JP5946620B2

JP5946620B2 - Image display device and program for direct drawing device

Info

Publication number: JP5946620B2
Application number: JP2011217064A
Authority: JP
Inventors: 山田　亮; 亮山田
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd
Priority date: 2011-09-30
Filing date: 2011-09-30
Publication date: 2016-07-06
Anticipated expiration: 2031-09-30
Also published as: JP2013077717A

Description

本発明は、直接描画装置で用いられる描画データを事前にディスプレイ上に表示する技術に関する。 The present invention relates to a technique for displaying drawing data used in a direct drawing apparatus on a display in advance.

近年、フォトマスクを用いずに、ＣＡＤ（Computer Aided Design）などで設計されたベクトル形式の設計データから、半導体基板などの描画対象物に直接パターンを描画する方式（以下において、直接描画方式と称する）が導入されはじめている。 In recent years, a method of drawing a pattern directly on a drawing object such as a semiconductor substrate from design data in a vector format designed by CAD (Computer Aided Design) or the like without using a photomask (hereinafter referred to as a direct drawing method). ) Has begun to be introduced.

直接描画方式によって、パターンを描画する装置（以下において、「直接描画装置」と称する。）では、ベクトル形式の設計データをＲＩＰ（Raster Image Processing）展開することで生成されるラスターデータを使用して描画が行われる。 An apparatus for drawing a pattern by a direct drawing method (hereinafter referred to as “direct drawing apparatus”) uses raster data generated by developing vector format design data in RIP (Raster Image Processing). Drawing is performed.

このような直接描画方式の場合、ＲＩＰ展開が正しく実行されたか否かについてラスターデータ自体の検査を行う必要がある。 In the case of such a direct drawing method, it is necessary to inspect the raster data itself as to whether or not the RIP expansion has been correctly executed.

例えば、特許文献１では、ベクトル形式の設計データと、当該設計データ全体をＲＩＰ展開して得られるランレングスデータとのうち、少なくとも一方のデータに対して比較可能な変換処理を実行する。これによって、互いに比較可能なデータ形式に揃えられた両データが比較され、差異の有無を検出する技術が開示されている。 For example, in Patent Document 1, a conversion process that can be compared with at least one of vector-type design data and run-length data obtained by RIP expansion of the entire design data is executed. Thus, a technique is disclosed in which both data arranged in a data format that can be compared with each other are compared to detect the presence or absence of a difference.

また、特許文献２では、ベクトル形式の設計データ全体を一旦ＲＩＰ展開して、低解像度で全体のＲＩＰデータを表示する。このうち、特に形状などを確認したい領域については高解像度で拡大して表示する技術が開示されている。オペレータは指定した領域のＲＩＰデータを拡大し、目視でＲＩＰデータを確認する。 In Patent Document 2, the entire design data in vector format is temporarily RIP-developed, and the entire RIP data is displayed at a low resolution. Among these, a technique for enlarging and displaying at a high resolution is disclosed for an area in which a shape or the like is to be confirmed. The operator enlarges the RIP data in the designated area and visually confirms the RIP data.

特開２００８−２７７７３０号公報JP 2008-277730 A 特開２００６−３３０１８４号広報JP 2006-330184 PR

ところで、このようなＲＩＰ展開は、事前に設定された所定のＲＩＰパラメータに基づいて行われる。しかしながら、オペレータは、例えばエッチング液の状態などのプロセス工程の条件、直接描画装置のスペックによる制約、または描画方針の変更などにより、描画処理が行われる直前に、ＲＩＰパラメータを変更しなければならない場合がある。この場合、新たに設定するＲＩＰパラメータの設定ミスが生じる可能性などのため、オペレータは、新たに設定したＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開後の画像データが表すパターンを速やかに確認する必要がある。 Incidentally, such RIP deployment is performed based on predetermined RIP parameters set in advance. However, the operator has to change the RIP parameter immediately before the drawing process is performed due to, for example, a process step condition such as the state of the etching solution, a restriction due to the specifications of the direct drawing apparatus, or a change in the drawing policy. There is. In this case, because there is a possibility that a setting error of a newly set RIP parameter may occur, the operator needs to quickly confirm the pattern represented by the image data after RIP development based on the newly set RIP parameter.

しかしながら、特許文献１及び特許文献２に開示されている技術では、ＲＩＰ展開に時間を要すること、又はＲＩＰパラメータの設定に手間がかかることなどから、新たに設定したＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開後の画像データを速やかに確認することができなかった。 However, in the techniques disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, it takes time for RIP deployment, or it takes time to set RIP parameters, and therefore, after RIP deployment based on newly set RIP parameters. The image data could not be confirmed promptly.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、ＲＩＰパラメータを設定する都度、当該ＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開によって生成された図形の描画に供される画像データを、描画処理の実行前に、容易に確認できる技術を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and every time a RIP parameter is set, image data to be used for drawing a graphic generated by RIP development based on the RIP parameter is processed before the drawing process is executed. The purpose is to provide a technology that can be easily confirmed.

第１の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の画像表示装置であって、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データについて表示用ＲＩＰ展開を行う処理領域を設定する処理領域設定部と、前記直接描画のために前記設計データを描画用ＲＩＰ展開する際に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、前記指定パラメータを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分を表示用ＲＩＰ展開して指定画像を得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像を可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部が実行する前記表示用ＲＩＰ展開は、前記描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制したＲＩＰ展開であり、前記指定パラメータ及び前記処理領域のどちらの更新にも応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする。 A first invention is an image display device for a direct drawing apparatus that directly draws a predetermined pattern on a drawing object by scanning a drawing beam, and an acquisition unit that acquires design data in a vector format describing the pattern; A processing region setting unit for setting a processing region for performing display RIP expansion for the design data, and a specified parameter setting for setting a specified parameter used when the design data is expanded for drawing for the direct drawing A display RIP developing unit that obtains a designated image by developing a portion corresponding to the processing area in the design data using the designated parameter, and a display for visually displaying the designated image And the display RIP expansion executed by the display RIP expansion unit has a data processing amount suppressed more than that of the drawing RIP expansion. P Expand der is, the designated parameters and also in response to either update of the processing area, the display RIP processing is performed, and displayed on the display unit is characterized Rukoto updated.

第２の発明は、第１の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示用ＲＩＰ展開部は、前記処理領域が、前記パターンの部分領域に対応する場合には、第１の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行う一方で、前記処理領域が、前記パターンの全体領域に対応する場合には、第２の解像度で前記表示用ＲＩＰ展開を行い、前記第２の解像度は前記第１の解像度よりも低いことを特徴とする。 A second invention is an image display device for a direct drawing apparatus according to the first invention, wherein the display RIP developing unit is configured to display a first image when the processing area corresponds to a partial area of the pattern. When the display RIP expansion is performed at a resolution of 1, while the processing area corresponds to the entire area of the pattern, the display RIP expansion is performed at a second resolution, and the second resolution is The resolution is lower than the first resolution.

第３の発明は、第１の発明または第２の発明に係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記設計データに対応するパターンと位置合わせをした状態で、前記表示用ＲＩＰ展開によって得られる画像が前記表示部に表示されることを特徴とする。 A third invention is an image display device for direct drawing apparatus according to the first invention or second inventions, while the alignment pattern corresponding to the design data, the display RIP development The image obtained by the above is displayed on the display unit.

第４の発明は、第１の発明ないし第３の発明のいずれか一つに係る直接描画装置用の画像表示装置であって、前記表示部上に前記パターンを表示させた状態で、前記処理領域は設定されることを特徴とする。 4th invention is the image display apparatus for direct drawing apparatuses which concerns on any one of 1st invention thru | or 3rd invention, Comprising: The said process in the state which displayed the said pattern on the said display part The area is set.

第５の発明は、描画ビームの走査によって所定のパターンを描画対象物に直接描画する直接描画装置用の表示画面を備えるコンピュータが読み取り可能なプログラムであって、前記コンピュータが前記プログラムを読み取り、前記コンピュータのＣＰＵがメモリを用いて前記プログラムを実行することにより、前記コンピュータを、前記パターンを記述したベクトル形式の設計データを取得する取得部と、前記設計データについて表示用ＲＩＰ展開を行う処理領域を設定する処理領域設定部と、前記直接描画のために前記設計データを描画用ＲＩＰ展開する際に使用される指定パラメータを設定する指定パラメータ設定部と、前記指定パラメータを用いて、前記設計データのうち前記処理領域に対応する部分を表示用ＲＩＰ展開して指定画像を得る表示用ＲＩＰ展開部と、前記指定画像を前記表示画面上に可視的に表示する表示部と、を備え、前記表示用ＲＩＰ展開部が実行する前記表示用ＲＩＰ展開が、前記描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制したＲＩＰ展開であり、前記指定パラメータ及び前記処理領域のどちらの更新にも応答して、前記表示用ＲＩＰ展開がなされ、かつ前記表示部における表示が更新されることを特徴とする画像表示装置として機能させる。 5th invention is a computer-readable program provided with the display screen for direct drawing apparatuses which draw a predetermined pattern directly on a drawing object by scanning of a drawing beam, The computer reads the program, When the CPU of the computer uses the memory to execute the program, the computer has an acquisition unit that acquires design data in a vector format describing the pattern, and a processing area that performs display RIP expansion on the design data. A processing area setting unit to be set, a specification parameter setting unit for setting a specification parameter used when the design data is developed for RIP for drawing for the direct drawing, and using the specification parameter, A portion corresponding to the processing area is expanded in the display RIP and designated image A display RIP expansion unit, and a display unit that visually displays the designated image on the display screen, wherein the display RIP expansion executed by the display RIP expansion unit is the drawing RIP expansion. RIP development der that suppresses data throughput than is, also in response to either update of the specified parameters and the processing region, wherein the display RIP processing is performed, and displayed on the display unit is updated Rukoto It is made to function as an image display device characterized by the above.

第１の発明から第５の発明によると、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開でＲＩＰ展開して表示させることにより、指定パラメータが設定される都度、速やかにＲＩＰ展開を行うことができる。 According to the first to fifth aspects of the present invention, the RIP expansion is performed in the display RIP expansion in which the data processing amount is suppressed as compared with the drawing RIP expansion, and the RIP expansion is promptly performed every time the designated parameter is set. It can be performed.

また、指定パラメータ及び処理領域のどちらの更新にも応答して、表示用ＲＩＰ展開がなされて表示が更新されるため、ＲＩＰ展開後の画像をより速やかに確認することができる。 Further, also in response to either update the specified parameters and the processing region, the display is made display RIP processing is updated, it is possible to confirm the image after RIP processing more quickly.

特に、第２の発明によると、処理領域が、パターンの部分領域に対応する場合には、第１解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われ、処理領域が、パターンの全体領域に対応する場合には、第１の解像度よりも低い第２の解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することができる。 In particular, according to the second invention, when the processing area corresponds to the partial area of the pattern, display RIP expansion is performed at the first resolution, and when the processing area corresponds to the entire area of the pattern. The display RIP expansion is performed at a second resolution lower than the first resolution. For this reason, the display RIP expansion can be executed promptly.

特に、第３の発明によると、設計データに対応するパターンと位置合わせをした状態で、表示用ＲＩＰ展開によって得られる画像が前記表示手段に表示される。このため、設計データが表すパターンと指定パラメータで表示用ＲＩＰ展開された画像との比較を容易に行うことができる。 In particular, according to the third invention, an image obtained by the display RIP development is displayed on the display means in a state of being aligned with the pattern corresponding to the design data. For this reason, it is possible to easily compare the pattern represented by the design data with the image developed by the display RIP with the designated parameter.

特に、第４の発明によると、表示用ＲＩＰ展開の対象となる処理領域は、設計データに対応するパターンを表示部に表示させた状態で設定される。このため、オペレータは目視で確認しつつ処理領域を設定することができる。従って、誤って処理領域を設定することを抑制できる。

In particular, according to the fourth aspect of the invention, the processing area that is the target of the display RIP development is set in a state where a pattern corresponding to the design data is displayed on the display unit. For this reason, the operator can set the processing region while visually confirming. Accordingly, it is possible to suppress erroneous setting of the processing area.

本実施形態における直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the figure drawing system incorporating the image display apparatus for direct drawing apparatuses in this embodiment. 画像処理装置のハードウェア構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the hardware constitutions of an image processing apparatus. 画像処理装置の操作ＧＵＩを示す概略図である。It is the schematic which shows the operation GUI of an image processing apparatus. 画像処理装置の機能的構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the functional structure of an image processing apparatus. 画像処理装置における処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a process in an image processing apparatus. 処理領域がパターンの部分領域である場合の表示部における画像処理の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the image process in a display part in case a process area is a partial area | region of a pattern. 処理領域がパターンの全体領域である場合の表示部における画像処理の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the image process in a display part in case a process area is the whole area | region of a pattern. 所定の項目に関する指定パラメータの更新前後における指定画像を示す図である。It is a figure which shows the designation | designated image before and behind the update of the designation | designated parameter regarding a predetermined item. 所定の項目に関する指定パラメータの更新前後における指定画像を示す図である。It is a figure which shows the designation | designated image before and behind the update of the designation | designated parameter regarding a predetermined item. 所定の項目に関する指定パラメータの更新前後における指定画像を示す図である。It is a figure which shows the designation | designated image before and behind the update of the designation | designated parameter regarding a predetermined item. 所定の項目に関する指定パラメータの更新前後における指定画像を示す図である。It is a figure which shows the designation | designated image before and behind the update of the designation | designated parameter regarding a predetermined item.

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The following embodiment is an example embodying the present invention, and is not an example of limiting the technical scope of the present invention.

図１には、本発明の実施形態に係る直接描画装置用の画像表示装置が組み込まれた図形描画システム１００が示されている。この図形描画システム１００は、例えば半導体基板上のレジスト層を選択的に露光することにより、レジスト層に回路パターンに相当する図形を直接描画するシステムとして使用される。 FIG. 1 shows a graphic drawing system 100 in which an image display device for a direct drawing device according to an embodiment of the present invention is incorporated. The graphic drawing system 100 is used as a system for directly drawing a graphic corresponding to a circuit pattern on a resist layer by selectively exposing a resist layer on a semiconductor substrate, for example.

図形描画システム１００は、設計データ作成装置１、画像処理装置２、および描画装置３を備える。これらの各装置１，２，３は、ＬＡＮなどのネットワークＮを介して相互に接続されている。 The graphic drawing system 100 includes a design data creation device 1, an image processing device 2, and a drawing device 3. These devices 1, 2, and 3 are connected to each other via a network N such as a LAN.

設計データ作成装置１は、描画対象物に描画すべきパターン領域を記述したデータの作成及び編集を行う装置である。具体的にデータは、ＣＡＤによってベクトル形式で記述された図形データとして作成される。以下において、このデータを設計データＤ０と称する。 The design data creation device 1 is a device that creates and edits data describing a pattern area to be drawn on a drawing target. Specifically, the data is created as graphic data described in a vector format by CAD. Hereinafter, this data is referred to as design data D0.

設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０は、画像処理装置２と描画装置（直接描画装置）３との双方で受け取ることができる。画像処理装置２と描画装置３とはいずれもＲＩＰ展開機能を有するが、それらのＲＩＰ展開は異なる目的で実行される。すなわち、描画装置３のデータ処理部３ａは設計データＤ０をＲＩＰ展開し、描画用のラスターデータとする機能（以下、「描画用ＲＩＰ展開」と称する。）を有する。そのようにして得られたラスターデータに基づいて、描画制御部３ｂはレーザビームをＯＮ／ＯＦＦ変調しつつ、描画対象物（基板）の２次元走査を行って選択的な露光を行う。 The design data D0 created by the design data creation device 1 can be received by both the image processing device 2 and the drawing device (direct drawing device) 3. Both the image processing device 2 and the drawing device 3 have the RIP development function, but the RIP development is executed for different purposes. In other words, the data processing unit 3a of the drawing apparatus 3 has a function (hereinafter referred to as “drawing RIP development”) that performs RIP development on the design data D0 to obtain raster data for drawing. Based on the raster data thus obtained, the drawing control unit 3b performs selective exposure by performing two-dimensional scanning of the drawing object (substrate) while performing ON / OFF modulation of the laser beam.

一方、画像処理装置２は、描画用ＲＩＰ展開を行うよりも前の段階で、設計データ作成装置１から設計データＤ０を取得し、当該取得した設計データＤ０を予備的にＲＩＰ展開して表示用のラスターデータとする機能（以下、「表示用ＲＩＰ展開」と称する。）と、そのようにして得られたラスターデータに基づいてリアルタイムで可視的な表示を行う機能とを有する。換言すれば、画像処理装置２はパターン領域の画像のプレビュー機能を有する。プレビュー機能は全パターン領域の縮小表示と、部分パターン領域の拡大表示とのいずれをも含むことができる。本実施形態での画像処理装置２は、この発明における「直接描画装置用の画像表示装置」としての機能を有する。 On the other hand, the image processing apparatus 2 obtains the design data D0 from the design data creation apparatus 1 before performing the RIP for drawing, and preliminarily RIP develops the acquired design data D0 for display. A raster data function (hereinafter referred to as “display RIP expansion”) and a function for performing real-time visual display based on the raster data obtained in this way. In other words, the image processing apparatus 2 has a preview function for the image of the pattern area. The preview function can include both a reduced display of the entire pattern area and an enlarged display of the partial pattern area. The image processing apparatus 2 in this embodiment has a function as an “image display apparatus for a direct drawing apparatus” in the present invention.

描画用ＲＩＰ展開は、実際の描画に必要な解像度で描画パターン全体をＲＩＰ展開するものである。一方、表示用ＲＩＰ展開は、ディスプレイ上での表示用に行われるものであり、描画用ＲＩＰ展開と比較して低解像度で、あるいはパターン領域の全体ではなく部分的な領域だけをＲＩＰ展開するなど、描画用ＲＩＰ展開よりも簡易な処理である。従って、ＲＩＰ展開に要する処理時間も描画用ＲＩＰ展開より短く、保持するデータ量も描画用ＲＩＰ展開よりも少なくて済む。 The RIP development for drawing is for RIP development of the entire drawing pattern at a resolution necessary for actual drawing. On the other hand, the display RIP expansion is performed for display on a display, and has a lower resolution than the drawing RIP expansion, or RIP expansion is performed on only a partial area rather than the entire pattern area. This process is simpler than drawing RIP development. Therefore, the processing time required for the RIP development is shorter than that of the drawing RIP development, and the amount of data to be stored is smaller than that of the drawing RIP development.

すなわち、画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開で設計データＤ０の該当部分をＲＩＰ展開して表示させることにより、画像のプレビュー表示のためのデータ処理を高速化し、パラメータ更新などに対する画像表示の更新のリアルタイム性を確保している。 That is, in the image processing apparatus 2, data processing for preview display of an image is performed by displaying a corresponding portion of the design data D0 by RIP expansion in a display RIP expansion in which the data processing amount is suppressed as compared with the drawing RIP expansion. And the real-time property of image display update for parameter update and the like is ensured.

以下において、表示用ＲＩＰ展開で得られたラスターデータを画像データＤ２と称する。 Hereinafter, the raster data obtained by the display RIP development is referred to as image data D2.

なお、これらにおけるラスターデータ（ラスタイメージデータ）とは、周知のように、複数の画素を形成する２値画像データを主走査方向に配列したデータ（ラインデータ）を、主走査方向とは直交する副走査方向に多数配列したものに相当するデータである。 As is well known, the raster data (raster image data) in these is data (line data) in which binary image data forming a plurality of pixels is arranged in the main scanning direction, and is orthogonal to the main scanning direction. Data corresponding to a large number of data arranged in the sub-scanning direction.

描画用ＲＩＰ展開では、ベクトル形式で記述された設計データＤ０をラスターデータに変換する。さらに、このラスターデータをランレングス符号化処理し、圧縮した描画用ランレングスデータは、描画装置３内に組み込まれた描画制御部３ｂに出力される。得られたランレングスデータは、設計データＤ０におけるパターン領域が、走査線ごとに各露光区間の長さを順次に配列した連鎖によって記述されたデータとなる。 In the RIP development for drawing, the design data D0 described in the vector format is converted into raster data. Further, the raster data is run-length encoded, and the compressed drawing run-length data is output to the drawing control unit 3 b incorporated in the drawing device 3. The obtained run length data is data in which the pattern area in the design data D0 is described by a chain in which the length of each exposure section is sequentially arranged for each scanning line.

描画装置３は、データ処理部３ａが設計データＤ０をＲＩＰ展開して得た描画用の画像データＤ１に基づいて、走査描画部３ｃが基板（描画対象物）上にパターン領域を直接露光する装置である。描画装置３の描画制御部３ｂは、画像処理装置２から描画用ＲＩＰ展開に使用される指定パラメータＰａ１を取得し、指定パラメータＰａ１に従って設計データＤ０のＲＩＰ展開（描画用ＲＩＰ展開）を行う。これによって描画用の画像データＤ１を生成し、走査描画部３ｃはその画像データＤ１に基づいてパターン領域の光ビーム走査による描画を実行する。これにより、図形パターンに相当する二次元画像が描画対象物に記録される。 The drawing apparatus 3 is an apparatus in which the scanning drawing unit 3c directly exposes a pattern region on a substrate (drawing object) based on drawing image data D1 obtained by RIP development of the design data D0 by the data processing unit 3a. It is. The drawing control unit 3b of the drawing apparatus 3 acquires the designated parameter Pa1 used for drawing RIP development from the image processing apparatus 2, and performs RIP development (drawing RIP development) of the design data D0 according to the designated parameter Pa1. As a result, drawing image data D1 is generated, and the scanning drawing unit 3c executes drawing of the pattern area by light beam scanning based on the image data D1. Thereby, a two-dimensional image corresponding to the graphic pattern is recorded on the drawing object.

例えば走査描画部３ｃは、デジタルマイクロミラーデバイス等の空間光変調素子を用いて画像データＤ１に応じて変調した光ビームを半導体基板上のレジスト層（一般には感光層）に照射し、基板に配線パターンを描画する。 For example, the scanning drawing unit 3c irradiates a resist layer (generally a photosensitive layer) on a semiconductor substrate with a light beam modulated in accordance with the image data D1 using a spatial light modulator such as a digital micromirror device, and wires the substrate. Draw a pattern.

なお、本実施形態では描画装置３内のデータ処理部３ａで描画用ＲＩＰ展開を行う場合について説明しているが、画像処理装置２と描画装置３との間に設けた専用のＲＩＰ装置で描画用ＲＩＰ展開を行ってから、描画用画像データＤ１を描画装置３に送信する形態であってもよい。また、画像処理装置２において、指定パラメータＰａ１で設計データＤ０の描画用ＲＩＰ展開が行われ、それによって生成された描画用の画像データＤ１が描画装置３に送信される形態であってもよい。これらの場合には、描画装置３のデータ処理部３ａはＲＩＰ展開機能を備える必要はない。 In this embodiment, the case where the data processing unit 3a in the drawing apparatus 3 performs the RIP for drawing is described. However, the drawing is performed by the dedicated RIP device provided between the image processing apparatus 2 and the drawing apparatus 3. The image data D1 for drawing may be transmitted to the drawing device 3 after performing the RIP development. Further, the image processing apparatus 2 may be configured to perform drawing RIP development of the design data D0 with the designated parameter Pa1 and transmit the drawing image data D1 generated thereby to the drawing apparatus 3. In these cases, the data processing unit 3a of the drawing apparatus 3 does not need to have the RIP expansion function.

なお、画像処理装置２は、描画装置３の外部に設置される必要はなく、描画装置３と一体の構成であってもよい。また、画像処理装置２にＣＡＤが搭載されており、画像処理装置２に搭載されたＣＡＤで直接設計データＤ０が作成される構成であってもよい。 The image processing device 2 does not need to be installed outside the drawing device 3 and may be integrated with the drawing device 3. Further, the CAD may be mounted on the image processing apparatus 2, and the design data D0 may be directly created by the CAD mounted on the image processing apparatus 2.

図２には、コンピュータによって構成された画像処理装置２のハードウェア構成がブロック図で示されている。 FIG. 2 is a block diagram showing a hardware configuration of the image processing apparatus 2 configured by a computer.

画像処理装置２は、ＣＰＵ９１、ＲＯＭ９２、メモリ９３、メディアドライブ９４、表示部９５、操作部９６等で構成されている。これらのハードウェアは、それぞれバスライン９７によって電気的に接続された構成となっている。 The image processing apparatus 2 includes a CPU 91, a ROM 92, a memory 93, a media drive 94, a display unit 95, an operation unit 96, and the like. Each piece of hardware is electrically connected by a bus line 97.

ＣＰＵ９１は、ＲＯＭ９２に記憶されたプログラム（または、メディアドライブによって読み込まれたプログラム）Ｐに基づいて、上記ハードウェア各部を制御し、画像処理装置２の機能を実現する。 The CPU 91 controls each of the above hardware units based on a program (or a program read by the media drive) P stored in the ROM 92 to realize the functions of the image processing apparatus 2.

ＲＯＭ９２は、画像処理装置２の制御に必要なプログラムＰやデータを予め格納した読み出し専用の記憶装置である。 The ROM 92 is a read-only storage device that stores a program P and data necessary for controlling the image processing apparatus 2 in advance.

メモリ９３は、読み出しと書き込みとが可能な記憶装置であり、ＣＰＵ９１による演算処理の際に発生するデータなどを一時的に記憶する。メモリ９３は、ＳＲＡＭ、ＤＲＡＭなどで構成される。 The memory 93 is a storage device that can be read and written, and temporarily stores data generated during arithmetic processing by the CPU 91. The memory 93 is configured by SRAM, DRAM or the like.

メディアドライブ９４は、記録媒体（より具体的には、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）、フレキシブルディスクなどの可搬性記録媒体）Ｍからその中に記憶されている情報を読み出す機能部である。 The media drive 94 is a functional unit that reads information stored in a recording medium (more specifically, a portable recording medium such as a CD-ROM, a DVD (Digital Versatile Disk), or a flexible disk) M. .

操作部９６は、キーボード及びマウスによって構成される入力デバイスであり、コマンドや各種データの入力といったユーザ操作を受け付ける。操作部９６が受けたユーザ操作は信号としてＣＰＵ９１に入力される。 The operation unit 96 is an input device composed of a keyboard and a mouse, and accepts user operations such as input of commands and various data. The user operation received by the operation unit 96 is input to the CPU 91 as a signal.

表示部９５は、カラーＬＣＤのようなディスプレイ等を備え、各種のデータや動作状態を可変表示する。この表示部９５では、図３に示される操作ＧＵＩ（Graphic User Interface）８０が表示される。 The display unit 95 includes a display such as a color LCD and variably displays various data and operation states. The display unit 95 displays an operation GUI (Graphic User Interface) 80 shown in FIG.

ここで、図３を参照しつつ、操作ＧＵＩ８０について説明する。操作ＧＵＩ８０は、例えば図３に示されるように、設計データＤ０で規定されるパターン領域の一部を表示用ＲＩＰ展開後の画像データＤ２に基づいて表示する処理領域表示画面８１と、指定パラメータＰａ１の設定入力が行われる入力欄を表示するパラメータ設定画面８２と、を備える。操作ＧＵＩ８０では、これらの処理領域表示画面８１とパラメータ設定画面８２とが並列的に表示されている。 Here, the operation GUI 80 will be described with reference to FIG. For example, as shown in FIG. 3, the operation GUI 80 includes a processing area display screen 81 for displaying a part of the pattern area defined by the design data D0 based on the image data D2 after the RIP for display, and a designated parameter Pa1. And a parameter setting screen 82 for displaying an input field where the setting input is performed. In the operation GUI 80, the processing area display screen 81 and the parameter setting screen 82 are displayed in parallel.

指定パラメータＰａ１には、例えばレイヤの番号、ピッチの大きさ、線幅のサイジング（拡大や縮小）、ネガポジ指定、処理領域などの各項目が挙げられる。 Examples of the designation parameter Pa1 include items such as layer number, pitch size, line width sizing (enlargement and reduction), negative / positive designation, and processing area.

例えば、図３に示されるパラメータ設定画面８２の「レイヤ」２０１では、レイヤの番号が設定される。ここで設定されたレイヤが処理領域表示画面８１に表示される。また、「ピッチ」２０２では、１画素のサイズが設定される。ここで設定されたサイズにＲＩＰ展開後の画像データＤ２の１画素は設定される。「太らせ」２０３では、画像データＤ２が表現するパターンの線幅の調整量が設定される。パターンの線幅は、この「太らせ」２０３に正の値が入力された場合には、設定前の線幅から設定値ほど太くなり、「太らせ」２０３に負の値が入力された場合には、設定前の線幅から設定値ほど細くなる。また、「ネガ指定」２０４では、所定領域をネガ領域として表示させるか、それともポジ領域として表示させるかについて設定される。つまり、この「ネガ指定」２０４が「有効」であれば、所定の領域はネガ領域として表示され、「ネガ指定」２０４が「無効」であれば、当該所定領域は、ポジ領域として表示される。「指定領域」２０５では、描画装置３に設けられた走査描画部３ｃの露光ヘッドが設定される。これによって、パターン領域のうち、当該露光ヘッドが描画を担当する部分的な領域が指定され、処理領域表示画面８１に表示される。なお、これらは、あくまでも指定パラメータＰａ１の一例であり、これに限られるものではない。 For example, in the “layer” 201 of the parameter setting screen 82 shown in FIG. 3, the layer number is set. The layer set here is displayed on the processing area display screen 81. In “pitch” 202, the size of one pixel is set. One pixel of the image data D2 after RIP development is set to the size set here. In “thickening” 203, the adjustment amount of the line width of the pattern represented by the image data D2 is set. When a positive value is input to the “thickening” 203 for the pattern line width, the set value becomes thicker from the line width before setting, and a negative value is input to the “thickening” 203 In this case, the set value becomes thinner from the line width before setting. In “negative designation” 204, whether the predetermined area is displayed as a negative area or a positive area is set. That is, if the “negative designation” 204 is “valid”, the predetermined area is displayed as a negative area, and if the “negative designation” 204 is “invalid”, the predetermined area is displayed as a positive area. . In the “designated area” 205, the exposure head of the scanning drawing unit 3c provided in the drawing apparatus 3 is set. As a result, a partial area in which the exposure head is in charge of drawing is specified from the pattern area and displayed on the processing area display screen 81. These are merely examples of the designated parameter Pa1, and are not limited thereto.

これらの指定パラメータＰａ１は、指定パラメータＰａ１のセットとして、後述する指定パラメータ保存部２３に保存される。 These designated parameters Pa1 are stored in the designated parameter storage unit 23 described later as a set of designated parameters Pa1.

指定パラメータＰａ１を用いた表示用ＲＩＰ展開は、これらの指定パラメータＰａ１が、操作ＧＵＩ８０のパラメータ設定画面８２に入力された後で、操作ＧＵＩ８０上の「適用」キー２１５がクリックされることにより実行される。なお、指定パラメータＰａ１が操作ＧＵＩ８０に入力される都度、表示用ＲＩＰ展開が行われる形態であってもよい。 The display RIP expansion using the designated parameter Pa1 is executed by clicking the “apply” key 215 on the operation GUI 80 after these designated parameters Pa1 are input to the parameter setting screen 82 of the operation GUI 80. The The display RIP expansion may be performed every time the designated parameter Pa1 is input to the operation GUI 80.

指定パラメータＰａ１が最初に設定されるまでは、ＲＩＰ展開される設計データＤ０に対応するパターン領域だけが初期画像として処理領域表示画面８１に表示されている。指定パラメータＰａ１が設定され、その指定パラメータＰａ１に基づくＲＩＰ展開がなされた後には、表示用ＲＩＰ展開した画像（以下において、指定画像Ｄ２１と称する。）と、初期画像として表示されていた設計データＤ０が表現するパターン領域（以下において、設計画像Ｄ２２と称する。）とが重ね合わされた状態で処理領域表示画面８１に表示される。なお、設計画像Ｄ２２は、ベクトル形式に記載された設計データＤ０を事前に設定されている初期パラメータでＲＩＰ展開した画像である。初期パラメータは、サイジングや階調反転などの調整処理を行わずに、設計データＤ０に忠実にＲＩＰ展開するためのＲＩＰパラメータであり、初期表示用としてあらかじめ装置内に設定されている。 Until the designated parameter Pa1 is initially set, only the pattern area corresponding to the design data D0 to be RIP-expanded is displayed on the processing area display screen 81 as an initial image. After the designated parameter Pa1 is set and RIP development based on the designated parameter Pa1 is performed, the display RIP-expanded image (hereinafter referred to as the designated image D21) and the design data D0 displayed as the initial image are displayed. Is displayed on the processing area display screen 81 in a state in which the pattern area (hereinafter referred to as a design image D22) expressed by is superimposed. The design image D22 is an image obtained by RIP development of the design data D0 described in the vector format with initial parameters set in advance. The initial parameters are RIP parameters for performing RIP development faithfully to the design data D0 without performing adjustment processing such as sizing and gradation inversion, and are set in advance in the apparatus for initial display.

表示用ＲＩＰ展開は、パターン領域のうちオペレータが処理領域表示画面８１に表示させることを意図した部分（以下「表示対象部分」）に対応する設計データＤ０の部分についてのみリアルタイムで実行される。具体的には、ユーザ操作によって、パターン領域の表示対象部分が設定されると、当該表示対象部分に相当する２次元座標範囲が特定される。そして、特定された２次元座標範囲に対応する設計データＤ０のみが、指定パラメータＰａ１に従ってＲＩＰ展開される。このようにして、処理領域表示画面８１内に表示対象部分の指定画像Ｄ２１が、その部分に相当する設計画像Ｄ２２とともに表示される。 The display RIP expansion is executed in real time only for the portion of the design data D0 corresponding to the portion of the pattern region that the operator intends to display on the processing region display screen 81 (hereinafter “display target portion”). Specifically, when a display target portion of the pattern area is set by a user operation, a two-dimensional coordinate range corresponding to the display target portion is specified. Only the design data D0 corresponding to the specified two-dimensional coordinate range is RIP-expanded according to the designated parameter Pa1. In this way, the designated image D21 of the display target part is displayed in the processing area display screen 81 together with the design image D22 corresponding to that part.

上記のような表示対象部分の設定は、処理領域表示画面８１の側方に設けられたスクロールバー２２０によって処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域をＸ方向又はＹ方向に移動させること、またはマウスのダブルクリックなどによりパターン領域の表示倍率を調節することなどによって行われる。なお、処理領域表示画面８１上でマウスをドラッグアンドドロップすることによりパターン領域を移動させる態様であってもよい。 The setting of the display target portion as described above is performed by moving the pattern area displayed on the processing area display screen 81 in the X direction or the Y direction by the scroll bar 220 provided on the side of the processing area display screen 81. Alternatively, it is performed by adjusting the display magnification of the pattern area by double clicking the mouse. Note that the pattern area may be moved by dragging and dropping the mouse on the processing area display screen 81.

図４には、画像処理装置２の機能的構成を表すブロック図が示されている。 FIG. 4 is a block diagram showing a functional configuration of the image processing apparatus 2.

画像処理装置２は、設計データ取得部２０、設計データ保存部２１、指定パラメータ設定部２２、指定パラメータ保存部２３、処理領域設定部２５、表示用ＲＩＰ展開部２６、および送信部３０を備える。これらの各部の機能は、ＲＯＭ９２に予め格納されたプログラムＰ、あるいはメディアドライブ９４によって記録媒体Ｍに記録されているプログラムＰが読み出され、ＣＰＵ９１において実行されることによって実現する。 The image processing apparatus 2 includes a design data acquisition unit 20, a design data storage unit 21, a designated parameter setting unit 22, a designated parameter storage unit 23, a processing area setting unit 25, a display RIP development unit 26, and a transmission unit 30. The functions of these units are realized by reading out the program P stored in advance in the ROM 92 or the program P recorded in the recording medium M by the media drive 94 and executing it in the CPU 91.

設計データ取得部２０は、設計データ作成装置１からネットワークＮを介して描画すべきパターン領域が記述された設計データＤ０を取得する。なお、ネットワークＮに限らず、例えば可搬型の記憶媒体を介して、設計データＤ０が取得されてもよい。 The design data acquisition unit 20 acquires design data D0 in which a pattern area to be drawn is described from the design data creation device 1 via the network N. Note that the design data D0 may be acquired not only via the network N but also via, for example, a portable storage medium.

設計データ保存部２１は、設計データ取得部２０で取得された設計データＤ０を保存する。保存された設計データＤ０は適宜読み出され、表示用ＲＩＰ展開に使用される。 The design data storage unit 21 stores the design data D0 acquired by the design data acquisition unit 20. The stored design data D0 is appropriately read out and used for display RIP development.

指定パラメータ設定部２２は、設計データＤ０がＲＩＰ展開されるときの指定パラメータＰａ１を設定する。具体的に、オペレータが、パラメータ設定画面８２に操作部９６を介して指定パラメータＰａ１の値を入力することによって、当該指定パラメータＰａ１が指定パラメータ設定部２２に設定される。 The designated parameter setting unit 22 sets a designated parameter Pa1 when the design data D0 is RIP expanded. Specifically, when the operator inputs the value of the designated parameter Pa1 to the parameter setting screen 82 via the operation unit 96, the designated parameter Pa1 is set in the designated parameter setting unit 22.

指定パラメータ保存部２３は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１を保存する。保存された指定パラメータＰａ１は、描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに設定されるなどのため、適宜読み出される。 The designated parameter storage unit 23 stores the designated parameter Pa1 set by the designated parameter setting unit 22. The stored designated parameter Pa1 is appropriately read because it is set as a RIP parameter used for drawing RIP development.

処理領域設定部２５は、処理領域表示画面８１に表示されている設計データＤ０、又は画像データＤ２のパターン領域から処理領域ＲＴを設定する。具体的には、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域に対して、スクロール、ズームイン、又はズームアウトなどのユーザ操作が操作部９６を介して行われる。これによって、オペレータが目視で確認したいパターン領域の部分またはパターン領域全体が処理領域表示画面８１に表示される。このようにして、処理領域ＲＴが設定される。つまり、処理領域ＲＴは、処理領域表示画面８１に表示されているパターン領域の部分または全体であり、上述の表示対象部分に相当する。 The processing area setting unit 25 sets the processing area RT from the pattern area of the design data D0 or the image data D2 displayed on the processing area display screen 81. Specifically, user operations such as scrolling, zooming in, or zooming out are performed on the pattern area displayed on the processing area display screen 81 via the operation unit 96. As a result, the part of the pattern area or the entire pattern area that the operator wants to visually confirm is displayed on the processing area display screen 81. In this way, the processing area RT is set. That is, the processing area RT is a part or the whole of the pattern area displayed on the processing area display screen 81, and corresponds to the display target part described above.

一般に、オペレータはパターン領域全体の各部を平等に確認することはなく、オペレータが特に確認したい部分は限定される。それは主として、描画工程やプロセス上でエラーが生じ易い特定の幾何学的特徴を有する部分である。例えば、パターン領域の曲線部分、鋭角部分、細線部分、頂点部分などの部分領域が処理領域ＲＴ（表示対象部分）として設定される。これによって、表示用ＲＩＰ展開後の指定画像Ｄ２１で、量子化の結果、又はハーフトーン形成の様子などが確認される。 Generally, the operator does not confirm each part of the entire pattern area equally, and the part that the operator particularly wants to confirm is limited. It is mainly a part having specific geometric features that are prone to errors in the drawing process or process. For example, partial regions such as a curved portion, acute angle portion, thin line portion, and vertex portion of the pattern region are set as the processing region RT (display target portion). As a result, the result of quantization or the state of halftone formation is confirmed in the designated image D21 after the display RIP is expanded.

また、パターン領域の画像全体（全体領域）が処理領域ＲＴとして設定される場合には、表示用ＲＩＰ展開後の指定画像Ｄ２１で、複数のチップの配置具合、エッジの処理具合、などが確認される。 When the entire pattern region image (entire region) is set as the processing region RT, the specified image D21 after display RIP development confirms the arrangement state of a plurality of chips, the edge processing state, and the like. The

表示用ＲＩＰ展開部２６は、指定パラメータ設定部２２で設定された指定パラメータＰａ１に基づいて、処理領域ＲＴ（表示対象部分）に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開（表示用ＲＩＰ展開）する。これによって、設計データＤ０のうち処理領域ＲＴに対応する部分が、指定パラメータＰａ１に対応した画像データＤ２に変換される。表示用ＲＩＰ展開は、例えば、指定パラメータＰａ１の入力完了のタイミング、又は操作ＧＵＩ８０上の「適用」キー２１５のクリックを契機に開始され、即時実行される。 The display RIP development unit 26 performs RIP development (display RIP development) on the design data D0 corresponding to the processing region RT (display target portion) based on the designated parameter Pa1 set by the designated parameter setting unit 22. As a result, the portion of the design data D0 corresponding to the processing region RT is converted into image data D2 corresponding to the designated parameter Pa1. The display RIP expansion is started, for example, when the input of the designated parameter Pa1 is completed or when the “apply” key 215 on the operation GUI 80 is clicked, and is immediately executed.

ここで、図５に示されるフローチャートに従って、画像処理装置２における処理の流れについて説明する。また、図６には、設計画像Ｄ２２のパターンの部分領域が処理領域ＲＴとして設定され、表示用ＲＩＰ展開される様子が示されている。また、図７には、設計画像Ｄ２２のパターンの全体領域が処理領域ＲＴとして設定され、表示用ＲＩＰ展開される様子が示されている。 Here, the flow of processing in the image processing apparatus 2 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. FIG. 6 shows a state in which a partial area of the pattern of the design image D22 is set as the processing area RT and the display RIP is developed. Further, FIG. 7 shows a state in which the entire area of the pattern of the design image D22 is set as the processing area RT and the display RIP is developed.

はじめに、設計データ取得部２０が、設計データ作成装置１で作成された設計データＤ０を、ネットワークＮを介して取得する（ステップＳ１）。取得した設計データＤ０は設計データ保存部２１に保存される。 First, the design data acquisition unit 20 acquires the design data D0 created by the design data creation device 1 via the network N (step S1). The acquired design data D0 is stored in the design data storage unit 21.

オペレータは、操作ＧＵＩ８０を介して設計データ保存部２１に保存されている各種の設計データＤ０の中から所望の設計データＤ０を選択する。これによって選択された設計データＤ０を表現する設計画像Ｄ２２が操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に表示される。なお、設計データ取得部２０が取得した設計データＤ０を直接に操作ＧＵＩ８０の処理領域表示画面８１に設計画像Ｄ２２として表示させる形態であってもよい。 The operator selects desired design data D0 from various design data D0 stored in the design data storage unit 21 via the operation GUI 80. A design image D22 expressing the selected design data D0 is displayed on the processing area display screen 81 of the operation GUI 80. The design data D0 acquired by the design data acquisition unit 20 may be directly displayed as the design image D22 on the processing area display screen 81 of the operation GUI 80.

続いて、オペレータは、操作部９６を介して、処理領域ＲＴを設定する（ステップＳ２）。具体的には、オペレータは、処理領域表示画面８１に表示されている設計画像Ｄ２２を見ながら操作を行い、確認したい領域を処理領域表示画面８１に表示させる。 Subsequently, the operator sets a processing region RT via the operation unit 96 (step S2). Specifically, the operator performs an operation while viewing the design image D22 displayed on the processing area display screen 81, and displays the area to be confirmed on the processing area display screen 81.

例えば、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域である場合には、図６に示されるように、設計画像Ｄ２２（ＳＴ２１）のうち、オペレータが確認したい部分領域を拡大表示させ（ＳＴ２２）、線幅、又は形状を細かく確認することができるように表示させる。なお、図６のＳＴ２２で示される設計画像Ｄ２２の梨地領域が、表示用ＲＩＰ展開されるデータ領域に相当する。 For example, when the processing area RT is a partial area of the pattern area, as shown in FIG. 6, the partial area that the operator wants to check is enlarged in the design image D22 (ST21) (ST22), and the line width is displayed. Or, it is displayed so that the shape can be confirmed in detail. Note that the satin area of the design image D22 shown in ST22 of FIG. 6 corresponds to a data area in which the display RIP is expanded.

また、処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの全体領域である場合には、図７に示されるように、設計画像Ｄ２２を縮小表示させて、パターン領域の全体を処理領域表示画面８１に表示させる（ＳＴ３１）。つまり、この場合には、処理領域ＲＴがパターン領域Ｒに相当する。なお、図７のＳＴ３１で示される設計画像Ｄ２２の梨地領域が、表示用ＲＩＰ展開されるデータ領域に相当する。 When the processing area RT is the entire area of the pattern area R, as shown in FIG. 7, the design image D22 is displayed in a reduced size and the entire pattern area is displayed on the processing area display screen 81 (ST31). ). That is, in this case, the processing area RT corresponds to the pattern area R. Note that the satin area of the design image D22 shown in ST31 of FIG. 7 corresponds to a data area in which the display RIP is expanded.

続いて、オペレータが操作ＧＵＩ８０のＲＩＰパラメータ設定画面８２に指定パラメータＰａ１を入力し、指定パラメータＰａ１が設定される（ステップＳ３）。操作ＧＵＩ８０への指定パラメータＰａ１の入力が完了した段階で、当該指定パラメータＰａ１のセットが指定パラメータ保存部２３に保存される。 Subsequently, the operator inputs the designated parameter Pa1 on the RIP parameter setting screen 82 of the operation GUI 80, and the designated parameter Pa1 is set (step S3). When the input of the designated parameter Pa1 to the operation GUI 80 is completed, the set of the designated parameter Pa1 is saved in the designated parameter storage unit 23.

指定パラメータＰａ１が入力された段階で、操作ＧＵＩ８０の「適用」キー２１５がオペレータによってクリックされる。これを契機に表示用ＲＩＰ展開が即時実行される（ステップＳ４）。 When the designated parameter Pa1 is input, the “apply” key 215 of the operation GUI 80 is clicked by the operator. In response to this, the display RIP expansion is immediately executed (step S4).

このとき、処理領域表示画面８１における処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で表示用ＲＩＰ展開は実行される。具体的に、表示倍率が大きくなる場合、すなわち処理領域ＲＴが、パターン領域の部分領域であって、当該部分領域が処理領域表示画面８１に拡大表示されている場合には、比較的高解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。これによって、図６に示されるように指定画像Ｄ２１が設計画像Ｄ２２とともに表示される（ＳＴ２３）。 At this time, the display RIP expansion is executed at a resolution corresponding to the display magnification of the processing region RT on the processing region display screen 81. Specifically, when the display magnification increases, that is, when the processing area RT is a partial area of the pattern area and the partial area is enlarged and displayed on the processing area display screen 81, the resolution is relatively high. Display RIP expansion is performed. As a result, the designated image D21 is displayed together with the design image D22 as shown in FIG. 6 (ST23).

また、表示倍率が小さくなる場合、すなわち処理領域ＲＴが、パターン領域Ｒの全体領域であって、当該全体領域が処理領域表示画面８１に縮小表示されている場合には、比較的低解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。具体的には、処理領域表示画面８１の１画素の大きさが表示用ＲＩＰ展開された画像の画素ピッチに相当する。例えば３００ミリメートルの基板を１０００画素に表示する場合には、画素ピッチは上記１画素の大きさである３００マイクロメートルに相当する。従って、処理領域ＲＴにおける３００マイクロメートル以下の小さな図形は、表示用ＲＩＰ展開されると塗り潰された状態で表示される。つまり、ＲＩＰ展開は粗く行われる。 Further, when the display magnification is reduced, that is, when the processing area RT is the entire area of the pattern area R and the entire area is reduced and displayed on the processing area display screen 81, the display is performed at a relatively low resolution. RIP deployment is performed. Specifically, the size of one pixel on the processing area display screen 81 corresponds to the pixel pitch of the image that has been developed for display RIP. For example, when a 300 mm substrate is displayed on 1000 pixels, the pixel pitch corresponds to 300 micrometers, which is the size of the one pixel. Therefore, a small figure of 300 micrometers or less in the processing region RT is displayed in a filled state when the display RIP is expanded. That is, RIP development is performed roughly.

従って、処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの全体領域であるときの表示用ＲＩＰ展開の解像度は、処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの部分領域であるときの表示用ＲＩＰ展開の解像度よりも低くなる。このようにして、図７に示されるように指定画像Ｄ２１が設計画像Ｄ２２とともに表示される（ＳＴ３２）。 Accordingly, the resolution of the display RIP development when the processing region RT is the entire region of the pattern region R is lower than the resolution of the display RIP development when the processing region RT is a partial region of the pattern region R. In this way, the designated image D21 is displayed together with the design image D22 as shown in FIG. 7 (ST32).

処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの部分領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は設計データＤ０の一部分に対して限定的に行われるため、また処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの全体領域に対応する場合には、表示用ＲＩＰ展開は粗く行われるため、表示用ＲＩＰ展開は、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量が抑制されたＲＩＰ展開となる。 When the processing area RT corresponds to a partial area of the pattern area R, the display RIP development is limited to a part of the design data D0, and the processing area RT corresponds to the entire area of the pattern area R. In this case, since the display RIP expansion is performed roughly, the display RIP expansion is an RIP expansion in which the data processing amount is suppressed as compared with the drawing RIP expansion.

このように、処理領域の表示倍率に応じた解像度で、指定パラメータＰａ１に基づく表示用ＲＩＰ展開が行われ、生成された指定画像Ｄ２１が、設計画像Ｄ２２とともに処理領域表示画面８１に表示される（ステップＳ５）。 In this way, display RIP expansion based on the designated parameter Pa1 is performed at a resolution corresponding to the display magnification of the processing area, and the generated designated image D21 is displayed on the processing area display screen 81 together with the design image D22 ( Step S5).

指定画像Ｄ２１の表示処理が行われると、オペレータは処理領域表示画面８１に表示されている指定画像Ｄ２１を確認する。そして、処理領域ＲＴを再設定して再度表示用ＲＩＰ展開を実施するか否かが判断される（ステップＳ６）。処理領域ＲＴが新たに設定される（ステップＳ７）と、表示用ＲＩＰ展開及び指定画像Ｄ２１の表示処理は新たに実行される。 When the display process of the designated image D21 is performed, the operator confirms the designated image D21 displayed on the processing area display screen 81. Then, it is determined whether or not the processing area RT is reset and the display RIP expansion is performed again (step S6). When the processing region RT is newly set (step S7), the display RIP development and the display processing of the designated image D21 are newly executed.

また、指定画像Ｄ２１の表示処理が行われると、指定パラメータＰａ１を再設定して表示用ＲＩＰ展開を再度実施するか否かが判断される（ステップＳ８）。描画装置３が描画処理を行う際に、指定画像Ｄ２１の形状が品質上問題であると判断される場合には、指定パラメータＰａ１が更新され、表示用ＲＩＰ展開、及び指定画像Ｄ２１の表示処理は新たに実行される。 Further, when the display process of the designated image D21 is performed, it is determined whether or not the designated parameter Pa1 is reset and the display RIP expansion is performed again (step S8). When the drawing apparatus 3 performs the drawing process, if it is determined that the shape of the designated image D21 is a quality problem, the designated parameter Pa1 is updated, the display RIP expansion, and the display process of the designated image D21 are performed. Newly executed.

なお、ステップＳ６とステップＳ８とは逆の順序に行われても構わない。 Note that step S6 and step S8 may be performed in the reverse order.

オペレータは、指定パラメータＰａ１または処理領域ＲＴを様々に更新し、表示画像を更新させつつ、これらの表示画像を目視で確認する。そして、最適な表示画像が得られる指定パラメータＰａ１の値が、描画用ＲＩＰ展開に使用されるＲＩＰパラメータに決定される。決定された指定パラメータＰａ１は、指定パラメータ保存部２３から読み出され、送信部３０によって描画装置３に送信される。 The operator updates the designated parameter Pa1 or the processing region RT in various ways, updates the display image, and visually confirms the display image. Then, the value of the designated parameter Pa1 for obtaining an optimal display image is determined as the RIP parameter used for the RIP development for drawing. The determined designated parameter Pa1 is read from the designated parameter storage unit 23 and transmitted to the drawing apparatus 3 by the transmission unit 30.

このように、表示用ＲＩＰ展開、及び指定画像Ｄ２１の表示処理は、指定パラメータＰａ１が更新されたとき、又は処理領域ＲＴが更新されたときに、その都度リアルタイムで実施される。 As described above, the display RIP expansion and the display processing of the designated image D21 are performed in real time each time the designated parameter Pa1 is updated or the processing region RT is updated.

ここで、図８から図１１を参照しつつ、指定パラメータＰａ１の項目毎に、指定パラメータＰａ１更新の前後における指定画像Ｄ２１について説明する。図８から図１０には、処理領域ＲＴがパターン領域の部分領域に対応する場合が示されている。また、図１１には、処理領域ＲＴがパターン領域Ｒの全体領域に対応する場合が示されている。 Here, the designated image D21 before and after the update of the designated parameter Pa1 will be described for each item of the designated parameter Pa1 with reference to FIGS. 8 to 10 show cases where the processing region RT corresponds to a partial region of the pattern region. FIG. 11 shows a case where the processing area RT corresponds to the entire area of the pattern area R.

図８には、パラメータ設定画面８２でネガ指定が有効のときの指定画像Ｄ２１（ＳＴ４１）とネガ指定が無効のときの指定画像Ｄ２１（ＳＴ４２）とが示されている。このように、ネガ指定が有効な場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ４１）とネガ指定が無効な場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ４２）とでは、表示用ＲＩＰ展開された指定画像Ｄ２１のパターンの領域と背景を表す白地領域ＨＷとが切り替わって表示される。つまり、指定パラメータＰａ１のネガ指定が有効であるか否かに応じて、指定画像Ｄ２１のネガポジが反転して表示される。 FIG. 8 shows a designated image D21 (ST41) when the negative designation is valid on the parameter setting screen 82 and a designated image D21 (ST42) when the negative designation is invalid. As described above, in the designated image D21 (ST41) in the case where the negative designation is valid and the designated image D21 (ST42) in the case where the negative designation is invalid, the pattern area and background of the designated image D21 expanded for display RIP are used. The white background area HW to be displayed is switched and displayed. That is, the negative / positive of the designated image D21 is displayed in an inverted manner depending on whether or not the negative designation of the designated parameter Pa1 is valid.

また、図９には、斜め線をスムーズに表すためにハーフトーンＨＴが設定されていない場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ５１）と、ハーフトーンＨＴが設定されている場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ５２）とが示されている。なお、図９に示されるＳＴ５１とＳＴ５２とはいずれも白地領域ＬＷがパターンの領域を、白地領域ＲＷが背景を表している。斜め線で表される設計画像Ｄ２２のパターンがＲＩＰ展開されると、当該部分に対応する指定画像Ｄ２１は階段状に表示される（ＳＴ５１）。この階段状に表示された指定画像Ｄ２１の部分をハーフトーンで表示することによって、指定画像Ｄ２１における当該部分は視覚的に滑らかに表示される。 FIG. 9 also shows a designated image D21 (ST51) when the halftone HT is not set in order to smoothly represent a diagonal line, and a designated image D21 (ST52) when the halftone HT is set. It is shown. In both ST51 and ST52 shown in FIG. 9, the white area LW represents the pattern area, and the white area RW represents the background. When the pattern of the design image D22 represented by the diagonal lines is RIP-developed, the designated image D21 corresponding to the portion is displayed in a staircase pattern (ST51). By displaying the portion of the designated image D21 displayed in a staircase pattern with a halftone, the portion in the designated image D21 is displayed visually smoothly.

また、図１０には、太らせ幅が設定された場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ６１）と、細らせ幅が設定された場合の指定画像Ｄ２１（ＳＴ６２）とが示されている。ＳＴ６１の指定画像Ｄ２１が表すパターンの端部は設計画像Ｄ２２のパターンよりも太らせ幅の設定値だけ外側に形成されている。また、ＳＴ６１の指定画像Ｄ２１が表すパターンの端部は設計画像Ｄ２２のパターンよりも細らせ幅の設定値だけ内側に形成されている。このように、設計画像Ｄ２２が指定画像Ｄ２１とともに表示されているため、設計画像Ｄ２２を目安にしながら指定画像Ｄ２１のパターンの線幅の調節を行うことができる。 Also, FIG. 10 shows a designated image D21 (ST61) when the fattening width is set and a designated image D21 (ST62) when the thinning width is set. The edge of the pattern represented by the designated image D21 in ST61 is formed outside the pattern of the design image D22 by the set value of the width. Further, the end portion of the pattern represented by the designated image D21 in ST61 is formed on the inner side by the set value of the narrowing width than the pattern of the design image D22. Thus, since the design image D22 is displayed together with the designated image D21, the line width of the pattern of the designated image D21 can be adjusted using the design image D22 as a guide.

また、図１１には、エッジ露光が形成されていない指定画像Ｄ２１（ＳＴ７１）と、エッジ露光が形成されている指定画像Ｄ２１（ＳＴ７２）とが示されている。エッジ露光とは、基板に形成されたチップの外側を円形に囲むようにして形成される露光領域のことである。このように、指定パラメータＰａ１として、エッジ露光のＯＮ／ＯＦＦが設定されることにより、エッジ露光領域ＥＬが設定された指定画像Ｄ２１が確認される（ＳＴ７２）。なお、ＳＴ７１及びＳＴ７２のいずれの指定画像Ｄ２１においても、指定パラメータＰａ１として指定領域が設定されており、パターン領域Ｒ全体の左半分の領域が表示されている。 Further, FIG. 11 shows a designated image D21 (ST71) in which no edge exposure is formed and a designated image D21 (ST72) in which edge exposure is formed. Edge exposure refers to an exposure region formed so as to surround the outside of a chip formed on a substrate in a circular shape. As described above, by setting ON / OFF of edge exposure as the specified parameter Pa1, the specified image D21 in which the edge exposure area EL is set is confirmed (ST72). In both the designated images D21 of ST71 and ST72, the designated area is set as the designated parameter Pa1, and the left half area of the entire pattern area R is displayed.

このような指定パラメータＰａ１更新あるいは処理領域ＲＴの更新に応答して表示用ＲＩＰ展開が再度なされ、かつ処理領域表示画面８１における表示がリアルタイムで更新されることにより、実質的に画像の変化を動的にモニタしつつ指定パラメータＰａ１などの調整が可能となる。ただし、ここで言うリアルタイムとは、指定パラメータＰａ１の更新、あるいは処理領域ＲＴの更新に応答する場合のみならず、指定パラメータＰａ１更新後、あるいは処理領域ＲＴの更新後、オペレータが更新指令を与えることによって表示用ＲＩＰ展開が行われ、表示が更新される場合も含んでいる。換言すれば、描画用ＲＩＰ展開にかかる時間を要することなくパラメータ更新とその結果の確認が可能という意味において、本実施形態の装置はリアルタイム性を有する。 In response to the update of the designated parameter Pa1 or the update of the processing region RT, the display RIP is expanded again, and the display on the processing region display screen 81 is updated in real time, thereby substantially changing the image. It is possible to adjust the designated parameter Pa1 or the like while monitoring it. However, the real-time mentioned here is not only when responding to the update of the designated parameter Pa1 or the update of the processing region RT, but also the operator gives an update command after the update of the designated parameter Pa1 or after the update of the processing region RT. This includes the case where the display RIP is expanded and the display is updated. In other words, the apparatus of the present embodiment has real-time characteristics in the sense that parameter update and confirmation of the result can be performed without requiring time for developing the drawing RIP.

以上のように、本実施形態に係る画像処理装置２では、描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開が行われ、指定画像Ｄ２１が表示される。このため、指定パラメータＰａ１が設定される都度、速やかにＲＩＰ展開を行うことができる。 As described above, in the image processing apparatus 2 according to the present embodiment, the display RIP expansion is performed with the data processing amount being suppressed as compared with the drawing RIP expansion, and the designated image D21 is displayed. For this reason, every time the designated parameter Pa1 is set, RIP deployment can be performed promptly.

また、指定パラメータＰａ１の更新に応答して、表示用ＲＩＰ展開がなされて表示が更新されるため、ＲＩＰ展開後の指定画像Ｄ２１をより速やかに確認することができる。 In addition, in response to the update of the designated parameter Pa1, the display RIP development is performed and the display is updated. Therefore, the designated image D21 after the RIP development can be confirmed more quickly.

また、処理領域ＲＴが、パターン領域Ｒの部分領域に対応する場合には、比較的高解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われ、処理領域ＲＴが、パターン領域Ｒの全体領域に対応する場合には、比較的低解像度で表示用ＲＩＰ展開が行われる。このため、表示用ＲＩＰ展開を速やかに実行することができる。 When the processing area RT corresponds to a partial area of the pattern area R, display RIP development is performed with a relatively high resolution. When the processing area RT corresponds to the entire area of the pattern area R, The display RIP is developed at a relatively low resolution. For this reason, the display RIP expansion can be executed promptly.

また、設計画像Ｄ２２と位置合わせをした状態で、表示用ＲＩＰ展開によって得られる指定画像Ｄ２１が処理領域表示画面８１に表示される。このため、設計データＤ０が表すパターン（設計画像Ｄ２２）と指定パラメータＰａ１で表示用ＲＩＰ展開された画像データＤ２が表すパターン（指定画像Ｄ２１）との比較を容易に行うことができる。つまり、設計画像Ｄ２２を目安にして、指定パラメータＰａ１の更新に伴って指定画像Ｄ２１が更新される都度、指定画像Ｄ２１を設計画像Ｄ２２と比較することができる。 In addition, the designated image D21 obtained by the display RIP development is displayed on the processing region display screen 81 in the state of being aligned with the design image D22. Therefore, it is possible to easily compare the pattern (design image D22) represented by the design data D0 with the pattern (designation image D21) represented by the image data D2 expanded by the display RIP with the designated parameter Pa1. That is, the design image D22 can be compared with the design image D22 every time the design image D21 is updated with the update of the design parameter Pa1, using the design image D22 as a guide.

また、表示用ＲＩＰ展開の対象となる処理領域ＲＴ（表示対象部分）は、設計画像Ｄ２２、又は指定画像Ｄ２１を処理領域表示画面８１に表示させた状態で設定される。このため、オペレータは目視で確認しつつ処理領域ＲＴを設定することができる。従って、誤って処理領域ＲＴを設定することを抑制できる。 Further, the processing region RT (display target portion) that is the target of the display RIP development is set in a state where the design image D22 or the designated image D21 is displayed on the processing region display screen 81. For this reason, the operator can set the processing region RT while visually confirming it. Accordingly, it is possible to suppress erroneous setting of the processing region RT.

また、上記の実施形態の装置は、半導体基板やＦＤＰディスプレイパネル用基板やプリント基板など精密電子基板製造用の光ビーム直接描画装置を想定しているが、印刷などの分野における直接描画においてもこの発明は適用できる。光ビームではなく、電子ビームなどによる直接描画装置にも適用可能である。 The apparatus of the above embodiment assumes a light beam direct drawing apparatus for manufacturing a precision electronic substrate such as a semiconductor substrate, a substrate for an FDP display panel, or a printed board. The invention is applicable. The present invention can also be applied to a direct writing apparatus using an electron beam instead of a light beam.

２画像処理装置（画像表示装置）
３直接描画装置
２０設計データ取得部
２２指定パラメータ設定部
２５処理領域設定部
２６表示用ＲＩＰ展開部
８１処理領域表示画面
８２パラメータ設定画面
９５表示部
１００図形描画システム
ＲＴ処理領域
Ｒパターン領域
Ｐａ１指定パラメータ
Ｄ０設計データ
Ｄ２画像データ
Ｄ２１指定画像
Ｄ２２設計画像 2 Image processing device (image display device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Direct drawing apparatus 20 Design data acquisition part 22 Designated parameter setting part 25 Processing area setting part 26 RIP expansion part for display 81 Processing area display screen 82 Parameter setting screen 95 Display part 100 Graphic drawing system RT processing area R Pattern area Pa1 Specification parameter D0 Design data D2 Image data D21 Designated image D22 Design image

Claims

An image display device for a direct drawing device that directly draws a predetermined pattern on a drawing object by scanning a drawing beam,
An acquisition unit for acquiring design data in a vector format describing the pattern;
A processing area setting unit for setting a processing area for performing display RIP expansion on the design data;
A designated parameter setting unit for setting a designated parameter used when the design data is developed in the drawing RIP for the direct drawing;
A display RIP developing unit that obtains a designated image by developing a portion corresponding to the processing area in the design data using the designated parameter,
A display unit for visually displaying the designated image;
With
The display RIP processing of the display RIP development unit is executed, the Ri RIP development der that suppresses data throughput than drawing RIP development, also responds to both update the specified parameters and the processing region Te, the display RIP processing is performed, and an image display device for direct imaging system, wherein Rukoto display is updated in the display unit.

  An image display device for a direct drawing device according to claim 1,
  The display RIP developing unit is
  When the processing area corresponds to a partial area of the pattern, while performing the display RIP development at the first resolution,
  When the processing area corresponds to the entire area of the pattern, the display RIP expansion is performed at the second resolution;
  The image display device for a direct drawing device, wherein the second resolution is lower than the first resolution.

An image display device for a direct drawing device according to claim 1 or 2,
An image display device for a direct drawing apparatus, wherein an image obtained by the display RIP development is displayed on the display unit in a state of being aligned with a pattern corresponding to the design data.

An image display device for a direct drawing device according to any one of claims 1 to 3,
An image display apparatus for a direct drawing apparatus, wherein the processing area is set in a state where the pattern is displayed on the display section.

  A computer-readable program having a display screen for a direct drawing apparatus that directly draws a predetermined pattern on a drawing object by scanning a drawing beam,
  The computer reads the program, and the CPU of the computer executes the program using a memory, thereby causing the computer to
  An acquisition unit for acquiring design data in a vector format describing the pattern;
  A processing area setting unit for setting a processing area for performing display RIP expansion on the design data;
  A designated parameter setting unit for setting a designated parameter used when the design data is developed in the drawing RIP for the direct drawing;
  A display RIP developing unit that obtains a designated image by developing a portion corresponding to the processing area in the design data using the designated parameter,
  A display unit for visually displaying the designated image on the display screen;
With
  The display RIP expansion executed by the display RIP expansion unit is an RIP expansion in which the data processing amount is suppressed as compared with the drawing RIP expansion, and responds to both the update of the designated parameter and the processing area. A program that functions as an image display device, wherein the display RIP is expanded and the display on the display unit is updated.