JP5959764B2 - 親水性単層膜 - Google Patents

Description

本発明は、親水性の単層膜に関する。

近年、プラスチックなどの有機材料、及びガラスなどの無機材料から形成される基材の曇り、汚れに対する改善要求が高まってきている。
曇りの問題を解決する方法として、反応性界面活性剤、アクリル系オリゴマーを含む防曇塗料により、親水性、吸水性を向上する方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。また、汚れの問題を解決する手段として、材料表面の親水性を向上させることによって、外壁等に付着した外気疎水性物質などの汚れを散水又は降雨により浮き上がらせて除去する方法が提案されている（例えば、非特許文献２及び３参照。）。

また、基材の表面に架橋重合性モノマー組成物を塗布し紫外線照射量をコントロールして不完全に重合した架橋ポリマーを形成させ、次いで親水性モノマーを塗布し再び紫外線を照射する事により親水モノマーを架橋ポリマーの表面にブロック又はグラフト重合させる親水性材料が提案されている（特許文献１および特許文献２）。

しかしながら、上記の単純な基材表面に親水性モノマーをブロック又はグラフト重合させる方法は、親水性基が表面にしか存在しないため、耐久性が低く長期間の使用に耐えない問題を抱えていた。

さらにアニオン性親水基を有する化合物とエタノールアミン類などを用いる親水性材料（特許文献５）、および中和されていないアニオン性親水基を有する化合物と無機コロイドゾルなどを用いる親水性材料（特許文献６）が提案されている。しかしながら、エタノールアミンを用いる方法はエタノールアミン自身が膜内部に残存する事により表面がべたついたり、親水化されにくいなどの問題があり、中和されていないアニオン性親水基を有する化合物を用いる方法は親水性化されにくく透明性も低下し易いなどの問題を有していた。

本発明者らは、上記問題を解決する手段として、特定のアニオン性親水基が膜内部から膜表面へ傾斜（偏析）し、表面付近にアニオン性親水基が高濃度で存在する単層膜を先に提案している（特許文献３および特許文献４）。

これらの方法によれば、親水性と透明性に優れた膜が得られるが、例えば極めて高い透明性が要求される光学用途などの部材に応用する場面に於いては、さらなる透明性が求められる場合があった。

特開２００１−９８００７号公報 特開２０１１−２２９７３４号公報 国際公開第２００７／０６４００３号公報 国際公開第２０１２／０１４８２９号公報 特開昭５５−９０５１６号公報 特開２００５−１８７５７６号公報

東亜合成研究年報、ＴＲＥＮＤ１９９９年 ２月号、３９〜４４頁 高分子，４４（５），３０７頁 未来材料，２（１），３６−４１頁

本発明は、親水基が表面に偏析した架橋樹脂からなる親水性と透明性に優れた単層膜、および親水性、防曇性、防汚性などに優れた該単層膜を有する材料を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく検討を進めた結果、アニオン性親水基と重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物（Ｉ）、および
３つ以上の水酸基と２つ以上、好ましくは３つ以上の重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物（ＩＩ）を含む組成物を重合することにより、親水基が表面に偏析し、且つ従来よりも高い透明性を有する親水性の単層膜が得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、アニオン性親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも１つの官能基とを有する化合物（Ｉ）、および
水酸基を３つ以上と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上、好ましくは３つ以上とを有する化合物（ＩＩ）（ただし、アニオン性親水基は有さない。）
を含む組成物を重合することにより得られる架橋樹脂からなる単層膜であり、該単層膜のアニオン性親水基の表面濃度（Ｓａ）と該単層膜膜厚１／２地点における該親水基の深部濃度（Ｄａ）の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上である単層膜であることを特徴とする。

上記化合物（Ｉ）としては、後述する一般式（１００）で表される化合物が好ましい。その一般式（１００）中のＡとしては、後述する一般式（１２１）〜（１２５）から選ばれる少なくとも１つの重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基が好ましい。

上記化合物（ＩＩ）としては、後述する一般式（２００）で表される化合物が好ましい。
本発明の積層体は、上記単層膜を少なくとも１層有することを特徴とする。

本発明で用いる組成物を重合することにより、親水基が表面に偏析した架橋樹脂からなる単層膜が得られ、該単層膜は親水性と透明性に優れ、防曇性、防汚性などに優れた材料として用いることができる。

図１は実施例において、アニオン濃度の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を測定するための試料調製の方法を示す略図である。

本発明の単層膜の製造に用いる組成物には、下記化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）を含むことを特徴とする。
［化合物（Ｉ）］
上記化合物（Ｉ）は、アニオン性親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する。このようなアニオン性親水基と炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物が含まれる組成物を重合することにより、得られる架橋性樹脂からなる単層膜に親水性が付与され得る。

上記アニオン性親水基としては、例えば、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、Ｏ−硫酸基（−Ｏ−ＳＯ₃ ^-）、およびＮ−硫酸基（−ＮＨ−ＳＯ₃ ^-）などが挙げられる。これらアニオン性親水基の中でも、スルホン酸基、カルボキシル基、およびリン酸基が好ましく、スルホン酸基がより好ましい。

化合物（Ｉ）は、アニオン性親水基を少なくとも１つ有する。そのアニオン性親水基は、アニオンに水素イオンが結合した酸の形態であってもよいし、アニオンに、水素イオン以外のカウンターカチオンが結合した塩の形態であってもよい。

したがって、典型的には、スルホン酸基は下記式（α）、カルボキシル基は下記式（β）、リン酸基は、下記式（γ１）または（γ２）、Ｏ−硫酸基（は下記式（δ）、Ｎ−硫酸基は下記式（ε）の形で化合物（Ｉ）に含まれていればよい。
−ＳＯ₃Ｚ （α） −ＣＯＯＺ（β） −ＯＰ＝Ｏ（ＯＺ）₂（γ１） （−Ｏ）₂Ｐ＝Ｏ（ＯＺ）₁（γ２）
−Ｏ−ＳＯ₃Ｚ（δ） −ＮＨ−ＳＯ₃Ｚ（ε）

上記式（α）〜（ε）中、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、及び１／２原子のアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも１つの１価カチオンである。なお、本発明でいうアンモニウムイオンとは、アンモニア、１級アミン、２級アミン又は３級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。

上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。

上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。
上記アルカリ土類金属としては、例えば、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどが挙げられる。

これらアニオン性親水基の中では、塩の形態（水素イオン以外のカウンターカチオンが結合した形態）の方が、得られる単層膜が親水化され易く、より好ましい傾向にある。
アニオン性親水基が上記式（α）〜（ε）で表される場合には、Ｚとしては、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、１／２原子のアルカリ土類金属イオンであることが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンがさらに好ましい。

なお、アニオン性基がスルホン酸基、Ｏ−硫酸基、Ｎ−硫酸基以外の場合、典型的にはカルボキシル基、リン酸基の場合には、塩の形態でないと親水化され難い場合もある。
化合物（Ｉ）は、さらに重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を少なくとも１つ有する。その重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基としては、その官能基がラジカル重合またはイオン重合可能であれば特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、メタリル基、ビニル基、イソプロペニル基、マレイル基（−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−）、イタコニル基（−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−）、スチリル基、およびα−メチル−スチリル基及びこれら基を含む基が挙げられる。

上記アクリロイル基としては、アクリロイルオキシ基、アクリロイルチオ基、およびアクリルアミド基等が挙げられる。上記メタクリロイル基としては、メタクリロイルオキシ基、メタクリロイルチオ基、およびメタクリルアミド基等が挙げられる。

以下、アクリロイルとメタクリロイルとを総称して（メタ）アクリロイル、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシとを総称して（メタ）アクリロイルオキシ、アクリロイルチオとメタクリロイルチオとを総称して（メタ）アクリロイルチオ、アクリルアミドとメタクリルアミドとを総称して（メタ）アクリルアミド、アリル基とメタリル基を総称して（メタ）アリル基と称することもある。
上記化合物（Ｉ）としては、下記一般式（１００）で表される化合物が好ましい。

上記式（１００）中、Ａは重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を１〜５個有する炭素数２〜１００の有機基を表し、ＣＤは、下記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの親水基を含む基を表し、ｎ₁₂はＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、ｎ₁₅はＡに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。なお、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基は上述した基を意味する。

上記式（１０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

上記式（１０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

上記式（１０３）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

上記式（１０４）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、アンモニウムイオン、およびアミンイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

上記式（１０５）中、ｒ₅およびｒ₆は、独立して水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｎ₀₅は０〜５の整数を表し、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ₃−を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

上記式（１０６）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ₃−を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。

なお、上記一般式（１０１）〜（１０６）中、アンモニウムイオン、アルカリ金属、アルカリ土類金属の定義、具体例、および好ましい態様は、上記式（α）〜（ε）の場合と同様である。

上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基の中でも、一般式（１０１）〜（１０４）で表される基が好ましく、一般式（１０１）で表される基がより好ましい。
上記一般式（１００）中のＡとしては、下記一般式（１２１）〜（１２５）から選ばれる少なくとも１つの重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基が好ましい。

上記式（１２１）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。

上記式（１２２）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₅は０〜５の整数を表し、ｎ₁₅は１〜５の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。

上記式（１２３）中、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、＃２は上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。

上記式（１２４）中、ｒ₁は、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、＃２は上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。

上記式（１２５）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ₃−を表し、ｒおよびｒ０は、独立して、水素原子またはメチル基を表し、ｒ₅およびｒ₆は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、Ｒ₁₀は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基、ヒドロキシメチル、またはヒドロキシエチルを表し、ｎ₀₁は０または１を表し、ｎ₀₁₀は１〜１０の整数を表す。＃２は上記一般式（１０１）〜（１０６）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。

アニオン性親水基を有する上記化合物（Ｉ）としては、下記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｂ）および（Ｉｈ）〜（Ｉｊ）で表される化合物がより好ましい。

上記式（Ｉａ）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は1〜１０の整数を表す。

上記式（Ｉａ）中、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表すが、これらの中でも、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましい。

上記一般式（Ｉａ）で表される化合物としては、例えば、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸リチウム、ビニルスルホン酸ナトリウム、ビニルスルホン酸カリウム、ビニルスルホン酸ルビジウム、ビニルスルホン酸アンモニウム、ビニルスルホン酸マグネシウム、ビニルスルホン酸カルシウム、イソプロペニルスルホン酸、イソプロペニルスルホン酸リチウム、イソプロペニルスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルスルホン酸カリウム、イソプロペニルスルホン酸ルビジウム、イソプロペニルスルホン酸アンモニウム、イソプロペニルスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルスルホン酸カルシウム、（メタ）アリルスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸リチウム、（メタ）アリルスルホン酸ナトリウム、（メタ）アリルスルホン酸カリウム、（メタ）アリルスルホン酸ルビジウム、（メタ）アリルスルホン酸アンモニウム、（メタ）アリルスルホン酸マグネシウム、（メタ）アリルスルホン酸カルシウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸リチウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸ナトリウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸カリウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸ルビジウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸アンモニウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸マグネシウム、５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸カルシウム、などが挙げられる。

上記式（Ｉｂ）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数、ｍ２は０〜５の整数を表し、ｎ０は１〜５の整数を表し、ｎ１は1〜１０の整数を表す。

上記式（Ｉｂ）中、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表すが、これらの中でも、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましい。

上記一般式（Ｉｂ）で表される化合物としては、例えば、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸リチウム、スチレンスルホン酸ナトリウム、スチレンスルホン酸カリウム、スチレンスルホン酸ルビジウム、スチレンスルホン酸アンモニウム、スチレンスルホン酸マグネシウム、スチレンスルホン酸カルシウム、α−メチル−スチレンスルホン酸、α−メチル−スチレンスルホン酸リチウム、α−メチル−スチレンスルホン酸ナトリウム、α−メチル−スチレンスルホン酸カリウム、α−メチル−スチレンスルホン酸ルビジウム、α−メチル−スチレンスルホン酸アンモニウム、α−メチル−スチレンスルホン酸マグネシウム、α−メチル−スチレンスルホン酸カルシウム、アリルベンゼンスルホン酸、アリルベンゼンスルホン酸リチウム、アリルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アリルベンゼンスルホン酸カリウム、アリルベンゼンスルホン酸ルビジウム、アリルベンゼンスルホン酸アンモニウム、アリルベンゼンスルホン酸マグネシウム、アリルベンゼンスルホン酸カルシウム、メタリルベンゼンスルホン酸、メタリルベンゼンスルホン酸リチウム、メタリルベンゼンスルホン酸ナトリウム、メタリルベンゼンスルホン酸カリウム、メタリルベンゼンスルホン酸ルビジウム、メタリルベンゼンスルホン酸アンモニウム、メタリルベンゼンスルホン酸マグネシウム、メタリルベンゼンスルホン酸カルシウム、ビニルナフタレンスルホン酸、ビニルナフタレンスルホン酸リチウム、ビニルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ビニルナフタレンスルホン酸カリウム、ビニルナフタレンスルホン酸ルビジウム、ビニルナフタレンスルホン酸アンモニウム、ビニルナフタレンスルホン酸マグネシウム、ビニルナフタレンスルホン酸カルシウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸、イソプロペニルナフタレンスルホン酸リチウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸カリウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸ルビジウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸アンモニウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルナフタレンスルホン酸カルシウム、アリルナフタレンスルホン酸、アリルナフタレンスルホン酸リチウム、アリルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アリルナフタレンスルホン酸カリウム、アリルナフタレンスルホン酸ルビジウム、アリルナフタレンスルホン酸アンモニウム、アリルナフタレンスルホン酸マグネシウム、アリルナフタレンスルホン酸カルシウム、メタリルナフタレンスルホン酸、メタリルナフタレンスルホン酸リチウム、メタリルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メタリルナフタレンスルホン酸カリウム、メタリルナフタレンスルホン酸ルビジウム、メタリルナフタレンスルホン酸アンモニウム、メタリルナフタレンスルホン酸マグネシウム、メタリルナフタレンスルホン酸カルシウム、ビニルアントラセンスルホン酸、ビニルアントラセンスルホン酸リチウム、ビニルアントラセンスルホン酸ナトリウム、ビニルアントラセンスルホン酸カリウム、ビニルアントラセンスルホン酸ルビジウム、ビニルアントラセンスルホン酸アンモニウム、ビニルアントラセンスルホン酸マグネシウム、ビニルアントラセンスルホン酸カルシウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸、イソプロペニルアントラセンスルホン酸リチウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸カリウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸ルビジウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸アンモニウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルアントラセンスルホン酸カルシウム、アリルアントラセンスルホン酸、アリルアントラセンスルホン酸リチウム、アリルアントラセンスルホン酸ナトリウム、アリルアントラセンスルホン酸カリウム、アリルアントラセンスルホン酸ルビジウム、アリルアントラセンスルホン酸アンモニウム、アリルアントラセンスルホン酸マグネシウム、アリルアントラセンスルホン酸カルシウム、メタリルアントラセンスルホン酸、メタリルアントラセンスルホン酸リチウム、メタリルアントラセンスルホン酸ナトリウム、メタリルアントラセンスルホン酸カリウム、メタリルアントラセンスルホン酸ルビジウム、メタリルアントラセンスルホン酸アンモニウム、メタリルアントラセンスルホン酸マグネシウム、メタリルアントラセンスルホン酸カルシウム、ビニルフェナントレンスルホン酸、ビニルフェナントレンスルホン酸リチウム、ビニルフェナントレンスルホン酸ナトリウム、ビニルフェナントレンスルホン酸カリウム、ビニルフェナントレンスルホン酸ルビジウム、ビニルフェナントレンスルホン酸アンモニウム、ビニルフェナントレンスルホン酸マグネシウム、ビニルフェナントレンスルホン酸カルシウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸リチウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸カリウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸ルビジウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸アンモニウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸カルシウム、アリルフェナントレンスルホン酸、アリルフェナントレンスルホン酸リチウム、アリルフェナントレンスルホン酸ナトリウム、アリルフェナントレンスルホン酸カリウム、アリルフェナントレンスルホン酸ルビジウム、アリルフェナントレンスルホン酸アンモニウム、アリルフェナントレンスルホン酸マグネシウム、アリルフェナントレンスルホン酸カルシウム、メタリルフェナントレンスルホン酸、メタリルフェナントレンスルホン酸リチウム、メタリルフェナントレンスルホン酸ナトリウム、メタリルフェナントレンスルホン酸カリウム、メタリルフェナントレンスルホン酸ルビジウム、メタリルフェナントレンスルホン酸アンモニウム、メタリルフェナントレンスルホン酸マグネシウム、メタリルフェナントレンスルホン酸カルシウム、スチレンジスルホン酸、スチレンジスルホン酸ジリチウム、スチレンジスルホン酸ジナトリウム、スチレンジスルホン酸ジカリウム、スチレンジスルホン酸ジルビジウム、スチレンジスルホン酸ジアンモニウム、スチレンジスルホン酸マグネシウム、スチレンジスルホン酸カルシウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸リチウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸カリウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸ルビジウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸アンモニウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルベンゼンジスルホン酸カルシウム、ビニルナフタレントリスルホン酸、ビニルナフタレントリスルホン酸トリリチウム、ビニルナフタレントリスルホン酸トリナトリウム、ビニルナフタレントリスルホン酸トリカリウム、ビニルナフタレントリスルホン酸トリルビジウム、ビニルナフタレントリスルホン酸トリアンモニウム、ビニルナフタレントリスルホン酸マグネシウム、ビニルナフタレントリスルホン酸カルシウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸ジリチウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸ジナトリウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸ジカリウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸ジルビジウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸ジアンモニウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸マグネシウム、イソプロペニルナフタレントリスルホン酸カルシウムなどが挙げられる。

上記式（Ｉｈ）中、Ｍ₁およびＭ₂は、独立して、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表すが、これらの中でも、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましい。

上記一般式（Ｉｈ）で表される化合物としては、例えば、マレイン酸、マレイン酸リチウム、マレイン酸ジリチウム、マレイン酸ナトリウム、マレイン酸ジナトリウム、マレイン酸カリウム、マレイン酸ジカリウム、マレイン酸アンミニウム、マレイン酸ジアンミニウム、マレイン酸マクネシウム、マレイン酸カルシウムなどが挙げられる。

上記式（Ｉｉ）中、Ｍ₁およびＭ₂は、独立して、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表すが、これらの中でも、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましい。

上記一般式（Ｉｉ）で表される化合物としては、例えば、イタコン酸、イタコン酸リチウム、イタコン酸ジリチウム、イタコン酸ナトリウム、イタコン酸ジナトリウム、イタコン酸カリウム、イタコン酸ジカリウム、イタコン酸アンミニウム、イタコン酸ジアンミニウム、イタコン酸マクネシウム、イタコン酸カルシウムなどが挙げられる。

上記式（Ｉｊ）中、ｒは、独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ₁₀は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基、ヒドロキシメチル、またはヒドロキシエチルを表す。

上記式（Ｉｊ）中、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表すが、これらの中でも、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましい。

上記一般式（Ｉｊ）で表される化合物としては、例えば、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸ナトリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸カリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸ルビジウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸アンモニウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸カルシウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酢酸マグネシウム塩、
２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸ナトリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸カリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸ルビジウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸アンモニウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸カルシウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝プロピオン酸マグネシウム塩、
２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸ナトリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸カリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸ルビジウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸アンモニウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸カルシウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝酪酸マグネシウム塩、
２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸ナトリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸カリウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸ルビジウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸アンモニウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸カルシウム塩、２，２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシエチル｝吉草酸マグネシウム塩などが挙げられる。

なお、上記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｂ）および（Ｉｈ）〜（Ｉｊ）中、アンモニウムイオン、アルカリ金属、アルカリ土類金属の定義、具体例、および好ましい態様は、上記式（α）〜（ε）の場合と同様である。

上記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｂ）および（Ｉｈ）〜（Ｉｊ）で表される化合物の中でも、一般式（Ｉａ）〜（Ｉｄ）で表される化合物が好ましく、一般式（Ｉａ）〜（Ｉｂ）で表される化合物がより好ましい。

上記化合物（Ｉ）の分子量は、通常７２〜１８,０００、好ましくは７２〜３，０００、より好ましくは７２〜１，０００である。

上記化合物（Ｉ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
なお、本発明で単層膜を製造するために用いる組成物には上記化合物（Ｉ）が含まれるが、上記化合物（Ｉ）の少なくとも一部が反応してオリゴマーの形になって上記組成物に含まれていてもよい。なお、ここでいうオリゴマーとは上記化合物（Ｉ）から形成される繰り返し単位を通常２〜２０含むものである。
上記化合物（Ｉ）は公知の方法又は公知に準ずる方法により製造できる。また、上記化合物（Ｉ）は市販品としても入手できる。

［化合物（ＩＩ）］
上記化合物（ＩＩ）は、水酸基を３つ以上と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上、好ましくは３つ以上とを有する。ただし、化合物（ＩＩ）はアニオン性親水基を有さず、化合物（Ｉ）とは異なる。このような化合物が含まれた組成物を重合することにより、十分に架橋した架橋樹脂からなる単層膜が得られ得る。重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基としては、化合物（Ｉ）に含まれる重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基として例示した基が挙げられる。重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、(メタ)アリル基、スチリル基、イソプロペニル基が好ましく、(メタ)アクリロイル基、 (メタ)アリル基、スチリル基がより好ましく、(メタ)アクリロイル基がさらに好ましい。

上記（メタ）アクリロイル基としては、化合物（Ｉ）の項で述べたように、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、および（メタ）アクリルアミド基等が挙げられるが、これらの中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基および（メタ）アクリロイルチオ基が好ましい。

上記化合物（ＩＩ）としては、下記一般式（２００）で表される化合物が好ましい。

上記式（２００）中、Ｍｃは下記一般式（２０１）〜（２０９）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基を表し、式（２００）で表される化合物（ＩＩ）の主骨格となる部分である。

上記式（２００）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ₃−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁〜ｒ₄は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₃₀は０〜３０の整数、ｎ₂₂₀は２〜２０の整数、好ましくは３〜２０の整数を表す。

上記式（２０１）中、ｍ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、Ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｒ₅およびＲ₆は、独立して、水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍ₁₁₀が２以上の場合は、Ｒ₅同士およびＲ₆同士は同一でも異なっていてもよく、ｍ₁₁₀が２以上の場合＃３同士は同一でも異なっていてもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。上記Ｒ₅およびＲ₆としては、Ｒ₅が−Ｏ−＃３または−ＣＨ₂Ｏ−＃３を表し、Ｒ₆が水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表すことが好ましい。

上記式（２０２）中、ｍ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、Ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｒ₅およびＲ₆は、独立して、水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍ₁₁₀が２以上の場合は、Ｒ₅同士およびＲ₆同士は同一でも異なっていてもよく、ｍ₁₁₀が２以上の場合＃３同士は同一でも異なっていてもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。上記Ｒ₅およびＲ₆としては、Ｒ₅が−Ｏ−＃３または−ＣＨ₂Ｏ−＃３を表し、Ｒ₆が水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表すことが好ましい。

上記式（２０３）中、ｍ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｒ₅およびＲ₆は、独立して、水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍ₁₁₀が２以上の場合は、Ｒ₅同士およびＲ₆同士は同一でも異なっていてもよく、ｍ₁₁₀が２以上の場合＃３同士は同一でも異なっていてもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。上記Ｒ₅およびＲ₆としては、Ｒ₅が−Ｏ−＃３または−ＣＨ₂Ｏ−＃３を表し、Ｒ₆が水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表すことが好ましい。

上記式（２０４）中、ｎ₀₃は０〜３の整数を表し、ｎ₀₅は０〜５の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｘ₃およびＸ₄は、独立して、−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（−Ｏ−＃３）−、または−ＣＯ−を表し、ｎ₀₃が２以上の場合、Ｘ₃同士は同一でも異なっていてもよく、ｎ₀₅が２以上の場合、Ｘ₄同士は同一でも異なっていてもよく、上記式（２０４）中のシクロアルキルエーテル環に含まれる炭素−炭素結合の一部は炭素−炭素二重結合であってもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記式（２０５）中、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記式（２０６）中、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記式（２０７）中、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記式（２０８）中、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記式（２０９）中、Ｒ₁₀は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基、ヒドロキシメチル基、またはヒドロキシエチル基を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。

上記化合物（ＩＩ）としては、下記一般式（ＩＩｂ）〜（ＩＩｌ）で表される化合物が好ましい。

上記式（ＩＩｂ）中、Ｒ₁、Ｒ₂、およびＲ₃は、独立して水素原子またはメチル基を表す。
上記式（ＩＩｂ）中、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、ｍ₀₁₀＋ｎ₁₁₀＝１〜１０を満足する。ｍ₀₁₀としては、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。ｎ₁₁₀としては、１〜６の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましい。
上記式（ＩＩｂ）中、Ｎ₁₂は１または２を表すが、Ｎ₁₂としては、１が好ましい。

上記一般式（ＩＩｂ）で表される化合物としては、例えば、
エリスリトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、エリスリトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
キシリトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、キシリトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、キシリトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
アラビトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、アラビトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、アラビトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
リビトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、リビトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、リビトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ガラクチトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ガラクチトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ガラクチトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ガラクチトール−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
マニトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マニトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マニトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マニトール−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ソルビトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ソルビトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ソルビトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ソルビトール−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｃ）中、Ｒ₁、Ｒ₂、およびＲ₃は、独立して水素原子またはメチル基を表す。
上記式（ＩＩｃ）中、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、ｍ₀₁₀＋ｎ₁₁₀＝１〜１０を満足する。ｍ₀₁₀としては、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。ｎ₁₁₀としては、１〜６の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましい。
上記式（ＩＩｃ）中、Ｎ₁₂は１または２を表すが、Ｎ₁₂としては、１が好ましい。

上記一般式（ＩＩｃ）で表される化合物としては、例えば、グリセリン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
トレオン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、トレオン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
グルコン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコン酸−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコン酸−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
グルコヘプタン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコヘプタン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコヘプタン酸−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコヘプタン酸−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、グルコヘプタン酸−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｄ）中、ｍ₀₉は０〜９の整数を表し、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、ｍ₀₉＋ｍ₀₁₀＋ｎ₁₁₀＝１〜１０、且つｍ₀₁₀＋ｎ₁₁₀＝１〜１０を満足する。ｎ₀₁₀としては、１〜６の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましい。ｍ₀₉としては、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。ｍ₀₁₀としては、０〜６の整数が好ましく、０〜４の整数がより好ましい。ｎ₁₁₀はとしては、１〜６の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましい。

上記式（ＩＩｄ）中、Ｎ₁₂は１または２を表すが、Ｎ₁₂としては、１が好ましい。
上記式（ＩＩｄ）中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、およびＲ₄は、独立して水素原子またはメチル基を表すが、ｍ₀₉が２以上の場合にはＲ₄同士は同一でも異なっていてもよい。

上記一般式（ＩＩｄ）で表される化合物としては、例えば、リンゴ酸−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
酒石酸−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、酒石酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
テトラヒドロキシアジピン酸−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、テトラヒドロキシアジピン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、テトラヒドロキシアジピン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、テトラヒドロキシアジピン酸−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｅ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４とが結合する。
上記式（ＩＩｅ）中、ｍ₁₃は１〜３の整数を表し、ｍ₂₈は２〜８の整数、好ましくは３〜８の整数を表し、ｍ₀₆は０〜６の整数を表すが、ｍ₁₃が１の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₆＝４であり、ｍ₁₃が２の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₆＝６であり、ｍ₁₃が３の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₆＝８である。ｍ₁₃としては、１〜２の整数が好ましく、１がより好ましい。

上記一般式（ＩＩｅ）で表される化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ペンタエリスリトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ジペンタエリスリトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ジペンタエリスリトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ジペンタエリスリトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
トリペンタエリスリトール−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリペンタエリスリトール−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリペンタエリスリトール−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリペンタエリスリトール−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリペンタエリスリトール−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリペンタエリスリトール−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｆ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４とが結合する。
上記式（ＩＩｆ）中、ｍ₁₃は１〜３の整数を表し、ｍ₂₅は２〜５、好ましくは３〜５の整数を表し、ｍ₀₃は０〜３の整数を表すが、ｍ₁₃が１の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₃＝３であり、ｍ₁₃が２の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₃＝４であり、ｍ₁₃が３の場合はｍ₂₈＋ｍ₀₃＝５である。ｍ₁₃としては、１〜２の整数が好ましく、１がより好ましい。

上記一般式（ＩＩｆ）で表される化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ジトリメチロールプロパン−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
トリトリメチロールプロパン−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリトリメチロールプロパン−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トリトリメチロールプロパン−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｇ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。
上記式（ＩＩｇ）中、Ｘ₃およびＸ₄は、独立して、−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（−Ｏ−３＃）−、または−ＣＯ−を表し、ｎ₁₃が２以上の場合、Ｘ₄同士は同一でも異なっていてもよい。

上記式（ＩＩｇ）中、ｍ₂₆は２〜６の整数、好ましくは３〜６の整数を表し、ｍ₀₄は０〜４の整数を表し、ｎ₀₁は０または１の整数を表し、ｎ₁₃は１〜３の整数を表し、ｍ₀₄＋ｍ₂₆＝３＋（Ｘ₄が−ＣＨ（−Ｏ−３＃）である数）を満足する。

上記式（ＩＩｇ）中のシクロアルキルエーテル環に含まれる炭素−炭素結合の一部は炭素−炭素二重結合であってもよい。
上記一般式（ＩＩｇ）で表される化合物としては、例えば、リボース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、リボース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
アスコルビン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、アスコルビン酸−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
キシロース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、キシロース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ソルビタン−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ソルビタン−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
グルコース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、グルコース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、グルコース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
ガラクトース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ガラクトース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ガラクトース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
マンノース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マンノース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マンノース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
（グルコノ−１，５−ラクトン）−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、（グルコノ−１，５−ラクトン）−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、（グルコノ−１，５−ラクトン）−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｈ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。
上記式（ＩＩｅ）中、ｍ₂₈は２〜８の整数、好ましくは３〜８の整数を表し、ｍ₀₆は０〜６の整数を表し、ｍ₂₈＋ｍ₀₆＝８を満足する。
上記一般式（ＩＩｈ）で表される化合物としては、例えば、ショ糖（別名：スクロース）−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ショ糖−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ショ糖−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ショ糖−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ショ糖−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ショ糖−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｉ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。
上記式（ＩＩｉ）中、ｍ₂₈は２〜８の整数、好ましくは３〜８の整数を表し、ｍ₀₆は０〜６の整数を表し、ｍ₂₈＋ｍ₀₆＝８を満足する。
上記一般式（ＩＩｉ）で表される化合物としては、例えば、パラチノース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、パラチノース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、パラチノース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、パラチノース−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、パラチノース−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、パラチノース−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｊ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。
上記式（ＩＩｊ）中、ｍ₂₈は２〜８の整数、好ましくは３〜８の整数を表し、ｍ₀₆は０〜６の整数を表し、ｍ₂₈＋ｍ₀₆＝８を満足する。
上記一般式（ＩＩｊ）で表される化合物としては、例えば、ラクトース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ラクトース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ラクトース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ラクトース−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ラクトース−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、ラクトース−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
マルトース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マルトース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マルトース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マルトース−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マルトース−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、マルトース−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、
トレハロース−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トレハロース−テトラ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トレハロース−ペンタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トレハロース−ヘキサ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トレハロース−ヘプタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル、トレハロース−オクタ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｋ）中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。
上記式（ＩＩｋ）中、ｍ₂₄は２〜４の整数、好ましくは３〜４の整数を表し、ｍ₀₂は０〜２の整数、好ましくは０または１を表し、ｍ₂₄＋ｍ₀₂＝４を満足する。
上記一般式（ＩＩｋ）で表される化合物としては、例えば、クエン酸−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、クエン酸−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−トリ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル等が挙げられる。

上記式（ＩＩｌ）中、Ｒ₁₀は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基、ヒドロキシメチル、またはヒドロキシエチルを表し、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を表し、＃３および＃４は結合手を表し、＃３と＃４が結合する。

上記式（ＩＩｌ）中、ｍ₂₃は２〜３の整数を表し、ｍ₀₁は０または１の整数を表し、ｍ₂₃＋ｍ₀₁＝３を満足する。上記ｍ₂₃およびｍ₀₁としては、ｍ₂₃が３を表し、ｍ₀₁が０を表すことが好ましい。
上記一般式（ＩＩｌ）で表される化合物としては、例えば、ジメチロール酢酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
ジメチロールプロピオン酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル、
ジメチロール酪酸−ジ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エーテル−モノ｛３−(メタ)アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル｝エステル等が挙げられる。

上記一般式（ＩＩｂ）〜（ＩＩｌ）で表される化合物の中でも、一般式（ＩＩｂ）〜（ＩＩｆ）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩｂ）および（ＩＩｅ）で表される化合物がより好ましい。

上記化合物（ＩＩ）の分子量は、通常１００〜３０,０００、好ましくは２００〜１０，０００、より好ましくは３００〜５，０００である。
上記化合物（ＩＩ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。

なお、本発明で単層膜を製造するために用いる組成物には上記化合物（ＩＩ）が含まれるが、上記化合物（ＩＩ）の少なくとも一部が反応してオリゴマーの形になって上記組成物に含まれていてもよい。なお、ここでいうオリゴマーとは上記化合物（ＩＩ）から形成される繰り返し単位を通常２〜２０含むものである。

上記化合物（ＩＩ）は公知の方法又は公知に準ずる方法により製造できる。また、上記化合物（ＩＩ）は市販品としても入手できる。
本発明に於いて、従来の架橋重合性化合物（例えば、ＷＯ２００７／０６４００３号公報，ＷＯ２０１２／０１４８２９号公報などに記載の架橋重合性化合物）に対して、親水性化合物（Ｉ）の表面へ偏析（傾斜化）を阻害せず溶解性を高められる特定構造の高極性の架橋重合性化合物（ＩＩ）を見出すことにより、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）とを含む組成物を重合して得られた架橋樹脂からなる単層膜について、親水性を維持しつつ透明性を飛躍的に向上させることが可能となった。

例えば、従来の技術では親水性と高い透明性を両立させる事が非常に困難であった親水性化合物（Ｉ）： 一般式（１０１）と一般式（１２１）で表される化合物、一般式（１０１）と一般式（１２２）で表される化合物、一般式（１０２）と一般式（１２１）で表される化合物、一般式（１０２）と一般式（１２２）で表される化合物、一般式（１０３）と一般式（１２１）で表される化合物、一般式（１０３）と一般式（１２２）で表される化合物を用いる場合に於いて、高い効果が得られるようになった。それらの中でも、一般式（１０１）と一般式（１２１）で表される化合物、および一般式（１０１）と一般式（１２２）で表される化合物を用いる場合においては、より顕著な効果が得られるようになった。

［その他の成分］
本発明で単層膜を製造するために用いる組成物には、必要に応じて、上記化合物(Ｉ)および化合物(ＩＩ)以外のその他の成分が含まれていてもよい。

その他の成分としては、例えば、シリカ粒子（Ｖ）が挙げられる。上記組成物中にシリカ粒子（Ｖ）が含まれることにより、レベリング性を向上させたり、つや消し効果（光沢制御）を付与したりすることができる。

上記組成物中、上記シリカ粒子（Ｖ）は、通常０．００００１〜５０重量％の範囲、好ましくは０．０００１〜３０重量％の範囲、より好ましくは０．００１〜２０重量％の範囲で含まれる。

上記組成物中には、上記シリカ粒子（ＶＩ）以外にも、その他の成分として、例えば、重合開始剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）、溶剤、触媒、赤外線吸収剤、ラジカル捕捉剤、内部離型剤、酸化防止剤、重合禁止剤、色素、バインダー、界面活性剤、分散剤、レベリング剤等の添加剤が含まれていてもよい。

上記組成物から本発明の単層膜を製造する際には、その組成物を重合させるが、放射線、例えば、紫外線により重合させる場合には、光重合開始剤を混合物に添加する。また、熱により重合させる場合には、熱重合開始剤を添加する。

光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、および光アニオン重合開始剤等が挙げられるが、これら光重合開始剤の中でも、光ラジカル重合開始剤が好ましい。

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー１２７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー６５１（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イルガキュアー５００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー２９５９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー３６９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１３００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー８１９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアーＴＰＯ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー４２６５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアーＯＸＥ０１（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアーＯＸＥ０２（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製））、エサキュアーＫＴ５５（ランベルティー社製）、エサキュアーＯＮＥ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１５０（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１００Ｆ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴ３７（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴＯ４６（ランベルティー社製）、エサキュアー１００１Ｍ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ／ＥＭ（ランベルティー社製）、エサキュアーＤＰ２５０（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＢ１（ランベルティー社製）、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。

これら光重合開始剤の中でも、イルガキュアー１２７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー５００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー８１９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアーＴＰＯ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、エサキュアーＯＮＥ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１００Ｆ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴ３７（ランベルティー社製）およびエサキュアーＫＴＯ４６（ランベルティー社製）などが好ましい。

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー２５０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー７８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、エサキュアー１０６４（ランベルティー社製）、ＣＹＲＡＵＲＥ ＵＶＩ６９９０（ユニオンカーバイト日本社製）、アデカオプトマーＳＰ−１７２（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１７０（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０（旭電化社製）等が挙げられる。

上記熱重合開始剤としては、例えば、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類；
イソブチリルパーオキサイド、ｏ−クロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類；
トリス（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン、ｔ−ヌチルクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類；
２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール類；
α−クミルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、２，４，４−トリメチルペンニルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート等のアルキルパーエステル類；
ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジエチレングリコールビス（ｔ−ブチルパーオキシカーボネート）等のパーカボネート類等が挙げられる。

上記光重合開始剤および熱重合開始剤の使用量は、化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に対して、好ましくは０．１〜２０重量％の範囲、より好ましくは０．５〜１０重量％の範囲、さらに好ましくは１〜５重量％の範囲である。

上記光重合開始剤を使用する場合には、光重合促進剤を併用してもよい。光重合促進剤としては、例えば、２，２−ビス（２−クロロフェニル）−４，５'−テトラフェニル−２'Ｈ−＜１，２'＞ビイミダゾルイル、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン、４，４'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等が挙げられる。

本発明の単層膜を、例えば防汚材料または防曇材料として使用し、長期間外部に曝されても変質しないようにするためには、本発明で単層膜を製造するために用いる組成物に、さらに紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤を添加した耐候処方の組成物とすることが望ましい。

上記紫外線吸収剤は特に限定はされず、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、プロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤、オキサニリド系紫外線吸収剤等の種々の紫外線吸収剤を用いることができる。

上記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル-１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−メチル-１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（３−オン−４−オキサ−ドデシル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４−（３−オン−４−オキサ−ドデシル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４−メチル-６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル６−ｎ−ドデシルフェノール、メチル-３−｛３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル｝プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；２−（４−フェノキシ−２−ヒドロキシ−フェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘキサデシロキシ）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘプタデシロキシ）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチロキシ−フェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、商品名チヌビン４００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４０５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４６０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４７９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）等のトリアジン系紫外線吸収剤；２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系紫外線吸収剤；プロパンジオック酸−｛（４−メトキシフェニル）−メチレン｝−ジメチルエステル、商品名ホスタビンＰＲ−２５（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＢ−ＣＡＰ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等のプロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤；２−エチル−２'−エトキシ−オキサニリド、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ ＶＳＵ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等のオキサニリド系紫外線吸収剤等が挙げられる。これら紫外線吸収剤の中でもトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい傾向にある。

上記ヒンダードアミン系光安定剤（Ｈｉｎｄｅｒｅｄ Ａｍｉｎ Ｌｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ：略称ＨＡＬＳ）は、通常、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン骨格を有する化合物の総称であり、分子量により、低分子量ＨＡＬＳ、中分子量ＨＡＬＳ、高分子量ＨＡＬＳ及び反応型ＨＡＬＳに大別される。ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、商品名チヌビン１１１ＦＤＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、ビス（１−オクチロキシ−２，２，６，６−テトラメチル-４−ピペリジル）セバケート（商品名チヌビン１２３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名チヌビン１４４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン２９２（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン７６５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン７７０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、Ｎ，Ｎ'−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル-４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、コハク酸ジメチル-１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ６２２ＬＤ（チバ・スペシャリ・ティー・ケミカルズ株式会社製））、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチル-ブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチルラウリル−４−ピペリジル）イミノ｝］（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５０ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５２ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５８ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５１ Ｐｏｗｄｅｒ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０７０ Ｐｏｗｄｅｒ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ＶＰ Ｓａｎｄｕｖｏｒ ＰＲ−３１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ２０（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ２４（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ３０（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ３２１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＰＲ−３１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビン８４５（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ナイロスタッブＳ−ＥＥＤ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等が挙げられる。

上記紫外線吸収剤およびヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、特に限定はされないが、化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に対して、紫外線吸収剤は、通常０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％であり、ヒンダードアミン系光安定剤は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％、より好ましくは１〜３重量％の範囲である。紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲内である場合には、本発明で単層膜を製造するために用いる組成物から得られる単層膜の耐候性改良効果が大きくなる。紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲未満である場合には、得られる親水性の架橋樹脂、例えば単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。一方、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲を超える場合には、上記組成物の重合が不十分な場合がある。

化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）を含む本発明の単層膜を製造するために用いる組成物には、単層膜作製時の作業性などを考慮すると、溶剤が含まれていてもよい。
上記溶剤としては、表面が親水性の架橋樹脂が得られる限り特に制限はないが、本発明で用いる単量体組成物に含まれる構成成分に対して反応したり、該構成成分と塩を形成したりするなど相互作用の強すぎる溶剤、および沸点が高すぎる溶剤、例えば沸点が２００℃を超える溶剤は好ましくない。例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−エチル−エタノールアミン、Ｎ−（２−エチルヘキシル）エタノールアミン、Ｎ−ブチル−ジエタノールアミン、Ｎ−ヘキシル−ジエタノールアミン、Ｎ−ラウリル−ジエタノールアミン、Ｎ−セチル−ジエタノールアミンなどのヒドロキシエチルアミノ構造を有するエタノールアミン系化合物〔ＮＲａＲｂ（ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）： ＲａおよびＲｂは独立して、水素、炭素数１〜１５のアルキル基、またはＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ基である。〕は、化合物（Ｉ）に含まれる親水基と相互作用、例えばスルホン酸基に代表されるアニオン性親水基とは塩または塩に近い形を形成しやすく、また蒸発しにくいため、塗布した混合物から溶剤を除去しようとしても、外気に接する表面へ移動しにくく内部に残留する傾向にある。したがって、化合物（Ｉ）に含まれる親水基が、塗布物の外気に接する表面への傾斜（集中化）起こりにくい傾向にある。そのため、上記エタノールアミン系化合物は溶剤としては望ましくない。

本発明においては上述のような溶剤を除き、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の溶解性などを考慮して、適切な溶媒を使用できる。しかもその溶媒として、従来の組成物で使用の溶媒と比較して、より多くの種類の溶媒が使用できる。例えば、従来の組成物の一例（ＷＯ２００７／０６４００３号公報，ＷＯ２０１２／０１４８２９号公報など）において、その組成物に比較的多くの溶剤を含む状態（低固形分）で使用する場合、低極性の溶剤のみを大量に使用すると、親水性化合物（本願化合物(Ｉ)に相当）または架橋重合性化合物（本願化合物(ＩＩ)に相当）が分離して、均一な溶液（組成物）が作製できない場合があり、均一でない溶液をそのまま基材に塗布すると、透明性が低く不均一な塗布物（例えば、塗膜）しか得られず、例えば、透明性がある程度必要とされる用途などでは使用できない場合があった。

一方、本発明では、水酸基を３つ以上と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上とを有する特定の化合物(ＩＩ)を組成物中に含ませることにより、組成物中での化合物（Ｉ）の溶解性が向上し、比較的極性の低い溶剤でも使用可能となり、また溶剤の使用量をより少なくすることも可能となった。

上記溶剤の溶解パラメーター（ＳＰ値）σ（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2としては、８．４（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上が好ましく、９．０（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上がより好ましく、９．３（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上がさらに好ましく、９．５（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上がよりさらに好ましい。

好適な溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、１−ブタノール、イソブタノール、１−ペンタノール（１−アミルアルコール）、イソペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、シクロヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノール（メトキシプロパノール）、２−メトキシ−１−プロパノール、２−メトキシ−１−エタノール（メトキシエタノール）、２−イソプロポキシ−１−エタノール、アセトニトリル、および水等が挙げられる。

これら溶剤の中でも、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール（１−アミルアルコール）などの、ＳＰ値で９．０（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上の１級アルコール、および１−メトキシ−２−プロパノール（メトキシプロパノール）、２−メトキシ−１−エタノール（メトキシエタノール）、２−イソプロポキシ−１−エタノール等のＳＰ値で９．０（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上のアルコキシアルコールがより好ましい。

ここでいう溶解パラメーター（ＳＰ値）は以下に示す簡易計算法によって容易に計算することができる。
溶解パラメーターσの計算式
１）１ｍｏｌ当たりの蒸発潜熱
Ｈｂ＝２１×（２７３＋Ｔｂ） （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ），Ｔｂ：沸点（℃）
２）２５℃での１ｍｏｌ当たりの蒸発潜熱
Ｈ２５＝Ｈｂ×｛１＋０．１７５×（Ｔｂ−２５）／１００｝ （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ），Ｔｂ：沸点（℃）
３）分子間結合エネルギー Ｅ＝Ｈ２５−５９６ （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ）
４）溶剤１ｍｌ（ｃｍ³）当たりの分子間結合エネルギー
Ｅ１＝Ｅ×Ｄ／Ｍｗ （単位：ｃａｌ／ｃｍ³），Ｄ：密度（ｇ／ｃｍ³），ＭＷ：分子量
５）溶解パラメーター（ＳＰ値） σ＝（Ｅ１）^1/2 （単位：（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2）
本発明の組成物に含まれる溶剤の量は、本発明により得られる親水性架橋樹脂、例えば単層膜の物性、経済性等を考慮して適宜決定できる。

溶剤の使用量は、上記組成物に含有される固形分（化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）、ならびに必要に応じて含まれるシリカ（ＩＶ）および上記添加剤の合計量）の濃度（固形分／（固形分＋溶剤）×１００）で、通常１重量％以上、好ましくは１０〜９０重量％、より好ましくは２０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％の範囲である。

上記組成物には、必要に応じて、上記添加剤以外の添加剤を添加してもよい。例えば、界面活性剤を添加することにより、親水基が表面に偏在（傾斜化）した親水性架橋樹脂が得られるようになるため、これらの架橋樹脂からなる高い親水性と透明性を有する単層膜およびその単層膜が積層された高親水性の積層体が従来よりも容易に幅広い材料で得られるようになる。

例えば、得られる親水性架橋樹脂の機械的強度および熱的強度を向上したり、光応答性および殺菌性等を付与する目的等で、本発明の組成物中に酸化チタン、その他の金属および金属酸化物等を添加することもでき、得られる親水性架橋樹脂の屈折率を高くする目的等で、硫黄原子を有する化合物を添加することもでき、殺菌性、抗菌性を付与する目的等で、銀、リチウム等の金属塩、ヨウ素及びヨードニウム塩等を上記組成物に添加することができる。これら添加剤の添加量は、その目的に応じて適宜設定できるが、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の合計に対して、通常０．０１〜２００重量％の範囲、好ましくは０．１〜１００重量％の範囲である。

本発明の組成物が上記溶剤を含む場合には、基材等に組成物を塗布後、後述する重合を行う前に、加熱等により溶剤を充分除去することが好ましい。上記組成物からの溶剤の除去が不十分な場合、化合物（Ｉ）に由来する親水基（アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも一つの親水基）が、塗布物の外気に接する表面への移動がより少なくなるため、得られる親水性架橋樹脂の親水性等がより小さくなる傾向にある。また、塗布物の外気に接する表面に上記親水基が移動した場合であっても、上記組成物中に溶媒が残存すると、外気に接する表面に存在する大気（疎水性）との反発する相互作用が働き、塗布物の内部へその親水基がより移動しやすくなる傾向にある。そのため、得られる親水性架橋樹脂、例えば単層膜の親水基の外気に接する表面への傾斜が不十分になる場合があり、また親水性が低下する場合があり、さらに基材との密着性も低下する傾向にある。したがって、上記組成物中の重合直前の残存溶剤はより少ない方が好ましい傾向にあり、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下である。

溶剤除去の際の温度は適時決められるが、通常室温〜２００℃の範囲、好ましくは３０〜１５０℃の範囲、さらに好ましくは４０〜１２０℃の範囲である。
上記組成物からの溶剤除去のための時間は適時決定すればよいが、生産性を考慮した場合、短時間の方が好ましい傾向にある。例えば、通常３０分以下、好ましくは１０分以下、好ましくは５分以下、より好ましくは３分以下、さらに好ましくは２分以下の時間で溶剤除去すればよい。溶剤除去の際の雰囲気は大気でも窒素等の不活性ガスでも構わないが、雰囲気の湿度が低い方が得られる親水性架橋樹脂（例えば単層膜）の外観が悪化（ゆず肌、透明性低下など）しないなど好ましい傾向にある。具体的には、雰囲気の湿度は８０％以下が好ましく、６５％以下がより好ましく、５５％以下がさらに好ましい。

風を伴い溶剤を除去する場合の風速は、好ましくは３０ｍ／秒以下、より好ましくは０．１〜３０ｍ／秒の範囲、さらに好ましくは０．２〜２０ｍ／秒の範囲、特に好ましくは０．３〜１０ｍ／秒の範囲である。

溶剤除去の際の圧力は特に限定されず、常圧または減圧が比較的に好ましいが、微加圧であってもよい。
本発明の上記組成物を基材等に塗布して重合することにより、本発明の親水性架橋樹脂、例えば単層膜が得られる。上記重合方法には特に制限はなく、例えば、熱または放射線を用いて、あるいは両者を併用して重合することができる。

上記重合は大気下で行うこともできるが、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行った場合は重合時間を短縮できる点で好ましい。
熱を用いて重合する場合、通常、上記組成物に有機過酸化物等の熱ラジカル発生剤を加え室温から３００℃以下の範囲で加熱する。

放射線を用いて重合する場合、放射線としては波長領域が０．０００１〜８００ｎｍ範囲のエネルギー線を用いることができる。上記放射線は、α線、β線、γ線、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光等に分類されており、上記混合物の組成に応じて適宜選択して使用できる。これら放射線の中でも紫外線が好ましく、紫外線の出力ピークは、好ましくは２００〜４５０ｎｍの範囲、より好ましくは２３０〜４４５ｎｍの範囲、さらに好ましくは２４０〜４３０ｎｍの範囲、特に好ましくは２５０〜４００ｎｍの範囲である。上記出力ピークの範囲の紫外線を用いた場合には、重合時の黄変及び熱変形等の不具合が少なく、且つ紫外線吸収剤を添加した場合も比較的に短時間で重合を完結できる。

また、上記組成物中に紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤が添加されている場合には、出力ピークが２５０〜２８０ｎｍまたは３７０〜４３０ｎｍの範囲の紫外線を用いることが好ましい。

放射線により上記組成物の重合を行う場合には、酸素による重合阻害を回避する目的で、上記組成物を基材等に塗布して、必要に応じて乾燥を行った後、該塗布層を被覆材（フィルム等）で被覆し放射線を照射して重合してもよい。被覆材で該塗布層を被覆する際には、該塗布層と被覆材との間に空気（酸素）を含まないように密着することが望ましい。酸素を遮断することにより、例えば、（光）重合開始剤量および放射線照射量を減らせる場合がある。

上記被覆材としては、酸素が遮断される材料であれば如何なる材料および形態でも構わないが、操作性の面からフィルムが好ましく、それらフィルム中でも放射線重合が容易な透明フィルムが好ましい。フィルムの厚さは通常３〜２００μｍの範囲であり、それらの中でも５〜１００μｍが好ましく、１０〜５０μｍであればさらに好ましい。

上記被覆材として好ましく用いられるフィルムの材質としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系重合体、ポリアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）が挙げられる。

なお、装置は高価だが、０．０１〜０．００２ｎｍの範囲の電子線を放射線として用いると、短時間で重合が完結できるため好ましい。
このようにして得られた本発明の親水性架橋樹脂からなる単層膜では、アニオン性親水基の表面濃度（Ｓａ）と、これら親水基の単層膜の膜厚１／２地点における深部濃度（Ｄａ）の傾斜度（アニオン濃度比）（Ｓａ／Ｄａ）が通常１．１以上であり、好ましくは１.２以上、より好ましくは１．３以上であり、さらに好ましくは１．５以上である。

本発明の単層膜は、通常、基材の少なくとも片面上に設けられ上記親水基を有する被膜として設けられている。そしてこの単層膜中では、上記親水基が、基材側の膜深部から表面まで分布し、特に単層膜が外気と接する最表面に多く分布するように濃度差（傾斜度（親水基濃度比）（Ｓａ／Ｄａ））を有している。

これは、上記組成物を基材等に塗布して、熱、放射線等により重合すると、アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも１種の親水基が外気に接する表面に自己集合した後、架橋樹脂からなる単層膜が形成されるためであると考えられる。

このように、本発明の架橋樹脂からなる単層膜は、その表面に上記親水基が高濃度で存在するので、防曇性、防汚性またはセルフクリーニング性、帯電防止性または埃付着防止性等に優れる。

上記傾斜度（親水基濃度比）は、所定の単層膜サンプルを斜めに切断し、単層膜の外気に接していた表面と、単層膜の膜厚１／２地点とにおける、アニオン性親水基（例えば、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基など）の濃度を、飛行時間型２次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を用いてフラグメントイオン強度としてそれぞれ測定して、その値（相対強度）から求める。

本発明の架橋樹脂からなる単層膜の水接触角は通常５０°以下であり、好ましくは３０°以下であり、より好ましくは２０°以下、さらに好ましくは１０°以下である。
水接触角が上記数値以下の単層膜は、親水性が高く、水となじみ（濡れ）やすく親水性材料として優れる。そのため、例えば、防曇材料、防曇被膜（以下、防曇コートとも言う）、防汚材料、防汚被膜またはセルフクリーニングコート、並びに帯電防止材、帯電防止被膜またはほこり付着防止コート等に有用である。たとえば、防曇コートとして用いた場合には、膜表面に水滴が広がり水膜を形成させることができるため防曇効果に優れ、またセルフクリーニングコートとして用いると水が汚れとコーティング面の間に入り込み汚れを浮かせて除去することができるため防汚効果に優れている。さらに親水性の単層膜は、水が広がることにより蒸発面積が拡大し、蒸発速度が向上して乾燥が早くなる。

また、本発明の単層膜は親水性基を高濃度で表面に偏析（集中化）させているため、偏析させていない従来の親水性の被膜に比べて帯電防止性に優れ、帯電防止材、帯電防止被膜、ほこり付着防止コート等としても有用である。

上記水接触角が３０°以下、好ましくは２０°以下、より好ましくは１０°以下である場合は、本発明の架橋樹脂からなる単層膜は、防曇材料、防汚材料、速乾性材料、帯電防止材料として特に好ましく用いられる。なお、上記水接触角は通常０°以上である。

本発明の親水性の架橋樹脂、典型的には単層膜（共重合体）の膜厚は、用途により適宜決め得るが、通常０．０００１〜５００μｍ、好ましくは０．０５〜５００μｍ、より好ましくは０．１〜３００μｍ、さらに好ましくは０．５〜１００μｍ、さらにより好ましくは１〜５０μｍ、特に好ましくは２〜３０μｍの範囲である。

本発明の親水性架橋樹脂、例えば単層膜の形成方法には特に制限はないが、例えば、上記組成物を基材表面に塗布した後、必要に応じて乾燥した後、重合させることによって形成することができる。

上記基材としては、例えば、ガラス、シリカ、金属、金属酸化物等の無基材料からなる基材、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、紙、パルプ等の有機材料からなる基材、不飽和ポリエステル樹脂と炭酸カルシウムなどの充填材とガラス繊維などを複合したＳＭＣおよびＢＭＣなどの有機無機基材、並びにこれらの無機材料、有機材料、さらには有機無機複合材料からなる基材の表面に塗装が施された、塗料硬化物層を有する基材等が挙げられる。

また、これら基材表面は必要に応じて、基材表面を活性化することを目的に、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等による酸化処理、火炎処理等の物理的または化学的処理を施すこともできる。またこれら処理に替えてあるいはこれら処理に加えてプライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理を施してもよい。

上記プライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理に用いるコート剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂またはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等の樹脂をビヒクルの主成分とするコート剤を用いることができる。上記コート剤としては、溶剤型コート剤、水性型コート剤のいずれであってもよい。

これらコート剤の中でも、変性ポリオレフィン系コート剤、エチルビニルアルコール系コート剤、ポリエチレンイミン系コート剤、ポリブタジエン系コート剤、ポリウレタン系コート剤；
ポリエステル系ポリウレタンエマルジョンコート剤、ポリ塩化ビニルエマルジョンコート剤、レタンアクリルエマルジョンコート剤、シリコンアクリルエマルジョンコート剤、酢酸ビニルアクリルエマルジョンコート剤、アクリルエマルジョンコート剤；
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、クロロプレンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスのゴム系ラテックスコート剤、ポリアクリル酸エステルラテックスコート剤、ポリ塩化ビニリデンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスコート剤、あるいはこれらラテックスコート剤に含まれる樹脂のカルボン酸変性物ラテックスもしくはディスパージョンからなるコート剤が好ましい。

これらコート剤は、例えば、グラビアコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、キスコート法などにより塗布することができ、基材への塗布量は、乾燥状態で、通常０．０５ｇ／ｍ²〜１０ｇ／ｍ²である。

これらコート剤の中では、ポリウレタン系コート剤がより好ましい。ポリウレタン系のコート剤は、そのコート剤に含まれる樹脂の主鎖あるいは側鎖にウレタン結合を有するものである。ポリウレタン系コート剤は、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、またはアクリルポリオールなどのポリオールとイソシアネート化合物とを反応させて得られるポリウレタンを含むコート剤である。

これらポリウレタン系コート剤の中でも、縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールなどのポリエステルポリオールとトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物とを混合して得られるポリウレタン系コート剤が、密着性に優れているため好ましい。

ポリオール化合物とイソシアネート化合物とを混合する方法は、特に限定されない。また配合比も特に制限されないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良を引き起こす場合があるためポリオール化合物のＯＨ基とイソシアネート化合物のＮＣＯ基が当量換算で２／１〜１／４０の範囲であることが好適である。

本発明における基材では、上記表面活性化処理された基材面を含んでもよい。
このようにして基材表面を本発明の架橋樹脂からなる単層膜を形成したものは、基材と単層膜とを含む積層体として用いることができる。例えば、上記単層膜が防曇被膜、防汚被膜、速乾性被膜、または帯電防止被膜である場合には、防曇被膜、防汚被膜、速乾性被膜または帯電防止被膜で基材が被覆された積層体が得られる。

また、基材がフィルムの場合には、例えば、本発明の単層膜を形成しない面に、後述の粘着層を設けることもできるし、さらに粘着層の表面に剥離フィルムを設けることもできる。基材フィルムの他の片面に粘着層を積層しておくと、本発明の単層膜を有する積層フィルムを防曇フィルムおよび防汚フィルムとして、ガラス、浴室等の鏡、ディスプレイ、テレビ等の表示材料表面、看板、広告、案内板等の案内板、鉄道、道路等の標識、建物の外壁、窓ガラス等に容易に貼付できる。

粘着層に用いる粘着剤は特に制限はなく、公知の粘着剤を用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルエーテルポリマー系粘着剤、およびシリコーン粘着剤等が挙げられる。粘着層の厚さは通常２〜５０μｍの範囲、好ましくは５〜３０μｍの範囲である。

また、本発明の単層膜および該単層膜を積層した積層体では、単層膜の外気に接する表面を被覆材で被覆しておいてもよい。被覆材により被覆された単層膜および該単層膜を有する積層体では、輸送、保管、陳列等する際に、単層膜が傷ついたり、汚れたりするのを防ぐことができる。

上記被覆材としては、放射線により重合して基材等の上に本発明の単層膜を形成させる際に塗膜に密着させていた前述の被覆材をそのまま上記被覆材として用いることもできる。

上記被覆材として好ましく用いられるフィルムの材質としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系重合体、ポリアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体（ＡＢＳ）、ポリスチレン（ＰＳ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）が挙げられる。

また、上記化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）を含む組成物を種々の形状の鋳型内で重合させることにより、種々の形状を有する架橋樹脂、例えば単層膜、成形体などを得ることもできる。

本発明で得られる親水性の架橋樹脂、例えば単層膜および該単層膜を含む積層体は、防曇材料、防汚材料、速乾燥性材料、帯電防止材料等として好適に使用できる。
上記架橋樹脂、例えば単層膜および積層体は、例えば、車両及び車両材料、船舶及び船舶材料、航空機及び航空基材料、建築物及び建築材料、車両、船舶、航空機及び建築物等の窓、鏡、外壁、外装、ボディー、ホイール、内壁、内装、床、家具及び家具材料、配管および配線などの用役類およびその材料、衣服および布などの繊維製品、洗面台、浴室、化粧室、換気扇、およびキッチンなどの住宅設備およびその材料、洗濯機、食器乾燥機、冷蔵庫、電子レンジ、オーブン、およびシェーバーなどの電化製品及びその材料、ディスプレイ及びその材料、光学フィルム、光ディスク、光学レンズ、眼鏡レンズ、コンタクトレンズ、ゴーグル等の光学物品、入れ歯およびデンチャー等の歯科材料、ランプ及びライト等の照明物品及びその材料、冷却フィン等の熱交換機部品およびその材料、フォトレジスト及びインクジェット記録版等の記録印刷材料、化粧品容器及びその材料、反射フィルム、反射板等の反射材料、高速道路等に設置される遮音板、ディスプレイ材料、印刷または印字用プライマー、その他プライマー、フラットパネル、タッチパネル、シート、速乾燥性、フィルム、テープ、透明樹脂、及びガラス等の透明材料に被覆して、親水性、防曇性、および防汚性を付与することができる。さらに結露防止性を付与したり、帯電防止性を付与したりすることもできる。

以下、実施例等により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。
なお、本発明において被膜の物性評価は、下記のようにして行った。

＜親水基濃度比の測定＞
図１に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いて、親水基であるスルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、４級アンモニム基、および水酸基を有する親水性化合物のフラグメントイオンについて、その親水性化合物に由来する外表面のフラグメントイオン濃度（Ｓａ）と上記中間地点とのフラグメントイオン濃度（Ｄａ）とを測定し、その値から外気に接する膜の外表面と膜の内表面と外表面との中間地点の親水性化合物に由来する親水基の濃度の比、すなわち親水基濃度の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を求めた。
（分析装置と測定条件）
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ； ＩＯＮ・ＴＯＦ社製 ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５
1次イオン； Ｂｉ₃ ²⁺ (加速電圧２５ｋＶ)
測定面積； ４００μｍ²
測定には帯電補正用中和銃を使用

（試料調製等）
図１に示す通りに、基材１０の表面にコート層２０が設けられたサンプルを切削方向３０に向かって、精密斜め切削を行った後、１０×１０ｍｍ²程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接するコート層表面４０および膜の内部であるコート層内部５０（膜厚１／２の地点、基材１０に接するコート層の内表面）で飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いて親水基濃度を測定した。

（評価）
評価は以下の計算式で行った。尚、各測定点のイオン濃度は、相対強度（トータル検出イオンに対する）を用いた。
Ｓａ／Ｄａ（親水基濃度比，傾斜度）＝コート層表面４０での親水基濃度／コート層２０の膜厚１／２の地点での親水基濃度

＜水接触角の測定＞
協和界面科学社製の水接触角測定装置ＣＡ−Ｖ型を用いて、１サンプルについて３箇所測定し、これらの値の平均値を水接触角の値とした。

＜ヘーズの測定＞
日本電色工業社製のヘーズメーターＮＤＨ２０００を用いて、１サンプルについて４箇所測定し、これらの値の平均値をヘーズの値とした。

＜密着性の評価＞
ＪＩＳ Ｋ５４００ 碁盤目剥離試験 に準じて評価を行った。

＜防汚性の評価＞
ゼブラ（株）製の油性マーカー「マッキー極細」（黒，品番MO-120-MC-BK）でマークし、その上に水滴を垂らして３０秒間放置し、テッシュペーパーでふき取る。拭き取る前にマークが水で浮き上がり容易に拭き取れた場合を◎、残らずふき取れた場合を○、一部マークが残った場合を△、ふき取れなかった場合を×とした。

＜呼気防曇性の評価＞
呼気により曇らなかった場合を〇、曇った場合を×とした。

〔実施例１〕
（調製例１：１０ｗｔ％化合物（Ｉ）の調製）
スチレンスルホン酸ナトリウム（以下ＳＴＳ−Ｎａと略す）１０ｇ、水３０ｇ、および１−メトキシ−２−プロパノール（以下ＰＧＭと略す）６０ｇを、ホモミキサー（プライミクス株式会社，ロボミックス（登録商標）Ｓ−ｍｏｄｅｌ）を用いて１５０００ｒｐｍで３分間かき混ぜ、固形分１０ｗｔ％のＳＴＳ−Ｎａ混合液を調製した。

（コーティング組成物１の調製）
下記表１に従い、固形分39ｗｔ％のコーティング組成物１を作製した。

（基材へのコーティング、ＵＶ照射）
ポリカーボネート板（大きさ：１００ｍｍ×１００ｍｍ，タキロン株式会社製，以下ＰＣ板と略す。）に、上記コーティング用組成物１をバーコーター＃０７で塗布し、５５℃の温風乾燥機で３分間乾燥後、ＵＶ照射（無電極放電ランプ，Ｈバルブ ２４０Ｗ／ｃｍ，照射距離７０ｍｍ，コンベアー速度１０ｍ／分（照度１７０ｍＷ／ｃｍ²，積算光量１３０ｍＪ／ｃｍ²，ウシオＵＩＴ−１５０にて測定））して、ＰＣ板上に３μｍの親水性表面を有する架橋樹脂からなる単層膜を形成させた。その後、膜表面を流水洗浄し、エアガンで乾燥して評価用サンプルとした。上述の物性評価に記載される方法にしたがって、サンプルの評価を行った。得られた単層膜のスルホン酸基傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）は２．３であった。その他の評価結果を表２に掲載する。

〔実施例２〜５，参考例１，比較例１〜５〕
ＳＴＳ−Ｎａの添加量と、化合物(ＩＩ)の種類を下記表２に記載されるとおりに変更する以外は、実施例１と同様に、コーティング用組成物の調製、基材へのコーティング、ＵＶ照射によるＰＣ板上への単層膜の形成、膜表面の流水洗浄および乾燥を行い、評価用サンプルを得た。上述の物性評価に記載される方法にしたがって、サンプルの評価を行った。評価結果を表２に掲載する。

〔実施例６〜８，参考例２〕
ＳＴＳ−Ｎａの添加量を下記表３に記載されるとおりに変更し、下記表３に記載されるとおりに化合物(ＩＩ)の種類（実施例６〜８）を変更または、化合物（ＩＩ）を化合物（ＩＩ）以外の架橋モノマーに変更（参考例２）する以外は、実施例１と同様にコーティング用組成物の調製、基材へのコーティング、ＵＶ照射によるＰＣ板上への単層膜の形成、膜表面の流水洗浄および乾燥を行い、評価用サンプルを得た。上述の物性評価に記載される方法にしたがって、サンプルの評価を行った。評価結果を表３に掲載する。

〔実施例９〜１３，参考例３，比較例６〜１２〕
下記表４に記載されるとおりに、化合物（Ｉ）の種類をＳＴＳ−Ｎａからアリルスルホン酸ナトリウム（以下ＡＳ−Ｎａと略す。）に変更するとともにその添加量も変更し、化合物(ＩＩ)の種類を下記表４に記載されるとおりに変更する以外は、実施例１と同様にコーティング用組成物の調製、基材へのコーティング、ＵＶ照射によるＰＣ板上への単層膜の形成、膜表面の流水洗浄および乾燥を行い、評価用サンプルを得た。上述の物性評価に記載される方法にしたがって、サンプルの評価を行った。評価結果を表４に掲載する。

〔比較例１３〕
先行技術（特開２００５−１８７５７６ 実施例２）追試
（比較組成物３０の調製）
下記表５の配合比に従い、固形分５０ｗｔ％の均一な比較組成物３０を調製した。

（基材へのコーティング、ＵＶ照射）
上記比較組成物３０に、重合開始剤としてイルガキュアー１８４（チバ・ジャパン株式会社） ２ｇを混合して得たコーティング溶液を、ポリメタクリル酸メチル板（大きさ：１００ｍｍ×１００ｍｍ，日東樹脂工業製，以下ＰＭＭＡ板と略す。）にバーコーター＃０６で塗布し、１００℃で５分間乾燥させた後、ＵＶ照射（フュージョンＵＶシステムズ，無電極Ｈバルブ２４０Ｗ／ｃｍ，照度６５０ｍＷ／ｃｍ²，積算光量１３０ｍＪ／ｃｍ²，ウシオ ＵＩＴ−１５０ 測定値）することにより、ＰＭＭＡ板上に膜厚４μｍの単層膜を形成させた。次いで、膜表面を流水洗浄し、５０℃温風乾燥機で乾燥して、まず水洗後の膜として、上述の物性評価に記載される方法にしたがってサンプルの評価を行った。さらにその水洗後の膜を１０ｗｔ％水酸化ナトリウム溶液に５分間浸漬し、膜表面を流水洗浄し、５０℃温風乾燥機で乾燥してアルカリ浸漬膜として、同様の評価を行った。評価結果を下記表６に掲載する。得られた単層膜は、水洗後の膜およびアルカリ浸漬膜のいずれも親水性は低く、透明性も低かった。

＊Ｃ₃Ｈ₃Ｏ₂ ^-（ｍ／ｚ＝７１）の相対強度（対トータルイオン）
＊＊Ｃ₂Ｈ₄ＰＯ₄ ^-（ｍ／ｚ＝１２３）の相対強度（対トータルイオン）
尚、カルボキシル基強度およびリン酸基強度の分析は以下の方法により行なった。
分析方法： サンプルを膜厚方向に精密斜め切削し、切削面をＴＯＦ−ＳＩＭＳにて分析した。
分析機器： ＩＯＮ・ＴＯＦ社製 ＴＯＦ−ＳＩＭＳ
一次イオン： Ｂｉ₃ ²⁺
加速電圧： ２５ｋＶ

〔比較例１４〕
先行技術（特開２００５−１８７５７６ 実施例５）追試

（比較組成物３１の調製）
下記表７の配合比に従い、激しく攪拌混合して固形分５０ｗｔ％の均一な比較組成物３１を調製しようとしたが、アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸（ＡＴＢＳ）が溶解せず分離白濁していた。

（基材へのコーティング、ＵＶ照射）
上記の白濁した比較組成物３１に、熱重合開始剤としてパーブチルオキシピバレート（パーブチルＰＶ、日本油脂製） ３ｇを添加して再度激しく混合攪拌したが、不均一なままのコーティング液であった。

そこで、分離白濁したままの上記コーティング液を、ＰＭＭＡ板にバーコーター＃０６で強制的に塗布し、１００℃で５分間乾燥させた後、さらに６０℃で８時間、１００℃で５時間加熱して、ＰＭＭＡ板上に膜厚４μｍの単層膜を形成させた。得られた単層膜は、予想通りＡＴＢＳ由来の成分が分離したまま残存して白濁しており、親水性も低く、簡単に爪で傷が入る程度の柔らかい膜であり、単層膜として使用に耐えない物であった。
念のため、比較例１３と同様にして、水洗後の膜およびアルカリ浸漬膜の評価を行った。評価結果を表８に掲載する。

＊Ｃ₃Ｈ₃Ｏ₂ ^-（ｍ／ｚ＝７１）の相対強度（対トータルイオン）
＊＊ＳＯ₃ ^-（ｍ／ｚ＝８０）の相対強度（対トータルイオン）

尚、カルボキシル基強度およびスルホン酸基強度の分析は以下の方法により行なった。
分析方法： サンプルを膜厚方向に精密斜め切削し、切削面をＴＯＦ−ＳＩＭＳにて分析した。
分析機器： ＩＯＮ・ＴＯＦ社製 ＴＯＦ−ＳＩＭＳ
一次イオン： Ｂｉ₃ ²⁺
加速電圧： ２５ｋＶ

〔比較例１５〕
先行技術（特開昭５５−９０５１６ 実施例１）追試

（コーティング用組成物の調製）
下記表９の配合比に従い、激しく攪拌混合して固形分３６ｗｔ％の均一な比較コーティング用組成物３２を調製した。

（基材へのコーティング、ＵＶ照射）
ＰＭＭＡ板に、上記比較コーティング用組成物３２をバーコーター＃８で塗布した後、室温で１０分間放置後、ＵＶ照射（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン製，無電極放電ランプ・Ｄバルブ，コンベアー速度５ｍ／分，照度６７０ｍＷ／ｃｍ²，積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ²，ウシオ ＵＩＴ−１５０ にて測定）することにより、ＰＭＭＡ板上に膜厚３．５μｍの単層膜を形成させた。

得られた単層膜表面は、液体がブリードアウトしてべたついていたため、表面を流水洗浄し、エアガンで乾燥した後、上述の物性評価に記載される方法にしたがって、サンプルの評価を行った。評価結果を表１０に掲載する。

＊ ＳＯ₃ ^-（ｍ／ｚ＝８０）の相対強度（対トータルイオン）
＊＊Ｃ₂Ｈ₄ＰＯ₄ ^-（ｍ／ｚ＝１２３）の相対強度（対トータルイオン）

Claims (4)

1. 下記一般式（１００）で表されるアニオン性親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物（Ｉ）、下記一般式（２００）で表される水酸基を３つ以上と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を３つ以上とを有する化合物（ＩＩ）、および溶解パラメーターσ（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2が８．４（ｃａｌ／ｃｍ³）^1/2以上である溶剤（エタノールアミン系化合物〔ＮＲａＲｂ（ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ）：ＲａおよびＲｂは独立して、水素、炭素数１〜１５のアルキル基、またはＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ基である。〕は除く。）を含む組成物を作製する工程、
   該組成物を塗布する工程、
   該組成物から溶剤を除去して残存溶剤の量を１０重量％以下とする工程、および
   上記工程を経た組成物を重合する工程を含む
   アニオン性親水基の表面濃度（Ｓａ）と該単層膜の膜厚１／２地点における該親水基の深部濃度（Ｄａ）の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上である架橋樹脂からなる単層膜を製造する方法。
   

   

   （上記式（１００）中、Ａは下記一般式（１２１）〜（１２２）から選ばれる少なくとも１つの重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を表し、ＣＤは、下記一般式（１０１）で表される親水基を含む基を表し、ｎ₁₂はＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、ｎ₁₅はＡに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。）
   

   

   （上記式（１２１）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、＃２は下記一般式（１０１）で表される基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（１２２）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₅は０〜５の整数を表し、ｎ₁₅は１〜５の整数を表し、＃２は下記一般式（１０１）で表される基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（１０１）中、Ｍはアルカリ金属を表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（２００）中、Ｍｃは下記一般式（２０１）で表される基を表し、Ｘは、−Ｏ−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ１〜ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₃₀は０〜３０の整数、ｎ₂₂₀は３〜２０の整数を表す。）
   

   

   （上記式（２０１）中、ｍ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、Ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｒ₅は−Ｏ−＃３または−ＣＨ₂Ｏ−＃３を表し、Ｒ₆は水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍ₁₁₀が２以上の場合は、Ｒ₅同士およびＲ₆同士は同一でも異なっていてもよく、ｍ₁₁₀が２以上の場合＃３同士は同一でも異なっていてもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。）
2. アニオン性親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物（Ｉ）、および
   水酸基を３つ以上と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を３つ以上とを有する化合物（ＩＩ）
   を含む組成物の架橋樹脂からなり、
   上記化合物（Ｉ）が下記一般式（１００）で表される化合物であり、上記化合物（ＩＩ）が下記一般式（２００）で表される化合物である単層膜であり、
   該単層膜のアニオン性親水基の表面濃度（Ｓａ）と該単層膜の膜厚１／２地点における該親水基の深部濃度（Ｄａ）の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上である単層膜。
   

   

   （上記式（１００）中、Ａは下記一般式（１２１）〜（１２２）から選ばれる少なくとも１つの重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を表し、ＣＤは、下記一般式（１０１）で表される親水基を含む基を表し、ｎ₁₂はＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、ｎ₁₅はＡに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。）
   

   

   （上記式（１２１）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、＃２は下記一般式（１０１）で表される基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（１２２）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ₁およびｒ₂は、独立して、水素原子、メチル基、またはエチル基を表し、ｎ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₅は０〜５の整数を表し、ｎ₁₅は１〜５の整数を表し、＃２は下記一般式（１０１）で表される基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（１０１）中、Ｍはアルカリ金属を表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
   

   

   （上記式（２００）中、Ｍｃは下記一般式（２０１）で表される基を表し、Ｘは、−Ｏ−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ１〜ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ₀₁₀は０〜１０の整数を表し、ｎ₀₃₀は０〜３０の整数、ｎ₂₂₀は３〜２０の整数を表す。）
   

   

   （上記式（２０１）中、ｍ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、Ｎ₁₁₀は１〜１０の整数を表し、＃３は水素原子または式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手を表し、Ｒ₅は−Ｏ−＃３または−ＣＨ₂Ｏ−＃３を表し、Ｒ₆は水素原子、水酸基、−Ｏ−＃３、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂Ｏ−＃３、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍ₁₁₀が２以上の場合は、Ｒ₅同士およびＲ₆同士は同一でも異なっていてもよく、ｍ₁₁₀が２以上の場合＃３同士は同一でも異なっていてもよい。ただし、上記式（２００）のｎ₂₂₀の数と同数の＃３が、式（２００）で表される基に含まれる炭素原子に結合する結合手である。）
3. 化合物（Ｉ）および（ＩＩ）が、化合物（ＩＩ）１００質量部に対して化合物（Ｉ）の量が３．６質量部から８．５質量部の範囲で含まれている請求項２に記載の単層膜。
4. 請求項２または３に記載の単層膜を少なくとも１層有する積層体。

Images