JP5987597B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の一形態は、半導体装置を提供する。この半導体装置は、窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、ケイ素(Si)をドナーとして含有する第1のN型半導体層と;前記第1のN型半導体層に対して積層した状態で形成され、窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、マグネシウム(Mg)をアクセプタとして含有するP型半導体層と;前記P型半導体層に対して積層した状態で形成され、窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、前記第1のN型半導体層よりも高い濃度でケイ素(Si)をドナーとして含有する第2のN型半導体層とを備える。前記P型半導体層は、前記第2のN型半導体層に隣接する界面と;前記界面より前記第1のN型半導体層側に位置し、マグネシウム(Mg)の濃度が前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より高い領域とを含み、前記P型半導体層の前記界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度は、前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より低い。
本発明の一形態は、半導体装置の製造方法を提供する。この製造方法は、(a) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共にケイ素(Si)をドナーとして含有する第1のN型半導体層を、ケイ素(Si)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって形成する工程と;(b) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共にマグネシウム(Mg)をアクセプタとして含有するP型半導体層を、マグネシウム(Mg)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって、前記第1のN型半導体層に対して形成する工程と;(c) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共に前記第1のN型半導体層よりも高い濃度でケイ素(Si)をドナーとして含有する第2のN型半導体層を、ケイ素(Si)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって、前記P型半導体層に対して形成する工程とを備え、前記(b)工程は、前記P型半導体層において前記第2のN型半導体層に隣接する界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度が、前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度よりも低くなるとともに、前記界面より前記第1のN型半導体層側にマグネシウム(Mg)の濃度が前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より高い領域が形成されるように、前記P型半導体層を形成する間、前記原料ガスに混合されるマグネシウム(Mg)の量を調整する工程を含む。
図1は、半導体装置10の構成を模式的に示す断面図である。半導体装置10は、窒化ガリウム(GaN)を用いて形成されたGaN系の半導体装置である。本実施形態では、半導体装置10は、電力制御に用いられ、パワーデバイスとも呼ばれる。
P型半導体層130におけるMgの濃度分布は、前述の式1〜3を満たす限り、種々の態様で実現することができる。
本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
110…基板
111…界面
112…界面
120…第1のN型半導体層
121…界面
122…界面
130…P型半導体層
131…界面
132…界面
140…第2のN型半導体層
141…界面
142…界面
210…電極
230…電極
240…電極
250…電極
330…絶縁膜
340…絶縁膜
810…基板
815…バッファ層
820…アンドープ半導体層
830…P型半導体層
840…N型半導体層
910…基板
915…バッファ層
920…アンドープ半導体層
930…アンドープ半導体層
940…N型半導体層
Claims (4)
- 半導体装置であって、
窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、ケイ素(Si)をドナーとして含有する第1のN型半導体層と、
前記第1のN型半導体層に対して積層した状態で形成され、窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、マグネシウム(Mg)をアクセプタとして含有するP型半導体層と、
前記P型半導体層に対して積層した状態で形成され、窒化ガリウム(GaN)から主になると共に、前記第1のN型半導体層よりも高い濃度でケイ素(Si)をドナーとして含有する第2のN型半導体層と
を備え、
前記P型半導体層は、
前記第2のN型半導体層に隣接する界面と、
前記界面より前記第1のN型半導体層側に位置し、マグネシウム(Mg)の濃度が前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より高い領域と
を含み、
前記P型半導体層の前記界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度は、前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より低い、半導体装置。 - 前記P型半導体層の前記界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度は、前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度の半分以下である、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記P型半導体層の前記界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度は、2×1018cm−3以下である、請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
- 半導体装置の製造方法であって、
(a) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共にケイ素(Si)をドナーとして含有する第1のN型半導体層を、ケイ素(Si)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって形成する工程と、
(b) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共にマグネシウム(Mg)をアクセプタとして含有するP型半導体層を、マグネシウム(Mg)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって、前記第1のN型半導体層に対して形成する工程と、
(c) 窒化ガリウム(GaN)から主になると共に前記第1のN型半導体層よりも高い濃度でケイ素(Si)をドナーとして含有する第2のN型半導体層を、ケイ素(Si)を混合した原料ガスを用いた結晶成長によって、前記P型半導体層に対して形成する工程と
を備え、
前記(b)工程は、前記P型半導体層において前記第2のN型半導体層に隣接する界面におけるマグネシウム(Mg)の濃度が、前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度よりも低くなるとともに、前記界面より前記第1のN型半導体層側にマグネシウム(Mg)の濃度が前記第2のN型半導体層におけるケイ素(Si)の濃度より高い領域が形成されるように、前記P型半導体層を形成する間、前記原料ガスに混合されるマグネシウム(Mg)の量を調整する工程を含む、半導体装置の製造方法。
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JP2012209511A JP5987597B2 (ja) | 2012-09-24 | 2012-09-24 | 半導体装置およびその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2012
- 2012-09-24 JP JP2012209511A patent/JP5987597B2/ja active Active
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