JP5921591B2 - 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
基板処理装置及び半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5921591B2 JP5921591B2 JP2014069341A JP2014069341A JP5921591B2 JP 5921591 B2 JP5921591 B2 JP 5921591B2 JP 2014069341 A JP2014069341 A JP 2014069341A JP 2014069341 A JP2014069341 A JP 2014069341A JP 5921591 B2 JP5921591 B2 JP 5921591B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas supply
- gas
- source
- inert gas
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 104
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 359
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 137
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 116
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 47
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 18
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 claims description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 49
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 33
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REJKHFAZHZLNOP-UHFFFAOYSA-N (tert-butylamino)silicon Chemical compound CC(C)(C)N[Si] REJKHFAZHZLNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOSJXMPCFODQAR-UHFFFAOYSA-N ac1l3fa4 Chemical compound [SiH3]N([SiH3])[SiH3] VOSJXMPCFODQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4405—Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/452—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by activating reactive gas streams before their introduction into the reaction chamber, e.g. by ionisation or addition of reactive species
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
- C23C16/5096—Flat-bed apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
- H01J37/32449—Gas control, e.g. control of the gas flow
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02172—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing at least one metal element, e.g. metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides or metal carbides
- H01L21/02175—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing at least one metal element, e.g. metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides or metal carbides characterised by the metal
- H01L21/02186—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing at least one metal element, e.g. metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides or metal carbides characterised by the metal the material containing titanium, e.g. TiO2
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02263—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase
- H01L21/02271—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition
- H01L21/02274—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process deposition from the gas or vapour phase deposition by decomposition or reaction of gaseous or vapour phase compounds, i.e. chemical vapour deposition in the presence of a plasma [PECVD]
Description
(1)基板処理装置の構成
本発明の第一実施形態に係る基板処理装置について、図1を用いて以下に説明する。図1は、本実施形態に係る基板処理装置の断面図である。
本実施形態に係る処理装置100について説明する。基板処理装置100は、薄膜を形成する装置であり、図1に示されているように、枚葉式基板処理装置として構成されている。
処理室201の上部に設けられる後述のシャワーヘッド230の上面(天井壁)には、処理室201内に各種ガスを供給するためのガス導入口241が設けられている。ガス導入口241に接続されるガス供給系の構成については後述する。
ガス導入口241と処理室201との間には、処理室201に連通するガス分散機構としてのシャワーヘッド230が設けられている。即ち、処理室201の上流方向にシャワーヘッド230が設けられている。ガス導入口241はシャワーヘッド230の蓋231に接続されている。ガス導入口241から導入されるガスは蓋231に設けられた孔231aを介してシャワーヘッド230のバッファ室232内のバッファ空間に供給される。即ち、蓋231は、バッファ室232から見て、ガス供給方向の上流に設けられている。バッファ室232は、蓋231の下端部と後述する分散板234の上端で形成される。即ち、分散板234は、バッファ室から見て、ガス供給方向下流(ここでは処理室方向)に設けられている。
尚、排気管236、バルブ237、圧力調整器238をまとめて第一の排気系と呼ぶ。
第一ガス供給管243aを含む第一ガス供給系243からは第一元素含有ガスが主に供給され、第二ガス供給管244aを含む第二ガス供給系244からは主に第二元素含有ガスが供給される。第三ガス供給管245aを含む第三ガス供給系245からは、ウエハを処理する際には主に不活性ガスが供給され、処理室をクリーニングする際はクリーニングガスが主に供給される。
第一ガス供給管243aには、上流方向から順に、第一ガス供給源243b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)243c、及び開閉弁であるバルブ243dが設けられている。マスフローコントローラ243cとバルブ243dをまとめて原料ガス供給制御部と呼ぶ。
第二ガス供給管244aには上流方向から順に、第二ガス供給源244b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)244c、及び開閉弁であるバルブ244d、リモートプラズマユニット244e、イオン捕獲部244fが設けられている。
第三ガス供給管245aには、上流方向から順に、第三ガス供給源245b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)245c、及び開閉弁であるバルブ245dが設けられている。
処理室201(上部容器202a)の内壁側面には、処理室201の雰囲気を排気する排気口221が設けられている。排気口221には排気管222が接続されており、排気管222には、処理室201内を所定の圧力に制御するAPC(Auto Pressure Controller)等の圧力調整器223、真空ポンプ224が順に直列に接続されている。主に、排気口221、排気管222、圧力調整器223、真空ポンプ224により第二の排気系(排気ライン)220が構成される。
シャワーヘッドの蓋231には、整合器251、高周波電源252が接続されている。高周波電源252、整合器251もしくは周波数可変でインピーダンスを調整することで、シャワーヘッド230、処理室201にプラズマが生成される。
基板処理装置100は、基板処理装置100の各部の動作を制御するコントローラ260を有している。コントローラ260は、演算部261及び記憶部262を少なくとも有する。コントローラ260は、上位コントローラや使用者の指示に応じて記憶部から基板処理装置のプログラムや制御レシピを呼び出し、その内容に応じて各構成を制御する。各プログラムや制御レシピは、ハードディスク、フラッシュメモリ等の記録媒体に格納される。
次に、基板処理装置100を使用して、ウエハ200上に薄膜を形成する工程について、図2、図3、図4、図5を参照しながら説明する。図2、図3、図4は、本発明の実施形態にかかる成膜工程のフロー図である。図5は、リモートプラズマユニット244eにおけるガスの混合状態とプラズマ状態の関係を示す図である。なお、以下の説明において、基板処理装置100を構成する各部の動作はコントローラ260により制御される。
基板処理装置100では基板載置台212をウエハ200の搬送位置まで下降させることにより、基板載置台212の貫通孔214にリフトピン207を貫通させる。その結果、リフトピン207が、基板載置台212表面よりも所定の高さ分だけ突出した状態となる。続いて、ゲートバルブ205を開き、図示しないウエハ移載機を用いて、処理室内にウエハ200(処理基板)を搬入し、リフトピン207上にウエハ200を移載する。これにより、ウエハ200は、基板載置台212の表面から突出したリフトピン207上に水平姿勢で支持される。
次に、薄膜形成工程S104を行う。薄膜形成工程S104の基本的な流れについて説明し、本実施形態の特徴部分については詳細を後述する。
次に、基板載置台212を下降させ、基板載置台212の表面から突出させたリフトピン207上にウエハ200を支持させる。その後、ゲートバルブ205を開き、ウエハ移載機を用いてウエハ200を処理容器202の外へ搬出する。その後、基板処理工程を終了する場合は、第三ガス供給系から処理容器202内に不活性ガスを供給することを停止する。
基板を搬出後、薄膜形成工程が所定の回数に到達したか否かを判定する。所定の回数に到達したと判断されたら、クリーニング工程に移行する。所定の回数に到達していないと判断されたら、次に待機しているウエハ200の処理を開始するため、基板搬入・載置工程S102に移行する。
処理回数判定工程S108で薄膜形成工程が所定の回数に到達したと判断したら、クリーニング工程を行う。ここでは、クリーニングガス供給系のバルブ248dを開け、シャワーヘッド230を介して、クリーニングガスを処理室201へ供給する。
本実施形態の加熱部である基板載置台加熱部213が既に稼動された状態で処理を開始する。基板が所望とする温度に達したら、バルブ243dを開け、ガス導入孔241、バッファ室232、複数の貫通孔234aを介して、処理室201内に第一の処理ガスとしてのTiCl4を供給開始する。
TiCl4ガスの供給を停止した後、バルブ237を開とし、シャワーヘッド230内の雰囲気を排気する。具体的には、バッファ室232内の雰囲気を排気する。このとき、真空ポンプ239は事前に作動させておく。シャワーヘッド排気工程204については、後に詳述する。
所定の時間経過後、引き続き第二の排気系の排気ポンプ224を作動させつつ、処理空間において第二の排気系からの排気コンダクタンスが、シャワーヘッド230を介した第一の排気系からの排気コンダクタンスよりも高くなるようAPCバルブ223の弁開度及びバルブ237の弁開度を調整する。このように調整することで、処理室201を経由した第二の排気系に向けたガス流れが形成される。したがって、バッファ室232に供給された不活性ガスを確実に基板上に供給することが可能となり、基板上の残留ガスの除去効率が高くなる。
第一ガス供給系では、バルブ243dを閉とした状態で、バルブ247dの開を維持し、引き続き不活性ガスを供給する。不活性ガスを供給することで、シャワーヘッド232からの逆流を防止する。
アンモニアガスの供給を停止した後、バルブ237を開とし、シャワーヘッド230内の雰囲気を排気する。具体的には、バッファ室232内の雰囲気を排気する。このとき、真空ポンプ239は事前に作動させておく。シャワーヘッド排気工程210については、後に詳述する。
所定の時間経過後、第二の排気系の排気ポンプ224を作動させつつ、処理空間において第二の排気系からの排気コンダクタンスが、シャワーヘッド230を介した第一の排気系からの排気コンダクタンスよりも高くなるようAPCバルブ223の弁開度及びバルブ237の弁開度を調整する。このように調整することで、処理室201を経由した第二の排気系に向けたガス流れが形成される。したがって、バッファ室232に供給された不活性ガスを確実に基板上に供給することが可能となり、基板上の残留ガスの除去効率が高くなる。
この間、コントローラ260は、上記1サイクルを所定回数実施したか否かを判定する。
続いて、本発明に係る第二の実施形態におけるイオン捕獲部を、図7を用いて説明する。他の構成については第一の実施形態と同様で有るので説明を省略する。
第三の実施形態におけるイオン捕獲部は、配管401の内側に棒状導電性部材403を設ける。棒状導電性部材403はアースに接続されており、配管401内を通過するプラズマ中のイオンを捕獲する。
続いて、本発明に係る第三の実施形態におけるイオン捕獲部を、図8を用いて説明する。他の構成については第一の実施形態と同様で有るので説明を省略する。図8(a)は配管401の水平断面図であり、図8(b)は配管401の垂直断面図である。第三の実施形態におけるイオン捕獲部は、図7に記載のイオン捕獲部に対して、更に棒状導電性部材404を設けている。棒状導電性部材403は、水平方向において棒状導電性部材404と向かい合うように配置されており、垂直方向においては棒状導電性部材404と異なる位置に配置されている。
(付記1)
原料ガス源に接続され、原料ガス供給制御部が設けられる原料ガス供給管を有する原料ガス供給系と、
反応ガス源に接続され、上流から順に反応ガス供給制御部、プラズマ生成部、イオン捕獲部が設けられる反応ガス供給管と、
前記反応ガス供給制御部と前記プラズマ生成部の間に下流端が接続されると共に、上流端が不活性ガス供給源に接続され、更に不活性ガス供給制御部が設けられる不活性ガス供給管と、
前記反応ガス供給管と前記不活性ガス供給管を有する反応ガス供給系と、
前記原料ガス供給系から原料ガスが供給され、前記反応ガス供給系から反応ガスが供給され、基板を処理する処理室と、
少なくとも前記原料ガス供給制御部と前記反応ガス供給制御部と前記不活性ガス供給制御部とを制御する制御部と
を有する基板処理装置。
前記制御部は、前記原料ガス供給系から前記処理室に前記原料ガスを供給すると共に、前記反応ガス供給系から前記プラズマ生成部を稼動した状態で前記処理室に不活性ガスを供給する第一の処理ガス供給工程と、前記第一の処理ガス供給工程の後に前記プラズマ生成部の稼動及び前記不活性ガスの供給を維持した状態で前記反応ガスの供給を開始する第二の処理ガス供給工程を行なうよう制御する付記1記載の基板処理装置。
前記制御部は、前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程を繰り返すよう制御する付記2記載の基板処理装置。
更に、不活性ガスの供給を制御する不活性ガス供給制御部が設けられた不活性ガス供給管を有する不活性ガス供給系とを有し、前記制御部は前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程の間に前記不活性ガス供給系から前記処理室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程を行うよう制御し、更に前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程と前記不活性ガス供給工程を行う間、前記プラズマ生成部の稼動を維持し続けるよう制御する付記2または3記載の基板処理装置。
前記制御部は、前記原料ガス供給系から前記処理室に前記原料ガスを供給すると共に、前記反応ガス供給系から前記プラズマ生成部を稼動した状態で前記処理室に不活性ガスを供給する第一の処理ガス供給工程と、前記第一の処理ガス供給工程の後に前記プラズマ生成部の稼動を維持した状態で、前記プラズマ生成部に不活性ガスを供給し、その後前記不活性ガスと反応ガスの混合ガスを供給する第二の処理ガス供給工程を行なうよう制御する付記1記載の基板処理装置。
基板を処理室に搬入する工程と、原料ガスを、原料ガス供給系から処理室に供給する第一の処理ガス供給工程と、不活性ガスが供給されている状態で反応ガスの供給を開始し、前記不活性ガスと前記反応ガスの混合ガスを反応ガス供給系に設けられた稼動状態のプラズマ生成部及びイオン捕獲部を介して前記処理室に供給する第二の処理ガス供給工程と を有する半導体装置の製造方法。
基板を処理室に搬入する工程と、
原料ガスを原料ガス供給系から処理室に供給すると共に、不活性ガスを稼動状態のプラズマ生成部及びイオン捕獲部を介して処理室に供給する第一の処理ガス供給工程と、
前記不活性ガスが供給継続された状態で、反応ガスの供給を開始し、前記不活性ガスと前記反応ガスの混合ガスを稼動状態の前記プラズマ生成部及び前記イオン捕獲部を介して前記処理室に供給する第二の処理ガス供給工程と
を有する半導体装置の製造方法。
200…ウエハ
210…基板載置部
220…第一の排気系
230…シャワーヘッド
243…第一ガス供給系
244…第二ガス供給系
245…第三ガス供給系
260…コントローラ
Claims (4)
- 原料ガス源に接続され、原料ガス供給制御部が設けられる原料ガス供給管を有する原料ガス供給系と、
反応ガス源に接続され、上流から順に反応ガス供給制御部、プラズマ生成部、イオン捕獲部が設けられる反応ガス供給管と、
前記反応ガス供給制御部と前記プラズマ生成部の間に下流端が接続されると共に、上流端が不活性ガス供給源に接続され、更に不活性ガス供給制御部が設けられる不活性ガス供給管と、
前記反応ガス供給管と前記不活性ガス供給管を有する反応ガス供給系と、
前記原料ガス供給系から原料ガスが供給され、前記反応ガス供給系から反応ガスが供給され、基板を処理する処理室と、
少なくとも前記原料ガス供給制御部と前記反応ガス供給制御部と前記不活性ガス供給制御部とを制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記原料ガス供給系から前記処理室に前記原料ガスを供給すると共に、前記反応ガス供給系から前記プラズマ生成部を稼動した状態で前記処理室に不活性ガスを供給する第一の処理ガス供給工程と、前記第一の処理ガス供給工程の後に前記プラズマ生成部の稼動及び前記不活性ガスの供給を維持した状態で前記反応ガスの供給を開始する第二の処理ガス供給工程を行なうよう制御する
基板処理装置。 - 前記制御部は、前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程を繰り返すよう制御する請求項1に記載の基板処理装置。
- 更に、不活性ガスの供給を制御する不活性ガス供給制御部が設けられた不活性ガス供給管を有する不活性ガス供給系とを有し、前記制御部は前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程の間に前記不活性ガス供給系から前記処理室に不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程を行うよう制御し、更に前記第一の処理ガス供給工程と前記第二の処理ガス供給工程と前記不活性ガス供給工程を行う間、前記プラズマ生成部の稼動を維持し続けるよう制御する請求項1または請求項2に記載の基板処理装置。
- 基板を処理室に搬入する工程と、
原料ガス源に接続され、原料ガス供給制御部が設けられる原料ガス供給管を有する原料ガス供給系から処理室に原料ガスを供給すると共に、
反応ガス源に接続され、上流から順に反応ガス供給制御部、プラズマ生成部、イオン捕獲部が設けられる反応ガス供給管と、前記反応ガス供給制御部と前記プラズマ生成部の間に下流端が接続されると共に、上流端が不活性ガス供給源に接続され、更に不活性ガス供給制御部が設けられる不活性ガス供給管とを有する前記反応ガス供給系から、前記プラズマ生成部を稼働した状態で前記処理室に不活性ガスを供給する第一の処理ガス供給工程と、
前記第一の処理ガス供給工程の後に前記プラズマ生成部の稼動及び前記不活性ガスの供給を維持した状態で前記反応ガスの供給を開始する第二の処理ガス供給工程と
を有する半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014069341A JP5921591B2 (ja) | 2013-12-27 | 2014-03-28 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013271926 | 2013-12-27 | ||
JP2013271926 | 2013-12-27 | ||
JP2014069341A JP5921591B2 (ja) | 2013-12-27 | 2014-03-28 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015144225A JP2015144225A (ja) | 2015-08-06 |
JP5921591B2 true JP5921591B2 (ja) | 2016-05-24 |
Family
ID=52986975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014069341A Active JP5921591B2 (ja) | 2013-12-27 | 2014-03-28 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9018689B1 (ja) |
JP (1) | JP5921591B2 (ja) |
KR (1) | KR101560610B1 (ja) |
CN (1) | CN104752271B (ja) |
TW (1) | TWI546847B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5859583B2 (ja) * | 2014-01-30 | 2016-02-10 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
US10407771B2 (en) * | 2014-10-06 | 2019-09-10 | Applied Materials, Inc. | Atomic layer deposition chamber with thermal lid |
US10332795B2 (en) | 2015-06-11 | 2019-06-25 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2017003824A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP6230573B2 (ja) * | 2015-07-06 | 2017-11-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、プログラム、基板処理システム及び基板処理装置 |
CN106935530B (zh) * | 2015-12-31 | 2020-04-17 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种等离子体刻蚀光刻胶装置 |
JP6906490B2 (ja) | 2018-09-14 | 2021-07-21 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム |
WO2020059093A1 (ja) * | 2018-09-20 | 2020-03-26 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置 |
JP6937806B2 (ja) * | 2019-09-25 | 2021-09-22 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、及び半導体の製造方法 |
JP2022112423A (ja) * | 2021-01-21 | 2022-08-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5683547A (en) * | 1990-11-21 | 1997-11-04 | Hitachi, Ltd. | Processing method and apparatus using focused energy beam |
JPH09153481A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマ処理装置 |
US6041734A (en) * | 1997-12-01 | 2000-03-28 | Applied Materials, Inc. | Use of an asymmetric waveform to control ion bombardment during substrate processing |
US6107192A (en) * | 1997-12-30 | 2000-08-22 | Applied Materials, Inc. | Reactive preclean prior to metallization for sub-quarter micron application |
US6432255B1 (en) * | 2000-01-31 | 2002-08-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for enhancing chamber cleaning |
JP3891848B2 (ja) * | 2002-01-17 | 2007-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
US6936551B2 (en) * | 2002-05-08 | 2005-08-30 | Applied Materials Inc. | Methods and apparatus for E-beam treatment used to fabricate integrated circuit devices |
CN100564587C (zh) * | 2003-01-31 | 2009-12-02 | 东京毅力科创株式会社 | 形成Ti膜的成膜方法 |
US8038858B1 (en) * | 2004-04-28 | 2011-10-18 | Alameda Applied Sciences Corp | Coaxial plasma arc vapor deposition apparatus and method |
US7658802B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-02-09 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and a method for cleaning a dielectric film |
US7695567B2 (en) * | 2006-02-10 | 2010-04-13 | Applied Materials, Inc. | Water vapor passivation of a wall facing a plasma |
US20070299239A1 (en) * | 2006-06-27 | 2007-12-27 | Air Products And Chemicals, Inc. | Curing Dielectric Films Under A Reducing Atmosphere |
JP2008135296A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Seiko Epson Corp | プラズマ処理装置および表面処理方法 |
JP5219562B2 (ja) | 2007-04-02 | 2013-06-26 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、基板処理方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2009231574A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Sanken Electric Co Ltd | SiC半導体素子とその製造方法並びにその製造装置 |
US9150610B2 (en) * | 2009-11-16 | 2015-10-06 | Biomotif Ab | Method and apparatus to perform hydrogen-deuterium exchange |
US8373117B2 (en) * | 2010-02-26 | 2013-02-12 | Dh Technologies Development Pte. Ltd. | Gas delivery system for mass spectrometer reaction and collision cells |
SG10201501031YA (en) * | 2010-02-26 | 2015-04-29 | Perkinelmer Health Sci Inc | Fluid chromatography injectors and injector inserts |
-
2014
- 2014-02-13 TW TW103104660A patent/TWI546847B/zh active
- 2014-03-13 CN CN201410092352.4A patent/CN104752271B/zh active Active
- 2014-03-27 KR KR1020140035704A patent/KR101560610B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-28 JP JP2014069341A patent/JP5921591B2/ja active Active
- 2014-03-31 US US14/230,513 patent/US9018689B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9018689B1 (en) | 2015-04-28 |
CN104752271B (zh) | 2018-04-20 |
JP2015144225A (ja) | 2015-08-06 |
TWI546847B (zh) | 2016-08-21 |
KR101560610B1 (ko) | 2015-10-15 |
CN104752271A (zh) | 2015-07-01 |
KR20150077255A (ko) | 2015-07-07 |
TW201526082A (zh) | 2015-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5921591B2 (ja) | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP5971870B2 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体 | |
KR101847575B1 (ko) | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 | |
JP5897617B2 (ja) | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP5793170B2 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | |
US20150275357A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
JP5793241B1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラム及び記録媒体 | |
JP5800969B1 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム、記録媒体 | |
TWI529838B (zh) | Semiconductor device manufacturing method, program and substrate processing device | |
JP5726281B1 (ja) | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP5859583B2 (ja) | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP5800957B1 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 | |
JP2007081169A (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160407 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5921591 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |