JP6024500B2 - アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 - Google Patents
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Description
5〜50mm、加速電圧が30〜200kVの範囲において、収束あるいは直進性を保つカソード群10とウェネルト14の位置関係を電子ビーム軌道の2次元軸対称シミュレーションにより求めた。
10…カソード群(CNT成膜領域)
12…アノード
14…ウェネルト
16…ウェネルト位置調整機構
18…カソード位置調整機構
20…透過窓
21…薄膜窓
24…透過窓フランジ
26…押えフレーム
30…直流(DC)電源
36…制御装置
Claims (14)
- アレイ状に多数配置されたカソード群とアノードよりなる、引出し電極のない2極型構造であって、前記カソード群と電気的に接続されたウェネルトを有し、該カソード群とアノードとウェネルトの内少なくとも2つを進退させる位置調整機構を有するアレイ型粒子線照射装置であって、
前記カソード群の各カソードから放出された粒子ビームが収束あるいは直進するように設定されると共に、
前記カソード群の各カソードと同一形状の透過窓が完全に相対配置され、
前記透過窓は、透過箔膜をハニカムフレームで挟み込む構造であることを特徴とするアレイ型粒子線照射装置。 - 前記カソード群が配設されるカソード体の粒子線放出面が、全体として凹面型とされていることを特徴とする請求項1に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として台形となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として2次曲線あるいは円錐曲線となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として三角関数曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項2に記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記粒子線放出面における粒子線発生領域が、前記凹面型の中央部のみとされていることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置。
- 前記カソード群が粒子ビーム照射方向と直角に複数に分割され、該分割された各群ごとに前記位置調整機構を設けたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置。
- アレイ状に多数配置されたカソード群とアノードよりなる、引出し電極のない2極型構造であって、前記カソード群と電気的に接続されたウェネルトを有し、該カソード群とアノードとウェネルトの内少なくとも2つを進退させる位置調整機構と、前記カソード群と完全に相対配置された、該カソード群の各カソードと同一形状の透過窓を有するアレイ型粒子線照射装置の制御方法であって、
前記透過窓は、透過箔膜をハニカムフレームで挟み込む構造であり、
前記カソード群の各カソードから放出された粒子ビームを収束あるいは直進するように制御することを特徴とするアレイ型粒子線照射装置の制御方法。 - 前記カソード群が配設されるカソード体の粒子線放出面が、全体として凹面型とされていることを特徴とする請求項8に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として台形となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として2次曲線あるいは円錐曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記凹面型粒子線放出面が、前記カソード体の前記凹面型の中央部を通る粒子線放出方向切断面において、全体として三角関数曲線型となるよう形成されていることを特徴とする請求項9に記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 前記粒子線放出面における粒子線発生領域が、前記凹面型の中央部のみとされていることを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
- 粒子ビーム照射方向と直角に複数に分割された前記カソード群を、該分割された各群ごとに位置調整することを特徴とする請求項8乃至13のいずれかに記載のアレイ型粒子線照射装置の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013023602A JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012064573 | 2012-03-21 | ||
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JP2013023602A JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013225490A JP2013225490A (ja) | 2013-10-31 |
JP6024500B2 true JP6024500B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=49595392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013023602A Active JP6024500B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-02-08 | アレイ型粒子線照射装置及びその制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6024500B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6206541B1 (ja) | 2016-06-13 | 2017-10-04 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
JP6206546B1 (ja) | 2016-06-23 | 2017-10-04 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および改質処理方法 |
JP6226033B1 (ja) | 2016-06-24 | 2017-11-08 | 株式会社明電舎 | 電界放射装置および電界放射方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141009A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Nikon Corp | 電子線装置及びその電子線装置を用いたデバイスの製造方法 |
JP2002182000A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Ushio Inc | 電子ビーム処理装置 |
JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
US7375345B2 (en) * | 2005-10-26 | 2008-05-20 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Exposed conductor system and method for sensing an electron beam |
JP5099756B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2012-12-19 | Jfeエンジニアリング株式会社 | 電子線発生装置およびその制御方法 |
EP2430638B1 (en) * | 2009-05-12 | 2018-08-08 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray source with a plurality of electron emitters and method of use |
-
2013
- 2013-02-08 JP JP2013023602A patent/JP6024500B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
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JP2013225490A (ja) | 2013-10-31 |
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A521 | Written amendment |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160303 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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