JP6026311B2 - Spinner cleaning device - Google Patents

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Description

本発明は、板状ワークを洗浄するスピンナー洗浄装置に関する。   The present invention relates to a spinner cleaning apparatus for cleaning a plate-like workpiece.

円形の板状ワークを洗浄するスピンナー洗浄装置は、板状ワークの中央部を吸引保持する保持面を有するスピンナーテーブルと、板状ワークの上面にむけて洗浄液を噴出するノズルと、板状ワークを洗浄する洗浄ブラシとを少なくとも備えている。研削等の加工が施された板状ワークを洗浄する際には、スピンナー洗浄装置は、板状ワークの下面の中央部分をスピンナーテーブルに吸引保持させるとともに該スピンナーテーブルを回転させ、板状ワークの上方からノズルによって洗浄液を板状ワークの上面に向けて噴出させながら該上面に洗浄ブラシを接触させることにより板状ワークを洗浄している(例えば、下記の特許文献1を参照)。   A spinner cleaning apparatus for cleaning a circular plate-shaped workpiece includes a spinner table having a holding surface for sucking and holding a central portion of the plate-shaped workpiece, a nozzle for ejecting a cleaning liquid toward the upper surface of the plate-shaped workpiece, and a plate-shaped workpiece. And at least a cleaning brush for cleaning. When cleaning a plate workpiece subjected to processing such as grinding, the spinner cleaning device sucks and holds the central portion of the lower surface of the plate workpiece on the spinner table and rotates the spinner table to rotate the plate workpiece. The plate-like workpiece is cleaned by bringing a cleaning brush into contact with the upper surface of the plate-like workpiece while jetting the cleaning liquid from above to the upper surface of the plate-like workpiece (see, for example, Patent Document 1 below).

また、洗浄後の板状ワークの下面を保持して搬送するために、板状ワークの外周部分がスピンナーテーブルの保持面で吸引保持されていない構造となっている場合は、洗浄中は板状ワークの外周部分を下方から支持する必要がある。そこで、板状ワークの上方から加えられる洗浄液の圧力や洗浄ブラシの接触圧力に対向するため、板状ワークの外周部分を下方から支持するサポートテーブルを備えるスピンナー洗浄装置を用いている(例えば、下記の特許文献2を参照)。   In addition, in order to hold and convey the lower surface of the plate-like workpiece after cleaning, if the outer peripheral portion of the plate-like workpiece is not sucked and held by the holding surface of the spinner table, It is necessary to support the outer periphery of the workpiece from below. Therefore, in order to oppose the pressure of the cleaning liquid applied from above the plate-shaped workpiece and the contact pressure of the cleaning brush, a spinner cleaning device including a support table that supports the outer peripheral portion of the plate-shaped workpiece from below is used (for example, the following Patent Document 2).

特開2000−260740号公報JP 2000-260740 A 特開2003−273055号公報JP 2003-273055 A

しかしながら、スピンナー洗浄装置において板状ワークを洗浄する際、上記したようなサポートテーブルによって板状ワークの外周部分を全体的にサポートしていては、ブラシ等で押圧されていないエリアもサポートすることとなるため、洗浄手段による圧力がかかっている部分と圧力がかかってない部分との間で板状ワークに歪みが生じてしまい、板状ワークに割れが発生するという問題がある。   However, when cleaning the plate-like workpiece in the spinner cleaning device, the entire outer peripheral portion of the plate-like workpiece is supported by the support table as described above, and the area not pressed by the brush or the like is also supported. Therefore, there is a problem that the plate-like workpiece is distorted between the portion where the pressure is applied by the cleaning means and the portion where no pressure is applied, and the plate-like workpiece is cracked.

本発明は、上記の事情にかんがみてなされたものであり、板状ワークの洗浄時において板状ワークに加えられる洗浄手段の押圧力に対応して板状ワークをサポートできるようにすることに発明の解決すべき課題を有している。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and is designed to support a plate-shaped workpiece in response to the pressing force of the cleaning means applied to the plate-shaped workpiece when the plate-shaped workpiece is cleaned. There is a problem to be solved.

本発明は、円形の板状ワークの下面における中央エリアを吸引保持するスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブルに吸引保持される板状ワークの上面を洗浄する洗浄手段と、該洗浄手段を板状ワークの中央から外周までの径方向に往復移動させる移動手段と、該スピンナーテーブルに接触していない板状ワークの外周エリアを下方から支持するリング状のサポートテーブルと、該サポートテーブルを上下に昇降させる昇降手段と、該スピンナーテーブルを回転させる回転手段と、を少なくとも備えるスピンナー洗浄装置において、該サポートテーブルは、その内周側に形成され該スピンナーテーブルの面方向に対して垂直な方向に該スピンナーテーブルを相対的に進退可能とするための開口部と、該スピンナーテーブルの外周側において板状ワークを支持する支持エリアと、上面から流体を流出させる流出口を有し該流出口から流体を流出し該サポートテーブルの上面と板状ワークの下面との間に流体の層を形成することによって板状ワークを支持する流体支持エリアとを備え、該洗浄手段は、板状ワークのうち該スピンナーテーブルによって支持された部分及び該流体支持エリアによって支持された部分の上面を擦って洗浄するスクラビングブラシと、該スクラビングブラシを板状ワークに接触または板状ワークから該スクラビングブラシを離反させる押付け手段とを備え、該スピンナー洗浄装置には、該スクラビングブラシが該スピンナーテーブルの上方を通過する時と該サポートテーブルの該流体支持エリアの上方を通過する時とを認識する認識部と、該サポートテーブルの該流体支持エリアの上方を該スクラビングブラシが通過していると該認識部によって認識している時に該スクラビングブラシによる板状ワークを押圧する押圧力に対応して所定の流量の流体を該流出口から流出させる制御部とを備えており、該洗浄手段による板状ワークの洗浄時には、該スピンナーテーブルで板状ワークを吸引保持し、該サポートテーブルを該昇降手段によって上昇させ該スピンナーテーブルの上面より僅かに低い高さに該サポートテーブルの上面を位置付け、該スクラビングブラシによって板状ワークを押圧する押圧力に対応して該流出口からの流体の流量を該制御部で制御し調節することによって板状ワークを支持する支持力を調節できる。   The present invention relates to a spinner table that sucks and holds a central area on the lower surface of a circular plate-shaped workpiece, cleaning means for cleaning the upper surface of the plate-shaped workpiece sucked and held by the spinner table, and Moving means for reciprocating in the radial direction from the center to the outer periphery, a ring-shaped support table for supporting the outer peripheral area of the plate-like workpiece not in contact with the spinner table from below, and raising and lowering the support table up and down And a rotating means for rotating the spinner table, wherein the support table is formed on the inner peripheral side of the spinner table in a direction perpendicular to the surface direction of the spinner table. An opening for enabling relative advancement and the outer periphery of the spinner table A support area for supporting the workpiece, and an outlet for allowing the fluid to flow out from the upper surface. The fluid flows out from the outlet, and a fluid layer is formed between the upper surface of the support table and the lower surface of the plate-like workpiece. A scrubbing device that rubs and cleans a portion of the plate-like workpiece supported by the spinner table and an upper surface of the portion supported by the fluid-supporting area. A brush and pressing means for bringing the scrubbing brush into contact with the plate-like workpiece or separating the scrubbing brush from the plate-like workpiece, and the spinner cleaning device includes a time when the scrubbing brush passes above the spinner table; A recognition unit for recognizing when passing above the fluid support area of the support table; and the support table When the scrubbing brush recognizes that the scrubbing brush is passing above the fluid support area, a fluid having a predetermined flow rate corresponding to the pressing force pressing the plate-like work by the scrubbing brush is recognized. A control unit that flows out from the outlet, and when the plate-like workpiece is cleaned by the cleaning means, the plate-like workpiece is sucked and held by the spinner table, and the support table is lifted by the elevating means, and the upper surface of the spinner table By positioning the upper surface of the support table at a slightly lower height, and controlling and adjusting the flow rate of the fluid from the outlet in response to the pressing force pressing the plate-like workpiece by the scrubbing brush The supporting force for supporting the plate workpiece can be adjusted.

本発明にかかるスピンナー洗浄装置に備えるリング状のサポートテーブルは、スピンナーテーブルの外周側において板状ワークを支持する支持エリアと、流体の層を形成することにより板状ワークを支持する流体支持エリアとを備えており、洗浄手段による板状ワークの洗浄時において、認識部によって洗浄手段を構成するスクラビングブラシがサポートテーブルの流体支持エリアの上方を通過していると認識されたら、制御部によって流体支持エリアにおける流出口から所定の供給量の流体を流出させ、板状ワークの下面と流体支持エリアとの間に流体層を形成させるとともに洗浄手段による押圧力がかかっている板状ワークの外周エリアのみを流体の層で下方からサポートすることができる。
したがって、板状ワークに加えられるスクラビングブラシの押圧力に対応しながらサポートテーブルの流体支持エリアに供給する流体の流量を調節できるため、板状ワークを下方から支持する支持力を調節でき、板状ワークに歪みが生じることがなくなり、洗浄後の板状ワークに割れが発生することを防ぐことができる。
The ring-shaped support table provided in the spinner cleaning device according to the present invention includes a support area for supporting the plate-like workpiece on the outer peripheral side of the spinner table, and a fluid support area for supporting the plate-like workpiece by forming a fluid layer. If the scrubbing brush constituting the cleaning means is recognized by the recognition unit to pass above the fluid support area of the support table when the plate-like workpiece is cleaned by the cleaning unit, the control unit supports the fluid. Only the outer periphery area of the plate-shaped workpiece where a predetermined supply amount of fluid flows out from the outlet in the area, a fluid layer is formed between the lower surface of the plate-shaped workpiece and the fluid support area, and the pressing force is applied by the cleaning means Can be supported from below by a fluid layer.
Therefore, the flow rate of the fluid supplied to the fluid support area of the support table can be adjusted while corresponding to the pressing force of the scrubbing brush applied to the plate-like workpiece, so that the support force for supporting the plate-like workpiece from below can be adjusted. It is possible to prevent the workpiece from being distorted and to prevent the plate-like workpiece after cleaning from cracking.

スピンナー洗浄装置を備える研削装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a grinding device provided with a spinner cleaning apparatus. スピンナー洗浄装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a spinner washing | cleaning apparatus. 洗浄手段がスピンナーテーブルの上方を通過する状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the washing | cleaning means passes over the spinner table. 洗浄手段がサポートテーブルの流体支持エリアの上方を通過する状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the washing | cleaning means passes above the fluid support area of a support table.

図1に示す研削装置1は、研削後の被加工物を洗浄するスピンナー洗浄装置10を備える加工装置の一例である。研削装置1は、Y軸方向にのびる基台2aを有しており、この基台2aのY軸方向前部には、研削前の被加工物を収容するカセット3a及び研削後の被加工物を収容するカセット3bが配設されている。カセット3a及びカセット3bの後部側には、研削前の被加工物をカセット3aから搬出するとともに研削後の被加工物をカセット3bへ搬入する搬送手段4が配設されている。搬送手段4の可動領域には、被加工物が仮置きされる仮置きテーブル5と、研削後の被加工物を洗浄するスピンナー洗浄装置10とが配設されている。   A grinding apparatus 1 shown in FIG. 1 is an example of a processing apparatus including a spinner cleaning apparatus 10 that cleans a workpiece after grinding. The grinding apparatus 1 has a base 2a extending in the Y-axis direction. A cassette 3a for storing a workpiece before grinding and a workpiece after grinding are provided at the front of the base 2a in the Y-axis direction. Is disposed. On the rear side of the cassette 3a and the cassette 3b, conveying means 4 is provided for carrying out the workpiece before grinding from the cassette 3a and carrying the workpiece after grinding into the cassette 3b. In the movable region of the conveying means 4, a temporary placement table 5 on which a workpiece is temporarily placed and a spinner cleaning device 10 for cleaning the workpiece after grinding are disposed.

基台2aの上面には、被加工物を保持し自転可能な保持テーブル8が配設されており、保持テーブル8はY軸方向に移動可能となっている。仮置きテーブル5の近傍には、研削前の被加工物を仮置きテーブル5から保持テーブル8に搬送する第1の搬送手段6が配設されており、第1の搬送手段6に隣接して研削後の被加工物を保持テーブル8からスピンナー洗浄装置10に搬送する第2の搬送手段7が配設されている。基台2のY軸方向後部には、Z軸方向にのびるコラム2bが立設されており、コラム2bの側方において被加工物に研削を行う研削手段9が配設されている。   On the upper surface of the base 2a, a holding table 8 that holds a workpiece and can rotate is disposed, and the holding table 8 is movable in the Y-axis direction. In the vicinity of the temporary placing table 5, a first carrying means 6 for carrying the workpiece before grinding from the temporary placing table 5 to the holding table 8 is disposed, and adjacent to the first carrying means 6. A second conveying means 7 for conveying the workpiece after grinding from the holding table 8 to the spinner cleaning device 10 is provided. A column 2b extending in the Z-axis direction is erected on the rear portion of the base 2 in the Y-axis direction, and a grinding means 9 for grinding the workpiece on the side of the column 2b is disposed.

図2(a)に示すように、スピンナー洗浄装置10は、洗浄対象の被加工物より小径に形成され被加工物の下面における中央部分を吸引保持する保持面11aを有するスピンナーテーブル11と、スピンナーテーブル11を回転させる回転手段12と、スピンナーテーブル11の保持面11aにおいて吸引保持されていない被加工物の外周部分を下方から支持するリング状のサポートテーブル13と、サポートテーブル13を上下に昇降させる昇降手段14と、スピンナーテーブル11に吸引保持される被加工物の上面を洗浄する洗浄手段15と、洗浄手段15を被加工物の中央部分から外周部分までの径方向に往復移動させる移動手段16と、を少なくとも備えている。   As shown in FIG. 2 (a), the spinner cleaning apparatus 10 includes a spinner table 11 having a holding surface 11a that has a smaller diameter than the workpiece to be cleaned and has a holding surface 11a that sucks and holds the central portion of the lower surface of the workpiece. Rotating means 12 for rotating the table 11, a ring-shaped support table 13 for supporting the outer peripheral portion of the workpiece that is not sucked and held on the holding surface 11a of the spinner table 11, and the support table 13 is moved up and down. Elevating means 14, cleaning means 15 for cleaning the upper surface of the workpiece sucked and held by the spinner table 11, and moving means 16 for reciprocating the cleaning means 15 in the radial direction from the central portion to the outer peripheral portion of the workpiece. And at least.

回転手段12は、鉛直方向の軸心を有する回転軸120と、モータ121と、を備えている。そして、モータ121が回転軸120を回転駆動し、スピンナーテーブル11を所定の回転速度で回転させることができる。   The rotating means 12 includes a rotating shaft 120 having a vertical axis and a motor 121. Then, the motor 121 can rotate the rotation shaft 120 to rotate the spinner table 11 at a predetermined rotation speed.

図2(a)に示すように、サポートテーブル13は、その内周側に開口部130を備えている。開口部130は、スピンナーテーブル11の外径よりも大きく形成されている。昇降手段14は、ピストン140と、シリンダ141とにより構成されており、シリンダ141の内部をピストン140が上下方向に移動することにより、図2(a)及び図2(b)に示すように、サポートテーブル13を昇降させることにより、開口部130においてスピンナーテーブル11の面方向に対して垂直な方向にスピンナーテーブル11を相対的に進退可能としている。   As shown in FIG. 2A, the support table 13 includes an opening 130 on the inner peripheral side. The opening 130 is formed larger than the outer diameter of the spinner table 11. The elevating means 14 includes a piston 140 and a cylinder 141. As the piston 140 moves in the vertical direction inside the cylinder 141, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), By raising and lowering the support table 13, the spinner table 11 can be relatively advanced and retracted in a direction perpendicular to the surface direction of the spinner table 11 in the opening 130.

サポートテーブル13は、スピンナーテーブル11の外周側において被加工物を支持する支持エリア131と、流体の層を形成することにより被加工物を支持する流体支持エリア133とを備えている。サポートテーブル13の支持エリア131には、複数のブラシ132が配設されており、複数のブラシ132が被加工物の下面に接触することで被加工物を下方から支持することができる。なお、支持エリア131にブラシを備えず、平面状の板状部材が被加工物の下面を支持するようにしてもよい。   The support table 13 includes a support area 131 that supports the workpiece on the outer peripheral side of the spinner table 11 and a fluid support area 133 that supports the workpiece by forming a fluid layer. A plurality of brushes 132 are disposed in the support area 131 of the support table 13, and the workpieces can be supported from below by the plurality of brushes 132 coming into contact with the lower surface of the workpiece. Note that the support area 131 may not be provided with a brush, and a planar plate-like member may support the lower surface of the workpiece.

サポートテーブル13の流体支持エリア133には、上面から流体を流出させる流出口134を複数有している。流体支持エリア133には、図3に示すように流体の流量を調節する絞りバルブ33を介して流出口134への流体供給源32が接続されている。   The fluid support area 133 of the support table 13 has a plurality of outlets 134 through which fluid flows out from the upper surface. As shown in FIG. 3, a fluid supply source 32 to the outlet 134 is connected to the fluid support area 133 via a throttle valve 33 that adjusts the flow rate of the fluid.

図2に示すように、移動手段16は、鉛直方向の軸心を中心として回転可能な回転軸160と、回転軸160に連結されたアーム部161とにより構成されている。回転軸160が回転すると、アーム部161が旋回し、洗浄手段15をスピンナーテーブル11に吸引保持される被加工物の中央部分から外周部分までの間における径方向に往復移動させることができる。   As shown in FIG. 2, the moving means 16 includes a rotating shaft 160 that can rotate around a vertical axis, and an arm portion 161 connected to the rotating shaft 160. When the rotating shaft 160 is rotated, the arm portion 161 is turned, and the cleaning means 15 can be reciprocated in the radial direction between the central portion and the outer peripheral portion of the workpiece sucked and held by the spinner table 11.

図2及び図3に示すように、洗浄手段15は、被加工物の上面を擦って洗浄するスクラビングブラシ150と、スクラビングブラシ150を被加工物に接触させまたは被加工物からスクラビングブラシ150を離反させる押付け手段151と、被加工物の上面に洗浄液を供給する供給ノズル152と、供給ノズル152に接続された洗浄液供給源153と、を備えている。なお、スクラビングブラシ150の構成としては、特に限定されるものでない。   As shown in FIGS. 2 and 3, the cleaning means 15 includes a scrubbing brush 150 that rubs and cleans the upper surface of the workpiece, and makes the scrubbing brush 150 contact the workpiece or separates the scrubbing brush 150 from the workpiece. And a supply nozzle 152 for supplying a cleaning liquid to the upper surface of the workpiece, and a cleaning liquid supply source 153 connected to the supply nozzle 152. The configuration of the scrubbing brush 150 is not particularly limited.

洗浄手段15には、被加工物に加える押圧力の変化に基づいて洗浄手段15の位置を認識できる認識部30が接続されている。この認識部30は、例えば回転軸160の回転角度に応じて、スピンナーテーブル11の上方を洗浄手段15が通過する時と、サポートテーブル13の流体支持エリア133の上方をスクラビングブラシ150が通過する時とをそれぞれ認識することが可能となっている。   A recognition unit 30 that can recognize the position of the cleaning unit 15 based on a change in the pressing force applied to the workpiece is connected to the cleaning unit 15. This recognition unit 30 is used when the cleaning means 15 passes above the spinner table 11 and when the scrubbing brush 150 passes above the fluid support area 133 of the support table 13 according to, for example, the rotation angle of the rotary shaft 160. Can be recognized respectively.

認識部30には、制御部31が接続されている。制御部31は、CPU及びメモリを少なくとも備えており、絞りバルブ33に接続されている。そして、制御部31は、認識部30に認識された情報に基づいて流出口134から流出させる流体の流量を調節するように絞りバルブ33を制御することができる。   A control unit 31 is connected to the recognition unit 30. The control unit 31 includes at least a CPU and a memory, and is connected to the throttle valve 33. And the control part 31 can control the throttle valve 33 so that the flow volume of the fluid which flows out out of the outflow port 134 based on the information recognized by the recognition part 30 may be adjusted.

以下では、スピンナー洗浄装置10によって研削後の被加工物を洗浄する動作について説明する。図1に示す円形の板状ワークWは、被加工物の一例であって、研削が施され研削屑等が付着した面が洗浄すべき上面Waとなっており、上面Waと反対側にある面がスピンナーテーブル11とサポートテーブル13とに載置される下面Wbとなっている。また、板状ワークWは、スピンナーテーブル11に支持される中央部分が中央エリアW1となっており、サポートテーブル13に支持される外周部分が外周エリアW2となっている。このような板状ワークWは、研削手段9によって所定の厚みに研削された後、第2の搬送手段7によって保持テーブル8からスピンナー洗浄装置10に搬送される。次いで、スピンナーテーブル11の保持面11a(図2参照)において板状ワークWの中央エリアW1における下面Wbが吸引保持される。   Below, the operation | movement which wash | cleans the workpiece after grinding with the spinner washing | cleaning apparatus 10 is demonstrated. A circular plate-like workpiece W shown in FIG. 1 is an example of a workpiece, and a surface to which grinding scraps and the like are attached is an upper surface Wa to be cleaned, and is on the side opposite to the upper surface Wa. The surface is a lower surface Wb placed on the spinner table 11 and the support table 13. Further, the plate-like workpiece W has a central portion supported by the spinner table 11 as a central area W1, and an outer peripheral portion supported by the support table 13 as an outer peripheral area W2. Such a plate-like workpiece W is ground to a predetermined thickness by the grinding means 9 and then transported from the holding table 8 to the spinner cleaning device 10 by the second transport means 7. Next, the lower surface Wb in the central area W1 of the plate-like workpiece W is sucked and held on the holding surface 11a (see FIG. 2) of the spinner table 11.

スピンナーテーブル11において板状ワークWが吸引保持された後、図3に示すように、モータ121が回転軸120を回転させ、スピンナーテーブル11を例えば矢印A方向に回転させる。次いで、昇降手段14が作動することによってサポートテーブル13を上昇させ、スピンナーテーブル11の保持面11aよりも僅かに低い高さにサポートテーブル13を移動させる。これにより、支持エリア131における複数のブラシ132が板状ワークWの下面Wbに接触し、支持エリア131の上方に位置している板状ワークWの外周エリアW2が下方から支持される。   After the plate-like workpiece W is sucked and held on the spinner table 11, as shown in FIG. 3, the motor 121 rotates the rotating shaft 120 to rotate the spinner table 11 in the arrow A direction, for example. Next, the support means 13 is raised by operating the elevating means 14, and the support table 13 is moved to a height slightly lower than the holding surface 11 a of the spinner table 11. As a result, the plurality of brushes 132 in the support area 131 come into contact with the lower surface Wb of the plate-like workpiece W, and the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W located above the support area 131 is supported from below.

次に、押付け手段151によってスクラビングブラシ150を鉛直方向に下降させ、板状ワークWの中央エリアW1における上面Waに接触させる。図2に示した移動手段16によって洗浄手段15を二点鎖線に示すように板状ワークWの中央エリアW1から外周エリアW2に向けて径方向に移動させながら、スクラビングブラシ150によって、板状ワークWのうちスピンナーテーブル11によって支持された部分及び流体支持エリア133によって支持された部分の上面Waを擦って洗浄する。板状ワークWの洗浄中は、洗浄液供給源153が作動し、供給ノズル152から板状ワークWの上面Waに向けて洗浄液を供給する。   Next, the scrubbing brush 150 is lowered in the vertical direction by the pressing means 151 and brought into contact with the upper surface Wa in the central area W1 of the plate-like workpiece W. The scrubbing brush 150 moves the plate-like workpiece 15 while moving the cleaning means 15 in the radial direction from the central area W1 to the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W as indicated by a two-dot chain line by the moving means 16 shown in FIG. The portion of W supported by the spinner table 11 and the upper surface Wa of the portion supported by the fluid support area 133 are rubbed and cleaned. During the cleaning of the plate-like workpiece W, the cleaning solution supply source 153 is operated to supply the cleaning solution from the supply nozzle 152 toward the upper surface Wa of the plate-like workpiece W.

このとき、認識部30は、スクラビングブラシ150がスピンナーテーブル11の上方を通過していると認識するとともに認識したその情報を制御部31に送る。なお、スクラビングブラシ150がスピンナーテーブル11の上方を通過しているときは、流体支持エリア133で板状ワークWの外周エリアW2を支持する必要がないため、制御部31は、例えば絞りバルブ33を閉じるように制御する。   At this time, the recognition unit 30 recognizes that the scrubbing brush 150 is passing above the spinner table 11 and sends the recognized information to the control unit 31. Note that when the scrubbing brush 150 passes over the spinner table 11, it is not necessary to support the outer peripheral area W <b> 2 of the plate-like workpiece W with the fluid support area 133. Control to close.

図4に示すように、スクラビングブラシ150が板状ワークWの中央エリアW1から外周エリアW2に移動してきたら、スクラビングブラシ150を二点鎖線に示すように外周エリアW2上をさらに径方向に移動させながら、スクラビングブラシ150によって板状ワークWの上面Waを擦って洗浄する。   As shown in FIG. 4, when the scrubbing brush 150 has moved from the central area W1 of the plate-like workpiece W to the outer peripheral area W2, the scrubbing brush 150 is further moved in the radial direction on the outer peripheral area W2 as indicated by a two-dot chain line. However, the upper surface Wa of the plate-like workpiece W is rubbed and cleaned by the scrubbing brush 150.

この際、スクラビングブラシ150より加えられる押圧力により板状ワークWの外周エリアW2が沈むことを防止するため、認識部30は、スクラビングブラシ150がサポートテーブル13の上方を通過していると認識するとともに認識したその情報を制御部31に送る。次いで、制御部31は、認識部30が認識した情報に基づいて絞りバルブ33を開く。そして、絞りバルブ33によって流体の流量が調節されながら、サポートテーブル13の流体支持エリア133に向けて流体が供給されると、流体層20が形成され、外周エリアW2が流体層20によって下方からサポートされる。なお、流体としては、例えば、水などの液体を使用することができるほか、空気などの気体を使用することもできる。   At this time, the recognition unit 30 recognizes that the scrubbing brush 150 passes above the support table 13 in order to prevent the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W from sinking due to the pressing force applied from the scrubbing brush 150. The information recognized together is sent to the control unit 31. Next, the control unit 31 opens the throttle valve 33 based on the information recognized by the recognition unit 30. Then, when the fluid is supplied toward the fluid support area 133 of the support table 13 while the flow rate of the fluid is adjusted by the throttle valve 33, the fluid layer 20 is formed, and the outer peripheral area W2 is supported by the fluid layer 20 from below. Is done. As the fluid, for example, a liquid such as water can be used, and a gas such as air can be used.

図4に示す部分拡大図に示すように、流体が複数の流出口134から流出されて溜まると、板状ワークWの下面Wbと流体支持エリア133との間で流体層20が形成される。この流体層20によって、上方から押圧されている板状ワークWの外周エリアW2を下方からサポートすることができる。流体層20の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、0.5mmとなっている。   As shown in the partially enlarged view shown in FIG. 4, when the fluid flows out from the plurality of outlets 134 and accumulates, the fluid layer 20 is formed between the lower surface Wb of the plate-like workpiece W and the fluid support area 133. The fluid layer 20 can support the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W pressed from above from below. Although the thickness of the fluid layer 20 is not specifically limited, For example, it is 0.5 mm.

このようにして、板状ワークWの外周エリアW2のうち、スクラビングブラシ150によって押圧される部分についてのみ流体支持エリア133において流体層20によって下方からサポートすることにより、板状ワークWのうち、洗浄している部分と洗浄していない部分との間で歪みが生じるのを防止することができる。   In this way, only the portion pressed by the scrubbing brush 150 in the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W is supported from below by the fluid layer 20 in the fluid support area 133, thereby cleaning the plate-like workpiece W. It is possible to prevent distortion from occurring between a portion that has been cleaned and a portion that has not been cleaned.

その後、スクラビングブラシ150がスピンナーテーブル11の上方に戻ると、そのことを認識部30が認識するとともに認識したその情報を制御部31に送る。そうすると、流体支持エリア133において板状ワークWの外周エリアW2を支持する必要がないため、制御部31は、例えば絞りバルブ33を閉じるように制御し、流出口134からの流体の流出を停止するか、流体の流出量を少なくする。   Thereafter, when the scrubbing brush 150 returns to above the spinner table 11, the recognition unit 30 recognizes this and sends the recognized information to the control unit 31. Then, since it is not necessary to support the outer peripheral area W2 of the plate-like workpiece W in the fluid support area 133, the control unit 31 performs control so as to close the throttle valve 33, for example, and stops outflow of fluid from the outflow port 134. Or reduce the outflow of fluid.

このようにしてスクラビングブラシ150がスピンナーテーブル11の上方と流体支持エリア133の上方との間を繰り返し往復することにより板状ワークWの上面Waの洗浄が完了したら、サポートテーブル13を降下させた後、図1に示す搬送手段4によって板状ワークWの下面が保持され、スピンナー洗浄装置10からカセット3bに洗浄後の板状ワークWが搬入される。   After the scrubbing brush 150 repeatedly moves back and forth between the upper part of the spinner table 11 and the upper part of the fluid support area 133 to complete the cleaning of the upper surface Wa of the plate-like workpiece W, the support table 13 is lowered. The lower surface of the plate-like workpiece W is held by the conveying means 4 shown in FIG. 1, and the washed plate-like workpiece W is carried from the spinner cleaning device 10 to the cassette 3b.

以上のように、スピンナー洗浄装置10に備えるリング状のサポートテーブル13は、スピンナーテーブル11の外周側において板状ワークWを支持する支持エリア131と、流体の層を形成することにより板状ワークWを支持する流体支持エリア133とを備えており、スクラビングブラシ150による板状ワークWの洗浄時において、認識部30によってスクラビングブラシ150がサポートテーブル13の流体支持エリア133の上方を通過していると認識されたら、制御部31によって流体支持エリア133における流出口134から所定の流量の流体を流出させ、板状ワークWの下面Wbと流体支持エリア133との間に流体層20を形成させるとともにスクラビングブラシ150による押圧力がかかっている外周エリアW2のみを流体層20で下方からサポートすることができる。
したがって、板状ワークWに加えられるスクラビングブラシ150の押圧力に対応しながらサポートテーブル13の流体支持エリア133に供給する流体の流量を制御部31で制御し調節できるため、板状ワークWを下方から支持する支持力を調節でき、板状ワークWに歪みが生じることはなく、洗浄後の板状ワークWに割れが発生することがない。
As described above, the ring-shaped support table 13 provided in the spinner cleaning device 10 forms the plate-like work W by forming the support area 131 that supports the plate-like work W on the outer peripheral side of the spinner table 11 and the fluid layer. The scrubbing brush 150 passes above the fluid support area 133 of the support table 13 by the recognition unit 30 when the plate-like workpiece W is cleaned by the scrubbing brush 150. When recognized, the control unit 31 causes a predetermined flow rate of fluid to flow out from the outlet 134 in the fluid support area 133 to form the fluid layer 20 between the lower surface Wb of the plate-like workpiece W and the fluid support area 133 and scrubbing. Only the outer peripheral area W2 where the pressing force is applied by the brush 150 It can be supported from below by the fluid layer 20.
Therefore, since the flow rate of the fluid supplied to the fluid support area 133 of the support table 13 can be controlled and adjusted by the control unit 31 while corresponding to the pressing force of the scrubbing brush 150 applied to the plate workpiece W, the plate workpiece W is moved downward. Therefore, the plate-like workpiece W is not distorted and the plate-like workpiece W is not cracked.

1:研削装置 2a:基台 2b:コラム 3a,3b:カセット 4:搬送手段
5:仮置きテーブル 6:第1の搬送手段 7:第2の搬送手段 8:保持テーブル
9:研削手段 10:スピンナー洗浄装置 11:スピンナーテーブル 11a:保持面
12:回転手段 120:回転軸 121:モータ
13:サポートテーブル 130:開口部 131:支持エリア 132:ブラシ
133:流体支持エリア 134:流出口
14:昇降手段 140:ピストン 141:シリンダ
15:洗浄手段 150:スクラビングブラシ 151:押付け手段
152:供給ノズル 153:洗浄液供給源 16:移動手段 160:回転軸
161:アーム部 20:流体層
30:認識部 31:制御部 32:流体供給源 33:絞りバルブ
W:板状ワーク Wa:上面 Wb:下面 W1:中央エリア W2:外周エリア
1: Grinding device 2a: Base 2b: Columns 3a, 3b: Cassette 4: Transport means 5: Temporary table 6: First transport means 7: Second transport means 8: Holding table 9: Grinding means 10: Spinner Cleaning device 11: Spinner table 11a: Holding surface 12: Rotating means 120: Rotating shaft 121: Motor 13: Support table 130: Opening part 131: Support area 132: Brush 133: Fluid support area 134: Outlet 14: Lifting means 140 : Piston 141: Cylinder 15: Cleaning means 150: Scrubbing brush 151: Pressing means 152: Supply nozzle 153: Cleaning liquid supply source 16: Moving means 160: Rotating shaft 161: Arm part 20: Fluid layer 30: Recognition part 31: Control part 32: Fluid supply source 33: Throttle valve W: Plate work Wa: Upper surface Wb: Lower surface W : Central area W2: the outer area

Claims (1)

円形の板状ワークの下面における中央エリアを吸引保持するスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブルに吸引保持される板状ワークの上面を洗浄する洗浄手段と、該洗浄手段を板状ワークの中央から外周までの径方向に往復移動させる移動手段と、該スピンナーテーブルに接触していない板状ワークの外周エリアを下方から支持するリング状のサポートテーブルと、該サポートテーブルを上下に昇降させる昇降手段と、該スピンナーテーブルを回転させる回転手段と、を少なくとも備えるスピンナー洗浄装置において、
該サポートテーブルは、その内周側に形成され該スピンナーテーブルの面方向に対して垂直な方向に該スピンナーテーブルを相対的に進退可能とするための開口部と、該スピンナーテーブルの外周側において板状ワークを支持する支持エリアと、上面から流体を流出させる流出口を有し該流出口から流体を流出し該サポートテーブルの上面と板状ワークの下面との間に流体の層を形成することによって板状ワークを支持する流体支持エリアとを備え、
該洗浄手段は、板状ワークのうち該スピンナーテーブルによって支持された部分及び該流体支持エリアによって支持された部分の上面を擦って洗浄するスクラビングブラシと、該スクラビングブラシを板状ワークに接触または板状ワークから該スクラビングブラシを離反させる押付け手段とを備え、
該スピンナー洗浄装置には、該スクラビングブラシが該スピンナーテーブルの上方を通過する時と該サポートテーブルの該流体支持エリアの上方を通過する時とを認識する認識部と、
該サポートテーブルの該流体支持エリアの上方を該スクラビングブラシが通過していると該認識部が認識している時に該スクラビングブラシによる板状ワークを押圧する押圧力に対応して所定の流量の流体を該流出口から流出させる制御部とを備えており、
該洗浄手段による板状ワークの洗浄時には、該スピンナーテーブルで板状ワークを吸引保持し、該サポートテーブルを該昇降手段によって上昇させ該スピンナーテーブルの上面より僅かに低い高さに該サポートテーブルの上面を位置付け、該スクラビングブラシによって板状ワークを押圧する押圧力に対応して該流出口からの流体の流量を該制御部で制御し調節することによって板状ワークを支持する支持力を調節できるスピンナー洗浄装置。
A spinner table that sucks and holds the central area on the lower surface of the circular plate-shaped workpiece, a cleaning means that cleans the upper surface of the plate-shaped workpiece sucked and held by the spinner table, and the cleaning means from the center to the outer periphery of the plate-shaped workpiece Moving means for reciprocating in the radial direction, a ring-shaped support table for supporting the outer peripheral area of the plate-like workpiece not in contact with the spinner table from below, elevating means for raising and lowering the support table up and down, In a spinner cleaning apparatus comprising at least a rotating means for rotating a spinner table,
The support table is formed on the inner peripheral side thereof, and has an opening for allowing the spinner table to relatively advance and retreat in a direction perpendicular to the surface direction of the spinner table, and a plate on the outer peripheral side of the spinner table. A support area for supporting the workpiece, and an outlet for allowing the fluid to flow out from the upper surface. The fluid flows out from the outlet, and a fluid layer is formed between the upper surface of the support table and the lower surface of the plate-like workpiece. And a fluid support area for supporting the plate-like workpiece,
The cleaning means includes: a scrubbing brush for cleaning by rubbing the upper surface of a portion of the plate-like workpiece supported by the spinner table and a portion of the plate-like workpiece supported by the fluid support area; Pressing means for separating the scrubbing brush from the workpiece,
The spinner cleaning device includes a recognition unit that recognizes when the scrubbing brush passes above the spinner table and when the scrubbing brush passes above the fluid support area of the support table;
A fluid having a predetermined flow rate corresponding to the pressing force pressing the plate-like workpiece by the scrubbing brush when the recognition unit recognizes that the scrubbing brush is passing above the fluid support area of the support table And a control unit for causing the gas to flow out from the outlet.
When the plate-like workpiece is cleaned by the cleaning means, the plate-like workpiece is sucked and held by the spinner table, and the support table is lifted by the elevating means, and the upper surface of the support table is slightly lower than the upper surface of the spinner table. A spinner capable of adjusting the supporting force for supporting the plate-shaped workpiece by controlling and adjusting the flow rate of the fluid from the outlet in accordance with the pressing force pressing the plate-shaped workpiece with the scrubbing brush. Cleaning device.
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