JP6018205B2 - マイクロ流体クロマトグラフィ装置のためのエレクトロスプレーエミッタアセンブリ - Google Patents

マイクロ流体クロマトグラフィ装置のためのエレクトロスプレーエミッタアセンブリ Download PDF

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Description

本出願は、2011年8月26日に出願された「Reusable Fitting for Attaching a Conduit to a Port」という名称の米国特許仮出願第61/527,638号、2011年8月26日に出願された「Chromatography Apparatus with Diffusion−Bonded Coupler」という名称の米国特許仮出願第61/527,639号、2011年8月26日に出願された「Liquid−Chromatography Conduit Assemblies Having High−Pressure Seals」という名称の米国特許仮出願第61/527,747号、2011年8月26日に出願された「Electrospray Assembly for a Microfluidic Chromatography Apparatus」という名称の米国特許仮出願第61/527,648号、および2012年4月9日に出願された「Chromatography Column Assembly」という名称の米国特許仮出願第61/621,852号の優先権および利益を主張し、これらの出願の全体が、ここでの言及によって本明細書に援用される。
本発明は、広くには、液体クロマトグラフィ−質量分析器具に関する。より具体的には、本発明は、LC−MS装置のマイクロ流体基板部分のためのエレクトロスプレーインターフェイスに関する。
高性能液体クロマトグラフィ(HPLC)器具は、化合物の分離、同定、および定量化のための分析ツールである。伝統的なHPLC器具は、ステンレス鋼管から作られた分析カラムを使用する。典型的には、管の内腔の直径が4.7mmであり、長さは約5cm〜約25cmの範囲である。
さらに、HPLC器具の分析カラムは、典型的には、管へと取り付けられるフリット入りの端部フィッティングを有している。種々の官能基で官能化された典型的にはシリカ主体の粒子が、管に詰め込まれる。
完成したカラムを使用して最適な分離効率を達成するためには、移動相の適切な流量が重要である。直径5μmの粒子が詰め込まれた直径4.7mmのカラムについては、望ましい流量が、典型的には、1mL/分〜約2mL/分の間である。HPLC器具の配管において非掃引の死空間の存在を最小限にすることが、分離効率を維持するために望まれる。
HPLC器具においては、インジェクタが、典型的にはサンプルを流れている移動相へと不連続な流体プラグとして注入するために使用される。カラムへと移動し、さらには/あるいはカラムから移動するときのプラグバンドの分散が、クロマトグラフシステムの最終的な効率を低下させる。例えば、4.7mmのカラム管および1〜2mL/分で流れる移動相を使用するクロマトグラフシステムにおいては、1/16インチの外径および約0.010インチの内径を有する管が、種々のHPLC構成要素(例えば、ポンプ、インジェクタ、カラム、および検出器)の間の接続を行なうために典型的に使用される。これらの流量および管の寸法においては、ポートの細部を、管の取り合い部分におけるバンドの広がりを最小限に抑える公差で機械加工することが、比較的容易である。
一つには、移動相の溶媒の消費を減らしたいという要望が、カラムの内径を小さくする傾向を動機付けている。したがって、いくつかの規模のクロマトグラフィが、今や一般的に実行されており、それらは、典型的には、表1(ここで、IDは内径である)に示されるように定義される。
Figure 0006018205
マイクロボアHPLCは、多くの場合、分析規模のHPLCに用いられる設備と同様の設備にて、わずかな変更を加えつつ行なわれている。フィッティングの作成に少しの追加の注意を払う必要がある点を除き、マイクロボアHPLCは、典型的には、分析規模のHPLCの実施と同様の技術レベルしか必要としない。
対照的に、毛管およびナノ規模のHPLCは、分析規模のHPLCに対して、HPLC構成要素の比較的大きな変更を必要とする。分析およびマイクロボアHPLCシステムにおいて一般的に見られるような標準的な開ループの往復運動HPLCポンプを用いると、約50μL/分未満の安定な移動相の流れを生成することが、比較的困難である。
毛管規模のクロマトグラフィにおいては、ステンレス鋼管を構成要素の相互接続に使用することができるが、内径が、典型的には0.005インチ未満(約125μ未満)でなければならない。フィッティングの末端の製造において、わずかな死空間の発生でさえ避けるように、注意が一般的に必要とされる。
ナノ規模のクロマトグラフィにおいては、約25〜50μmの内径を有する管が、器具の構成要素を相互接続する(例えば、ポンプを分離カラムへと接続する)ために典型的に必要とされる。ステンレス鋼管は、典型的には、このような寸法では入手できないため、ポリイミドで被覆された石英ガラス管が、典型的に使用される。石英ガラス管は、優れた寸法公差およびきわめて清浄な非反応性の内壁を有するが、壊れやすく、取り扱いが難しい。さらに、数ナノリットルの非掃引の死空間ですら残されないように、相互接続のポートを正確な公差で機械加工しなければならない。
分析規模のHPLCをマイクロボア規模のHPLCで置き換える主たる動機は、溶媒の消費の削減の要望であるかもしれないが、毛管規模およびナノ規模のクロマトグラフィへの移行は、例えば約10μL/分未満の流れが使用される場合、溶媒の消費のさらなる消費に加えて、質量分析計の検出感度の向上を下支えすることができる。さらに、毛管規模またはナノ規模のシステムが、入手可能なサンプルの量が少ない用途(例えば、新生児の血液検査)において典型的に求められる高感度の検出について、唯一の選択肢であることも多い。
毛管規模またはナノ規模のクロマトグラフィの利点にもかかわらず、HPLCのユーザは、マイクロボア規模および分析規模のクロマトグラフィシステムを採用する傾向にある。上述のように、これらのシステムは、典型的には、良好な信頼性をもたらし、使用が比較的容易である。対照的に、毛管規模またはナノ規模のクロマトグラフィシステムの運用時に良好なクロマトグラフィ効率を維持するためには、システムを配管する(例えば、管を使用してポンプ、インジェクタ、カラム、および検出器を接続する)ときにかなりの注意が必要である。
実際、分析またはマイクロボア規模のシステムから毛管またはナノ規模のシステムへと乗り換える操作者が、より大流量の(すなわち、分析またはマイクロボア規模の)システムの方がより良好な分離効率を達成できたことに気付くこともある。これは、典型的には、操作者においてバンドの広がりの少ない管の相互接続を実現するために必要な知識または経験が不充分なことに起因して生じる。さらには、より小さな内径の管を用いることで、折に触れて、管の詰まりが頻繁に生じる可能性がある。
毛管規模のHPLCシステムにおいて典型的に直面され、ナノ規模のシステムにおいてはさらに顕著に直面される相対的な困難さゆえに、このようなシステムは、主として、サンプルのサイズが小さいなどの必須の場合に、比較的熟練した操作者が存在するときに限って使用されてきた。結果として、分析実験室は、毛管規模およびナノ規模のシステムよりも分析規模およびマイクロボア規模のシステムを有する傾向にあり、毛管規模およびナノ規模のHPLCから得ることができる利益が充分に実現されていない。
HPLCなどの分離技術は、サンプルについての多次元の情報をもたらすために、1つ以上の追加の分析技術と組み合わせて利用されることが多い。例えば、質量分析(MS)が、分子量および構造の情報をもたらすことができる。異種の技術を組み合わせるうえでの1つの問題点は、サンプルのインターフェイスの提供である。
例えば、LCとMSとの組み合わせにおいては、典型的には、MSによる分析のために、LCによって生成されたサンプルの溶離液の輸送およびイオン化が必要である。電界脱離、サーモスプレー、およびエレクトロスプレーなどのソフトイオン化技術が、たんぱく質およびペプチドなどの高分子量の分子から由来する無傷の分子イオンを生成するために有益である。的確な生物学的用途によって、好ましいソフトイオン化技術が決まることが多い。
一態様において、本発明は、サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板を備えている化学的分離のための装置を取り扱う。エミッタアセンブリが、変形可能な端部と、変形可能な端部の付近に位置し、マイクロ流体基板からサンプルの溶離液を受け取る導入口と、サンプルの溶離液のスプレーを放射するための導電性の出口部分とを有している。力印加ユニットが、変形可能な端部をマイクロ流体基板に接触して押し付ける力をエミッタアセンブリへと印加する。変形可能な端部は、マイクロ流体基板と変形可能な端部との間の接触によってマイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールが生み出されるように、マイクロ流体基板よりも弾性的である。
別の態様において、本発明は、一端の入り口と、他端のエミッタ先端部とを有している細長い導電性のエミッタ管を備えるエミッタアセンブリを取り扱う。管アセンブリが、細長いエミッタ管の周囲に配置され、細長いエミッタ管へと接続される。管アセンブリは、エミッタ管の入り口端を過ぎて突き出す変形可能な端部を有している。変形可能な端部は、マイクロ流体基板との接触によってマイクロ流体基板の出口開口とエミッタ管の入り口との間に実質的に流体を漏らさないシールが生み出されるように、マイクロ流体基板の縁と接触したときに変形するように構成されている。
さらに別の態様において、本発明は、サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板を収容するカートリッジ部分への取り付けのための手段を備えているスプレーカートリッジを取り扱う。エミッタアセンブリが、変形可能な端部と、変形可能な端部の付近に位置し、マイクロ流体基板からサンプルの溶離液を受け取る導入口と、サンプルの溶離液のエレクトロスプレーを放射するように構成された導電性の出口部分とを有している。取り付けのための手段がマイクロ流体基板を収容しているカートリッジ部分へと取り付けられるときに、マイクロ流体基板よりも弾性的である変形可能な端部が、マイクロ流体基板との接触において変形し、マイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールを生み出す。
また別の態様において、本発明は、サンプルを分析する方法であって、サンプルを運ぶ移動相を、サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板に形成されたカラムに通すステップと、エミッタアセンブリの導入口の付近に配置されたエミッタアセンブリの変形可能な端部を、マイクロ流体基板に接触させることで、マイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールを生じさせるステップと、サンプルの溶離液を、エミッタアセンブリの導入口において、流体を漏らさないシールを通ってマイクロ流体基板の出口開口から受け取るステップと、エミッタアセンブリの導電性の出口において、サンプルの溶離液のエレクトロスプレーを生成するステップとを含む方法を取り扱う。
本発明の上述の利点およびさらなる利点を、以下の説明を添付の図面と併せて参照することによって、よりよく理解することができる。添付の図面においては、種々の図において、類似の番号は類似の構造要素および特徴を指し示している。図面は必ずしも比例尺でなく、むしろ本発明の原理の説明に重点が置かれている。
マイクロ流体カートリッジが設置された状態の液体クロマトグラフィモジュールを含む液体クロマトグラフィ−質量分析システムの実施の形態の正面図である。 液体クロマトグラフィモジュールの実施の形態の正面図である。 液体クロマトグラフィモジュールの図であり、内部に収容されたクランプアセンブリを見せるためにカバーが開かれている。 液体クロマトグラフィモジュールの内部に収容されたクランプアセンブリの実施の形態の斜視図である。 クランプアセンブリの側面図である。 クランプアセンブリの正面図である。 クランプアセンブリの端部ハウジングの実施の形態の図である。 端部ハウジングの分解斜視図である。 端部ハウジングの後壁の別の実施の形態の外側の図である。 端部ハウジングの後壁の別の実施の形態の内側の図である。 マイクロ流体カートリッジの一実施の形態の右側の図である。 マイクロ流体カートリッジの左側の図である。 マイクロ流体カートリッジの分解図である。 右側が取り除かれた状態のマイクロ流体カートリッジの側面図である。 右側が取り除かれた状態のマイクロ流体カートリッジの別の側面図であり、マイクロ流体カートリッジ内のマイクロ流体基板に重ねられた押しブロックを示している。 左側が取り除かれた状態のマイクロ流体カートリッジの側面図である。 マイクロ流体カートリッジ内のマイクロ流体基板の一実施の形態の側面図である。 自動調心のフィッティングを備えるマイクロ流体基板の別の実施の形態の図である。 図18のマイクロ流体基板の断面図である。 クランプアセンブリの正面断面図であり、マイクロ流体カートリッジは設置されていない。 マイクロ流体カートリッジが設置された状態のクランプアセンブリの正面断面図であり、クランプアセンブリが非クランプ位置にある。 マイクロ流体カートリッジが設置された状態のクランプアセンブリの正面断面図であり、クランプアセンブリがクランプ位置にある。 マイクロ流体カートリッジのエミッタ端の図であり、高電圧ケーブルおよびガスノズルが側面に接続されている。 図14のマイクロ流体カートリッジのエミッタ端の図である。 図24のマイクロ流体カートリッジの一部分の三次元(3D)の図であり、エミッタとマイクロ流体基板との間の境界を示している。 図25Aの境界の詳細図である。 エミッタをマイクロ流体基板に対して位置決めするための保持具の典型的な使用を説明する側面図である。 マイクロ流体カートリッジのスプレーユニットの実施の形態の図である。 保持具−基板組み立てツールの実施の形態の上方からの3D図である。 保持具−基板組み立てツールの実施の形態の下方からの3D図である。 着脱可能なエミッタハウジングを有するマイクロ流体カートリッジの別の実施の形態の外側の3D図である。 図28Aのマイクロ流体カートリッジおよび着脱可能なエミッタハウジングの内側の3D図である。 液体クロマトグラフィ−質量分析システムにおいて使用するための液体クロマトグラフィモジュールの別の実施の形態の側面図である。 内部に収容されたクランプアセンブリを見せるためにカバーが開かれた状態の図29の液体クロマトグラフィモジュールの図である。 後部カバーが取り除かれた状態の図29の液体クロマトグラフィモジュールの質量分析計インターフェイスの図である。 図29の液体クロマトグラフィモジュールにおいて随意により使用されるマイクロ流体カートリッジの別の実施の形態の左側の外面図(ポート類を示している)である。 図32のマイクロ流体カートリッジのエミッタ端の側面図であり、マイクロ流体カートリッジのハウジングの右側は取り除かれている。 図32のマイクロ流体カートリッジのエミッタ端の一実施の形態の内部要素の概略図である。 図34に示したマイクロ流体カートリッジのエミッタ端の近位部分の拡大図である。 図34に示したマイクロ流体カートリッジのエミッタ端の遠位部分の拡大図である。 図34のカートリッジのエミッタ端部分の拡大図である。
本明細書に記載されるクロマトグラフィ用マイクロ流体カートリッジおよびエミッタアセンブリのいくつかの実施の形態は、サンプル−溶離液のインターフェイスをスプレーエミッタの弾性変形可能部分と(変形可能部分と比べて)比較的堅固なマイクロ流体基板との間の可逆な機械的接触を通じて実現できるという認識から生まれている。要約すると、スプレーエミッタアセンブリが、好ましくは、流体導管の一端に位置し、マイクロ流体基板に機械的かつ流体連通的に接触する弾性変形可能部分と、他端に位置し、エレクトロスプレーを放射する導電性部分とを備える。
本明細書に記載される高性能液体クロマトグラフィ(HPLC)器具は、エレクトロスプレーエミッタを有するマイクロ流体カートリッジを受け入れ、エミッタの先端をHPLC器具の質量分析用の構成要素に動作可能に連絡させる設置チャンバを有する。マイクロ流体カートリッジは、例えば、ここでの言及によって本明細書に援用されるGerhardtらの「Ceramic−based Chromatography Apparatus and Method for Making Same」という名称の米国特許出願第12/282,225号に記載されているような実質的に堅固なセラミック主体の多層マイクロ流体基板(本明細書において、セラミックタイルとも称される)を収容する。たんぱく質サンプルにおいては、セラミックが、好ましくは基板内の導管の壁へのサンプルの付着に起因するサンプルの損失の水準が適切に低い高温同時焼成セラミック(HTCC)である。
マイクロ流体基板の層内に形成されるチャネルが、分離カラムとして機能する。例えばレーザエッチングによって形成される基板の側面の開口が、流体をカラムへと導入することができるチャネルへの開口をもたらす。流体が、高圧のもとで開口を通過し、チャネルの出口端に結合されたエレクトロスプレーエミッタに向かって流れる。マイクロ流体カートリッジの側面の穴が、流体を基板へともたらすための流体導入ポートをもたらす。1つ以上の流体導入ポートの各々が、流体開口のうちの1つに位置合わせし、この流体開口を囲う。
クランプ機構が、マイクロ流体カートリッジの片側へと機械的な力を加え、マイクロ流体基板を設置チャンバに結合された流体ノズルに接触して押し付ける。ノズルが、カートリッジの流体導入ポートを通してマイクロ流体基板へと流体をもたらす。
HPLC器具および他の装置の種々の実施の形態が、一部には、ポートおよびノズルなどの種々の構成要素がポリマーなどの変形可能材料で望ましく形成され、各々のノズルと開口を囲むマイクロ流体基板の表面との間に厳重な漏れのないシールを生み出すための充分な強さの機械的な力を実質的に堅固なマイクロ流体基板へと加えることができるという認識から生まれる。好ましくは、マイクロ流体基板と管との間の接触面において加えられる圧力が、マイクロ流体基板へと管を通過する流体の圧力よりも大きい。適切なポリマーは、例えば、PEEK(TM)ポリマー(英国LancashireのVictrex PLCから入手可能)などのポリエーテルエーテルケトンである。
セラミック主体の基板は、1つの小さな点に集中する機械的な力ならびに/あるいは(基板の曲げおよび/またはねじりを生じさせる傾向などによって)せん断応力を導入する傾向の形式で加えられる機械的な力に曝された場合に、割れを生じがちになる可能性があるため、クランプ機構は、好ましくは複数の表面を持つプローブを使用し、さらには/あるいは好ましくは基板の片面に(基板の片面に垂直に)加えられる力に、実質的にせん断応力のない圧縮応力を導入するような形式で基板の反対側へと加えられる等しい実質的に同一直線上の力によって対抗する。
複数の表面を持つプローブは、例えば、同時に複数の接触点においてマイクロ流体基板を押す。したがって、プローブは、好ましくは、力を分散させ、せん断応力の可能性を軽減または解消する傾向の形式で、基板に接触するように構成される。好ましくは、プローブに係る複数の接触場所が、マイクロ流体基板の反対側に接触する要素に位置合わせさせられることで、クランプ機構によるせん断応力の導入が軽減または解消される。
各側からマイクロ流体基板に接触する要素のいずれかまたはすべては、随意により気体および/または液体のための導管を備え、随意により電気導体および/または光導体ならびに/あるいは他の連絡経路を備える。
同時の複数の接触点は、随意により、機械的な力をただ1つの接触点の場合よりも広い面積に分散させる。好ましくは、接触点が、円上の実質的に等間隔の点に関連付けられ、さらには/あるいは力の分布の円形パターンを定める。好ましくは、複数の点においてマイクロ流体基板に接触する構成要素が、加えられる力をただ1つの場所で受け取ることで、マイクロ流体基板に加わるねじり力の可能性または程度を軽減できる。さらに、基板が、好ましくはマイクロ流体カートリッジ内で或る程度の運動の自由を有し、クランプ機構が係合するまで自由に浮動できることで、クランププロセスにおいて、圧縮以外の応力がマイクロ流体基板に作用することがなく、マイクロ流体カートリッジのハウジング部分がマイクロ流体基板に実質的な力を(あるいは、いかなる力も)加えることがないように、マイクロ流体基板の位置の「自動調節」が可能にされる。
マイクロ流体カートリッジは、基板に加えて、内部の回路ならびに基板の加熱および冷却のための温度制御ユニットを収容する。マイクロ流体カートリッジの開口が、ポゴピンによって内部の回路へと低電圧および他の電気信号を供給するための窓をもたらす。エレクトロスプレーエミッタの先端の付近のマイクロ流体カートリッジの別の開口が、ガスノズルへとつながるガス導入ポートとして機能する。エミッタ先端部の付近に配置されるさらに別の開口が、高電圧の入力ポートとして機能する。高電圧ケーブルが、この高電圧入力ポートへと接続され、エミッタの先端領域へと高電圧(例えば、約3keVの電圧)をもたらす。
管をマイクロ流体基板へと押し付けるために使用される機械的な力は、高電圧ケーブルと高電圧入力ポートとの間、導電ポゴピンと電気コネクタとの間、およびガスノズルとガス導入ポートとの間の接続を確立させるようにも機能する。したがって、マイクロ流体カートリッジを設置チャンバ内にクランプするというただ1つの行為により、分離カラムの動作に必要な種々の流体および電気の接続が同時に確立される。
図1が、本発明を具現化させることができる液体クロマトグラフィ−質量分析(LC−MS)システム10の一実施の形態の正面図を示している。LC−MSシステム10が、完全に設置されたマイクロ流体カートリッジ16が位置するスロット14を有している液体クロマトグラフィモジュール12を備えている。図示のとおり、マイクロ流体カートリッジ16のハンドルが、スロット14から突き出す。液体クロマトグラフィモジュール12は、質量分析(MS)ユニット18に結合されている。一実施の形態においては、LC−MSシステム10が、マサチューセッツ州MilfordのWaters Corporationによって製造されているnanoACQUITY UPLC(R)システムの改良版である。
図2が、ハウジング20を有している液体クロマトグラフィモジュール12の実施の形態の正面図を示している。ハウジング20は、オン−オフスイッチ23ならびに状態および圧力インジケータ24を備える上部22と、マイクロ流体カートリッジ16を収容するためのスロット14およびアーム部28を有している中央部26と、ハウジング20の開口から延びた調節ノブ32を有している下部30とを有している。調節ノブ32は、マイクロ流体カートリッジ16をx軸に沿って移動させるための内部のx平行移動ステージ(一部分だけが見えている)へと接続されている。さらに、y平行移動ステージおよびz平行移動ステージ(図示されていない)のための調節ノブが、MSユニット18(図1)に対するマイクロ流体カートリッジ16の位置のy軸およびz軸に沿った調節を可能にする。そのような調節は、例えば、エミッタの先端の出口について、MSの入り口オリフィスに対する位置決めをもたらす。
枢支点36を中心にしてクランプ位置と非クランプ位置との間を回転することができるレバー34が、アーム部28に接続されている。図2においては、レバー34が非クランプ位置にある。レバー34を枢支点を中心にして反時計方向に約180度回転させることで、レバー34はクランプ位置へと移行する。ハウジングの一端において、電気ケーブル38および電気信号導体40が、ハウジング20の前部の開口42を通ってハウジング20に進入している。本明細書において説明されるように、マイクロ流体カートリッジ16へと電気ケーブル38が高電圧を供給し、電気信号導体40が低電圧を供給する。図示されていないが、やはり開口42を通ってハウジング20に進入するマイクロ流体管およびガス配管が、マイクロ流体カートリッジ16へと流体および気体をそれぞれもたらす。
図3が、内部のクランプアセンブリ60を露出させるために前部カバー50が開かれた状態のハウジング20を示している。ハウジングの下辺に沿った蝶番が、前部カバー50を平行移動ステージ支持部52へと取り付けている。平行移動ステージおよび調節ノブは、説明を単純にするために図から省略されている。ハウジング内に位置する他の構成要素として、回路基板62が挙げられる。平行移動ステージ支持部52、クランプアセンブリ60、および回路基板62が、ハウジングの後部パネル64に結合されている。
電気ケーブル38および電気導管66が、クランプアセンブリ60の片側へとつながっている。電気ケーブル38が、高電圧(例えば、3000ボルト)を運び、電気導管66が、複数の低電圧の電気導体を束ねる。図示されていないが、マイクロ流体管およびガス配管も、クランプアセンブリ60の電気ケーブル38および電気導管66と同じ側につながっている。
クランプアセンブリ60は、マイクロ流体カートリッジを受け入れるためのスロット68と、レバー34(図2)が取り付けられるポスト70とを有している。前部カバー50が閉じられたとき、前部カバー50のスロット14が、クランプアセンブリ60のスロット68に位置合わせし、図2の調節ノブ32(図3には示されていない)が、前部カバー50の開口72を通って突き出し、ポスト70が、アーム部28の側壁によって隠されていて見えない別の開口を通って突き出す。
図4が、端部ハウジング82へと接続された本体80を有しているクランプアセンブリ60の実施の形態を示している。ポスト70が、レバー34を本体80の片面(本明細書においては、前面と呼ぶ)に接続している。端部ハウジング82は、後壁86によって空間的に隔てられた反対側の側壁84−1、84−2(全体として、84)を有している。側壁84−2は見て取ることができず、参照番号が、側壁84−2の領域を大まかに指している。側壁84−1が、マイクロ流体カートリッジ16(図1)を受け入れるように構成されたスロット68(図3)を有している。側壁84−2が、側壁84−1のスロット68に位置合わせした対応するスロット(図示されていない)を有しており、マイクロ流体カートリッジ16が、クランプアセンブリ60へと設置されるときに両方のスロットを貫通する。
端部ハウジング82の後壁86は、ポゴピンブロック88および流体ブロック90を有している。ポゴピンブロック88は、電気導管66(図示されていない)を間に保持するように固定具94によって接合される2部品からなるブラケット92を備えている。ポゴピンブロック88は、図4においては大部分が2部品からなるブラケット92によって隠されて見えないが、流体ブロック90の上方に隣接して配置されている。流体ブロック90のこの実施の形態は、流体をもたらす管の端部を受け入れるための3つの開口96を有している。スペーサブロック98が、ポゴピンブロック88および流体ブロック90を後壁のスロット(図8に示されている)に固定している。
後壁86の表面から、3つの開口104、106、108を備えた主表面102を有しているL字形の保持具100が突き出している。開口104が、クランプアセンブリ60へと接続されるガス配管(図示されていない)を保持するための開口であり、開口106が、高電圧の電気ケーブル38(図3)を保持するための開口であり、開口108が、保持具100を後壁86へと接合する固定具を受け入れるための開口である。クランプアセンブリ60の後面(すなわち、図1のMSユニット18へと向いた側)から、スロット68へのマイクロ流体カートリッジ16の挿入の程度を制限するために使用されるアーム110が延びている。
図5が、クランプアセンブリ60の側面図であり、マイクロ流体カートリッジ16が、クランプアセンブリ60の側壁84の両方のスロットを貫通している。アーム110が、マイクロ流体カートリッジ16の上辺の凹所を捕まえ、スロット68におけるマイクロ流体カートリッジのさらなる摺動を防止している。高電圧の電気ケーブル38が、開口106へと接続され、電気導管66が、ポゴピンブロックの2部品からなるブラケット92へと接続されている。さらに、カプラ112が、L字形の保持具100の開口104につながっている。
図6が、クランプアセンブリ60およびスロット68を通して見ることができるチャンバ120の正面図を示している。チャンバ120内に、マイクロ流体カートリッジ16を受け入れるためのキャリッジ122が位置している。キャリッジ122の片側(すなわち、図6においては右側)からチャンバ120内へと内側に、上側および下側のそれぞれのばね124−1、124−2ならびにプランジャ126の先端部が延びている。反対側から(すなわち、端部ハウジング82の後壁86の方向から)チャンバ120内へと内側に、案内ピン128および複数のマイクロ流体ノズル先端部130−1、130−2が延びている。この実施の形態においては、マイクロ流体ノズル先端部130−2に水平方向において整列した第3のマイクロ流体ノズル先端部130−3(図7)が、マイクロ流体ノズル先端部130−2によって隠されて見えていない。
図7が、後壁86によって隔てられた反対側の側壁84−1、84−2を備えている端部ハウジング82の一実施の形態の内部の図を示している。側壁84−1が、スロット68−1を有し、側壁84−2が、スロット68−2を有している。後壁86に、ポゴピンブロック88および流体ブロック90が設置されている。
ポゴピンブロック88の内面が、くぼんだ領域140を有しており、このくぼんだ領域140の表面から内側へとポゴピン電気コネクタ142が突き出している。この例では、電気コネクタ142が、電気信号を導くための10本の導電ポゴピン144を有している。各々のポゴピン144が、電気信号を伝えるための独立した円ポスト形のばねで付勢された電気導体である。
流体ブロック90の内面から、図6の複数のマイクロ流体ノズル130−1、130−2、130−3(全体として、130)が突き出している。一実施の形態においては、ノズル130が3つであり、三角形のパターンにて配置されている。これらのノズル130の位置は、お互いに対して固定されている。マイクロ流体管によって流体ブロック90の外側の開口96(図4)へともたらされた流体が、これらのノズル130を通って出る。ノズル130の三角形のパターンの下方に、三角形の頂点のノズルに位置合わせして、案内ピン128が位置している。
図8が、後壁86の組み立てプロセスを説明するための端部ハウジング82の分解図を示している。後壁86が、流体ブロック90、ポゴピンブロック88、およびスペーサ98が順に挿入されるスロット150を有している。スロット150は、下部の矩形の領域152および段状の上部領域154を有している。下部の領域152が、流体ブロック90およびポゴピンブロック88を受け入れるように構成されている。上部領域154の形状は、スペーサ98を受け入れるように構成されている。スペーサ98は、穴156を備える段部155を有しており、これらの穴156によって固定具がスペーサ98を後壁86のそれぞれの穴157へと接続し、したがってブロック88、90、98をスロット150内に固定することができる。
図9および図10が、端部ハウジング82のための後壁86’の別の実施の形態を示しており、図9が後壁86’の外側を示し、図10が内側を示している。この実施の形態においては、後壁86’が、図7において説明した流体ブロック190の3つのノズル130ではなく、マイクロ流体基板に接触するための4つのノズルを有している。後壁86’は、ひし形のパターンに配置された4つの流体導入ポート170−1、170−2、170−3、170−4(全体として、170)を備えている。各々の流体導入ポート170が、後壁86’からおおむね直角に突き出している円形のフィッティング(4つのポートのうちのポート170−2において最もよく見て取ることができる)を備えている。各々の流体導入ポート170は、他のポート170に対して浮動であり、すなわち各々の流体導入ポート170が残りの流体導入ポート170とは無関係に少しだけ移動することができるよう、流体導入ポート170そのものは後壁86’に固定されていない。
流体の配管の例として、マイクロ流体管172の先端部が、流体導入ポート170−1および170−3へと圧入される一方で、流体導入ポート170−4は栓174で塞がれ(すなわち、使用されず)、流体導入ポート170−2が開いている。さらに、後壁86’は、一列の電気コネクタ176(ここでは、例えば10本である)を有するポゴピンブロック88’の別の実施の形態を備えている。
図10は、図9において説明した後壁86’の別の実施の形態の内側を示している。ポゴピンブロック88’の内面が、くぼんだ領域180を有しており、このくぼんだ領域180から、導電ポゴピン176の列が突き出している。ポゴピンの列の下方には、第2のくぼんだ領域182が位置している。このくぼんだ領域182から、後壁86’の外側のポート170のうちの1つにそれぞれ対応する4つのマイクロ流体ノズル184が突き出している。マイクロ流体管172によって後壁86’の外側のポート170へともたらされた流体が、これらのノズル184を通って出る。ノズル184のひし形のパターンの下方に、案内ピン128と同様の機能の位置合わせピン186が位置している。
図11が、図7において説明したノズル配置の形式と協働するマイクロ流体カートリッジ16の実施の形態の右側面図を示している。さらに後述されるように、マイクロ流体カートリッジ16は、エミッタ、マイクロ流体基板、ヒータ、および回路を収容しており、マイクロ流体カートリッジ16に収容された種々の構成要素へと電圧、電気信号、および流体(気体および液体)をもたらすための電気機械インターフェイスとして働く。
マイクロ流体カートリッジ16のこの実施の形態は、2つのケーシング部分200−1、200−2を、例えば半体同志をスナップ留め、あるいは接着剤または機械的な固定具の使用、もしくはこれらの任意の組み合わせによって接合することによって形成されている。2つのケーシング部分は、本明細書において、マイクロ流体カートリッジ16の左側および右側とも称され、用語「左」および「右」は、クランプアセンブリ60へと挿入されるときのマイクロ流体カートリッジ16の向きによって決まる。「左」、「右」、「上」、「下」、「前」、および「後」などといった用語が、マイクロ流体カートリッジの説明を簡単にする目的のためのものであり、マイクロ流体カートリッジそのものの構造にいかなる限定も課すものではないことを、理解すべきである。
右側ケーシング部分200−1が、把持端202およびエミッタ端204を有している。把持端202の湾曲領域206が、挿入時および液体クロマトグラフィモジュール12からの取り出し時に、ユーザによるマイクロ流体カートリッジ16の把持を可能にする指による保持を提供する。
ケーシング部分200−1の側面に、矩形の窓208が位置しており、窓208内に押しブロック210が位置している。押しブロック210の表面が、右側ケーシング部分200−1の表面と同一面に位置している。さらに後述されるように、押しブロック210は、右側ケーシング部分200−1に堅固に取り付けられているのではなく、わずかな出入り、上下、または左右の移動が可能であり、すなわち押しブロック210は、窓208において浮動である。一実施の形態においては、押しブロック210が、金属で作られている。
押しブロック210の下方に、両方のケーシング部分200−1、200−2を完全に貫いて延びる開口212が配置されている。以下では、開口212を、貫通穴212と称する。エミッタ端204において、マイクロ流体カートリッジ16の上辺に凹所214が位置している。凹所214において、可動のフィン216が、ケーシング部分200−1、200−2の間の上辺を通って突き出している。
図12が、マイクロ流体カートリッジ16の左側ケーシング部分200−2を示している。右側ケーシング部分200−1と同様に、左側ケーシング部分200−2は、湾曲領域206を有する把持端202と、エミッタ端204とを有している。左側ケーシング部分200−2の長さのほぼ中央に、3つのノズル開口220が、流体ブロック90(図7)のノズル130の三角形配置に一致する三角形のパターンで存在している。三角形のパターンは、円形の負荷パターンを定めるうえで望ましい。円の中心は、好ましくは、押しブロック210の金属板ボス260(図13)への荷重の釣り合いをもたらすために、クランプアセンブリ60(図6)のプランジャ126(図20)の運動の軸に位置合わせしている。第3の流体ポートが、例えば較正ポートに使用され、操作者が較正流体を流すことができる。他の2つのポートは、例えば分析カラムおよび捕捉カラムへのアクセスを提供する。
マイクロ流体カートリッジに収容されたマイクロ流体基板の側面に、微視的流体開口が、各々のノズル開口220の背後に同心に位置している。流体ブロック90のマイクロ流体ノズル130の流体導管が、マイクロ流体基板の微視的開口のサイズよりもはるかに大きい内径を有していることで、両者の間の位置合わせが容易にされる。一実施の形態においては、各々の微視的流体開口が、0.003インチの正方形断面を有し、各々のマイクロ流体ノズル130が、0.003インチのヴィア(正方形断面を有する開口)などの基板上の微視的流体開口に位置合わせしてこの開口を囲む0.013インチのオリフィス(円形の断面を有する管腔)を有する。
マイクロ流体ノズル130は、流体のシールをもたらすために、クランプアセンブリ60(図6)によってもたらされる圧縮応力だけに頼るポリマー−セラミックのインターフェイスを利用し、すなわちクランプアセンブリ60が、作動流体圧力よりも高い圧力をポリマー−セラミックのインターフェイスにもたらす。例えば、5,000psiという作動流体圧力、または15,000psiなどの別の圧力が、ノズル−基板のインターフェイスの全表面積にわたる130ポンドのクランプ荷重によって実現され、選択された作動圧力における有効な流体の封止が生み出される。
左側ケーシング部分200−2において、三角形配置のノズル開口220の頂点の直上に、矩形のくぼみ222が位置している。くぼんだ領域222が、電気接点226のアレイへのアクセスをもたらす矩形の窓224を囲んでいる。電気接点226は、ポゴピンブロック88(図7)のポゴピン144と電気的に接触する導電パッドである。電気接点226のアレイは、図13に関連してさらに後述されるように、マイクロ流体基板上に置かれる可撓回路の一部分である。
左側ケーシング部分200−2は、エミッタ端204に、ガスノズルを受け入れるためのガス導入ポート225と、高電圧の電気ケーブル38(図5)の先端部(ポゴピン)を受け入れるための高電圧入力ポート228とを有している。複数の穴234が、ケーシング部分200−1、200−2の接合時に両者を位置合わせさせるために用いられる位置合わせピン236を保持している。
左側ケーシング部分200−2は、下辺に沿って矩形の溝230をさらに備えている。溝230は、エミッタ端204に開放端232を有し、そこから横へと延び、ノズル開口220の下方に位置する貫通穴212を終端としている。さらに、溝230は、マイクロ流体カートリッジ16がクランプアセンブリ60のスロット68(図4)へと挿入されるときに案内ピン128(図7)を受け入れる。案内ピン128が貫通穴212に達するとき、マイクロ流体カートリッジ16はチャンバ120に完全に設置され、クランプ可能な位置にある。
図13が、マイクロ流体カートリッジ16およびマイクロ流体カートリッジ16に収容された種々の構成要素の分解図を示している。右側ケーシング部分200−1と左側ケーシング部分200−2との間に、マイクロ流体基板250と、マイクロ流体基板につながるエミッタアセンブリ252(本明細書において、「スプレーユニット」とも称される)と、シャッタ254とが配置されている。右側ケーシング部分200−1の内側に、押しブロック210をぴったりと受け入れるように構成された矩形の凹所256が位置している(すなわち、押しブロック210が、凹所256にはまり込み、凹所256において浮動する)。押しブロック210がこの凹所256に位置するとき、押しブロックの隆起部(見て取ることができない向こう側に位置している)が、右側ケーシング部分200−1の側面の窓208に進入する。
さらに、押しブロック210のこの実施の形態は、各々が平坦な面を備えている3つの隆起ボス260を有している。3つのボスの平坦な面が、駆動力が第1のケーシング部分200−1の外側から押しブロック210へと加えられるときにマイクロ流体基板の側面を同時に押し、単一の集中した接触の点を避けるために力を分散させる。各々の隆起部260が、マイクロ流体基板250の流体開口のうちの対向する1つに直接位置合わせすることで、(押しブロックが押されるときに)左側ケーシング部分200−2のノズル開口220のうちの対向する1つに直接圧力を加え、例えばマイクロ流体基板250のねじりおよび/または曲げによるせん断応力の発生を回避する。
他の実施の形態は、3つよりも多数または少数のボスを有することができる。一般に、ボスの数は、各々の流体開口に1つのボスが直接向かい合って位置合わせするように、マイクロ流体基板250の流体開口(ダミーの開口を含んでもよい)の数に一致する。一般に、ボスの数は、すべてのボスが対応するノズルに位置合わせするように、マイクロ流体基板250に接触する流体ノズルおよびダミーノズルの数に一致する。ボスおよびノズルの数および配置は、マイクロ流体基板250への望ましくない応力の印加を抑えるように随意により選択される。
エミッタアセンブリ252は、エミッタ266と、エミッタ266を位置決めし、さらには/あるいはマイクロ流体基板250に位置合わせさせるエミッタ保持具241Aと、シースガス部品279とを備えている。シースガス部品279は、ハウジング部分200−1、200−2に配置された管278を介してシースガスを受け取る。エミッタ保持具241Aは、エミッタ266の管腔をマイクロ流体基板250の出口ポートに位置合わせする。好ましくは、追加の構成部品が、出口ポートを通ってエミッタ266の管腔へと流れる溶離液の圧力よりも大きい圧力を界面にもたらすように充分な力でエミッタ266をマイクロ流体基板250に接触させる。
マイクロ流体基板250の上辺に被さるように折り曲げられた可撓回路アセンブリ258が、電気接点226のアレイを備えている。図12において説明したとおり、これらの電気接点226は、左側ケーシング部分200−2の窓224を介してアクセス可能である。さらに、シャッタ254は、マイクロ流体基板250の表面の微視的流体開口が露出するように、左側ケーシング部分200−2の側面のノズル開口220に位置合わせする穴262を有している。さらに、シャッタ254は、フィン216(図11)と、エレクトロスプレーエミッタ266を部分的に包むエミッタ管264を有している。
基板250は、随意により、以下の形式で形成される。多数の基板250のための5枚のグリーンシート層が、所望のパターンの形成後に、一体に押し合わせられる。押し合わせられた積層体の片面または両面に、流体開口用のヴィアがレーザエッチングされる。縁部分が、レーザエッチングによって定められる。焼成後に、的確な基板250が離し分けられる。縁または縁の一部分が、随意により研磨される。
図14が、マイクロ流体カートリッジ16の右側面図を示しており、内部に収容された種々の構成要素を露わにするとともに、左側ケーシング部分200−2の内面の種々要素を図示するために、右側ケーシング部分は取り除かれている。種々の構成要素として、マイクロ流体基板250およびシャッタ254が挙げられ、どちらも図示のように左側ケーシング部分200−2に結合されている。
マイクロ流体基板250の表面に、制御回路部257およびヒータ部(以下では、ヒータ270)からなる可撓回路アセンブリ258が位置している。可撓回路アセンブリ258は、マイクロ流体基板250の上辺に被さるように折り曲げられ、マイクロ流体基板250の反対側の一部分を覆っている。集積回路(IC)素子272が、可撓回路アセンブリ258の制御回路部に取り付けられている。一実施の形態においては、IC素子272が、プログラムコードおよびデータを記憶するためのメモリ素子(例えば、EPROM)である。ヒータ270が、マイクロ流体基板250内の分離カラムを覆っている。ヒータ270には、温度センサ274が取り付けられている。
可撓回路アセンブリ258は、多数(例えば、3つ、4つ、または5つ)の層の積み重ねで構成される。各層のポリマー基板が、種々の相互接続または回路を保持する。層のうちの1つが、ヒータ270の抵抗性の配線を含んでいる。抵抗性の配線の2つの端部に位置する電気接点が、制御回路部257の2つのパッド259につながっている。可撓回路アセンブリ258の別の層が、抵抗性の配線の端部に電気的につながるヴィアを有しており、他の層が、電気部品272、274への電気的接続のための接点を有しており、さらに別の層が、ポゴピン接点パッド226(図13)を有している。可撓回路アセンブリ258を介して、電気部品272、274の各々および抵抗性の配線が、接点パッド226へと電気的に接続される。ガス導入ポート225が、注入されたガスをエミッタ端204へともたらすガス管278へと導くくぼみ276へと開いている。
図15が、図14のマイクロ流体カートリッジ16の右側面図を示しており、やはり右側ケーシング部分が取り除かれ、追加の要素としての押しブロック210(図13)が、おおむねマイクロ流体基板250に当接する位置に取り付けられている。この位置は、可撓回路アセンブリ258の直下かつ(マイクロ流体カートリッジ16の前部に位置するエミッタ端204に対して)ヒータ270の後方のマイクロ流体基板250の南西の四分の1の付近である。押しブロック210は、大きな矩形のブロック280の上に配置され、あるいは大きな矩形のブロック280の一体の延長部である小さな矩形のブロック282を備えている。小さな矩形のブロック282は、右側ケーシング部分200−1の窓208(図13)にぴったりとはまるように寸法付けられている。
図16が、マイクロ流体カートリッジ16の左側面図を示しており、内部に収容された種々の構成要素を露わにするとともに、右側ケーシング部分200−1の内面の種々要素を図示するために、左側ケーシング部分は取り除かれている。可撓回路アセンブリ258が、マイクロ流体基板250のこの面へと巻き付けられ、図12の電気接点226のアレイを備えている。さらに、マイクロ流体基板250が、高電圧の電気ケーブル38(図5)の導電性の端子を受け入れるための高電圧入力ポート290を有している。高電圧入力ポート290は、図17に関連して後述されるマイクロ流体基板250内の分離カラムの出口端の付近に配置されている。
右側ケーシング部分200−1の内側は、エミッタ端204から延びて貫通穴212で終わるケーシングの素材からなる畝292を備えている。ケーシング部分200−1、200−2が接合されたとき、畝292が、左側ケーシング部分200−2の外側の溝230(図12)のすぐ後ろを延びる。畝292は、マイクロ流体カートリッジ16に構造的な支持をもたらす。さらに、溝230に直接向かい合うことによって、畝292は、万が一にユーザが時期尚早にもマイクロ流体カートリッジ16が適切な位置に完全に達する前にマイクロ流体カートリッジ16をクランプしようと試みた場合に、案内ピン128(図7)によるカートリッジ16の曲げに抵抗する。さらに、時期尚早なクランプの試みの場合に案内ピン128によってマイクロ流体基板250が曲げられることを回避する予防の措置として、マイクロ流体基板250のいかなる部分も、溝230の直後には位置しない。
右側ケーシング部分200−1の内側は、ガス用のくぼみ276の残りの半分を提供し、その壁が、左側ケーシング部分200−2のくぼみ276を定めている壁に位置合わせして当接する。気体を気体用のくぼみ276に閉じ込めるしっかりとした封止を向上させるために、固定具またはピン296(図14)が、くぼみ276に隣接する開口298においてケーシング部分の間の接続を引き締める。
図17が、マイクロ流体基板250の実施の形態の左側面図を示している。簡単に要約すると、マイクロ流体基板250は、おおむね矩形、平坦、かつ薄く(約0.050インチ)、多層の構成である。マイクロ流体基板250の層内に、液体を運ぶための曲がりくねったチャネル300が形成されている。マイクロ流体基板250は、トラップ領域302およびカラム領域304を備えている。図示の実施の形態においては、マイクロ流体基板250が、3つの微視的流体開口306−1、306−2、306−3(全体として、306)を有している。1つの流体開口306−1が、トラップ領域302の一端においてチャネル300と交わり、もう1つの流体開口306−2が、トラップ領域302の他端においてチャネル300に交わる。この実施の形態においては、第3の流体開口306−3は、使用されていない。あるいは、第3の流体開口306−3を、例えば操作者が較正流体を流すことができる較正ポートとして使用することができる。チャネル300は、マイクロ流体基板250の出口端を終端としている。トラップ領域302の「下流」端に位置する流体開口306−2が、随意により、例えばトラップ領域302の充てん時に流体出口開口として使用され、随意により、例えば充てんされたサンプルをトラップ領域302からチャネル300へと注入する際に流体の流れに対して閉じられる。
さらに、マイクロ流体基板250は、高電圧入力ポート290(図16)と、左側ケーシング部分200−2の内側から突き出したペグをそれぞれ受け入れる1対の位置合わせ穴310−1、310−2(全体として、310)とを有している。位置合わせ穴310は、マイクロ流体カートリッジ16におけるマイクロ流体基板250の位置決めを助ける。ペグのサイズに対する位置合わせ穴310のサイズが、マイクロ流体カートリッジ16内でのマイクロ流体基板250の或る程度の遊びを許容する。
マイクロ流体カートリッジ16は、ただ1つのマイクロ流体基板250よりもむしろ、複数の相互接続されたマイクロ流体基板を収容することができる。図18が、フィッティングによって接合された複数のマイクロ流体基板250−1、250−2を備える一実施の形態を示している。マイクロ流体基板250−1、250−2が、カラムタイル250−2へと接続されたトラップタイル250−1を備えている。トラップタイル250−1が、流体案内チャネル300−1を有し、カラムタイル250−2が、流体案内チャネル300−2を有している。
トラップタイル250−1のこの実施の形態は、3つの流体開口を有している(タイル250−1の空き場所318が、4つの流体開口を有する実施の形態も可能であることを示している)。各々の流体開口の周囲に、フィッティング320−1、320−2、320−3(全体として、320)が結合されている。フィッティング320は、さらに詳しく後述されるようにマイクロ流体カートリッジ16がチャンバに設置されるときに、流体ブロック90のノズル(例えば、図7のノズル130または図10のノズル184)の先端を自動的に位置合わせさせる役目を果たす。これらのフィッティング320を、金属、プラスチック、セラミック、またはこれらの材料の任意の組み合わせで製作することができる。フィッティング320を基板250−1に結合させるために、接着、締め付け、融着、ろう付け、またはこれらの組み合わせが可能である。
図19が、フィッティング320−1および320−2を通って切断されたトラップタイル250−1およびカラムタイル250−2の断面図を示している。トラップタイル250−1のチャネル300−1が、フィッティング320−1からフィッティング320−2へと延びている。カプラ322−1、322−2(全体として、322)が、トラップタイル250−1をカラムタイル250−2へと接続している。各々のカプラ322は、一方がトラップタイル250−1の下面に位置し、他方がカラムタイル250−2の上面に位置する1対の位置合わせしたフィッティングで構成されている。カプラ322−1が、トラップタイル250−1のチャネル300−1を通過する流体をカラムタイル250−2のチャネル300−2に到達させるためのチャネル324をもたらしている。フィッティング320と同様に、カプラ322を、金属、プラスチック、セラミック、またはこれらの材料の任意の組み合わせで製作することができ、タイル250−1、250−2へと接着、締め付け、融着、ろう付けすること、またはこれらの任意の組み合わせが可能である。
好ましくは、カプラ322は、例えばノズル130の材料と同様または同一な変形可能な物質で形成され、機械的な圧力だけで、トラップタイル250−1とカプラ322との間に流体を漏らさないシールをもたらすことができる。カプラ322などの位置合わせ補助用の要素は、随意により、図17に示した実施の形態および他の実施の形態に備えられる。
図20、図21、および図22が、クランプアセンブリ60へのマイクロ流体カートリッジ16の設置を説明している。図20が、チャンバ120が空である状態のクランプアセンブリ60の断面を示しており、図21が、マイクロ流体カートリッジ16がチャンバ120へと挿入されたが、クランプはされていない状態の断面を示しており、図22が、クランプ後の断面を示している。図20、図21、および図22の各々において、クランプアセンブリ60の本体80が、カム350およびカムフォロワ352を収容している。カムフォロワ352は、キャリア354内に位置し、カムフォロワ352の一部分がキャリア354より突き出し、カム350に当接している。プランジャ126の一端が、キャリア354内でカムフォロワ352へと接続されている。荷重ばね356が、プランジャ126の後方部分の周囲に巻き付けられ、戻りばね358が、プランジャ126の前方部分の周囲に巻き付けられている。随意により、いくつかの実施の形態においては、ばねによって付勢されたプランジャがカムの回転によって閉鎖位置へと移動させられ、ばね358などの第2のばねが、130ポンドの力などの所望の力のより一貫的かつ正確な導入のための荷重の釣り合いをもたらす。
図20においては、荷重ばね356および戻りばね358が減衰させられておらず、カム350へと接続されたレバー34(図6)が、非クランプの開放位置にある。さらに、後壁86とキャリッジ122との間のばね360−1、360−2(全体として、360)も、減衰させられていない。端部ハウジング82の後壁から空のチャンバ120へと、ポゴピン電気コネクタ144、ガスノズル130−1、130−2(第3のノズルは隠れていて見えない)、および案内ピン128が突き出している。
図21においては、マイクロ流体カートリッジ16が、カートリッジのエミッタ端をチャンバ120に最初に進入させてチャンバ120に位置している。マイクロ流体カートリッジ16がチャンバ120に進入するとき、案内ピン128が、左側ケーシング部分200−2の溝230に沿って摺動する。チャンバ120へのマイクロ流体カートリッジ16の挿入が極限に達するとき、プランジャ126が、マイクロ流体カートリッジ16の右側の押しブロック210に当接し、案内ピン128が、溝230の端部の貫通穴212(図12)に達する。案内ピン128がこの開口に位置合わせしていない場合、マイクロ流体カートリッジ16をクランプすることはできない。一実施の形態においては、マイクロ流体カートリッジ16の上辺の凹所(図11)へのアーム110(図5)の係合により、マイクロ流体カートリッジ16がチャンバへとどこまで進入できるかが決定される。さらに、ばね124−1、124−2が、マイクロ流体カートリッジ16の右側に当接している。図20と同様に、図21においても、荷重ばね356、戻りばね358、およびばね360は、レバー34が開放位置にあるがゆえに、減衰させられていない。
図22においては、レバー34が閉じられ、カム350が荷重ばね356および戻りばね358を圧縮し、プランジャ126を押しブロック210へと押し付けている。押しブロック210の反対側に間隔を空けて位置しているボス260(図13)が、この力をマイクロ流体基板250へと分配する。押しブロック210への力が、キャリッジ122およびマイクロ流体カートリッジ16を一緒に端部ハウジング82の後壁86に向かって移動させる。さらに、ばね124−1が、マイクロ流体カートリッジ16を下方かつ後壁86に向かって押すように働く一方で、ばね360−1、360−2(図21)が縮んで、左方への運動に抵抗する。
キャリッジがカートリッジ16とともに移動する結果として、案内ピン128が、マイクロ流体カートリッジ16の貫通穴212に進入する。後壁86から内側へと突き出しているノズル130が、マイクロ流体カートリッジ16の左側ケーシング部分のそれぞれのノズル開口220(図12)に進入し、マイクロ流体基板250の表面に当接する。当接力は、各々のノズルと流体開口との間に漏れのない流体の経路を生み出すために充分である。さらに、クランプによってポゴピン144が左側ケーシング部分の窓224に進入し、電気接点226のアレイとの電気的な接続が形成される。
流体ブロックのノズルとマイクロ流体基板との間の流体の取り合い、およびポゴピン144と電気接点226のアレイとの間の電気的な取り合いの確立に加えて、このクランプの作用は、(1)高電圧ポゴピンとマイクロ流体基板との間の電気的な取り合い、および(2)ガスノズルとマイクロ流体カートリッジ16との間の流体の取り合いも確立させる。図23が、ポゴピン380をマイクロ流体カートリッジ16の左側ケーシング部分に進入させた状態の高電圧電気ケーブル38、および左側ケーシング部分のガス導入ポートに進入するガスノズル先端部382を示している。
いくつかの好ましい実施の形態は、LC−MSにもとづく既存の分析設備などの既存の装置と比べて低いコストおよび小さなサイズの装置をもたらす。小型化は、サイズの縮小に加えて、例えば信頼性の向上、試薬の量およびコストならびに使用済み試薬の廃棄のコストの削減、およびLC関連の構成要素における分散を少なくする性能の向上など、多数の潜在的利益をもたらす。本明細書に記載される好ましい実施の形態は、液体クロマトグラフィに関係しているが、当業者であれば、本発明を他の分離技術にも適用できることを理解できるであろう。
図24が、マイクロ流体カートリッジ16のエミッタ端204(図14を参照)の図である。エミッタ端204は、管264(この実施の形態においては、全長にわたって開いている)によって機械的な損傷から保護されたエレクトロスプレーエミッタ266を備えている。管264は、カートリッジ16をクランプアセンブリ60へと挿入することによってシャッタ254が動かされる(挿入時に、アセンブリ60が可動のフィン261、したがってシャッタ254を、カートリッジ16のエミッタ端204から遠ざかるように押す)ときに、エミッタ266を露出させるように移動する。カートリッジ16がクランプアセンブリ60から取り出されるときに、シャッタ254および保護管264が保護位置へと戻るように、ばね265がシャッタ254を付勢している。
エミッタ266に加えて、図24の実施の形態のスプレーユニットは、保持具240(本明細書において、位置合わせユニットとも称される)と、力印加ユニット(この例では、ばね241)と、力受け止め部品(この例では、エミッタ266に取り付けられたフィッティング242)とを備えている。保持具240が、エミッタ266を受け入れ、マイクロ流体基板250に位置合わせさせる。保持具240は、好ましくは、マイクロ流体基板250に固定に取り付けられている。ばね241が、保持具240内に囲まれており、保持具240がばね241をフィッティング242へと押し付け、フィッティング242によってばね力がエミッタ266に伝えられて、エミッタ266がマイクロ流体基板250に接触して押し付けられる。フィッティング242は、随意により、かしめられたスリーブであり、例えば管腔Lの入り口端から約1/8インチに位置する。
図25Aが、エミッタ266とマイクロ流体基板250との間の境界Aを説明する3D図である。上述のように、エミッタ266がマイクロ流体基板250に接触して押し付けられ、好ましくは、エミッタ266のうちのマイクロ流体基板250に接触する部位が、好ましくはより堅固なマイクロ流体基板250に接触して押し付けられたときに流体を漏らさないシールを形成するように、充分な程度の変形性(好ましくは、弾性)を有する材料で形成される。エミッタ266の管腔Lは、基板の導管の出口オリフィスEに位置合わせして位置する(基板250の出口オリフィスEに対する管腔Lの入り口端の位置LEが示されている図25Bの境界領域Aの詳細図を参照)。
この典型的な実施の形態においては、管腔Lが円形の断面を有しており、出口オリフィスEがほぼ矩形である。管腔Lの直径は、オリフィスの対角線よりも小さい。境界は、望ましくは死空間がわずかまたは皆無であり、多くの既存のLC−スプレーの境界と比べて分散の作用を小さくする。これらの寸法は、好ましくは、管腔Lの入り口を基板250の出口オリフィスEに対して正しい関係に配置し、エミッタ266と基板250との間に良好な機械的取り合いを実現するための適切な位置合わせが多少困難になる対象とするいくつかの用途のために小さい。エミッタ管266は、随意により管266の中心軸位置に対する管腔Lの位置公差に関して選択される。
例えば少量のサンプルに適する一実施の形態においては、エミッタ266が、0.030インチの外径および0.001インチの内径を有し、オリフィス出口が、0.0039インチ×0.0036インチの寸法を有する。図25Cが、エミッタ266の位置決めのための保持具345の使用を説明する側面図である。保持具345が、この例では、0.032インチの内径を有している。したがって、エミッタ266が保持具345内に配置されるとき、保持具345におけるエミッタ266の横方向の公差ゆえに、出口オリフィスEに対する管腔Lの配置に約0.002インチの横方向のばらつきが存在する。保持具345、出口オリフィスEに対する保持具の位置、出口オリフィスEのサイズ、エミッタ266、管腔Lのサイズ、およびエミッタ266における管腔Lの位置が、出口オリフィスEの境界の完全に内側への管腔Lの入り口の位置合わせを達成するように協働する。一般に、マイクロ流体基板250に対する保持具345の配置は、保持具345が位置合わせプロセスにおいて自身の役割を果たすために充分な精度を有さなければならない。そのような充分な精度を達成するようにマイクロ流体基板250および保持具345の組み合わせを組み立てる1つの方法が、図27Aおよび図27Bを参照して後述される。
この例では、ばね241が、例えば約7ポンドの力を加える。いくつかのLC−MSの実施の形態においては、マイクロ流体基板の出口において必要な封止の圧力が、入り口において必要な封止の圧力よりも小さい。なぜならば、出口の付近においては液体の圧力が入り口における圧力と比べて低いからである。好ましくは、加えられる力が、境界に、境界を通過する溶離液の圧力よりも高い圧力をもたらすために充分である。
図26が、図25Aに示した特徴を備えるスプレーユニット340の実施の形態の3D図である。スプレーユニット340は、保持具345、エミッタ266、ばね341、エミッタ266に取り付けられたフィッティング342、および保持具キャップ342Aを備えている。保持具キャップ342Aは、例えばはめ込みまたはねじ山によって保持具345へと固定または着脱可能に取り付けられている。ばね341およびフィッティング342は、スプレーユニット340が動作のために組み立てられたときに保持具キャップ342Aおよび保持具345の内部に位置する。
図27Aおよび図27Bが、保持具−基板組み立てツール400の実施の形態の(それぞれ上方および下方からの)3D図である。ツール400は、基板クランプ部410、保持具クランプ部420、保持具x位置制御部430、および保持具x位置制御部440を備えている。ツール400は、作業者がクランプされた基板の出口オリフィスをクランプされた保持具を介して観察できるよう、顕微鏡に隣接して配置される。保持具345が、上述のように保持具の内径が基板250の出口オリフィスに対して充分な公差の範囲内に配置されるまで平行移動させられる。次いで、保持具345が、好ましくは例えば接着剤の塗布によって基板へと固定される。保持具345および/または基板250の構成は、随意により、にじんだ接着剤が出口オリフィスへと引き寄せられることがないように選択される(出口オリフィスにおいて接着剤が硬化すると、エミッタと基板250との間の取り合いを妨げかねない)。
基板および保持具の組み立ての方法の一実施の形態においては、保持具345が、最初にマイクロ流体基板に当接させられ、次いで保持具をマイクロ流体基板とのこすれを生じることなく移動させることが辛うじて可能になるように、例えば0.010インチ未満など、わずかに(y方向に)後退させられる。保持具345の位置のx−z調節の際に、オリフィスが、通路の隣接する端部の円の内側に観察される。保持具345が、保持具345によってエミッタの管腔をオリフィスに対して適切に位置合わせさせることができるようなオリフィスに対する正しい位置に位置した後で、マイクロ流体基板へと取り付けられる。恒久的な取り付けは、随意である。
例えば、接着剤が、位置合わせの調節を受け入れるために意図的に導入された保持具と基板との間の空間に対応する(スペーサとして機能する)。上述のように、保持具および/または基板が、随意により、接着剤がオリフィスの付近へとにじむことがないように、保持具の表面とオリフィスとの間に間隔をもたらす。
例えば、加熱された接着剤の滴が保持具345および基板250に配置され、毛管作用によって接着剤が保持具345と基板250との間のすき間に引き込まれる。毛管作用が、好ましくは狭い保持具345と基板250との間のすき間を超えて接着剤がにじむことがないように好ましく利用される。
いくつかの他の実施の形態が、例えばマシンビジョンを用いて基板および保持具の組み立てを自動化する。いくつかの他の実施の形態は、光学的な位置合わせを必要としない機械的公差を有する基板および保持具を利用する。例えば、基板が、人間の視覚またはマシンビジョンによる位置合わせを必要とせずに保持具を受け入れるスロットを随意により備える。随意により、基板の縁のうちのエミッタ266に接触する部分および/またはエミッタ266の接触端を、接触の境界の改善をもたらすために平滑にすることができ、例えば機械的に研磨することができる。
エミッタを保持具へと取り付けるために、多数の適切な手段の内のいずれかが、随意により使用される。例えば、保持具/ハウジングが、随意によりエミッタを覆って配置され、ガイド(すなわち、保持具345)へと取り付けられる。マイクロ流体基板との密封を形成するための機械的な力をエミッタへと加えるために、一例においては、金属リングがエミッタへとかしめられ、ばねが保持具/ハウジング内に配置され、次いでハウジングがガイド(すなわち、保持具345)へと取り付けられる。
図26に戻ると、保持具345が、組み立ての最中および組み立て後に基板のオリフィスの領域の観察を可能にする切り欠きを有している。この典型的な実施の形態において、基板250は、保持具345との対合に切り欠かれた縁部分を有している。切り欠かれた縁は、随意により、オリフィスの近傍に望ましく平滑な縁を生み出し、さらには/あるいは縁のオリフィス部分を保護するために使用される。保持具345を基板250へと接合するための接着剤は、随意により、オリフィスが接着剤からさらに保護されるよう、縁が切り欠かれていない場所に塗布される。図示の実施の形態においては、保持具345が、切り欠き部分を境界付けている基板250の縁の面の周辺のいずれにも接触していない。
マイクロ流体基板の縁(本明細書において、辺とも称される)は、例えばエッチング、割断、および/または研磨などのいくつかの適切な形式のいずれかで形成される。例えば、一実施の形態においては、縁が、基板材料の焼結後に割断することによって形成され、別の実施の形態においては、焼結前の基板材料のパターン加工によって形成される。縁は、随意により、焼成前および/または焼成後にさらに整形および/または平滑化される。
図28Aおよび図28Bを参照すると、いくつかの実施の形態は、スプレーユニットを保持する交換可能および/または着脱可能部分を有するマイクロ流体カートリッジを提供する。スプレーユニットは、これらの実施の形態において、随意により上述のスプレーユニットと同様である。
図28Aおよび図28Bが、主カートリッジ部分316および着脱可能なカートリッジ部分317を有している別のマイクロ流体カートリッジの外側および内側の3D図をそれぞれ示している。マイクロ流体カートリッジは、例えばエレクトロスプレーエミッタなどのカートリッジのエミッタを、一つには、カートリッジの他の大部分またはすべてのマイクロ流体部品を維持しながら入れ換えおよび/または交換することを比較的容易にする。
主カートリッジ部分316は、左側および右側ハウジング部分450−1、450−2を有しており、保持具345を保持している(随意であるが上述の保持具345と同様であるとして示されている)。着脱可能なカートリッジ部分317は、スプレー先端部の保護用の要素311を定める右側および左側ハウジング部分460−1、460−2を有している。右側および左側ハウジング部分460−1、460−2が、エミッタ266、ばね341、およびフィッティング342を保持し、スプレー先端部を囲むようにガスをもたらすためのガス通路376を定めている。左側ハウジング部460−2は、ばね341を固定し、着脱可能部分317が主カートリッジ部分316へと取り付けられるときにばね341へと力を加えるばね保持用の要素343を定めている。また、左側および右側ハウジング部分460−1、460−2は、着脱可能なカートリッジ部分317を主カートリッジ部分316へと接続するための係止要素312も定める。別の実施の形態は、随意により、ねじ、クリップ、および磁石などといった公知の特徴を含む任意の適切な取り付け用の特徴を利用する。
当業者であれば、「スプレーユニット」という表現が、本明細書において使用されるとき、説明を便利にするためのものであって、スプレーユニットを構成部品のいずれかの特定の組に限定しようとするものでも、そのような構成部品の位置を限定しようとするものでもないことを、理解できるであろう。例えば、図28Aおよび図28Bのスプレーユニットの一部分(すなわち、保持具345)が主カートリッジ部分316に位置する一方で、スプレーユニットの他の部分は、着脱可能なカートリッジ部分317に位置する。あるいは、図28Aおよび図28Bの目的において、スプレーユニットを、着脱可能なカートリッジ部分317に結合された部品だけを含むと定義することもできる。
いくつかの実施の形態は、近位端においてマイクロ流体基板に接触し、遠位端において導電性のエミッタ部分に接触する変形可能なカートリッジ部分を含むエミッタアセンブリをもたらす。これらの実施の形態のいくつかは、マイクロ流体基板への漏れのない流体シール、およびマイクロ流体基板から受け取られる溶離液の良好に制御されたエレクトロスプレー出力の両方をもたらす。エミッタアセンブリのいくつかの実施の形態は、随意により、上述のエミッタ266および関連の構成要素の代わりに使用される。
図29〜図36が、エミッタアセンブリのいくつかの実施の形態、ならびにエミッタアセンブリを含むマイクロ流体カートリッジを使用するように構成されたLC−MS装置を示している。
図29が、液体クロマトグラフィ−質量分析システムの液体クロマトグラフィモジュール500の別の実施の形態の側面図を示している。液体クロマトグラフィモジュール500は、図2に示した液体クロマトグラフィモジュール12の改良形である。液体クロマトグラフィモジュール500は、前部カバー506に窓504を有するハウジング502を備えている。窓504が、本明細書においてすでに説明したとおり、マイクロ流体カートリッジを受け入れるように構成されたスロット508へのマイクロ流体カートリッジの出し入れのための通路をもたらす。アーム部510が、液体クロマトグラフィモジュール500の片側から延びている。アーム部510に、スロット508内に配置されたマイクロ流体カートリッジのクランプおよび解放のための回転ノブ512が結合されている。
図30が、図29の液体クロマトグラフィモジュール500を示しており、マイクロ流体カートリッジを受け入れるためのスロット508を備えるクランプアセンブリ520、x、y、およびz平行移動ステージ522−1、522−2、522−3、ならびにそれらのそれぞれの調節ノブ524−1、524−2、および524−3を示すために、前部カバーは取り除かれている。クランプアセンブリ520の片側に、電気ケーブル526(高電圧を運ぶ)、電気導管528(低電圧の電気導体を束ねる)、マイクロ流体管530、霧化用ガス配管532、および冷却ガス配管534が接続されている。
図31が、図29の液体クロマトグラフィモジュール500の後面図を示しており、クランプアセンブリ520のうちの液体クロマトグラフィ−質量分析器具と取り合う側を見せるために、後部パネルは取り除かれている。
図32が、随意により図29の液体クロマトグラフィモジュール500において使用されるマイクロ流体カートリッジ550の別の実施の形態の左側面の外側の図を示している。マイクロ流体カートリッジ550は、図11〜図16に示したマイクロ流体カートリッジ16の改良形である。マイクロ流体カートリッジ550のこの実施の形態は、主カートリッジ部分552−1および着脱可能なカートリッジ部分552−2を備えている。主カートリッジ部分552−1の側面に、4つのノズル開口554が、ひし形のパターンにて配置されている。これらのノズル開口554は、図9に示したノズル170などの流体ノズルを受け入れるように構成されている。ノズル開口の上方に、図9に示した電気コネクタ176などの1列の電気コネクタを受け入れるように構成された電気ポートの列556が位置している。着脱可能なカートリッジ部分552−2が、マイクロ流体カートリッジ550のエミッタアセンブリ(すなわち、スプレーユニット)を収容している。
図33が、図32のマイクロ流体カートリッジ550の着脱可能なカートリッジ部分552−2の3D側面図を示しており、着脱可能なカートリッジ部分552−2の右側は、内部の構成要素を見せるために省略されている。着脱可能なカートリッジ部分552−2は、導電性の金属(好ましくは、鋼)からなるエミッタ管562と、エミッタ管562の周囲の管アセンブリ564と、管アセンブリ564の周囲に巻かれたエミッタ荷重ばね566とで構成されたエミッタアセンブリ560(全体が想像線による四角で囲まれている)を備えている。エミッタ管562および管アセンブリ564が、エミッタ荷重ばね566が閉じ込められた区画568を通って延びている。この実施の形態においては、着脱可能なカートリッジ部分552−2の2つの半型に成形された要素が、区画568を定めている。金属板570が、区画568の一端を定めている。エミッタアセンブリ560は、区画568の近位端の開口を通過し、マイクロ流体基板250に結合された保持具345に進入している。区画568の遠位端において、エミッタアセンブリ560は、金属板570の開口を通過し、導電性の金属(好ましくは、鋼)ブロック576を通過している。この文脈において使用されるとき、「近位」および「遠位」は、マイクロ流体基板250に対して「近位」および「遠位」であり、「近位」のアセンブリ要素または構成要素は、「遠位」のアセンブリ要素または構成要素と比べ、マイクロ流体基板250により近い。エミッタアセンブリ560の遠位端において、エミッタ管562の先端572が、金属ブロック576を過ぎて延びている。ガス管578が、着脱可能なカートリッジ部分552−2の右側の入力ポート580から、金属ブロック576の片側へと延びている。一実施の形態においては、入力ポート580が、玉軸受が一端に圧入されたTYGON(TM)管を備えている。
着脱可能なカートリッジ部分552−2が主カートリッジ部分552−1に取り付けられるとき、着脱可能なカートリッジ部分552−2の内部の金属板570が、エミッタ荷重ばね566の遠位端を押す。ばね566が、ばね保持具582を押す。エミッタアセンブリ560の近位端に結合されたこのばね保持具582が、管アセンブリ564の近位端を、マイクロ流体基板250の溶離液出口ポートにおいて予想される圧力について流体の封止をもたらすための充分な力で、マイクロ流体基板250へと押し付ける。図33においては、図34における圧縮された状態のばね566との比較によってばね保持具345によって閉じ込められたときのばね566の圧縮の程度を示すために、ばね566が圧縮されていない状態で示されている(ばね保持具582を隠して見えなくしている)。
図34が、マイクロ流体カートリッジ550の着脱可能なカートリッジ部分552−2の内部要素の断面概略図を示しており、図35Aおよび図35Bが、図34の断面概略図の拡大図(それぞれ、左側および右側の部分)を示し、図36が、着脱可能なカートリッジ部分552−2のエミッタ先端部572の領域の断面詳細図を示している。エミッタアセンブリ560が、導電性の金属エミッタ管562およびエミッタ管562の周囲の管アセンブリ564を備えている。要約すると、エミッタアセンブリ560は、マイクロ流体基板250と物理的に接触する変形可能な管を近位端に有し、エレクトロスプレーを放射する導電性の金属管(すなわち、エミッタ管562)を遠位端に有する。近位端の変形可能な管が、マイクロ流体基板250に物理的に接触するときに流体を漏らさないシールを好都合に生じさせる一方で、遠位端の導電性の金属管は、エレクトロスプレーの放射にとくに適している。
この特定の実施の形態において、管アセンブリ564は、外側鋼管600ならびに複数のポリマー中間管602−1、602−2、および602−3(全体として、602)を備えている。ポリマー中間管602−1は、エミッタアセンブリ560の近位端に位置し、例えば管の実施の形態に関して材料について上述したようにPEEK(TM)ポリマーで形成されている。近位側の中間管602−1の端部が、好ましくは外側鋼管600よりも延びている(外側鋼管600が、ほぼ区画568の近位側の開口で終わっている)。さらに、近位側の中間管602−1の端部は、好ましくは、マイクロ流体基板250に機械的に接触したときに流体を漏らさない流体シールをもたらすために充分な長さだけ内側の金属エミッタ管562よりも突き出している。この突出の長さ604は、例えば0.001インチ〜0.005インチの範囲である。この突出の長さにより、近位側の中間管602−1のこの端部が、マイクロ流体基板250が堅固な内側の金属製のエミッタ管562に接触する前に、マイクロ流体基板250の堅固な縁に当接して充分に変形して、流体を漏らさないシールを生み出すことができる。
第2のポリマー中間管602−2は、近位側の中間管602−1に当接し、一実施の形態においてはカーボン充てんPEEK(TM)ポリマー管である。この中間管602−2は、外側の鋼管600と内側の鋼製のエミッタ管562との間に導電性の経路をもたらす。第3のポリマー中間管602−3は、エミッタアセンブリ560の遠位端において、すき間606によって第2の中間管602−2から隔てられている。外側の鋼管600が、霧化用ガスの進入を可能にするための開口608をすき間606の領域に有している。
管アセンブリ564のポリマー管602は、随意により、外側鋼管600のかしめによって互いに機械的に固定される。1つ以上のかしめを、随意により管アセンブリ564の近位端に沿って形成することができる。あるいは、外側鋼管600の1つ以上の部位の一様な機械的変形を伴うシールを採用することができる。
エミッタアセンブリ560の遠位端に、導電性の金属ブロック576が位置する。金属ブロック576は、貫通穴612を有している。穴612は、管アセンブリ564をぴったりと受け入れるように寸法付けられている。金属ブロック576は、霧化用ガスの流れが通過し、内側の金属製のエミッタ管562の遠位端が突出する出口(遠位)部分630を有している。
金属ブロック576の穴612の一端に、パッキン保持部614が位置しており、パッキン保持部614に、管アセンブリ564および内側の金属製のエミッタ管562を通過させるOリング616が配置されている。Oリング616が、穴612を封じ、霧化用ガスが穴612から近位方向に逃げ出すことを防止する。さらに、金属ブロック576は、遠位端において穴612に交わる入力ポート618を有している。霧化用ガスの管580(図33)が、霧化用ガスを金属ブロック576の穴612へともたらす。
エミッタアセンブリ560の遠位端において、すき間620が、外側鋼管600を金属ブロック576の穴612から隔て、別のすき間622が、第3のポリマー中間管602−3を内側の鋼製のエミッタ管562から隔て、さらに別のすき間623が、第3のポリマー中間管602−3を外側鋼管600から隔てている。すき間620は、第3のポリマー中間管602−3の遠位端において狭くなる。一部の霧化用ガスが、外側鋼管600と穴612との間のすき間620を通って遠位方向に穴612を出る。さらに、開口608を通ってすき間620に進入する霧化用ガスが、第3のポリマー中間管602−3と内側の鋼製のエミッタ管562との間のすき間622および第3のポリマー中間管602−3と外側鋼管600との間のすき間623を通って遠位方向に穴612を出る。一実施の形態においては、すき間620の狭い部分のすき間寸法が、0.001〜0.003インチの範囲であり、内側の鋼製のエミッタ管562と第3のポリマー中間管602−3との間のすき間622のすき間寸法が、例えば0.001〜0.003インチの範囲であり、第3のポリマー中間管602−3と外側鋼管600との間のすき間623のすき間寸法が、例えば0.0005〜0.0015インチの範囲である。
高電圧(HV)ストラップ624が、エレクトロスプレーの生成のための高電圧を高電圧入力626から金属板570へともたらす。この金属板570と金属ブロック576との間に接続された高電圧ばね628が、金属ブロック576へと高電圧を導く。圧縮された状態において、高電圧ばね628の一端が金属ブロック576のポケット(図示されていない)へと延び、他端が金属板570に接触して押し付けられる。高電圧の導通が、外側鋼管600およびカーボン充てん中間管602−2へと続き、さらに内側の金属製のエミッタ管562へと続く。金属ブロック576のオリフィス630の寸法およびエミッタ管562の突出距離632は、エレクトロスプレーの所望の性能をもたらすように選択される。例えば、先端の突出距離(図35B)は、例えば0.05〜0.09インチの範囲である。金属ブロック576の出口部分の長さ634は、例えば0.03〜0.07インチの範囲である。
エミッタ荷重ばね566が、着脱可能なカートリッジ部分552−2の主カートリッジ部分552−1への係止に対抗する力をもたらす。この力によって、エミッタアセンブリ560の変形可能な端部がマイクロ流体基板250に接触して押し付けられる。さらに、一実施の形態においては、エミッタ管562の先端部572が、着脱可能なカートリッジ部分552−2の主カートリッジ部分552−1への取り付けに応答してマイクロ流体ブロック576の延長部630から突出でき、着脱可能なカートリッジ部分552−2の主カートリッジ部分552−1からの取り外しに応答してマイクロ流体ブロック576の延長部630へと引っ込むことができる。
本発明を、特定の好ましい実施の形態に関して図示および説明したが、それらの実施の形態において、本発明の技術的範囲から離れることなく、形態および詳細における種々の変更が可能であることを、当業者であれば理解すべきである。例えば、エミッタ管アセンブリに含まれる管の各部分および/または各層の数は、随意によりより多数またはより少数であってよく、それらを随意により適切な他のポリマー材料および/または他の金属材料および/または他の導電性材料で形成することができる。

Claims (24)

  1. 化学的分離のための装置であって、
    サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板と、
    変形可能な端部と、変形可能な端部の付近に位置し、マイクロ流体基板からサンプルの溶離液を受け取る導入口と、サンプルの溶離液のスプレーを放射するための導電性の出口エミッタ管、エミッタ管の周囲に配置されてエミッタ管に接続された管アセンブリとを有し、管アセンブリが、変形可能な端部を有する第1の管部分と、第1の管部分に端部同士にて当接する第2の管部分と、第2の管部分からすき間によって空間的に隔てられた第3の管部分とを備えているエミッタアセンブリと、
    管アセンブリおよびエミッタ管の遠位端の周囲に配置された導電ブロックであって、導電ブロックは、管アセンブリおよびエミッタ管が通される穴を有しており、エミッタ管の先端が、導電ブロックの遠位端よりも突き出している導電ブロックと、
    変形可能な端部をマイクロ流体基板に接触して押し付ける力をエミッタアセンブリへと印加する力印加ユニットと
    を備えており、
    変形可能な端部は、マイクロ流体基板と変形可能な端部との間の接触によってマイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールが生み出されるように、マイクロ流体基板よりも弾性的である、装置。
  2. 力印加ユニットが、
    管アセンブリに固定的に接続されたばね保持具と、
    管アセンブリの周囲に巻かれ、ばね保持具に当接して、変形可能な端部をマイクロ流体基板に接触して押し付ける力をばね保持具へと印加するばねと
    を備えている、請求項に記載の装置。
  3. 管アセンブリの第2の管部分が、導電性材料で構成されている、請求項に記載の装置。
  4. エミッタアセンブリが、管アセンブリの周囲に配置された導電性の外側管をさらに備えている、請求項に記載の装置。
  5. 導電ブロックが、開口を有しており、霧化用ガスの管が、開口において導電ブロックに接続されている、請求項に記載の装置。
  6. 管アセンブリが、管アセンブリの周囲の導電性の外側管をさらに備えており、導電性の外側管は、管アセンブリとエミッタとの間および管アセンブリの第3の管と導電性の外側管との間のすき間への霧化用ガスの進入を可能にするオリフィスを有している、請求項に記載の装置。
  7. 導電ブロックおよび管アセンブリの導電性の外側管に電導可能に連絡した電気導体をさらに備えており、電気導体は、エミッタ管の先端から霧化用ガスからなるエレクトロスプレーの放射を生じさせるために、高電圧源からの高電圧を導電ブロックおよび導電性の外側管へと導く、請求項に記載の装置。
  8. マイクロ流体基板を収容する主マイクロ流体カートリッジ部分と、
    内部にエミッタアセンブリが可動に配置される着脱可能なマイクロ流体カートリッジ部分と
    をさらに備えており、
    エミッタ管の先端が、着脱可能なマイクロ流体カートリッジ部分の主マイクロ流体カートリッジ部分への取り付けに応答して着脱可能なマイクロ流体カートリッジ部分から突き出し、着脱可能なマイクロ流体カートリッジ部分の主マイクロ流体カートリッジ部分からの取り外しに応答して着脱可能なマイクロ流体カートリッジ部分へと引っ込む、請求項1に記載の装置。
  9. 一端の入り口と、他端のエミッタ先端部とを有している細長い導電性のエミッタ管と、
    細長いエミッタ管の周囲に配置され、細長いエミッタ管へと接続された管アセンブリと
    を備えており、
    管アセンブリが、エミッタ管の入り口端を過ぎて突き出す変形可能な端部を有しており、変形可能な端部は、マイクロ流体基板との接触によってマイクロ流体基板の出口開口とエミッタ管の入り口との間に実質的に流体を漏らさないシールが生み出されるように、マイクロ流体基板の縁と接触したときに変形するように構成されているエミッタアセンブリ。
  10. 管アセンブリへとエミッタ管の入り口端の方向の力を加える力印加ユニットをさらに備えている、請求項に記載のエミッタアセンブリ。
  11. 管アセンブリが、
    変形可能な端部を有している第1の管部分と、
    第1の管部分に端部同士にて当接する第2の管部分と、
    すき間によって第2の管部分から空間的に隔てられた第3の管部分と
    を備えている、請求項に記載のエミッタアセンブリ。
  12. 管アセンブリの第2の管部分が、導電性材料からなる、請求項11に記載のエミッタアセンブリ。
  13. 管アセンブリの周囲の導電性の外側管をさらに備えている、請求項11に記載のエミッタアセンブリ。
  14. 力印加ユニットが、
    管アセンブリに固定的に接続されたばね保持具と、
    管アセンブリの周囲に巻かれ、ばね保持具に当接して、変形可能な端部をエミッタ管の入り口の方向に押す力をばね保持具へと印加するばねと
    を備えている、請求項10に記載のエミッタアセンブリ。
  15. サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板を収容するカートリッジ部分への取り付けのための手段と、
    変形可能な端部と、変形可能な端部の付近に位置し、マイクロ流体基板からサンプルの溶離液を受け取る導入口と、サンプルの溶離液のエレクトロスプレーを放射するように構成された導電性の出口エミッタ管、エミッタ管の周囲に配置されてエミッタ管に接続された管アセンブリとを有しているエミッタアセンブリと
    を備えており、
    取り付けのための手段がマイクロ流体基板を収容しているカートリッジ部分へと取り付けられるときに、マイクロ流体基板よりも弾性的である変形可能な端部が、マイクロ流体基板との接触において変形し、マイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールを生み出すスプレーカートリッジ。
  16. 力印加ユニットが、
    管アセンブリに固定的に接続されたばね保持具と、
    管アセンブリの周囲に巻かれ、ばね保持具に当接して、変形可能な端部をマイクロ流体基板に接触して押し付ける力をばね保持具へと印加するばねと
    を備えている、請求項15に記載のスプレーカートリッジ。
  17. 管アセンブリが、
    変形可能な端部を有する第1の管部分と、
    第1の管部分に端部同士にて当接する第2の管部分と、
    第2の管部分からすき間によって空間的に隔てられた第3の管部分と
    を備えている、請求項15に記載のスプレーカートリッジ。
  18. 管アセンブリの第2の管部分が、導電性材料で構成されている、請求項17に記載のスプレーカートリッジ。
  19. エミッタアセンブリが、管アセンブリの周囲に配置された導電性の外側管をさらに備えている、請求項17に記載のスプレーカートリッジ。
  20. 管アセンブリおよびエミッタ管の遠位端の周囲に配置された導電ブロックをさらに備えており、導電ブロックは、管アセンブリおよびエミッタ管が通される穴を有しており、エミッタ管の先端が、導電ブロックの遠位端よりも突き出している、請求項17に記載のスプレーカートリッジ。
  21. 導電ブロックが、開口を有しており、霧化用ガスの管が、開口において導電ブロックに接続されている、請求項20に記載のスプレーカートリッジ。
  22. 管アセンブリが、管アセンブリの周囲の導電性の外側管をさらに備えており、導電性の外側管は、管アセンブリとエミッタとの間および管アセンブリの第3の管と導電性の外側管との間のすき間への霧化用ガスの進入を可能にするオリフィスを有している、請求項21に記載のスプレーカートリッジ。
  23. 導電ブロックおよび管アセンブリの導電性の外側管に電導可能に連絡した電気導体をさらに備えており、電気導体は、エミッタ管の先端から霧化用ガスからなるエレクトロスプレーの放射を生じさせるために、高電圧源からの高電圧を導電ブロックおよび導電性の外側管へと導く、請求項22に記載のスプレーカートリッジ。
  24. サンプルを分析する方法であって、
    サンプルを運ぶ移動相を、サンプルの溶離液を出力するための出口開口を有しているマイクロ流体基板に形成されたカラムに通すステップと、
    エミッタアセンブリの導入口の付近に配置されたエミッタアセンブリの変形可能な端部を、マイクロ流体基板に接触させて押し付けることで、マイクロ流体基板の出口開口とエミッタアセンブリの導入口との間に実質的に流体を漏らさないシールを生じさせるステップであって、エミッタアセンブリが、導電性のエミッタ管と、エミッタ管の周囲に配置されてエミッタ管に接続された管アセンブリとを備えるステップと、
    サンプルの溶離液を、エミッタアセンブリの導入口において、流体を漏らさないシールを通ってマイクロ流体基板の出口開口から受け取るステップと、
    エミッタの出口において、サンプルの溶離液のエレクトロスプレーを生成するステップと
    を含む方法。
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