JP5966966B2 - High heat resistance polyimide resin - Google Patents
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Description
本発明は、高耐熱性ポリイミド樹脂に関する。 The present invention relates to a high heat resistant polyimide resin.
従来、耐熱絶縁材料、特にFCCLと称されるフレキシブルプリント基板に代表される電子材料用のポリイミド系のベースフィルムとしては、ピロメリット酸とジアミノジフェニルエーテルの縮合物(商品名カプトン)に代表される耐熱温度400℃超のポリイミド樹脂が使用されてきた。しかし、この種の耐熱性の高いポリイミドは溶剤に不溶のケースが多く、実際の使用に関しては、その前駆体であるアミド酸ワニスを用い、その塗膜を例えば350℃以上の温度に加熱して、イミド化反応を行う方法が取られてきた。また、このようなアミド酸型は保存安定性が悪く、室温保管では経日的な粘度減少を伴う為、冷蔵又は冷凍保管を必要とするなど保存上の問題があった。 Conventionally, as a polyimide base film for heat-resistant insulating materials, especially electronic materials represented by flexible printed circuit boards called FCCL, heat-resistant materials represented by a condensate of pyromellitic acid and diaminodiphenyl ether (trade name Kapton) Polyimide resins with temperatures above 400 ° C. have been used. However, this type of highly heat-resistant polyimide is often insoluble in solvents, and in actual use, the precursor is amic acid varnish and the coating is heated to a temperature of 350 ° C. or higher, for example. The method of performing imidization reaction has been taken. Further, such an amic acid type has poor storage stability and is accompanied by a decrease in viscosity over time at room temperature storage, and thus has storage problems such as requiring refrigeration or freezing storage.
また、従来のアミド酸ワニスから、ポリイミド成形体を得るには、特殊な溶媒に溶解したアミド酸を高温下で、脱水イミド化反応をさせる必要があり、特殊な製造設備が必要であった。 Moreover, in order to obtain a polyimide molded body from a conventional amic acid varnish, it is necessary to subject the amic acid dissolved in a special solvent to a dehydration imidization reaction at a high temperature, which requires special production equipment.
ポリアミド酸ワニスに代えて、溶剤可溶性ポリイミド樹脂が多く提案され、例えば、フルオレン骨格を有するジアミンを構成成分とするポリイミドが開示されている(特許文献1−6)。例えば、特許文献1には、版材用樹脂として、フルオレン骨格を有するジアミンをその成分とする、有機溶媒に可溶で、250℃以上のガラス転移点を有するポリイミド樹脂が開示されている。特許文献2−5にも、特許文献1と同様にフルオレン系ジアミンを有するポリイミドの耐熱性と溶剤可溶性とに着目した用途特許が提出されている。 Many solvent-soluble polyimide resins have been proposed in place of the polyamic acid varnish. For example, a polyimide containing a diamine having a fluorene skeleton as a constituent component is disclosed (Patent Documents 1-6). For example, Patent Document 1 discloses a polyimide resin having a glass transition point of 250 ° C. or higher, which is soluble in an organic solvent, and has a diamine having a fluorene skeleton as its component, as a resin for a plate material. Patent Documents 2-5 also filed application patents focusing on the heat resistance and solvent solubility of polyimides having fluorene-based diamines as in Patent Document 1.
しかながら、これらの特許文献に記載のポリイミド樹脂であっても、従来のポリアミド酸ワニスから得られるポリイミド樹脂に比較するとガラス転移温度及び樹脂の分解温度が低い上、ポリイミド樹脂溶液の保存安定性も必ずしも満足できるものではない。このように、一般的には耐熱性と溶剤可溶性とは相反する性質であり、400℃を超えるガラス転移温度及び500℃を超える樹脂の分解温度を有し、且つ、溶剤可溶性に優れたポリイミド樹脂は知られていない。 However, even with the polyimide resins described in these patent documents, the glass transition temperature and the decomposition temperature of the resin are low compared to the polyimide resin obtained from the conventional polyamic acid varnish, and the storage stability of the polyimide resin solution is also high. It is not always satisfactory. Thus, in general, heat resistance and solvent solubility are contradictory properties, a polyimide resin having a glass transition temperature exceeding 400 ° C. and a decomposition temperature of resin exceeding 500 ° C. and excellent in solvent solubility. Is not known.
近年、自動車・航空機産業では、特殊な配電ボードの絶縁遮熱材やタービン内保護膜などの耐熱性部材を用いることが多く、成型時に400℃以上の高温処理を必要とするものや、長期間400℃という高温領域で使用されるものが増えている。また、電気炉や乾燥炉の断熱材として400℃に耐え得るものも要求されている。これらの用途において従来の溶剤可溶性ポリイミド樹脂では、ガラス転移温度及び樹脂の分解温度が必ずしも満足できるものではない。したがって、400℃を超えるガラス転移温度及び500℃を超える樹脂の分解温度を有し、且つ、溶剤可溶性に優れたポリイミド樹脂が求められていた。 In recent years, in the automobile and aircraft industries, heat-resistant members such as insulating heat shields for special distribution boards and protective films in turbines are often used. What is used in a high temperature region of 400 ° C. is increasing. Moreover, what can endure 400 degreeC is requested | required as a heat insulating material of an electric furnace or a drying furnace. In these applications, the conventional solvent-soluble polyimide resin does not always satisfy the glass transition temperature and the decomposition temperature of the resin. Therefore, a polyimide resin having a glass transition temperature exceeding 400 ° C. and a decomposition temperature of resin exceeding 500 ° C. and excellent in solvent solubility has been demanded.
本発明は、従来困難とされていた400℃を超えるガラス転移温度及び500℃を超える樹脂の分解温度を有しながら、溶剤可溶性に優れるポリイミド樹脂を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a polyimide resin that is excellent in solvent solubility while having a glass transition temperature exceeding 400 ° C. and a decomposition temperature of resin exceeding 500 ° C., which have been considered difficult in the past.
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討の結果、特定の2種のテトラカルボン酸二無水物と、特定のジアミン成分とから得られるポリイミド樹脂が、400℃を超えるガラス転移温度及び500℃を超える樹脂の分解温度を有し、かつ溶剤可溶性に優れることを見出した。さらに、2種のテトラカルボン酸二無水物のモル比を検討した結果、ある特定のモル比の範囲で、ポリイミド成形体(フィルム)として使用できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a polyimide resin obtained from two specific tetracarboxylic dianhydrides and a specific diamine component has a glass transition temperature exceeding 400 ° C and It has been found that the resin has a decomposition temperature exceeding 500 ° C. and is excellent in solvent solubility. Furthermore, as a result of examining the molar ratio of the two types of tetracarboxylic dianhydrides, it was found that it can be used as a polyimide molded body (film) within a specific molar ratio range, and the present invention has been completed.
即ち、本発明は、以下のポリイミド樹脂を提供するものである。 That is, the present invention provides the following polyimide resins.
[項1]
反応溶媒存在下、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(A)及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(B)のテトラカルボン酸二無水物と、
下記一般式(1)で表されるフルオレン骨格ジアミン(C)とを、
(A)と(B)のモル比が、(A):(B)=40:60〜80:20の範囲であり、且つ、(A)と(B)の合計モルに対して(C)が90〜110の範囲のモル比で、イミド化重合反応して得られるポリイミド樹脂。
Tetracarboxylic of 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (A) and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (B) in the presence of a reaction solvent Acid dianhydride,
Fluorene skeleton diamine (C) represented by the following general formula (1):
The molar ratio of (A) and (B) is in the range of (A) :( B) = 40: 60 to 80:20, and (C) with respect to the total moles of (A) and (B) Is a polyimide resin obtained by imidation polymerization reaction at a molar ratio in the range of 90 to 110.
[項2]
項1に記載のポリイミド樹脂及び有機溶剤を含有するポリイミドワニス。
[Section 2]
Item 5. A polyimide varnish containing the polyimide resin according to item 1 and an organic solvent.
[項3]
有機溶剤が、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン及びγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶剤である、項2に記載のポリイミドワニス。
[Section 3]
The organic solvent is at least one organic solvent selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone and γ-butyrolactone. Item 3. The polyimide varnish according to Item 2.
[項4]
絶縁材料用、耐熱塗料用、耐熱コーティング材料用、耐熱接着剤用又は耐熱バインダー用である、項2又は項3に記載のポリイミドワニス。
[Claim 4]
Item 4. The polyimide varnish according to Item 2 or Item 3, which is for an insulating material, a heat-resistant paint, a heat-resistant coating material, a heat-resistant adhesive, or a heat-resistant binder.
[項5]
項2又は項3に記載のポリイミドワニスを成形加工して得られるポリイミド成形体。
[Section 5]
Item 5. A polyimide molded body obtained by molding the polyimide varnish according to Item 2 or Item 3.
[項6]
ポリイミド成形体が、膜状、フィルム状又はシート状の形態である、項5に記載のポリイミド成形体。
[Claim 6]
Item 6. The polyimide molded body according to Item 5, wherein the polyimide molded body is in the form of a film, a film, or a sheet.
[項7]
項1に記載のポリイミド樹脂を使用した、耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材又は耐熱接着材。
[Claim 7]
A heat-resistant insulating material, heat-resistant paint, heat-resistant coating material, or heat-resistant adhesive using the polyimide resin according to Item 1.
本発明によれば、溶剤可溶性でありながら、ガラス転移温度が400℃を超え、且つ、樹脂の分解温度が500℃を超える極めて高い耐熱性を有するポリイミド樹脂が得られる。さらに、当該ポリイミド樹脂のワニスは、加熱イミド化を必要としないため、加工性に優れ、得られるポリイミド成形体は、絶縁材料、耐熱塗料、耐熱コーティング材料、耐熱接着剤、耐熱バインダー等の用途に好適に用いられる。 According to the present invention, it is possible to obtain a polyimide resin having extremely high heat resistance, which is soluble in a solvent and has a glass transition temperature exceeding 400 ° C. and a decomposition temperature of the resin exceeding 500 ° C. Furthermore, since the polyimide resin varnish does not require heating imidization, it is excellent in workability, and the resulting polyimide molded body can be used for insulating materials, heat-resistant paints, heat-resistant coating materials, heat-resistant adhesives, heat-resistant binders, etc. Preferably used.
また、当該ポリイミド樹脂は、耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材、耐熱接着材に使用できる。 In addition, the polyimide resin can be used for heat-resistant insulating materials, heat-resistant paints, heat-resistant coating materials, and heat-resistant adhesives.
[ポリイミド樹脂]
本発明のポリイミド樹脂組成物は、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(以下、(A)成分と略記する。)及び、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、(B)成分と略記する。)のテトラカルボン酸二無水物と、上記一般式(1)で表されるフルオレン骨格ジアミン(以下、(C)成分と略記する。)とを、イミド化重合反応して得られるポリイミド樹脂である。
[Polyimide resin]
The polyimide resin composition of the present invention comprises 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as component (A)) and 3,3 ′, 4,4 ′. -Tetracarboxylic dianhydride of biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as (B) component), and fluorene skeleton diamine (hereinafter referred to as (C) component) represented by the above general formula (1) Is a polyimide resin obtained by imidization polymerization reaction.
[テトラカルボン酸二無水物:(A)成分及び(B)成分]
本発明に係るポリイミド樹脂の構成成分である(A)成分及び(B)成分は、特に制限はなく市販品や従来公知の製造方法により得られるものが使用できる。
[Tetracarboxylic dianhydride: component (A) and component (B)]
The component (A) and the component (B) which are constituent components of the polyimide resin according to the present invention are not particularly limited, and commercially available products or those obtained by a conventionally known production method can be used.
(A)成分及び(B)成分のモル比は、(A):(B)=40:60〜80:20の範囲であり、好ましくは、55:45〜75:25の範囲が推奨される。この範囲で得られる本発明のポリイミド樹脂は、溶剤可溶性でありながら、ガラス転移温度且つ樹脂の分解温度が極めて高く、且つ成形体(フィルム)として使用できるポリイミド樹脂が得られる。(A)成分のモル比が、40より少ない((B)成分のモル比が60より多い)と、該ポリイミド樹脂は成形体(フィルム)として使用できず、また、(B)成分のモル比が20より少ない((A)成分のモル比が80より多い)と、ガラス転移温度が400℃より低く、且つ、樹脂の分解温度が500℃より低くなる。 The molar ratio of the component (A) and the component (B) is in the range of (A) :( B) = 40: 60 to 80:20, preferably in the range of 55:45 to 75:25. . The polyimide resin of the present invention obtained in this range can be obtained as a polyimide resin which is soluble in a solvent and has a very high glass transition temperature and resin decomposition temperature and can be used as a molded body (film). When the molar ratio of the component (A) is less than 40 (the molar ratio of the component (B) is more than 60), the polyimide resin cannot be used as a molded body (film), and the molar ratio of the component (B) Is less than 20 (the molar ratio of the component (A) is more than 80), the glass transition temperature is lower than 400 ° C and the decomposition temperature of the resin is lower than 500 ° C.
また、(A)成分又は(B)成分は、本発明の効果を妨げない範囲で、該テトラカルボン酸二無水物の一部を他のテトラカルボン酸二無水物に置き換えて使用することができる。他のテトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物又は、脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 In addition, the component (A) or the component (B) can be used by replacing a part of the tetracarboxylic dianhydride with another tetracarboxylic dianhydride as long as the effects of the present invention are not hindered. . Other tetracarboxylic dianhydrides include aromatic tetracarboxylic dianhydrides, aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, or alicyclic tetracarboxylic dianhydrides.
具体的に例示すると、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物、1,2−エチレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3−プロピレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−テトラメチレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,5−ペンタメチレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサメチレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3−フェニレンビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−フェニレンビス(アンヒドロトリメリテート)等が例示される。 Specifically, examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride. 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4 -Dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) Diphenylpropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4, 4′-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenylmethane dianhydride, 1,2-ethylenebis (anhydrotrimellitate), 1,3-propylenebis (anhydrotritriate) Meritate), 1,4-tetramethylene bis (anhydro trimellitate), 1,5-pentamethylene bis (anhydro trimellitate), , 6-hexamethylene-bis (anhydrotrimellitate), 1,3-phenylene bis (anhydrotrimellitate), 1,4-phenylene bis (anhydrotrimellitate) and the like.
また、脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が例示される。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,4,5-pentanetetracarboxylic dianhydride.
また、脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボナン−2−酢酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.1]−ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等、ビシクロ[2.2.2]−オクテン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等が例示される。 In addition, as alicyclic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbonane-2-acetic acid dianhydride 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] -heptane-2,3,5 6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, etc., bicyclo [2.2.2] -octene -2, 3, 5, 6 Tetracarboxylic dianhydride, and the like.
上記の他のテトラカルボン酸二無水物は、単独で又は2種以上を混合してイミド化重合反応に供することができる。 Said other tetracarboxylic dianhydride can be used for imidation polymerization reaction individually or in mixture of 2 or more types.
(A)成分又は(B)成分の一部を上記の他のテトラカルボン酸二無水物に置き換えて使用する場合には、その使用量は(A)成分及び(B)成分の合計モル数に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下、特に1モル%以下が推奨される。 When a part of the component (A) or the component (B) is replaced with the other tetracarboxylic dianhydride, the amount used is the total number of moles of the component (A) and the component (B). On the other hand, 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less, particularly 1 mol% or less is recommended.
本明細書及び特許請求の範囲において、テトラカルボン酸二無水物は、「テトラカルボン酸二無水物」の形態で記載しているが、それらの代わりに以下に示す各種誘導体をイミド化重合反応に供することができる。例えば、前記テトラカルボン酸二無水物の誘導体であるテトラカルボン酸、そのテトラカルボン酸の酸塩化物、そのテトラカルボン酸と炭素数1〜4の低級アルコールとエステル等が挙げられる。 In the present specification and claims, tetracarboxylic dianhydride is described in the form of “tetracarboxylic dianhydride”, but instead, various derivatives shown below are used for imidation polymerization reaction. Can be provided. For example, the tetracarboxylic acid which is a derivative of the tetracarboxylic dianhydride, the acid chloride of the tetracarboxylic acid, the tetracarboxylic acid, a lower alcohol and ester having 1 to 4 carbon atoms, and the like can be mentioned.
[フルオレン骨格ジアミン:(C)成分]
本発明に係るポリイミド樹脂の構成成分である上記一般式(1)で表される(C)成分は、特に制限はなく市販品や従来公知の製造方法により得られるものが使用できる。
[Fluorene skeleton diamine: component (C)]
There is no restriction | limiting in particular as (C) component represented by the said General formula (1) which is a structural component of the polyimide resin which concerns on this invention, The thing obtained by a commercial item or a conventionally well-known manufacturing method can be used.
一般式(1)で表される(C)成分の中で好ましいものとして、R1、及びR2は、同一又は異なって、それぞれが水素、メチル基、エチル基、フッ素又は塩素であるものが挙げられる。 Among the components (C) represented by the general formula (1), R 1 and R 2 are the same or different and each is hydrogen, methyl group, ethyl group, fluorine or chlorine. Can be mentioned.
このような(C)成分の具体例としては、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−メチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−エチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−エチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−フルオロ−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−フルオロ−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−クロロ−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)フルオレンなどが例示される。これら(C)成分は、単独で使用してもよいし2種以上適宜混合して用いてもよい。 Specific examples of such component (C) include 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (2-methyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3 -Methyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (2-ethyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-ethyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis ( 2-Fluoro-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-fluoro-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (2-chloro-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-chloro-4-aminophenyl) fluorene and the like are exemplified. These components (C) may be used alone or in combination of two or more.
上記の中でも、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−エチル−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−フルオロ−4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)フルオレンが推奨され、特に、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレンが推奨される。 Among these, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-ethyl-4-aminophenyl) fluorene 9,9-bis (3-fluoro-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-chloro-4-aminophenyl) fluorene are recommended, especially 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluorene is recommended.
また、(C)成分は、本発明の効果を妨げない範囲で、該ジアミンの一部を他のジアミンに置き換えて使用することができる。 Further, the component (C) can be used by replacing a part of the diamine with another diamine as long as the effects of the present invention are not hindered.
具体的に例示すると、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、3,4'−ジアミノジフェニルエーテル、3,3'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3'−ジアミノジフェニルスルフィド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、o−トリジン、m−トリジン、2,2'−ビス(トリフルオロメチル)−4,4'−ジアミノビフェニル、2,7−ジアミノ−3,6−ジメチル−9−チアフルオレン−9,9−ジオキシド、2,7−ジアミノ−1,6−ジメチル−9−チアフルオレン−9,9−ジオキシド等の芳香族ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノシクロヘキサン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン等の脂肪族又は脂環族ジアミンが例示される。 Specifically, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3 , 3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl Sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, bis [ -(4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, o-tolidine, m-tolidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,7-diamino -3,6-dimethyl-9-thiafluorene-9,9-dioxide, 2,7-diamino-1,6-dimethyl-9-thiafluorene-9,9-di Aromatic diamines such as xoxide, hexamethylenediamine, octamethylenediamine, decamethylenediamine, diaminocyclohexane, diaminodicyclohexylmethane, diaminodicyclohexylpropane, diaminobicyclo [2.2.1] heptane, bis (aminomethyl) -bicyclo [2 2.1] Aliphatic or alicyclic diamines such as heptane are exemplified.
これらのジアミンは、単独で又は2種以上組み合わせてイミド化重合反応に使用することもできる。 These diamines can be used alone or in combination of two or more for the imidation polymerization reaction.
(C)成分の一部を上記の他のジアミンに置き換えて使用する場合には、その使用量は(C)成分のモル数に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下、特に1モル%以下が推奨される。 When a part of the component (C) is replaced with the other diamine, the amount used is preferably 10 mol% or less, more preferably 5 mol%, relative to the number of moles of the component (C). Hereinafter, 1 mol% or less is particularly recommended.
本明細書及び特許請求の範囲において、ジアミンは、「ジアミン」の形態で記載しているが、反応性の向上の目的で且つ本発明の効果を奏する限り、それらの代わりにアミノ基の一部又は全部をイソシアネート基に変換した化合物やシリル化した化合物等を使用することができる。 In the present specification and claims, the diamine is described in the form of “diamine”. However, as long as the effect of the present invention is obtained for the purpose of improving the reactivity, a part of the amino group is used instead. Alternatively, it is possible to use a compound in which all are converted to an isocyanate group, a silylated compound, or the like.
(反応溶媒)
本発明に係るイミド化重合反応で使用される反応溶媒は、イミド化重合反応より生成するポリイミド樹脂を溶解できるものであれば何れの反応溶媒でも良い。例えば、非プロトン性溶媒、フェノール系溶媒、エーテル系溶媒、カーボネート系溶媒などが好ましい例として挙げられる。
(Reaction solvent)
The reaction solvent used in the imidation polymerization reaction according to the present invention may be any reaction solvent as long as it can dissolve the polyimide resin produced from the imidization polymerization reaction. For example, preferred examples include aprotic solvents, phenol solvents, ether solvents, carbonate solvents, and the like.
非プロトン性溶媒の具体例としては、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素などのアミド系溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトン系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ヘキサメチルホスフィントリアミドなどの含リン系アミド系溶媒、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫黄系溶媒、アセトン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ピコリン、ピリジンなどのアミン系溶媒、酢酸(2−メトキシ−1−メチルエチル)などのエステル系溶媒などが例示される。 Specific examples of the aprotic solvent include N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethylimidazolidinone, tetramethylurea and the like. Amide solvents, lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, phosphorus-containing amide solvents such as hexamethylphosphoric amide and hexamethylphosphine triamide, sulfur-containing dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, sulfolane and the like Examples thereof include a system solvent, a ketone solvent such as acetone, cyclohexane and methylcyclohexanone, an amine solvent such as picoline and pyridine, and an ester solvent such as acetic acid (2-methoxy-1-methylethyl).
フェノール系溶媒の具体例としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノールなどが例示される。 Specific examples of the phenol solvent include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4 -Xylenol, 3,5-xylenol and the like are exemplified.
エーテル系溶媒の具体例としては、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどが例示される。 Specific examples of the ether solvent include ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and the like.
また、カーボネート系溶媒の具体例としては、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどが例示される。上記の反応溶媒は単独で又は2種類以上混合して用いてもよい。 Specific examples of the carbonate solvent include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, and the like. You may use said reaction solvent individually or in mixture of 2 or more types.
これらの反応溶媒の中でも、特に、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、γ−ブチロラクトンが推奨される。 Among these reaction solvents, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, and γ-butyrolactone are particularly recommended.
反応溶媒の使用量としては、生成するポリイミド樹脂を溶解できる量であれば良い。具体的なポリイミド樹脂の濃度としては、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%となるように調整することが推奨される。 The amount of the reaction solvent used may be an amount that can dissolve the produced polyimide resin. It is recommended that the specific polyimide resin concentration be adjusted to preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, and still more preferably 10 to 30% by weight.
反応溶媒は、本発明に係るポリイミドワニスを構成する有機溶剤と同一でも異なってもよいが、溶媒置換の作業等の煩雑さを考慮すると同一であることが好ましい。 The reaction solvent may be the same as or different from the organic solvent constituting the polyimide varnish according to the present invention, but is preferably the same in consideration of the complexity of the solvent replacement operation.
(イミド化重合反応)
イミド化重合反応の方法としては、(1)反応溶媒と少量の共沸溶剤の存在下でテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを加熱し、生成水を共沸により系外に留去させる熱イミド化方法、(2)ポリイミド前駆体のポリアミド酸を製造後、無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物、又はジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド化合物の脱水作用を用いる化学イミド化方法、(3)ポリイミド前駆体のポリアミド酸を製造後、300℃以上に加熱する熱イミド化方法等が挙げられる。
(Imidation polymerization reaction)
As a method of imidation polymerization reaction, (1) heat in which tetracarboxylic dianhydride and diamine are heated in the presence of a reaction solvent and a small amount of azeotropic solvent to distill off the produced water by azeotropic distillation. Imidization method, (2) Chemical imidization method using the dehydration action of carbodiimide compounds such as acid anhydrides such as acetic anhydride and propionic anhydride, or dicyclohexylcarbodiimide after the polyamic acid of polyimide precursor is produced, (3) polyimide Examples thereof include a thermal imidization method in which the precursor polyamic acid is produced and then heated to 300 ° C. or higher.
上記ポリイミド樹脂の製造方法のうち(1)の熱イミド化方法が工業的に好ましく、例えば、反応溶媒中にテトラカルボン酸二無水物及びジアミンを全量溶解させるか、又はテトラカルボン酸二無水物及び/又はジアミンの一部を段階的に溶解後、好ましくは100〜250℃、より好ましくは150〜200℃に加熱し、共沸溶剤により系中の生成水を留去してイミド化重合反応する方法が挙げられる。 Among the methods for producing the polyimide resin, the thermal imidation method of (1) is industrially preferable. For example, the total amount of tetracarboxylic dianhydride and diamine is dissolved in the reaction solvent, or tetracarboxylic dianhydride and After dissolving a part of the diamine stepwise, it is preferably heated to 100 to 250 ° C., more preferably 150 to 200 ° C., and the generated water in the system is distilled off with an azeotropic solvent to carry out an imidation polymerization reaction. A method is mentioned.
また、テトラカルボン酸二無水物に対して、ジアミンを過剰に用いることによりポリイミド樹脂のポリマー末端をアミン末端とすることができ、一方、テトラカルボン酸二無水物をジアミンより過剰に用いることによりポリイミド樹脂のポリマー末端を酸末端とすることができる。 Moreover, the polymer terminal of a polyimide resin can be made into an amine terminal by using diamine excessively with respect to tetracarboxylic dianhydride, On the other hand, polyimide can be used by using tetracarboxylic dianhydride more excessively than diamine. The polymer ends of the resin can be acid ends.
上記の生成水を系外に留去するための共沸溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等が例示され、これらは単独で又は混合系として用いることができる。その使用量としては、反応溶媒量に対して通常1〜30重量%程度、好ましくは5〜10重量%程度である。 Examples of the azeotropic solvent for distilling the generated water out of the system include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and solvent naphtha, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane and dimethylcyclohexane. These can be used alone or as a mixed system. The amount used is usually about 1 to 30% by weight, preferably about 5 to 10% by weight, based on the amount of the reaction solvent.
反応系内は、その反応系の着色防止及び安全性の観点から、不活性ガス雰囲気下とすることが望ましい。通常、不活性ガスで反応系内を置換し、反応中は不活性ガスを流通させるおく方法が推奨される。不活性ガスとしては、窒素、アルゴンなどが例示される。 The inside of the reaction system is desirably an inert gas atmosphere from the viewpoint of preventing coloration and safety of the reaction system. Usually, a method of replacing the inside of the reaction system with an inert gas and allowing the inert gas to flow during the reaction is recommended. Examples of the inert gas include nitrogen and argon.
本発明に係るイミド化重合反応において、公知の触媒を使用することができる。しかし、後処理が煩雑になること、また、使用触媒が微量残存することによるポリイミドワニスの貯蔵安定性の悪化及びポリイミドワニスの着色などの観点から、無触媒下で該反応を行うことが好ましい。 In the imidation polymerization reaction according to the present invention, a known catalyst can be used. However, it is preferable to carry out the reaction in the absence of a catalyst from the viewpoints of complicated post-treatment, deterioration of the storage stability of the polyimide varnish due to the residual amount of catalyst used, and coloring of the polyimide varnish.
触媒を使用する場合には、例えば、塩基触媒としては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、α−ピコリン、β−ピコリン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、イミダゾール、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンなどの有機塩基触媒、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムで代表される無機塩基触媒が例示される。 When a catalyst is used, for example, pyridine, quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, trimethylamine, Organic base catalysts such as butylamine, imidazole, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, inorganic bases represented by potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate Examples are catalysts.
また、酸触媒としては、クロトン酸、アクリル酸、トランス−3−ヘキセノイック酸、桂皮酸、安息香酸、メチル安息香酸、オキシ安息香酸、テレフタル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などが例示される。 Examples of the acid catalyst include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methylbenzoic acid, oxybenzoic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and the like. Is exemplified.
イミド化重合反応の反応時間は、仕込み比率、基質濃度などにもよるが、 生成水の留出開始後、通常2〜10時間程度が好ましい。反応時間が短すぎる場合には、イミド化率が低くなる傾向が認められる。反応時間が長すぎる場合には、部分的に熱架橋反応を起こして反応系が増粘したりゲル状物が副生したり、また、反応溶媒の熱劣化により反応系が着色することがある。 The reaction time of the imidation polymerization reaction is preferably about 2 to 10 hours after the start of distilling of the produced water, although it depends on the charging ratio and the substrate concentration. When reaction time is too short, the tendency for imidation ratio to become low is recognized. If the reaction time is too long, the reaction system may partially cause a thermal crosslinking reaction to thicken the reaction system or form a gel-like material, or the reaction system may be colored due to thermal degradation of the reaction solvent. .
イミド化重合反応で得られる本発明のポリイミド樹脂の数平均分子量は、好ましくは6,000以上、且つ、重量平均分子量が10,000以上であり、より好ましくは数平均分子量が6,000〜100,000で、且つ、重量平均分子量が10,000〜500,000の範囲のものである。この範囲は、特に成形体を与えることができる程度の重合度を有している範囲である。なお、本明細書及び特許請求範囲においてポリイミド樹脂の分子量は、後術の実施例に記載した方法で測定された値である。 The number average molecular weight of the polyimide resin of the present invention obtained by imidation polymerization reaction is preferably 6,000 or more, and the weight average molecular weight is 10,000 or more, more preferably the number average molecular weight is 6,000 to 100. And a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 500,000. This range is a range having a degree of polymerization that can give a molded product. In addition, in this specification and a claim, the molecular weight of a polyimide resin is the value measured by the method described in the Example of the postoperative.
上記イミド化重合反応におけるイミド化率は、通常70%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、特に95%以上が推奨される。さらに、ポリイミド樹脂の使用用途によってはイミド化率を100%に近づけることが望ましい場合もある。 The imidation rate in the imidation polymerization reaction is usually 70% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly 95% or more. Furthermore, it may be desirable to make the imidization rate close to 100% depending on the use application of the polyimide resin.
その他に、本発明の効果を損なわない範囲において、分子量制御等を目的に、この分野で使用される公知の1官能の酸無水物やモノアミン等をエンドキャップ剤として併用することができる。該エンドキャップ剤の具体例としては、酸無水物では無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸など、モノアミンではアニリン、メチルアニリン、アリルアミンなどが例示される。 In addition, known monofunctional acid anhydrides, monoamines and the like used in this field can be used in combination as an end cap agent for the purpose of controlling the molecular weight and the like within a range not impairing the effects of the present invention. Specific examples of the end cap agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, nadic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc. for acid anhydrides, and aniline, methylaniline, allylamine, etc. for monoamines. .
[ポリイミドワニス]
本発明のポリイミドワニスは、ポリイミド樹脂と有機溶剤とを含有することを特徴とするものである。
[Polyimide varnish]
The polyimide varnish of the present invention is characterized by containing a polyimide resin and an organic solvent.
ポリイミドワニスの調製方法としては、(i)イミド化重合反応で得られたポリイミド樹脂の反応溶媒溶液をそのままポリイミドワニスとする方法、(ii)イミド化重合反応で得られたポリイミド樹脂の反応溶媒溶液からポリイミド樹脂を単離し、次いで所望の有機溶剤に単離したポリイミド樹脂を溶解させてポリイミドワニスを得る方法などが例示される。 As a method for preparing a polyimide varnish, (i) a method of using a reaction solvent solution of a polyimide resin obtained by an imidization polymerization reaction as it is as a polyimide varnish, (ii) a reaction solvent solution of a polyimide resin obtained by an imidization polymerization reaction Examples are a method of obtaining a polyimide varnish by isolating a polyimide resin from the following and then dissolving the isolated polyimide resin in a desired organic solvent.
ポリイミドワニスの粘度として所望の用途により適宜選択することができるが、好ましくは、0.1〜500Pa・s、より好ましくは1〜100Pa・sである。 Although it can select suitably as a viscosity of a polyimide varnish by a desired use, Preferably it is 0.1-500 Pa.s, More preferably, it is 1-100 Pa.s.
ポリイミドワニス中のポリイミド樹脂の濃度としては、好ましくは5〜50重量%であり、より好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは10〜30重量%となるように調整することが推奨される。 The concentration of the polyimide resin in the polyimide varnish is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, and further preferably 10 to 30% by weight.
有機溶剤は、本発明に係るポリイミド樹脂を溶解させることができる有機溶剤であれば特に限定されないが、具体的には上記の反応溶媒として例示したものが挙げられる。これらは単独で又は混合系として用いることもできる。これらのうち特に、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、γ−ブチロラクトンが推奨される。 The organic solvent is not particularly limited as long as it is an organic solvent capable of dissolving the polyimide resin according to the present invention, and specific examples include those exemplified as the reaction solvent. These can be used alone or as a mixed system. Among these, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, and γ-butyrolactone are recommended.
また、ポリイミドワニスからポリイミド樹脂の塗膜を得る際に、乾燥工程を効率よく行う目的で、有機溶剤の一部を低沸点溶剤に代えることができる。係る低沸点溶剤としては、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素や、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素、プロピレングリコールモノメチルエーテル、又はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類が例示される。これらの低沸点溶剤を使用する場合、その使用量は、全有機溶剤量に対して、好ましくは1〜30重量%、より好ましくは、5〜20重量%の範囲が推奨される。 Moreover, when obtaining the coating film of a polyimide resin from a polyimide varnish, a part of organic solvent can be replaced with a low boiling point solvent for the purpose of performing a drying process efficiently. Such low boiling point solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, solvent naphtha, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, propylene glycol monomethyl ether, or acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. The ketones are exemplified. When these low-boiling solvents are used, the amount used is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight, based on the total amount of organic solvent.
また、本発明のポリイミドワニスには、本発明の効果を妨げない範囲でその他の成分を添加しても良い。例えば、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂(本発明のポリイミド樹脂を除く。)、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂などの高分子化合物、平滑剤、レベリング剤、脱泡剤、難燃剤、消泡剤、酸化防止剤などが例示される。 Moreover, you may add another component to the polyimide varnish of this invention in the range which does not inhibit the effect of this invention. For example, polyester resin, polyimide resin (excluding the polyimide resin of the present invention), polymer compound such as polyamideimide resin, polyamide resin, smoothing agent, leveling agent, defoaming agent, flame retardant, antifoaming agent, antioxidant Etc. are exemplified.
かくして得られるポリイミドワニスは、絶縁材料用、耐熱塗料用、耐熱コーティング材料用、耐熱接着剤用、又は耐熱バインダー用の用途に使用される。 The polyimide varnish thus obtained is used for insulating materials, heat-resistant paints, heat-resistant coating materials, heat-resistant adhesives, or heat-resistant binders.
[ポリイミド成形体]
本発明のポリイミド成形体は、本ポリイミドワニスを成形加工して得られるものである。成形加工する方法としては、特に制限なく従来公知の方法が使用できる。例えば、該ポリイミドワニスを、基板に塗布した後(膜状、フィルム状又はシート状に塗布若しくは成形した後)、該ポリイミドワニスから有機溶媒を除去して、膜状、フィルム状又はシート状のポリイミド成形体に成形する方法などが例示される。
[Polyimide molded product]
The polyimide molded body of the present invention is obtained by molding the polyimide varnish. As a method for molding, a conventionally known method can be used without any particular limitation. For example, after the polyimide varnish is applied to a substrate (after being applied or formed into a film, film, or sheet), the organic solvent is removed from the polyimide varnish to form a film, film, or sheet polyimide. The method etc. which shape | mold into a molded object are illustrated.
ポリイミド成形体を製造する例としては、ガラス基板上にポリイミドワニスをキャストし、真空乾燥機内(減圧度1〜10mmHg)で、室温から230〜280℃まで1〜4時間で昇温し、その温度で2〜5時間乾燥し溶剤を完全に留去し、室温まで冷却後、真空乾燥機から取出すことでポリイミドフィルムを得ることができる。このように得られたポリイミドフィルムの厚みは、キャスト時の塗工厚みを調整することで目的の厚さに調整する方法が挙げられる。 As an example of producing a polyimide molded body, a polyimide varnish is cast on a glass substrate, and the temperature is raised from room temperature to 230 to 280 ° C. in 1 to 4 hours in a vacuum dryer (decompression degree 1 to 10 mmHg). Then, the solvent is completely distilled off, and after cooling to room temperature, the polyimide film can be obtained by taking out from the vacuum dryer. A method of adjusting the thickness of the polyimide film thus obtained to a target thickness by adjusting the coating thickness at the time of casting can be mentioned.
本発明のポリイミド樹脂の耐熱性は、ガラス転移温度及び樹脂の分解温度で評価することができる。 本発明のポリイミド樹脂のガラス転移温度は、400℃以上であり、また、樹脂の分解温度は、500℃以上である。ガラス転移温度及び樹脂の分解温度は、本明細書及び特許請求の範囲において、後述の実施例に記載した方法にて得られる値である。 The heat resistance of the polyimide resin of the present invention can be evaluated by the glass transition temperature and the decomposition temperature of the resin. The glass transition temperature of the polyimide resin of the present invention is 400 ° C. or higher, and the decomposition temperature of the resin is 500 ° C. or higher. The glass transition temperature and the decomposition temperature of the resin are values obtained by the methods described in Examples described later in the present specification and claims.
[耐熱絶縁材/耐熱塗料/耐熱コーティング材/耐熱接着材]
本発明の耐熱絶縁材、耐熱塗料、耐熱コーティング材又は耐熱接着材は本発明のポリイミド樹脂を使用したものである。 その製造方法は、従来公知の製造方法を用いることができる。何れも、該ポリイミド樹脂が、高い耐熱性を有することから、好適に使用される。
[Heat-resistant insulation / heat-resistant paint / heat-resistant coating material / heat-resistant adhesive]
The heat-resistant insulating material, heat-resistant coating material, heat-resistant coating material or heat-resistant adhesive material of the present invention uses the polyimide resin of the present invention. As the manufacturing method, a conventionally known manufacturing method can be used. In any case, the polyimide resin is preferably used because it has high heat resistance.
以下に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。尚、実施例及び比較例中の各特性の測定方法、化合物の略称は以下の通りである。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measuring method of each characteristic in an Example and a comparative example and the abbreviation of a compound are as follows.
<化合物の略号>
以下の実施例に使用する略称は次の通りである。
DSDA : 3,3’,4,4’―ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物
BPDA : 3,3’,4,4’―ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物
FDA : 9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン
NMP : N−メチル−2−ピロリドン
<Abbreviation of compound>
Abbreviations used in the following examples are as follows.
DSDA: 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride BPDA: 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride FDA: 9,9-bis (4-amino) Phenyl) fluorene NMP: N-methyl-2-pyrrolidone
<ポリイミド樹脂の数平均分子量と重量平均分子量>
ポリイミド樹脂の反応溶液(ポリイミドワニス)約1gをN,N−ジメチルホルムアミド約30mlで希釈して、分子量測定用の試料溶液を調製する。ゲルパーミエーションクロマトクラフィー(GPC)を用いて下記の測定条件でポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を求めた。
[測定条件]
装置:東ソー株式会社製 EcoSEC HLC−8320GPC
カラム:東ソー株式会社製 SuperH−Hを1本とSuperHM−Mを3本直列に連結
カラム温度:40℃
溶離液:(5.15mmol/L−臭化リチウム+5.10mmol/L−リン酸)/N,N−ジメチルホルムアミド
流速:0.5mL/min
検出器:RI
<Number average molecular weight and weight average molecular weight of polyimide resin>
About 1 g of a polyimide resin reaction solution (polyimide varnish) is diluted with about 30 ml of N, N-dimethylformamide to prepare a sample solution for molecular weight measurement. The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene were determined under the following measurement conditions using gel permeation chromatography (GPC).
[Measurement condition]
Device: EcoSEC HLC-8320GPC manufactured by Tosoh Corporation
Column: manufactured by Tosoh Corporation One SuperH-H and three SuperHM-Ms connected in series Column temperature: 40 ° C
Eluent: (5.15 mmol / L-lithium bromide + 5.10 mmol / L-phosphoric acid) / N, N-dimethylformamide Flow rate: 0.5 mL / min
Detector: RI
<ポリイミドワニスの樹脂濃度>
ポリイミドワニスの樹脂濃度(重量%)は、次の方法に従って求めた。ポリイミドワニス10mgを精秤し(小数点以下第2位まで)、TG−DTA装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 装置名;EXSTAR6000、TG−DTA6200)にセットし、下記の測定条件下で、350℃における重量を測定した。得られた測定値を用いて、下記の計算式(1)に従って算出した。
測定条件;
昇温速度:5℃/分
流通窒素量:100ml/分
測定開始温度:30℃
(計算式)
反応溶液中のポリイミド樹脂の濃度 =(W1/W0)×100 (1)
W1:350℃における測定サンプルの重量(g)
W0:測定開始前の測定サンプルの重量(g)
<Polyimide varnish resin concentration>
The resin concentration (% by weight) of the polyimide varnish was determined according to the following method. 10 mg of polyimide varnish is precisely weighed (to the second decimal place) and set in a TG-DTA device (device name manufactured by SII Nanotechnology; EXSTAR6000, TG-DTA6200) at 350 ° C. under the following measurement conditions. The weight was measured. It calculated according to the following formula (1) using the obtained measured value.
Measurement condition;
Temperature increase rate: 5 ° C / min Flowing nitrogen amount: 100ml / min Measurement start temperature: 30 ° C
(a formula)
Concentration of polyimide resin in reaction solution = (W 1 / W 0 ) × 100 (1)
W 1 : Weight of measurement sample at 350 ° C. (g)
W 0 : Weight of measurement sample before measurement (g)
<溶剤可溶性の評価>
溶剤可溶性は、5重量%のポリイミド樹脂のNMP溶液を調整し、24時間室温で放置した後の状態を目視で観察して評価した。その評価の基準は次のとおりである。該基準では、○が溶剤可溶性に優れる。×が溶剤可溶性に劣るとの評価になる。その評価の基準は、次のとおりである。
○:24時間放置した後も、析出物の発生も反応溶液のゲル化も全く認められなかった。
×:24時間以内に、析出物の発生または反応溶液のゲル化が明らかに認められた。
<Evaluation of solvent solubility>
Solvent solubility was evaluated by visually observing the state after preparing an NMP solution of 5 wt% polyimide resin and leaving it at room temperature for 24 hours. The criteria for the evaluation are as follows. On the basis of this criterion, ◯ is excellent in solvent solubility. It becomes evaluation that x is inferior to solvent solubility. The criteria for the evaluation are as follows.
○: Neither generation of precipitate nor gelation of the reaction solution was observed even after standing for 24 hours.
X: Generation of precipitates or gelation of the reaction solution was clearly observed within 24 hours.
<ガラス転移温度>
ポリイミド成形体(フィルム、厚さ40μm)を裁断して、Tg測定用の試料を得た。この測定試料についてエスアイアイ・ナノテクノロジー社製の示差熱走査熱量(DSC6220)を使用し、毎分10℃の昇温速度で昇温した時の変曲点をガラス転移温度とした。
<Glass transition temperature>
A polyimide molded body (film, thickness 40 μm) was cut to obtain a sample for Tg measurement. A differential thermal scanning calorific value (DSC 6220) manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. was used for this measurement sample, and the inflection point when the temperature was raised at a heating rate of 10 ° C. per minute was defined as the glass transition temperature.
<分解温度>
ポリイミド成形体(フィルム、厚さ40μm)を裁断して、約10mgを精秤し(小数点以下第2位まで)、TG−DTA装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 装置名;EXSTAR6000、TG−DTA6200)にセットし、下記の測定条件下で、初期の重量から5%減少した重量を分解温度として測定した。
[測定条件]
昇温速度:10℃/分
流通窒素量:200ml/分
測定開始温度:50℃
<Decomposition temperature>
A polyimide molded body (film, thickness 40 μm) is cut, and about 10 mg is precisely weighed (to the second decimal place), TG-DTA device (product name manufactured by SII Nanotechnology Inc .; EXSTAR6000, TG-DTA6200) ), And the weight decreased by 5% from the initial weight was measured as the decomposition temperature under the following measurement conditions.
[Measurement condition]
Temperature rising rate: 10 ° C / min Flowing nitrogen amount: 200ml / min Measurement start temperature: 50 ° C
<機械特性(弾性率、強度、伸び)>
ポリイミド成形体(フィルム)の弾性率、強さ及び破断伸びは、万能材料試験機5565(インストロン社製)を用い、JISK7161(1994年)に準じて測定した。まず厚さ40μm、幅10mmの試験片を長さ50mmとなるように固定し、25℃、RH60%の条件下、10mm/分の速度で試験片を引き伸ばして測定した。
<Mechanical properties (elastic modulus, strength, elongation)>
The elastic modulus, strength and elongation at break of the polyimide molded body (film) were measured according to JISK7161 (1994) using a universal material testing machine 5565 (manufactured by Instron). First, a test piece having a thickness of 40 μm and a width of 10 mm was fixed to have a length of 50 mm, and the test piece was stretched at a speed of 10 mm / min under the conditions of 25 ° C. and RH 60%.
(実施例1)
温度計、撹拌機、窒素導入管、分液デカンタ及び、冷却管を備えた200mLの4つ口フラスコにDSDA(A成分)10.78g(30.09mmol)、BPDA(B成分)3.79g(12.88mmol)、FDA(C成分)14.98g(42.99mmol)、反応溶媒としてNMP100.8g、共沸溶剤としてキシレン11.2gを仕込み、反応系内を窒素置換した後、窒素気流下、180℃で攪拌し、生成水を系外に除去しながら5時間脱水イミド化重合反応を行った。反応終了後、樹脂濃度が20重量%になるようにNMPを追加し、本発明のポリイミド樹脂のNMP溶液(本発明のポリイミドワニス)を得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量、及び溶剤可溶性の測定結果を表1に示す。
Example 1
DSDA (component A) 10.78 g (30.09 mmol), BPDA (component B) 3.79 g (into a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, separator decanter, and condenser tube ( 12.88 mmol), FDA (C component) 14.98 g (42.999 mmol), NMP 100.8 g as a reaction solvent, 11.2 g of xylene as an azeotropic solvent, and the inside of the reaction system was purged with nitrogen, The mixture was stirred at 180 ° C., and a dehydration imidation polymerization reaction was performed for 5 hours while removing generated water out of the system. After completion of the reaction, NMP was added so that the resin concentration was 20% by weight to obtain an NMP solution of the polyimide resin of the present invention (polyimide varnish of the present invention). Table 1 shows the average molecular weight of the obtained polyimide resin and the solvent solubility measurement results.
得られたポリイミドワニスを、所定の溶媒留去後所定の厚さ(40μm)となるよう適宜テープシールの巻き数でギャップを調整したガラス棒を用いてガラス板上に流延した。次いで、窒素気流下、300℃、1時間、常圧で熱風乾燥した。室温まで冷却し、ガラス板から剥離して、ポリイミド成形体(フィルム、40μm)を得た。当該ポリイミド成形体を用いて、ガラス転移温度分解温度及び機械特性を測定した。結果を表1に示した。 The obtained polyimide varnish was cast on a glass plate using a glass rod with a gap adjusted appropriately by the number of windings of the tape seal so that a predetermined thickness (40 μm) was obtained after the predetermined solvent was distilled off. Subsequently, it was dried with hot air at 300 ° C. for 1 hour under normal pressure under a nitrogen stream. It cooled to room temperature and peeled from the glass plate, and the polyimide molded body (film, 40 micrometers) was obtained. Using the polyimide molded body, the glass transition temperature decomposition temperature and mechanical properties were measured. The results are shown in Table 1.
(実施例2)
DSDA(A成分)7.85g(21.91mmol)、BPDA(B成分)6.45g(21.92mmol)、FDA(C成分)15.27g(43.82mmol)の比率を変更した以外は、実施例1と同様の方法で本発明のポリイミドワニス及びポリイミド成形体を得た。平均分子量、溶剤可溶性、樹脂濃度、ガラス転移温度、分解温度及び機械特性の測定結果を表1に示す。
(Example 2)
Except for changing the ratio of DSDA (component A) 7.85 g (21.91 mmol), BPDA (component B) 6.45 g (21.92 mmol), FDA (component C) 15.27 g (43.82 mmol) A polyimide varnish and a polyimide molded body of the present invention were obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the measurement results of average molecular weight, solvent solubility, resin concentration, glass transition temperature, decomposition temperature, and mechanical properties.
(比較例1)
DSDA(A成分)13.59g(37.93mmol)、BPDA(B成分)1.24g(4.21mmol)、FDA(C成分)14.69g(42.16mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、ポリイミドワニス及びポリイミド成形体を得た。平均分子量、溶剤可溶性、樹脂濃度、ガラス転移温度、分解温度及び機械特性の測定結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
Example 1 except that DSDA (component A) was changed to 13.59 g (37.93 mmol), BPDA (component B) 1.24 g (4.21 mmol), and FDA (component C) 14.69 g (42.16 mmol). In the same manner as above, a polyimide varnish and a polyimide molded body were obtained. Table 1 shows the measurement results of average molecular weight, solvent solubility, resin concentration, glass transition temperature, decomposition temperature, and mechanical properties.
(比較例2)
DSDA(A成分)1.20g(3.35mmol)、BPDA(B成分)2.30g(7.82mmol)、FDA(C成分)3.90g(11.19mmol)反応溶媒としてNMP119.7g、共沸溶剤としてキシレン13.3gを仕込み、反応系内を窒素置換した後、窒素気流下、180℃で攪拌し、生成水を系外に除去しながら20時間脱水イミド化重合反応を行った。反応終了後、樹脂濃度が5重量%になるようにNMPを追加し、ポリイミドワニスを得た。得られたポリイミド樹脂の平均分子量、及び溶剤可溶性の測定結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
DSDA (component A) 1.20 g (3.35 mmol), BPDA (component B) 2.30 g (7.82 mmol), FDA (component C) 3.90 g (11.19 mmol) NMP 119.7 g as a reaction solvent, azeotropic After charging 13.3 g of xylene as a solvent and substituting the inside of the reaction system with nitrogen, the mixture was stirred at 180 ° C. under a nitrogen stream, and a dehydration imidation polymerization reaction was performed for 20 hours while removing generated water out of the system. After completion of the reaction, NMP was added so that the resin concentration was 5% by weight to obtain a polyimide varnish. Table 1 shows the average molecular weight of the obtained polyimide resin and the solvent solubility measurement results.
得られたポリイミドワニスを、所定の溶媒留去後所定の厚さとなるよう適宜テープシールの巻き数でギャップを調整したガラス棒を用いてガラス板上に流延した。次いで、窒素気流下、300℃、1時間、常圧で熱風乾燥した後、室温まで冷却した。得られたポリイミド成形体(フィルム)は非常に脆く、機械特性は測定できなかったが、ガラス転移温度及び分解温度を測定した。結果を表1に示した。 The obtained polyimide varnish was cast on a glass plate using a glass rod whose gap was appropriately adjusted with the number of windings of the tape seal so that a predetermined thickness was obtained after the predetermined solvent was distilled off. Subsequently, it was dried with hot air at 300 ° C. for 1 hour under normal pressure under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature. The obtained polyimide molded body (film) was very brittle and the mechanical properties could not be measured, but the glass transition temperature and the decomposition temperature were measured. The results are shown in Table 1.
(比較例3)
DSDA(A成分)14.96g(41.76mmol)、FDA(C成分)14.55g(41.76mmol)に変更した以外は、実施例1と同様の方法でポリイミドワニス及びポリイミド成形体を得た。平均分子量、溶剤可溶性、樹脂濃度、ガラス転移温度、分解温度及び機械特性の測定結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
A polyimide varnish and a polyimide molded body were obtained in the same manner as in Example 1 except that DSDA (component A) was changed to 14.96 g (41.76 mmol) and FDA (component C) was 14.55 g (41.76 mmol). . Table 1 shows the measurement results of average molecular weight, solvent solubility, resin concentration, glass transition temperature, decomposition temperature, and mechanical properties.
(比較例4)
DSDA(A成分)に代えて、BPDA(B成分)3.40g(11.56mmol)、FDA(C成分)を4.02g(11.54mmol)に変更した以外は、比較例2と同様の方法でイミド化反応を行ったところ、反応系がゲル化したため、溶剤可溶性のポリイミド樹脂組成物を得ることが出来なかった。
(Comparative Example 4)
In place of DSDA (component A), BPDA (component B) 3.40 g (11.56 mmol), FDA (component C) was changed to 4.02 g (11.54 mmol), and the same method as in Comparative Example 2 When the imidization reaction was performed, the reaction system gelled, and thus a solvent-soluble polyimide resin composition could not be obtained.
表1から、比較例1及び比較例3では、ガラス転移温度が400℃以下、分解温度が500℃以下と低いことがわかる。比較例2では、ガラス転移温度及び分解温度は満たすものの、ポリイミド成形体(フィルム)が脆く、成形体(フィルム)として使用できない。また、比較例4では、溶剤溶解性が不十分であることがわかる。 From Table 1, it can be seen that in Comparative Example 1 and Comparative Example 3, the glass transition temperature is as low as 400 ° C. or lower and the decomposition temperature is as low as 500 ° C. or lower. In Comparative Example 2, the glass transition temperature and the decomposition temperature are satisfied, but the polyimide molded body (film) is brittle and cannot be used as a molded body (film). Moreover, in the comparative example 4, it turns out that solvent solubility is inadequate.
本発明のポリイミド樹脂は、表1から溶剤可溶性を有するポリイミド樹脂であり、ガラス転移温度400℃以上かつ分解温度500℃以上という優れた物性を有し、成形体(フィルム)としても使用できることが明らかである。 It is clear from Table 1 that the polyimide resin of the present invention is a polyimide resin having solvent solubility, has excellent physical properties of a glass transition temperature of 400 ° C. or higher and a decomposition temperature of 500 ° C. or higher, and can be used as a molded body (film). It is.
本発明により、ガラス転移温度が400℃以上、樹脂の分解温度が500℃以上と極めて高く、かつ溶剤可溶性、保存安定性に優れたポリイミドワニスが得られ、高温での加熱イミド化工程を必要とせず、塗布乾燥のみで高耐熱性の絶縁膜、耐熱性塗膜、耐熱性コーティング等を行える。 According to the present invention, a polyimide varnish having an extremely high glass transition temperature of 400 ° C. or higher and a resin decomposition temperature of 500 ° C. or higher, solvent solubility and excellent storage stability can be obtained, and a heating imidization step at a high temperature is required. In addition, a highly heat-resistant insulating film, heat-resistant coating film, heat-resistant coating and the like can be performed only by coating and drying.
Claims (7)
下記一般式(1)で表されるフルオレン骨格ジアミン(C)とを、
(A)と(B)のモル比が、(A):(B)=40:60〜80:20の範囲であり、且つ、(A)と(B)の合計モルに対して(C)が90〜110の範囲のモル比で、イミド化重合反応して得られるポリイミド樹脂。
Fluorene skeleton diamine (C) represented by the following general formula (1):
The molar ratio of (A) and (B) is in the range of (A) :( B) = 40: 60 to 80:20, and (C) with respect to the total moles of (A) and (B) Is a polyimide resin obtained by imidation polymerization reaction at a molar ratio in the range of 90 to 110.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013030745A JP5966966B2 (en) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | High heat resistance polyimide resin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013030745A JP5966966B2 (en) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | High heat resistance polyimide resin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014159519A JP2014159519A (en) | 2014-09-04 |
JP5966966B2 true JP5966966B2 (en) | 2016-08-10 |
Family
ID=51611450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013030745A Expired - Fee Related JP5966966B2 (en) | 2013-02-20 | 2013-02-20 | High heat resistance polyimide resin |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5966966B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021155496A (en) * | 2020-03-25 | 2021-10-07 | ユニチカ株式会社 | Method for producing soluble polyimide |
JP2022042819A (en) | 2020-09-03 | 2022-03-15 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | Particle-dispersed polyimide precursor solution, method for producing porous polyimide film, and porous polyimide film |
-
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- 2013-02-20 JP JP2013030745A patent/JP5966966B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014159519A (en) | 2014-09-04 |
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