JP5995038B2 - 半導体基板および半導体装置 - Google Patents
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Description
まず、シリコン基板51の全体の厚みを300μm程度に裏面52を矢印53の方向にバックラップ処理とポリッシュ処理等で薄くする(同図(a))。
つぎに、裏面52に形成したマスク54により、裏面52からシリコン基板51をエッチングして所定の厚みのシリコン(シリコンメンブレン56)を残し裏面52に凹み55を形成する。例えば、圧力センサに用いる場合には、このシリコンメンブレン56の厚みJは10〜50μm程度にする(同図(c))。
このダイアフラム59の表面に図27に示すように、ゲージ抵抗となる抵抗体60を形成する。圧力が加わった際にダイアグラム59を構成するシリコンメンブレン56が撓んで、抵抗体60が撓みピエゾ効果によりゲージ抵抗が変化する。このゲージ抵抗の変化を電気信号に変換し、この電気信号を計測することで圧力が検出される。
また、特許請求の範囲の請求項4に記載の発明によれば、前記凸状の島を複数備えた半導体基板とする。特許請求の範囲の請求項5の発明によれば、請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体基板の空洞の上側をダイアフラムとする半導体装置とする。
尚、前記ダイアフラム100はシリコン基板1に形成されたSON構造101を利用したが、将来はSiCやGaNなどの半導体基板の表面層に空洞を形成した構造をダイアフラムとして利用することも考えられる。
(6)つぎに、水素ガス雰囲気、または、水素と不活性ガスとの混合ガス雰囲気で1000℃以上の高温のアニール処理を行う。この高温でのアニール処理時に、第1ホール20および第2ホール22の底面が丸まるとともに、ホール開口部18が丸まる(図8)。
また、ホール比率Hが60%超のときは、各ホール32の変形が進展してもホール開口部35が閉じることができず、変形が進むことで、ホール32に囲まれた領域が隔壁36として残り、一つの大きな空洞31は形成できない。さらにアニール処理を続けた場合、隔壁36はシリコン基板1中に取り込まれて平坦な底面の大きな凹みとなり一つの大きな空洞31は形成できない。
但し、ホール比率Hが45%以上60%以下では、一つの大きな空洞31は形成されるが、空洞31内の上下のシリコン面には多数の突起37(凹凸)が形成される場合がある。しかし、突起37の高さが低い場合には、空洞31をダイアフラムとして用いることは可能である。
また、空洞27,28上のシリコン層5はキャップ層6とエピタキシャル成長層7を合せた層である。
図17は、図15の第1空洞27と第2空洞28を接続して一つの大きな空洞2をシリコン基板1bに形成した場合の図であり、同図(a)は空洞内の下側のシリコン面の要部平面図、同図(b)は同図(a)のX−X線で切断した要部断面図である。図17(a)では一つの大きな空洞2を形成するための第1ホール20と第2ホール22を点線で示した。ここでは第1ホール群21を2個とした場合である。
(1)まず、裏面15を矢印16の方向に研削して例えば300μm程度に薄くしたシリコン基板1上にホール形成用のマスクとなるたとえばシリコン酸化膜17aを形成する(図18)。尚、研削後のシリコン基板1の厚さは300μmより厚くする場合やシリコン基板1を研削しない場合もある。
(2)つぎに、シリコン酸化膜17a上に、ホール形成領域を開口させたパターンでレジストマスク19aを形成する。このレジストマスク19aは浅い第1ホール20で構成される第1ホール群21を形成するための第1レジスト開口部20aを有する(図19)。
(3)つぎに、このレジストマスク19aを用いてシリコン酸化膜17aをエッチングし、第1ホール群21を形成すための第1酸化膜開口部20bを有するシリコン酸化膜マスク24aを形成する(図20)。
(4)つぎに、この第2開口部20bを有するシリコン酸化膜マスク24aを用いて、例えば反応性イオンエッチング(RIE)などによる異方性エッチングによって、シリコン基板1のエッチングを行い、浅い第1ホール群21を形成する。その際、第1ホール20の側壁には図示しないSiO2系の側壁保護膜が生成される。この第1ホール20の深さはT1である(図21)。
(5)つぎに、HF(フッ酸)系エッチング液等を用いてエッチングをおこない、側壁保護膜およびシリコン酸化膜マスク24aを除去し、洗浄と乾燥を行なう。(図22)。
(6)つぎに、再度形成したシリコン酸化膜17b上に、ホール形成領域を開口させたパターンで再度レジストマスク19bを形成する。このレジストマスク19bは深い第2ホール22で構成される第2ホール群23を形成できる第2レジスト開口部22aを有する。このレジストマスク19bのパターンは第1ホール群21を第2ホール群23が取り囲むようにする。また、ここでは第1ホール群21および第2ホール群23のホール径D1、D2は実施例2の場合と同じ(D1<D2)にする。勿論、D1=D2、D1>D2としても構わない(図23)。
(7)つぎに、このレジストマスク19bを用いてシリコン酸化膜17bをエッチングし、第2ホール群23を形成すための第2酸化膜開口部22bを有する第2シリコン酸化膜マスク24bを形成する(図24)。
(8)つぎに、このシリコン酸化膜マスク24bを用いて、例えば反応性イオンエッチング(RIE)などによる異方性エッチングによって、シリコン基板1bのエッチングを行い、深い第2ホール群23を形成する(第2ホール22深さT2>第1ホール20深さT1)。その際、ホールの側壁には図示しないSiO2系の側壁保護膜が生成される。また、第1ホール群21を第2ホール群23が取り囲むように形成される(図25)。
(9)つぎに、HF(フッ酸)系エッチング液等を用いてエッチングをおこない、側壁保護膜およびシリコン酸化膜マスク24bを除去し、洗浄と乾燥を行なう。この段階で図8と同じになる(図26)。
(10)これ以降の工程は、実施例2の(6)の工程以降と同じであるので説明は省略する。また、この例では、先に浅い第1ホール群21を形成した後、深い第2ホール群23を形成したが、逆に深い第2ホール群23を先に形成しても構わない。また、第1ホール20の深さT1を第2ホール22の深さT2より深くしても構わない。
2 一つの大きな空洞
3 下側のシリコン面
4 凸状の島
5 シリコン層
6 キャップ層
7 エピタキシャル成長層
8 島の頂上
9 上側のシリコン面
100 ダイアフラム
101 SON構造
15 裏面
16 矢印
17,17a,17b シリコン酸化膜
18,35 ホール開口部
18a レジスト開口部
18b シリコン酸化膜開口部
19,19a,19b レジストマスク
20 第1ホール
20a 第1レジスト開口部
20b 第1酸化膜開口部
21 第1ホール群
22 第2ホール
22a 第2レジスト開口部
22b 第2酸化膜開口部
23 第2ホール群
24,24a,24b シリコン酸化膜マスク
25 ボイド
26,36 隔壁
27 第1空洞
28 第2空洞
31a,31b 空洞(2段の空洞)
32 ホール
33 ホール群
34 包絡線
37 突起
D ホール直径
D1 第1ホール直径
D2 第2ホール直径
T ホール深さ
T1 第1ホール深さ
T2 第2ホール深さ
M1 第1ホール間隔
M2 第2ホール間隔
K 隣接する第1ホールと第2ホールの最大間隔
Q1 隣接する第1ホール群の間の間隔
Q2 隣接する島の間の間隔
G1 第1空洞の厚さ
G2 第2空洞の厚さ
N 凸状の島の高さ
ST0 一つの島の頂上の面積
ST 島の頂上の総面積
SS 空洞の下側のシリコン面の面積
P1 第1ホール群の直径
P2 第1空洞の直径
Claims (5)
- 半導体基板の内部に配置された平板状の空洞と、該空洞内の下側の面に配置された前記空洞の厚さより高さが低い凸状の島と、を具備し、前記空洞の上側の面を構成する半導体と下側の面を構成する半導体とが前記空洞の横方向の外側部で繋がっていることを特徴とする半導体基板。
- 半導体基板の内部に配置された平板状のSON構造を構成する空洞と、該空洞内の下側の面に配置された前記空洞の厚さより高さが低い凸状の島と、を具備することを特徴とする半導体基板。
- 前記凸状の島の高さが前記空洞の厚さの10%以上、50%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体基板。
- 前記凸状の島を複数備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の半導体基板。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の半導体基板の空洞の上側をダイアフラムとする半導体装置。
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