JP5973437B2 - フィルターフィードスラリーにおける水のパーセントを制御することによるテレフタル酸パージろ過速度の向上 - Google Patents
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Description
(b) 混合帯域において、前記濃縮パージの流れに水を添加し、高含水の濃縮パージの流れを生成する工程。
(c) 前記高含水の濃縮パージスラリーを、第2のエバポレーター帯域における蒸発に供し、第2の溶媒高含有の流れ及び高濃縮パージスラリーを生成する工程。ここで、前記第2のエバポレーター帯域は約20℃から約70℃の温度で操作されるエバポレーターを含み、またここで、前記高濃縮パージスラリーは約5wt%から約25%の水含有量を有している。
(d) 固液分離帯域において、前記高濃縮パージスラリーのろ過を行い、フィルターケーク及び母液を形成する工程。
(e) 前記固液分離帯域において、洗浄フィードを用いて前記フィルターケークを洗浄し、洗浄フィルターケーク及び洗浄ろ液を形成する工程。ここで、前記高濃縮パージスラリーから得られる前記金属触媒の少なくとも80%が、前記分離帯域を経て、前記母液及び前記累積する洗浄液中に回収される。
(f) 任意に、前記固液分離帯域において、前記洗浄フィルターケークを脱水し、脱水フィルターケークを形成する工程。
(g) 母液と水を合わせて金属触媒を回収し、その後にそのように形成された含水混合物を、抽出溶媒を用いた抽出に供し、抽出の流れ及び金属触媒を含むラフィネートの流れを生成する工程。
[1]
(a) カルボン酸、金属触媒、不純物、水及び酢酸を含む溶媒を含むテレフタル酸工程において形成される酸化剤パージの流れを、第1のエバポレーター帯域における蒸発に供し、蒸気の流れ及び濃縮パージスラリーを生成するステップ、
(b) 第1の混合帯域において、水を前記濃縮パージスラリーに添加し、高含水の濃縮パージスラリーを生成するステップ、
(c) 第2のエバポレーター帯域において、前記高含水の濃縮パージスラリーを蒸発に供し、溶媒高含有の流れ及び高濃縮パージスラリーを生成するステップであって、前記第2のエバポレーター帯域が、約20℃から約70℃の温度で操作されるエバポレーターを含み、前記高濃縮パージスラリーが、約5wt%から約25wt%の水を含有している、ステップ、
(d) 固液分離帯域において、前記高濃縮パージスラリーをろ過し、フィルターケーク及び母液を形成するステップ、並びに
(e) 前記固液分離帯域において、洗浄フィードで前記フィルターケークを洗浄し、洗浄フィルターケークを形成するステップ
を含む、テレフタル酸パージの方法。
[2]
前記高濃縮パージスラリーから、前記金属触媒の少なくとも80%が、前記分離帯域を経て、前記母液及び前記累積する洗浄液中に回収される、項目1に記載の方法。
[3]
ステップ(a)及びステップ(c)の組み合わせにおいて、約75wt%から約95wt%の前記溶媒及び水が、前記酸化剤パージの流れから蒸発により取り除かれる、項目2に記載の方法。
[4]
前記洗浄フィルターケークの少なくとも一部が酸化帯域のテレフタル酸の底流を含む流れに送られる、項目3に記載の方法。
[5]
前記高濃縮パージスラリーが、約8wt%から約23%の水を含有している、項目1に記載の方法。
[6]
前記高濃縮パージスラリーが、約11wt%から約21%の水を含有している、項目1に記載の方法。
[7]
前記高濃縮パージスラリーが、約13wt%から約18%の水を含有している、項目1に記載の方法。
[8]
前記固液分離装置が、約25℃から約90℃の温度において作動する加圧ろ過装置である、項目1に記載の方法。
[9]
前記加圧ろ過装置が、少なくとも一つのフィルターセルを含み、少なくとも一つのフィルターセルが、少なくとも深さ0.25インチ(6.35mm)の前記フィルターケークを蓄積する、項目8に記載の方法。
[10]
ステップ(d)で形成される前記母液の少なくとも一部が、テレフタル酸工程の酸化帯域に戻される、項目1に記載の方法。
[11]
前記加圧ろ過装置が回転圧力ドラム式フィルターである、項目10に記載の方法。
[12]
前記第1の蒸発帯域から前記混合帯域に送られる前記濃縮パージの流れの温度が、80℃よりも高く維持される、項目1に記載の方法。
[13]
前記第2の蒸発帯域における滞留時間が30分から180分である、項目1に記載の方法。
[14]
前記母液が抽出帯域に送られて、含水の流れ及び有機の流れを生成する、項目1に記載の方法。
[15]
前記有機の流れが蒸留塔に送られて、抽出溶媒と、酸化副生物不純物を含む廃棄スラッジの流れとが回収される、項目14に記載の方法。
[16]
前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が8%から23%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、項目15に記載の方法。
[17]
前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が11%から21%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、項目15に記載の方法。
[18]
前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が13%から19%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、項目1に記載の方法。
[19]
溶媒が酢酸であり、8:1から約20:1、好ましくは約11:1から20:1の比率で水と混合されている、項目1に記載の方法。
[20]
混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを5%から25%に制御するように操作される、項目19に記載の方法。
[21]
混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを5%から25%に制御するように操作される、項目1に記載の方法。
[22]
混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを11%から21%に制御するように操作される、項目1に記載の方法。
[23]
混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを13%から19%に制御するように操作される、項目1に記載の方法。
[24]
混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを8%から23%に制御するように操作される、項目1に記載の方法。
Claims (23)
- (a) カルボン酸、金属触媒、不純物、水及び酢酸を含む溶媒を含むテレフタル酸工程において形成される酸化剤パージの流れを、第1のエバポレーター帯域における蒸発に供し、蒸気の流れ及び濃縮パージスラリーを生成するステップ、
(b) 第1の混合帯域において、水を前記濃縮パージスラリーに添加し、高含水の濃縮パージスラリーを生成するステップ、
(c) 第2のエバポレーター帯域において、前記高含水の濃縮パージスラリーを蒸発に供し、溶媒高含有の流れ及び高濃縮パージスラリーを生成するステップであって、前記第2のエバポレーター帯域が、約20℃から約70℃の温度で操作されるエバポレーターを含み、ステップ(b)において混合帯域に添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを5%から25%に制御するように操作される、ステップ、
(d) 固液分離帯域において、前記高濃縮パージスラリーをろ過し、フィルターケーク及び母液を形成するステップ、並びに
(e) 前記固液分離帯域において、洗浄フィードで前記フィルターケークを洗浄し、洗浄フィルターケークを形成するステップ
を含む、テレフタル酸パージの方法。 - 前記高濃縮パージスラリーから、前記金属触媒の少なくとも80%が、前記分離帯域を経て、前記母液及び前記累積する洗浄液中に回収される、請求項1に記載の方法。
- ステップ(a)及びステップ(c)の組み合わせにおいて、約75wt%から約95wt%の前記溶媒及び水が、前記酸化剤パージの流れから蒸発により取り除かれる、請求項2に記載の方法。
- 前記洗浄フィルターケークの少なくとも一部が酸化帯域のテレフタル酸の底流を含む流れに送られる、請求項3に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーが、約8wt%から約23%の水を含有している、請求項1に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーが、約11wt%から約21%の水を含有している、請求項1に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーが、約13wt%から約18%の水を含有している、請求項1に記載の方法。
- 前記固液分離装置が、約25℃から約90℃の温度において作動する加圧ろ過装置である、請求項1に記載の方法。
- 前記加圧ろ過装置が、少なくとも一つのフィルターセルを含み、少なくとも一つのフィルターセルが、少なくとも深さ0.25インチ(6.35mm)の前記フィルターケークを蓄積する、請求項8に記載の方法。
- ステップ(d)で形成される前記母液の少なくとも一部が、テレフタル酸工程の酸化帯域に戻される、請求項1に記載の方法。
- 前記加圧ろ過装置が回転圧力ドラム式フィルターである、請求項10に記載の方法。
- 前記第1の蒸発帯域から前記混合帯域に送られる前記濃縮パージの流れの温度が、80℃よりも高く維持される、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の蒸発帯域における滞留時間が30分から180分である、請求項1に記載の方法。
- 前記母液が抽出帯域に送られて、含水の流れ及び有機の流れを生成する、請求項1に記載の方法。
- 前記有機の流れが蒸留塔に送られて、抽出溶媒と、酸化副生物不純物を含む廃棄スラッジの流れとが回収される、請求項14に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が8%から23%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、請求項15に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が11%から21%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、請求項15に記載の方法。
- 前記高濃縮パージスラリーの水含有量の範囲が13%から19%である場合について、前記固液分離帯域における前記高濃縮パージスラリーのろ過速度が、前記範囲外のいかなる水濃度のものよりも高い、請求項1に記載の方法。
- 溶媒が酢酸であり、8:1から約20:1の比率で水と混合されている、請求項1に記載の方法。
- 混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを11%から21%に制御するように操作される、請求項1に記載の方法。
- 混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを13%から19%に制御するように操作される、請求項1に記載の方法。
- 混合帯域において添加される水の質量が、底流高濃縮パージスラリーの流れに含まれる水のパーセントを8%から23%に制御するように操作される、請求項1に記載の方法。
- 溶媒が酢酸であり、11:1から20:1の比率で水と混合されている、請求項1に記載の方法。
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