JP6033703B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
前記昇降機構のロッドによって前記サセプタを前記ワークと共に上動させ、前記ロッドの上端に設けられた押付治具によって前記サセプタを前記処理室の開口部周縁に押圧することによって前記処理室内に密閉空間を形成し、該密閉空間内に材料ガスを供給しつつ、前記高周波電源から前記電極に高周波電圧を印加することによって前記ワークの表面に重合膜を形成する成膜装置において、
前記ロッドの押付治具の下部に磁石を設置したことを特徴とする。
2 ワーク搬送室
2A ワーク搬送室の上壁
2B ワーク搬送室の底壁
2a ワーク搬送室の円孔
3 モータ
4 回転軸
5 回転アーム
5a 回転アームの円孔
6 サセプタ
6a サセプタの本体
6b サセプタのフランジ
7 パッキン
8 昇降機構
9 エアシリンダ
10 ロッド
11 押付治具
12 処理室
12A 処理室の側壁
13 電極
14 高周波電源
15 ノズル
16 パッキン
17 磁石
18 磁性体
S 密閉空間
W ワーク
Claims (3)
- 下方が開口する処理室と、該処理室内に収容された電極と、該電極に高周波電圧を印加する高周波電源と、ワークを支持するサセプタと、該サセプタを上下動させるロッドを有する昇降機構を備え、
前記昇降機構のロッドによって前記サセプタを前記ワークと共に上動させ、前記ロッドの上端に設けられた押付治具によって前記サセプタを前記処理室の開口部周縁に押圧することによって前記処理室内に密閉空間を形成し、該密閉空間内に材料ガスを供給しつつ、前記高周波電源から前記電極に高周波電圧を印加することによって前記ワークの表面に重合膜を形成する成膜装置において、
前記ロッドの押付治具の下部に磁石を設置したことを特徴とする成膜装置。 - 前記磁石はN極を上にして設置されることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記サセプタの下面に磁性体を埋設したことを特徴とする請求項1又は2記載の成膜装置。
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JP2013033666A JP6033703B2 (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | 成膜装置 |
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JP2013033666A JP6033703B2 (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | 成膜装置 |
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JP2014162941A JP2014162941A (ja) | 2014-09-08 |
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JP2004035935A (ja) * | 2002-07-02 | 2004-02-05 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
JP4653418B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2011-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 真空処理装置および光ディスクの製造方法 |
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