンズを検査するレンズ検査装置に関する。   The present invention relates to a lens inspection device for inspecting a lens.

近年、デジタルカメラ、ビデオカメラ、カメラ付き携帯電話、スマートフォン、車載カメラなどのレンズモジュールの小型化及び高精度化が顕著である。これに伴い、レンズモジュールに組み込まれるレンズもより小型で、より高性能のものが求められている。   In recent years, lens modules such as digital cameras, video cameras, camera-equipped mobile phones, smartphones, and in-vehicle cameras have been remarkably reduced in size and increased in accuracy. Along with this, the lenses incorporated in the lens modules are also required to be smaller and have higher performance.

この種のレンズには、一般に、ガラス材料のプレス成形により製造されたモールドレンズや、樹脂材料の射出成形等により製造された樹脂製レンズ等が使用されている。このようなレンズには、形状精度、キズ、割れ、異物、気泡等の品質劣化要素がある。そこで、レンズ毎に検査を行う必要がある。   For this type of lens, generally, a molded lens manufactured by press molding of a glass material, a resin lens manufactured by injection molding of a resin material, or the like is used. Such a lens has quality degradation factors such as shape accuracy, scratches, cracks, foreign matter, and bubbles. Therefore, it is necessary to inspect for each lens.

従来、レンズを指やピンセットで保持し、この状態で目視にてキズ、割れ、異物、気泡等の有無等が判別する。しかし、レンズの小型化、高精度化に伴い、数μm程度のキズ等であってもレンズの性能に影響を及ぼす恐れがあるため、レンズ検査装置による検査工程の自動化が推進されてきている。   Conventionally, a lens is held with a finger or tweezers, and in this state, the presence or absence of scratches, cracks, foreign matter, bubbles, or the like is determined. However, with the miniaturization and high precision of lenses, even a scratch of about several μm may affect the performance of the lens, and therefore, automation of the inspection process by the lens inspection apparatus has been promoted.

従来のレンズ検査装置は、搬送トレーに載置される複数のレンズを、レンズ搬送機構でピックアップして調整ステージ(検査ステージ)に供給する。調整ステージでは、再度、レンズを保持してCCDカメラの上方にレンズを移動させて外観を撮像し、傷等の検査を行う。検査が完了したレンズは、レンズ搬送機構によって搬出される。なお、検査効率を高めるため、2つの調整ステージを用いて検査することも提案されている(特許文献1参照)。   A conventional lens inspection apparatus picks up a plurality of lenses placed on a transport tray by a lens transport mechanism and supplies the picked-up lens to an adjustment stage (inspection stage). On the adjustment stage, the lens is held again, and the lens is moved above the CCD camera to take an image of the appearance and inspect for scratches and the like. The lens that has been inspected is carried out by the lens transport mechanism. In order to increase inspection efficiency, it has also been proposed to perform inspection using two adjustment stages (see Patent Document 1).

特開2006−329714号公報JP 2006-329714 A

しかしながら、従来のレンズ検査装置は、各調整ステージで全ての外観検査を行うため、調整ステージにレンズが滞留する時間が長く、検査効率が悪いという問題があった。また、複数台の調整ステージを用意して、検査効率を高めようとすると、各調整ステージに対してレンズを搬入・搬出するレンズ搬送機構が長大化するので、検査装置全体が大型化するという問題があった。   However, since the conventional lens inspection apparatus performs all appearance inspections at each adjustment stage, there is a problem that the lens stays on the adjustment stage for a long time and inspection efficiency is poor. Also, if you prepare multiple adjustment stages and try to increase the inspection efficiency, the length of the lens transport mechanism that loads and unloads the lens with respect to each adjustment stage will increase, resulting in an increase in the size of the entire inspection apparatus was there.

また、従来のレンズ検査装置は、複数の調整ステージのどこかに装置誤差が生じたり、そのCCDカメラに異物が付着したりする事によって、レンズ検査の出力データに誤りが生じた場合、どの調整ステージにトラブルが生じているかを突き止める為に長時間を要し、その原因が解明されるまで、検査装置全体を停止させなければならないという問題があった。   In addition, in the conventional lens inspection apparatus, if an error occurs in the output data of the lens inspection due to an apparatus error somewhere on the plurality of adjustment stages or foreign matter adhering to the CCD camera, which adjustment is performed. There was a problem that it took a long time to find out whether a trouble occurred on the stage, and the entire inspection apparatus had to be stopped until the cause was clarified.

更にまた、従来のレンズ検査装置では、レンズ全域を単一のCCDカメラでまとめて撮像する構造であることから、例えば、レンズ周囲(外周に近い領域)の湾曲表面の傷・異物を上手く撮影できないという問題があった。その傷・異物のサイズも、撮像角度の影響で実際と異なってしまい、合否判定基準があいまいになるという問題があった。   Furthermore, since the conventional lens inspection apparatus has a structure in which the entire lens is collectively imaged with a single CCD camera, for example, it is not possible to photograph well the wound surface and foreign matter on the curved surface around the lens (region close to the outer periphery). There was a problem. The size of the scratch / foreign matter is also different from the actual size due to the influence of the imaging angle, and there is a problem that the pass / fail criterion is ambiguous.

本発明は、斯かる実情に鑑み、レンズの検査精度を高めながらも、その検査時間を短縮にすることを可能にするレンズ検査装置等を提供しようとするものである。   In view of such circumstances, the present invention intends to provide a lens inspection device and the like that can shorten the inspection time while increasing the inspection accuracy of the lens.

上記目的を達成する本発明は、レンズを検査するレンズ検査装置であって、複数の姿勢調整ユニットと、レンズ供給領域において前記姿勢調整ユニットに対して前記レンズを供給するレンズ供給装置と、レンズ搬出領域において前記姿勢調整ユニットから前記レンズを搬出するレンズ搬出装置と、前記レンズ供給領域及び前記レンズ搬出領域を経由するように、前記複数の姿勢調整ユニットを移動させる移送装置と、前記姿勢調整ユニットが前記レンズ供給領域から前記レンズ搬出領域まで移動される間に存する複数の検査領域と、複数の前記検査領域のそれぞれに配設されて前記レンズを撮像する撮像装置と、を備え、前記姿勢調整ユニットは、それぞれ、前記レンズの周縁を保持する保持部、及び前記保持部の姿勢を調整する姿勢調整機構を有し、前記姿勢調整ユニットが、複数の前記検査領域のそれぞれにおいて、前記姿勢調整機構によって前記レンズの姿勢制御を行うことを特徴とする、レンズ検査装置である。   The present invention that achieves the above object is a lens inspection device for inspecting a lens, comprising a plurality of posture adjustment units, a lens supply device that supplies the lenses to the posture adjustment unit in a lens supply region, and a lens unloading device. A lens carry-out device for carrying out the lens from the posture adjustment unit in a region, a transfer device for moving the plurality of posture adjustment units so as to pass through the lens supply region and the lens carry-out region, and the posture adjustment unit. A plurality of inspection areas existing while being moved from the lens supply area to the lens carry-out area; and an imaging device that is provided in each of the plurality of inspection areas and images the lens. Respectively, a holding unit that holds the periphery of the lens, and a posture adjusting machine that adjusts the posture of the holding unit. Have, the posture adjusting unit in each of a plurality of the inspection areas, and performs posture control of the lens by the position adjusting mechanism, a lens inspection apparatus.

上記レンズ検査装置に関連して、前記姿勢調整ユニットは、複数の前記検査領域において、互いに異なる姿勢に前記レンズを保持することを特徴とする。   In relation to the lens inspection apparatus, the posture adjustment unit holds the lens in different postures in the plurality of inspection regions.

上記レンズ検査装置に関連して、前記姿勢調整ユニットは、複数の前記検査領域において、光軸方向が互いに異なる角度となるように前記レンズを保持することを特徴とする。   In relation to the lens inspection apparatus, the posture adjustment unit holds the lens so that the optical axis directions are different from each other in the plurality of inspection regions.

上記レンズ検査装置に関連して、前記姿勢調整ユニットは、特定の前記検査領域において、光軸方向が互いに異なる角度となるように前記レンズの姿勢を複数回位置決めし、位置決め毎に前記撮像装置が前記レンズを撮像することを特徴とする。   In relation to the lens inspection device, the posture adjustment unit positions the lens posture a plurality of times so that the optical axis directions are different from each other in the specific inspection region. The lens is imaged.

上記レンズ検査装置に関連して、前記姿勢調整ユニットは、特定の前記検査領域において、前記撮像装置のフォーカスの中心が互いに異なる場所となるように前記レンズを複数回位置決めし、位置決め回毎に前記撮像装置が前記レンズを撮像することを特徴とする。   In relation to the lens inspection device, the posture adjustment unit positions the lens a plurality of times so that the centers of focus of the imaging device are different from each other in the specific inspection region, and The imaging device images the lens.

上記レンズ検査装置に関連して、前記移送装置によって搬送される前記レンズは、複数の前記検査領域に配設される複数の前記撮像装置により、互いに異なる領域にフォーカスされて撮像されることを特徴とする。   In relation to the lens inspection device, the lens conveyed by the transfer device is focused and imaged in different regions by the plurality of imaging devices arranged in the plurality of inspection regions. And

上記レンズ検査装置に関連して、複数の前記検査領域のそれぞれには、背景用プレートが前記レンズの撮像面と反対側に配設されることを特徴とする。   In relation to the lens inspection apparatus, a background plate is disposed on the opposite side of the imaging surface of the lens in each of the plurality of inspection regions.

上記レンズ検査装置に関連して、複数の前記検査領域のそれぞれには、照明装置が配設されることを特徴とする。   In relation to the lens inspection device, an illumination device is disposed in each of the plurality of inspection regions.

上記目的を達成する本発明は、レンズを検査するレンズ検査装置であって、前記レンズの周縁を保持する保持部、及び前記保持部の姿勢を調整する姿勢調整機構を有する姿勢調整ユニットと、前記姿勢調整ユニットの近傍に配設されて前記レンズを撮像する撮像装置と、を備え、前記姿勢調整機構は、前記保持部をX−Y平面のX方向へ移動させるXシフト機構と、前記保持部をX−Y平面のY方向へ移動させるYシフト機構と、前記保持部を記X−Y平面に垂直となるZ軸方向へ移動させるZシフト機構と、前記保持部をX軸周りに傾斜又は回転させるXチルト機構と、前記保持部をY軸周りに傾斜又は回転させるYチルト機構と、前記保持部をZ軸周りに傾斜又は回転させるZチルト機構と、を有することを特徴とする、レンズ検査装置である。   The present invention that achieves the above object is a lens inspection apparatus for inspecting a lens, and includes a holding unit that holds a periphery of the lens, and a posture adjusting unit that has a posture adjusting mechanism that adjusts the posture of the holding unit, An image pickup device that is arranged in the vicinity of the posture adjustment unit and picks up the lens, and the posture adjustment mechanism includes an X shift mechanism that moves the holding portion in the X direction on the XY plane, and the holding portion. A Y shift mechanism that moves the holding portion in the Y direction on the XY plane, a Z shift mechanism that moves the holding portion in the Z axis direction perpendicular to the XY plane, and the holding portion that is tilted around the X axis. A lens comprising: an X tilt mechanism that rotates; a Y tilt mechanism that tilts or rotates the holding portion around the Y axis; and a Z tilt mechanism that tilts or rotates the holding portion around the Z axis. Inspection device A.

本発明によれば、高い検査精度、かつ短時間に、レンズ検査を行うことが可能となる。   According to the present invention, it is possible to perform lens inspection with high inspection accuracy and in a short time.

同レンズ検査装置の概要を説明する平面図である。It is a top view explaining the outline | summary of the same lens inspection apparatus. 同レンズの(A)平面図及び(B)側面図である。It is the (A) top view and (B) side view of the lens. 同レンズ検査装置の姿勢調整ユニットを説明する側面図である。It is a side view explaining the attitude | position adjustment unit of the lens inspection apparatus. 同姿勢調整ユニットを説明する平面図である。It is a top view explaining the same attitude | position adjustment unit. 同姿勢調整ユニットのレンズ保持動作を説明する部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view explaining the lens holding operation of the same posture adjustment unit. 同姿勢調整ユニットのレンズ保持動作を説明する部分拡大側面断面図である。It is a partial expanded side sectional view explaining the lens holding operation of the same posture adjustment unit. レンズ供給領域の動作を説明する部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view for explaining the operation of the lens supply region. レンズ供給領域の動作を説明する部分拡大側面図である。It is a partial expanded side view explaining operation | movement of a lens supply area | region. (A)はテストチャートを示す平面図であり、(B)はテストチャートを撮像装置で撮影した状態を模式的に示す説明図である。(A) is a top view which shows a test chart, (B) is explanatory drawing which shows typically the state which image | photographed the test chart with the imaging device. (A)〜(D)は撮像装置の周辺画素の濃淡差値の変化を示すグラフであり、(E)は撮像装置上における周辺画素の配置を説明するための図であり、(F)及び(G)はチルト補正量を算出するための三角関数を説明するための図である。(A)-(D) is a graph which shows the change of the shading difference value of the surrounding pixel of an imaging device, (E) is a figure for demonstrating arrangement | positioning of the surrounding pixel on an imaging device, (F) and (G) is a diagram for explaining a trigonometric function for calculating a tilt correction amount. (A)〜(C)は、第1回目から第3回目までのチルト制御によるベストフォーカス位置の変化を説明するための図である。(A)-(C) is a figure for demonstrating the change of the best focus position by the tilt control from the 1st time to the 3rd time. 第1検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 1st test | inspection area | region, (B)-(D) is sectional drawing of the BB of the lens of (A). 第2検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 2nd test | inspection area | region, (B)-(D) are sectional drawings of BB of the lens of (A). 第3検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 3rd test | inspection area | region, (B)-(D) are sectional drawings of BB of the lens of (A). 第4検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 4th test | inspection area | region, (B)-(D) is sectional drawing of the BB of the lens of (A). 第5検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 5th test | inspection area | region, (B)-(D) is sectional drawing of the BB arrow of the lens of (A). 第6検査領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す平面図、(B)〜(D)は(A)のレンズのB―B矢視の断面図である。(A) The top view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a 6th test | inspection area | region, (B)-(D) is sectional drawing of the BB of the lens of (A). レンズ搬出領域に検査工程を説明するための、(A)レンズの検査領域を示す側面図、(B)〜(D)は(A)のレンズの断面図である。(A) The side view which shows the test | inspection area | region of a lens for demonstrating a test | inspection process to a lens carrying-out area | region, (B)-(D) are sectional drawings of the lens of (A). 同レンズ検査装置の他の構成例を説明する側面図である。It is a side view explaining the other structural example of the same lens inspection apparatus.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書において、水平面における一の方向をX方向と、水平面においてX方向と直交する方向をY方向と、X方向及びY方向に対して直交する方向をZ方向と、それぞれ定義する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In this specification, one direction in the horizontal plane is defined as the X direction, a direction perpendicular to the X direction in the horizontal plane is defined as the Y direction, and a direction perpendicular to the X direction and the Y direction is defined as the Z direction.

図1に示すように、レンズ検査装置1は、複数の姿勢調整ユニット10と、レンズ供給領域INにおいてレンズLを姿勢調整ユニット10に供給する部品供給装置79Aと、レンズ搬出領域OUTにおいて姿勢調整ユニット10からレンズLを搬出するレンズ搬出装置79Bと、レンズ供給領域IN及びレンズ搬出領域OUTを通過するように、複数の姿勢調整ユニット10を移動させる移送装置60と、全体を制御するコントローラ90を備える。   As shown in FIG. 1, the lens inspection apparatus 1 includes a plurality of posture adjustment units 10, a component supply device 79A that supplies the lens L to the posture adjustment unit 10 in the lens supply region IN, and a posture adjustment unit in the lens unloading region OUT. A lens unloading device 79B for unloading the lens L from the lens 10, a transfer device 60 for moving the plurality of posture adjustment units 10 so as to pass through the lens supply region IN and the lens unloading region OUT, and a controller 90 for controlling the whole. .

レンズ供給領域INには、複数のレンズLがストックされるレンズトレーSLが配置される。レンズ供給装置79Aは、トレーからレンズLを順番に取り出して、姿勢調整ユニット10に供給する。   In the lens supply area IN, a lens tray SL in which a plurality of lenses L are stocked is arranged. The lens supply device 79 </ b> A sequentially takes out the lenses L from the tray and supplies them to the posture adjustment unit 10.

レンズ搬出領域OUTでは、検査で合格となったレンズLを回収する回収トレーOTと、検査で不合格となったレンズLを回収するエラートレーETが配置される。レンズ搬出装置79Bは、姿勢調整ユニット10からレンズLをピックアップして、回収トレーOTとエラートレーETに振り分ける。   In the lens carry-out area OUT, a collection tray OT that collects the lenses L that pass the inspection and an error tray ET that collects the lenses L that fail the inspection are arranged. The lens carry-out device 79B picks up the lens L from the attitude adjustment unit 10 and distributes it to the collection tray OT and the error tray ET.

移送装置60は、いわゆるターレット機構であり、特に図示しないモータ等の駆動源によって回転される回転テーブルを有する。回転テーブルの周囲には、複数(ここでは8台)の姿勢調整ユニット10が、周方向に均等間隔(45°間隔)で配置される。また、本実施形態では、レンズ供給領域INとレンズ搬出領域OUTが周方向に45°の位相差で隣接されており、移送装置60は、各姿勢調整ユニット10を360°公転させることによって、姿勢調整ユニット10を、レンズ供給領域INからレンズ搬出領域OUTまで移送して、再び、レンズ供給領域INに戻す。   The transfer device 60 is a so-called turret mechanism, and has a rotary table that is rotated by a drive source such as a motor (not shown). Around the rotary table, a plurality (eight in this case) of posture adjustment units 10 are arranged at equal intervals (45 ° intervals) in the circumferential direction. In this embodiment, the lens supply region IN and the lens carry-out region OUT are adjacent to each other with a phase difference of 45 ° in the circumferential direction, and the transfer device 60 revolves each posture adjustment unit 10 by 360 ° to revolve the posture. The adjustment unit 10 is transferred from the lens supply area IN to the lens carry-out area OUT and returned to the lens supply area IN again.

レンズ供給領域INからレンズ搬出領域OUT間には、合計6か所の第1乃至第6検査領域A1〜A6が存在しており、姿勢調整ユニット10がこれらの検査領域A1〜A6を通過する際、レンズLの姿勢を様々に変更して、各種検査を行うようになっている。つまり、移送装置60の移送経路上には、レンズ供給領域INと、第1乃至第6検査領域A1〜A6と、レンズ搬出領域OUTが、均等間隔に配置されており、8台の姿勢調整ユニット10が各々の領域に同時に停止するようになっている。なお、本実施形態では、レンズ供給領域INとレンズ搬出領域OUTでも、レンズLの検査を行う。   There are a total of six first to sixth inspection areas A1 to A6 between the lens supply area IN and the lens carry-out area OUT, and the posture adjustment unit 10 passes through these inspection areas A1 to A6. Various inspections are performed by changing the posture of the lens L in various ways. That is, on the transfer path of the transfer device 60, the lens supply area IN, the first to sixth inspection areas A1 to A6, and the lens carry-out area OUT are arranged at equal intervals, and eight posture adjustment units. 10 stops in each area at the same time. In the present embodiment, the lens L is inspected also in the lens supply area IN and the lens carry-out area OUT.

各姿勢調整ユニット10は、上流側から下流側に向かって、レンズ供給領域IN、第1乃至第6検査領域A1〜A6、レンズ搬出領域OUTを通過する。これらの領域は、45°の間隔で配置されていることから、8台の姿勢調整ユニット10が、これらの領域のいずれかに同時に停止し、各領域の工程が同時進行的に行われる。   Each posture adjustment unit 10 passes through the lens supply area IN, the first to sixth inspection areas A1 to A6, and the lens carry-out area OUT from the upstream side toward the downstream side. Since these areas are arranged at intervals of 45 °, the eight posture adjustment units 10 stop simultaneously in any of these areas, and the processes of the respective areas are performed simultaneously.

図2には、本レンズ検査装置1で検査されるレンズLが示される。このレンズLは、光入射側の面LAと、光出射側の面LBとを有し、両面が光軸方向に凸状となる両凸レンズとなっている。また、レンズLの外周縁には、半径方向外側に突出する凸部LTが形成される。この凸部LTは、レンズLの周方向の基準位置を決定するために用いられる。なお、レンズLの形状は様々であり、平凸レンズ、凸メニスカスレンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、凹メニスカスレンズ等が挙げられる。   FIG. 2 shows a lens L to be inspected by the lens inspection apparatus 1. This lens L has a light incident side surface LA and a light output side surface LB, and is a biconvex lens in which both surfaces are convex in the optical axis direction. Further, a convex portion LT that protrudes outward in the radial direction is formed on the outer peripheral edge of the lens L. The convex portion LT is used to determine a reference position in the circumferential direction of the lens L. The shape of the lens L varies, and examples include a plano-convex lens, a convex meniscus lens, a biconcave lens, a plano-concave lens, and a concave meniscus lens.

図3及び図4に示すように、姿勢調整ユニット10は、レンズLを保持する保持部20と、基台5上に配置されて保持部20の姿勢を調整する姿勢調整機構40とを有する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the posture adjustment unit 10 includes a holding portion 20 that holds the lens L, and a posture adjustment mechanism 40 that is disposed on the base 5 and adjusts the posture of the holding portion 20.

保持部20は、所謂チャック機構となっており、回転テーブルの半径方向に延びる第一アーム22及び第二アーム24と、第一アーム22と第二アーム24を、回転テーブルの接線方向又は周方向に開閉するアーム移動部(第一開閉機構)26を有する。アーム移動部26は、スライドガイドであり、第一アーム22及び第二アーム24を接近・離反するように水平方向にスライドさせる。なお、開閉方法は、旋回等のように他の手法を採用しても良い。   The holding unit 20 is a so-called chuck mechanism, and the first arm 22 and the second arm 24 extending in the radial direction of the rotary table, and the first arm 22 and the second arm 24 are connected in a tangential direction or a circumferential direction of the rotary table. And an arm moving part (first opening / closing mechanism) 26 that opens and closes. The arm moving unit 26 is a slide guide, and slides the first arm 22 and the second arm 24 in the horizontal direction so as to approach and separate from each other. The opening / closing method may employ other methods such as turning.

図5(A)に示すように、第一アーム22及び第二アーム24の先端には、レンズLを保持するための部分円弧形状の凹部22A、24Aが形成される。従って、凹部22A、24AをレンズLの外周縁に当接させることで、レンズLが安定的に保持される。更に、第一アーム22及び第二アーム24の先端には、逃げ部25Aが形成される。この逃げ部25Aは、凹部22A、24Aから更に半径方向外側に拡張する切欠きとなる。図5(C)に示すように、第一アーム22及び第二アーム24によってレンズLを保持した状態において、レンズLを光軸方向から視た場合、逃げ部25Aによって、レンズLの周囲に形成される凸部LTと各アーム22、24の干渉が回避され、位置決め誤差を低減できる。なお、ここでは切欠きによって逃げ部25Aを構成する場合を例示したが、図5(B)に示すように、第一アーム22及び第二アーム24がそもそも存在しない空間(例えば隙間25B)を逃げ部とし、そこに凸部LTを位置決めすることもできる。また、ここでは二本のアームを用いる場合を例示するが、周方向に位相の異なる4本のアームを、半径方向内側に接近させて、各アームの先端によってレンズLを保持する構造等を採用しても良い。   As shown in FIG. 5A, partial arc-shaped concave portions 22 </ b> A and 24 </ b> A for holding the lens L are formed at the tips of the first arm 22 and the second arm 24. Therefore, the lens L is stably held by bringing the concave portions 22A and 24A into contact with the outer peripheral edge of the lens L. Further, a relief portion 25 </ b> A is formed at the tips of the first arm 22 and the second arm 24. The escape portion 25A is a notch that extends further outward in the radial direction from the recesses 22A and 24A. As shown in FIG. 5C, when the lens L is viewed from the optical axis direction in a state where the lens L is held by the first arm 22 and the second arm 24, the lens L is formed around the lens L by the escape portion 25A. Interference between the projected portion LT and the arms 22 and 24 is avoided, and positioning errors can be reduced. Here, the case where the escape portion 25A is configured by a notch is illustrated, but as shown in FIG. 5B, the first arm 22 and the second arm 24 escape in a space where the first arm 22 and the second arm 24 do not exist (for example, the gap 25B). The convex portion LT can be positioned there. In this example, two arms are used, but a structure is adopted in which four arms with different phases in the circumferential direction are brought closer to the inside in the radial direction and the lens L is held by the tip of each arm. You may do it.

図6に示すように、保持部20におけるレンズLを保持する部位は、水平方向から視た場合に、極めて肉薄の部材で構成される。このようにすると、レンズLを保持した際に、保持部20が、レンズLの上端面から突出しないか、又は、突出したとしても数ミリ以内(例えば5mm以内)の突出量に制限される。これにより、検査時に保持部20が邪魔にならないようにしている。   As shown in FIG. 6, the portion that holds the lens L in the holding portion 20 is configured by a very thin member when viewed from the horizontal direction. In this way, when holding the lens L, the holding portion 20 does not protrude from the upper end surface of the lens L, or even if it protrudes, the amount of protrusion is limited to within a few millimeters (for example, within 5 mm). This prevents the holding unit 20 from getting in the way during inspection.

図3及び図4に戻って、姿勢調整機構40は、保持部20を支持するとともに、保持部20の位置及び姿勢を個別に調節可能なものであり、基台5に固定されるYシフト機構40YSと、このYシフト機構40YSのスライド部材に固定されるXシフト機構40XSと、このXシフト機構40XSのスライド部材に固定されるZシフト機構40ZSと、このZシフト機構40ZSのスライド部材に固定されるYチルト機構40YTと、このYチルト機構40YTのチルトテーブルに固定されるZチルト機構40ZTと、このZチルト機構40ZTのチルトテーブルに固定されるXチルト機構(回転機構)40XTを有する。Xチルト機構40XTのチルトテーブル上に保持部20が設置される。なお、このチルトの回転中心となるX軸、Y軸、Z軸は、レンズ部LLの略中心に設定される。   3 and 4, the posture adjustment mechanism 40 supports the holding unit 20 and can individually adjust the position and posture of the holding unit 20, and is fixed to the base 5. 40YS, an X shift mechanism 40XS fixed to the slide member of the Y shift mechanism 40YS, a Z shift mechanism 40ZS fixed to the slide member of the X shift mechanism 40XS, and a slide member of the Z shift mechanism 40ZS. Y tilt mechanism 40YT, Z tilt mechanism 40ZT fixed to the tilt table of Y tilt mechanism 40YT, and X tilt mechanism (rotation mechanism) 40XT fixed to the tilt table of Z tilt mechanism 40ZT. The holding unit 20 is installed on the tilt table of the X tilt mechanism 40XT. Note that the X axis, Y axis, and Z axis, which are the rotation centers of the tilt, are set to the approximate center of the lens portion LL.

従って、姿勢調整機構40は、Z軸方向に沿って、X、Y及びZシフト機構40XS、40YS、40ZSが積層され、更に、回転テーブルの半径方向外側に向かってX、Y及びZチルト機構40XT、40YT、40ZTが積層される構造となっている。なお、これらのY及びZチルト機構40YT、40ZTは、所謂ゴニオステージとなっている。   Therefore, the attitude adjustment mechanism 40 is configured by stacking X, Y and Z shift mechanisms 40XS, 40YS, and 40ZS along the Z-axis direction, and further X, Y, and Z tilt mechanisms 40XT toward the radially outer side of the rotary table. , 40YT, 40ZT are stacked. The Y and Z tilt mechanisms 40YT and 40ZT are so-called gonio stages.

特に図示しないが、Yシフト機構40YSの駆動機構は、ベース側とスライド部材の間を連結してスライド部材を一方側に付勢する弾性部材(例えばバネやゴム)と、この弾性部材の付勢に抗してスライド部材をカム等によって移動させる駆動源(例えばサーボモータやソレノイド)によって構成される。この構造は、Y及びZシフト機構40YS、40ZSにも同様に適用される。   Although not particularly illustrated, the drive mechanism of the Y shift mechanism 40YS includes an elastic member (for example, a spring or rubber) that connects the base side and the slide member and biases the slide member to one side, and the bias of the elastic member. It is comprised by the drive source (for example, a servomotor or a solenoid) which moves a slide member with a cam etc. against this. This structure is similarly applied to the Y and Z shift mechanisms 40YS and 40ZS.

特に図示しないが、Xチルト機構40XTの駆動構造は、ベース側とチルトテーブルの間を連結してチルトテーブルを一方側に揺動させる弾性部材(例えばバネやゴム)と、この弾性部材の付勢に抗してチルトテーブルをカム等によって反対側に揺動させる駆動源(例えばサーボモータやソレノイド)によって構成される。この構造は、Y及びZチルト機構40YT、40ZTにも同様に適用される。このように、駆動構造として、弾性部材と、カム等を組み合わせると、全体として極めてコンパクトな構成で6軸対応の姿勢調整機構40を駆動できる。なお、この駆動機構は、例えばボールねじ等を用いることもできる。   Although not particularly illustrated, the drive structure of the X tilt mechanism 40XT includes an elastic member (for example, a spring or rubber) that connects the base side and the tilt table to swing the tilt table to one side, and an urging force of the elastic member. Against this, it is constituted by a drive source (for example, a servo motor or a solenoid) that swings the tilt table to the opposite side by a cam or the like. This structure is similarly applied to the Y and Z tilt mechanisms 40YT and 40ZT. As described above, when the elastic member, the cam, and the like are combined as the drive structure, the posture adjusting mechanism 40 corresponding to 6 axes can be driven with a very compact configuration as a whole. In addition, this drive mechanism can also use a ball screw etc., for example.

次に、レンズ検査装置1の各領域における動作について説明する。なお、本実施形態では、図2に示すように、レンズLの表面を格子状に9か所に区画して、この第1〜第9区画LK1〜LK9毎に検査する。   Next, operations in each region of the lens inspection apparatus 1 will be described. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the surface of the lens L is divided into nine places in a lattice shape, and inspection is performed for each of the first to ninth sections LK1 to LK9.

レンズ供給領域IN:図7(A)乃至(C)に示すように、レンズ供給装置79Aから姿勢調整ユニット10にレンズLが供給される。なお、レンズ供給領域INの下側には、撮像装置KINが配置されており、レンズ供給装置79AにおけるレンズLの保持姿勢を撮像装置KINで撮像可能となっている。レンズ供給装置79Aは、撮像装置KINのデータに基づいて、レンズLをθ方向に回転させることで、凸部LTが、保持部20の逃げ部25Aに位置するように回転制御してから、姿勢調整ユニット10にレンズLを供給する。   Lens supply area IN: As shown in FIGS. 7A to 7C, the lens L is supplied from the lens supply device 79A to the posture adjustment unit 10. Note that an imaging device KIN is disposed below the lens supply region IN, and the holding posture of the lens L in the lens supply device 79A can be captured by the imaging device KIN. The lens supply device 79A rotates the lens L in the θ direction based on the data of the imaging device KIN, thereby controlling the rotation so that the convex portion LT is positioned at the escape portion 25A of the holding portion 20, and then the posture. The lens L is supplied to the adjustment unit 10.

図8に示すように、レンズ供給装置79Aは、バキュームチャックBCで、レンズLの天面又は底面を吸着して、回転制御しながら姿勢調整ユニット10まで搬送する。一方、姿勢調整ユニット10は、バキュームチャックBCで吸着保持されているレンズLを保持部20で挟持する。保持部20によってレンズLを保持した後は、バキュームチャックBCの負圧を開放して退避させる。   As shown in FIG. 8, the lens supply device 79A sucks the top surface or the bottom surface of the lens L with the vacuum chuck BC and conveys it to the posture adjustment unit 10 while controlling the rotation. On the other hand, the posture adjustment unit 10 holds the lens L sucked and held by the vacuum chuck BC with the holding unit 20. After holding the lens L by the holding unit 20, the negative pressure of the vacuum chuck BC is released and retracted.

更にレンズ供給領域INでは、レンズLの光軸中心及びその角度と、レンズLの軸方向位置を検出する(これをチルト調整及びフォーカス調整という)。具体的には、図3に示すように、レンズ供給領域INの上方に光軸調整装置(チャート装置)Wを配置しておき、下側に、撮像装置MINを配置しておく。レンズLが、光軸調整装置Wと撮像装置MINの間に挿入されると、レンズLを介して光軸調整装置Wのテストチャート像を、撮像装置MINで撮像する。この撮像結果(撮像情報)を利用して、姿勢調整機構40が、保持部20をチルト制御及び各種制御を行い、レンズLの光軸を正しく検知する。結果、姿勢調整機構40は、レンズLの光軸がレンズ検査装置1の各検査領域の検査基準軸と平行となるようにし、さらにレンズLの光軸中心が、レンズ検査装置1の各検査領域の検査中心と一致するように姿勢制御できる。また、レンズLの光軸方向における位置を検出することが可能になる。   Further, in the lens supply area IN, the center and angle of the optical axis of the lens L and the axial position of the lens L are detected (this is called tilt adjustment and focus adjustment). Specifically, as shown in FIG. 3, an optical axis adjusting device (chart device) W is disposed above the lens supply region IN, and an imaging device MIN is disposed below. When the lens L is inserted between the optical axis adjustment device W and the imaging device MIN, the test chart image of the optical axis adjustment device W is taken by the imaging device MIN via the lens L. Using this imaging result (imaging information), the attitude adjustment mechanism 40 performs tilt control and various controls on the holding unit 20 to correctly detect the optical axis of the lens L. As a result, the posture adjustment mechanism 40 causes the optical axis of the lens L to be parallel to the inspection reference axis of each inspection region of the lens inspection device 1, and the optical axis center of the lens L is the inspection region of the lens inspection device 1. The posture can be controlled to match the inspection center. In addition, the position of the lens L in the optical axis direction can be detected.

図9(A)に、光軸調整装置(チャート装置)WにおけるテストチャートFの例を示す。テストチャートFには、縞模様F1が描かれている。この縞模様F1を撮影した映像において、例えば、フォーカスが一致する時は、映像の濃淡(出力信号の黒と白の明暗差)が大きくなり、フォーカスが不一致(ぼけている)の時は、濃淡が小さくなる。これにより、レンズLの光軸方向の位置を検知できる。また、テストチャートFには、その中心を判定するための交差模様F2が描かれている。これにより、プレート中心F3を判定することができる。また、縞模様F1又は交差模様F2の角度によって、Z軸周りの回転角度について判定することができる。   FIG. 9A shows an example of a test chart F in the optical axis adjusting device (chart device) W. On the test chart F, a striped pattern F1 is drawn. In the video obtained by photographing the striped pattern F1, for example, when the focus is matched, the density of the video (the difference between the black and white of the output signal) becomes large, and when the focus is mismatched (blurred), the density is shaded. Becomes smaller. Thereby, the position of the lens L in the optical axis direction can be detected. Further, the test chart F has a cross pattern F2 for determining the center thereof. Thereby, the plate center F3 can be determined. Further, the rotation angle around the Z axis can be determined by the angle of the stripe pattern F1 or the cross pattern F2.

図9(B)には、テストチャートFを撮像装置MINで撮影した状態を模式的に示す。撮像装置MINで撮影されたデータ領域(フレーム)をGとし、そのデータ領域Gのフレーム中心Eと定義し、フレーム中心Eに対して周囲3か所以上の複数個所(ここでは4か所)の画素群を周辺画素A〜Dと定義する。補正条件算出装置は、フレーム中心Eと、データ領域Gに映し出されているプレート中心F3とのX−Y方向の誤差Gxs、Gysを算出する。また、データ領域Gに映し出されている交差模様F2と、データ領域GのX方向、Y方向のフレーム基準線KX、KYの差から、Z軸周りの誤差Gztを算出する。これらの誤差Gxs、Gys、Gztが、レンズLの中心を、光軸調整装置Wの中心に合わせるためのXシフト、Yシフト、Zチルト(Z軸周り回転)の補正条件となる。   FIG. 9B schematically shows a state where the test chart F is photographed by the imaging device MIN. A data area (frame) photographed by the imaging device MIN is defined as G, and is defined as a frame center E of the data area G, and there are a plurality of (four in this case) three or more surroundings with respect to the frame center E. A pixel group is defined as peripheral pixels A to D. The correction condition calculation device calculates errors Gxs and Gys in the XY directions between the frame center E and the plate center F3 projected in the data area G. Also, an error Gzt around the Z axis is calculated from the difference between the intersecting pattern F2 displayed in the data area G and the frame reference lines KX and KY in the X direction and Y direction of the data area G. These errors Gxs, Gys, and Gzt are correction conditions for X shift, Y shift, and Z tilt (rotation around the Z axis) for aligning the center of the lens L with the center of the optical axis adjustment device W.

なお、ここではフレーム中心Eと、データ領域Gに映し出されているプレート中心F3とのX−Y方向の誤差Gxs、GysをXシフト、Yシフトの補正条件としたが、本発明はこれに限定されない。例えば、レンズLの中心は、撮像装置MINの映像の中で最も明るい位置となり、周囲に広がるにつれて、環状に段階的に暗くなっていく。従って、撮像装置MINで撮影された画像を解析することによって、データ領域Gの中で最も明るい領域をレンズLの中心(レンズ中心)FMと判定し、そのレンズ中心FMと、データ領域Gのフレーム中心EとのX方向及びY方向の誤差Gxs、Gysを、Xシフト、Yシフトの補正条件とすることも好ましい。この手法は、レンズLのレンズ中心が、フォーカス判定用模様プレートFの中心と不一致となる場合に有効である。   Here, the errors Gxs and Gys in the XY direction between the frame center E and the plate center F3 projected in the data area G are used as the X shift and Y shift correction conditions, but the present invention is not limited to this. Not. For example, the center of the lens L is the brightest position in the image of the imaging device MIN, and becomes darker in a stepwise manner as it spreads around. Therefore, by analyzing the image captured by the imaging device MIN, the brightest region in the data region G is determined as the center (lens center) FM of the lens L, and the lens center FM and the frame of the data region G are determined. It is also preferable that the errors Gxs and Gys in the X direction and the Y direction with respect to the center E are used as correction conditions for the X shift and the Y shift. This technique is effective when the lens center of the lens L does not coincide with the center of the focus determination pattern plate F.

X,Yチルト調整又はフォーカス調整を行う場合、姿勢調整ユニット10によって、レンズLをZ軸方向に上昇(プラス方向に移動)させながら、Z軸方向の複数箇所でテストチャートFを撮像装置MINで撮像する。補正条件算出装置は、周辺画素A〜D内の濃淡差値(明暗差値)BWを算出し、Z方向の移動に沿った濃淡差値BWの出力変動から、チルト誤差を算出する。具体的には、図10(A)〜(D)に示すように、周辺画素A〜Dのそれぞれについて、Z方向の移動に伴う濃淡差値(明暗差値)BWのピーク点(これをベストフォーカスという)のZ方向位置(これをZ方向フォーカス位置という)ZA、ZB、ZC、ZDを決定する。ベストフォーカスのタイミング、即ちZ方向フォーカス位置ZA、ZB、ZC、ZDが、各周辺画素A〜Dで互いにずれている場合は、撮像装置MINの光軸と、レンズLの光軸に角度差を有すると定義できるので、このZ方向フォーカス位置が、全周辺画素A〜Dで殆ど一致するように、レンズLをY軸周り及びX軸周りでチルト制御する。   When performing X, Y tilt adjustment or focus adjustment, the posture adjustment unit 10 raises the lens L in the Z-axis direction (moves in the positive direction), while the test chart F is captured at a plurality of locations in the Z-axis direction by the imaging device MIN. Take an image. The correction condition calculation device calculates a density difference value (brightness / darkness difference value) BW in the peripheral pixels A to D, and calculates a tilt error from an output fluctuation of the density difference value BW along the movement in the Z direction. Specifically, as shown in FIGS. 10A to 10D, for each of the peripheral pixels A to D, the peak point of the density difference value (light / dark difference value) BW accompanying the movement in the Z direction (this is the best). AZ, ZB, ZC, and ZD of the Z direction position (referred to as the Z direction focus position) of the focus) are determined. When the best focus timing, that is, the Z-direction focus positions ZA, ZB, ZC, and ZD are shifted from each other in the peripheral pixels A to D, an angle difference is set between the optical axis of the imaging device MIN and the optical axis of the lens L. Therefore, the lens L is tilt-controlled around the Y axis and the X axis so that the Z-direction focus position almost coincides with all the peripheral pixels A to D.

例えば、図10(E)の通り、X軸方向に実距離Xabを有する画素Aと画素Bについて解析を行い、図10(A)(B)の通り、画素Aと画素BのZ方向フォーカス位置の差としてのZ軸方向の実距離Zab(=ZA−ZB)を算出した場合を想定する。図10(F)の関係式によって、これら2つの実距離Xab、Zabを隣辺とする直角三角形の斜辺の傾斜角を算出すれば、Y軸周りの光軸の傾斜ズレ量Gytを決定できる。同様に、図10(E)の通り、Y軸方向に実距離Yacを有する画素Aと画素Cについて解析を行い、図10(A)(C)の通り、画素Aと画素CのZ方向フォーカス位置の差としてのZ軸方向の実距離Zac(=ZA−ZC)を算出した場合を想定する。更に図10(G)の関係式によって、これら2つの実距離Yac、Zacを隣辺とする直角三角形の斜辺の傾斜角を算出することで、X軸周りの光軸の傾斜ズレ量Gxtを決定できる。これらの傾斜ズレ量Gyt、Gxtが、Yチルト、Xチルトの補正条件となる。   For example, as shown in FIG. 10E, the analysis is performed on the pixel A and the pixel B having the actual distance Xab in the X-axis direction, and the Z-direction focus position of the pixel A and the pixel B as shown in FIGS. Assume that the actual distance Zab (= ZA−ZB) in the Z-axis direction is calculated as the difference between the two. By calculating the inclination angle of the hypotenuse of the right triangle whose adjacent sides are these two actual distances Xab and Zab, the tilt deviation amount Gyt of the optical axis around the Y axis can be determined by the relational expression of FIG. Similarly, as shown in FIG. 10E, the pixels A and C having the actual distance Yac in the Y-axis direction are analyzed, and the Z-direction focus of the pixels A and C is obtained as shown in FIGS. Assume a case where an actual distance Zac (= ZA−ZC) in the Z-axis direction as a position difference is calculated. Further, the inclination angle Gxt of the optical axis around the X axis is determined by calculating the inclination angle of the hypotenuse of the right triangle having the two actual distances Yac and Zac as the adjacent sides by the relational expression in FIG. it can. These tilt shift amounts Gyt and Gxt are correction conditions for Y tilt and X tilt.

なお、ここでは、3つの画素A〜CのZ方向フォーカス位置ZA、ZB、ZCを用いてXチルト、Yチルトの補正条件を算出する場合を例示した。即ち、Xチルト、Yチルトを算定する際には、少なくとも3角形の頂点を構成する3つの周辺画素A〜Cを用いれば可能である。一方、4つの画素A〜D又はそれ以上の画素を用いて算出することもできる。例えば、図10(E)に示すように、X方向の同一位置に存在する画素Aと画素CのZ方向位置の平均値(ZA+ZC)/2と、X方向の同一位置に存在する画素Bと画素Dの平均値(ZB+ZD)/2の値を用いて、Y軸周りの傾斜ズレ量(Yチルトの補正条件)を算出しても良い。X軸周りの傾斜ズレ量を算出する場合も同様である。   Here, the case where the correction conditions for the X tilt and the Y tilt are calculated using the Z-direction focus positions ZA, ZB, and ZC of the three pixels A to C is illustrated. That is, when calculating the X tilt and the Y tilt, it is possible to use at least three peripheral pixels A to C constituting the apex of the triangle. On the other hand, it is also possible to calculate using four pixels A to D or more. For example, as shown in FIG. 10E, the average value (ZA + ZC) / 2 of the Z-direction position of the pixel A and the pixel C existing at the same position in the X direction, and the pixel B existing at the same position in the X direction Using the average value (ZB + ZD) / 2 of the pixels D, the amount of tilt deviation around the Y axis (Y tilt correction condition) may be calculated. The same applies when calculating the amount of tilt deviation around the X axis.

また、周辺画素A〜DのZ方向フォーカス位置の平均値は、最終的なZシフトの設定条件Gztとなる。なお、Zシフトについては、他の補正値を算定するためにサーチ動作する軸となるので、Zシフトについては補正条件という概念ではなく、最終的な設定条件となる。   The average value of the Z-direction focus positions of the peripheral pixels A to D is the final Z shift setting condition Gzt. Since the Z shift is an axis for performing a search operation to calculate other correction values, the Z shift is not a concept of correction conditions but a final setting condition.

以上の結果、光軸調整装置Wを利用した補正条件算出によって、Xシフト、Yシフト、Zシフト、Xチルト、Yチルト、Zチルトの補正条件(Zシフトについては設定条件)を出力することができる。つまり、レンズLの光軸と、レンズLの光軸方向の位置を正確に検知できることになる。なお、ここではXチルト、Yチルトの補正条件を決定する際に、複数画素間で、Z方向フォーカス位置の差と、画素間距離を用いた三角関数により、幾何学的に算出する場合を例示しているが、本発明はこの手法に限定されないことはいうまでもない。   As a result, correction conditions for the X shift, Y shift, Z shift, X tilt, Y tilt, and Z tilt (setting conditions for the Z shift) can be output by calculating the correction conditions using the optical axis adjustment device W. it can. That is, the optical axis of the lens L and the position of the lens L in the optical axis direction can be accurately detected. In addition, here, when determining correction conditions for X tilt and Y tilt, a case where geometric calculation is performed using a trigonometric function using a Z-direction focus position difference and an inter-pixel distance between a plurality of pixels is illustrated. However, it goes without saying that the present invention is not limited to this method.

更にここでは、1回目のZシフト補正条件に基づいて姿勢調整ユニット10を用いてレンズLをZ軸方向に移動させてから、光軸調整装置Wを利用してテストチャートFを再度撮像し、前述と同様のZシフト補正条件及びチルト補正条件の算出を再び行う。この工程をフォーカス制御という。   Furthermore, here, after moving the lens L in the Z-axis direction using the attitude adjustment unit 10 based on the first Z shift correction condition, the test chart F is imaged again using the optical axis adjustment device W, The same Z shift correction condition and tilt correction condition as described above are calculated again. This process is called focus control.

具体的にコントローラ90は、2回目のZシフト補正条件を算出後、内蔵する判定部によって、2回目のZシフト補正条件が許容範囲内であるか否かを判定する。即ち、Zシフト補正量が許容範囲内か否かを判定する。2回目以降のZシフト補正条件が光照射の許容範囲内であると判定された場合には、2回目のZシフト補正条件に従った保持部20のZシフト調整を行わずに、位置決めを終了させる。一方、2回目のZシフト補正条件が許容範囲外の場合、上記工程を繰り返すために、2回目のZシフト補正条件によるフォーカス制御を行ってから、再度、テストチャートの撮影を行う。即ち、(1)再算出されたZシフト補正条件に関する所定の判定処理や設定処理の実行、(2)判定処理や設定処理の結果を反映した保持部20のZシフト調整、(3)Zシフト補正条件の再算出、を繰り返し行う。   Specifically, after calculating the second Z shift correction condition, the controller 90 determines whether or not the second Z shift correction condition is within an allowable range by a built-in determination unit. That is, it is determined whether or not the Z shift correction amount is within an allowable range. If it is determined that the second and subsequent Z shift correction conditions are within the allowable range of light irradiation, positioning is completed without performing the Z shift adjustment of the holding unit 20 according to the second Z shift correction condition. Let On the other hand, if the second Z shift correction condition is outside the allowable range, in order to repeat the above process, focus control is performed based on the second Z shift correction condition, and then the test chart is photographed again. That is, (1) execution of predetermined determination processing and setting processing regarding the recalculated Z shift correction condition, (2) Z shift adjustment of the holding unit 20 reflecting the results of the determination processing and setting processing, and (3) Z shift. Repeat the recalculation of the correction conditions.

図10には、コントローラ90で解析された周辺画素A〜DのZ方向フォーカス位置を重ねて表示する図を示す。図11(A)は第一回目のチルト補正後、図11(B)は第二回目のチルト補正後、図11(C)は第三回目のチルト補正後である。第一回目では、Z方向フォーカス位置ZA〜ZDが大きくズレるが、第二回目になるとZ方向フォーカス位置ZA〜ZDが急激に接近する。第三回目では、Z方向フォーカス位置ZA〜ZDが殆ど一致する。第三回目で、Z方向フォーカス位置ZA〜ZDのズレ量が所定範囲APの範囲内に収まるので、フォーカス制御を完了させる。なお、この図11からわかるように、レンズLをZ方向に移動させながら撮像するサーチ範囲Zsrは、第一回目は広く設定する必要があるが、第二回目以降は、Z方向フォーカス位置ZA〜ZDの平均値と中心として狭く設定することが好ましく、撮像時間を短縮することが可能となる。勿論、撮像装置MIN側をZ軸方向に移動させても良い。   FIG. 10 shows a diagram in which the Z-direction focus positions of the peripheral pixels A to D analyzed by the controller 90 are displayed in an overlapping manner. 11A is after the first tilt correction, FIG. 11B is after the second tilt correction, and FIG. 11C is after the third tilt correction. In the first time, the Z-direction focus positions ZA to ZD are greatly shifted, but in the second time, the Z-direction focus positions ZA to ZD approach rapidly. In the third time, the Z-direction focus positions ZA to ZD almost coincide. In the third time, the amount of deviation of the Z direction focus positions ZA to ZD falls within the range of the predetermined range AP, so the focus control is completed. As can be seen from FIG. 11, the search range Zsr for imaging while moving the lens L in the Z direction needs to be set wide in the first time, but in the second and subsequent times, the Z-direction focus position ZA˜ It is preferable to set the ZD average value and the center as narrow, and the imaging time can be shortened. Of course, the imaging device MIN side may be moved in the Z-axis direction.

更にこのレンズ供給領域INは、レンズ検査領域(外形検査領域)を兼ねており、撮像装置MINで撮像されたレンズLの映像を利用して、レンズの周縁形状を検査する。例えば、レンズLの周縁形状が楕円になっていたり、レンズLの周縁に欠けが生じていたり、凸部LTの形状に誤差があったりして、所望の閾値から外れる場合は、不合格品と判定する。   Further, the lens supply area IN also serves as a lens inspection area (outer shape inspection area), and inspects the peripheral shape of the lens using an image of the lens L imaged by the imaging device MIN. For example, if the peripheral shape of the lens L is an ellipse, the peripheral edge of the lens L is chipped, or there is an error in the shape of the convex portion LT, and it deviates from a desired threshold value, judge.

第1検査領域A1:図12に示すように、第1検査領域A1の上方には第1撮像装置M1が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第1撮像装置M1の反対側には、単色(例えば白色)の背景用プレートP1が配置される。また、第1検査領域A1の上方には、第1照明装置S1が配置され、表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   First inspection area A1: As shown in FIG. 12, the first imaging device M1 is disposed above the first inspection area A1. A monochrome (for example, white) background plate P1 is disposed on the opposite side of the first imaging device M1 with respect to the conveyed lens L. Further, the first illumination device S1 is disposed above the first inspection area A1, and the lens L is irradiated with light suitable for inspecting the surface for scratches and foreign matter.

第1撮像装置M1は、上方からレンズLの上側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの上側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第4区画LK4、第5区画LK5、第6区画LK6の各表面に対して、第1撮像装置M1がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図12(B)〜(D)に示すように、各区画LK4〜LK6の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK4〜LK6の区画中心が、第1撮像装置M1の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第1撮像装置M1の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK4〜LK6の上側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK4〜LK6の表面の垂線方向が、第1撮像装置M1の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The first imaging device M1 detects a scratch or a foreign object on the upper surface of the lens L by photographing the upper surface of the lens L from above and analyzing the image. Specifically, here, the first imaging device M1 focuses each surface of the fourth section LK4, the fifth section LK5, and the sixth section LK6, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 12B to 12D, the perpendicular direction of the center of each section of each section LK4 to LK6 is parallel to the inspection reference axis J, and each section LK4 to The posture adjustment mechanism 40 is configured so that the section center of LK6 coincides with the imaging center of the first imaging device M1, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the first imaging device M1. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, since the image of the upper surface of each of the sections LK4 to LK6 can be taken with high accuracy, it is possible to accurately detect a flaw or a foreign object. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK4 to LK6 is parallel to the imaging axis of the first imaging device M1, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

第2検査領域A2:図13に示すように、第2検査領域A2の上方には第2撮像装置M2が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第2撮像装置M2の反対側には、単色(例えば白色)の背景用プレートP2が配置される。また、第2検査領域A2の上方には、第2照明装置S2が配置され、表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   Second inspection area A2: As shown in FIG. 13, the second imaging device M2 is disposed above the second inspection area A2. A monochrome (for example, white) background plate P2 is disposed on the opposite side of the second imaging device M2 with respect to the conveyed lens L. In addition, a second illumination device S2 is disposed above the second inspection area A2, and the lens L is irradiated with light suitable for inspecting the surface for scratches and foreign matter.

第2撮像装置M2は、上方からレンズLの上側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの上側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第1区画LK1、第2区画LK2、第3区画LK3の各表面に対して、第2撮像装置M2がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図13(B)〜(D)に示すように、各区画LK1〜LK3の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK1〜LK3の区画中心が、第2撮像装置M2の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第2撮像装置M2の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK1〜LK1の上側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK1〜LK1の表面の垂線方向が、第2撮像装置M2の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The second imaging device M2 detects a scratch or a foreign matter on the upper surface of the lens L by photographing the upper surface of the lens L from above and analyzing the image. Specifically, here, the second imaging device M2 focuses on the surfaces of the first section LK1, the second section LK2, and the third section LK3, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 13B to 13D, the perpendicular direction of the center of each section of each section LK1 to LK3 is parallel to the inspection reference axis J and each section LK1 to LK1. The posture adjustment mechanism 40 is configured so that the division center of LK3 coincides with the imaging center of the second imaging device M2, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the second imaging device M2. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, since the image of the upper surface of each of the sections LK1 to LK1 can be taken with high accuracy, it is possible to accurately detect a flaw or a foreign object. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK1 to LK1 is parallel to the imaging axis of the second imaging device M2, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

第3検査領域A3:図14に示すように、第3検査領域A3の上方には第3撮像装置M3が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第3撮像装置M3の反対側には、単色(例えば白色)の背景用プレートP3が配置される。また、第3検査領域A3の上方には、第3照明装置S3が配置され、表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   Third inspection region A3: As shown in FIG. 14, the third imaging device M3 is disposed above the third inspection region A3. A monochrome (for example, white) background plate P3 is disposed on the opposite side of the third imaging device M3 with respect to the conveyed lens L. In addition, a third illumination device S3 is disposed above the third inspection region A3, and the lens L is irradiated with light suitable for inspecting the surface for scratches and foreign matter.

第3撮像装置M3は、上方からレンズLの上側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの上側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第7区画LK7、第8区画LK8、第9区画LK9の各表面に対して、第3撮像装置M3がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図14(B)〜(D)に示すように、各区画LK7〜LK9の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK7〜LK9の区画中心が、第3撮像装置M3の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第3撮像装置M3の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK7〜LK9の上側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK7〜LK9の表面の垂線方向が、第3撮像装置M3の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The third imaging device M3 detects a scratch or a foreign matter on the upper surface of the lens L by photographing the upper surface of the lens L from above and analyzing the image. Specifically, here, the third imaging device M3 focuses on the surfaces of the seventh section LK7, the eighth section LK8, and the ninth section LK9, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 14 (B) to (D), the perpendicular direction of the section center of each surface of each section LK7 to LK9 is parallel to the inspection reference axis J, and each section LK7 to The posture adjustment mechanism 40 is configured so that the section center of LK9 coincides with the imaging center of the third imaging device M3, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the third imaging device M3. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, the images of the upper surface of each of the sections LK7 to LK9 can be taken with high accuracy, so that a flaw or a foreign object can be accurately detected. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK7 to LK9 is parallel to the imaging axis of the third imaging device M3, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

第4検査領域A4:図15に示すように、第4検査領域A4の下方には第4撮像装置M4が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第4撮像装置M4の反対側(つまり上方側)には、単色(例えば白色)の背景用プレートP4が配置される。また、第4検査領域A4の下側には、第4照明装置S4が配置され、底面側の表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   Fourth inspection area A4: As shown in FIG. 15, a fourth imaging device M4 is disposed below the fourth inspection area A4. A monochrome (for example, white) background plate P4 is disposed on the opposite side (that is, the upper side) of the fourth imaging device M4 with respect to the conveyed lens L. A fourth illumination device S4 is disposed below the fourth inspection region A4, and the lens L is irradiated with light suitable for inspection of scratches / foreign matter on the bottom surface.

第4撮像装置M4は、下方からレンズLの下側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの下側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第4区画LK4、第5区画LK5、第6区画LK6の各表面に対して、第4撮像装置M4がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図15(B)〜(D)に示すように、各区画LK4〜LK6の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK4〜LK6の区画中心が、第4撮像装置M4の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第4撮像装置M4の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK4〜LK6の下側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK4〜LK6の表面の垂線方向が、第4撮像装置M4の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The fourth imaging device M4 detects a scratch or a foreign object on the lower surface of the lens L by photographing the lower surface of the lens L from below and analyzing the image. Specifically, here, the fourth imaging device M4 focuses on the surfaces of the fourth section LK4, the fifth section LK5, and the sixth section LK6, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 15B to 15D, the perpendicular direction of the center of each section of each section LK4 to LK6 is parallel to the inspection reference axis J, and each section LK4 to The posture adjustment mechanism 40 is arranged so that the section center of LK6 coincides with the imaging center of the fourth imaging device M4, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the fourth imaging device M4. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, an image of the lower surface of each of the sections LK4 to LK6 can be taken with high accuracy, so that a flaw or a foreign object can be accurately detected. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK4 to LK6 is parallel to the imaging axis of the fourth imaging device M4, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

第5検査領域A5:図16に示すように、第5検査領域A5の下方には第5撮像装置M5が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第5撮像装置M5の反対側には、単色(例えば白色)の背景用プレートP5が配置される。また、第5検査領域A5の下方には、第5照明装置S5が配置され、表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   Fifth inspection area A5: As shown in FIG. 16, the fifth imaging device M5 is disposed below the fifth inspection area A5. A monochrome (for example, white) background plate P5 is disposed on the opposite side of the fifth imaging device M5 with respect to the conveyed lens L. Further, a fifth illumination device S5 is disposed below the fifth inspection region A5, and the lens L is irradiated with light suitable for the inspection of the surface scratches and foreign matters.

第5撮像装置M5は、下方からレンズLの下側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの下側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第1区画LK1、第2区画LK2、第3区画LK3の各表面に対して、第5撮像装置M5がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図16(B)〜(D)に示すように、各区画LK1〜LK3の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK1〜LK3の区画中心が、第5撮像装置M5の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第5撮像装置M5の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK1〜LK1の上側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK1〜LK1の表面の垂線方向が、第5撮像装置M5の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The fifth imaging device M5 detects a scratch or a foreign substance on the lower surface of the lens L by photographing the lower surface of the lens L from below and analyzing the image. Specifically, here, the fifth imaging device M5 focuses each surface of the first section LK1, the second section LK2, and the third section LK3, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 16 (B) to (D), the perpendicular direction of the partition center of each surface of each partition LK1 to LK3 is parallel to the inspection reference axis J, and each partition LK1 to LK1. The posture adjustment mechanism 40 is configured so that the section center of LK3 coincides with the imaging center of the fifth imaging device M5, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the fifth imaging device M5. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, since the image of the upper surface of each of the sections LK1 to LK1 can be taken with high accuracy, it is possible to accurately detect a flaw or a foreign object. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK1 to LK1 is parallel to the imaging axis of the fifth imaging device M5, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

第6検査領域A6:図17に示すように、第6検査領域A6の下方には第6撮像装置M6が配置される。また、搬送されるレンズLを基準として第6撮像装置M6の反対側には、単色(例えば白色)の背景用プレートP6が配置される。また、第6検査領域A6の下方には、第6照明装置S6が配置され、表面の傷・異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。   Sixth inspection area A6: As shown in FIG. 17, a sixth imaging device M6 is disposed below the sixth inspection area A6. A monochrome (for example, white) background plate P6 is disposed on the opposite side of the sixth imaging device M6 with respect to the conveyed lens L. Further, a sixth illumination device S6 is disposed below the sixth inspection area A6, and the lens L is irradiated with light suitable for inspecting the surface for scratches and foreign matter.

第6撮像装置M6は、下方からレンズLの下側表面を撮影して、その画像を解析することで、レンズLの下側表面の傷又は異物を検出する。具体的にここででは、レンズLの一部となる第7区画LK7、第8区画LK8、第9区画LK9の各表面に対して、第6撮像装置M6がフォーカスを当てて、それぞれの表面状態を撮像する。この際、図17(B)〜(D)に示すように、各区画LK7〜LK9の各表面の区画中心の垂線方向が、検査基準軸Jと平行となるように、且つ、各区画LK7〜LK9の区画中心が、第6撮像装置M6の撮像中心と一致するように、更に、その表面が、第6撮像装置M6の焦点位置(フォーカスポイント)と一致するように、姿勢調整機構40が、保持部20を姿勢制御する。結果、各区画LK7〜LK9の上側表面の映像を高精度に撮影できるので、傷又は異物等を正確に検知できる。とりわけ、各区画LK7〜LK9の表面の垂線方向が、第6撮像装置M6の撮像軸と平行となるように、レンズLの姿勢を個別制御しているので、画像データから得られる傷又は異物の寸法精度が高くなり、合否判定を正確に行うことが可能となる。   The sixth imaging device M6 detects a scratch or a foreign substance on the lower surface of the lens L by photographing the lower surface of the lens L from below and analyzing the image. Specifically, here, the sixth imaging device M6 focuses on the surfaces of the seventh section LK7, the eighth section LK8, and the ninth section LK9, which are part of the lens L, and the respective surface states. Image. At this time, as shown in FIGS. 17 (B) to (D), the perpendicular direction of the center of each section of each section LK7 to LK9 is parallel to the inspection reference axis J, and each section LK7 to The posture adjustment mechanism 40 is configured so that the section center of LK9 coincides with the imaging center of the sixth imaging device M6, and further, the surface thereof coincides with the focal position (focus point) of the sixth imaging device M6. The posture of the holding unit 20 is controlled. As a result, the images of the upper surface of each of the sections LK7 to LK9 can be taken with high accuracy, so that a flaw or a foreign object can be accurately detected. In particular, since the posture of the lens L is individually controlled so that the perpendicular direction of the surface of each of the sections LK7 to LK9 is parallel to the imaging axis of the sixth imaging device M6, scratches or foreign matters obtained from the image data are controlled. The dimensional accuracy is increased, and it is possible to accurately perform the pass / fail determination.

レンズ搬出領域OUT:図18に示すように、レンズ搬出領域OUTの上方には撮像装置MOUTが配置される。また、搬送されるレンズLを基準として撮像装置MOUTの反対側には、単色(例えば黒色)の背景用プレートPOUTが配置される。また、レンズ搬出領域OUTの上方には、照明装置SOUTが配置され、レンズ内部の気泡等の異物の検査に好適な光がレンズLに照射される。背景用プレートPOUTの色も、気泡検出で好ましい色が選定される。   Lens carry-out area OUT: As shown in FIG. 18, the imaging device MOUT is arranged above the lens carry-out area OUT. A monochrome (for example, black) background plate POUT is disposed on the opposite side of the imaging device MOUT with respect to the conveyed lens L. An illumination device SOUT is disposed above the lens carry-out area OUT, and the lens L is irradiated with light suitable for inspection of foreign matters such as bubbles inside the lens. As the color of the background plate POUT, a preferable color is selected for the bubble detection.

撮像装置MOUTは、上方からレンズLの内部を光軸方向に多段階で撮影して、その画像を解析することで、レンズLの内部の気泡等を検出する。具体的にここででは、図18(B)〜(D)に示すように、レンズLの内部における上方近傍LF1に対して、撮像装置MOUTがフォーカスを当てて行う上方撮像工程と、レンズLの内部における光軸方向中央近傍LF2に対して、撮像装置MOUTがフォーカスを当てて行う中央撮像工程と、レンズLの内部における下方近傍LF3に対して、撮像装置MOUTがフォーカスを当てて行う下方撮像工程と、を実行する。つまり、姿勢調整機構40は、保持部20を光軸方向に移動させるように姿勢制御し、上記複数回の撮像を行う。結果、レンズLの内部の深さ方向に多段階の映像を高精度に撮影できるので、内部の気泡を正確に検知でき、気泡の合否判定を正確に行うことが可能となる。   The imaging device MOUT captures the inside of the lens L from above in multiple stages in the optical axis direction and analyzes the image to detect bubbles or the like inside the lens L. Specifically, here, as shown in FIGS. 18B to 18D, an upper imaging process in which the imaging device MOUT focuses on the upper vicinity LF1 inside the lens L, and the lens L A central imaging process in which the imaging device MOUT focuses on the inner vicinity LF2 in the optical axis direction and a lower imaging process in which the imaging device MOUT focuses on the lower vicinity LF3 in the lens L. And execute. That is, the posture adjustment mechanism 40 performs posture control so as to move the holding unit 20 in the optical axis direction, and performs the above-described imaging a plurality of times. As a result, since a multi-stage image can be taken with high accuracy in the depth direction inside the lens L, the internal bubbles can be detected accurately, and the pass / fail judgment of the bubbles can be performed accurately.

更にこのレンズ搬出領域OUTでは、検査が完了したレンズLを、レンズ搬出装置79Bによって搬出する。レンズ搬出装置79Bは、バキュームチャックBCで、姿勢調整ユニット10に保持されているレンズLの天面又は底面を吸着して搬出する。   Further, in the lens carry-out area OUT, the lens L that has been inspected is carried out by the lens carry-out device 79B. The lens carry-out device 79B sucks and carries the top or bottom surface of the lens L held by the posture adjustment unit 10 with the vacuum chuck BC.

以上、本実施形態のレンズ検査装置1によれば、レンズ供給領域INからレンズ搬出領域OUTまで、複数の姿勢調整ユニット10がレンズLと一緒に移動するようになっており、その間の検査領域A1〜A6において、各姿勢調整ユニット10がレンズLを異なる姿勢に位置決めさせていくので、様々な検査を同時並行的に効率よく実現すことが可能となる。特に、レンズLが通過する経路(検査経路)が一本化できるので、検査経路上でトラブルが生じた場合、原因の特定を素早く行うことが可能となる。従来のように、固定配置される複数台の検査ユニットに、それぞれ、レンズLを供給して個々に様々な検査を行う場合、レンズLの経路が、複数台の検査整ユニットに分岐するので、検査ユニットにトラブルが生じた際に、どこに原因があるのか、特定するまでに長時間を要する。   As described above, according to the lens inspection apparatus 1 of the present embodiment, the plurality of posture adjustment units 10 move together with the lens L from the lens supply area IN to the lens carry-out area OUT, and the inspection area A1 therebetween. In .about.A6, each posture adjustment unit 10 positions the lens L in a different posture, so that various inspections can be efficiently realized simultaneously and in parallel. In particular, since the route (inspection route) through which the lens L passes can be unified, it becomes possible to quickly identify the cause when a trouble occurs on the inspection route. As in the past, when a plurality of inspection units that are fixedly arranged are supplied with lenses L to perform various inspections individually, the path of the lens L branches to a plurality of inspection adjustment units. When trouble occurs in the inspection unit, it takes a long time to identify the cause.

また、本レンズ検査装置1はが、複数の検査領域(レンズ搬入領域IN、第1〜第6検査領域A1〜A6、レンズ搬出領域OUT)を有しており、各検査領域において、レンズLの部分表面を、同時並行的に検査させる。これにより、各検査領域の検項目や検査面積を少なくすることができるので、各検査領域の検査時間を短縮できる。結果、検査効率が大幅に向上する。また、各検査領域で、レンズLの保持姿勢も異ならせることができるので、レンズLの表面の凹凸状態に合わせて、最適な姿勢で検査を行うことが可能となる。   The lens inspection apparatus 1 has a plurality of inspection areas (lens carry-in area IN, first to sixth inspection areas A1 to A6, and lens carry-out area OUT). The partial surface is inspected concurrently. Thereby, since the inspection item and inspection area of each inspection area can be reduced, the inspection time of each inspection area can be shortened. As a result, inspection efficiency is greatly improved. In addition, since the holding posture of the lens L can be varied in each inspection region, it is possible to inspect with an optimum posture according to the uneven state of the surface of the lens L.

更に 本レンズ検査装置1はが、各検査領域の中でも、光軸方向が互いに異なる角度となるようにレンズLの姿勢を複数回位置決めし、位置決め毎に撮像装置でレンズを撮像する。即ち、単独の検査領域でも、多様な検査を行うことが可能となっている。例えば、単独の検査領域でも、撮像装置のフォーカスの中心を、レンズLの表面の様々な場所に複数回位置決めし、更にチルト及び/又はフォーカス制御してから、その都度レンズLを撮像する。結果、レンズLの表面を複数区分に分割することが可能となり、高精度な検査が実現される。   Further, the lens inspection device 1 positions the posture of the lens L a plurality of times so that the optical axis directions are different from each other in each inspection region, and images the lens with the imaging device for each positioning. That is, various inspections can be performed even in a single inspection region. For example, even in a single inspection region, the focus center of the imaging device is positioned at various positions on the surface of the lens L a plurality of times, and further, tilt and / or focus control is performed, and then the lens L is imaged each time. As a result, the surface of the lens L can be divided into a plurality of sections, and a highly accurate inspection is realized.

更に本レンズ検査装置1では、検査工程の途中(ここではレンズ供給領域OUT)において、レンズLのフォーカス方向位置(接近・離反方向位置)、X−Y調整(スライド方向、即ち光軸中心)、チルト調整(傾斜方向、即ち光軸角度)をレンズL毎に検出しているので、その後の各検査領域の検査精度を高めることができる。   Further, in the lens inspection apparatus 1, during the inspection process (here, the lens supply region OUT), the lens L in the focus direction position (approach / separate direction position), XY adjustment (slide direction, that is, the optical axis center), Since the tilt adjustment (tilt direction, that is, the optical axis angle) is detected for each lens L, the inspection accuracy of each subsequent inspection region can be improved.

また更に、本レンズ検査装置1では、各検査領域において、撮像装置(カメラ)や背景プレート、照明装置の種類を自在に選定し、これらの配置も独立して設定できる。即ち、各検査領域の検査項目に合わせた検査環境を独自に構築できる。例えば、第1〜第3検査領域A1〜A3には、上方に撮像装置M1〜M3に配置され、下方には、背景プレートP1〜P3が配置される。一方、第4〜第6検査領域A4〜A6には、下方に撮像装置M4〜M6に配置され、上方には、背景プレートP4〜P6が配置される。背景プレートの色や模様も、検査領域毎に異ならせても良い。   Furthermore, in this lens inspection apparatus 1, the types of the imaging device (camera), the background plate, and the illumination device can be freely selected in each inspection region, and their arrangement can be set independently. That is, it is possible to independently construct an inspection environment that matches the inspection items of each inspection area. For example, in the first to third inspection areas A1 to A3, the imaging devices M1 to M3 are arranged above, and the background plates P1 to P3 are arranged below. On the other hand, in the fourth to sixth inspection areas A4 to A6, the imaging devices M4 to M6 are arranged below, and the background plates P4 to P6 are arranged above. The color and pattern of the background plate may be different for each inspection region.

なお、本レンズ検査装置1では、移送装置60が回転テーブル構造となっており、基台5をベースとしてモジュール化された姿勢調整ユニット10が、回転テーブルの周方向に均等間隔で設置されている。従って、レンズ検査装置1の製造段階では、事前に、姿勢調整ユニット10単位で精度検査や動作試験を行うことができる。また、組み立て工場等の現場にレンズ検査装置1をセットアップする際は、回転テーブル上に(調整済みの)、姿勢調整ユニット10の基台5を固定していけば、短時間で設置作業を完了させることができる。レンズ検査装置1が故障した際も、メンテナンスが容易となる。   In this lens inspection apparatus 1, the transfer device 60 has a rotary table structure, and the posture adjustment units 10 modularized with the base 5 as a base are installed at equal intervals in the circumferential direction of the rotary table. . Therefore, in the manufacturing stage of the lens inspection apparatus 1, it is possible to perform an accuracy inspection and an operation test in units of the posture adjustment unit 10 in advance. Also, when setting up the lens inspection apparatus 1 at an assembly factory or the like, if the base 5 of the attitude adjustment unit 10 is fixed on the rotary table (adjusted), the installation work can be completed in a short time. Can be made. Even when the lens inspection device 1 breaks down, the maintenance becomes easy.

本レンズ検査装置1では、レンズLを保持する保持部20のアーム22、24に逃げ部25A又は隙間が形成されるので、レンズLの凸部LTとの干渉を抑制できる。結果、姿勢調整機構40によるレンズLの位置決め精度を高めることができる。   In the present lens inspection apparatus 1, since the escape portions 25 </ b> A or gaps are formed in the arms 22 and 24 of the holding portion 20 that holds the lens L, interference with the convex portion LT of the lens L can be suppressed. As a result, the positioning accuracy of the lens L by the posture adjustment mechanism 40 can be increased.

なお、上記レンズ検査装置1では、第1〜第6検査領域A1〜A6で、レンズLにおける表面の面積を区分けして、各検査領域に分散させながら検査する場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、レンズLにおける深さ方向(光軸方向)を区分けして、各検査領域に分散させながら検査するようにしても良い。即ち、レンズLの内部の気泡検査を、複数の検査領域に分散させるようにしても良い。   In the lens inspection apparatus 1 described above, the surface area of the lens L is divided by the first to sixth inspection areas A1 to A6, and the inspection is performed while being dispersed in each inspection area. It is not limited to this. For example, the depth direction (optical axis direction) in the lens L may be divided and inspected while being dispersed in each inspection region. That is, the bubble inspection inside the lens L may be dispersed in a plurality of inspection areas.

また、上記レンズ検査装置1では、輪郭形状、表面の傷や異物、内部の気泡などを検査する場合を例示したが、検査項目は上記に限定されない。例えば、成膜レンズの場合は、その成膜のムラや膜厚を検査することもでき、また、レーザ変位計を照射してレンズの凹凸形状を検査することもできる。   Moreover, in the said lens inspection apparatus 1, although the case where a contour shape, a crack | wound of a surface, a foreign material, an internal bubble etc. was test | inspected was illustrated, an inspection item is not limited above. For example, in the case of a film forming lens, the unevenness of film formation and the film thickness can be inspected, and the uneven shape of the lens can be inspected by irradiating a laser displacement meter.

更に、上記レンズ検査装置1のレンズ供給領域INでは、光軸調整装置(チャート装置)Wを用いてレンズLの光軸中心及びその角度等を検出する場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、レンズ供給領域INにレーザ変位計(高さ計測器)等の配置しておき、レンズ中心の位置、及び/又はその高さ(フォーカス方向位置)を検知し、その情報を利用して、下流工程にて姿勢制御を行い、レンズ検査を実施するようにしても良い。   Furthermore, in the lens supply area IN of the lens inspection device 1, the case where the optical axis center of the lens L and the angle thereof are detected by using the optical axis adjustment device (chart device) W is exemplified. It is not limited. For example, a laser displacement meter (height measuring instrument) or the like is placed in the lens supply area IN, the position of the lens center and / or its height (focus direction position) is detected, and the information is used. At the downstream process, posture control may be performed to perform lens inspection.

また更に、姿勢調整機構40のXチルト機構(回転機構)40XTは、180°以上回転できることが好ましい。このようにすると、ある特定の検査領域において、レンズLの表裏を反転させることにより、共通の撮像装置で双方の表面を検査することができる。   Furthermore, it is preferable that the X tilt mechanism (rotation mechanism) 40XT of the attitude adjustment mechanism 40 can rotate 180 ° or more. In this way, by inverting the front and back of the lens L in a specific inspection region, both surfaces can be inspected with a common imaging device.

また更に、上記レンズ検査装置1では、複数の姿勢調整ユニット10によって検査を行う場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図19に示すように、レンズ検査装置1が固定的に姿勢調整ユニット10を備えるようにし、姿勢調整ユニット10の保持部20に対して手動又はロボットによってレンズLを供給し、姿勢調整ユニット10によってレンズLの姿勢を変更しながら、撮像装置でレンズLの検査をするようにしても良い。このような場合であっても、姿勢調整ユニット10の姿勢調整機構40によって、レンズLを様々姿勢で検査することが可能になるので、検査精度を高めることが可能になる。   Furthermore, in the lens inspection apparatus 1, the case where the inspection is performed by the plurality of posture adjustment units 10 is illustrated, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 19, the lens inspection apparatus 1 is fixedly provided with the posture adjustment unit 10, and the lens L is supplied to the holding unit 20 of the posture adjustment unit 10 manually or by a robot. The lens L may be inspected by the imaging device while changing the posture of the lens L. Even in such a case, since the lens L can be inspected in various postures by the posture adjustment mechanism 40 of the posture adjustment unit 10, the inspection accuracy can be increased.

尚、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

1 レンズ検査装置
5 基台
10 姿勢調整ユニット
20 保持部
22 第一アーム
24 第二アーム
26 アーム移動部
40 姿勢調整機構
40XS シフト機構
40XT チルト機構
40YS シフト機構
40YT チルト機構
40ZS シフト機構
40ZT チルト機構
60 移送装置
BC バキュームチャック
L レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lens inspection apparatus 5 Base 10 Posture adjustment unit 20 Holding part 22 First arm 24 Second arm 26 Arm moving part 40 Posture adjustment mechanism 40XS Shift mechanism 40XT Tilt mechanism 40YS Shift mechanism 40YT Tilt mechanism 40ZS Shift mechanism 40ZT Tilt mechanism 60 Transfer Device BC Vacuum chuck L Lens

Claims (4)

レンズを検査するレンズ検査装置であって、
複数の姿勢調整ユニットと、
レンズ供給領域において前記姿勢調整ユニットに対して前記レンズを供給するレンズ供給装置と、
レンズ搬出領域において前記姿勢調整ユニットから前記レンズを搬出するレンズ搬出装置と、
前記レンズ供給領域及び前記レンズ搬出領域を経由するように、前記複数の姿勢調整ユニットを移動させる移送装置と、
前記姿勢調整ユニットが前記レンズ供給領域から前記レンズ搬出領域まで移動される間に存する複数の検査領域と、
複数の前記検査領域のそれぞれに配設されて前記レンズを撮像する撮像装置と、
を備え、
前記姿勢調整ユニットは、それぞれ、前記レンズの周縁を保持する保持部、及び前記保持部の姿勢を調整する姿勢調整機構を有し、
前記姿勢調整機構は、
前記保持部をX−Y平面のX方向へ移動させるXシフト機構と、
前記保持部をX−Y平面のY方向へ移動させるYシフト機構と、
前記保持部をX軸周りに傾斜又は回転させるXチルト機構と、
前記保持部をY軸周りに傾斜又は回転させるYチルト機構と、を有し、
前記姿勢調整ユニットが、複数の前記検査領域のそれぞれにおいて、前記姿勢調整機構によって前記レンズの姿勢制御を行うようにし、
複数の前記検査領域に配置される複数の前記撮像装置は、前記レンズにおける互いに異なる区画にフォーカスして撮像するようにし、
前記姿勢調整機構は、前記区画を単位として前記X軸周り及び前記Y軸周りのチルト制御を行い、且つ、前記区画を単位として前記X−Y平面の移動制御を行うことを特徴とする、
レンズ検査装置。
A lens inspection device for inspecting a lens,
A plurality of posture adjustment units;
A lens supply device for supplying the lens to the posture adjustment unit in a lens supply region;
A lens unloading device for unloading the lens from the posture adjustment unit in a lens unloading region;
A transfer device for moving the plurality of posture adjustment units so as to pass through the lens supply area and the lens carry-out area;
A plurality of inspection regions existing while the posture adjustment unit is moved from the lens supply region to the lens unloading region;
An imaging device that is disposed in each of the plurality of inspection regions and images the lens;
With
Each of the posture adjustment units has a holding portion that holds the periphery of the lens, and a posture adjustment mechanism that adjusts the posture of the holding portion,
The posture adjustment mechanism is
An X shift mechanism for moving the holding portion in the X direction on the XY plane;
A Y shift mechanism for moving the holding portion in the Y direction on the XY plane;
An X tilt mechanism for tilting or rotating the holding portion around the X axis;
A Y tilt mechanism for tilting or rotating the holding portion around the Y axis,
The posture adjustment unit performs posture control of the lens by the posture adjustment mechanism in each of the plurality of inspection regions ;
The plurality of imaging devices arranged in the plurality of inspection regions focus on different sections of the lens and perform imaging.
The posture adjusting mechanism performs tilt control around the X axis and around the Y axis in units of the sections, and performs movement control of the XY plane in units of the sections .
Lens inspection device.
レンズを検査するレンズ検査装置であって、
複数の姿勢調整ユニットと、
レンズ供給領域において前記姿勢調整ユニットに対して前記レンズを供給するレンズ供給装置と、
レンズ搬出領域において前記姿勢調整ユニットから前記レンズを搬出するレンズ搬出装置と、
前記レンズ供給領域及び前記レンズ搬出領域を経由するように、前記複数の姿勢調整ユニットを移動させる移送装置と、
前記姿勢調整ユニットが前記レンズ供給領域から前記レンズ搬出領域まで移動される間に存する複数の検査領域と、
複数の前記検査領域のそれぞれに配設されて前記レンズを撮像する撮像装置と、
を備え、
前記姿勢調整ユニットは、それぞれ、前記レンズの周縁を保持する保持部、及び前記保持部の姿勢を調整する姿勢調整機構を有し、
前記姿勢調整機構は、
前記保持部をX−Y平面のX方向へ移動させるXシフト機構と、
前記保持部をX−Y平面のY方向へ移動させるYシフト機構と、
前記保持部をX軸周りに傾斜又は回転させるXチルト機構と、
前記保持部をY軸周りに傾斜又は回転させるYチルト機構と、を有し、
前記姿勢調整ユニットが、複数の前記検査領域のそれぞれにおいて、前記姿勢調整機構によって前記レンズの姿勢制御を行うようにし、
特定の前記検査領域における前記撮像装置は、前記レンズにおける互いに異なる複数の区画にフォーカスしてそれぞれ撮像するようにし、
前記姿勢調整機構は、前記撮像装置による前記区画の撮像毎に、前記区画を単位として前記X軸周り及び前記Y軸周りのチルト制御を行い、且つ、前記区画を単位として前記X−Y平面の移動制御を行うことを特徴とする、
レンズ検査装置。
A lens inspection device for inspecting a lens,
A plurality of posture adjustment units;
A lens supply device for supplying the lens to the posture adjustment unit in a lens supply region;
A lens unloading device for unloading the lens from the posture adjustment unit in a lens unloading region;
A transfer device for moving the plurality of posture adjustment units so as to pass through the lens supply area and the lens carry-out area;
A plurality of inspection regions existing while the posture adjustment unit is moved from the lens supply region to the lens unloading region;
An imaging device that is disposed in each of the plurality of inspection regions and images the lens;
With
Each of the posture adjustment units has a holding portion that holds the periphery of the lens, and a posture adjustment mechanism that adjusts the posture of the holding portion,
The posture adjustment mechanism is
An X shift mechanism for moving the holding portion in the X direction on the XY plane;
A Y shift mechanism for moving the holding portion in the Y direction on the XY plane;
An X tilt mechanism for tilting or rotating the holding portion around the X axis;
A Y tilt mechanism for tilting or rotating the holding portion around the Y axis,
The posture adjustment unit performs posture control of the lens by the posture adjustment mechanism in each of the plurality of inspection regions ;
The imaging device in the specific inspection region focuses on a plurality of different sections in the lens and images each,
The posture adjustment mechanism performs tilt control around the X axis and the Y axis with the section as a unit for each imaging of the section with the imaging device, and on the XY plane with the section as a unit. It is characterized by performing movement control .
Lens inspection device.
複数の前記検査領域のそれぞれには、背景用プレートが前記レンズの撮像面と反対側に配設されることを特徴とする、
請求項1または2のいずれかに記載のレンズ検査装置。
In each of the plurality of inspection regions, a background plate is disposed on the side opposite to the imaging surface of the lens,
Lens inspection system according to claim 1 or 2.
複数の前記検査領域のそれぞれには、照明装置が配設されることを特徴とする、
請求項1乃至のいずれかに記載のレンズ検査装置。
A lighting device is disposed in each of the plurality of inspection regions,
Lens inspection apparatus according to any one of claims 1 to 3.
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