JP5930091B2

JP5930091B2 - Method for producing metal particles

Info

Publication number: JP5930091B2
Application number: JP2015052350A
Authority: JP
Inventors: 山本　学; 学山本; 北村　満; 満北村; 山内　豪; 豪山内; 明子北村; 陽子小澤
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2015-03-16
Filing date: 2015-03-16
Publication date: 2016-06-08
Anticipated expiration: 2031-05-31
Also published as: JP2015163737A

Description

本発明は、クレジットカード、キャッシュカード、ＩＤカード、会員証などのカード類、紙幣、株券、商品券、宝くじ券、手形、小切手、入場券などの有価証券・金券類、各種証明書、高額商品の下げ札などに付与し、いわゆるタガントとして用いられる偽造防止用の粒子などに関する。 The present invention includes credit cards, cash cards, ID cards, membership cards and other cards, banknotes, stock certificates, gift certificates, lottery tickets, bills, checks, admission tickets, and other securities, cash certificates, various certificates, and high-priced products. It relates to forgery-preventing particles, etc. used as so-called taggants.

従来、有価証券類など、偽造を防止することが必要とされる物品において、タガント（ｔａｇｇａｎｔ、なお、タゲント（ｔａｇｇｅｎｔ）とも呼ばれる）と呼ばれる偽造防止用の添加物が用いられてきた。タガントとしては、高度に偽造が困難であることだけでなく、真贋判定を容易にかつ迅速に実施できること、安価であることが求められている。 Conventionally, an anti-counterfeit additive called taggant (also called taggent) has been used in articles such as securities that need to prevent forgery. The taggant is required not only to be highly difficult to counterfeit, but also to be able to easily and quickly implement authenticity determination and to be inexpensive.

このようなタガント粒子として、光学的な拡大装置を用いて観察可能に構成され、かつ模様化がなされた微小マーカーが開示されている。この微小マーカーは、集積回路の技術分野におけるリソグラフィーの手法によって形成されたものであるか、または他のマイクロ・マシニングの技術分野の手法によって形成されたものであって、図形、ロゴ、個人的な署名、日付、言葉等の、そのデザインの内容に基づき情報をもったものとして認識されるように構成されたものである（特許文献１参照）。 As such taggant particles, a micro marker that is configured to be observable using an optical magnifying device and is patterned is disclosed. These micro-markers are formed by lithographic techniques in the integrated circuit technology field, or formed by other micro-machining technology field methods, such as graphics, logos, personal It is configured to be recognized as having information based on the contents of the design, such as a signature, date, and words (see Patent Document 1).

特開２００２−２３０５１２号公報JP 2002-230512 A

しかしながら、従来のタガント粒子としては、樹脂製のものが一般的であり、機械的強度が低く、物品への付与時に破損して識別できなくなるという、耐久性が低いという問題点があった。また、樹脂からなるタガント粒子では、金属光沢を必要とする用途において、意匠性が低いという問題点があった。 However, as conventional taggant particles, those made of resin are generally used, and there is a problem that the mechanical strength is low, and the durability is low, that is, it becomes damaged when applied to an article and cannot be identified. In addition, the taggant particles made of resin have a problem of low designability in applications that require metallic luster.

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、その目的とすることは、タガント粒子として用いられる、耐久性が高く、意匠性に優れた金属粒子が得られる製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its object is to provide a production method for obtaining metal particles that are used as taggant particles and have high durability and excellent design properties. It is.

前述した目的を達成するために、以下の発明を提供する。
（１）基材上の、アルカリ可溶性樹脂を含む犠牲層の表面に、凹凸形状を形成する凹凸形状形成工程と、前記犠牲層上に、金属凹凸層を形成する金属凹凸層形成工程と、前記金属凹凸層上に、金属層を形成する金属層形成工程と、前記金属層上に、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記金属凹凸層及び前記金属層をエッチングし、金属粒子を形成する金属粒子形成工程と、アルカリ性の現像液により、前記犠牲層及び前記レジスト層を除去し、前記金属粒子を基材より剥離する剥離工程と、を具備し、前記金属粒子の前記犠牲層と接触する表面に、前記犠牲層の凹凸形状に由来する凹凸形状が転写されることを特徴とする金属粒子の製造方法。 In order to achieve the above-mentioned object, the following invention is provided.
(1) An uneven shape forming step for forming an uneven shape on the surface of a sacrificial layer containing an alkali-soluble resin on the substrate, a metal uneven layer forming step for forming a metal uneven layer on the sacrificial layer, A metal layer forming step for forming a metal layer on the metal uneven layer, a resist layer forming step for forming a resist layer containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern on the metal layer, the metal uneven layer, and the metal layer the metal layer is etched, the metal particles forming a metal particle, with an alkaline developer to remove the sacrificial layer and the resist layer, anda peeling step of peeling off from the base material of the metal particles A method for producing metal particles , wherein a concavo-convex shape derived from the concavo-convex shape of the sacrificial layer is transferred to a surface of the metal particle that contacts the sacrificial layer .

本発明により、タガント粒子として用いられる、耐久性が高く、意匠性に優れた金属粒子が得られる製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a production method for obtaining metal particles that are used as taggant particles and have high durability and excellent design properties.

（ａ）、（ｂ）本発明にかかる金属粒子１ａ、１ｂを示す斜視図。(A), (b) The perspective view which shows metal particle 1a, 1b concerning this invention. （ａ）〜（ｆ）本発明にかかる金属粒子１ａ、１ｂの製造方法の第１の実施形態を示す図。(A)-(f) The figure which shows 1st Embodiment of the manufacturing method of the metal particle 1a, 1b concerning this invention. （ａ）、（ｂ）金属粒子の製造に用いられる基材７の他の例を示す図。(A), (b) The figure which shows the other example of the base material 7 used for manufacture of a metal particle. （ａ）〜（ｈ）本発明にかかる金属粒子の製造方法の第２の実施形態を示す図。(A)-(h) The figure which shows 2nd Embodiment of the manufacturing method of the metal particle concerning this invention. （ａ）本発明にかかる有価証券４１を示す平面図、（ｂ）（ａ）でのＡ−Ａ’断面を示す断面図。(A) Top view which shows the securities 41 concerning this invention, (b) Sectional drawing which shows the A-A 'cross section in (a). （ａ）本発明にかかるカード５１を示す平面図、（ｂ）（ａ）でのＢ−Ｂ’断面を示す断面図。(A) The top view which shows the card | curd 51 concerning this invention, (b) Sectional drawing which shows the B-B 'cross section in (a).

以下図面に基づいて、本発明の実施形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（金属粒子の構成）
図１（ａ）、（ｂ）は、本発明にかかる金属粒子１ａ、１ｂを示す図である。図１（ａ）に示す金属粒子１ａは、金属製であり、平板状の基体５上に、拡大して観察することで識別可能な凹凸形状として、文字を表示する回折格子またはホログラムの識別部３ａが形成されている。識別部３ａの回折格子またはホログラムは、基体５の上に、光の干渉縞を深さ１μｍ以下の微細な凹凸加工で記録して立体画像を再現するものである。基体５の形状も拡大して観察することで識別可能であり、形状は円板に限られるものではなく、楕円形や多角形、星型など、様々な形状が使用できる。また、基体上に設けられる識別部３ａとしては、文字以外にも、様々な図形、数字、記号のほか、花やデザインなどを施すことができる。すなわち、基体５の輪郭や基体５に施された形状、模様もしくは色彩等の意匠を含む識別部３ａを拡大して観察することで識別可能である。 (Composition of metal particles)
1A and 1B are views showing metal particles 1a and 1b according to the present invention. A metal particle 1a shown in FIG. 1 (a) is made of metal, and has a diffraction grating or hologram identification portion that displays characters as a concavo-convex shape that can be identified by magnifying and observing on a flat substrate 5. 3a is formed. The diffraction grating or hologram of the identification unit 3a reproduces a three-dimensional image by recording light interference fringes on the substrate 5 with a fine unevenness with a depth of 1 μm or less. The shape of the substrate 5 can also be identified by observing it in an enlarged manner, and the shape is not limited to a disk, and various shapes such as an ellipse, a polygon, and a star can be used. In addition to characters, the identification unit 3a provided on the base can be provided with various figures, numbers, symbols, flowers, designs, and the like. That is, it can be identified by magnifying and observing the identification portion 3a including the outline of the base body 5 and the design such as the shape, pattern or color applied to the base body 5.

なお、形状が識別可能であるとは、人為的な形状が形成されており、意図せずに自然に形成される形状から区別できることを意味する。そのため、金属粒子１ａを付与した物品を偽造する場合、物品の外形等の偽造ができても、金属粒子１ａの偽造までは困難であるので、真正の物品と偽造された物品とを判別できる。また、形状が識別可能であるため、真正の物品同士でも、付与する金属粒子１ａの形状を変更することで、製造時期や用途などを判別可能である。 Note that that the shape is identifiable means that an artificial shape is formed and can be distinguished from a shape that is naturally formed without intention. Therefore, when forging an article provided with the metal particles 1a, even if the outer shape of the article can be forged, it is difficult to forge the metal particles 1a. Therefore, it is possible to distinguish between a genuine article and a forged article. In addition, since the shape can be identified, it is possible to discriminate the manufacturing time, the use, and the like even between genuine articles by changing the shape of the metal particles 1a to be applied.

金属粒子１ａは、製造時にアルカリ性の現像液により影響を受けない、アルカリ不溶性金属で構成されている。アルカリ不溶性金属としては特に限定されないが、製造時に電気めっきにより成膜することが好ましいため、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、金、銀、銅、白金族などが用いられることが好ましい。特に、微細な凹凸形状を再現するために電気めっきの特性が優れ、安価に用いることができるニッケルが用いられることが好ましい。 The metal particles 1a are made of an alkali-insoluble metal that is not affected by an alkaline developer during production. Although it does not specifically limit as an alkali-insoluble metal, Since it is preferable to form into a film by electroplating at the time of manufacture, it is preferable that nickel, chromium, iron, cobalt, gold | metal | money, silver, copper, a platinum group etc. are used. In particular, it is preferable to use nickel which has excellent electroplating characteristics and can be used at low cost in order to reproduce a fine uneven shape.

また、金属粒子１ａは、２種以上の金属層が積層されていても良い。 Moreover, the metal particle 1a may be a laminate of two or more metal layers.

金属粒子１ａの厚さは、１μｍ以上、２５μｍ以下であることが好ましい。厚さが薄すぎると、強度が保てず、取り扱いの際に金属粒子が破損してしまう。一方、厚さが厚すぎると、製造時の金属の厚膜の形成が困難になるほか、樹脂や分散媒への分散性が悪く、取り扱い時に不便である。 The thickness of the metal particle 1a is preferably 1 μm or more and 25 μm or less. If the thickness is too thin, the strength cannot be maintained, and the metal particles are damaged during handling. On the other hand, if the thickness is too thick, it becomes difficult to form a thick metal film during production, and the dispersibility in a resin or dispersion medium is poor, which is inconvenient in handling.

金属粒子１ａのサイズは、１０〜３００μｍであることが好ましい。小さすぎると、ルーペなどの簡易な拡大器具を使用して金属粒子１を観察することができず、顕微鏡などのより複雑な装置を使用しないと、真贋判定ができなくなる。また、大きすぎると、拡大器具を使用せずとも肉眼により金属粒子１の特徴を認識可能となり、偽造防止効果が低下する。ここで、サイズとは、金属粒子を平面視した際の、最長の長さであり、例えば形状が四角形であればその対角線の長さであり、形状が楕円であればその長軸の長さである。
また、図１での「ＤＮ」の文字は、裸眼では認識できず、ルーペなどを用いて認識できる程度の大きさである。 The size of the metal particles 1a is preferably 10 to 300 μm. If it is too small, the metal particles 1 cannot be observed using a simple magnifying instrument such as a magnifying glass, and authenticity cannot be determined unless a more complicated device such as a microscope is used. On the other hand, if the size is too large, the features of the metal particles 1 can be recognized by the naked eye without using a magnifying device, and the forgery prevention effect is reduced. Here, the size is the longest length when the metal particle is viewed in plan, for example, the length of the diagonal line if the shape is a quadrangle, and the length of the major axis if the shape is an ellipse. It is.
Further, the character “DN” in FIG. 1 is not large enough to be recognized with the naked eye, but is large enough to be recognized using a loupe or the like.

（金属粒子の効果）
本発明の金属粒子１ａは、金属製であるので、機械的強度に優れ、優れた耐久性を持つうえ、金属光沢を持ち、意匠性に優れる。 (Effect of metal particles)
Since the metal particles 1a of the present invention are made of metal, they have excellent mechanical strength, excellent durability, metallic luster, and excellent design.

本発明の金属粒子１ａは、製造が困難なホログラムや回折格子などの凹凸形状を表面に有するため、偽造防止効果が向上する。 Since the metal particles 1a of the present invention have uneven shapes such as holograms and diffraction gratings that are difficult to manufacture on the surface, the forgery prevention effect is improved.

本発明の金属粒子１ａを物品に付与すると、肉眼では微小金属粒子の特徴が把握できず、偽造防止技術が施されていることが確認できないため、目視で確認できる偽造防止技術と比べて、より高い偽造防止効果を発揮することができる。 When the metal particles 1a of the present invention are applied to an article, the characteristics of the fine metal particles cannot be grasped with the naked eye and it cannot be confirmed that the anti-counterfeiting technology is applied. High anti-counterfeiting effect can be exhibited.

本発明の金属粒子１ａが、複数種類の金属から構成されている場合、金属粒子１ａは、外形などの光学的に観察できる特徴以外に、複数種類の金属から構成されるという、他の分析手段を用いなければ解析できない特徴を有することとなり、フォレンジックである。フォレンジックとは分析機器により真贋判定を行うことを示す。オバート（五感による真贋判定）、コバート（簡易器具による真贋判定）に対し、分析機器を必要とすることから、高い偽造防止効果が得られる。つまり、金属粒子１ａが、複数種類の金属から構成されている場合、仮に金属粒子１ａの形状や識別部などの特徴を複製することができたとしても、通常は金属粒子１ａが積層した金属を含むことまでは分からないため、一層の金属からなる金属粒子を形成すると考えられる。そのため、金属粒子を分析し、一層の金属からなると分かる場合には、偽造品を見破ることができる。 When the metal particle 1a of the present invention is composed of a plurality of types of metals, the metal particle 1a is composed of a plurality of types of metals in addition to the optically observable features such as the outer shape. It has a feature that cannot be analyzed without using, and is forensic. Forensic means that authenticity is determined by an analytical instrument. Since an analytical instrument is required for overt (authentication determination by the five senses) and covert (authentication determination by a simple instrument), a high anti-counterfeiting effect can be obtained. That is, when the metal particles 1a are composed of a plurality of types of metals, even if the features such as the shape and the identification part of the metal particles 1a can be replicated, the metal laminated with the metal particles 1a is usually Since it does not know until it contains, it is thought that the metal particle which consists of one layer of metal is formed. Therefore, if the metal particles are analyzed and found to be composed of a single layer of metal, a counterfeit product can be detected.

（金属粒子の用途）
金属粒子１ａを水溶性バインダーなどの分散媒に分散すると、偽造防止用インクが得られる。このような偽造防止用インクを用いて、シルク・スクリーン印刷などで印刷することで簡便に物品に金属粒子を付与することができる。 (Use of metal particles)
When the metal particles 1a are dispersed in a dispersion medium such as a water-soluble binder, an anti-counterfeit ink can be obtained. By using such anti-counterfeit ink and printing by silk screen printing or the like, metal particles can be easily applied to the article.

金属粒子１ａを紫外線硬化型樹脂などに分散し、乾燥または硬化することで、偽造防止用シートが得られる。金属粒子１ａが分散した紫外線硬化型樹脂をフィルムなどの物品上に塗布し、紫外線を照射し、硬化させることで、物品に、金属粒子が付与されたシートを形成することができる。また、金属粒子１ａを、押出成型機や射出成型機中にてＰＶＣ、ＰＰ、ＡＢＳ、ＡＥＳ、ＰＳ等と混合させ、押出成型や射出成型をすることで、金属粒子が含まれた樹脂成型品が得られる。その結果、金属粒子が付与され、偽造防止技術が盛り込まれたシート、カード等の各種樹脂成型品が得られる。 The anti-counterfeit sheet can be obtained by dispersing the metal particles 1a in an ultraviolet curable resin or the like and drying or curing. By applying an ultraviolet curable resin in which the metal particles 1a are dispersed on an article such as a film, and irradiating and curing the ultraviolet ray, a sheet provided with the metal particles can be formed on the article. Moreover, the resin molded product containing the metal particles by mixing the metal particles 1a with PVC, PP, ABS, AES, PS, etc. in an extrusion molding machine or an injection molding machine, and performing extrusion molding or injection molding. Is obtained. As a result, various resin molded products such as sheets and cards to which metal particles are applied and a forgery prevention technique is incorporated are obtained.

また、有価証券またはカードに、金属粒子１ａを含むインクで印刷することや、金属粒子が含まれたシートを貼付するか、塗布により形成することで、金属粒子が付与された有価証券、カードが得られる。例えば、図５に示すように、有価証券４１は、帯状の金属粒子含有部４３を形成する。金属粒子含有部４３は、金属粒子を含むインクを帯状に印刷して形成することや、金属粒子が含まれた帯状のシートを貼付するか、塗布により形成することで得られる。また、図６に示すように、カード５１は、斑状の金属粒子含有部５３を形成する。金属粒子含有部５３は、金属粒子を含むインクを斑状に印刷して形成することや、金属粒子が含まれた斑状のシートを貼付するか、塗布により形成することで得られる。なお、ＡＴＭなどの機械で取り扱いやすくするため、金属粒子含有部５３が、カードの面より飛び出さないように、カード５１の凹部に形成されている。なお、有価証券には、紙幣、株券、商品券、宝くじ券、手形、小切手、入場券が含まれ、カードには、クレジットカード、キャッシュカード、ＩＤカード、会員証が含まれる。 In addition, the securities or cards to which the metal particles are given can be printed by printing with ink containing the metal particles 1a on the securities or cards, or by applying a sheet containing the metal particles or by coating. can get. For example, as shown in FIG. 5, the securities 41 form a band-shaped metal particle-containing portion 43. The metal particle-containing portion 43 is obtained by printing an ink containing metal particles in a band shape, or affixing or forming a belt-like sheet containing metal particles. Further, as shown in FIG. 6, the card 51 forms a patchy metal particle containing portion 53. The metal particle-containing portion 53 is obtained by printing ink containing metal particles in a patchy form, or by sticking a patchy sheet containing metal particles or by coating. In addition, in order to make it easy to handle with machines, such as ATM, the metal particle containing part 53 is formed in the recessed part of the card | curd 51 so that it may not protrude from the surface of a card | curd. Note that securities include banknotes, stock certificates, gift certificates, lottery tickets, bills, checks, admission tickets, and cards include credit cards, cash cards, ID cards, and membership cards.

（金属粒子の他の例）
図１（ｂ）に示す金属粒子１ｂは、平板状の基体上に立体的な文字の識別部３ｂが形成されている。図１（ｂ）では、円板上に厚みのある文字が形成されているが、基材の形状も円板に限られるものではなく、楕円形や多角形、星型など、様々な形状が使用できる。また、基材上に設けられる形状としては、文字以外にも、様々な図形、数字、記号のほか、立体的な花やデザインなどを施すことができる。また、識別部３ｂの立体的な構造は、立体的に観察されるために、深さが１μｍ以上であることが好ましい。 (Other examples of metal particles)
In the metal particle 1b shown in FIG. 1B, a three-dimensional character identification portion 3b is formed on a flat substrate. In FIG. 1B, thick characters are formed on the disc, but the shape of the substrate is not limited to the disc, and various shapes such as an ellipse, a polygon, and a star are available. Can be used. Moreover, as a shape provided on the base material, in addition to letters, various figures, numbers, symbols, three-dimensional flowers and designs can be applied. Moreover, since the three-dimensional structure of the identification part 3b is observed three-dimensionally, it is preferable that the depth is 1 μm or more.

金属粒子１ｂの構成は、識別部が異なる点を除いて同様である。金属粒子１ｂの効果、用途は、金属粒子１ａと同様である。 The configuration of the metal particle 1b is the same except that the identification part is different. The effects and uses of the metal particles 1b are the same as those of the metal particles 1a.

なお、金属粒子１ｂの厚さ（基体５のみの厚さではなく、識別部３ｂの厚さも含む厚さ）は、２μｍ以上であることが好ましく、２５μｍ以下であることが好ましい。厚さが薄すぎると、強度が保てず、取り扱いの際に金属粒子が破損しやすいうえ、金属粒子に形成された三次元構造が、立体的に観察されない。一方、厚さが厚すぎると、製造時の金属の厚膜の形成が困難になるほか、樹脂や分散媒への分散性が悪く、取り扱い時に不便である。 The thickness of the metal particles 1b (not only the thickness of the substrate 5 but also the thickness of the identification part 3b) is preferably 2 μm or more, and preferably 25 μm or less. If the thickness is too thin, the strength cannot be maintained, the metal particles are easily damaged during handling, and the three-dimensional structure formed on the metal particles is not observed three-dimensionally. On the other hand, if the thickness is too thick, it becomes difficult to form a thick metal film during production, and the dispersibility in a resin or dispersion medium is poor, which is inconvenient in handling.

（金属粒子の製造方法の第１の実施の形態）
次に、本発明にかかる金属粒子１ａ、１ｂの製造方法について説明する。なお、回折格子またはホログラムの識別部３ａを有する金属粒子１ａと、立体的形状の識別部３ｂを有する金属粒子１ｂは、凹凸形状９の形状が異なるのみで、同様の製造方法により製造可能である。 (First Embodiment of Method for Producing Metal Particles)
Next, the manufacturing method of the metal particles 1a and 1b according to the present invention will be described. The metal particle 1a having the diffraction grating or hologram identification part 3a and the metal particle 1b having the three-dimensional identification part 3b can be manufactured by the same manufacturing method except that the shape of the concavo-convex shape 9 is different. .

図２（ａ）は、基材の表面に凹凸形状を形成する工程を示す。
図２（ｂ）は、犠牲層形成工程を示す。犠牲層形成工程とは、表面に凹凸形状を有する基材上に、アルカリ可溶性金属を含む金属製犠牲層を形成する工程である。
図２（ｃ）は、レジスト層形成工程を示す。レジスト層形成工程とは、金属製犠牲層上に、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層を形成する工程である。
図２（ｄ）は、アルカリ不溶性金属層形成工程をしめす。アルカリ不溶性金属層形成工程とは、電気メッキにより、前記金属製犠牲層上であって、前記レジスト層以外の個所に、アルカリ不溶性金属層を形成する工程である。
図２（ｅ）は、剥離工程を示す。剥離工程とは、アルカリ性の現像液により、前記金属製犠牲層及び前記レジスト層を除去し、前記アルカリ不溶性金属層を前記基材から剥離する工程である。
図２（ｆ）は、基材から剥離し、個片化した金属粒子を示す。 Fig.2 (a) shows the process of forming uneven | corrugated shape in the surface of a base material.
FIG. 2B shows a sacrificial layer forming step. The sacrificial layer forming step is a step of forming a metal sacrificial layer containing an alkali-soluble metal on a substrate having an uneven shape on the surface.
FIG. 2C shows a resist layer forming step. The resist layer forming step is a step of forming a resist layer containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern on the metal sacrificial layer.
FIG. 2D shows an alkali-insoluble metal layer forming step. The alkali-insoluble metal layer forming step is a step of forming an alkali-insoluble metal layer on the metal sacrificial layer at a place other than the resist layer by electroplating.
FIG. 2E shows a peeling process. The stripping step is a step of stripping the alkali-insoluble metal layer from the substrate by removing the metal sacrificial layer and the resist layer with an alkaline developer.
FIG.2 (f) shows the metal particle which peeled from the base material and was separated into pieces.

まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸形状９を有する基材７を用意する。基材７としては、表面に凹凸形状９を有する限り、特に限定されないが、平坦な基材上に所定のパターンを有するマスクを形成し、エッチングすることにより得ることができる。なお、凹凸形状９は、識別部３ａまたは３ｂの形状に対応した鋳型となる形状であるが、図２〜４では簡略化して図示している。特に、識別部３ａのようなホログラムを形成する場合は、表面に、光の干渉縞を記録した微細な凹凸の鋳型または逆型となる形状を有する凹凸形状９を形成する。 First, as shown in FIG. 2A, a base material 7 having an uneven shape 9 on the surface is prepared. Although it will not specifically limit as long as the base material 7 has the uneven | corrugated shape 9 on the surface, It can obtain by forming the mask which has a predetermined pattern on a flat base material, and etching. The uneven shape 9 is a shape that becomes a mold corresponding to the shape of the identification portion 3a or 3b, but is simplified in FIGS. In particular, in the case of forming a hologram such as the identification unit 3a, a concave / convex shape 9 having a fine concave / convex mold in which light interference fringes are recorded or a reverse shape is formed on the surface.

基材７は特に限定されるものではなく、フォトリソグラフィーに一般的に用いられる基材を使用することができる。例えば、ホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、ホワイトサファイアなどの可撓性のない透明なリジット材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂フィルムなどの可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。前記フレキシブル材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、ポリノルボルネン系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。 The base material 7 is not specifically limited, The base material generally used for photolithography can be used. For example, non-flexible transparent rigid materials such as borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, synthetic quartz glass, soda lime glass, white sapphire, transparent resin film, optical resin film A transparent flexible material having flexibility such as can be used. As the flexible material, acrylic such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether ketone, Examples include fluororesin, polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, polynorbornene resin, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyamideimide, polyetherimide, thermoplastic polyimide, and the like. However, those made of general plastics can also be used.

また、基材７として、例えば、図３（ａ）に示すような、平坦な基材１７の上に凹凸形状９を有する樹脂層１９を形成した基材７ａや、図３（ｂ）に示すような、凹凸形状９を有する金属製基材２１からなる基材７ｂを用いることができる。 Moreover, as the base material 7, for example, a base material 7 a in which a resin layer 19 having an uneven shape 9 is formed on a flat base material 17 as shown in FIG. The base material 7b which consists of the metal base materials 21 which have such uneven | corrugated shape 9 can be used.

基材７ａは、基材１７上に紫外線硬化型樹脂を塗布した後、凹凸形状を有する他の型材を押し付けた状態で紫外線を照射して樹脂を硬化させ、凹凸形状９を有する樹脂層１９を得ることで形成される。 After the base material 7a is coated with an ultraviolet curable resin on the base material 17, the resin layer 19 having the concavo-convex shape 9 is cured by irradiating ultraviolet rays in a state where another mold material having the concavo-convex shape is pressed. It is formed by obtaining.

基材７ｂは、平坦な金属製基材２１の上に、所定のパターンを有するマスクを形成し、エッチングすることで凹凸形状９を形成することができる。 The base material 7b can form the uneven | corrugated shape 9 by forming the mask which has a predetermined pattern on the flat metal base material 21, and etching it.

その後、図２（ｂ）に示すように、凹凸形状９の上に、アルカリ可溶性金属を含む金属製犠牲層１１を形成する。犠牲層とは、最終的に除去することを前提に形成した層であり、部分的に膜を形成したり、あるいは二つの膜を分離する場合によく用いられる。アルカリ可溶性金属としては、アルミニウム、亜鉛、シリコン、鉛、スズよりなる群から選ばれた少なくとも１種のアルカリ可溶性金属を用いることができるが、成膜の容易性などからアルミニウムを用いることが好ましい。金属製犠牲層１１の成膜方法は、スパッタリングや真空蒸着など、公知の成膜方法を使用できる。また、金属製犠牲層１１の厚さは、特に限定されないが、製膜の容易性、低コスト、剥離の確実性を満たすため、１０〜１００ｎｍ程度であることが好ましい。特に、凹凸形状のより確実な転写のため、金属製犠牲層１１の厚さは、凹凸形状９の凹凸の深さよりも、薄いことが好ましい。 Thereafter, as shown in FIG. 2B, a metal sacrificial layer 11 containing an alkali-soluble metal is formed on the uneven shape 9. The sacrificial layer is a layer formed on the assumption that it is finally removed, and is often used when a film is partially formed or two films are separated. As the alkali-soluble metal, at least one alkali-soluble metal selected from the group consisting of aluminum, zinc, silicon, lead, and tin can be used, but aluminum is preferably used in view of easiness of film formation. As a method for forming the metal sacrificial layer 11, a known film forming method such as sputtering or vacuum deposition can be used. The thickness of the metal sacrificial layer 11 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 100 nm in order to satisfy the ease of film formation, low cost, and certainty of peeling. In particular, the thickness of the metal sacrificial layer 11 is preferably thinner than the depth of the unevenness of the uneven shape 9 for more reliable transfer of the uneven shape.

その後、図２（ｃ）に示すように、金属製犠牲層１１の上に所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層１３を形成する。レジスト層１３のパターンは、金属粒子１ａ、１ｂの形状の鋳型となるパターンである。アルカリ可溶性樹脂としては、特に限定されないが、一般的に用いられるフォトレジスト用アルカリ可溶性樹脂を用いることができる。 Thereafter, as shown in FIG. 2C, a resist layer 13 containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern is formed on the metal sacrificial layer 11. The pattern of the resist layer 13 is a pattern that becomes a mold in the shape of the metal particles 1a and 1b. Although it does not specifically limit as alkali-soluble resin, Generally used alkali-soluble resin for photoresists can be used.

この、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層１３を形成する工程は、所望のレジスト層が得られる限り限定されないが、以下の３つの方法が考えられる。 The step of forming the resist layer 13 containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern is not limited as long as a desired resist layer is obtained, but the following three methods are conceivable.

第１の方法は、フォトリソグラフィーを用いてレジスト層をパターニングする方法である。本方法は、ポジ型またはネガ型の感光性樹脂組成物を全面に塗布してレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を、所定のパターンを有するマスクを介して露光する工程と、前記レジスト層を、現像する工程と、を具備する。 The first method is a method of patterning a resist layer using photolithography. The method includes a step of applying a positive or negative photosensitive resin composition to the entire surface to form a resist layer, a step of exposing the resist layer through a mask having a predetermined pattern, and the resist Developing the layer.

また、マスクを介して露光する代わりに、デジタルマイクロミラーデバイスを用いて、マスクを介さずに露光をしても良い。デジタルマイクロミラーデバイス（デジタルミラーデバイス、ＤＭＤとも呼ばれる）とは、個別に駆動できる多数の微小鏡面（マイクロミラー）を平面に配列した素子である。各ミラーを個別に駆動することにより、表示画素ごとに光の投射を制御することができるため、マスクを用いずに所定のパターンで露光することができる。 Further, instead of performing exposure through a mask, a digital micromirror device may be used for exposure without using a mask. A digital micromirror device (also called a digital mirror device or DMD) is an element in which a number of micromirror surfaces (micromirrors) that can be individually driven are arranged in a plane. By individually driving each mirror, light projection can be controlled for each display pixel, so that exposure can be performed in a predetermined pattern without using a mask.

第２の方法は、直接描画によるレジスト層をパターニングする方法である。本方法は、感光性樹脂組成物を全面に塗布してレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を、レーザーまたは電子線による直接描画により所定のパターンで露光する工程と、前記レジスト層を、現像する工程と、を具備する。 The second method is a method of patterning a resist layer by direct writing. The method comprises a step of applying a photosensitive resin composition to the entire surface to form a resist layer, a step of exposing the resist layer in a predetermined pattern by direct drawing with a laser or an electron beam, and the resist layer, Developing.

第３の方法は、印刷技術を用いて所定のパターンを有するレジスト層を直接形成する方法である。具体的には、レジスト材料をシルク・スクリーン印刷などで印刷する工程を含むことを特徴とする。印刷技法には通常の凹版印刷や孔版印刷の技法が用いられる。 The third method is a method of directly forming a resist layer having a predetermined pattern using a printing technique. Specifically, the method includes a step of printing a resist material by silk screen printing or the like. As the printing technique, a conventional intaglio printing or stencil printing technique is used.

その後、図２（ｄ）に示すように、電気メッキにより、金属製犠牲層１１上であって、レジスト層１３以外の個所に、アルカリ不溶性金属１５を選択的に形成する。この際、複数種類のアルカリ不溶性金属を積層しても良い。 Thereafter, as shown in FIG. 2D, an alkali-insoluble metal 15 is selectively formed on the metal sacrificial layer 11 at a place other than the resist layer 13 by electroplating. At this time, a plurality of types of alkali-insoluble metals may be laminated.

その後、図２（ｅ）に示すように、基材７などをアルカリ性の現像液に浸し、アルカリ可溶性金属を含む金属製犠牲層１１と、アルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層１３を溶解し、アルカリ不溶性金属１５を含む金属粒子１ａ、１ｂを基材５より剥離する。この現像液は、レジスト層１３をパターニングする際に用いられる現像液よりも濃度が高い現像液である。 Thereafter, as shown in FIG. 2 (e), the base material 7 or the like is immersed in an alkaline developer, and the metal sacrificial layer 11 containing an alkali-soluble metal and the resist layer 13 containing an alkali-soluble resin are dissolved to obtain an alkali insoluble. The metal particles 1 a and 1 b containing the metal 15 are peeled from the base material 5. This developer is a developer having a higher concentration than the developer used when patterning the resist layer 13.

その結果、図２（ｆ）に示すとおり、個片化した金属粒子１ａ、１ｂが得られる。 As a result, as shown in FIG. 2F, the separated metal particles 1a and 1b are obtained.

本発明の製造方法によると、表面に凹凸を有する金属粒子１ａ、１ｂが得られる。 According to the production method of the present invention, metal particles 1a and 1b having irregularities on the surface can be obtained.

また、本発明の製造方法によると、表面に基材７の凹凸形状９を破壊せずに金属粒子１ａ、１ｂを基材７から剥離することができるため、一度凹凸形状９を作製すると、基材７を繰返し使用でき、低コストで金属粒子１ａ、１ｂを製造することができる。 In addition, according to the manufacturing method of the present invention, the metal particles 1a and 1b can be peeled from the substrate 7 without destroying the uneven shape 9 of the base material 7 on the surface. The material 7 can be used repeatedly, and the metal particles 1a and 1b can be manufactured at low cost.

（金属粒子の製造方法の第２の実施の形態）
次に、本発明にかかる金属粒子１ａ、１ｂの製造方法の第２の実施の形態について説明する。
図４（ａ）は、基材上にアルカリ可溶性樹脂を含む犠牲層を形成する工程を示す。
図４（ｂ）は、凹凸形状形成工程を示す。凹凸形状形成工程とは、基材上の、アルカリ可溶性樹脂を含む犠牲層の表面に、凹凸形状を形成する工程である。
図４（ｃ）は、金属凹凸層形成工程を示す。金属凹凸層形成工程とは、犠牲層上に、金属凹凸層を形成する工程である。
図４（ｄ）は、金属層形成工程を示す。金属層形成工程とは、金属凹凸層上に、金属層を形成する工程である。
図４（ｅ）は、レジスト層形成工程を示す。レジスト層形成工程とは、金属層上に、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層を形成する工程である。
図４（ｆ）は、金属粒子形成工程を示す。金属粒子形成工程は、金属凹凸層及び金属層をエッチングし、金属粒子を形成する工程である。
図４（ｇ）は、剥離工程を示す。剥離工程とは、アルカリ性の現像液により、犠牲層及びレジスト層を除去し、金属粒子を基材より剥離する工程である。
図４（ｈ）は、基材から剥離した金属粒子を示す。 (2nd Embodiment of the manufacturing method of a metal particle)
Next, a second embodiment of the method for producing the metal particles 1a and 1b according to the present invention will be described.
FIG. 4A shows a step of forming a sacrificial layer containing an alkali-soluble resin on a substrate.
FIG. 4B shows an uneven shape forming process. An uneven | corrugated shape formation process is a process of forming uneven | corrugated shape on the surface of the sacrificial layer containing alkali-soluble resin on a base material.
FIG.4 (c) shows a metal uneven | corrugated layer formation process. A metal uneven | corrugated layer formation process is a process of forming a metal uneven | corrugated layer on a sacrificial layer.
FIG. 4D shows a metal layer forming step. A metal layer formation process is a process of forming a metal layer on a metal uneven | corrugated layer.
FIG. 4E shows a resist layer forming step. The resist layer forming step is a step of forming a resist layer containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern on the metal layer.
FIG. 4F shows a metal particle forming process. A metal particle formation process is a process of etching a metal uneven | corrugated layer and a metal layer, and forming a metal particle.
FIG. 4G shows the peeling process. The peeling step is a step of removing the sacrificial layer and the resist layer with an alkaline developer and peeling the metal particles from the substrate.
FIG. 4 (h) shows the metal particles peeled from the substrate.

まず、図４（ａ）に示すように、基材２３の上に、アルカリ可溶性樹脂を含む犠牲層２５を形成する。犠牲層２５は、アルカリ可溶性樹脂の塗布などにより形成される。 First, as shown in FIG. 4A, a sacrificial layer 25 containing an alkali-soluble resin is formed on the base material 23. The sacrificial layer 25 is formed by applying an alkali-soluble resin.

その後、図４（ｂ）に示すように、犠牲層２５に凹凸形状９を形成する。この凹凸形状９は、マスクまたは階調マスクを介したフォトリソグラフィー、デジタルマイクロミラーデバイスを用いたフォトリソグラフィー、レーザーでの直接描画によるフォトリソグラフィーなどにより形成される。 Thereafter, as shown in FIG. 4B, the concavo-convex shape 9 is formed in the sacrificial layer 25. The uneven shape 9 is formed by photolithography through a mask or a gradation mask, photolithography using a digital micromirror device, photolithography by direct drawing with a laser, or the like.

その後、図４（ｃ）に示すように、犠牲層２５の上に、金属凹凸層２７を形成する。金属凹凸層２７は、スパッタリングや蒸着などにより形成される。金属凹凸層２７は、アルカリ不溶性金属を含むことが好ましく、金、銀、銅、クロム、チタンを用いることがより好ましい。 Thereafter, as shown in FIG. 4C, a metal uneven layer 27 is formed on the sacrificial layer 25. The metal uneven layer 27 is formed by sputtering or vapor deposition. It is preferable that the metal uneven | corrugated layer 27 contains an alkali-insoluble metal, and it is more preferable to use gold | metal | money, silver, copper, chromium, and titanium.

その後、図４（ｄ）に示すように、金属凹凸層２７を形成した後に、金属層２９を形成する。金属層２９は、比較的厚い膜を形成する必要があるので、電気めっきにより形成されることが好ましい。なお、単一の金属により構成される金属粒子を得るためには、図４（ｃ）の工程を省略し、金属層２９を犠牲層２５の上に無電解メッキ等の手法を用いることにより直接形成する。金属層２９は、アルカリ不溶性金属を含むことが好ましく、ニッケルからなることがより好ましい。 Thereafter, as shown in FIG. 4D, after the metal uneven layer 27 is formed, the metal layer 29 is formed. Since it is necessary to form a relatively thick film, the metal layer 29 is preferably formed by electroplating. In order to obtain metal particles composed of a single metal, the step of FIG. 4C is omitted, and the metal layer 29 is directly formed on the sacrificial layer 25 by using a method such as electroless plating. Form. The metal layer 29 preferably contains an alkali-insoluble metal, and more preferably consists of nickel.

その後、図４（ｅ）に示すように、金属層２９の上に、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層３１を形成する。このレジスト層３１の形成は、前述のレジスト層１３と同様の方法により形成可能である。 Thereafter, as shown in FIG. 4E, a resist layer 31 containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern is formed on the metal layer 29. The resist layer 31 can be formed by the same method as that for the resist layer 13 described above.

その後、図４（ｆ）に示すように、レジスト層３１をマスクとして用い、金属凹凸層２７と金属層２９をエッチングする。このとき、金属凹凸層２７と金属層２９を構成する金属に応じて、ウェットエッチング、ドライエッチングなどを適宜用いることができる。 Thereafter, as shown in FIG. 4F, the metal uneven layer 27 and the metal layer 29 are etched using the resist layer 31 as a mask. At this time, wet etching, dry etching, or the like can be appropriately used depending on the metal constituting the metal uneven layer 27 and the metal layer 29.

その後、図４（ｇ）に示すように、アルカリ性の現像液などにより、犠牲層２５とレジスト層３１を溶解させ、金属粒子１ａ、１ｂを基材２３より剥離する。 Thereafter, as shown in FIG. 4G, the sacrificial layer 25 and the resist layer 31 are dissolved with an alkaline developer or the like, and the metal particles 1 a and 1 b are peeled off from the base material 23.

その結果、図４（ｈ）に示すとおり、個片化した金属粒子１ａ、１ｂが得られる。 As a result, as shown in FIG. 4 (h), separated metal particles 1a and 1b are obtained.

本発明の製造方法により、二種以上の金属が積層した金属粒子１ａ、１ｂを得ることができる。 By the production method of the present invention, metal particles 1a and 1b in which two or more kinds of metals are laminated can be obtained.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例１]
支持体フィルムとして、厚み１６μｍのポリエステル樹脂フィルム（東レ社製、ルミラー）を用いた。支持体フィルム上にアクリレート系紫外線硬化型樹脂（三菱化学社製、「ユピマーＬＺ−０６５Ｓ」を塗布し、加熱乾燥することにより厚み２μｍの塗膜を形成した。
その後、ホログラム用の回折格子パターンの微小凹凸が表面に加工されたエンボスロールを、紫外線を照射することにより半硬化させた前述の紫外線硬化型樹脂に加圧密着させ、剥離した後に、更に紫外線を照射することにより、紫外線硬化型樹脂の表面に、凹凸形状として、ホログラム用の回折格子パターンを形成した。
さらに、前述の紫外線硬化型樹脂の表面に、金属製犠牲層としてアルミニウムを４０ｎｍの厚さで真空蒸着した。
さらに、ネガ型フォトレジスト（東京応化製アクリル系レジストＰＭＥＲ−Ｎ）を塗布し、７０℃で３０分乾燥加熱処理し、厚さ１０μｍの均一なレジスト膜を得た。その後、所望のパターンを露光できるようにしたフォトマスクを介して、平行紫外光照射装置により３６５ｎｍの紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で露光し、アルカリ現像液（水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液：濃度１ｗｔ％）にて現像して、金属粒子の輪郭を形成する所望のパターンのレジスト層を形成した。
さらに、ニッケルの電気めっきを行い、レジスト層がない部分であるアルミニウム層が表面に出ている部分のみのニッケル層を形成した。
さらに、アルカリ現像液（水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液：濃度１０ｗｔ％）にて現像し、レジスト層と犠牲層を溶解させた。
このとき、現像液中に、表面に回折格子パターンが刻まれたニッケルの粒子を得た。
この現像液を水に置換することにより、ニッケルの粒子水分散液を得た。 [Example 1]
As the support film, a 16 μm thick polyester resin film (manufactured by Toray Industries Inc., Lumirror) was used. An acrylate-based ultraviolet curable resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “Iupimer LZ-065S”) was applied on the support film and dried by heating to form a coating film having a thickness of 2 μm.
After that, the embossing roll on which the micro unevenness of the diffraction grating pattern for hologram is processed is pressed and adhered to the ultraviolet curable resin semi-cured by irradiating with ultraviolet rays, and after peeling, further ultraviolet rays are applied. By irradiating, a diffraction grating pattern for hologram was formed as an uneven shape on the surface of the ultraviolet curable resin.
Furthermore, aluminum was vacuum-deposited with a thickness of 40 nm as a metal sacrificial layer on the surface of the aforementioned ultraviolet curable resin.
Further, a negative photoresist (acrylic resist PMER-N manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied and dried and heated at 70 ° C. for 30 minutes to obtain a uniform resist film having a thickness of 10 μm. After that, through a photomask capable of exposing a desired pattern, the ultraviolet light of 365 nm is exposed at an exposure amount of 250 mJ / cm ² by a parallel ultraviolet light irradiation apparatus, and an alkali developer (mainly sodium hydroxide is used as a main component). A resist layer having a desired pattern for forming the contour of the metal particles was formed by development with an aqueous solution (concentration: 1 wt%).
Furthermore, nickel electroplating was performed to form a nickel layer only in a portion where the aluminum layer, which is a portion having no resist layer, is exposed on the surface.
Further, the resist layer and the sacrificial layer were dissolved by developing with an alkali developer (aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component: concentration 10 wt%).
At this time, nickel particles having a diffraction grating pattern on the surface were obtained in the developer.
By replacing the developer with water, an aqueous nickel particle dispersion was obtained.

この金属粒子の水分散体を、水溶性紫外線硬化型樹脂（荒川化学社製ＡＱ−９）と混合させ、偽造防止用インクを製造した。このとき、インク１Ｌあたり６５００万個の金属粒子が入るように調整した。この偽造防止用インクを、１８０メッシュ版を用いたシルク・スクリーン印刷にて、商品券に印刷した。印刷された偽造防止用インクは、肉眼では金属粒子の形状は把握できなかったが、１００倍のルーペを用いて拡大すると、金属粒子を識別できた。金属粒子の大きさが１００μｍであり、厚さは７μｍであった。 This aqueous dispersion of metal particles was mixed with a water-soluble ultraviolet curable resin (AQ-9 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) to produce an anti-counterfeit ink. At this time, adjustment was made so that 65 million metal particles per 1 L of ink were contained. This anti-counterfeit ink was printed on a gift certificate by silk screen printing using a 180 mesh plate. In the printed anti-counterfeit ink, the shape of the metal particles could not be grasped with the naked eye, but the metal particles could be identified when enlarged using a 100 times magnifier. The size of the metal particles was 100 μm and the thickness was 7 μm.

[実施例２]
支持体フィルムとして、厚み１６μｍのポリエステル樹脂フィルム（東レ社製、ルミラー）を用いた。支持体フィルム上に犠牲層として、ネガ型のドライフィルムレジスト（東京応化工業社製ＯＲＤＹＬＰＲ、厚さ２０μｍ）を用いて成膜した。
その後、回折格子パターンが刻まれたフォトマスクを介して、平行紫外光照射装置により露光し、アルカリ現像液（水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液：濃度１ｗｔ％）にて現像することにより、犠牲層の表面に凹凸形状として、ホログラム用の回折格子パターンを形成した。
さらに、前述の犠牲層の表面に、金属凹凸層としてクロムを４０ｎｍの厚さで真空蒸着した。
さらに、前述の金属凹凸層の上に厚さ１０μｍのニッケル層を電気めっきにより形成した。
さらに、ネガ型フォトレジスト（東京応化製アクリル系レジストＰＭＥＲ−Ｎ）を塗布し、７０℃で３０分乾燥加熱処理し、厚さ１０μｍの均一なレジスト膜を得た。その後、所望のパターンを露光できるようにしたフォトマスクを介して、平行紫外光照射装置により３６５ｎｍの紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、アルカリ現像液（水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液：濃度１ｗｔ％）にて現像して、金属粒子の輪郭を形成する所望のパターンのレジスト層を形成し、１３０℃にて乾燥させた。
その後、エッチング液（硝酸：リン酸：酢酸：水＝７：１０：１０：３）に浸し、レジスト層をマスクとしてニッケル層とクロム層をエッチングした。
さらに、アルカリ現像液（水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液：濃度５ｗｔ％）にて現像し、レジスト層と犠牲層を溶解させた。
このとき、現像液中に、表面に回折格子が刻まれたニッケルとクロムが積層してなる金属粒子を得た。
この現像液を水に置換することにより、金属粒子水分散液を得た。 [Example 2]
As the support film, a 16 μm thick polyester resin film (manufactured by Toray Industries Inc., Lumirror) was used. A negative dry film resist (ORDYL PR manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., thickness 20 μm) was used as a sacrificial layer on the support film.
Thereafter, exposure is performed by a parallel ultraviolet light irradiation device through a photomask in which a diffraction grating pattern is engraved, and development is performed with an alkali developer (aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component: concentration 1 wt%). A diffraction grating pattern for hologram was formed as an uneven shape on the surface of the layer.
Further, chromium was vacuum deposited on the surface of the sacrificial layer to a thickness of 40 nm as a metal uneven layer.
Further, a nickel layer having a thickness of 10 μm was formed on the metal uneven layer by electroplating.
Further, a negative photoresist (acrylic resist PMER-N manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied and dried and heated at 70 ° C. for 30 minutes to obtain a uniform resist film having a thickness of 10 μm. After that, through a photomask capable of exposing a desired pattern, the ultraviolet light of 365 nm is exposed at an exposure amount of 250 mJ / cm ² by a parallel ultraviolet light irradiation device, and an alkali developer (mainly sodium hydroxide is used as a main component). A resist layer having a desired pattern for forming the contours of the metal particles was formed by development with an aqueous solution (concentration: 1 wt%) and dried at 130 ° C.
Then, it was immersed in etching liquid (nitric acid: phosphoric acid: acetic acid: water = 7: 10: 10: 3), and the nickel layer and the chromium layer were etched using the resist layer as a mask.
Further, the resist layer and the sacrificial layer were dissolved by developing with an alkali developer (aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component: concentration 5 wt%).
At this time, metal particles obtained by laminating nickel and chromium having a diffraction grating on the surface were obtained in the developer.
By substituting this developer with water, an aqueous dispersion of metal particles was obtained.

この金属粒子の水分散体を、水溶性紫外線硬化型樹脂（荒川化学社製ＡＱ−９）と混合させ、偽造防止用インクを製造した。このとき、インク１Ｌあたり６５００万個の金属粒子が入るように調整した。この偽造防止用インクを、１８０メッシュ版を用いたシルク・スクリーン印刷にて、商品券に印刷した。印刷された偽造防止用インクは、肉眼では金属粒子の形状は把握できなかったが、１００倍のルーペを用いて拡大すると、金属粒子を識別できた。金属粒子の大きさが１００μｍであり、厚さは１０μｍであった。 This aqueous dispersion of metal particles was mixed with a water-soluble ultraviolet curable resin (AQ-9 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) to produce an anti-counterfeit ink. At this time, adjustment was made so that 65 million metal particles per 1 L of ink were contained. This anti-counterfeit ink was printed on a gift certificate by silk screen printing using a 180 mesh plate. In the printed anti-counterfeit ink, the shape of the metal particles could not be grasped with the naked eye, but the metal particles could be identified when enlarged using a 100 times magnifier. The size of the metal particles was 100 μm and the thickness was 10 μm.

以上、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しえることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

１ａ、１ｂ………金属粒子
３ａ、３ｂ………識別部
５………基体
７、７ａ、７ｂ………基材
９………凹凸形状
１１………金属製犠牲層
１３……レジスト層
１５………アルカリ不溶性金属
１７………基材
１９………樹脂層
２１………金属製基材
２３………基材
２５………犠牲層
２７………金属凹凸層
２９………金属層
３１………レジスト層
４１………有価証券
４３………金属粒子含有部
５１………カード
５３………金属粒子含有部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b ......... Metal particle 3a, 3b ......... Identification part 5 ......... Substrate 7,7a, 7b ......... Base material 9 ......... Uneven shape 11 ......... Metal sacrificial layer 13 ... Resist layer 15 ......... Alkali insoluble metal 17 ......... Base material 19 ......... Resin layer 21 ......... Metal base material 23 ...... Base material 25 ......... Sacrificial layer 27 ......... Metal uneven layer 29 ......... Metal layer 31 ......... Resist layer 41 ......... Marketable securities 43 ......... Metal particle containing part 51 ......... Card 53 ......... Metal particle containing part

Claims

An uneven shape forming step for forming an uneven shape on the surface of the sacrificial layer containing the alkali-soluble resin on the substrate,
A metal uneven layer forming step of forming a metal uneven layer on the sacrificial layer;
A metal layer forming step of forming a metal layer on the metal uneven layer;
A resist layer forming step of forming a resist layer containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern on the metal layer;
Etching the metal relief layer and the metal layer to form metal particles,
A stripping step of removing the sacrificial layer and the resist layer with an alkaline developer, and stripping the metal particles from the substrate;
Equipped with,
A method for producing metal particles , wherein a concavo-convex shape derived from the concavo-convex shape of the sacrificial layer is transferred to a surface of the metal particle that contacts the sacrificial layer .