JP5925012B2 - High refractive index anti-blocking layer forming composition - Google Patents
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Description
本発明は、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物、この高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装することによって得られるアンチブロッキングフィルム、およびこのアンチブロッキングフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された透明導電性積層体に関する。 The present invention relates to a high refractive index antiblocking layer forming composition, an antiblocking film obtained by coating the high refractive index antiblocking layer forming composition, and a transparent conductive layer on at least one surface of the antiblocking film. The present invention relates to a transparent conductive laminate in which is formed.
PETフィルムなどの熱可塑性フィルムにハードコーティングを施す場合、製造工程で、ロール状に巻回しにするなどして保存したりすることがある。ハードコートを形成したPETフィルムなどの基材層上に別の層状体を重ねた場合に、層間に粘着力や化学的な力が働いて、付着状態になり、各層状体を利用するときに、各層状体を剥がすための力が必要であったり、付着力が強くなって剥がすのが困難になったり、あるいはむりやり剥がそうとすると層状体の破壊が起こったりすることがある。なお、このような現象をブロッキングという。 When a hard coating is applied to a thermoplastic film such as a PET film, it may be stored in a manufacturing process, such as being wound into a roll. When another layered body is layered on a base material layer such as a PET film on which a hard coat has been formed, the adhesive force or chemical force acts between the layers, and it becomes an attached state, and when using each layered body In addition, a force for peeling off each layered body may be required, it may be difficult to peel off due to the strong adhesive force, or the layered body may be destroyed if it is forced to peel off. Such a phenomenon is called blocking.
そのような場合、基材のハードコーティングの施されていない反対面に、1μm程度のシリカなどの粒子状物を練り込んだ塗料を塗布してバックコート層を形成して、その表面に凹凸を設けて、各層間の接触面積を小さくすることにより、層状体間の付着を防止することがある。例えば、特開2004−151937号公報(特許文献1)および特開2005−132897号公報(特許文献2)には粒子状物を含有するバックコート層を形成した技術が開示されている。 In such a case, a back coat layer is formed by applying a paint kneaded with a particulate matter of about 1 μm on the opposite surface of the base material that is not hard-coated, and the surface is uneven. By providing and reducing the contact area between each layer, adhesion between layered bodies may be prevented. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-151937 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-132897 (Patent Document 2) disclose a technique in which a backcoat layer containing a particulate matter is formed.
上述の粒状物質の利用による層状体間の付着を防止する技術は、有効であるが、粒子の凹凸が表面にまで現れなければならないので、塗膜の厚さが粒径より小さく(例えば、0.5μm程度)にしなければならず、バックコート層の機械的強度が低下すると共に、PETフィルムなどの基材層に傷などが付き易く、また、ぎらつき等も生じる。このような欠点は、透明性を要求される熱可塑性樹脂層の場合には、光学特性や透明性が低下し、致命的な欠点となる。 The technique for preventing adhesion between layered bodies by using the above-mentioned granular material is effective, but since the unevenness of the particles must appear on the surface, the thickness of the coating film is smaller than the particle size (for example, 0 .About.5 μm), the mechanical strength of the backcoat layer is lowered, the substrate layer such as a PET film is easily scratched, and glare occurs. In the case of a thermoplastic resin layer that requires transparency, such a defect is a fatal defect because optical characteristics and transparency are lowered.
ハードコート層の反対面のバックコート層に透明の樹脂微粒子を混入する方法においては、バックコート層だけではなくハードコート層自体にも樹脂粒子を混入して、表面に凹凸を形成する技術も存在する(特開2004−042653号公報(特許文献3)配合される粒子の平均粒径は0.5〜20μmの範囲)。粒子を混入する場合、表面の凹凸形成の為に膜厚を薄くする必要があり、膜強度が弱くなり傷が付きやすく、塗膜特性が劣化する。また、粒子の粒径が比較的大きいために、特許文献3のように仮に透明の粒子が用いられたとしても光学特性が損なわれることもある。 In the method of mixing transparent resin fine particles in the back coat layer on the opposite side of the hard coat layer, there is also a technique for forming irregularities on the surface by mixing resin particles not only in the back coat layer but also in the hard coat layer itself. (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-042653 (Patent Document 3)) The blended particles have an average particle size in the range of 0.5 to 20 μm. When the particles are mixed, it is necessary to reduce the film thickness in order to form unevenness on the surface, the film strength becomes weak, the film is easily damaged, and the coating film properties are deteriorated. In addition, since the particle size of the particles is relatively large, even if transparent particles are used as in Patent Document 3, the optical characteristics may be impaired.
なお、上記PETフィルム、さらにはPCフィルムが用いられる分野の1つとして、タッチパネルなどに用いられる透明導電性積層体が挙げられる。これらPETフィルム、PCフィルムはいずれも、高い透明性および好適な物性を有する一方で、屈折率が高いという特徴がある。フィルムの屈折率が高いことによって、樹脂層との屈折率差が生じる。この屈折率差によって、干渉縞が発生し、視認性が低下する問題が生じる。ここで干渉縞の発生を防止する手段の1つとして、透明導電性積層体の製造において形成される各種樹脂層を高屈折率化する手段が挙げられる。 In addition, the transparent conductive laminated body used for a touch panel etc. is mentioned as one of the field | areas where the said PET film and also PC film are used. Both of these PET films and PC films are characterized by high refractive index while having high transparency and suitable physical properties. Due to the high refractive index of the film, a difference in refractive index from the resin layer occurs. Due to this difference in refractive index, interference fringes are generated, resulting in a problem that visibility is lowered. Here, as one of means for preventing the generation of interference fringes, there is a means for increasing the refractive index of various resin layers formed in the production of the transparent conductive laminate.
本発明は、視認性に悪影響を及ぼすことなく、樹脂フィルムなどの層状物間の付着などの不具合、すなわちブロッキング現象、を効果的に防止することができる技術を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a technique capable of effectively preventing defects such as adhesion between layered materials such as a resin film, that is, a blocking phenomenon, without adversely affecting visibility.
本発明は、
第1成分および第2成分を含む、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物であって、
第1成分が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体であり、
第2成分が、
(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレート
を含み、
第2成分100質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート(A)は60〜85質量部および(メタ)アクリレート(B)は15〜30質量部含まれており、
第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差△SPが1〜4の範囲内であり、
組成物中に含まれる第1成分および第2成分の質量比は、第1成分:第2成分=0.5:99.5〜20:80であり、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第1成分および第2成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物、を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。
The present invention
A high refractive index anti-blocking layer-forming composition comprising a first component and a second component,
The first component is an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer,
The second component is
(A) a phenol novolac acrylate having 2 or more acrylate groups, and (B) an aromatic group-containing mono- or poly- (1 or 2 alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in one molecule) (Meth) acrylate,
The phenol novolac acrylate (A) is included in an amount of 60 to 85 parts by mass and the (meth) acrylate (B) in an amount of 15 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the second component.
The difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is in the range of 1 to 4,
The mass ratio of the first component and the second component contained in the composition is: first component: second component = 0.5: 99.5 to 20:80,
After coating the high refractive index antiblocking layer forming composition, the first component and the second component cause layer separation, and an antiblocking layer having fine irregularities on the surface is formed.
A high-refractive index anti-blocking layer forming composition is provided, which solves the above problems.
上記フェノールノボラック型アクリレート(A)は、下記式(I) The phenol novolac acrylate (A) has the following formula (I)
[式(I)中、R1は、HまたはCH2OHであり、R2は、HまたはOHであり、nは2〜5であり、mは0〜5である。]
で示される化合物であるのが好ましい。
[In Formula (I), R 1 is H or CH 2 OH, R 2 is H or OH, n is 2 to 5, and m is 0 to 5. ]
It is preferable that it is a compound shown by these.
また、上記(メタ)アクリレート(B)は、屈折率が1.56〜1.64の範囲内である、芳香族基含有(メタ)アクリレートであるのが好ましい。 The (meth) acrylate (B) is preferably an aromatic group-containing (meth) acrylate having a refractive index in the range of 1.56 to 1.64.
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2およびインジウム−スズ酸化物の総含有量が組成物中の0.0001質量%以下であるのが好ましい。 In the high refractive index anti-blocking layer forming composition, the total content of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 and indium-tin oxide is 0.0001% by mass or less in the composition. preferable.
本発明はまた、
透明高分子基材、および、
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、
を有するアンチブロッキングフィルムであって、
アンチブロッキング層は、1.565〜1.620の屈折率を有し、かつ、
アンチブロッキング層は、算術平均粗さ(Ra)が0.001〜0.09μmであり、十点平均粗さ(Rz)が0.01〜0.5μmである、
アンチブロッキングフィルム、も提供する。
The present invention also provides
A transparent polymer substrate, and
An anti-blocking layer formed by coating the substrate with the high refractive index anti-blocking layer forming composition,
An anti-blocking film having
The anti-blocking layer has a refractive index of 1.565 to 1.620, and
The anti-blocking layer has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.001 to 0.09 μm and a ten-point average roughness (Rz) of 0.01 to 0.5 μm.
An anti-blocking film is also provided.
上記アンチブロッキング層の厚さが0.05〜10μmであるのが好ましい。 The anti-blocking layer preferably has a thickness of 0.05 to 10 μm.
上記アンチブロッキングフィルムの好ましい1態様として、
基材が、厚さ20〜300μmのPETフィルムであり、
アンチブロッキングフィルムは、20℃において引っ張り速度5m/分の条件においてフィルムをMD方向に15%引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しないことを特徴とするものが挙げられる。
As a preferred embodiment of the anti-blocking film,
The substrate is a PET film having a thickness of 20 to 300 μm,
Examples of the anti-blocking film include those characterized in that no cracks are generated in the anti-blocking layer when the film is stretched 15% in the MD direction at 20 ° C. under a pulling speed of 5 m / min.
上記アンチブロッキングフィルムの好ましい他の1態様として、
基材が、厚さ30〜200μmのポリカーボネートフィルムであり、
アンチブロッキングフィルムは、25℃および60度/秒の条件において180°折り曲げた際、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とするものが挙げられる。
As another preferred embodiment of the anti-blocking film,
The substrate is a polycarbonate film having a thickness of 30 to 200 μm,
Examples of the anti-blocking film include those characterized in that cracks do not occur in either the anti-blocking layer or the substrate when bent 180 ° under the conditions of 25 ° C. and 60 degrees / second.
上記アンチブロッキングフィルムは、全光線透過率が88%以上であり、かつ、ヘイズ値が2%以下であるのが好ましい。 The anti-blocking film preferably has a total light transmittance of 88% or more and a haze value of 2% or less.
本発明はさらに、上記アンチブロッキングフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された、透明導電性積層体も提供する。 The present invention further provides a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer is formed on at least one surface of the anti-blocking film.
上記透明導電層が酸化インジウムを含む結晶質層であり、かつ、透明導電層の厚さが5〜50nmであるのが好ましい。 It is preferable that the transparent conductive layer is a crystalline layer containing indium oxide and the thickness of the transparent conductive layer is 5 to 50 nm.
上記アンチブロッキング層および透明導電層の間に金属酸化物層が存在し、金属酸化物層の厚さが0.5〜5.0nmであるのが好ましい。 It is preferable that a metal oxide layer exists between the anti-blocking layer and the transparent conductive layer, and the thickness of the metal oxide layer is 0.5 to 5.0 nm.
本発明はまた、上記透明導電性積層体を有するタッチパネルも提供する。 The present invention also provides a touch panel having the transparent conductive laminate.
本発明のアンチブロッキング層形成組成物は、基材上に塗布し必要に応じて乾燥させた後に、光硬化させるのみで、表面に凹凸を有する樹脂層であるアンチブロッキング層を提供することができる。得られたアンチブロッキングフィルムは、高い硬度を有しており、傷が付きにくい。また、平均粒子径0.5μmを超える粒子状物を用いていないので、視認性および光学特性などが損なわれることがないという利点がある。本発明のアンチブロッキング層形成組成物を塗装して得られるアンチブロッキングフィルムは、複数枚重ね合わせても、ブロッキング現象(例えば、層間付着)が生じない効果を発揮する。また、得られたアンチブロッキングフィルムを巻回ロールとして保存しても、ブロッキング現象(例えば、巻回ロールからの剥離の困難性)が起こらないという利点がある。 The anti-blocking layer-forming composition of the present invention can provide an anti-blocking layer that is a resin layer having irregularities on the surface, simply by photocuring after coating on a substrate and drying as necessary. . The obtained anti-blocking film has high hardness and is hardly damaged. In addition, since no particulate matter having an average particle diameter of more than 0.5 μm is used, there is an advantage that visibility and optical characteristics are not impaired. The anti-blocking film obtained by coating the anti-blocking layer forming composition of the present invention exhibits an effect that a blocking phenomenon (for example, interlayer adhesion) does not occur even when a plurality of the anti-blocking films are overlapped. Moreover, even if the obtained anti-blocking film is preserve | saved as a winding roll, there exists an advantage that a blocking phenomenon (for example, difficulty of peeling from a winding roll) does not occur.
本発明においては、上記のブロッキング現象を抑制する効果に加えて、得られるアンチブロッキング層が高屈折率を有し、かつ、優れた伸長性をも有するという特徴もある。この特徴によって干渉縞の発生をも抑制することができ、極めて高い視認性が達成されるという利点がある。 In the present invention, in addition to the effect of suppressing the blocking phenomenon, the obtained anti-blocking layer has a high refractive index and also has excellent extensibility. Due to this feature, the occurrence of interference fringes can be suppressed, and there is an advantage that extremely high visibility is achieved.
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第1成分および第2成分を含む。上記第1成分は、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である。上記第2成分は、(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレート、を含む。そして、第2成分100質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート(A)は60〜85質量部および(メタ)アクリレート(B)は15〜30質量部含まれることを条件とする。さらに、上記第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差△SPが1〜4の範囲内であり、組成物中に含まれる第1成分および第2成分の質量比は、第1成分:第2成分=0.5:99.5〜20:80であることを条件とする。この高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、塗装した後に、第1成分および第2成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることを特徴とする。
High refractive index antiblocking layer forming composition The high refractive index antiblocking layer forming composition of the present invention comprises a first component and a second component. The first component is an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer. The second component, (A) having two or more acrylate groups, having 1-2 phenol novolak acrylate, and (B) alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in the molecule, an aromatic Group-containing mono- or poly (meth) acrylates. The phenol novolac acrylate (A) is contained in an amount of 60 to 85 parts by mass and the (meth) acrylate (B) is contained in an amount of 15 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the second component. Further, the difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is in the range of 1 to 4, and the first component and the second component contained in the composition The mass ratio is on condition that the first component: the second component = 0.5: 99.5 to 20:80. This high refractive index anti-blocking layer forming composition is characterized in that after coating, the first component and the second component cause layer separation, and an anti-blocking layer having fine irregularities on the surface is formed.
第1成分
第1成分として、不飽和二重結合含有アクリル共重合体が用いられる。不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、例えば(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、(メタ)アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などにアクリル酸やグリシジルアクリレートなどの不飽和二重結合を有しかつ他の官能基を有する成分を付加させたものなどが挙げられる。これらの不飽和二重結合含有アクリル共重合体は1種を単独で用いてもよく、また2種以上を混合して用いてもよい。この不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、重量平均分子量で2000〜100000であるのが好ましく、5000〜50000であるのがより好ましい。
First component As the first component, an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer is used. An unsaturated double bond-containing acrylic copolymer is, for example, a resin obtained by copolymerizing a (meth) acrylic monomer and another monomer having an ethylenically unsaturated double bond, a (meth) acrylic monomer and another ethylenically unsaturated Acrylic acid or glycidyl acrylate for resins reacted with monomers having double bonds and epoxy groups, resins made by reacting (meth) acrylic monomers with other monomers having ethylenically unsaturated double bonds and isocyanate groups, etc. And those having an unsaturated double bond and other functional groups added thereto. One of these unsaturated double bond-containing acrylic copolymers may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. The unsaturated double bond-containing acrylic copolymer preferably has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000.
第2成分
第2成分は、
(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレート、
を含む。以下、各成分(A)および(B)について詳述する。
Second component The second component is:
(A) a phenol novolac acrylate having 2 or more acrylate groups, and (B) an aromatic group-containing mono- or poly- (1 or 2 alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in one molecule) (Meth) acrylate,
including. Hereinafter, each component (A) and (B) is explained in full detail.
(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第2成分として、(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートを含む。高屈折率アンチブロッキング層形成組成物が、第2成分として、フェノールノボラック型アクリレート(A)を含むことによって、得られるアンチブロッキング層が、透明であり、かつ、高い硬度を有する高屈折率層となる。これにより、干渉縞の発生を効果的に防ぐことができる。
(A) Phenol novolac acrylate having 2 or more acrylate groups The high refractive index antiblocking layer-forming composition of the present invention comprises (A) a phenol having 2 or more acrylate groups as a second component. Contains novolac acrylate. When the high-refractive index anti-blocking layer forming composition contains the phenol novolac acrylate (A) as the second component, the resulting anti-blocking layer is transparent and has a high hardness and a high hardness layer. Become. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can be prevented effectively.
フェノールノボラック型アクリレート(A)は、下記式(I) The phenol novolac acrylate (A) has the following formula (I)
[式(I)中、R1は、HまたはCH2OHであり、R2は、HまたはOHであり、nは2〜5であり、mは0〜5である。]
で示される、フェノールノボラック型アクリレートであるのが好ましい。上記式(I)中、nは2〜4でありmは0〜3であるであるのがより好ましく、nは2〜4でありmは0〜1であるのがさらに好ましい。
[In Formula (I), R 1 is H or CH 2 OH, R 2 is H or OH, n is 2 to 5, and m is 0 to 5. ]
It is preferable that it is a phenol novolak-type acrylate shown by these. In said formula (I), it is more preferable that n is 2-4 and m is 0-3, n is 2-4, and it is still more preferable that m is 0-1.
フェノールノボラック型アクリレート(A)の重量平均分子量は、400〜2500であるのが好ましく、450〜2000であるのがさらに好ましい。また、フェノールノボラック型アクリレート(A)の水酸基価は、100〜180mgKOH/gであるのが好ましく、120〜160mgKOH/gであるのがさらに好ましい。 The weight average molecular weight of the phenol novolac acrylate (A) is preferably 400 to 2500, and more preferably 450 to 2000. The hydroxyl value of the phenol novolac acrylate (A) is preferably 100 to 180 mgKOH / g, and more preferably 120 to 160 mgKOH / g.
本明細書において、各成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定することができる。重量平均分子量の測定においては、HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)などの高速GPC装置などを用いることができる。HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)を用いた、重量平均分子量の具体的な測定条件として、試験サンプル2gを秤量し、真空乾燥機内にて40℃2時間処理し水分を除去した後、THF溶液にて0.2%の濃度となるように希釈し、カラム注入量:10μl、流速:0.35ml/minの条件で測定する態様が挙げられる。 In this specification, the weight average molecular weight of each component can be measured by a gel permeation chromatography method. In the measurement of the weight average molecular weight, a high-speed GPC apparatus such as HLC-8220 GPC (manufactured by Tosoh Corporation) can be used. As a specific measurement condition of the weight average molecular weight using HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), 2 g of a test sample was weighed, treated in a vacuum dryer at 40 ° C. for 2 hours to remove moisture, and then a THF solution. And a measurement is performed under the conditions of a column injection amount: 10 μl and a flow rate: 0.35 ml / min.
上記フェノールノボラック型アクリレート(A)は、第2成分100質量部に対して、60〜85質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート(A)の量が60質量部未満である場合、および、フェノールノボラック型アクリレート(A)の量が85質量部を超える場合は、いずれも、得られるアンチブロッキング層の硬度が低くなる不具合がある。 The said phenol novolak-type acrylate (A) is on condition that 60-85 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of 2nd components. When the amount of the phenol novolac acrylate (A) is less than 60 parts by mass and when the amount of the phenol novolac acrylate (A) exceeds 85 parts by mass, the hardness of the obtained anti-blocking layer is low. There is a bug.
(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレート化合物
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第2成分として、(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレートを含む。この(メタ)アクリレート(B)は、粘度300mPa・s未満であり、かつ屈折率が1.56〜1.64の範囲内であるのが好ましい。
(B) Aromatic group-containing mono- or poly (meth) acrylate compound having 1 to 2 alkylene oxide structures having 2 or 3 carbon atoms in one molecule . as a two-component, including (B) having 1-2 per molecule of alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms, an aromatic group-containing mono- or poly (meth) acrylate. This (meth) acrylate (B) preferably has a viscosity of less than 300 mPa · s and a refractive index in the range of 1.56 to 1.64.
成分(B)の(メタ)アクリレートにおいて、炭素数2または3のアルキレンオキシド構造が1分子中に1〜2個含まれることによって、成分(B)の粘度を300mPa・s未満に設計することが可能となる。また、成分(B)の(メタ)アクリレートにおいて、炭素数2または3のアルキレンオキシド構造が1分子中に1〜2個含まれることによって、得られるハードコート層の伸長性が向上することとなる。ここで「炭素数2または3のアルキレンオキシド構造」として、エチレンオキシド構造、プロピレンオキシド構造が挙げられる。
In (meth) acrylate component (B), by the alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms are contained 1-2 in a molecule, to design the viscosity of component (B) less than 300 mPa · s It becomes possible. Further, in (meth) acrylate component (B), so that the alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms by inclusion 1-2 in one molecule, elongation of the hard coat layer obtained are improved . Here, examples of the “alkylene structure having 2 or 3 carbon atoms” include an ethylene oxide structure and a propylene oxide structure.
成分(B)の(メタ)アクリレートはさらに、芳香族基を有することも特徴とする。成分(B)の(メタ)アクリレートが芳香族基を有することによって、例えば1.56〜1.64の範囲の屈折率というような、高屈折率が達成されることとなる。 The (meth) acrylate of component (B) is further characterized by having an aromatic group. When the (meth) acrylate of the component (B) has an aromatic group, a high refractive index such as a refractive index in the range of 1.56 to 1.64 is achieved.
本発明において成分(B)として好ましく用いることができる芳香族基含有(メタ)アクリレートとして、例えば、炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、アルキレンオキシ化フェノール(メタ)アクリレート、アルキレンオキシ化オルトフェニルフェノール(メタ)アクリレート、アルキレンオキシ化メタフェニルフェノール(メタ)アクリレート、アルキレンオキシ化パラフェニルフェノール(メタ)アクリレート、アルキレンオキシ化クミルフェノール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、2個の芳香族基を有する(メタ)アクリレートが、高い屈折率を有する点においてより好ましい。
As the aromatic group-containing (meth) acrylate can be preferably used as the component (B) in the present invention, e.g., having one or two alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in the molecule, alkyleneoxy phenol ( Examples include (meth) acrylate, alkyleneoxylated orthophenylphenol (meth) acrylate, alkyleneoxylated metaphenylphenol (meth) acrylate, alkyleneoxylated paraphenylphenol (meth) acrylate, and alkyleneoxylated cumylphenol (meth) acrylate. It is done. Among these, (meth) acrylate having two aromatic groups is more preferable in that it has a high refractive index.
成分(B)の屈折率は、JIS K0062に準拠した方法により、アッベ屈折率計によって測定することができる。 The refractive index of the component (B) can be measured with an Abbe refractometer by a method based on JIS K0062.
成分(B)の粘度は、300mPa・s未満であるのが好ましい。成分(B)の粘度が300mPa・sを超える場合は、組成物の硬化反応性が劣ることとなり、得られるハードコート層の硬度が低くなるという問題がある。成分(B)の粘度は1〜300mPa・sの範囲であるのがより好ましく、1〜200mPa・sの範囲であるのがさらに好ましい。 The viscosity of component (B) is preferably less than 300 mPa · s. When the viscosity of a component (B) exceeds 300 mPa * s, there exists a problem that the curing reactivity of a composition will be inferior and the hardness of the hard-coat layer obtained will become low. The viscosity of the component (B) is more preferably in the range of 1 to 300 mPa · s, still more preferably in the range of 1 to 200 mPa · s.
成分(B)の粘度の測定は、B型粘度計(TVB−22L 東機産業株式会社製)によって測定することができる。B型粘度計として、例えば、TVB−22L(東機産業株式会社製)などが挙げられる。 The viscosity of the component (B) can be measured with a B-type viscometer (TVB-22L manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). Examples of the B-type viscometer include TVB-22L (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
成分(B)は、重量平均分子量が150〜600の範囲内であるのが好ましく、200〜400の範囲内であるのがより好ましい。 The component (B) preferably has a weight average molecular weight in the range of 150 to 600, and more preferably in the range of 200 to 400.
本発明においては、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中に含まれる第2成分100質量部に対して、成分(B)は15〜30質量部含まれることを条件とする。上記(メタ)アクリレート(B)が上記質量範囲で高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中に含まれることによって、得られるアンチブロッキング層が高硬度かつ高屈折率となる利点がある。成分(B)の量が15質量部より少ない場合、および成分(B)の量が30質量部を超える場合は、いずれも、得られるアンチブロッキング層の硬度が低くなる不具合がある。 In this invention, it is on condition that a component (B) is contained 15-30 mass parts with respect to 100 mass parts of 2nd components contained in a high refractive index antiblocking layer forming composition. When the (meth) acrylate (B) is contained in the high-refractive index anti-blocking layer forming composition in the above mass range, the obtained anti-blocking layer has an advantage of high hardness and high refractive index. When the amount of the component (B) is less than 15 parts by mass and when the amount of the component (B) exceeds 30 parts by mass, there is a problem that the hardness of the obtained anti-blocking layer is lowered.
他の(メタ)アクリレート類
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物における第2成分は、上記成分(A)および(B)に加えて、他の(メタ)アクリレート類を含んでもよい。このような(メタ)アクリレート類として、例えば、多官能(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマー化合物が挙げられる。これらの多官能(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマー化合物は、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後の活性エネルギー線の照射により、(メタ)アクリロイル基の反応に基づく硬化反応が生じ、高硬度を有するアンチブロッキング層が得られるという利点がある。
Other (meth) acrylates The second component in the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention may contain other (meth) acrylates in addition to the components (A) and (B). Examples of such (meth) acrylates include polyfunctional (meth) acrylate monomers and / or oligomer compounds. These polyfunctional (meth) acrylate monomers and / or oligomer compounds undergo a curing reaction based on the reaction of (meth) acryloyl groups upon irradiation with active energy rays after coating the composition for forming a high refractive index antiblocking layer. There is an advantage that an anti-blocking layer having high hardness can be obtained.
多官能(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマー化合物は、(メタ)アクリロイル基を2つ以上有するものが好ましい。(メタ)アクリロイル基を2つ以上有することによって、活性エネルギー線照射後に、高硬度を有するアンチブロッキング層が得られるという利点がある。 The polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer compound preferably has two or more (meth) acryloyl groups. By having two or more (meth) acryloyl groups, there is an advantage that an anti-blocking layer having high hardness can be obtained after irradiation with active energy rays.
多官能(メタ)アクリレートモノマーおよび/またはオリゴマー化合物の具体例として、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびこれらのオリゴマーなどが挙げられる。これらのモノマーまたはオリゴマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer and / or oligomer compound include, for example, hydroxypropylated trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and trimethylolpropane triacrylate. Examples thereof include acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and oligomers thereof. These monomers or oligomers may be used alone or in combination of two or more.
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物に含まれる第2成分が、他の(メタ)アクリレート類を含む場合は、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物に含まれる第2成分100質量部に対して、1〜30質量部の範囲であるのが好ましく、1〜25質量部の範囲であるのがより好ましい。 When the second component contained in the high-refractive index anti-blocking layer forming composition contains other (meth) acrylates, 100 parts by mass of the second component contained in the high-refractive index anti-blocking layer forming composition The range of 1 to 30 parts by mass is preferable, and the range of 1 to 25 parts by mass is more preferable.
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第1成分および第2成分、そして必要に応じた溶媒、光重合開始剤、触媒、光増感剤などの添加剤を混合することにより調製される。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中における第1成分と第2成分との比率は、第1成分:第2成分=0.5:99.5〜20:80である。この比率は、第1成分:第2成分=1:99〜20:80がより好ましく、1:99〜15:85であるのがさらに好ましい。
High refractive index antiblocking layer forming composition The high refractive index antiblocking layer forming composition is composed of a first component and a second component, and addition of a solvent, a photopolymerization initiator, a catalyst, a photosensitizer and the like as required. It is prepared by mixing the agent. The ratio of the first component to the second component in the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention is: first component: second component = 0.5: 99.5 to 20:80. As for this ratio, 1st component: 2nd component = 1: 99-20: 80 is more preferable, and it is further more preferable that it is 1: 99-15: 85.
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第1成分および第2成分それぞれのSP値の差によって相分離がもたらされる。この相分離によって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることとなる。本発明において、第1成分のSP値と第2成分のSP値との差(△SP)は、1〜4の範囲内であることを条件とする。第1成分のSP値と第2成分のSP値との差が1以上ある場合は、互いの樹脂の相溶性が低く、それによりアンチブロッキング層形成組成物の塗布後に第1成分と第2成分との相分離がもたらされると考えられる。上記△SPは、2.0〜3.5の範囲内であるのがより好ましい。 In the high refractive index anti-blocking layer forming composition, phase separation is caused by the difference in SP value between the first component and the second component. By this phase separation, an anti-blocking layer having fine irregularities on the surface is formed. In the present invention, the difference (ΔSP) between the SP value of the first component and the SP value of the second component is within the range of 1 to 4. When the difference between the SP value of the first component and the SP value of the second component is 1 or more, the compatibility of the resins with each other is low, whereby the first component and the second component are applied after application of the anti-blocking layer forming composition. It is thought that phase separation is brought about. The ΔSP is more preferably in the range of 2.0 to 3.5.
SP値とは、solubility parameter(溶解性パラメーター)の略であり、溶解性の尺度となるものである。SP値は数値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。 The SP value is an abbreviation for solubility parameter (solubility parameter) and is a measure of solubility. The SP value indicates that the polarity is higher as the numerical value is larger, and the polarity is lower as the numerical value is smaller.
例えば、SP値は次の方法によって実測することができる[参考文献:SUH、CLARKE、J.P.S.A−1、5、1671〜1681(1967)]。 For example, the SP value can be measured by the following method [references: SUH, CLARKE, J. et al. P. S. A-1, 5, 1671-1681 (1967)].
測定温度:20℃
サンプル:樹脂0.5gを100mlビーカーに秤量し、良溶媒10mlをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
溶媒:
良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
貧溶媒…n−ヘキサン、イオン交換水など
濁点測定:50mlビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。
Measurement temperature: 20 ° C
Sample: Weigh 0.5 g of resin in a 100 ml beaker, add 10 ml of good solvent using a whole pipette, and dissolve with a magnetic stirrer.
solvent:
Good solvent: Dioxane, acetone, etc. Poor solvent: n-hexane, ion-exchanged water, etc. Muddy point measurement: The poor solvent is added dropwise using a 50 ml burette, and the point at which turbidity occurs is defined as the amount added.
樹脂のSP値δは次式によって与えられる。 The SP value δ of the resin is given by the following equation.
Vi:溶媒の分子容(ml/mol)
φi:濁点における各溶媒の体積分率
δi:溶媒のSP値
ml:低SP貧溶媒混合系
mh:高SP貧溶媒混合系
Vi: Molecular volume of the solvent (ml / mol)
φi: Volume fraction of each solvent at cloud point δi: SP value of solvent ml: Low SP poor solvent mixed system mh: High SP poor solvent mixed system
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記第1成分および第2成分に加えて、各種溶媒、光重合開始剤、添加剤などの成分をさらに含んでもよい。 The high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention may further contain components such as various solvents, photopolymerization initiators and additives in addition to the first component and the second component.
第1成分および第2成分が上記組み合わせである場合に好ましい有機溶媒として、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒;アニソール、フェネトールプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、また2種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。溶媒を用いる場合は、第1成分および第2成分の総量(これらを合わせて「樹脂成分」という。)100質量部に対して、例えば1〜9900質量部、好ましくは10〜900質量部加えることができる。 Preferred organic solvents when the first component and the second component are the above combinations include, for example, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and butanol An ether solvent such as anisole, phenetol propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; One of these solvents may be used alone, or two or more organic solvents may be mixed and used. When using a solvent, for example, 1-9900 parts by mass, preferably 10-900 parts by mass is added to 100 parts by mass of the total amount of the first component and the second component (collectively referred to as “resin component”) Can do.
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、2−ヒドロキシ−2メチル−1フェニル−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタンノン−1などが挙げられる。光重合開始剤の好ましい量は、上記樹脂成分100質量部に対して、0.01〜20質量部であり、より好ましくは1〜10質量部である。 The high refractive index antiblocking layer forming composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include 2-hydroxy-2methyl-1phenyl-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2. -Morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, etc. Can be mentioned. A preferable amount of the photopolymerization initiator is 0.01 to 20 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、および紫外線吸収剤などの常用の添加剤を含んでもよい。これらの添加剤を用いる場合は、樹脂成分100質量部に対して、0.01〜20質量部であるのが好ましく、1〜10質量部であるのがより好ましい。 The high refractive index antiblocking layer-forming composition may contain conventional additives such as an antistatic agent, a plasticizer, a surfactant, an antioxidant, and an ultraviolet absorber, if necessary. When using these additives, it is preferable that it is 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of resin components, and it is more preferable that it is 1-10 mass parts.
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記のような第1成分および第2成分を用いることによって、樹脂粒子などを含ませなくても、凹凸を有する樹脂層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記アンチブロッキング層形成組成物は、樹脂粒子を含まないのが好ましい。しかしながら、上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、無機粒子または有機粒子、若しくはそれらの複合物を少なくとも一種以上含んでもよい。これらの粒子は、特に表面に凹凸を形成する目的のために添加されるのではなく、相分離や析出を制御して、より均一で微細な凹凸を形成する為に添加される。これらの粒子の粒径は、平均粒径で0.5μm以下、好ましくは0.01〜0.3μmである。0.5μmを超えると、若干透明性が低下する。 The high refractive index anti-blocking layer forming composition can form a resin layer having irregularities without using resin particles or the like by using the first component and the second component as described above. There is. Therefore, it is preferable that the anti-blocking layer forming composition does not contain resin particles. However, the anti-blocking layer forming composition may contain at least one or more inorganic particles, organic particles, or a composite thereof, if necessary. These particles are not particularly added for the purpose of forming irregularities on the surface, but are added to form more uniform and fine irregularities by controlling phase separation and precipitation. These particles have an average particle size of 0.5 μm or less, preferably 0.01 to 0.3 μm. When it exceeds 0.5 μm, the transparency slightly decreases.
無機粒子の例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ゼオライト、雲母、合成雲母、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、フッ化マグネシウム、スメクタイト、合成スメクタイト、バーミキュライト、ITO(酸化インジウム/酸化錫)、ATO(酸化アンチモン/酸化錫)、酸化錫、酸化インジウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。 Examples of inorganic particles include silica, alumina, titania, zeolite, mica, synthetic mica, calcium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, magnesium fluoride, smectite, synthetic smectite, vermiculite, ITO (indium oxide / tin oxide), ATO There may be mentioned at least one selected from the group consisting of (antimony oxide / tin oxide), tin oxide, indium oxide and antimony oxide.
有機粒子の例としては、アクリル、オレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ウレタン、ポリエステル、シリコーン、ポリシラン、ポリイミドおよびフッ素粒子からなる群から選択される少なくとも1種類が挙げられる。 Examples of the organic particles include at least one selected from the group consisting of acrylic, olefin, polyether, polyester, urethane, polyester, silicone, polysilane, polyimide, and fluorine particles.
上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装し、次いで硬化させることによって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層を形成することができる。アンチブロッキング層形成組成物の塗装方法として、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法などが挙げられる。アンチブロッキング層の厚さとして、例えば、0.01〜20μmの厚さである態様が挙げられる。 The anti-blocking layer having fine irregularities on the surface can be formed by coating and then curing the high refractive index anti-blocking layer forming composition. Examples of the coating method of the anti-blocking layer forming composition include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and extrusion coating. Examples of the thickness of the anti-blocking layer include an embodiment having a thickness of 0.01 to 20 μm.
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後、光を照射することによって、相分離および硬化させることができる。照射する光として、例えば露光量0.1〜3.5J/cm2の光、好ましくは0.5〜1.5J/cm2の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば、360nm以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。このように光を照射することによって、相分離および硬化が生じることとなる。 After coating the high refractive index antiblocking layer-forming composition, it can be phase separated and cured by irradiating light. As light to irradiate, for example, light having an exposure amount of 0.1 to 3.5 J / cm 2 , preferably 0.5 to 1.5 J / cm 2 can be used. Further, the wavelength of the irradiation light is not particularly limited, and for example, irradiation light having a wavelength of 360 nm or less can be used. Such light can be obtained using a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like. By irradiating light in this way, phase separation and curing will occur.
アンチブロッキングフィルム
本発明はさらに、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキングフィルムも提供する。このアンチブロッキングフィルムは、透明高分子基材、および、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、を有する。そして本発明におけるアンチブロッキング層は、優れたアンチブロッキング性能を有することに加えて、1.565〜1.620という高い屈折率を有することも特徴とする。
Anti-blocking film This invention further provides the anti-blocking film formed using the said high refractive index anti-blocking layer forming composition. This anti-blocking film has a transparent polymer base material and an anti-blocking layer formed by coating the high refractive index anti-blocking layer forming composition on the base material. The antiblocking layer in the present invention is characterized by having a high refractive index of 1.565 to 1.620 in addition to having excellent antiblocking performance.
本発明のアンチブロッキングフィルムにおいては、透明高分子基材として、PETフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましく用いられる。PETフィルムおよびポリカーボネートフィルムは、フィルム強度および透明性が高く、かつ安価であるなどの点から、タッチパネルを構成する、透明導電層を有するフィルムの基材フィルムとして好適に用いられるためである。一方で、これらのフィルムは、一般に、1.5以上と高い屈折率を有する。これらのフィルムの屈折率は、通常用いられるアンチブロッキングフィルムを構成する樹脂成分の屈折率と比較して高いため、アンチブロッキング層との屈折率差が大きくなり、干渉縞の発生頻度が高くなるという問題がある。 In the anti-blocking film of the present invention, a PET film or a polycarbonate film is preferably used as the transparent polymer substrate. This is because the PET film and the polycarbonate film are suitably used as a base film for a film having a transparent conductive layer constituting a touch panel from the viewpoints of high film strength and transparency and low cost. On the other hand, these films generally have a high refractive index of 1.5 or more. Since the refractive index of these films is higher than the refractive index of the resin component constituting the commonly used anti-blocking film, the difference in refractive index with the anti-blocking layer increases, and the frequency of occurrence of interference fringes increases. There's a problem.
ここで干渉縞とは、透明フィルムおよび透明コート層などから構成される多層体において、各界面で反射する光が干渉しあうことによって生じる虹彩状反射をいう。この干渉縞は、特に、3波長発光型蛍光灯の照射下において、顕著に現れる傾向がある。3波長発光型蛍光灯は、ものがハッキリクッキリ見えるということを特徴とする特定の波長の発光強度が強いことを特徴とする蛍光灯である。 Here, the interference fringes refer to iris-like reflection generated by interference of light reflected at each interface in a multilayer body composed of a transparent film and a transparent coat layer. This interference fringe tends to appear prominently under irradiation of a three-wavelength fluorescent lamp. The three-wavelength light-emitting fluorescent lamp is a fluorescent lamp characterized by a strong emission intensity at a specific wavelength, which is characterized by the fact that things can be clearly seen.
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、高い屈折率を有するアンチブロッキング層を形成することができることを特徴とする。そのため、PETフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの透明基材フィルム上にアンチブロッキング層を形成しても、干渉縞が発生しないという特徴がある。 The high refractive index antiblocking layer-forming composition of the present invention is characterized in that an antiblocking layer having a high refractive index can be formed. Therefore, even if an antiblocking layer is formed on a transparent substrate film such as a PET film or a polycarbonate film, there is a feature that no interference fringes are generated.
なお、本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記PETフィルムまたはポリカーボネートフィルム以外の基材フィルムに塗装してもよい。このような基材フィルムとして、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムなどが挙げられる。 In addition, you may apply | coat the high refractive index antiblocking layer forming composition of this invention to base film other than the said PET film or a polycarbonate film. Examples of such a base film include triacetyl cellulose (TAC) film, diacetylene cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, and polysulfone. Examples thereof include a film, a polyether film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, and a (meth) acrylonitrile film.
透明高分子基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に20〜300μm程で用いられる。 The thickness of the transparent polymer substrate can be appropriately selected according to the use, but is generally about 20 to 300 μm.
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層は、微細凹凸を有することを特徴とする。このアンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ(Ra)は、0.1μm未満であることが好ましく、0.001〜0.09μmであることがさらに好ましく、0.002〜0.08μmであることが特に好ましい。ここで粗さ曲線の算術平均粗さ(Ra)とは、JIS B 0601−2001において規定されるパラメーターである。アンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以上である場合は、ギラツキの発生、塗膜の白化などの問題が生じるおそれがある。Raの値が前記の特に好ましい範囲を下回ると、ブロッキング現象が発生して好ましくない。なおJIS B 0601−2001は日本工業規格であり、ISO 4288に準拠した規格である。 The anti-blocking layer formed by the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention is characterized by having fine irregularities. The arithmetic average roughness (Ra) of the surface roughness curve of the anti-blocking layer is preferably less than 0.1 μm, more preferably 0.001 to 0.09 μm, and 0.002 to 0.00. Particularly preferred is 08 μm. Here, the arithmetic mean roughness (Ra) of the roughness curve is a parameter defined in JIS B 0601-2001. When the arithmetic average roughness (Ra) of the surface roughness curve of the anti-blocking layer is 0.1 μm or more, problems such as generation of glare and whitening of the coating film may occur. If the value of Ra is less than the particularly preferable range, a blocking phenomenon occurs, which is not preferable. JIS B 0601-2001 is a Japanese industrial standard and is a standard based on ISO 4288.
粗さ曲線の算術平均粗さ(Ra)とは、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にX軸を、縦倍率の方向にY軸を取り、粗さ曲線をy=f(x)で表したときに、下記式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。 Arithmetic average roughness (Ra) of the roughness curve is a sample of only the reference length in the direction of the average line from the roughness curve, the X axis in the direction of the average line of this extracted portion, and Y in the direction of the vertical magnification. When the axis is taken and the roughness curve is expressed by y = f (x), the value obtained by the following formula is expressed in micrometers (μm).
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層は、Rzが0.5μm以下であるのが好ましい。ここでRzとは、粗さ曲線の十点平均粗さであり、JIS B0601−2001において規定されるパラメーターである。Rzが0.3μm以下であるのがより好ましく、0.2μm以下であるのがさらに好ましい。下限は0.01μmであるのが好ましい。 The anti-blocking layer formed by the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention preferably has an Rz of 0.5 μm or less. Here, Rz is the ten-point average roughness of the roughness curve, and is a parameter specified in JIS B0601-2001. Rz is more preferably 0.3 μm or less, and further preferably 0.2 μm or less. The lower limit is preferably 0.01 μm.
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ(Ra)および十点平均粗さ(Rz)は、例えば小坂研究所社製の高精度微細形状測定器、または(株)キーエンス製のカラー3Dレーザー顕微鏡などを用いて、JIS B 0601−2001に準拠して測定することができる。 The arithmetic average roughness (Ra) and ten-point average roughness (Rz) of the surface roughness curve of the anti-blocking layer formed by the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention are, for example, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. Can be measured according to JIS B 0601-2001 using a high-precision fine shape measuring instrument or a color 3D laser microscope manufactured by Keyence Corporation.
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されたアンチブロッキング層は、不規則で微細緻密な凹凸形状を有するため、優れたアンチブロッキング性を発揮する。本発明におけるアンチブロッキング層また、例えば液晶モジュールなどの光源によって表示される画像の鮮明性を低下させることがないという利点もある。特に、近年における高精細液晶表示装置においては、液晶から発せられる光線のピッチがより細かくなっている。そのため、画像鮮明性を保持するためにはより微細で緻密な凹凸形状が求められることとなっている。本発明におけるアンチブロッキング層は、微細で緻密な凹凸形状を有する、コントラスト低下、輝度の低下などの画像鮮明性低下を伴わないという利点がある。 Since the anti-blocking layer formed by the composition for forming a high refractive index anti-blocking layer of the present invention has an irregular, fine and dense uneven shape, it exhibits excellent anti-blocking properties. The anti-blocking layer in the present invention is also advantageous in that the sharpness of an image displayed by a light source such as a liquid crystal module is not deteriorated. In particular, in recent high-definition liquid crystal display devices, the pitch of light rays emitted from the liquid crystal has become finer. Therefore, in order to maintain image clarity, a finer and denser uneven shape is required. The anti-blocking layer in the present invention has an advantage that it has a fine and dense concavo-convex shape and is not accompanied by a decrease in image sharpness such as a decrease in contrast and a decrease in luminance.
本発明におけるアンチブロッキング層は、高屈折率剤を用いなくても、アンチブロッキング層の屈折率1.565〜1.620と高い屈折率が達成されていることを特徴とする。アンチブロッキング層の屈折率は、例えば、アッベ屈折計を用いて、JIS K7142に準拠して測定することができる。 The anti-blocking layer in the present invention is characterized in that a high refractive index of 1.565 to 1.620 of the anti-blocking layer is achieved without using a high refractive index agent. The refractive index of the anti-blocking layer can be measured according to JIS K7142 using, for example, an Abbe refractometer.
本発明のアンチブロッキングフィルムは、全光線透過率が85%以上であるのが好ましく、90%以上であるのがより好ましい。また、本発明のアンチブロッキングフィルムは、ヘイズが2%以下であるのが好ましく、1%以下であるのがより好ましい。
本件発明においては、ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2などの高屈折率剤を含まなくても高屈折率化が達成されているため、このような高屈折率剤を含める必要がない。そのため、上記のように高い全光線透過率および低いヘイズ値を達成することが可能となる。より詳しくは、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、ZnO、TiO2、CeO2、SnO2、ZrO2およびインジウム−スズ酸化物の総含有量が組成物中の0.0001質量%以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、アンチブロッキング層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。
The anti-blocking film of the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more, and more preferably 90% or more. Further, the anti-blocking film of the present invention preferably has a haze of 2% or less, more preferably 1% or less.
In the present invention, ZnO, since the TiO 2, CeO 2, SnO 2 , be free of high refractive index such as ZrO 2 high refractive index has been achieved, need to include such a high refractive index agent There is no. Therefore, it is possible to achieve a high total light transmittance and a low haze value as described above. More specifically, in the high refractive index anti-blocking layer forming composition, the total content of ZnO, TiO 2 , CeO 2 , SnO 2 , ZrO 2 and indium-tin oxide is 0.0001% by mass or less in the composition. Is preferred. This is because when a high refractive index agent such as a metal oxide is present in the anti-blocking layer, the extensibility and the bending resistance are generally inferior as compared with the resin-only layer.
全光線透過率(Tt(%))は、アンチブロッキングフィルムに対する入射光強度(T0)とアンチブロッキングフィルムを透過した全透過光強度(T1)とを測定し、下記式により算出される。
ヘイズは、JIS K7105に準拠して、下記式より算出される。
Td:拡散透光率(%)
Tt:全光線透過率(%)
The haze is calculated from the following formula in accordance with JIS K7105.
T d : Diffuse transmittance (%)
T t : Total light transmittance (%)
全光線透過率およびヘイズ値の測定は、例えばヘイズメーター(スガ試験機社製)を用いて測定することができる。 The total light transmittance and the haze value can be measured using, for example, a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキング層は、高い硬度および屈折率を有することに加えて、高い伸長性を有することも特徴とする。そのため、本発明におけるアンチブロッキングフィルムは、例えばタッチパネル等を構成する、透明導電層を有するフィルムの調製において好適に用いることができる。 The anti-blocking layer formed by using the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention is characterized by having high extensibility in addition to having high hardness and refractive index. Therefore, the anti-blocking film in this invention can be used suitably in preparation of the film which has a transparent conductive layer which comprises a touchscreen etc., for example.
タッチパネルを搭載するスマートフォンなどの携帯電話、タブレットPC、携帯情報端末機器などにおいては、機器の小型・薄型化および軽量化が強く求められている。そのため、タッチパネル電極を構成する部材においても、基材フィルムの薄膜化が求められている。一方で、基材フィルムの厚さを薄くすることによって、基材フィルムにアンチブロッキング層を設けた場合においてフィルムの反りまたはカールが生じる不具合の発生頻度が高くなり、作業性・生産性が低下するという問題がある。これらの不具合は、アンチブロッキング層と基材フィルムとの物理的性質(例えば熱収縮率、熱膨張率など)が相違することに依存すると考えられる。本発明におけるアンチブロッキングフィルムは高い伸長性を有するため、種々の基材に対しカールが小さくなる傾向がある。 In mobile phones such as smartphones equipped with touch panels, tablet PCs, and portable information terminal devices, there is a strong demand for smaller, thinner, and lighter devices. Therefore, thinning of the base film is also required for members constituting the touch panel electrode. On the other hand, by reducing the thickness of the base film, when the base film is provided with an anti-blocking layer, the occurrence frequency of defects that cause warping or curling of the film increases, and workability and productivity decrease. There is a problem. These defects are considered to depend on the difference in physical properties (for example, thermal shrinkage rate, thermal expansion rate, etc.) between the anti-blocking layer and the base film. Since the antiblocking film in this invention has high extensibility, there exists a tendency for curl to become small with respect to various base materials.
本発明におけるアンチブロッキングフィルムには、用途に応じて透明導電層、光学干渉により反射率を制御する光学干渉層を必要に応じて適切な順に、組み合わせて用いることができる。これら透明導電層、光学干渉層、高屈折率アンチブロッキング層の積層順は用途に応じて発現を期待される機能を果たしていれば特に限定するものではない。これらの積層順を例えばタッチパネル用基板として用いる場合、透明導電層をA、光学干渉層をB、本発明の対象となる高屈折率アンチブロッキング層をC、透明高分子基材をD、本発明の対象外となるアンチブロッキング層をEとすると、例えばA/B/C/D/E、A/B/C/D/C、A/B/B/C/D/E、A/B/B/C/D/C、A/C/D/E/B、A/C/D/C/B、A/C/D/E/B/B、A/C/D/C/B/Bなどとすることができる。 In the anti-blocking film of the present invention, a transparent conductive layer and an optical interference layer that controls the reflectance by optical interference can be used in combination in an appropriate order as necessary according to the application. The order in which the transparent conductive layer, the optical interference layer, and the high-refractive index anti-blocking layer are stacked is not particularly limited as long as it fulfills a function expected to appear depending on the application. For example, when the order of lamination is used as a substrate for a touch panel, the transparent conductive layer is A, the optical interference layer is B, the high refractive index antiblocking layer to be the subject of the present invention is C, the transparent polymer base material is D, and the present invention. For example, A / B / C / D / E, A / B / C / D / C, A / B / B / C / D / E, A / B / B / C / D / C, A / C / D / E / B, A / C / D / C / B, A / C / D / E / B / B, A / C / D / C / B / B or the like.
先に述べた光学干渉層は、高屈折率層と低屈折率層を適宜組み合わせることにより反射光を防止あるいは抑制する層を指す。光学干渉層は少なくとも一層の高屈折率層と少なくとも一層の低屈折率層より構成される。高屈折率層と低屈折率層の組み合わせ単位を二つ以上とすることもできる。光学干渉層が一層の高屈折率層と一層の低屈折率層から構成される場合、光学干渉層の膜厚は30nm〜150nmが好ましく、更に好ましくは50nm〜150nmである。光学干渉層は、湿式法、乾式法のいずれの方法でも形成することができる。例えば湿式法ではドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコータ-等、スプレー法、浸漬法等、乾式法ではスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法あるいは印刷法、CVD法などを適応することができる。 The optical interference layer described above refers to a layer that prevents or suppresses reflected light by appropriately combining a high refractive index layer and a low refractive index layer. The optical interference layer is composed of at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer. Two or more combination units of the high refractive index layer and the low refractive index layer may be used. When the optical interference layer is composed of one high refractive index layer and one low refractive index layer, the thickness of the optical interference layer is preferably 30 nm to 150 nm, and more preferably 50 nm to 150 nm. The optical interference layer can be formed by either a wet method or a dry method. For example, in the wet method, doctor knife, bar coater, gravure roll coater, curtain coater, knife coater, spin coater, etc., spray method, dipping method, etc., in dry method, PVD method such as sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, etc. A printing method, a CVD method, or the like can be applied.
タッチパネル等を構成する透明導電性積層体は、一般に、透明導電層を有するフィルムである。この透明導電層は、特に制限はないが、酸化インジウムを含む結晶質層、より具体的にはITO(インジウム−スズ酸化物)およびIZO(インジウム−亜鉛酸化物)などの、インジウムを主成分とする結晶質層が好適に用いられる。透明導電層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法あるいは塗工法、印刷法、CVD法があるが、PVD法またはCVD法が好ましい。 A transparent conductive laminate constituting a touch panel or the like is generally a film having a transparent conductive layer. The transparent conductive layer is not particularly limited, but is a crystalline layer containing indium oxide, more specifically, mainly composed of indium such as ITO (indium-tin oxide) and IZO (indium-zinc oxide). A crystalline layer is preferably used. As a method for forming the transparent conductive layer, there are a PVD method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, and an ion plating method, a coating method, a printing method, and a CVD method, and the PVD method or the CVD method is preferable.
透明導電層を設けるためのこれらの加工処理を行うことによって、アンチブロッキング層を有する基材フィルムに部分的負荷がかかるため、透明導電性積層体の透明導電層、アンチブロッキング層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのよれが生じることがある。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて設けられるアンチブロッキング層は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、高い伸長性を有することを特徴とする。得られるアンチブロッキング層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、アンチブロッキング層が良好に追随し、その結果、フィルムのよれなどの不具合が発生しないという利点がある。 By carrying out these processing steps for providing the transparent conductive layer, a partial load is applied to the base film having the anti-blocking layer. Therefore, the transparent conductive layer of the transparent conductive laminate, the anti-blocking layer and the base film The film may be twisted based on the difference in thermal shrinkage and thermal expansion between the two. The anti-blocking layer provided using the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention is characterized by having high visibility and good hardness and high extensibility. The resulting antiblocking layer has high extensibility, so that the antiblocking layer follows well even when the base film is locally thermally expanded by heating in the stage of providing the transparent conductive layer, etc. As a result, there is an advantage that defects such as film warp do not occur.
アンチブロッキング層の伸長性について、より具体的には、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ20〜300μmのPETフィルムであるアンチブロッキングフィルムの場合において、このアンチブロッキングフィルムを20℃において、引っ張り速度5mm/秒の条件において、MD方向に15%引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、アンチブロッキング層の膜厚として、例えば0.05〜10μmである場合が挙げられる。 More specifically, regarding the extensibility of the anti-blocking layer, in the case of the anti-blocking film in which the transparent polymer substrate on which the high-refractive index anti-blocking layer forming composition is coated is a PET film having a thickness of 20 to 300 μm When the anti-blocking film is stretched 15% in the MD direction at 20 ° C. under the condition of a pulling speed of 5 mm / sec, there is a state in which no cracks are generated in the anti-blocking layer. Here, the case where it is 0.05-10 micrometers as a film thickness of an anti blocking layer is mentioned, for example.
一般に、高分子基材フィルムの製造は、溶融状態にある樹脂基材を、ロール状に巻き取りながら、縦方向(巻き取り方向:MD方向)と横方向(TD方向:MD方向に対して直交する方向)の2方向に延伸し、均一な厚さのフィルムを製造する、二軸延伸法によって製造される。この製造方法においては、MD方向に高い応力が残ることとなる。そのため、得られたフィルムは、特にMD方向において、熱膨張・熱収縮が生じる傾向がある。得られたアンチブロッキングフィルムを、高分子基材フィルム製造時において巻き取られた方向であるMD方向に引き伸ばす試験を行うことによって、クラック(フィルム割れ)などの発生を効果的に検証することができるという利点がある。 In general, the production of a polymer base film is performed by winding a resin base material in a molten state in a roll shape while being perpendicular to the vertical direction (winding direction: MD direction) and the horizontal direction (TD direction: MD direction). The film is produced by a biaxial stretching method in which a film having a uniform thickness is produced. In this manufacturing method, high stress remains in the MD direction. Therefore, the obtained film tends to cause thermal expansion / shrinkage particularly in the MD direction. Generation of cracks (film cracks) and the like can be effectively verified by performing a test in which the obtained anti-blocking film is stretched in the MD direction, which is the direction wound during the production of the polymer base film. There is an advantage.
また、アンチブロッキングフィルムを構成する透明高分子基材が、ポリカーボネートフィルムである場合は、アンチブロッキングフィルムの耐屈曲性を検証することによって、形成されたアンチブロッキング層の伸長性能を評価することができる。ポリカーボネートは、耐熱性および耐衝撃性などの物理的性能が優れる素材である一方で、特にフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムの場合においては、折り曲げなどの応力によって、クラック(割れ)が発生することがある。このようにフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムを基材フィルムとして用いる場合において、この基材フィルム上に形成されるアンチブロッキング層の伸長性が高い場合は、アンチブロッキング層を設けることによって、基材フィルムのクラックの発生を防ぐことが可能となる。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、高い伸長性を有している。そのため、フィルム厚が薄いポリカーボネートを基材フィルムとして用いるアンチブロッキングフィルムにおいて、曲げ応力に対する靱性を向上させることができるという利点がある。より具体的には、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ30〜200μmのポリカーボネートフィルムであるアンチブロッキングフィルムの場合において、このアンチブロッキングフィルムを、25℃および60度/秒の条件において180°折り曲げた場合であっても、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、アンチブロッキング層の膜厚として、例えば0.05〜10μmある場合が挙げられる。 Moreover, when the transparent polymer base material which comprises an antiblocking film is a polycarbonate film, the expansion | extension performance of the formed antiblocking layer can be evaluated by verifying the bending resistance of an antiblocking film. . Polycarbonate is a material with excellent physical properties such as heat resistance and impact resistance, but especially in the case of a polycarbonate film with a thin film thickness, cracks may occur due to stress such as bending. . When a polycarbonate film having a thin film thickness is used as a base film in this way, when the extensibility of the anti-blocking layer formed on the base film is high, by providing an anti-blocking layer, It becomes possible to prevent the occurrence of cracks. The antiblocking layer formed by the high refractive index antiblocking layer forming composition of the present invention has high extensibility. Therefore, there is an advantage that the toughness against bending stress can be improved in an anti-blocking film using a polycarbonate having a thin film thickness as a base film. More specifically, in the case where the transparent polymer substrate on which the high refractive index antiblocking layer forming composition is coated is an antiblocking film which is a polycarbonate film having a thickness of 30 to 200 μm, Even when it is bent 180 ° under the conditions of 60 ° C. and 60 ° C., there is a state in which no cracks are generated in either the antiblocking layer or the substrate. Here, the case where it is 0.05-10 micrometers as a film thickness of an anti-blocking layer is mentioned, for example.
本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキング層は、良好なアンチブロッキング性能および硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、PETフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるアンチブロッキング層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。本発明におけるアンチブロッキング層は、特に、タッチパネル電極を構成する、透明導電層を有するフィルムにおいて好適に用いることができる。 The anti-blocking layer formed using the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention is characterized by having good anti-blocking performance and hardness, and high visibility and extensibility. The anti-blocking layer formed by the high refractive index anti-blocking layer forming composition of the present invention has a high refractive index. Therefore, even when the anti-blocking layer in the present invention is provided on a substrate film having a high refractive index such as a PET film or a polycarbonate film, there is an advantage that no interference fringes are generated. The antiblocking layer in this invention can be used suitably especially in the film which has a transparent conductive layer which comprises a touchscreen electrode.
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「%」は、ことわりのない限り、質量基準による。 The following examples further illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.
製造例1 不飽和二重結合含有アクリル共重合体(I)の製造
イソボロニルメタクリレート187.2g、メチルメタクリレート2.8g、メタクリル酸10.0gからなる混合物を混合した。この混合物を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管および滴下漏斗を備えた1000ml反応容器中の、窒素雰囲気下で110℃に加温したプロピレングリコールモノメチルエーテル360gにターシャリーブチルペルオキシ−2−エチルヘキサエート2.0gを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルの80.0g溶液と同時に3時間かけて等速滴下し、その後、1時間、110℃で反応させた。
Production Example 1 Production of Unsaturated Double Bond-Containing Acrylic Copolymer (I) A mixture consisting of 187.2 g of isobornyl methacrylate, 2.8 g of methyl methacrylate, and 10.0 g of methacrylic acid was mixed. This mixture was added to 360 g of propylene glycol monomethyl ether heated to 110 ° C. under a nitrogen atmosphere in a 1000 ml reaction vessel equipped with a stirring blade, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a dropping funnel. At the same time as an 80.0 g solution of propylene glycol monomethyl ether containing 2.0 g of ate, the solution was added dropwise at a constant rate over 3 hours, and then reacted at 110 ° C. for 1 hour.
その後、ターシャリーブチルペルオキシ−2−エチルヘキサエート0.2gを含むプロピレングリコールモノメチルエーテル17g溶液を滴下して、110℃で30分反応させた。 Thereafter, a 17 g solution of propylene glycol monomethyl ether containing 0.2 g of tertiary butyl peroxy-2-ethyl hexaate was added dropwise and reacted at 110 ° C. for 30 minutes.
その反応溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド1.5gとハイドロキノン0.1gを含む6gのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を加え、空気バブリングしながら、さらに4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル24.4gとプロピレングリコールモノメチルエーテル5.0gの溶液を1時間かけて滴下し、その後5時間かけて更に反応させた。 6 g of propylene glycol monomethyl ether solution containing 1.5 g of tetrabutylammonium bromide and 0.1 g of hydroquinone was added to the reaction solution, and further, 24.4 g of 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and propylene glycol monomethyl ether 5 were added while air bubbling. 0.0 g of the solution was added dropwise over 1 hour, followed by further reaction over 5 hours.
数平均分子量5500、重量平均分子量(Mw)18000の不飽和二重結合含有アクリル共重合体を得た。この樹脂は、SP値:9.7、Tg:92℃であった。 An unsaturated double bond-containing acrylic copolymer having a number average molecular weight of 5500 and a weight average molecular weight (Mw) of 18000 was obtained. This resin had SP value: 9.7 and Tg: 92 ° C.
製造例2 フェノールノボラック型アクリレート(1)の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂(重量平均分子量700〜900、エポキシ当量150〜200)150g及びエピクロルヒドリン550gを混合し、100℃、100〜200mmHgの減圧条件下にて48.5%の水酸化ナトリウム水溶液110gを2時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分100重量部に対し、メトキノン1000ppm、トリフェニルホスフィン2000ppmを加え、100℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が1mgKOH/g以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート(1)を得た。
得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート(1)は、重量平均分子量が950であり、水酸基価は140mgKOH/g、屈折率は1.572であった。またSP値は12.7であった。
Production Example 2 Production of Phenol Novolac Type Acrylate (1) In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux device, 150 g of phenol novolac resin (weight average molecular weight 700-900, epoxy equivalent 150-200) and epichlorohydrin 550g was mixed and 110g of 48.5% sodium hydroxide aqueous solution was dripped over 2 hours under pressure reduction conditions of 100 degreeC and 100-200 mmHg . After completion of the reaction, the temperature is cooled to room temperature, an excess aqueous sodium hydroxide solution is neutralized with an acid, heated under reduced pressure to remove excess epichlorohydrin, the product is dissolved in methyl isobutyl ketone, washed with water and filtered. By-product salts were removed to obtain a phenol novolac type epoxy resin solution.
Metoquinone 1000 ppm and triphenylphosphine 2000 ppm are added to 100 parts by weight of the solid content of the obtained phenol novolac type epoxy resin, and acrylic acid is added dropwise at 100 ° C. until the acid value becomes 1 mgKOH / g or less. A phenol novolac type epoxy acrylate (1) was obtained.
The obtained phenol novolak epoxy acrylate (1) had a weight average molecular weight of 950, a hydroxyl value of 140 mgKOH / g, and a refractive index of 1.572. The SP value was 12.7.
製造例3 フェノールノボラック型アクリレート(2)の製造
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂(重量平均分子量900〜1100、エポキシ当量150〜200)150g及びエピクロルヒドリン550gを混合し、100℃、100〜200mmHgの減圧条件下にて48.5%の水酸化ナトリウム水溶液110gを2時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分100重量部に対し、メトキノン1000ppm、トリフェニルホスフィン2000ppmを加え、100℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が1mgKOH/g以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート(2)を得た。
得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート(2)は、重量平均分子量が1200であり、水酸基価は137mgKOH/g、屈折率は1.571であった。またSP値は12.6であった。
Production Example 3 Production of Phenol Novolac Type Acrylate (2) In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux device, 150 g of phenol novolac resin (weight average molecular weight 900-1100, epoxy equivalent 150-200) and epichlorohydrin 550g was mixed and 110g of 48.5% sodium hydroxide aqueous solution was dripped over 2 hours under pressure reduction conditions of 100 degreeC and 100-200 mmHg . After completion of the reaction, the temperature is cooled to room temperature, an excess aqueous sodium hydroxide solution is neutralized with an acid, heated under reduced pressure to remove excess epichlorohydrin, the product is dissolved in methyl isobutyl ketone, washed with water and filtered. By-product salts were removed to obtain a phenol novolac type epoxy resin solution.
Metoquinone 1000 ppm and triphenylphosphine 2000 ppm are added to 100 parts by weight of the solid content of the obtained phenol novolac type epoxy resin, and acrylic acid is added dropwise at 100 ° C. until the acid value becomes 1 mgKOH / g or less. A phenol novolac epoxy acrylate (2) was obtained.
The obtained phenol novolak type epoxy acrylate (2) had a weight average molecular weight of 1200, a hydroxyl value of 137 mgKOH / g, and a refractive index of 1.571. The SP value was 12.6.
実施例1
第1成分として、製造例1で得られた不飽和二重結合含有アクリル共重合体(I)を用いた。第2成分の成分(A)として、製造例2で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート(1)を、成分(B)として、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート(エトキシ構造を1分子中に1個有するアクリレート、25℃における粘度130mPa・s、屈折率1.577、SP値10.6)を用いてアンチブロッキング層形成組成物を調製した。表1に示された原料を、表1に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、アンチブロッキング層形成組成物を得た。
Example 1
As the first component, the unsaturated double bond-containing acrylic copolymer (I) obtained in Production Example 1 was used. As the component (A) of the second component, the phenol novolac type epoxy acrylate (1) obtained in Production Example 2 is used, and as the component (B), an ethoxylated orthophenylphenol acrylate (having one ethoxy structure per molecule ) . An anti-blocking layer-forming composition was prepared using an acrylate, a viscosity of 130 mPa · s at 25 ° C., a refractive index of 1.577, and an SP value of 10.6. The raw materials shown in Table 1 were sequentially mixed at the solid content mass shown in Table 1 and stirred to obtain an anti-blocking layer forming composition.
なお、成分(B)のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートの粘度測定は、試験サンプルとして成分(B)のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート100mlをガラス容器に採取し、20℃に温度調整した後、B型粘度計(TVB−22L 東機産業株式会社製)およびM1Rotorを用いて、60rpmの回転速度にて測定した。
また、成分(B)の屈折率は、JIS K0062に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。
In addition, the viscosity measurement of the ethoxylated orthophenylphenol acrylate of the component (B) was obtained by collecting 100 ml of the ethoxylated orthophenylphenol acrylate of the component (B) as a test sample in a glass container and adjusting the temperature to 20 ° C. Using a viscometer (TVB-22L manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) and M1Rotor, the measurement was performed at a rotation speed of 60 rpm.
The refractive index of component (B) was measured using an Abbe refractometer by a method based on JIS K0062.
なお第2成分のSP値は、第2成分に含まれる成分(A)、成分(B)および他の成分などの各成分のSP値、含有量に対し、重量平均にて算出した。 In addition, SP value of the 2nd component was computed by the weight average with respect to SP value and content of each component, such as a component (A) contained in a 2nd component, a component (B), and another component.
得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製188μm光学用PETフィルム(KEFW)上に滴下し、バーコーター#12を用いて塗工した。
塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、PETフィルムおよび膜厚6.5μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
The obtained antiblocking layer-forming composition was dropped onto a Teijin DuPont 188 μm optical PET film (KEFW) and coated using a bar coater # 12.
After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ ultraviolet rays with an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a PET film and an antiblocking layer having a thickness of 6.5 μm.
また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製100μm光学用PCフィルム(ピュアエース)上に滴下し、バーコーター#9を用いて塗工した。
塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚5.0μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
The obtained anti-blocking layer-forming composition was dropped onto a Teijin Chemicals 100 μm optical PC film (Pure Ace) and coated using a bar coater # 9.
After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ of ultraviolet rays using an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a polycarbonate film and an antiblocking layer having a thickness of 5.0 μm.
実施例2〜5
成分(A)の種類および量を表1に記載されたものに変更し、第2成分に含まれる他の(メタ)アクリレート類としてペンタエリスリトールトリアクリレート(SP値:12.7)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、アンチブロッキング層形成組成物を調製した。得られたアンチブロッキング層形成組成物を用いて、実施例1と同様にして2種類のアンチブロッキングフィルムを得た。
Examples 2-5
The type and amount of component (A) were changed to those described in Table 1, and pentaerythritol triacrylate (SP value: 12.7) was used as another (meth) acrylate contained in the second component. Except for the above, an anti-blocking layer forming composition was prepared in the same manner as in Example 1. Two types of anti-blocking films were obtained in the same manner as in Example 1 using the obtained anti-blocking layer forming composition.
比較例1〜5、9
表2に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたアンチブロッキング層形成組成物を用いて、実施例1と同様にして2種類のアンチブロッキングフィルムを得た。
Comparative Examples 1-5, 9
With the formulation shown in Table 2, an anti-blocking layer forming composition was prepared in the same manner as in the examples. Two types of anti-blocking films were obtained in the same manner as in Example 1 using the obtained anti-blocking layer forming composition.
比較例6、10
表2に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例と同様にして調製した。
得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製188μm光学用PETフィルム(KEFW)に滴下し、バーコーター#13を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、PETフィルムおよび膜厚6.5μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製100μm光学用PCフィルム(ピュアエース)に滴下し、バーコーター#10を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚5.0μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
Comparative Examples 6 and 10
With the formulation shown in Table 2, an anti-blocking layer forming composition was prepared in the same manner as in the examples.
The obtained antiblocking layer-forming composition was dropped onto a Teijin DuPont 188 μm optical PET film (KEFW) and coated using a bar coater # 13. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ ultraviolet rays with an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a PET film and an antiblocking layer having a thickness of 6.5 μm.
Further, the obtained anti-blocking layer forming composition was dropped onto a 100 μm optical PC film (Pure Ace) manufactured by Teijin Chemicals and coated using a bar coater # 10. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ of ultraviolet rays using an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a polycarbonate film and an antiblocking layer having a thickness of 5.0 μm.
比較例7、11
表2に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例と同様にして調製した。
得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製188μm光学用PETフィルム(KEFW)に滴下し、バーコーター#16を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、PETフィルムおよび膜厚6.5μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製100μm光学用PCフィルム(ピュアエース)に滴下し、バーコーター#12を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚5.0μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
Comparative Examples 7 and 11
With the formulation shown in Table 2, an anti-blocking layer forming composition was prepared in the same manner as in the examples.
The obtained antiblocking layer-forming composition was dropped onto a Teijin DuPont 188 μm optical PET film (KEFW) and coated using a bar coater # 16. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ ultraviolet rays with an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a PET film and an antiblocking layer having a thickness of 6.5 μm.
Further, the obtained anti-blocking layer forming composition was dropped on a Teijin Chemicals 100 μm optical PC film (Pure Ace) and coated using a bar coater # 12. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ of ultraviolet rays using an ultraviolet irradiator (manufactured by Fusion) to obtain an antiblocking film having a polycarbonate film and an antiblocking layer having a thickness of 5.0 μm.
比較例8、12、13
表2に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例と同様にして調製した。
得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製188μm光学用PETフィルム(KEFW)に滴下し、バーコーター#20を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射した。比較例12のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、PETフィルムおよび膜厚6.5μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。一方で、比較例8および13のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、アンチブロッキング層を設けることができなかった。
また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製100μm光学用PCフィルム(ピュアエース)に滴下し、バーコーター#14を用いて塗工した。塗工後、70℃にて1分間乾燥させ、紫外線照射機(Fusion製)にて350mJの紫外線を照射した。比較例12のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚5.0μmのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。一方で、比較例8および13のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、アンチブロッキング層を設けることができなかった。
Comparative Examples 8, 12, 13
With the formulation shown in Table 2, an anti-blocking layer forming composition was prepared in the same manner as in the examples.
The obtained antiblocking layer-forming composition was dropped onto a Teijin DuPont 188 μm optical PET film (KEFW) and coated using a bar coater # 20. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation machine (manufactured by Fusion). In the case of using the anti-blocking layer forming composition of Comparative Example 12, an anti-blocking film having a PET film and an anti-blocking layer having a film thickness of 6.5 μm was obtained. On the other hand, when the anti-blocking layer forming composition of Comparative Examples 8 and 13 was used, the coating composition was not cured and an anti-blocking layer could not be provided.
Further, the obtained anti-blocking layer forming composition was dropped onto a Teijin Chemicals 100 μm optical PC film (Pure Ace) and coated using a bar coater # 14. After coating, the film was dried at 70 ° C. for 1 minute, and irradiated with 350 mJ ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation machine (manufactured by Fusion). In the case of using the anti-blocking layer forming composition of Comparative Example 12, an anti-blocking film having a polycarbonate film and an anti-blocking layer having a thickness of 5.0 μm was obtained. On the other hand, when the anti-blocking layer forming composition of Comparative Examples 8 and 13 was used, the coating composition was not cured and an anti-blocking layer could not be provided.
実施例6
実施例1で得られたアンチブロッキングフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比95:5の組成で充填密度98%の酸化インジウム−酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ITO層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたITO層の膜厚は約30nm、製膜後の表面抵抗値は約150Ω/□であった。得られた透明導電性積層体の干渉縞は視認されなかった。
Example 6
Sputtering method using the anti-blocking film obtained in Example 1 and further using an indium oxide-tin oxide target having a composition of indium oxide and tin oxide in a weight ratio of 95: 5 and a packing density of 98% on the cured resin layer Thus, an ITO layer was formed, and a transparent conductive laminate to be a movable electrode substrate was produced. The thickness of the formed ITO layer was about 30 nm, and the surface resistance value after film formation was about 150Ω / □. The interference fringes of the obtained transparent conductive laminate were not visually recognized.
上記実施例1〜5および比較例1〜13において得られたアンチブロッキングフィルムについて、下記評価を行った。評価結果を表1および2に示す。 The following evaluation was performed about the antiblocking film obtained in the said Examples 1-5 and Comparative Examples 1-13. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
屈折率の測定
アッベ屈折計(アタゴ社製2T 測定範囲 nD=1.3〜1.7)を用いて下記方法にて測定した。
主プリズムに、中間液(モノブロモナフタレンなど)をスポイドで1滴を落とし、測定するサンプルを置いた。サンプル上に中間液をスポイドで1滴を落とし、副プリズムを閉じた。ここで、中間液層に空気が入らないことを条件とした。
副プリズムにランプ光を入射させ、接眼鏡をのぞきながら測定つまみを回して、屈折視野の明暗の境を交点に合わせ、目盛視野の値を小数点以下4桁まで読み取り、屈折率を測定した。
Measurement of refractive index The refractive index was measured by the following method using an Abbe refractometer (2T measurement range nD = 1.3 to 1.7 manufactured by Atago Co., Ltd.).
On the main prism, a drop of an intermediate solution (monobromonaphthalene, etc.) was dropped with a dropper and a sample to be measured was placed. One drop of the intermediate solution was dropped on the sample with a dropper, and the secondary prism was closed. Here, the condition is that air does not enter the intermediate liquid layer.
Lamp light was incident on the sub-prism, the measurement knob was turned while looking through the eyepiece, the boundary of the light and darkness of the refractive field was adjusted to the intersection, the value of the scale field was read to 4 digits after the decimal point, and the refractive index was measured.
硬度の評価
鉛筆引掻塗膜硬さ試験機(東洋精機製作所製 型式P 加圧荷重100g〜1kg)を用いて測定した。
三菱ユニ製 鉛筆引かき値試験用鉛筆(日本塗料検査協会検査済みのもの)を使用し、芯の先端が平滑で円形の断面になるように研磨紙(3M P−1000)にて調整した。試料を測定台に設置後、引掻角度が45°になるよう鉛筆を固定し、荷重750gの条件で試験を行った。試験毎に、芯を平滑にしながら、試験場所をずらして5回試験を繰り返した。
塗膜表面に凹みの発生有無下記評価基準に基づき、目視で確認した。
例えば2Hの鉛筆を用いた試験の場合、
凹みの発生が1本も無い場合、2Hと判断した。
凹みの発生が1〜2本の場合、鉛筆の硬度を1段階下げて評価し、1段階下げて凹みの発生が1本も無い場合は硬度の評価は中間領域(H〜2H等)と判断した。
凹みの発生が3本以上の場合は、H以下と判断し、1段階下げての評価を同様に実施した。
Evaluation of Hardness The hardness was measured using a pencil scratch coating film hardness tester (model P, pressure load 100 g to 1 kg, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).
A pencil for pencil scratch test (manufactured by the Japan Paint Inspection Association) manufactured by Mitsubishi Uni was used, and the tip of the lead was adjusted with abrasive paper (3MP-1000) so that it had a smooth and circular cross section. After placing the sample on the measuring table, the pencil was fixed so that the scratch angle was 45 °, and the test was performed under the condition of a load of 750 g. For each test, the test was repeated five times while shifting the test location while smoothing the core.
The presence or absence of dents on the surface of the coating film was confirmed visually based on the following evaluation criteria.
For example, in the case of a test using a 2H pencil,
When no dent was generated, it was determined as 2H.
When the occurrence of dents is 1 to 2, the pencil hardness is evaluated by one step down, and when there is no dent after one step, the hardness is evaluated as an intermediate region (H to 2H, etc.). did.
When the number of dents was 3 or more, it was judged as H or less, and the evaluation was performed in the same manner with one step lowered.
なお、実施例および比較例のアンチブロッキングフィルムの調製において用いられたPETフィルムの硬度はHB〜Fであり、ポリカーボネート(PC)フィルムの硬度は5B〜4Bである。
そのため、PETフィルムおよびアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムにおいては、硬度がH以上であれば、硬度が2段階以上高くなっており、アンチブロッキング層が十分な硬度を有していると判断される。
また、ポリカーボネートフィルムおよびアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムにおいては、硬度が3B以上であれば、硬度が2段階以上高くなっており、アンチブロッキング層が十分な硬度を有していると判断される。
In addition, the hardness of the PET film used in preparation of the anti-blocking film of an Example and a comparative example is HB-F, and the hardness of a polycarbonate (PC) film is 5B-4B.
Therefore, in an anti-blocking film having a PET film and an anti-blocking layer, if the hardness is H or higher, the hardness is increased by two or more stages, and it is determined that the anti-blocking layer has sufficient hardness. .
In addition, in the anti-blocking film having the polycarbonate film and the anti-blocking layer, if the hardness is 3B or more, the hardness is increased by two or more steps, and it is determined that the anti-blocking layer has sufficient hardness. .
伸びの評価
オートグラフ(島津製作所製 AG−1S)を用いて測定を行った。
試験サンプルを10mm×150mmに切り出し、サンプル長手方向を伸張させる向きにて測定機器の上下のチャックに挟む。室温(20℃)条件下にて、試料サンプルを2cm/secの速さで伸張させた際、破断・クラックの発生しない伸張率を求めた。
The elongation was measured using an autograph (AG-1S manufactured by Shimadzu Corporation).
A test sample is cut out to 10 mm × 150 mm, and is sandwiched between upper and lower chucks of the measuring instrument in a direction in which the longitudinal direction of the sample is extended. When a sample sample was stretched at a speed of 2 cm / sec under room temperature (20 ° C.) conditions, an elongation rate at which no breakage / crack occurred was obtained.
耐屈曲試験方法
試料を50mm×50mmに調整し、試料を180°折り曲げた時の評価を行った。下記の評価基準に基づき、目視にて行った。
○ : 塗膜・基材にクラックは生じない。
△ : 塗膜にのみクラック発生が確認できる。
× : 塗膜・基材共にクラック発生が確認できる。
Bending resistance test method The sample was adjusted to 50 mm x 50 mm, and the sample was evaluated by bending it 180 °. Based on the following evaluation criteria, it performed visually.
○: Cracks do not occur in the coating film / base material.
Δ: Cracks can be confirmed only in the coating film.
X: The occurrence of cracks can be confirmed in both the coating film and the substrate.
アンチブロッキング(AB)性能の評価
実施例および比較例で得られたアンチブロッキングフィルムを、2×5cmの大きさに切り出し、塗工面をPETフィルム(易接着層未塗布)面に重ね合わせ、ガラス板に挟んで200gf/cm2条件にて、室温で24時間放置した。その後、ブロッキング現象(AB性)を、下記基準により目視評価した。
○ : アンチブロッキング性あり
× : アンチブロッキング性なし
Evaluation of anti-blocking (AB) performance The anti-blocking films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 2 × 5 cm, and the coated surface was superposed on the surface of the PET film (no adhesive layer applied), and a glass plate And left at room temperature for 24 hours under the condition of 200 gf / cm 2 . Thereafter, the blocking phenomenon (AB property) was visually evaluated according to the following criteria.
○: With anti-blocking property ×: Without anti-blocking property
干渉縞評価方法
干渉縞(外観評価)
試験片を100×100mmの黒色アクリル板に光学フィルム用粘着剤を用い塗工面が表面にくるように貼り合せた。スタンド式3波長蛍光灯(TWINBARD製 SLH−399型)の蛍光管から垂直下10cmの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルについては、更に太陽光下での目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。
◎ : 干渉縞(干渉模様)が3波長蛍光灯下でも太陽光下でも視認されない。
○ : 3波長蛍光灯下で干渉縞(干渉模様)が視認されないが太陽光下では僅かに視認される
△ : 干渉縞(干渉模様)が僅かに視認される
× : 干渉縞(干渉模様)がはっきりと視認される
Interference fringe evaluation method
Interference fringes (appearance evaluation)
The test piece was bonded to a 100 × 100 mm black acrylic plate using an optical film adhesive so that the coated surface was on the surface. A sample is placed at a distance of 10 cm vertically from the fluorescent tube of a stand-type three-wavelength fluorescent lamp (SLH-399, manufactured by TWINBARD) and visually observed. Visual observation was performed and judged based on the following evaluation criteria.
A: Interference fringes (interference patterns) are not visually recognized under a three-wavelength fluorescent lamp or in sunlight.
○: Interference fringes (interference patterns) are not visually recognized under a three-wavelength fluorescent lamp, but slightly visible under sunlight Δ: Interference fringes (interference patterns) are slightly visible ×: Interference fringes (interference patterns) Clearly visible
干渉縞(透過スペクトル振幅)
試験片の光線透過率を紫外可視分光光度計(島津製作所製UV-2450)によって測定し、
500〜750nmの範囲における透過率の振幅に対し、下記評価基準に基づき、判定した。
○ : 透過率の最大値と最小値の差が0.5%未満
△ : 透過率の最大値と最小値の差が0.5%以上1.0%未満
× : 透過率の最大値と最小値の差が1.0%以上
Interference fringes (transmission spectrum amplitude)
The light transmittance of the test piece was measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2450, manufactured by Shimadzu Corporation)
The determination was made based on the following evaluation criteria for the amplitude of the transmittance in the range of 500 to 750 nm.
○: The difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance is less than 0.5% △: The difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance is 0.5% or more and less than 1.0% ×: The maximum value and the minimum value of the transmittance Difference in value is 1.0% or more
上記表1、表2中、
I−184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
ビスフェノールA EO変性ジアクリレート:東亜合成株式会社製、アロニックスM−211B、ビスフェノールA EO(2mol)変性ジアクリレート、SP値11.3
アクリロイルモルフォリン:SP値11.9
2官能ウレタンアクリレート:NV100:CN−9893(サートマー社製)、SP値11.1
高屈折率フィラー1:ジルコニア ZRMIBK30WT%(酸化ジルコニウム、CIKナノテック社製)
高屈折率フィラー2:チタニア TiMIBK15WT%(酸化チタン、(CIKナノテック社製)
を示す。
In Table 1 and Table 2 above,
I-184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, photopolymerization initiator bisphenol A EO-modified diacrylate: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-211B, bisphenol A EO (2 mol) -modified diacrylate, SP value 11.3
Acryloylmorpholine: SP value 11.9
Bifunctional urethane acrylate: NV100: CN-9893 (manufactured by Sartomer), SP value 11.1
High refractive index filler 1: Zirconia ZRMIBK30WT% (zirconium oxide, manufactured by CIK Nanotech)
High refractive index filler 2: Titania TiMIBK15WT% (titanium oxide, manufactured by CIK Nanotech)
Indicates.
実施例のアンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されたアンチブロッキング層を有するアンチブッキングフィルムは、何れも、良好なアンチブロッキング性能を有し、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたアンチブッキングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高いものであった。
比較例1および2は、成分(B)の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、何れも、得られるフィルムの硬度が低くなる不具合があった。
比較例3は、成分(A)の代わりに、ビスフェノールA骨格を有するジアクリレートを用いた例である。この比較例3では、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、硬度が低くなる不具合があった。
比較例4は、成分(B)の代わりに、アクリロイルモルフォリンを用いた例である。この比較例4でもまた、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、伸長性も劣っていた。
比較例5〜8は、成分(A)および(B)を用いる代わりに、高屈折率剤である酸化ジルコニアまたは酸化チタンを用いた例である。これらの比較例では、硬度は良好である一方で、アンチブロッキング性および伸長性が大きく劣っていた。なお比較例8の組成物は硬化しなかった。
比較例9〜13は、アンチブロッキング層に伸長性を付与することを目的として、2官能ウレタンアクリレートを用いた例である。これらの比較例では、アンチブロッキング性が劣っていた、また、伸長性が多少向上した例もあるものの、硬度および屈折率のバランスが悪くなった。なお比較例13の組成物は硬化しなかった。
The anti-booking film having an anti-blocking layer formed using the anti-blocking layer forming composition of the example has a good anti-blocking performance, no generation of interference fringes, and a high refractive index, It had good hardness. Furthermore, the obtained anti-booking film had high extensibility and bending resistance.
Comparative Examples 1 and 2 are examples in which the amount of component (B) is outside the scope of the present invention. In these cases, there was a problem that the hardness of the obtained film was lowered.
Comparative Example 3 is an example in which diacrylate having a bisphenol A skeleton was used instead of component (A). In Comparative Example 3, the refractive index of the obtained film was lowered, and the occurrence of interference fringes was confirmed. There was also a problem that the hardness was lowered.
Comparative Example 4 is an example using acryloylmorpholine instead of component (B). Also in Comparative Example 4, the refractive index of the obtained film was lowered, and the occurrence of interference fringes was confirmed. Moreover, the extensibility was also inferior.
Comparative Examples 5 to 8 are examples using zirconia oxide or titanium oxide, which is a high refractive index agent, instead of using the components (A) and (B). In these comparative examples, while the hardness was good, the antiblocking property and the extensibility were greatly inferior. Note that the composition of Comparative Example 8 did not cure.
Comparative Examples 9 to 13 are examples using bifunctional urethane acrylate for the purpose of imparting extensibility to the anti-blocking layer. In these comparative examples, the anti-blocking property was inferior, and although the extensibility was somewhat improved, the balance between the hardness and the refractive index was poor. Note that the composition of Comparative Example 13 did not cure.
比較例5〜13のアンチブロッキング層形成組成物には、高屈折率フィラーが含まれている。高屈折率フィラーが含まれることによって、得られたアンチブロッキング層の屈折率自体は確かに高くなっている。その一方で、これらの比較例で得られたアンチブロッキング層は、何れも、干渉縞が確認されている。これらの比較例において干渉縞が確認された理由として、アンチブロッキング層を形成する樹脂成分の屈折率が低い一方で、この樹脂成分中に、屈折率の高い高屈折率フィラーが混ざり込んでいる状態であるためと考えられる。このため、アンチブロッキング層の屈折率自体は高くなっても、低屈折率である樹脂成分が悪影響を及ぼしてしまい、優れた干渉縞発生抑制効果が得られないと考えられる。 The anti-blocking layer forming composition of Comparative Examples 5 to 13 contains a high refractive index filler. By including the high refractive index filler, the refractive index itself of the obtained anti-blocking layer is certainly high. On the other hand, interference fringes are confirmed in any of the anti-blocking layers obtained in these comparative examples. The reason why the interference fringes were confirmed in these comparative examples is that the resin component forming the anti-blocking layer has a low refractive index, while the resin component has a high refractive index filler mixed therein. This is probably because of this. For this reason, even if the refractive index itself of the anti-blocking layer is increased, the resin component having a low refractive index has an adverse effect, and it is considered that an excellent interference fringe generation suppressing effect cannot be obtained.
本発明のアンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、優れたアンチブロッキング性能を有すると共に、良好な硬度、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のアンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層はさらに、屈折率が高いことも特徴とする。そのため、PETフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるアンチブロッキング層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点もある。 The anti-blocking layer formed by the anti-blocking layer-forming composition of the present invention is characterized by having excellent anti-blocking performance and good hardness, high visibility and extensibility. The anti-blocking layer formed by the anti-blocking layer forming composition of the present invention is further characterized by having a high refractive index. Therefore, even when the anti-blocking layer in the present invention is provided on a base film having a high refractive index such as a PET film or a polycarbonate film, there is an advantage that no interference fringes are generated.
Claims (13)
第1成分が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体であり、
第2成分が、
(A)2またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
(B)炭素数2または3のアルキレンオキシド構造を1分子中に1〜2個有する、芳香族基含有モノまたはポリ(メタ)アクリレート
を含み、
第2成分100質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート(A)は60〜85質量部および(メタ)アクリレート(B)は15〜30質量部含まれており、
第1成分のSP値(SP1)および第2成分のSP値(SP2)の差△SPが1〜4の範囲内であり、
組成物中に含まれる第1成分および第2成分の質量比は、第1成分:第2成分=0.5:99.5〜20:80であり、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第1成分および第2成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。 A high refractive index anti-blocking layer-forming composition comprising a first component and a second component,
The first component is an unsaturated double bond-containing acrylic copolymer,
The second component is
(A) a phenol novolac acrylate having 2 or more acrylate groups, and (B) an aromatic group-containing mono- or poly- (1 or 2 alkylene oxide structure having 2 or 3 carbon atoms in one molecule) (Meth) acrylate,
The phenol novolac acrylate (A) is included in an amount of 60 to 85 parts by mass and the (meth) acrylate (B) in an amount of 15 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the second component.
The difference ΔSP between the SP value (SP1) of the first component and the SP value (SP2) of the second component is in the range of 1 to 4,
The mass ratio of the first component and the second component contained in the composition is: first component: second component = 0.5: 99.5 to 20:80,
After coating the high refractive index antiblocking layer forming composition, the first component and the second component cause layer separation, and an antiblocking layer having fine irregularities on the surface is formed.
High refractive index anti-blocking layer forming composition.
[式(I)中、R1は、HまたはCH2OHであり、R2は、HまたはOHであり、nは2〜5であり、mは0〜5である。]
で示される、請求項1記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。 The phenol novolac acrylate (A) has the following formula (I)
[In Formula (I), R 1 is H or CH 2 OH, R 2 is H or OH, n is 2 to 5, and m is 0 to 5. ]
The high refractive index antiblocking layer forming composition of Claim 1 shown by these.
請求項1〜4いずれかに記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、
を有するアンチブロッキングフィルムであって、
アンチブロッキング層は、1.565〜1.620の屈折率を有し、かつ、
アンチブロッキング層は、算術平均粗さ(Ra)が0.001〜0.09μmであり、十点平均粗さ(Rz)が0.01〜0.5μmである、
アンチブロッキングフィルム。 A transparent polymer substrate, and
The anti-blocking layer formed by coating the base material with the high refractive index anti-blocking layer forming composition according to claim 1,
An anti-blocking film having
The anti-blocking layer has a refractive index of 1.565 to 1.620, and
The anti-blocking layer has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.001 to 0.09 μm and a ten-point average roughness (Rz) of 0.01 to 0.5 μm.
Anti-blocking film.
アンチブロッキングフィルムは、20℃において引っ張り速度5m/分の条件においてフィルムをMD方向に15%引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項5または6記載のアンチブロッキングフィルム。 The substrate is a PET film having a thickness of 20 to 300 μm,
The anti-blocking film is characterized in that cracks do not occur in the anti-blocking layer when the film is stretched 15% in the MD direction at 20 ° C. under a pulling speed of 5 m / min.
The anti-blocking film according to claim 5 or 6.
アンチブロッキングフィルムは、25℃および60度/秒の条件において180°折り曲げた際、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項5または6記載のアンチブロッキングフィルム。 The substrate is a polycarbonate film having a thickness of 30 to 200 μm,
The anti-blocking film is characterized in that cracks do not occur in any of the anti-blocking layer and the base material when bent at 180 ° under the conditions of 25 ° C. and 60 degrees / second,
The anti-blocking film according to claim 5 or 6.
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