JP6025250B2 - 基板ケース洗浄装置 - Google Patents
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Description
クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記基板ケースのベース及びシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する洗浄槽を備え、上記ブース内で上記基板ケースを支持する支持台を設け、該基板ケースの各部品を上記支持台と洗浄槽との間で搬送する搬送機構を備え、上記ブースに上記基板ケースが通過可能且つシャッタで開閉される開口を設け、該ブースの開口の外部に上記基板ケースが所定位置に位置決めされて載置可能な載置台を設け、上記基板ケースの洗浄前に上記シャッタを開にして上記載置台に載置された基板ケースを上記支持台に移載し、該基板ケースの洗浄後に上記シャッタを開にして上記支持台に支持された基板ケースを上記載置台に移載する移載機構を設け、
上記移載機構は、上記支持台を搭載し上記載置台側に進出して該載置台と上記支持台との間で上記基板ケースの受取り,引渡しを行う進出位置及び上記ブース内に後退して上記搬送機構と上記支持台との間で該基板ケースの引渡し,受取りを行う後退位置の2位置に移動可能な機台と、該機台を移動可能に支持するレールと、該機台を上記進出位置及び後退位置の2位置に移動させる進退駆動部とを備えた構成としている。
この場合、支持台自体を直接移動させて、支持台で基板ケースの受取り,引渡しを行うので、従来のようにアームロボットで移動させるのと比較して、基板ケース全体の把持が不要になり、載置台から支持台への移載を複雑になることなく簡易にし、しかも、支持台への位置決めも容易に行うことができるようになる。
図1乃至図17に示す本発明の実施の形態に係る基板ケース洗浄装置Sは、図18(a)(b)に示すような基板DとしてEUVマスクを収納する基板ケースCを取り扱うものである。近年、例えば、シリコンウェハ上に集積回路パターンを描画するフォトリソグラフィ技術においては、LSIの高集積化に伴って、EUV(Extreme
Ultra Violet)光を真空中で照射する基板としてのEUVマスクが普及してきているが、基板ケースCは、このEUVマスクを収納して保管する。基板ケースCは、2重構造のケースになっており、インナーベースNb及びこのインナーベースNbを覆うインナーシェルNsからなり内部に基板Dとしてのマスクを収容するインナーポッドNと、インナーポッドNのインナーベースNbを支持するアウターベースMb及びアウターベースMbを覆うアウターシェルMsからなり内部にインナーポッドNを収容するアウターポッドMとを備えて構成されている。このように、基板ケースCに2重構造をとるのは、基板Dが外気に汚染されることから徹底して防御するためである。アウターポッドMは外気に晒されるが、インナーポッドNは意図的にアウターポッドMを開けない限り外気に晒されることはない。本基板ケース洗浄装置Sは、基板ケースCを基板Dが空の状態で洗浄する。
また、ブース10内には、基板ケースCのアウターポッドM及びインナーポッドNの各部品を支持台20と対応する第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50との間で搬送する搬送機構60が備えられている。
また、図10に示すように、第一洗浄槽40は、第一洗浄槽40の槽本体42の底部に垂直方向の軸線を中心に回転可能に設けられた第一回転板44と、第一回転板44を回転駆動する第一回転駆動部45と、第一回転板44に立設され所定の高さ位置でアウターベースMbの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のアウターベース支承杆46と、第一回転板44に立設されアウターベース支承杆46とは異なる所定の高さ位置でアウターシェルMsの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のアウターシェル支承杆47とを備えて構成されている。
また、第一洗浄槽40の複数のアウターベース支承杆46と複数のアウターシェル支承杆47とは、互いに回転方向の異なる位置に立設されている。実施の形態では、図10乃至図13に示すように、45°回転方向に位相をずらして立設されている。
図10においては、第一洗浄槽40の内部を示すが、第二洗浄槽50においても第一洗浄槽40と構成が共通するので対応する部位に第二洗浄槽50の符号をカッコ書きで付した。この図10に示すように、第二洗浄槽50は、第二洗浄槽50の槽本体52の底部に垂直方向の軸線を中心に回転可能に設けられた第二回転板54と、第二回転板54を回転駆動する第二回転駆動部55と、第二回転板54に立設され所定の高さ位置でインナーベースNbの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のインナーベース支承杆56と、第二回転板54に立設されインナーベース支承杆56とは異なる所定の高さ位置でインナーシェルNsの外縁の一部(実施の形態では4つのコーナー部)を支承する複数(4つ)のインナーシェル支承杆57とを備えて構成されている。
また、第二洗浄槽50の複数のインナーベース支承杆56と複数のインナーシェル支承杆57とは、互いに回転方向の異なる位置に立設されている。実施の形態では、図10乃至図13に示すように、45°回転方向に位相をずらして立設されている。
尚、第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50内には、周知の洗浄液を噴射する洗浄液ノズル群、ドライエアを噴出して乾燥させるエアノズルが設けられている。
この制御部100は、同様に、第二回転駆動部55を制御し、インナーベースNbの支承及び支承解除時のインナーベースNbの支承杆の停止位置と、インナーシェルNsの支承及び支承解除時のインナーシェル支承杆57の停止位置とを位相を異ならせて設定する機能を備えている。実施の形態では、図12(a1)(b1)に示すように、45°回転方向に位相をずらす。
図14(b),図15及び図16に示すように、把持ハンド70の一対のハンド単体71には、アウターポッドMのアウターベースMb及びアウターシェルMs,インナーポッドNのインナーベースNb及びインナーシェルNsの各把持部の形状に夫々対応して係止する係止部73,74,75,76が形成されている。
尚、制御部100は、上記もしたシャッタ12の開閉制御、移載機構30の駆動制御、搬送機構60の駆動制御、第一洗浄槽40及び第二洗浄槽50の蓋43,53の開閉制御、回転板44,54の回転制御、洗浄,乾燥制御等、種々の制御を行う。
予め、制御部100には、アウターポッドMのアウターベースMbの外側面の洗浄が不要であるか否かを基板ケースCの洗浄前に行うプログラミングしておく。ここでは、先ず、アウターベースMbの外側面の洗浄が必要である場合について説明する。
先ず、図8(a)に示すように、載置台13に洗浄に係る基板ケースCを、他の搬送機等を用いてセッティングする。基板ケースCの洗浄前においては、図8(b)に示すように、ブース10のシャッタ12が開けられ、移載機構30の進退駆動部33が機台31を支持台20とともに初期位置R3から進出位置R1に進出させるとともに、載置台13に載置された基板ケースCを支持台20上に受取る。この際には、図8(c)及び図6(b)に示すように、機台31の進出位置R1で、上下駆動部34が支持台20を上昇させ、支持台20の係合凸部23を基板ケースCのアウターベースMbの係合凹部4に係合させて基板ケースCを持ち上げる。また、アウターベースMbを吸着盤24で吸着する。そのため、基板ケースCが左右前後に動く事態が防止され、確実に支持台20上に位置決めされる。更にまた、支持台20のラッチ駆動部21のラッチピン21aがアウターベースMbの挿入孔2から挿入される。
一方、図13に示すように、第二洗浄槽50においても、インナーベース支承杆56とインナーシェル支承杆57とは異なる所定の高さ位置で各部品を支承しているので、槽本体52内において、インナーベースNb及びインナーシェルNsが夫々これらの外面及び内面を露出させるとともに互いに分離して保持されることになる。そのため、洗浄を行う際には、洗浄液が満遍なくインナーベースNb及びインナーシェルNsに行き届くことから、洗浄を確実に行うことができるようになる。
即ち、従来のように蓋43,53に一方の部品を装着して洗浄する場合には、蓋43,53に装着した部品の特に蓋43,53側の面には十分に洗浄液が行き届きにくいが、本発明の構成では、各部品を槽本体42,52内において離間させて洗浄できるので、洗浄液を満遍に行き届かせて、洗浄を確実に行うことができるようになるのである。
上記と同様に、支持台20に支持されたアウターポッドMのアウターベースMb及びアウターシェルMs,インナーポッドNのインナーベースNb及びインナーシェルNsの各部品を搬送機構60で搬送する。この際は、図1及び図17に示すように、最後のアウターベースMbは、第一洗浄槽40の蓋43の裏面に設けた保持部90に保持する。この場合、保持部90の係合凸部91をアウターベースMbの係合凹部4に係合させるとともに、アウターベースMbを吸着盤92で吸着する。そのため、アウターベースMbが左右前後に動く事態が防止され、確実に保持部90に保持される。
C 基板ケース
N インナーポッド
Nb インナーベース
Ns インナーシェル
M アウターポッド
Mb アウターベース
Ms アウターシェル
D 基板
1 ロック部
2 挿入孔
3 位置決め凹部
4 係合凹部
10 ブース
11 開口
12 シャッタ
13 載置台
14 開放部
15 位置決めピン
16 位置決めブロック
20 支持台
21 ラッチ駆動部
23 係合凸部
24 吸着盤
30 移載機構
31 機台
R1 進出位置
R2 後退位置
R3 初期位置
32 レール
33 進退駆動部
34 上下駆動部
40 第一洗浄槽
41 開口
42 槽本体
43 蓋
44 第一回転板
45 第一回転駆動部
46 アウターベース支承杆
47 アウターシェル支承杆
48 支承体
49 ガイドピン
50 第二洗浄槽
51 開口
52 槽本体
53 蓋
54 第二回転板
55 第二回転駆動部
56 インナーベース支承杆
57 インナーシェル支承杆
58 支承体
59 ガイドピン
60 搬送機構
61 把持機構
62 昇降機構
63 走行移動機構
64 ベース板
65 昇降レール
66 スタンド
67 水平レール
70 把持ハンド
71 ハンド単体
72 駆動部
73,74,75,76 係止部
80 洗浄手段
Q 待機位置
81 噴射ノズル
82 排気ファン
90 保持部
91 係合凸部
92 吸着盤
100 制御部
Claims (4)
- ベース及びベースを覆うシェルを備え内部に基板を収容する基板ケースを、上記基板が空の状態で洗浄する基板ケース洗浄装置において、
クリーンな空間を形成するブースを備え、該ブース内に、上記基板ケースのベース及びシェルの各部品を分離した状態で収容して洗浄する洗浄槽を備え、上記ブース内で上記基板ケースを支持する支持台を設け、該基板ケースの各部品を上記支持台と洗浄槽との間で搬送する搬送機構を備え、上記ブースに上記基板ケースが通過可能且つシャッタで開閉される開口を設け、該ブースの開口の外部に上記基板ケースが所定位置に位置決めされて載置可能な載置台を設け、上記基板ケースの洗浄前に上記シャッタを開にして上記載置台に載置された基板ケースを上記支持台に移載し、該基板ケースの洗浄後に上記シャッタを開にして上記支持台に支持された基板ケースを上記載置台に移載する移載機構を設け、
上記移載機構は、上記支持台を搭載し上記載置台側に進出して該載置台と上記支持台との間で上記基板ケースの受取り,引渡しを行う進出位置及び上記ブース内に後退して上記搬送機構と上記支持台との間で該基板ケースの引渡し,受取りを行う後退位置の2位置に移動可能な機台と、該機台を移動可能に支持するレールと、該機台を上記進出位置及び後退位置の2位置に移動させる進退駆動部とを備えたことを特徴とする基板ケース洗浄装置。
- 上記基板ケースの支持台に支持される側に係合凹部を形成し、上記支持台に上記基板ケースの係合凹部に係合する係合凸部を設け、上記載置台をブース側に向けて開放し上記基板ケースの係合凹部を露出させる開放部を有したフォーク状に形成し、上記支持台を上記移載機構の機台に対して上下動可能に設け、該支持台を上下動させる上下駆動部を設け、上記進出位置で、上記支持台を上昇させることにより該支持台の係合凸部を基板ケースの係合凹部に係合させて該基板ケースを持ち上げ、該支持台を該基板ケースを持ち上げたまま上記載置台の開放口を通過して移動可能にしたことを特徴とする請求項1記載の基板ケース洗浄装置。
- 上記支持台に上記基板ケースの支持台に支持される側を吸着する吸着盤を設けたことを特徴とする請求項1または2記載の基板ケース洗浄装置。
- 上記基板ケースの支持台に支持される側に上記基板ケースの各部品を互いに離脱不能にロックし離脱可能にロック解除するラッチ型のロック部を備え、上記支持台に、上記進出位置で上記支持台を上昇させて該支持台の係合凸部を基板ケースの係合凹部に係合させた際、上記ロック部のロック及びロック解除を行うラッチ駆動部を設けたことを特徴とする請求項1乃至3何れかに記載の基板ケース洗浄装置。
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