JP5901773B2 - 直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュール、及び、複数の薄膜ソーラーセルを直列接続する方法 - Google Patents

直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュール、及び、複数の薄膜ソーラーセルを直列接続する方法 Download PDF

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Description

本発明は、直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュール、及び、複数の薄膜ソーラーセルを直列接続して薄膜ソーラーモジュールを製造する方法に関する。
太陽光を電気エネルギへ直接に変換する積層体状の光起電装置はよく知られている。各層の材料及び配置形態は、入射光が1つもしくは複数の半導体層に捕捉され、できるだけ高い光効率で直接に電流へ変換されるように調整される。平坦な広がりを有する積層体状の光起電装置はソーラーセルと称される。
ソーラーセルはいずれの場合にも半導体材料を含む。充分な機械的安定性を得るために支持体基板を必要とするソーラーセルは薄膜ソーラーセルと称されている。特に、物理的特性と技術的な取り扱いとの点で、アモルファスもしくはマイクロアモルファスもしくは多結晶のケイ素、又は、カドミウムテルル化物CdTe、又は、ガリウムヒ化物GaAs、又は、銅インジウム/ガリウムセレン化物/硫化物Cu(In,Ga)(S,Se)、又は、銅亜鉛錫硫化物/セレン化物(黄錫亜鉛鉱群CZTS)、又は、有機半導体材料などを含む薄膜層列が、特にソーラーセルに適している。5価の半導体Cu(In,Ga)(S,Se)は黄銅鉱半導体群に属し、しばしばCIS(銅インジウム二セレン化物もしくは銅インジウム二硫化物)又はCIGS(銅インジウムガリウム二セレン化物、銅インジウムガリウム二硫化物もしくは銅インジウムガリウム二硫化セレン化物)と称される。CIGSなる略号におけるSとは、セレン又は硫黄又は黄銅鉱混合物を表している。
薄膜ソーラーセルに対する公知の支持体基板は、無機のガラス、ポリマー、金属もしくは金属合金を含み、層厚さ及び材料特性に依存して、剛板又は可撓性シートとして構成される。こうした支持体基板は広汎に適用可能でありかつ簡単にモノリシックな直列接続を行えるため、複数の薄膜ソーラーセルから低コストに大面積のモジュールを製造することができる。
複数のソーラーセルを接続した電気回路は光起電モジュール又はソーラーモジュールと称される。ソーラーセルの回路は、天候に対して安定な公知の構造体内で用いられ、環境影響から持続的に保護される。通常、鉄含有量の少ないナトロンチョークガラスと接着媒介剤としてのポリマーシートとがソーラーセルに接合されて、天候に対して安定な光起電モジュールが形成される。光起電モジュールは端子ソケットを介して複数の光起電モジュールを含む回路に組み込まれる。複数の光起電モジュールから成る回路は、公知のパワーエレクトロニクス回路を介して、開放された給電回路網もしくは自律的な電気エネルギ供給部に接続される。
薄膜ソーラーモジュールの直列回路では、通常、直列接続部が集積されて用いられている。集積された直列接続部では、活性のセル面が複数の縦条片へ分割され、各縦条片が個々の薄膜ソーラーセルとなる。個々の薄膜ソーラーセルはその長辺で隣のセルに直列接続される。この場合、後部電極層と光活性半導体層と前部電極層とは複数のパターニング線PR,PA,PFによって分割され、第1の領域の後部電極層が第2のパターニング線PAを介して隣の領域の前部電極層へ接続される。
実際には、個々の薄膜ソーラーセルの効率は各セルの幅が増大するにしたがって低下することがわかっている。ソーラーモジュールの損失を抑えるには、個々のセル幅は、使用されるセルパターンにしたがって、CISソーラーモジュールでは約1cm、また、アモルファスケイ素のソーラーモジュールでは1cmから1.5cmを上回ってはならない。大きな幅のソーラーセルを含む薄膜ソーラーモジュールは、電圧が小さく電流が大きくなるため、特定の用途、例えばバッテリ充電の用途に対しては有利である。
したがって、本発明の課題は、個々の薄膜ソーラーセルが広い幅で配置されている場合(直接接続された個々のソーラーセルのモジュール面積当たりの個数が小さい場合)にも高い効率を有する薄膜ソーラーモジュールを提供することである。
この課題は、請求項1記載の直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールによって解決される。有利な実施態様は従属請求項から得られる。
また、本発明は複数の薄膜ソーラーセルを直列接続して薄膜ソーラーモジュールを製造する方法に関する。
さらに、本発明の方法の使用も別の請求項に記載されている。
個々の薄膜ソーラーセルは主として3つの層から成っている。(光入射面の反対側の)後部電極層と、前部電極層と、その間に設けられる光活性半導体層との3層である。光入射によって生じる電流は、ソーラーセル内では、まず3つのパターニング線PR,PA,PFに対して垂直に前部電極層で収集され、ついで第2のパターニング線PAへ伝導され、そこから下方へ向かって隣のセルの後部電極層へ伝導される。
当該設計の基本的特性は、直列接続方向で、前部電極層において電流密度が強く増大すること、又は、後部電極層において電流密度が低下することである。通常高導電率を有する金属から形成される後部電極層に比べ、前部電極層は少なくとも係数2、多くの場合に係数10から100程度も低い導電率を有する。これは、高い透光性が要求されるために前部電極層にはあまり強いドープがなされないうえ、層が薄膜化されていることに起因している。前部電極層の導電率が低いため、著しく大きな抵抗損失が生じ、これはソーラーセルに対する横断方向で非線形に増大する。セル幅を大きく低減すれば抵抗損失を低下させることはできるが、この場合にはパターニング線PR,PA,PFの本数すなわち光起電的に不活性な面の面積の割合が増えるため、活性面の損失も増大する。モジュール幅が定められている場合、個々のセル数ひいてはソーラーモジュールの全電圧が広い領域で変化してはならない。つまり、光活性半導体層及び前部電極層の光電特性が所定であるときの最適セル幅woptはかなり狭い範囲に入っていなければならない。
本発明の課題の解決手段は、金属製の後部電極層の充分な伝導性を活用して、ふつうであれば前部電極層で引き取られるべき電流の流れを支援することである。このために、個々のソーラーセルは、厳密な長方形ではなく、長辺に切欠を有する形状に構成される。この切欠において、伝導性の小さい前部電極層の電流が、後部電極層を通り、特別な打ち抜きによって形成された第2のパターニング線PAを介して引き取られる。これにより、電流収集に必要な前部電極層内の流路平均距離は低減される。こうして、直列抵抗損失が小さくなり、薄膜ソーラーモジュールの電気特性を調整する際に新たな自由度が得られる。所定の基板フォーマットで、個々のソーラーセルの数ひいてはソーラーモジュールの電圧対電流比をほぼ任意に選定できる。特に、光起電モジュールによるバッテリ充電の適用分野では、これは決定的な前提条件である。また、その他の適用分野においても、小さな電圧及び大きな電流を有するモジュール、例えば大規模な太陽光発電設備において複数のソーラーセルが直列接続された長いチェーンを構成できるので有利である。
ゆえに、本発明の直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールは、少なくとも、
・複数のパターニング線PRによって分割された後部電極層と、
・後部電極層上に配置され、複数のパターニング線PAによって分割された光活性半導体層と、
・後部電極層とは反対側の光活性半導体層上に配置され、複数のパターニング線PFによって分割された前部電極層と
を含む。
パターニング線PAを介して、隣り合う個々のセルの前部電極層と後部電極層との電気的接続が行われる。なお、複数の切欠及び複数のエッジを含む第1のパターニング線PRと、複数の切欠及び複数のエッジを含む第2のパターニング線PAとは、光起電半導体層で形成された電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
なお、本発明におけるエッジとは、各パターニング線PA,PR,PFのうち切欠以外の部分である。
本発明の薄膜ソーラーモジュールはいわゆる下部基板コンフィグレーション又はいわゆる上部基板コンフィグレーションとして構成される。どちらのコンフィグレーションにおいても、プレート状の絶縁材料上に半導体性の複数の薄い金属層が配設された構造体が用いられる。
本発明の直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールは、下部基板コンフィグレーションの場合、少なくとも、
・基板上に配置され、複数のパターニング線PRによって分割された後部電極層と、
・後部電極層上に配置され、複数のパターニング線PAによって分割された光活性半導体層と、
・光活性半導体層上に配置され、複数のパターニング線PFによって複数の領域へ分割された前部電極層と
を含み、ここで、第1の領域の前部電極層が第2の領域の後部電極層に直列に電気的に接続され、複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PRと複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PAとが、光活性半導体層で形成された電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低下するような相互関係で、形成される。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの有利な実施形態では、前部電極層と光活性半導体層とは複数のパターニング線PFによって複数の領域へ分割される。
基板は、例えば、比較的小さい透光性を有するガラスから形成され、実行されるプロセスステップに対して所望の耐性及び不活性特性を有する他の電気的絶縁性材料を使用することができる。
高導電率を有する後部電極層は、金属、例えば、モリブデンMo又はアルミニウムAl又は銅Cu又はチタンTiを含み、例えば蒸着法又は磁場支援カソード噴霧法によって基板へ塗布される。後部電極層は第1のパターニング線PRによって分割される。
後部電極層上には光活性半導体層が設けられ、この層によって各パターニング線PRが充填される。光活性半導体層としては、薄膜ソーラーセルの製造に適した積層構造体が用いられる。こうした積層構造体は、有利には、種々のドープ物質を含むアモルファスもしくはマイクロアモルファスもしくは多結晶のケイ素、又は、カドミウムテルル化物CdTe、又は、ガリウムヒ化物GaAs、又は、銅亜鉛錫硫化物/セレン化物CZTS、又は、有機半導体、又は、銅インジウム/ガリウムセレン化物/硫化物Cu(In,Ga)(S,Se)を含む。光活性半導体層は少なくともパターニング線PAによって分割され、さらに付加的にパターニング線PFによって分割されることもある。
光活性半導体層上には少なくとも1つの前部電極層が配置される。前部電極層はソーラーセルのスペクトル感度の領域の光に対して一貫して透明であるので、入射してくる太陽光は僅かしか減衰しない。前部電極層が光活性半導体層内のパターニング線PAを充填することにより、第1の領域の前部電極層が第2の領域の後部電極層へ直列に接続される。
前部電極層は、有利には、透明導電性金属酸化物、特に亜鉛酸化物ZnO、又は、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物ZnO:Al、又は、ホウ素がドープされた亜鉛酸化物ZnO:B、又は、インジウムがドープされた亜鉛酸化物ZnO:In、又は、ガリウムがドープされた亜鉛酸化物ZnO:Ga、又は、フッ素がドープされた錫酸化物SnO:F、又は、アンチモンがドープされた錫酸化物SnO:Sb、又は、インジウム錫酸化物ITOを含む。前部電極層は、例えば蒸着法、化学気相蒸着法CVD、磁場支援カソード噴霧法などによって、光活性半導体層上に塗布される。前部電極層を堆積する前に、光電特性を改善するために、(例えばII族‐VI族半導体又はIII族‐V族半導体から成る)付加的な薄いバッファ層を塗布することもできる。
下部基板コンフィグレーションでは、前部電極層及び場合により光活性半導体層は複数のパターニング線PFによって分割され、これにより、薄膜ソーラーモジュールの個々の薄膜ソーラーセルが相互に直列接続される。
本発明の直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールは、上部基板コンフィグレーションの場合、少なくとも、
・透明基板上に配置され、複数のパターニング線PFによって分割された前部電極層と、
・前部電極層上に配置され、複数のパターニング線PAによって分割された光活性半導体層と、
・光活性半導体層上に配置され、少なくとも複数のパターニング線PRによって複数の領域へ分割された後部電極層と
を含み、ここで、第1の領域の後部電極層が第2の領域の前部電極層へ直列に接続され、複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PRと複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PAとが、光活性半導体層で形成される電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
上部基板コンフィグレーションの構成では、透明基板のうち光入射面とは反対側の表面に設けられた積層構造体によって実現される。透明基板は例えば鉄含有量の小さいエクストラホワイト色のガラスから形成される。この場合、実行されるプロセスステップに対する所望の耐性及び不活性特性と電気的絶縁性及び透光性とを有する別の材料も利用可能である。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの実施形態では、第1のパターニング線PFによって前部電極層が分割され、第2のパターニング線PAによって光活性半導体層が分割され、第3のパターニング線PRによって、少なくとも後部電極層が分割され、さらに場合によりこれに接する吸収層も分割される。個々の薄膜ソーラーセルの直列接続は、この場合、第1の領域の後部電極層を第2の領域の前部電極層に接続することによって行われる。
本発明の薄膜ソーラーモジュールでは、複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PRと複数の切欠及び複数のエッジを含むパターニング線PAとが、光活性半導体層で形成される電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
光活性半導体層で形成された電流は前部電極層によって収集され、第2のパターニング線PAを介して、直列接続方向で見て続く薄膜ソーラーセルの後部電極層へ伝導される。第2のパターニング線PAの切欠により、電流は薄膜ソーラーセルの長手方向もしくは直列接続方向に対して平行な直線流路で前部電極層を通っては流れず、電気抵抗の最も小さい流路へ流れるようになる。第2のパターニング線PAの切欠により、前部電極層の種々の領域から第2のパターニング線PAまでの平均距離が低減される。これにより、光活性半導体層で形成された電流の、前部電極層を通る流路の平均距離は低減され、前部電極層を介した平均電気抵抗も低下する。電流は第2のパターニング線PAを介して良好な伝導率を有する後部電極層へ伝導される。これにより、薄膜ソーラーセルの全抵抗が低下する。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの有利な実施形態では、パターニング線PFにも同様に複数の切欠及び複数のエッジが形成される。こうした手段により、各薄膜ソーラーセルのうち光起電的に活性な面の面積が拡大される。なぜなら、第2のパターニング線PAとその隣の第3のパターニング線PRとの間の光起電的に不活性の面の面積が縮小されるからである。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、いずれかのパターニング線PR;PA;PFの各切欠、又は、各パターニング線PR,PA,PFの各切欠は、鋭角的に切れ込むように形成される。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、少なくとも1つのパターニング線PR;PA;PFの各切欠は、三角形状に形成される。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、パターニング線PAの各切欠は線形もしくは四角形状に形成される。パターニング線PAのこうした形状は、技術的に特に簡単に実現可能である。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、隣り合うパターニング線PR,PA,PFの各切欠は少なくとも近似的に並列に形成される。これにより、パターニング線PF,PA,PR間の光起電的に不活性の面の面積が小さくなり、個々の薄膜ソーラーセルの光起電的に活性の面の面積が拡大される。ここで、パターニング線PR,PA,PFの各切欠は同じ方向(例えばパターニング線の延在方向に対して垂直な方向)へ配向される。つまり、パターニング線はそれぞれ同じ方向に(例えば延在方向に対して垂直な方向に)深さを有する。したがって、パターニング線PR,PA及び場合によりパターニング線PFには同方向の切欠が設けられる。
光活性半導体層で形成された電流(以下では光電流と称する)の、前部電極層を通る流路の平均距離は、有利には、最適セル幅woptに一致する。
上述したように、個々の薄膜ソーラーセルの効率はソーラーセル幅が増大するにつれて低下する。これは特に、セル幅の増大につれてオーム抵抗が増大した結果、第一義的に、透明な前部電極の導電率が制限されることから生じる。逆に、セル幅が低下すると、パターニング線に必要な、光電的に不活性な面の面積の相対的割合は増大する。これら2つの互いに反対の作用から生じる最適セル幅woptは、従来の直列接続部では主として個々のソーラーセルの電圧と光電流密度とに依存して定められる。実験から、約0.5Vのフリーホイーリング電圧及び比較的高い光電流密度を有するCIS薄膜ソーラーモジュールもしくはCIGS薄膜ソーラーモジュールでの最適セル幅woptは約5mmから約10mmであり、有利には4.5mmから6.5mmであると判明している。高いフリーホイーリング電圧及び比較的低い光電流密度を有するソーラーセル、例えばアモルファスのケイ素から成る、フリーホイーリング電圧約0.9Vのソーラーセルでは、最適セル幅woptは約7mmから約15mmであり、有利には7.5mmから10.5mmである。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、パターニング線PRの切欠から隣のセルのパターニング線PFまでの最小間隔dは、最適セル幅wopt以下となるように構成される。当該間隔dに関連するパターニング線PFは隣のパターニング線PAの反対側に位置している(例えば図4参照)。関連するパターニング線PAは、直列接続方向で見て前方の薄膜ソーラーセルの前部電極層に接している。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、パターニング線に沿った切欠の間隔aは、最適セル幅woptの2倍以下である。これにより、2つの切欠間に生じる光電流が最適セル幅wopt以下の経路を通り、パターニング線PAを介して後部電極へ達することが保証されるという利点が得られる。
本発明の薄膜ソーラーモジュールの別の有利な実施形態では、後部電極層は前部電極層よりも低い面積電気抵抗を有しており、有利には係数10、特に有利には係数100だけ低い面電気抵抗を有する。これにより、後部電極層のパターニング線PRの切欠の基本幅bPRを低減することができる。基本幅bPRが低減されれば、光電的に不活性な面の面積が低下し、ひいては効率を高めることができる。
また、本発明の別の特徴は、いわゆる下部基板コンフィグレーションでの、直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールの製造方法に関しており、この方法では、a)後部電極層が基板上に堆積されて、複数の第1のパターニング線PRによって分割され、b)光活性半導体層が後部電極層上に堆積されて複数の第2のパターニング線PAによって分割され、c)前部電極層が光活性半導体層上に堆積され、前部電極層と光活性半導体層とが複数の第3のパターニング線PFによって複数の領域へ分割され、第1の領域の前部電極層と第2の領域の後部電極層とが直列に接続され、切欠及びエッジを含む第1のパターニング線PRと切欠及びエッジを含む第2のパターニング線PAとが、光活性半導体層で形成された電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
さらに、本発明の別の特徴は、いわゆる上部基板コンフィグレーションでの、直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールの製造方法に関しており、この方法では、a)前部電極層が透明基板上に堆積されて、複数の第1のパターニング線PFによって分割され、b)光活性半導体層が前部電極層上に堆積されて複数の第2のパターニング線PAによって分割され、c)後部電極層が光活性半導体層上に堆積され、後部電極層と光活性半導体層とが複数の第3のパターニング線PRによって複数の領域へ分割され、第1の領域の後部電極層と第2の領域の前部電極層とが直列に接続され、切欠及びエッジを含む第3のパターニング線PRと切欠及びエッジを含む第2のパターニング線PAとが、光活性半導体層で形成される電流の、前部電極層を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
さらに、本発明の別の特徴は、直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールの製造方法の使用に関しており、上述した製造方法は、特に、アモルファスもしくはマイクロアモルファスもしくは多結晶のケイ素、又は、カドミウムテルル化物(CdTe)、又は、ガリウムヒ化物(GaAs)、又は、黄銅鉱ベースの半導体、例えば、銅亜鉛錫硫化物/セレン化物CZTS、又は、黄錫亜鉛鉱ベースの半導体、例えば銅インジウム/ガリウムセレン化物/硫化物Cu(In,Ga)(S,Se)、又は、有機半導体から成る薄膜ソーラーモジュールの製造に用いられる。
本発明を図示の実施例に則して詳細に説明する。ただし、図は縮尺どおりには描かれていない。また、図示の実施例は本発明を限定するものでない。
直列接続された2つの薄膜ソーラーセルを含む本発明の薄膜ソーラーモジュールの第1の実施例を示す概略的な断面図である。 図1のモジュールを切断線A−A’に沿って切断した断面図である。 直列接続された2つの薄膜ソーラーセルを通る電流を概略的に示す図である。 薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第1の実施形態を示す概略図である。 薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第2の実施形態を示す概略図である。 薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第3の実施形態を示す概略図である。 薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第4の実施形態を示す概略図である。 薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第5の実施形態を示す概略図である。 本発明の薄膜ソーラーモジュールの第2の実施例(上部基板構造)を示す概略的な断面図である。 第2の実施例の薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の第1の実施形態を示す概略図である。 本発明の方法の第1の実施例を示すフローチャートである。 本発明の方法の第2の実施例を示すフローチャートである。
図の詳細な説明
図1には、全体として参照番号1で薄膜ソーラーモジュールが示されている。薄膜ソーラーモジュール1は集積された形態で直列接続された複数のソーラーセル1.1,1.2を含んでおり、そのうち2つのセルのみが示されている。図2には図1のモジュールを切断線A−A’に沿って切断した断面図が示されている。方向Lは長手方向又はパターニング線に対して平行な方向を表しており、方向Qは薄膜ソーラーモジュール1のパターニング線に対して垂直な横断方向を表している。
薄膜ソーラーモジュール1はいわゆる下部基板コンフィグレーションに対応する構造を有する。つまり、薄膜ソーラーモジュール1は電気的絶縁性基板2の上方に複数の薄膜層から成る積層構造体10を有する。積層構造体10は基板2の光入射面III上に配置されている。基板2はここでは例えば比較的小さな透光性を有するガラスから成っていてよい(ただしこれに限定されない)。
積層構造体10は基板2の表面IIIに設けられた後部電極層3を含む。後部電極層3は複数のパターニング線PRによって分割されている。後部電極層3は、例えば、モリブデンMoなどの不透光性の金属を含み、蒸着法もしくは磁場支援カソード噴霧法によって基板2上に堆積される。後部電極層3は100nmから600nmの層厚さ、特に有利には500nmの層厚さを有する。また、後部電極層3は例えば1Ω−2から0.01Ω−2の面電気抵抗、特に有利には0.1Ω−2の面電気抵抗を有する。
後部電極層3上には光活性半導体層4が堆積されている。光活性半導体層4は複数のパターニング線PAによって分割されている。光活性半導体層4は例えばドープされた半導体を含み、有利には、この半導体のバンドギャップは太陽光のできるだけ多くの成分を吸収できるように選定されている。光活性半導体層4は例えば吸収層4.1とバッファ層4.2とを含む。吸収層4.1は、例えば、p導電型の黄銅鉱半導体、特にCu(In,Ga)(S,Se)群の化合物を含む。吸収層4.1は例えば0.5μmから5μmの層厚さ、特に有利には約2μmの層厚さを有する。
吸収層4.1上にはバッファ層4.2が堆積される。当該バッファ層はここでは例えばカドミウム硫化物CdSの単独層と真性亜鉛酸化物i‐ZnOの単独層とから形成される。ただしこのことは図1では詳細には図示されていない。
バッファ層4.2上には前部電極層5が例えばスパッタリングにより塗布される。前部電極層5はパターニング線PAを充填するので、第1の領域6.1の前部電極層5と第2の領域6.2の後部電極層3との間の電気線路による接続が形成される。前部電極層5は可視スペクトル領域の光に対して透明であり(ウィンドウ電極)、このため入射してくる太陽光は殆ど弱まらない。透明な前部電極層5は、例えばn導電型のアルミニウムをドープされた亜鉛酸化物ZnO:Alなど、ドープ物質を含む金属酸化物をベースとしている。こうした前部電極層5は一般にはTCO層(透明導電性酸化物層)と称される。前部電極層5とバッファ層4.2と吸収層4.1とによってヘテロ接合領域(すなわち反対の導電型の層どうしが接合した領域)が形成される。この場合、バッファ層4.2によって、吸収層4.1の半導体材料と前部電極層5の材料との間の電子適合性が改善される。前部電極層5は100nmから2000nmの層厚さ、特に有利には約1000nmの層厚さを有する。また、前部電極層5は例えば5Ω−2から20Ω−2の面電気抵抗、特に有利には約10Ω−2の面電気抵抗を有する。前部電極層5と光活性半導体層4とは複数のパターニング線PFによって個々の薄膜ソーラーセル1.1,1.2へ分割される。
環境影響に対する保護を達成するために、前部電極層5上に、例えばポリマーから成る接着層8を被着し、これを積層構造体10のカプセル化に利用することができる。基板2の光入射面IIIと透明基板9の光出射面IIとは接着層8によって相互に固定に接合される。接着層8はここでは例えば加熱によって可塑変形して冷却時に基板2と透明基板9とを固定に相互接合する熱可塑性接着層である。カプセル化に適した接着層8は例えばポリビニルブチラールPVBのシートもしくはエチレンビニルアセテートEVAのシートである。これらのシートは例えば1mmの厚さを有する。
透明基板9は、例えば、少量の鉄を含有するエクストラホワイト色のガラスから形成される。この場合、実行されるプロセスステップに対して所望の耐性及び不活性特性を有する他の電気的絶縁性材料を使用することもできる。
図1,図2では詳細には示されていないが、基板2と透明基板9との間の周囲空隙は、防水壁として用いられる密閉材料によって密閉される。当該密閉部で水の侵入が防止されることにより、薄膜ソーラーモジュール1の長期安定性が改善され、積層構造体10の種々の層の腐食が低減される。適切な密閉材料は例えばポリイソブチレンPIBである。
図3には、直列接続された2つの薄膜ソーラーセル1.1,1.2を通る電流が示されている。光活性半導体層4で形成された電流は第1の領域6.1の前部電極層5に収集され、電流路11に沿ってパターニング線PAへ伝導する。また、第2の領域6.2の後部電極層への電流の伝導もパターニング線PAを介して行われる。
図示の実施例では、薄膜ソーラーモジュール1で得られる正の電圧端子+と負の電圧端子−とが後部電極層3を介して導通され、そこで電気的にコンタクトされる。本発明の薄膜ソーラーモジュール1は例えば直列接続された約100個の薄膜ソーラーセル1.1,1,2を含み、約50Vのフリーホイーリング電圧を有する。個々の薄膜ソーラーセルの幅cは3mmから20mmであり、特に有利には10mmである。
図4には、直列接続された4つの領域6.0,6.1,6.2,6.3のパターニング線PR,PA,PRの列が示されている。隣り合うパターニング線PRどうしの間隔又は隣り合うパターニング線PAどうしの間隔は、個々の薄膜ソーラーセル1.1,1.2の幅cに相当する。
各パターニング線PRは切欠7.10を有し、各パターニング線PAは切欠7.20を有している。隣り合うパターニング線PRとパターニング線PAとは近似的に並列に形成されるか、又は、平行特性を有するように相互に接近して形成される。パターニング線PRの各切欠7.10間、及び、パターニング線PAの各切欠7.20間は、それぞれ例えば12mmの間隔aを有する。当該間隔aは6mmの最適セル幅woptの約2倍に相当する。各切欠7.10間にはエッジ7.11に沿った長手方向でパターニング線PRが延在する。各切欠7.10の基本幅bPRは例えば2mmである。エッジ7.11の長さbは例えば10mmである。パターニング線PAのエッジ7.21の長さbは例えば11mmである。パターニング線PRの切欠7.10から直列接続方向Lで見て前隣に位置するパターニング線PFまでの最小間隔dは、最適セル幅woptに相当し、例えば約6mmである。この実施例ではパターニング線PFは切欠なしで構成されており、唯一の一貫したエッジ7.31を有する。切欠7.10,7.20はそれぞれパターニング線PA,PRの延在方向Lに対して垂直に(方向Qで)切り欠かれている。
光活性半導体層4で形成された電流の、前部電極層5を通る流路が、矢印11によって表されている。電流路11は低抵抗の流路に沿って延在しており、これにより、前部電極層5を通る流路平均距離は、従来技術にしたがって直列接続されたソーラーセルに比べて低減されている。高抵抗の前部電極層5から低抵抗の後部電極層3へと電流輸送を移動させたことにより、薄膜ソーラーセルの全抵抗を低くすることができる。
図5には、代替的構成として、直列接続された4つの領域6.0,6.1,6.2,6.3のパターニング線PR,PA,PFが示されている。パターニング線PFは切欠7.30及びエッジ7.31を有するように構成されている。隣り合うパターニング線PR,PA,PFは近似的に並列に形成されるか又は平行特性を有するように相互に接近して形成される。切欠7.10,7.20.7.30はそれぞれパターニング線PA,PR,PFの延在方向Lに対して垂直に(方向Qで)切り欠かれている。
エッジ7.31の長さb3は例えば11mmである。これにより、パターニング線PAと隣のパターニング線PFとの間の光起電的に不活性の面の面積が最小化され、個々の薄膜ソーラーセル1.1,1.2,1.3の光起電的に活性の面の面積が拡大される。
図6には、本発明の薄膜ソーラーモジュール1のパターニング線PR,PA,PFの別の構成の概略図が示されている。パターニング線PAの切欠7.20は、この実施例では、線状に構成されている。エッジ7.21の長さb2は、この実施例では、各切欠7.20間の間隔aに相当する。
図7には図6の実施例の変形形態が示されている。隣り合う2つの領域のパターニング線PRとパターニング線PFとの間の間隔dは、図6に比べて低減されている。ここでは、エッジ7.11の長さbが増大され、かつ、基本幅bPRが低減されている。
図8には、本発明の薄膜ソーラーモジュール1のパターニング線PR,PA,PFの別の代替的構成の概略図が示されている。パターニング線PRの切欠7.10及びパターニング線PAの切欠7.20は、端部が丸められてはいるが、鋭角的に切れ込むように形成されている。パターニング線PRのエッジ7.11の長さb1とパターニング線PAのエッジ7.21の長さb2とは極端な場合には0であってもよく、その場合、パターニング線PR,PAは端部が丸められた切欠7.10,7.20のみから成る。切欠7.20の端部が丸められた形状により、特に前部電極層5の流路11の平均距離の効果的な低減が達成される。
図9には、直列接続された2つの薄膜ソーラーセル1.1,1.2を含む本発明の薄膜ソーラーモジュール1の代替的実施例の概略断面図が示されている。薄膜ソーラーモジュール1は、いわゆる上部基板コンフィグレーションに対応する構造、すなわち、透明基板9とそこに堆積された複数の薄膜層から成る積層構造体10とを含む構造を有する。積層構造体10は基板9の光出射面IIに設けられている前部電極層5を含み、この前部電極層5は複数のパターニング線PFによって分割されている。前部電極層5上には光活性半導体層4が堆積されている。光活性半導体層4は複数のパターニング線PAによって分割されている。光活性半導体層4上には後部電極層3が設けられており、この後部電極層3は複数のパターニング線PAによって充填されている。後部電極層3及び光活性半導体層4は複数のパターニング線PRによって個々の薄膜ソーラーセル1.1,1.2へ分割されている。個々の薄膜ソーラーセル1.1,1.2の直列接続は、第1の領域6.1の後部電極層3と第2の領域6.1の前部電極層5とを導電接続するパターニング線PAを介して行われる。基板2,9及び積層構造体10の材料乃至材料パラメータは、図1の薄膜ソーラーモジュール1の下部基板コンフィグレーションの実施例に対応する。吸収層4.1は例えばカドミウムテルル化物CdTeなどのp導電型の吸収層を含む。
図10には、本発明の上部基板コンフィグレーションにおける薄膜ソーラーモジュールのパターニング線PR,PA,PFの列の概略図が示されている。上部基板コンフィグレーションは例えば図9の実施例にしたがって構成されている。
図11には、下部基板コンフィグレーションの本発明の薄膜ソーラーモジュール1を直列接続によって製造する方法の詳細なフローチャートが示されている。第1のステップa)では、後部電極層3が基板2上に堆積され、この後部電極層3が複数のパターニング線PRによって分割される。第2のステップb)では、光活性半導体層4が後部電極層3上に堆積され、この光活性半導体層4が複数のパターニング線PAによって分割される。第3のステップc)では、前部電極層5が光活性半導体層4上に堆積され、前部電極層5と光活性半導体層4とが複数のパターニング線PFによって複数の領域6へ分割され、ここで、第1の領域6の前部電極層5が第2の領域6の後部電極層3へ直列に接続される。この場合、切欠7.10及びエッジ7.11を有するパターニング線PRと切欠7.20及びエッジ7.21を有するパターニング線PAとは、光活性半導体層4で形成される電流の、前部電極層5を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
パターニング線PR,PA,PFのための切欠形成は、適切なパターニング技術、例えばNd:YAGレーザーを用いたレーザー描画、又は、エンボスもしくはリセスを形成する機械加工などを利用して行われる。
図12には、上部基板コンフィグレーションの本発明の薄膜ソーラーモジュール1を直列接続によって製造する方法の変形実施例のフローチャートが示されている。第1のステップa)では、前部電極層5が透明基板9上に堆積され、この前部電極層5が複数のパターニング線PRによって分割される。第2のステップb)では、光活性半導体層4が前部電極層5上に堆積され、この光活性半導体層4が複数のパターニング線PAによって分割される。第3のステップc)では、後部電極層3が光活性半導体層4上に堆積され、後部電極層3と光活性半導体層4とが複数のパターニング線PRによって複数の領域6へ分割され、ここで、第1の領域6の後部電極層3が第2の領域6の前部電極層5へ直列に接続される。この場合、切欠7.10及びエッジ7.11を有するパターニング線PRと切欠7.20及びエッジ7.21を有するパターニング線PAとは、光活性半導体層4で形成された電流の、前部電極層5を通る流路の平均距離が低減されるような相互関係で、形成される。
1 薄膜ソーラーモジュール、 1.1,1.2,1.3 薄膜ソーラーセル、 2 基板、 3 後部電極層、 4 光活性半導体層、 4.1 吸収層、 4.2 バッファ層、 5 前部電極層、 6;6.0,6.1,6.2,6.3 領域、 7.10,7.20,7.30 切欠、 7.11,7.21,7.31 エッジ、 8 接着層、 9 透明基板、 10 積層構造体、 11 電流(流路)、 a 各切欠間の間隔、 b1 エッジ7.11の長さ、 b2 エッジ7.21の長さ、 b3 エッジ7.31の長さ、 BF 前部電極層の領域、 bPR 切欠7.10の基本幅、 BR 後部電極層の領域、 c 各薄膜ソーラーセルの幅、 d 間隔、 wopt 最適セル幅、 PR,PA,PF パターニング線、 II 透明基板の光出射面、 III 基板の光入射面、 Q 横断方向、 L 長手方向(直列接続方向)、 A−A’ 切断線

Claims (14)

  1. 直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュール(1)であって、少なくとも、
    ・複数のパターニング線PRによって複数の領域BRへ分割されている後部電極層(3)と、
    ・前記後部電極層(3)上に配置されており、複数のパターニング線PAによって分割されている光活性半導体層(4)と、
    ・前記後部電極層(3)とは反対側の前記光活性半導体層(4)上に配置されており、複数のパターニング線PFによって複数の領域BFへ分割されている前部電極層(5)と
    を含んでおり、
    前記薄膜ソーラーモジュール(1)は、長手方向(L)と横断方向(Q)を有しており、前記パターニング線PR,PA及びPFは、前記長手方向(L)に沿って延在しており、
    前記前部電極層(5)の各領域BFは隣の前記後部電極層(3)の各領域BRに前記複数のパターニング線PAを介して直列に電気的に接続されており、
    前記パターニング線PRにはそれぞれ、該パターニング線PRの延在方向に対して垂直な方向に切り欠かれた複数の切欠(7.10)と、該複数の切欠(7.10)間において前記パターニング線PRの延在方向に延びている複数の直線部(7.11)と、が設けられており、
    前記パターニング線PAにはそれぞれ、該パターニング線PAの延在方向に対して垂直な方向に切り欠かれた複数の切欠(7.20)と、該複数の切欠(7.20)間において前記パターニング線PAの延在方向に延びている複数の直線部(7.21)と、が設けられており、
    前記複数の切欠(7.10)及び前記複数の直線部(7.11)を含む前記パターニング線PRと、前記複数の切欠(7.20)及び前記複数の直線部(7.21)を含む前記パターニング線PAとは、前記光活性半導体層(4)で形成された電流の、前記前部電極層(5)を通る流路の平均距離が低減されて抵抗損失が低下するような相互関係で、形成されている
    ことを特徴とする薄膜ソーラーモジュール(1)。
  2. 前記パターニング線PFはそれぞれ、前記パターニング線PFの延在方向に対して垂直な方向に切り欠かれた複数の切欠(7.30)と、該複数の切欠(7.30)間において前記パターニング線PFの延在方向に延びている複数の直線部(7.31)と、を含むように構成されている、
    請求項1記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  3. 前記パターニング線PR,又は前記パターニング線PR及びPA,又は前記パターニング線PR及びPA及びPFのいずれかの各切欠(7.10,7.20,7.30)は鋭角的に切れ込むように形成されている、
    請求項1又は2記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  4. 記パターニング線PR又はPA又はPFの少なくとも1つの各切欠(7.10又は7.20又は7.30)は三角形状に形成されている、
    請求項1から3までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  5. 前記パターニング線PAの各切欠(7.20)は線状もしくは四角形状に形成されている、
    請求項1から4までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  6. 隣り合うパターニング線PR,PA,PFの各切欠(7,10,7.20,7.30)は少なくとも近似的に相互に並列に形成されている、
    請求項1から5までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  7. 前記後部電極層(3)は、前記前部電極層(5)に比べて、有利には係数10、特に有利には係数100、低い面電気抵抗を有する、
    請求項1から6までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  8. 前記パターニング線PRの切欠(7.10)から隣の領域の前記パターニング線PFまでの最小間隔dは、5mmから15mmの最適セル幅wopt以下である、
    請求項1から7までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  9. 前記パターニング線PRの各切欠(7.10)間の間隔aは、5mmから15mmの最適セル幅wopt以下である、
    請求項8記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  10. 前記後部電極層(3)は金属を含み、例えば前記金属はモリブデン(Mo)又はアルミニウム(Al)又は銅(Cu)又はチタン(Ti)であり、及び/又は、前記前部電極層(5)は透明導電性金属酸化物の層を含み、例えば前記透明導電性金属酸化物は亜鉛酸化物(ZnO)又はアルミニウムがドープされた亜鉛酸化物(ZnO:Al)又はホウ素がドープされた亜鉛酸化物(ZnO:B)又はインジウムがドープされた亜鉛酸化物(ZnO:In)又はガリウムがドープされた亜鉛酸化物(ZnO:Ga)又はフッ素がドープされた錫酸化物(SnO:F)又はアンチモンがドープされた錫酸化物(SnO:Sb)又はインジウム錫酸化物(ITO)である、
    請求項1から9までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  11. 前記光活性半導体層(4)は、アモルファスもしくはマイクロアモルファスもしくは多結晶のケイ素、又は、カドミウムテルル化物(CdTe)、又は、有機半導体、又は、ガリウムヒ化物(GaAs)、又は、黄銅鉱ベースの半導体もしくは黄錫亜鉛鉱ベースの半導体を含む、
    請求項1から10までのいずれか1項記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
  12. 請求項1記載の薄膜ソーラーモジュール(1)の製造及び直列接続方法であって、
    a)基板(2)上に後部電極層(3)を堆積し、該後部電極層(3)を複数のパターニング線PRによって分割し、
    b)前記後部電極層(3)上に光活性半導体層(4)を堆積し、該光活性半導体層(4)を複数のパターニング線PAによって分割し、
    c)前記光活性半導体層(4)上に前部電極層(5)を堆積し、該前部電極層(5)と前記光活性半導体層(4)とを複数のパターニング線PFによって複数の領域(6)へ分割し、第1の領域(6)の前記前部電極層(5)と第2の領域(6)の前記後部電極層(3)とを直列に接続し、
    複数の切欠(7.10)及び複数の直線部(7.11)を含む前記パターニング線PRと複数の切欠(7.20)及び複数の直線部(7.21)を含む前記パターニング線PAとを、前記光活性半導体層(4)で形成された電流の、前記前部電極層(5)を通る流路の平均距離が低減されて抵抗損失が低下するような相互関係で、形成する
    ことを特徴とする直列接続部を含む薄膜ソーラーモジュールの製造方法。
  13. 請求項1記載の薄膜ソーラーモジュール(1)の製造及び直列接続方法であって、
    a)透明基板(9)上に前部電極層(5)を堆積し、該前部電極層(5)を複数のパターニング線PFによって分割し、
    b)前記前部電極層(5)上に光活性半導体層(4)を堆積し、該光活性半導体層(4)を複数のパターニング線PAによって分割し、
    c)前記光活性半導体層(4)上に後部電極層(3)を堆積し、該後部電極層(3)と前記光活性半導体層(4)とを複数のパターニング線PRによって複数の領域(6)へ分割し、第1の領域(6)の前記後部電極層(3)と第2の領域(6)の前記前部電極層(5)とを直列に接続し、
    複数の切欠(7.10)及び複数の直線部(7.11)を含む前記パターニング線PRと複数の切欠(7.20)及び複数の直線部(7.21)を含む前記パターニング線PAとを、前記光活性半導体層(4)で形成された電流の、前記前部電極層(5)を通る流路の平均距離が低減されて抵抗損失が低下するような相互関係で、形成する
    ことを特徴とする直列接続による薄膜ソーラーモジュールの製造方法。
  14. 請求項12又は13記載の薄膜ソーラーモジュールの製造及び直列接続方法を、例えば、アモルファスもしくはマイクロアモルファスもしくは多結晶のケイ素、又は、カドミウムテルル化物(CdTe)、又は、ガリウムヒ化物(GaAs)、又は、黄銅鉱ベースの半導体、又は、黄錫亜鉛鉱ベースの半導体、又は、有機半導体から成る薄膜ソーラーモジュールの製造に用いる使用。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9935214B2 (en) 2015-10-12 2018-04-03 International Business Machines Corporation Liftoff process for exfoliation of thin film photovoltaic devices and back contact formation
EP3196012A1 (en) * 2016-01-20 2017-07-26 AGC Glass Europe Organic photovoltaic assembly and process of manufacture
DE102016116192B3 (de) 2016-08-31 2017-11-23 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Photovoltaikmodul mit integriert serienverschalteten Stapel-Solarzellen und Verfahren zu seiner Herstellung
CN206697508U (zh) * 2017-05-19 2017-12-01 米亚索能光伏科技有限公司 薄膜电池光伏组件
DE102017122530B4 (de) * 2017-09-28 2023-02-23 Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung Photovoltaikmodul mit auf der Rückseite ineinandergreifenden Kontakten
KR102413995B1 (ko) * 2017-09-29 2022-06-29 씨엔비엠 리서치 인스티튜트 포 어드밴스드 글래스 머터리얼즈 그룹 컴퍼니 리미티드 반투명 박막 태양광 모듈
US11515440B2 (en) * 2017-09-29 2022-11-29 Cnbm Research Institute For Advanced Glass Materials Group Co., Ltd. Semitransparent thin-film solar module
EP3573110A1 (de) * 2018-05-25 2019-11-27 (CNBM) Bengbu Design & Research Institute for Glass Industry Co., Ltd. Solarmodul mit vergrösserter aperturfläche
CN110311014B (zh) * 2019-07-08 2020-11-24 绵阳金能移动能源有限公司 一种降低柔性铜铟镓硒太阳电池串联电阻的方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2024662A1 (en) * 1989-09-08 1991-03-09 Robert Oswald Monolithic series and parallel connected photovoltaic module
JP3172369B2 (ja) * 1994-08-08 2001-06-04 三洋電機株式会社 集積型光起電力装置
EP1320892A2 (en) * 2000-07-06 2003-06-25 BP Corporation North America Inc. Partially transparent photovoltaic modules
JP4064340B2 (ja) * 2003-12-25 2008-03-19 昭和シェル石油株式会社 集積型薄膜太陽電池の製造方法
JP4681352B2 (ja) * 2005-05-24 2011-05-11 本田技研工業株式会社 カルコパイライト型太陽電池
JP4703350B2 (ja) * 2005-10-13 2011-06-15 本田技研工業株式会社 太陽電池の製造方法
JP2007201304A (ja) * 2006-01-30 2007-08-09 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP4925724B2 (ja) * 2006-05-25 2012-05-09 本田技研工業株式会社 太陽電池およびその製造方法
TWI330891B (en) * 2006-12-29 2010-09-21 Ind Tech Res Inst Thin film solar cell module of see-through type
DE102008060404A1 (de) * 2008-07-30 2010-02-11 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Einseitig kontaktiertes Dünnschicht-Solarmodul mit einer inneren Kontaktschicht
TWI371110B (en) * 2008-09-16 2012-08-21 Nexpower Technology Corp Translucent solar cell and manufacturing method thereof
JP2010140935A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Sanyo Electric Co Ltd 光起電力装置及びその製造方法
KR101063694B1 (ko) * 2009-06-12 2011-09-07 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
DE102009031592A1 (de) * 2009-07-03 2011-01-13 Forschungszentrum Jülich GmbH Verfahren zur Herstellung und Serienverschaltung von streifenförmigen Elementen auf einem Substrat
DE112010004478T5 (de) * 2009-11-17 2012-10-11 Mitsubishi Electric Corporation Dünnschichtsolarzelle und Verfahren zu deren Herstellung

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