JP5824878B2 - Method for producing anti-counterfeit particles - Google Patents

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Description

本発明は、クレジットカード、キャッシュカード、IDカード、会員証などのカード類、紙幣、株券、商品券、宝くじ券、手形、小切手、入場券などの有価証券・金券類、各種証明書、高額商品の下げ札などに付与し、いわゆるタガントとして用いられる偽造防止用の粒子に関する。   The present invention includes credit cards, cash cards, ID cards, membership cards and other cards, banknotes, stock certificates, gift certificates, lottery tickets, bills, checks, admission tickets, and other securities, cash certificates, various certificates, and high-priced products. It relates to anti-counterfeit particles used as so-called taggants.

従来、有価証券類など、偽造を防止することが必要とされる物品において、タガント(taggant、なお、タゲント(taggent)とも呼ばれる)と呼ばれる偽造防止用の添加物が用いられてきた。タガントとしては、高度に偽造が困難であること、真贋判定を容易にかつ迅速に実施できること、安価であることが求められている。   Conventionally, an anti-counterfeit additive called taggant (also called taggent) has been used in articles such as securities that need to prevent forgery. The taggant is required to be highly difficult to counterfeit, to be able to easily and quickly perform authenticity determination, and to be inexpensive.

このようなタガント粒子として、光学的な拡大装置を用いて観察可能に構成され、かつ模様化がなされた微小マーカーが開示されている。この微小マーカーは、集積回路の技術分野におけるリソグラフィーの手法によって形成されたものであるか、または他のマイクロ・マシニングの技術分野の手法によって形成されたものであって、図形、ロゴ、個人的な署名、日付、言葉等の、そのデザインの内容に基づき情報をもったものとして認識されるように構成されたものである(特許文献1参照)。   As such taggant particles, a micro marker that is configured to be observable using an optical magnifying device and is patterned is disclosed. These micro-markers are formed by lithographic techniques in the integrated circuit technology field, or formed by other micro-machining technology field methods, such as graphics, logos, personal It is configured to be recognized as having information based on the contents of the design, such as a signature, date, and words (see Patent Document 1).

特開2002−230512号公報JP 2002-230512 A

しかしながら、従来のタガント粒子としては、樹脂製のものが一般的であり、機械的強度が低く、物品への付与時に破損して識別できなくなるという、耐久性が低いという問題点があった。また、樹脂からなるタガント粒子では、金属光沢を必要とする用途において、意匠性が低いという問題点があった。   However, as conventional taggant particles, those made of resin are generally used, and there is a problem that the mechanical strength is low, and the durability is low, that is, it becomes damaged when applied to an article and cannot be identified. In addition, the taggant particles made of resin have a problem of low designability in applications that require metallic luster.

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、その目的とすることは、タガント粒子として用いられる、耐久性が高く、意匠性に優れた偽造防止用粒子を得ることである。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to obtain anti-counterfeit particles having high durability and excellent design, which are used as taggant particles.

前述した目的を達成するために、以下の発明を提供する。
(1)少なくとも2種の金属層が積層してなり、形状が、拡大して観察されることで識別可能であることを特徴とする偽造防止用粒子。
(2)前記偽造防止用粒子の形状が、平板状であり、前記偽造防止用粒子の輪郭及び/又は貫通部の形状が、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の形状であることを特徴とする(1)に記載の偽造防止用粒子。
(3)前記金属層の少なくとも1層が、アルカリ可溶性金属層であることを特徴とする(1)または(2)に記載の偽造防止用粒子。
(4)前記金属層の表面に凹凸形状を有し、前記凹凸形状が、拡大して観察されることで識別可能であることを特徴とする(1)に記載の偽造防止用粒子。
(5)前記凹凸形状により、前記偽造防止用粒子に、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の立体的な形状が形成されることを特徴とする(4)に記載の偽造防止用粒子。
(6)前記凹凸形状が、回折格子またはホログラムであり、前記回折格子または前記ホログラムにより、前記偽造防止用粒子の表面に、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上が表示されることを特徴とする(4)に記載の偽造防止用粒子。
(7)前記偽造防止用粒子の輪郭の形状が、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の形状であることを特徴とする(4)〜(6)のいずれかに記載の偽造防止用粒子。
(8)サイズが10〜300μm、厚さが1〜25μmであることを特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の偽造防止用粒子。
(9)(1)〜(8)のいずれかに記載の偽造防止用粒子が、分散媒に分散されたことを特徴とする偽造防止用インク。
(10)(1)〜(8)のいずれかに記載の偽造防止用粒子が、樹脂に分散されたことを特徴とする偽造防止用シート。
(11)(1)〜(8)のいずれかに記載の偽造防止用粒子が、表面に付与されたことを特徴とする有価証券。
(12)(1)〜(8)のいずれかに記載の偽造防止用粒子が、表面に付与されたことを特徴とするカード。
(13)犠牲層、アルカリ可溶性金属層、感光性樹脂層がこの順に積層された基材を準備する基材準備工程と、前記基材上の前記感光性樹脂層を、拡大して観察することで識別可能な形状のパターンに露光する露光工程と、アルカリ性の現像液にて現像し、前記感光性樹脂層と前記アルカリ可溶性金属層とをパターニングするパターニング工程と、前記感光性樹脂層を、前記アルカリ可溶性金属層から剥離する感光性樹脂層剥離工程と、前記アルカリ可溶性金属層上に、第2の金属層を形成する第2の金属層形成工程と、前記犠牲層を溶かし、前記アルカリ可溶性金属層と前記第2の金属層を有する粒子を前記基材から剥離する剥離工程と、を具備することを特徴とする偽造防止用粒子の製造方法。
(14)前記第2の金属層が、電気めっきにより形成されることを特徴とする(13)に記載の偽造防止用粒子の製造方法。
In order to achieve the above-mentioned object, the following invention is provided.
(1) A forgery-preventing particle characterized in that at least two kinds of metal layers are laminated, and the shape can be identified by observing it in an enlarged manner.
(2) The shape of the anti-counterfeit particles is a flat plate shape, and the contour of the anti-counterfeit particles and / or the shape of the penetrating portion is any one or more of letters, numbers, symbols, and figures. The anti-counterfeit particle according to (1), wherein
(3) The anti-counterfeit particle according to (1) or (2), wherein at least one of the metal layers is an alkali-soluble metal layer.
(4) The anti-counterfeit particle according to (1), wherein the surface of the metal layer has a concavo-convex shape, and the concavo-convex shape is identifiable by magnifying and observing.
(5) The anti-counterfeiting according to (4), wherein the anti-counterfeit particle is formed with one or more three-dimensional shapes of letters, numbers, symbols, and figures by the uneven shape. Particles.
(6) The concavo-convex shape is a diffraction grating or a hologram, and any one or more of letters, numbers, symbols, and figures are displayed on the surface of the anti-counterfeit particles by the diffraction grating or the hologram. (4) The anti-counterfeit particle according to (4).
(7) The counterfeit according to any one of (4) to (6), wherein the shape of the anti-counterfeit particle is one or more of letters, numbers, symbols, and figures. Prevention particles.
(8) The anti-counterfeit particle according to any one of (1) to (7), wherein the size is 10 to 300 μm and the thickness is 1 to 25 μm.
(9) An anti-counterfeit ink, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of (1) to (8) are dispersed in a dispersion medium.
(10) A forgery-preventing sheet, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of (1) to (8) are dispersed in a resin.
(11) A securities characterized in that the anti-counterfeit particles according to any one of (1) to (8) are provided on the surface.
(12) A card, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of (1) to (8) are provided on the surface.
(13) Enlarging and observing the base material preparation step of preparing a base material in which a sacrificial layer, an alkali-soluble metal layer, and a photosensitive resin layer are laminated in this order, and the photosensitive resin layer on the base material An exposure step of exposing to a pattern having a shape identifiable by the above, a patterning step of patterning the photosensitive resin layer and the alkali-soluble metal layer by developing with an alkaline developer, and the photosensitive resin layer, A photosensitive resin layer peeling step for peeling from the alkali-soluble metal layer; a second metal layer forming step for forming a second metal layer on the alkali-soluble metal layer; A method for producing anti-counterfeit particles, comprising: a peeling step of peeling particles having a layer and the second metal layer from the substrate.
(14) The method for producing anti-counterfeit particles according to (13), wherein the second metal layer is formed by electroplating.

本発明により、タガント粒子として用いられる、耐久性が高く、意匠性に優れた偽造防止用粒子を得ることができる。   According to the present invention, anti-counterfeit particles that are used as taggant particles and have high durability and excellent design properties can be obtained.

(a)〜(c)本発明にかかる粒子1a〜1cを示す斜視図。(A)-(c) Perspective view which shows particle | grains 1a-1c concerning this invention. (a)〜(f)本発明の第1の実施形態にかかる粒子1aの製造方法を示す概略断面図。(A)-(f) The schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of the particle | grains 1a concerning the 1st Embodiment of this invention. (a)〜(f)本発明の第2の実施形態にかかる粒子1b、1cの製造方法を示す概略断面図。(A)-(f) The schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of particle | grains 1b and 1c concerning the 2nd Embodiment of this invention. (a)本発明にかかる有価証券41を示す平面図、(b)(a)でのA−A’断面を示す断面図。(A) Top view which shows the securities 41 concerning this invention, (b) Sectional drawing which shows the A-A 'cross section in (a). (a)本発明にかかるカード51を示す平面図、(b)(a)でのB−B’断面を示す断面図。(A) The top view which shows the card | curd 51 concerning this invention, (b) Sectional drawing which shows the B-B 'cross section in (a).

以下図面に基づいて、本発明の実施形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1の実施形態]
(粒子1aの構成)
図1(a)は、本発明の第1の実施形態にかかる粒子1aを示す図である。図1(a)に示す粒子1aは、第1の金属層3aと第2の金属層5bが積層してなり、略平板状であるが、輪郭及び貫通部5の形状が拡大して観察されることで識別可能である。すなわち、基体の輪郭や基体に施された貫通部を拡大して観察することで識別可能である。図1(a)では、円板状の基体に貫通部5からなる「DNP」の文字が形成されているが、基体の輪郭も円板に限られるものではなく、楕円形や多角形、ハート型、星型、動物の外形、文字の外形、数字の外形、記号の外形、図形の外形など、様々な形状を採用できる。また、貫通部5の形状としては、文字以外にも、様々な数字、記号、図形などを施すことができる。なお、図1では、貫通部5が設けられているが、粒子の輪郭か貫通部5のいずれかが拡大して観察することで識別可能であればよく、貫通部5は必須ではない。
[First Embodiment]
(Configuration of particle 1a)
Fig.1 (a) is a figure which shows the particle | grains 1a concerning the 1st Embodiment of this invention. The particle 1a shown in FIG. 1 (a) is formed by laminating a first metal layer 3a and a second metal layer 5b, and has a substantially flat plate shape, but the outline and the shape of the penetrating part 5 are enlarged and observed. Can be identified. That is, it can be identified by magnifying and observing the outline of the base body and the penetrating portion provided in the base body. In FIG. 1A, the letter “DNP” consisting of the penetrating portion 5 is formed on the disk-shaped base, but the outline of the base is not limited to the disk, but an ellipse, polygon, heart Various shapes such as a shape, a star shape, an outline of an animal, an outline of a character, an outline of a number, an outline of a symbol, and an outline of a figure can be adopted. Moreover, as a shape of the penetration part 5, various numbers, a symbol, a figure, etc. can be given besides a character. In FIG. 1, the penetrating part 5 is provided. However, the penetrating part 5 is not essential as long as either the outline of the particle or the penetrating part 5 is enlarged and observed.

なお、形状が識別可能であるとは、人為的な形状が形成されており、意図せずに自然に形成される形状から区別できることを意味する。そのため、粒子1aを付与した物品を偽造する場合、物品の外形等の複製ができても、粒子1aの複製までは困難であるので、真正の物品と偽造された物品とを判別できる。また、形状が識別可能であるため、各物品で付与する粒子1aの形状を変更することで、真正の物品同士でも製造時期や用途などを判別可能である。   Note that that the shape is identifiable means that an artificial shape is formed and can be distinguished from a shape that is naturally formed without intention. Therefore, when forging an article to which particles 1a are applied, even if the outer shape of the article can be copied, it is difficult to copy the particles 1a, so that it is possible to distinguish between a genuine article and a forged article. In addition, since the shape can be identified, it is possible to discriminate the production time, the usage, and the like even between genuine articles by changing the shape of the particles 1a applied to each article.

第1の金属層3a、第2の金属層4aを構成する金属としては、特に限定されないが、入手のしやすさ、成膜の容易さ、大気中での酸化のしにくさ、原材料のコストなどから、ニッケルやアルミニウム、鉄、スズ、亜鉛が好ましい。   The metal constituting the first metal layer 3a and the second metal layer 4a is not particularly limited, but is easy to obtain, easy to form, difficult to oxidize in the atmosphere, and cost of raw materials. Therefore, nickel, aluminum, iron, tin, and zinc are preferable.

粒子1aの厚さは、1μm以上であることが好ましく、25μm以下であることが好ましい。厚さが薄すぎると、強度が保てず、取り扱いの際に粒子が破損しやすい。一方、厚さが厚すぎると、製造時の感光性樹脂の厚膜の形成が困難になるほか、樹脂や分散媒への分散性が悪く、取り扱い時に不便である。   The thickness of the particle 1a is preferably 1 μm or more, and preferably 25 μm or less. If the thickness is too thin, the strength cannot be maintained, and the particles are easily damaged during handling. On the other hand, if the thickness is too thick, it becomes difficult to form a thick film of the photosensitive resin during production, and the dispersibility in the resin or dispersion medium is poor, which is inconvenient during handling.

粒子1aのサイズは、10〜300μmであることが好ましい。小さすぎると、ルーペなどの簡易な拡大器具を使用して粒子を観察することができず、顕微鏡などのより複雑な装置を使用しないと、真贋判定ができなくなる。また、大きすぎると、拡大器具を使用せずとも肉眼により粒子の特徴を認識可能となり、偽造防止効果が低下する。なお、粒子1aは、平板状であるため、厚さは、サイズの半分以下であることが好ましい。ここで、サイズとは、粒子を平面視した際の、最長の長さであり、例えば形状が四角形であればその対角線の長さであり、形状が楕円であればその長軸の長さである。
また、図1aでの「DNP」の文字は、裸眼では認識できず、ルーペなどを用いて認識できる程度の大きさである。
The size of the particles 1a is preferably 10 to 300 μm. If it is too small, particles cannot be observed using a simple magnifying device such as a magnifying glass, and authentication cannot be performed unless a more complicated device such as a microscope is used. On the other hand, if the size is too large, the characteristics of the particles can be recognized with the naked eye without using a magnifying device, and the effect of preventing forgery is reduced. In addition, since the particle | grains 1a are flat form, it is preferable that thickness is below half of a size. Here, the size is the longest length when the particle is viewed in plan, for example, the length of the diagonal line if the shape is a quadrangle, and the length of the long axis if the shape is an ellipse. is there.
In addition, the character “DNP” in FIG. 1 a cannot be recognized with the naked eye, but is large enough to be recognized using a loupe or the like.

(粒子1aの効果)
本発明の粒子1aは、金属層を含むため、機械的強度に優れ、優れた耐久性を持つうえ、金属光沢を持ち、意匠性に優れる。
(Effect of particle 1a)
Since the particle 1a of the present invention includes a metal layer, it has excellent mechanical strength, excellent durability, metallic luster, and excellent design.

本発明の粒子1aは、肉眼では粒子1aの特徴が把握できず、ルーペなどの装置で初めて特徴を把握できるため、付与した物品に偽造防止技術が施されていることが容易にはわからない。そのため、粒子1aは、目視で確認できる偽造防止技術と比べて、より高い偽造防止効果を発揮することができる。   Since the particle 1a of the present invention cannot grasp the characteristics of the particle 1a with the naked eye and can grasp the characteristics for the first time with an apparatus such as a magnifying glass, it is not easy to know that the imparted article has been subjected to anti-counterfeiting technology. Therefore, the particles 1a can exhibit a higher anti-counterfeit effect than the anti-counterfeit technology that can be visually confirmed.

本発明の粒子1aは、金属層を積層しているため、仮に粒子1aの輪郭や貫通部などの拡大して観察することで識別可能な特徴を偽造することができたとしても、通常は粒子1aが積層した金属を含むことまでは分からないため、一層の金属からなる粒子を形成すると考えられる。そのため、粒子を分析し、一層の金属からなると分かる場合には、偽造品を見破ることができる。つまり、本発明に係る粒子1aはフォレンジックである。フォレンジックとは分析機器により真贋判定を行うことを示す。オバート(五感による真贋判定)、コバート(簡易器具による真贋判定)に対し、分析機器を必要とすることから、高い偽造防止効果が得られる。   Since the particle 1a of the present invention has a metal layer laminated, even if it is possible to forge the features that can be identified by magnifying and observing the outline and penetration of the particle 1a, Since it is not known that la contains the laminated metal, it is considered that particles composed of a single layer of metal are formed. Therefore, if the particles are analyzed and found to consist of a single layer of metal, a counterfeit product can be detected. That is, the particle 1a according to the present invention is forensic. Forensic means that authenticity is determined by an analytical instrument. Since an analytical instrument is required for overt (authentication determination by the five senses) and covert (authentication determination by a simple instrument), a high anti-counterfeiting effect can be obtained.

(粒子1aの用途)
粒子1aを水溶性バインダーなどの分散媒に分散すると、偽造防止用インクが得られる。このような偽造防止用インクを用いて、シルク・スクリーン印刷などで印刷することで簡便に物品に粒子を付与することができる。
(Use of particle 1a)
When the particles 1a are dispersed in a dispersion medium such as a water-soluble binder, an anti-counterfeit ink can be obtained. By using such anti-counterfeiting ink and printing by silk screen printing or the like, particles can be easily imparted to the article.

粒子1aを紫外線硬化型樹脂などに分散し、乾燥または硬化することで、偽造防止用シートが得られる。例えば、粒子が分散した透明な紫外線硬化型樹脂を物品上に塗布し、紫外線を照射し、硬化させることで、物品に、粒子が付与されたシートを形成することができる。また、粒子1aを、押出成型機や射出成型機中にてPVC、PP、ABS、AES、PS等と混合させ、押出成型や射出成型をすることで、粒子が含まれた樹脂成型品が得られる。その結果、粒子が付与され、偽造防止技術が盛り込まれたシート、カード等の各種樹脂成型品が得られる。   The anti-counterfeit sheet can be obtained by dispersing the particles 1a in an ultraviolet curable resin or the like and drying or curing. For example, by applying a transparent ultraviolet curable resin in which particles are dispersed onto an article, irradiating with ultraviolet rays and curing the article, a sheet provided with particles can be formed on the article. In addition, resin particles containing particles can be obtained by mixing particles 1a with PVC, PP, ABS, AES, PS, etc. in an extrusion molding machine or injection molding machine, and performing extrusion molding or injection molding. It is done. As a result, various resin molded products such as sheets and cards to which particles are applied and forgery prevention technology is incorporated are obtained.

また、有価証券またはカードに、粒子1aを含むインクで印刷することや、粒子1aが含まれたシートを貼付するか、塗布により形成することで、粒子が付与された有価証券、カードが得られる。例えば、図4に示すように、有価証券41は、帯状の粒子含有部43を形成する。粒子含有部43は、粒子を含むインクを帯状に印刷して形成することや、粒子が含まれた帯状のシートを貼付するか、塗布により形成することで得られる。また、図5に示すように、カード51は、斑状の粒子含有部53を形成する。粒子含有部53は、粒子を含むインクを斑状に印刷して形成することや、粒子が含まれた斑状のシートを貼付するか、塗布により形成することで得られる。なお、ATMなどの機械で取り扱いやすくするため、粒子含有部53が、カードの面より飛び出さないように、カード51の凹部に形成されている。なお、有価証券には、紙幣、株券、商品券、宝くじ券、手形、小切手、入場券が含まれ、カードには、クレジットカード、キャッシュカード、IDカード、会員証が含まれる。   Moreover, the securities and the card | curd with which the particle | grains were provided are obtained by printing on the securities or the card | curd with the ink containing the particle | grains 1a, or sticking the sheet | seat containing the particle | grains 1a, or forming by application | coating. . For example, as shown in FIG. 4, the securities 41 form a band-shaped particle-containing portion 43. The particle-containing part 43 is obtained by printing ink containing particles in a band shape, or by pasting or forming a belt-like sheet containing particles. Further, as shown in FIG. 5, the card 51 forms a patchy particle-containing portion 53. The particle-containing portion 53 can be obtained by printing ink containing particles in a patchy manner, or pasting or forming a patchy sheet containing particles. In addition, in order to make it easy to handle with machines, such as ATM, the particle | grain containing part 53 is formed in the recessed part of the card | curd 51 so that it may not protrude from the surface of a card | curd. Note that securities include banknotes, stock certificates, gift certificates, lottery tickets, bills, checks, admission tickets, and cards include credit cards, cash cards, ID cards, and membership cards.

(粒子1aの製造方法)
次に、本発明にかかる粒子1aの製造方法について説明する。
図2(a)は、基材準備工程を示す。基材準備工程とは、犠牲層、アルカリ可溶性金属層、感光性樹脂層がこの順に積層された基材を準備する工程である。
図2(b)は、露光工程を示す。露光工程とは、前記基材上の前記感光性樹脂層を、拡大して観察することで識別可能な形状のパターンに露光する工程である。
図2(c)は、パターニング工程を示す。パターニング工程とは、アルカリ性の現像液にて現像し、感光性樹脂層とアルカリ可溶性金属層とをパターニングする工程である
図2(d)は、感光性樹脂層剥離工程を示す。感光性樹脂層剥離工程とは、前記感光性樹脂層を前記アルカリ可溶性金属層から剥離する工程である。
図2(e)は、第2の金属層形成工程を示す。第2の金属層形成工程とは、アルカリ可溶性金属層上に、第2の金属層を形成する工程である。
図2(f)は、剥離工程を示す。剥離工程とは、基材を水に浸し、犠牲層を溶かし、アルカリ可溶性金属層と第2の金属層とを有する粒子を基材から剥離する工程である。
(Method for producing particle 1a)
Next, the manufacturing method of the particle | grains 1a concerning this invention is demonstrated.
FIG. 2A shows a base material preparation step. The base material preparation step is a step of preparing a base material in which a sacrificial layer, an alkali-soluble metal layer, and a photosensitive resin layer are laminated in this order.
FIG. 2B shows the exposure process. An exposure process is a process of exposing to the pattern of the shape which can be identified by magnifying and observing the said photosensitive resin layer on the said base material.
FIG. 2C shows a patterning process. The patterning step is a step of developing with an alkaline developer and patterning the photosensitive resin layer and the alkali-soluble metal layer. FIG. 2D shows the photosensitive resin layer peeling step. The photosensitive resin layer peeling step is a step of peeling the photosensitive resin layer from the alkali-soluble metal layer.
FIG. 2E shows a second metal layer forming step. The second metal layer forming step is a step of forming the second metal layer on the alkali-soluble metal layer.
FIG. 2F shows the peeling process. The peeling step is a step of immersing the substrate in water, dissolving the sacrificial layer, and peeling the particles having the alkali-soluble metal layer and the second metal layer from the substrate.

まず、図2(a)に示すように、基材9の上に、犠牲層11、アルカリ可溶性金属層13、感光性樹脂層15を形成する。   First, as shown in FIG. 2A, the sacrificial layer 11, the alkali-soluble metal layer 13, and the photosensitive resin layer 15 are formed on the base material 9.

基材9は特に限定されるものではなく、フォトリソグラフィーに一般的に用いられる基材を使用することができる。例えば、ホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、ホワイトサファイアなどの可撓性のない透明なリジット材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂フィルムなどの可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。前記フレキシブル材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、ポリノルボルネン系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。   The base material 9 is not specifically limited, The base material generally used for photolithography can be used. For example, non-flexible transparent rigid materials such as borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, synthetic quartz glass, soda lime glass, white sapphire, transparent resin film, optical resin film A transparent flexible material having flexibility such as can be used. As the flexible material, acrylic such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether ketone, Examples include fluororesin, polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, polynorbornene resin, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyamideimide, polyetherimide, thermoplastic polyimide, and the like. However, those made of general plastics can also be used.

犠牲層11に用いられる水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン等が用いられる。犠牲層11は、個片化するまで粒子を基板に保持する役目を果たす。犠牲層とは、最終的に除去することを前提に形成した層であり、部分的に膜を形成したり、あるいは二つの膜を分離したりする場合によく用いられる。または、犠牲層11の代わりに、アセトンなどの有機溶剤で溶解するドライフィルムレジスト(DFR)等を犠牲層として用い、後述する粒子の剥離の際に、有機溶剤を用いて犠牲層を溶解しても良い。つまり、犠牲層としては、水溶性樹脂に限られず、粒子を形成する材料に影響を与えない溶媒で、溶解することが可能であればよい。   As the water-soluble resin used for the sacrificial layer 11, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, gelatin or the like is used. The sacrificial layer 11 serves to hold the particles on the substrate until they are separated into individual pieces. The sacrificial layer is a layer formed on the assumption that it is finally removed, and is often used when a film is partially formed or two films are separated. Alternatively, instead of the sacrificial layer 11, a dry film resist (DFR) or the like that dissolves in an organic solvent such as acetone is used as the sacrificial layer, and the sacrificial layer is dissolved using an organic solvent at the time of particle peeling described later. Also good. In other words, the sacrificial layer is not limited to the water-soluble resin, but may be any solvent that does not affect the material forming the particles.

アルカリ可溶性金属層13に用いられるアルカリ可溶性金属としては、アルミニウム、亜鉛、シリコン、鉛、スズよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアルカリ可溶性金属を用いることができるが、成膜の容易性などからアルミニウムを用いることが好ましい。アルカリ可溶性金属層13の成膜方法は、スパッタリングや真空蒸着など、公知の成膜方法を使用できる。   As the alkali-soluble metal used for the alkali-soluble metal layer 13, at least one alkali-soluble metal selected from the group consisting of aluminum, zinc, silicon, lead, and tin can be used. It is preferable to use aluminum. As a method for forming the alkali-soluble metal layer 13, a known film formation method such as sputtering or vacuum deposition can be used.

感光性樹脂層15は、ポジ型またはネガ型の感光性樹脂組成物を全面に塗布して得られる。
ネガ型感光性樹脂は特に限定されることはなく、一般的に使用されるネガ型感光性樹脂を用いることができる。例えば、架橋型樹脂をベースとした化学増幅型感光性樹脂、具体的にはポリビニルフェノールに架橋剤を加え、さらに酸発生剤を加えた化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。また、アクリル系ネガ型感光性樹脂として、紫外線照射によりラジカル成分を発生する光重合開始剤と、分子内にアクリル基を有し、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる官能基(例えば、アルカリ溶液による現像の場合は酸性基をもつ成分)とを含有するものを用いることができる。上記のアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)、テトラメチルペンタトリアクリレート(TMPTA)等が挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン‐アクリル酸‐ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分にエポキシ基を介してアクリル基を導入したポリマーや、メタクリル酸メチル‐スチレン‐アクリル酸共重合体等が挙げられる。
なお、ポジ型感光性樹脂も特に限定されるものではなく、一般的に使用されるものを用いることができる。具体的には、ノボラック樹脂をベース樹脂とした化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。
The photosensitive resin layer 15 is obtained by applying a positive or negative photosensitive resin composition over the entire surface.
The negative photosensitive resin is not particularly limited, and a commonly used negative photosensitive resin can be used. For example, a chemically amplified photosensitive resin based on a crosslinked resin, specifically, a chemically amplified photosensitive resin in which a crosslinking agent is added to polyvinylphenol and an acid generator is further added. In addition, as an acrylic negative photosensitive resin, a photopolymerization initiator that generates a radical component upon irradiation with ultraviolet rays, a component that has an acrylic group in the molecule, causes a polymerization reaction by the generated radical, and cures thereafter, What contains the functional group (for example, the component which has an acidic group in the case of image development by an alkaline solution) which can melt | dissolve an unexposed part by image development can be used. Among the above-mentioned components having an acrylic group, relatively low molecular weight polyfunctional acrylic molecules include dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), tetramethylpentatriacrylate (TMPTA) and the like. Can be mentioned. In addition, examples of high molecular weight polyfunctional acrylic molecules include polymers in which an acrylic group is introduced via an epoxy group into a part of the carboxylic acid group of the styrene-acrylic acid-benzyl methacrylate copolymer, and methyl methacrylate-styrene- An acrylic acid copolymer etc. are mentioned.
The positive photosensitive resin is not particularly limited, and a commonly used one can be used. Specifically, a chemically amplified photosensitive resin using a novolac resin as a base resin can be used.

また、感光性樹脂層15は、ドライフィルムレジスト(DFR)を貼付して形成しても良い。   The photosensitive resin layer 15 may be formed by attaching a dry film resist (DFR).

その後、図2(b)に示すように、所定のパターンを有するマスク18を介して、感光性樹脂層15を所定のパターンで露光する。感光性樹脂15は、粒子1aの輪郭と貫通部5に対応したパターンで露光される。マスク18は、透明基板19上に、遮光膜20が設けられており、露光光17が透過する透過部と、遮光膜により露光光17がほぼ透過しない遮光部とが形成されている。   Thereafter, as shown in FIG. 2B, the photosensitive resin layer 15 is exposed in a predetermined pattern through a mask 18 having a predetermined pattern. The photosensitive resin 15 is exposed with a pattern corresponding to the outline of the particle 1 a and the penetrating part 5. The mask 18 is provided with a light shielding film 20 on a transparent substrate 19, and a transmissive part through which the exposure light 17 is transmitted and a light shielding part through which the exposure light 17 is hardly transmitted are formed by the light shielding film.

この、感光性樹脂層15を所定のパターンで露光する工程は、特に限定されないが、図2(b)に示すようなマスクを用いる方法以外に、デジタルマイクロミラーデバイスを用いて、マスクを介さずに露光をしても良い。デジタルマイクロミラーデバイス(デジタルミラーデバイス、DMDとも呼ばれる)とは、個別に駆動できる多数の微小鏡面(マイクロミラー)を平面に配列した素子である。各ミラーを個別に駆動することにより、表示画素ごとに光の投射を制御することができるため、マスクを用いずに所定のパターンで露光することができる。   The step of exposing the photosensitive resin layer 15 with a predetermined pattern is not particularly limited. However, in addition to the method using a mask as shown in FIG. 2B, a digital micromirror device is used and the mask is not interposed. You may expose to. A digital micromirror device (also called a digital mirror device or DMD) is an element in which a number of micromirror surfaces (micromirrors) that can be individually driven are arranged in a plane. By individually driving each mirror, light projection can be controlled for each display pixel, so that exposure can be performed in a predetermined pattern without using a mask.

また、図2(b)に示すようなマスクを用いる方法以外に、レーザーまたは電子線による直接描画により、所定のパターンで露光することができる。   In addition to the method using a mask as shown in FIG. 2B, exposure can be performed with a predetermined pattern by direct drawing with a laser or an electron beam.

その後、図2(c)に示すように、アルカリ性の現像液により、感光性樹脂層15を溶解し、さらにその下のアルカリ可溶性金属層13を溶解し、感光性樹脂層15とアルカリ可溶性金属層13をパターニングする。   Thereafter, as shown in FIG. 2 (c), the photosensitive resin layer 15 is dissolved with an alkaline developer, and the underlying alkali-soluble metal layer 13 is further dissolved. The photosensitive resin layer 15 and the alkali-soluble metal layer are then dissolved. 13 is patterned.

その後、図2(d)に示すように、有機溶剤などを用いて、感光性樹脂層15を剥離または除去する。   Thereafter, as shown in FIG. 2D, the photosensitive resin layer 15 is peeled or removed using an organic solvent or the like.

その後、図2(e)に示すように、アルカリ可溶性金属層13の上に、選択的に第2の金属層4aを形成する。アルカリ可溶性金属層13の上以外の犠牲層11などに第2の金属層4aを形成しないために、第2の金属層4aは、電気めっきにより形成することが好ましい。第2の金属層4aの材料としては、電気めっきが可能な金属であれば特に限定されないが、例えば、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、チタン、金、銀、銅、白金族などを用いることができる。なお、電気めっきを行うため、アルカリ可溶性金属層13のパターン同士は、細線パターンや細いブリッジなどで導通されている。   Thereafter, as shown in FIG. 2 (e), the second metal layer 4 a is selectively formed on the alkali-soluble metal layer 13. In order not to form the second metal layer 4a on the sacrificial layer 11 or the like other than on the alkali-soluble metal layer 13, the second metal layer 4a is preferably formed by electroplating. The material of the second metal layer 4a is not particularly limited as long as it is a metal that can be electroplated. For example, nickel, chromium, iron, cobalt, titanium, gold, silver, copper, a platinum group, or the like is used. it can. In addition, in order to perform electroplating, the patterns of the alkali-soluble metal layer 13 are electrically connected by a thin line pattern or a thin bridge.

その後、図2(f)に示すように、基材9を水に浸すと、水溶性樹脂からなる犠牲層11が溶解し、犠牲層11の上に形成されていたアルカリ可溶性金属層13と第2の金属層4aとからなる粒子1aが、基材9より剥離し、貫通部1aを有する粒子1aが得られる。ここで、アルカリ可溶性金属層13が粒子1aを構成する第1の金属層3aに該当する。   Thereafter, as shown in FIG. 2 (f), when the base material 9 is immersed in water, the sacrificial layer 11 made of a water-soluble resin is dissolved, and the alkali-soluble metal layer 13 formed on the sacrificial layer 11 and the first layer Particles 1a composed of two metal layers 4a are peeled off from the base material 9, and particles 1a having penetrating portions 1a are obtained. Here, the alkali-soluble metal layer 13 corresponds to the first metal layer 3a constituting the particle 1a.

本発明の第1の実施形態にかかる製造方法により、第1の金属層3aと第2の金属層4aが積層した粒子1aを得ることができる。   By the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, the particle 1a in which the first metal layer 3a and the second metal layer 4a are laminated can be obtained.

また、本発明の第1の実施形態にかかる製造方法によると、一枚の基材9上に複数の粒子1aを形成でき、一回の露光・現像で大量の粒子1aを製造可能である。特に、フォトマスクを縮小投影した露光エリアを移動させながら、ウエハ全面を露光可能なステッパー露光をすることで、基板9のほぼ全面に多数の粒子を形成することが好ましい。   Moreover, according to the manufacturing method concerning the 1st Embodiment of this invention, several particle | grains 1a can be formed on the base material 9 of 1 sheet, and a lot of particle | grains 1a can be manufactured by one exposure and image development. In particular, it is preferable to form a large number of particles on almost the entire surface of the substrate 9 by performing stepper exposure capable of exposing the entire surface of the wafer while moving the exposure area where the photomask is reduced and projected.

また、本発明の第1の実施形態にかかる製造方法は、これまで一般的に用いられてきた設備で実現可能であり、特殊な設備の導入が不要であるため、低コストで粒子1aを製造することができる。   In addition, the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention can be realized with facilities that have been generally used so far, and it is not necessary to introduce special facilities, so that the particles 1a can be manufactured at low cost. can do.

なお、図2に示す本発明の第1の実施形態にかかる製造方法は、犠牲層11の表面に、後述する凹凸形状21を形成することにより、後述する粒子1b、1cを製造可能である。   In the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2, particles 1 b and 1 c described later can be manufactured by forming uneven shapes 21 described later on the surface of the sacrificial layer 11.

[第2の実施形態]
(粒子1bの構成)
図1(b)、(c)は、本発明の第2の実施形態にかかる粒子1b、1cを示す図である。図1(b)に示す粒子1bは、第1の金属層3bと第2の金属層4bとが積層してなる略平板状の基体上に、拡大して観察することで識別可能な凹凸形状として、文字を表示する回折格子またはホログラムの識別部6bが形成されている。識別部6bの回折格子またはホログラムは、基体の上に、光の干渉縞を深さ1μm以下の微細な凹凸加工で記録して立体画像を再現するものである。基体の形状も拡大して観察することで識別可能であり、形状は円板に限られるものではなく、楕円形や多角形、星型など、様々な形状が使用できる。また、基体上に設けられる識別部6aとしては、文字以外にも、様々な図形、数字、記号のほか、花やデザインなどを施すことができる。すなわち、基体の輪郭や基体に施された形状、模様もしくは色彩等の意匠からなる識別部6bを拡大して観察することで識別可能である。
[Second Embodiment]
(Configuration of particle 1b)
FIGS. 1B and 1C are views showing particles 1b and 1c according to the second embodiment of the present invention. The particle 1b shown in FIG. 1 (b) has a concavo-convex shape that can be identified by magnifying and observing it on a substantially flat substrate formed by laminating a first metal layer 3b and a second metal layer 4b. As shown, a diffraction grating or hologram identification portion 6b for displaying characters is formed. The diffraction grating or hologram of the identification unit 6b reproduces a three-dimensional image by recording light interference fringes on a substrate with a fine unevenness process having a depth of 1 μm or less. The shape of the substrate can be identified by magnifying and observing, and the shape is not limited to a disk, and various shapes such as an ellipse, a polygon, and a star can be used. Moreover, as the identification part 6a provided on a base | substrate, a flower, a design, etc. can be given besides a various figure, a number, a symbol besides a character. That is, it can be identified by magnifying and observing the identification portion 6b made of a design such as the outline of the substrate and the shape, pattern or color applied to the substrate.

粒子1bは、2種以上の金属層が積層されている。製造時にアルカリ性の現像液により影響を受けない、アルカリ不溶性金属で構成されている。アルカリ不溶性金属としては特に限定されないが、製造時に電気めっきにより成膜することが好ましいため、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、チタン、金、銀、銅、白金族などが用いられることが好ましい。特に、微細な凹凸形状を再現するために電気めっきの特性が優れ、安価に用いることができるニッケルが用いられることが好ましい。   In the particle 1b, two or more kinds of metal layers are laminated. It is made of an alkali-insoluble metal that is not affected by an alkaline developer during production. Although it does not specifically limit as an alkali-insoluble metal, Since it is preferable to form into a film by electroplating at the time of manufacture, it is preferable to use nickel, chromium, iron, cobalt, titanium, gold | metal | money, silver, copper, platinum group, etc. In particular, it is preferable to use nickel which has excellent electroplating characteristics and can be used at low cost in order to reproduce a fine uneven shape.

粒子1bの厚さは、1μm以上、25μm以下であることが好ましい。厚さが薄すぎると、強度が保てず、取り扱いの際に粒子が破損してしまう。一方、厚さが厚すぎると、製造時の金属の厚膜の形成が困難になるほか、樹脂や分散媒への分散性が悪く、取り扱い時に不便である。   The thickness of the particles 1b is preferably 1 μm or more and 25 μm or less. If the thickness is too thin, the strength cannot be maintained, and the particles are damaged during handling. On the other hand, if the thickness is too thick, it becomes difficult to form a thick metal film during production, and the dispersibility in a resin or dispersion medium is poor, which is inconvenient in handling.

粒子1bのサイズは、10〜300μmであることが好ましい。小さすぎると、ルーペなどの簡易な拡大器具を使用して粒子1bを観察することができず、顕微鏡などのより複雑な装置を使用しないと、真贋判定ができなくなる。また、大きすぎると、拡大器具を使用せずとも肉眼により粒子1bの特徴を認識可能となり、偽造防止効果が低下する。なお、粒子1bは、平板状であるため、厚さは、サイズの半分以下であることが好ましい。ここで、サイズとは、粒子を平面視した際の、最長の長さであり、例えば形状が四角形であればその対角線の長さであり、形状が楕円であればその長軸の長さである。
また、図1(b)での「DNP」の文字は、裸眼では認識できず、ルーペなどを用いて認識できる程度の大きさである。
The size of the particles 1b is preferably 10 to 300 μm. If it is too small, particles 1b cannot be observed using a simple magnifying instrument such as a magnifying glass, and authenticity cannot be determined unless a more complicated device such as a microscope is used. On the other hand, if the size is too large, the features of the particles 1b can be recognized with the naked eye without using a magnifying device, and the effect of preventing forgery is reduced. In addition, since the particle | grains 1b are flat form, it is preferable that thickness is below half of a size. Here, the size is the longest length when the particle is viewed in plan, for example, the length of the diagonal line if the shape is a quadrangle, and the length of the long axis if the shape is an ellipse. is there.
In addition, the character “DNP” in FIG. 1B cannot be recognized with the naked eye, but is large enough to be recognized using a loupe or the like.

(粒子1bの効果)
本発明の粒子1bは、金属製であるので、機械的強度に優れ、優れた耐久性を持つうえ、金属光沢を持ち、意匠性に優れる。
(Effect of particle 1b)
Since the particles 1b of the present invention are made of metal, they have excellent mechanical strength, excellent durability, metallic luster, and excellent design.

本発明の粒子1bは、製造が困難なホログラムや回折格子などの凹凸形状を表面に有するため、偽造防止効果が向上する。   Since the particle 1b of the present invention has a concavo-convex shape such as a hologram or a diffraction grating that is difficult to manufacture on the surface, the forgery prevention effect is improved.

本発明の粒子1bを物品に付与すると、肉眼では粒子の特徴が把握できず、偽造防止技術が施されていることが確認できないため、目視で確認できる偽造防止技術と比べて、より高い偽造防止効果を発揮することができる。   When the particles 1b of the present invention are applied to an article, the characteristics of the particles cannot be grasped with the naked eye and it cannot be confirmed that the anti-counterfeiting technology is applied. The effect can be demonstrated.

本発明の粒子1bは、複数種類の金属から構成されているため、外形などの光学的に観察できる特徴以外に、複数種類の金属から構成されるという、他の分析手段を用いなければ解析できない特徴を有することとなり、フォレンジックである。フォレンジックとは分析機器により真贋判定を行うことを示す。オバート(五感による真贋判定)、コバート(簡易器具による真贋判定)に対し、分析機器を必要とすることから、高い偽造防止効果が得られる。つまり、粒子1bが、複数種類の金属から構成されているので、仮に粒子1bの形状や識別部などの特徴を複製することができたとしても、通常は粒子1bが積層した金属を含むことまでは分からないため、一層の金属からなる粒子を形成すると考えられる。そのため、粒子を分析し、一層の金属からなると分かる場合には、偽造品を見破ることができる。   Since the particle 1b of the present invention is composed of a plurality of types of metals, it can be analyzed only by using other analysis means that are composed of a plurality of types of metals in addition to the features that can be observed optically such as the outer shape. It has characteristics and is forensic. Forensic means that authenticity is determined by an analytical instrument. Since an analytical instrument is required for overt (authentication determination by the five senses) and covert (authentication determination by a simple instrument), a high anti-counterfeiting effect can be obtained. That is, since the particle 1b is composed of a plurality of types of metals, even if the features such as the shape and identification part of the particle 1b can be replicated, the particles 1b usually include a metal laminated. Since it is not known, it is considered that particles made of a single layer of metal are formed. Therefore, if the particles are analyzed and found to consist of a single layer of metal, a counterfeit product can be detected.

粒子1bの用途は、前述の粒子1aと同様である。   The use of the particle 1b is the same as that of the particle 1a.

(粒子1cの構成)
図1(c)に示す粒子1cは、第1の金属層3cと第2の金属層4cとが積層してなる略平板状の基体上に、立体的な文字の識別部6cが形成されている。図1(c)では、円板上に厚みのある文字が形成されているが、基材の形状も円板に限られるものではなく、楕円形や多角形、星型など、様々な形状が使用できる。また、基材上に設けられる形状としては、文字以外にも、様々な図形、数字、記号のほか、立体的な花やデザインなどを施すことができる。また、識別部6cの立体的な構造は、立体的に観察されるために、深さが1μm以上であることが好ましい。
(Configuration of particle 1c)
In the particle 1c shown in FIG. 1C, a three-dimensional character identification portion 6c is formed on a substantially flat substrate formed by laminating a first metal layer 3c and a second metal layer 4c. Yes. In FIG. 1C, thick characters are formed on the disk, but the shape of the substrate is not limited to the disk, and various shapes such as an ellipse, a polygon, and a star are available. Can be used. Moreover, as a shape provided on the base material, in addition to letters, various figures, numbers, symbols, three-dimensional flowers and designs can be applied. Moreover, since the three-dimensional structure of the identification part 6c is observed three-dimensionally, it is preferable that the depth is 1 μm or more.

粒子1cの構成は、識別部が異なる点を除いて同様である。粒子1cの効果、用途は、粒子1bと同様である。   The configuration of the particle 1c is the same except that the identification part is different. The effect and use of the particle 1c are the same as those of the particle 1b.

なお、粒子1cの厚さ、すなわち、基体のみの厚さではなく、識別部6cの厚さも含む厚さは、2μm以上であることが好ましく、25μm以下であることが好ましい。厚さが薄すぎると、強度が保てず、取り扱いの際に粒子が破損しやすいうえ、粒子に形成された三次元構造が、立体的に観察されない。一方、厚さが厚すぎると、製造時の金属の厚膜の形成が困難になるほか、樹脂や分散媒への分散性が悪く、取り扱い時に不便である。   The thickness of the particle 1c, that is, the thickness including not only the thickness of the substrate but also the thickness of the identification portion 6c is preferably 2 μm or more, and preferably 25 μm or less. If the thickness is too thin, the strength cannot be maintained, the particles are easily damaged during handling, and the three-dimensional structure formed in the particles is not observed three-dimensionally. On the other hand, if the thickness is too thick, it becomes difficult to form a thick metal film during production, and the dispersibility in a resin or dispersion medium is poor, which is inconvenient in handling.

(粒子1b、1cの製造方法)
次に、本発明にかかる粒子1b、1cの製造方法について説明する。なお、回折格子またはホログラムの識別部6bを有する微小粒子1bと、立体的形状の識別部6cを有する粒子1cは、凹凸形状21の形状が異なるのみで、同様の製造方法により製造可能である。
(Method for producing particles 1b and 1c)
Next, the manufacturing method of particle | grains 1b and 1c concerning this invention is demonstrated. The fine particle 1b having the diffraction grating or hologram identification portion 6b and the particle 1c having the three-dimensional identification portion 6c can be manufactured by the same manufacturing method except that the shape of the concavo-convex shape 21 is different.

まず、図3(a)に示すように、基材23の上に、アルカリ可溶性樹脂を含む犠牲層25を形成する。犠牲層25は、アルカリ可溶性樹脂の塗布などにより形成される。基材23は基材9に使用できる基材と同様の基材を使用できる。また、アルカリ可溶性樹脂としては、特に限定されないが、一般的に用いられるフォトレジスト用アルカリ可溶性樹脂を用いることができる。   First, as shown in FIG. 3A, a sacrificial layer 25 containing an alkali-soluble resin is formed on the base material 23. The sacrificial layer 25 is formed by applying an alkali-soluble resin. The base material 23 can use the same base material as that used for the base material 9. Moreover, it is although it does not specifically limit as alkali-soluble resin, Generally used alkali-soluble resin for photoresists can be used.

その後、図3(b)に示すように、犠牲層25に凹凸形状21を形成する。この凹凸形状21は、マスクまたは階調マスクを介したフォトリソグラフィー、デジタルマイクロミラーデバイスを用いたフォトリソグラフィー、レーザーでの直接描画によるフォトリソグラフィーなどにより形成される。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the concavo-convex shape 21 is formed in the sacrificial layer 25. The uneven shape 21 is formed by photolithography through a mask or a gradation mask, photolithography using a digital micromirror device, photolithography by direct drawing with a laser, or the like.

その後、図3(c)に示すように、犠牲層25の上に、アルカリ不溶性金属を含む金属凹凸層27を形成する。金属凹凸層27は、スパッタリングや蒸着などにより形成される。   Thereafter, as shown in FIG. 3C, a metal uneven layer 27 containing an alkali-insoluble metal is formed on the sacrificial layer 25. The metal uneven layer 27 is formed by sputtering or vapor deposition.

その後、図3(d)に示すように、金属凹凸層27を形成した後に、アルカリ不溶性金属を含む第2の金属層29を形成する。第2の金属層29は、比較的厚い膜を形成する必要があるので、電気めっきにより形成されることが好ましい。金属凹凸層27や第2の金属層29を構成するアルカリ不溶性金属としては、特に限定されないが、製造時に電気めっきにより成膜することが好ましいため、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、チタン、金、銀、銅、白金族などが用いられることが好ましい。   Thereafter, as shown in FIG. 3D, after forming the metal uneven layer 27, a second metal layer 29 containing an alkali-insoluble metal is formed. The second metal layer 29 is preferably formed by electroplating because it is necessary to form a relatively thick film. Although it does not specifically limit as an alkali insoluble metal which comprises the metal uneven | corrugated layer 27 and the 2nd metal layer 29, Since it is preferable to form into a film by electroplating at the time of manufacture, nickel, chromium, iron, cobalt, titanium, gold | metal | money, Silver, copper, platinum group and the like are preferably used.

その後、図3(e)に示すように、第2の金属層29の上に、粒子1b、1cの輪郭に対応する所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層31を形成する。   Thereafter, as shown in FIG. 3E, a resist layer 31 containing an alkali-soluble resin having a predetermined pattern corresponding to the contours of the particles 1b and 1c is formed on the second metal layer 29.

この、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層31を形成する工程は、所望のレジスト層が得られる限り限定されないが、以下の3つの方法が考えられる。   The step of forming the resist layer 31 containing the alkali-soluble resin having a predetermined pattern is not limited as long as a desired resist layer is obtained, but the following three methods are conceivable.

第1の方法は、フォトリソグラフィーを用いてレジスト層をパターニングする方法である。本方法は、ポジ型またはネガ型の感光性樹脂組成物を全面に塗布してレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を、所定のパターンを有するマスクを介して露光する工程と、前記レジスト層を、現像する工程と、を具備する。   The first method is a method of patterning a resist layer using photolithography. The method includes a step of applying a positive or negative photosensitive resin composition to the entire surface to form a resist layer, a step of exposing the resist layer through a mask having a predetermined pattern, and the resist Developing the layer.

また、マスクを介して露光する代わりに、デジタルマイクロミラーデバイスを用いて、マスクを介さずに露光をしても良い。デジタルマイクロミラーデバイス(デジタルミラーデバイス、DMDとも呼ばれる)とは、個別に駆動できる多数の微小鏡面(マイクロミラー)を平面に配列した素子である。各ミラーを個別に駆動することにより、表示画素ごとに光の投射を制御することができるため、マスクを用いずに所定のパターンで露光することができる。   Further, instead of performing exposure through a mask, a digital micromirror device may be used for exposure without using a mask. A digital micromirror device (also called a digital mirror device or DMD) is an element in which a number of micromirror surfaces (micromirrors) that can be individually driven are arranged in a plane. By individually driving each mirror, light projection can be controlled for each display pixel, so that exposure can be performed in a predetermined pattern without using a mask.

第2の方法は、直接描画によるレジスト層をパターニングする方法である。本方法は、感光性樹脂組成物を全面に塗布してレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層を、レーザーまたは電子線による直接描画により所定のパターンで露光する工程と、前記レジスト層を、現像する工程と、を具備する。   The second method is a method of patterning a resist layer by direct writing. The method comprises a step of applying a photosensitive resin composition to the entire surface to form a resist layer, a step of exposing the resist layer in a predetermined pattern by direct drawing with a laser or an electron beam, and the resist layer, Developing.

第3の方法は、印刷技術を用いて所定のパターンを有するレジスト層を直接形成する方法である。具体的には、レジスト材料をシルク・スクリーン印刷などで印刷する工程を含むことを特徴とする。印刷技法には通常の凹版印刷や孔版印刷の技法が用いられる。   The third method is a method of directly forming a resist layer having a predetermined pattern using a printing technique. Specifically, the method includes a step of printing a resist material by silk screen printing or the like. As the printing technique, a conventional intaglio printing or stencil printing technique is used.

その後、図3(f)に示すように、レジスト層31をマスクとして用い、金属凹凸層27と第2の金属層29をエッチングする。このとき、金属凹凸層27と第2の金属層29を構成する金属に応じて、ウェットエッチング、ドライエッチングなどを適宜用いることができる。金属凹凸層27は、第1の金属層3b、3cに対応し、第2の金属層29は、第2の金属層4b、4cに対応する。   Thereafter, as shown in FIG. 3F, the metal uneven layer 27 and the second metal layer 29 are etched using the resist layer 31 as a mask. At this time, wet etching, dry etching, or the like can be appropriately used depending on the metal constituting the metal uneven layer 27 and the second metal layer 29. The metal uneven layer 27 corresponds to the first metal layers 3b and 3c, and the second metal layer 29 corresponds to the second metal layers 4b and 4c.

その後、図3(g)に示すように、アルカリ性の現像液などにより、犠牲層25とレジスト層31を溶解させ、粒子1b、1cを基材23より剥離する。   Thereafter, as shown in FIG. 3G, the sacrificial layer 25 and the resist layer 31 are dissolved with an alkaline developer or the like, and the particles 1 b and 1 c are peeled off from the substrate 23.

その結果、図3(h)に示すとおり、個片化した粒子1b、1cが得られる。   As a result, as shown in FIG. 3H, individualized particles 1b and 1c are obtained.

本発明の第2の実施形態にかかる製造方法によると、表面に凹凸を有する粒子1b、1cが得られる。   According to the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention, particles 1b and 1c having irregularities on the surface are obtained.

本発明の第2の実施形態にかかる製造方法により、二種以上の金属が積層した粒子1b、1cを得ることができる。   By the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention, particles 1b and 1c in which two or more kinds of metals are laminated can be obtained.

また、本発明の第2の実施形態にかかる製造方法によると、一枚の基材23上に複数の粒子1b、1cを形成でき、一回の露光・現像で大量の粒子1b、1cを製造可能である。特に、フォトマスクを縮小投影した露光エリアを移動させながら、ウエハ全面を露光可能なステッパー露光をすることで、基板23のほぼ全面に多数の粒子を形成することが好ましい。   Moreover, according to the manufacturing method concerning the 2nd Embodiment of this invention, several particle | grains 1b and 1c can be formed on the base material 23 of 1 sheet, and a lot of particle | grains 1b and 1c are manufactured by one exposure and image development. Is possible. In particular, it is preferable to form a large number of particles on almost the entire surface of the substrate 23 by performing stepper exposure capable of exposing the entire surface of the wafer while moving the exposure area where the photomask is reduced and projected.

また、本発明の第2の実施形態にかかる製造方法は、これまで一般的に用いられてきた設備で実現可能であり、特殊な設備の導入が不要であるため、低コストで粒子1b、1cを製造することができる。   In addition, the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention can be realized with facilities that have been generally used so far, and it is not necessary to introduce special facilities, so that the particles 1b and 1c can be manufactured at low cost. Can be manufactured.

なお、図3に示す本発明の第2の実施形態にかかる製造方法において、犠牲層23に凹凸形状21を設けずに、レジスト層31を、粒子1aの輪郭と貫通部5に対応するパターンに形成するようにすることで、第1の実施形態にかかる粒子1aを製造可能である。   In the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3, the resist layer 31 is formed in a pattern corresponding to the outline of the particle 1 a and the penetrating part 5 without providing the concave-convex shape 21 in the sacrificial layer 23. By forming it, the particle 1a according to the first embodiment can be manufactured.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。
[実施例1]
ガラス基板上(HOYA製NA−35)に、ポリビニルアルコールの1wt%水溶液を、バーコーターにて全面に塗布した。90℃で5分間、乾燥させ、厚さ0.2μmのポリビニルアルコールからなる犠牲層を得た。
犠牲層の上に、アルミニウムをスパッタし、厚さ40nmのアルミニウムからなるアルカリ可溶性金属層を得た。
アルカリ可溶性金属層の上にネガ型感光性樹脂(DNPファインケミカル製IT−G R1501−5)をスピンコート(成膜条件:スロープ2秒−550rpmで3秒−スロープ2秒)し、常温で5分間真空乾燥した後、80℃で10分間ベークした。厚さ2.5μmの感光性樹脂層を得た。
アライナーを用いて、60mJ/cmでパターン露光した後、10wt%水酸化カリウム水溶液で15秒間現像した。この際、露光されていないネガ型感光性樹脂を溶解し、さらに下層のアルミニウムを溶解し、パターニングした。
露光したネガ型感光性樹脂層を剥離した後、パターニングされたアルカリ可溶性金属層の上にニッケルを電気めっき(電鋳)し、厚さ6μmのニッケルからなる第2の金属層を形成した。
この基板を水に浸すと犠牲層が溶解し、アルミニウムの第1の金属層とニッケルの第2の金属層が積層してなる粒子を得た。その後、粒子を回収し、純水に分散し、水分散体を得た。
これらの粒子の大きさが200μmであり、厚さは6μmであった。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
[Example 1]
A 1 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol was applied on the entire surface of a glass substrate (NA-35 manufactured by HOYA) with a bar coater. A sacrificial layer made of polyvinyl alcohol having a thickness of 0.2 μm was obtained by drying at 90 ° C. for 5 minutes.
Aluminum was sputtered on the sacrificial layer to obtain an alkali-soluble metal layer made of aluminum having a thickness of 40 nm.
A negative photosensitive resin (IT-GR 1501-5 manufactured by DNP Fine Chemical) is spin-coated on the alkali-soluble metal layer (film formation conditions: slope 2 seconds—550 rpm for 3 seconds—slope 2 seconds), and room temperature for 5 minutes. After vacuum drying, it was baked at 80 ° C. for 10 minutes. A photosensitive resin layer having a thickness of 2.5 μm was obtained.
Using an aligner, pattern exposure was performed at 60 mJ / cm 2 , followed by development with a 10 wt% aqueous potassium hydroxide solution for 15 seconds. At this time, the unexposed negative photosensitive resin was dissolved, and the lower layer aluminum was dissolved and patterned.
After the exposed negative photosensitive resin layer was peeled off, nickel was electroplated (electroformed) on the patterned alkali-soluble metal layer to form a second metal layer made of nickel having a thickness of 6 μm.
When this substrate was immersed in water, the sacrificial layer was dissolved to obtain particles formed by laminating a first metal layer of aluminum and a second metal layer of nickel. Thereafter, the particles were collected and dispersed in pure water to obtain an aqueous dispersion.
These particles had a size of 200 μm and a thickness of 6 μm.

水溶性紫外線硬化樹脂(荒川化学製AQ−9)5gに対し、開始剤(Merck製ダロキュア1173)0.5g添加し、攪拌し、できた液にタガント水溶液を1g添加し攪拌した。スピンコーターにてガラス基材(HOYA製NA−35)上にバーコーターにて塗布した。UVアライナーにて照射(20mW/s 360sec)し、成膜した。印刷された偽造防止用インクは、肉眼では粒子の形状を把握できなかったが、ルーペを用いて拡大すると、粒子が識別できた。   0.5 g of an initiator (Merck Darocur 1173) was added to 5 g of water-soluble ultraviolet curable resin (AQ-9 manufactured by Arakawa Chemical) and stirred, and 1 g of an aqueous taggant solution was added to the resulting solution and stirred. It apply | coated with the bar coater on the glass base material (HOYA NA-35) with the spin coater. Irradiation with a UV aligner (20 mW / s 360 sec) was performed to form a film. The printed anti-counterfeit ink could not grasp the shape of the particles with the naked eye, but the particles could be identified when enlarged using a magnifying glass.

[実施例2]
支持体フィルムとして、厚み16μmのポリエステル樹脂フィルム(東レ社製、ルミラー)を用いた。支持体フィルム上に犠牲層として、ネガ型のドライフィルムレジスト(東京応化工業社製ORDYL PR、厚さ20μm)を用いて成膜した。
その後、回折格子パターンが刻まれたフォトマスクを介して、平行紫外光照射装置により露光し、アルカリ現像液(水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液:濃度1wt%)にて現像することにより、犠牲層の表面に凹凸形状として、ホログラム用の回折格子パターンを形成した。
さらに、前述の犠牲層の表面に、金属凹凸層としてクロムを40nmの厚さで真空蒸着した。
さらに、前述の金属凹凸層の上に厚さ10μmのニッケル層を電気めっきにより形成した。
さらに、ネガ型フォトレジスト(東京応化製アクリル系レジストPMER−N)を塗布し、70℃で30分乾燥加熱処理し、厚さ10μmの均一なレジスト膜を得た。その後、所望のパターンを露光できるようにしたフォトマスクを介して、平行紫外光照射装置により365nmの紫外線を250mJ/cm2の露光量で露光し、アルカリ現像液(水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液:濃度1wt%)にて現像して、金属粒子の輪郭を形成する所望のパターンのレジスト層を形成し、130℃にて乾燥させた。
その後、エッチング液(硝酸:リン酸:酢酸:水=7:10:10:3)に浸し、レジスト層をマスクとしてニッケル層とクロム層をエッチングした。
さらに、アルカリ現像液(水酸化ナトリウムを主成分とした水溶液:濃度5wt%)にて現像し、レジスト層と犠牲層を溶解させた。
このとき、現像液中に、表面に回折格子が刻まれたニッケルとクロムが積層してなる金属粒子を得た。
この現像液を水に置換することにより、金属粒子水分散液を得た。
[Example 2]
As the support film, a 16 μm thick polyester resin film (manufactured by Toray Industries Inc., Lumirror) was used. A negative dry film resist (ORDYL PR manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., thickness 20 μm) was used as a sacrificial layer on the support film.
After that, it is exposed by a parallel ultraviolet light irradiation device through a photomask engraved with a diffraction grating pattern and developed with an alkali developer (aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component: concentration 1 wt%), and sacrificed. A diffraction grating pattern for hologram was formed as an uneven shape on the surface of the layer.
Further, chromium was vacuum deposited on the surface of the sacrificial layer to a thickness of 40 nm as a metal uneven layer.
Further, a nickel layer having a thickness of 10 μm was formed on the metal uneven layer by electroplating.
Further, a negative photoresist (acrylic resist PMER-N manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied and dried and heated at 70 ° C. for 30 minutes to obtain a uniform resist film having a thickness of 10 μm. After that, through a photomask capable of exposing a desired pattern, the ultraviolet light of 365 nm is exposed at an exposure amount of 250 mJ / cm 2 by a parallel ultraviolet light irradiation device, and an alkali developer (mainly sodium hydroxide is used as a main component). A resist layer having a desired pattern for forming the contours of the metal particles was formed by development with an aqueous solution (concentration: 1 wt%) and dried at 130 ° C.
Then, it was immersed in etching liquid (nitric acid: phosphoric acid: acetic acid: water = 7: 10: 10: 3), and the nickel layer and the chromium layer were etched using the resist layer as a mask.
Further, the resist layer and the sacrificial layer were dissolved by developing with an alkali developer (aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component: concentration 5 wt%).
At this time, metal particles obtained by laminating nickel and chromium having a diffraction grating on the surface were obtained in the developer.
By substituting this developer with water, an aqueous dispersion of metal particles was obtained.

この金属粒子の水分散体を、水溶性紫外線硬化型樹脂(荒川化学社製AQ−9)と混合させ、偽造防止用インクを製造した。このとき、インク1Lあたり6500万個の金属粒子が入るように調整した。この偽造防止用インクを、180メッシュ版を用いたシルク・スクリーン印刷にて、商品券に印刷した。印刷された偽造防止用インクは、肉眼では金属粒子の形状は把握できなかったが、100倍のルーペを用いて拡大すると、金属粒子を識別できた。金属粒子の大きさが100μmであり、厚さは10μmであった。   This aqueous dispersion of metal particles was mixed with a water-soluble ultraviolet curable resin (AQ-9 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) to produce an anti-counterfeit ink. At this time, adjustment was made so that 65 million metal particles per 1 L of ink were contained. This anti-counterfeit ink was printed on a gift certificate by silk screen printing using a 180 mesh plate. In the printed anti-counterfeit ink, the shape of the metal particles could not be grasped with the naked eye, but the metal particles could be identified when enlarged using a 100 times magnifier. The size of the metal particles was 100 μm and the thickness was 10 μm.

以上、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しえることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

1a、1b、1c………粒子
3a、3b、3c………第1の金属層
4a、4b、4c………第2の金属層
5………貫通部
6b、6c………識別部
9………基材
11………犠牲層
13………アルカリ可溶性金属層
15………感光性樹脂層
17………露光光
18………マスク
19………透明基板
20………遮光膜
21………凹凸形状
23………基材
25………犠牲層
27………金属凹凸層
29………第2の金属層
31………レジスト層
41………有価証券
43………粒子含有部
51………カード
53………粒子含有部
1a, 1b, 1c ......... Particles 3a, 3b, 3c ......... First metal layer 4a, 4b, 4c ......... Second metal layer 5 ......... Penetration part 6b, 6c ......... Identification part 9 ......... Base material 11 ...... Sacrificial layer 13 ......... Alkali-soluble metal layer 15 ...... Photosensitive resin layer 17 ...... Exposure light 18 ......... Mask 19 ......... Transparent substrate 20 ......... Light shielding film 21 ......... Uneven shape 23 ......... Base material 25 ......... Sacrificial layer 27 ......... Metal uneven surface 29 ......... Second metal layer 31 ......... Regist layer 41 ......... Marketable securities 43 ......... Particle-containing part 51 ……… Card 53 ……… Particle-containing part

Claims (12)

犠牲層、アルカリ可溶性金属層、感光性樹脂層がこの順に積層された基材を準備する基材準備工程と、
前記基材上の前記感光性樹脂層を、拡大して観察することで識別可能な形状のパターンに露光する露光工程と、
アルカリ性の現像液にて現像し、前記感光性樹脂層と前記アルカリ可溶性金属層とをパターニングするパターニング工程と、
前記感光性樹脂層を、前記アルカリ可溶性金属層から剥離する感光性樹脂層剥離工程と、
前記アルカリ可溶性金属層上に、第2の金属層を形成する第2の金属層形成工程と、
前記犠牲層を溶かし、前記アルカリ可溶性金属層と前記第2の金属層を有する粒子を前記基材から剥離する剥離工程と、
を具備することを特徴とする偽造防止用粒子の製造方法。
A base material preparation step for preparing a base material in which a sacrificial layer, an alkali-soluble metal layer, and a photosensitive resin layer are laminated in this order;
An exposure step of exposing the photosensitive resin layer on the substrate to a pattern having a shape that can be identified by magnifying and observing,
Developing with an alkaline developer, and patterning the photosensitive resin layer and the alkali-soluble metal layer; and
A photosensitive resin layer peeling step for peeling the photosensitive resin layer from the alkali-soluble metal layer;
A second metal layer forming step of forming a second metal layer on the alkali-soluble metal layer;
A peeling step of dissolving the sacrificial layer and peeling the particles having the alkali-soluble metal layer and the second metal layer from the substrate;
A method for producing anti-counterfeit particles, comprising:
前記第2の金属層が、電気めっきにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の偽造防止用粒子の製造方法。   The method for producing anti-counterfeit particles according to claim 1, wherein the second metal layer is formed by electroplating. 前記偽造防止用粒子の形状が、平板状であり、
前記偽造防止用粒子の輪郭及び/又は貫通部の形状が、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の形状であることを特徴とする請求項1または2に記載の偽造防止用粒子の製造方法。
The shape of the anti-counterfeit particles is a flat plate shape,
The anti-counterfeit particle according to claim 1 or 2, wherein the forgery-preventing particle has a contour and / or a shape of a penetrating portion of one or more of letters, numbers, symbols, and figures. Manufacturing method.
前記アルカリ可溶性金属層の表面に凹凸形状を有し、
前記凹凸形状が、拡大して観察されることで識別可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の偽造防止用粒子の製造方法。
The surface of the alkali-soluble metal layer has an uneven shape,
The method for producing anti-counterfeit particles according to claim 1, wherein the uneven shape is identifiable by observing the enlarged shape.
前記凹凸形状により、前記偽造防止用粒子に、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の立体的な形状が形成されることを特徴とする請求項4に記載の偽造防止用粒子の製造方法。   5. The anti-counterfeit particle according to claim 4, wherein the anti-counterfeit particle is formed with one or more three-dimensional shapes of letters, numbers, symbols, and figures due to the uneven shape. Production method. 前記凹凸形状が、回折格子またはホログラムであり、
前記回折格子または前記ホログラムにより、前記偽造防止用粒子の表面に、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上が表示されることを特徴とする請求項4に記載の偽造防止用粒子の製造方法。
The uneven shape is a diffraction grating or a hologram,
5. The anti-counterfeit particle according to claim 4, wherein any one or more of letters, numbers, symbols, and figures are displayed on the surface of the anti-counterfeit particle by the diffraction grating or the hologram. Production method.
前記偽造防止用粒子の輪郭の形状が、文字、数字、記号、図形のいずれか1つ以上の形状であることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子の製造方法。   7. The anti-counterfeit particle according to claim 4, wherein a shape of the contour of the anti-counterfeit particle is one or more of letters, numbers, symbols, and figures. Manufacturing method. サイズが10〜300μm、厚さが1〜25μmであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子の製造方法。   The method for producing anti-counterfeit particles according to any one of claims 1 to 7, wherein the size is 10 to 300 µm and the thickness is 1 to 25 µm. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子が、分散媒に分散されたことを特徴とする偽造防止用インクの製造方法。   A method for producing an anti-counterfeit ink, wherein the anti-counterfeit particles according to claim 1 are dispersed in a dispersion medium. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子が、樹脂に分散されたことを特徴とする偽造防止用シートの製造方法。   A method for producing a forgery-preventing sheet, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of claims 1 to 8 are dispersed in a resin. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子が、表面に付与されたことを特徴とする有価証券の製造方法。   A method for producing a security, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of claims 1 to 8 are applied to a surface. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の偽造防止用粒子が、表面に付与されたことを特徴とするカードの製造方法。   A card manufacturing method, wherein the anti-counterfeit particles according to any one of claims 1 to 8 are applied to a surface.
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