JP5879817B2 - Novel reactive compound, charge transport film and photoelectric conversion device - Google Patents

Novel reactive compound, charge transport film and photoelectric conversion device Download PDF

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本発明は、新規な反応性化合物、電荷輸送性膜及び光電変換装置に関するものである。   The present invention relates to a novel reactive compound, a charge transporting film, and a photoelectric conversion device.

電荷輸送性を有する硬化膜は、種々の分野、例えば、電子写真感光体、有機電界発光(エレクトロルミネッセンス)素子、メモリー素子、波長変換素子等の光電変換装置で利用されている。   The cured film having charge transportability is used in various fields, for example, photoelectric conversion devices such as electrophotographic photosensitive members, organic electroluminescence (electroluminescence) elements, memory elements, and wavelength conversion elements.

例えば、電子写真方式の画像形成装置は、電子写真感光体の表面を帯電装置で定められた極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させる。次いで、現像装置で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で記録媒体に転写させることにより、画像形成物として排出する。   For example, in an electrophotographic image forming apparatus, the surface of the electrophotographic photosensitive member is charged to the polarity and potential determined by the charging device, and the surface of the electrophotographic photosensitive member after charging is selectively neutralized by image exposure. To form an electrostatic latent image. Next, the latent image is developed as a toner image by attaching toner to the electrostatic latent image by a developing device, and the toner image is transferred to a recording medium by a transfer unit, and discharged as an image formed product.

電子写真感光体としては、強度を向上させる観点から、表面に保護層を設けることが提案されている。保護層を形成する材料系としては、例えば、導電粉をフェノール樹脂に分散したもの(例えば特許文献1参照)、有機−無機ハイブリッド材料によるもの(例えば特許文献2参照)、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるもの(例えば特許文献3参照)等が開示されている。また、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸又は電子受容性ポリカルボン酸無水物との硬化膜(例えば特許文献4参照)、ベンゾグアナミン樹脂にヨウ素、有機スルホン酸化合物又は塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜(例えば特許文献5参照)、特定の添加剤と、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂又はウレタン樹脂との硬化膜(例えば特許文献6参照)等が開示されている。   As an electrophotographic photoreceptor, it has been proposed to provide a protective layer on the surface from the viewpoint of improving strength. Examples of the material system for forming the protective layer include a material in which conductive powder is dispersed in a phenol resin (for example, see Patent Document 1), an organic-inorganic hybrid material (for example, see Patent Document 2), an alcohol-soluble charge transport material, and the like. The thing by a phenol resin (for example, refer patent document 3) etc. are disclosed. Further, a cured film of an alkyl etherified benzoguanamine / formaldehyde resin and an electron-accepting carboxylic acid or an electron-accepting polycarboxylic acid anhydride (see, for example, Patent Document 4), iodine, an organic sulfonic acid compound, or a second chloride is added to the benzoguanamine resin. A cured film doped with iron or the like (see, for example, Patent Document 5), a cured film of a specific additive and a phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, siloxane resin, or urethane resin (for example, see Patent Document 6) is disclosed. ing.

また、近年ではアクリル系材料による保護層が注目されている。例えば、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜(例えば特許文献7参照)、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材及び結着樹脂の混合物を熱又は光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜(例えば特許文献8参照)が開示されている。   In recent years, a protective layer made of an acrylic material has attracted attention. For example, a film obtained by applying and curing a liquid containing a photocurable acrylic monomer (see, for example, Patent Document 7), a monomer having a carbon-carbon double bond, a charge transfer material having a carbon-carbon double bond, and a binder Disclosed is a film formed by reacting a resin mixture with a carbon-carbon double bond of the monomer and a carbon-carbon double bond of the charge transfer material by heat or light energy (see, for example, Patent Document 8). Has been.

さらに、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が開示されている(例えば特許文献9参照)。また、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の重合物を保護層に使用する技術が開示されている(例えば特許文献10参照)。
これらアクリル系材料は、硬化条件、硬化雰囲気等の影響を強く受け、例えば真空中又は不活性ガス中で放射線照射後に加熱されることによって形成された膜(例えば特許文献11参照)や、不活性ガス中で加熱硬化された膜(例えば特許文献12参照)が開示されている。
また、連鎖重合性基としてスチレン骨格がエーテル基で連結されている電荷輸送性化合物の架橋体が開示されている(特許文献13、特許文献14)。
Furthermore, a film made of a compound obtained by polymerizing a hole transporting compound having two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule is disclosed (for example, see Patent Document 9). In addition, a technique of using a polymer of a charge transport material having a chain polymerizable functional group for a protective layer is disclosed (for example, see Patent Document 10).
These acrylic materials are strongly affected by curing conditions, curing atmospheres, and the like, and are formed, for example, by a film formed by heating after irradiation with radiation in a vacuum or an inert gas (see, for example, Patent Document 11) or inert. A film (for example, see Patent Document 12) cured by heating in a gas is disclosed.
In addition, a cross-linked product of a charge transporting compound in which a styrene skeleton is linked with an ether group as a chain polymerizable group is disclosed (Patent Documents 13 and 14).

特許第3287678号公報Japanese Patent No. 3287678 特開2000−019749号公報JP 2000-019749 A 特開2002−82469号公報JP 2002-82469 A 特開昭62−251757号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-251757 特開平7−146564号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-146564 特開2006−84711号公報JP 2006-84711 A 特開平5−40360号公報JP-A-5-40360 特開平5−216249号公報JP-A-5-216249 特開2000−206715号公報JP 2000-206715 A 特開2001−175016号公報JP 2001-175016 A 特開2004−12986号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-12986 特開平7−72640号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-72640 特許第2546739号公報Japanese Patent No. 2546739 特許第2852464号公報Japanese Patent No. 2852464

本発明の課題は、繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる新規な化合物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a novel compound capable of obtaining a charge transporting film in which variation in mobility is suppressed even when used repeatedly.

上記目的は、以下の手段により達成される。   The above object is achieved by the following means.

請求項1の発明は、下記一般式(II)で示される反応性化合物。

(一般式(II)中、Ar 乃至Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dは下記一般式(III)で示される基である。c1乃至c5はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、c1乃至c5の合計は2以上8以下の整数である。kは0又は1である。

(一般式(III)中、Lは、−C(=O)−O−と−(CH )n−を組み合わせて形成される2価の連結基(ただし、nは1以上10以下の整数)を示す。)
The invention of claim 1 is a reactive compound represented by the following general formula ( II ).

(In the general formula ( II ), Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. . D is below in formula (III) a group represented .c1 to c5 represents a 2 an integer 0 or more, respectively, the sum of c1 to c5 is 2 to 8 integer .k is 0 or 1 in is.)

(In General Formula (III), L is a divalent linking group formed by combining —C (═O) —O— and — (CH 2 ) n— (where n is an integer of 1 or more and 10 or less). )

請求項の発明は、前記一般式(III)で示される基が、下記一般式(IV)で示される基である請求項1に記載の反応性化合物。

(一般式(IV)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
The invention according to claim 2 is the reactive compound according to claim 1, wherein the group represented by the general formula (III) is a group represented by the following general formula (IV).

(In general formula (IV), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)

請求項の発明は、前記一般式(IV)で示される基が、下記一般式(V)で示される基である請求項に記載の反応性化合物。

(一般式(V)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
The invention according to claim 3 is the reactive compound according to claim 2 , wherein the group represented by the general formula (IV) is a group represented by the following general formula (V).

(In general formula (V), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)

請求項の発明は、前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、2以上6以下の整数である請求項1〜請求項のいずれか一項に記載の反応性化合物。 Invention of Claim 4 is a reactive compound as described in any one of Claims 1-3 whose sum total of c1 thru | or c5 in the said general formula (II) is an integer of 2-6.

請求項の発明は、前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、3以上6以下の整数である請求項に記載の反応性化合物。 The invention according to claim 5 is the reactive compound according to claim 4 , wherein the total of c1 to c5 in the general formula (II) is an integer of 3 or more and 6 or less.

請求項の発明は、前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、4以上6以下の整数である請求項に記載の反応性化合物。
請求項7の発明は、下記一般式(II)で示される反応性化合物。

(一般式(II)中、Ar 乃至Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dは下記一般式(IV)で示される基である。c1乃至c5はそれぞれ0又は1を示し、c1乃至c5の合計は1である。kは0又は1である。)

(一般式(IV)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
請求項8の発明は、前記一般式(IV)で示される基が、下記一般式(V)で示される基である請求項7に記載の反応性化合物。

(一般式(V)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
The invention according to claim 6 is the reactive compound according to claim 5 , wherein the total of c1 to c5 in the general formula (II) is an integer of 4 or more and 6 or less.
The invention according to claim 7 is a reactive compound represented by the following general formula (II).

(In the general formula (II), Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. D is a group represented by the following general formula (IV), c1 to c5 each represents 0 or 1, and the sum of c1 to c5 is 1. k is 0 or 1.)

(In general formula (IV), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)
The invention according to claim 8 is the reactive compound according to claim 7, wherein the group represented by the general formula (IV) is a group represented by the following general formula (V).

(In general formula (V), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)

請求項9の発明は、請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の反応性化合物又は該反応性化合物に由来する構造を含む電荷輸送性膜。   The invention according to claim 9 is a charge transport film comprising the reactive compound according to any one of claims 1 to 8 or a structure derived from the reactive compound.

請求項10の発明は、請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の反応性化合物を含有する組成物の重合あるいは硬化膜からなる電荷輸送性膜。   The invention according to claim 10 is a charge transport film comprising a polymerized or cured film of a composition containing the reactive compound according to any one of claims 1 to 8.

請求項11の発明は、請求項9又は請求項10に記載の電荷輸送性膜を有する光電変換装置。   An eleventh aspect of the invention is a photoelectric conversion device having the charge transporting film according to the ninth or tenth aspect.

請求項1、7の発明によれば、前記一般式(II)で示される化合物でない場合に比べ、繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる反応性化合物が提供される。
請求項の発明によれば、前記一般式(III)で示される基が、前記一般式(IV)で示される基でない場合に比べ、繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる反応性化合物が提供される。
請求項3、8の発明によれば、前記一般式(IV)で示される基が、前記一般式(V)で示される基でない場合に比べ、繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる反応性化合物が提供される。
請求項4、5、6の発明によれば、前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が上記範囲内でない場合に比べ、繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる反応性化合物が提供される。
According to the first and seventh aspects of the present invention, a reactive compound can be obtained in which a charge transporting film can be obtained in which fluctuations in mobility are suppressed even when it is used repeatedly as compared with the case where the compound is not represented by the general formula (II). Is provided.
According to the invention of claim 2 , mobility variation is suppressed even when the group represented by the general formula (III) is not a group represented by the general formula (IV) repeatedly. Reactive compounds that provide charge transport membranes are provided.
According to the third and eighth aspects of the present invention, fluctuation in mobility is suppressed even when the group represented by the general formula (IV) is not a group represented by the general formula (V) repeatedly. There is provided a reactive compound from which a charge transporting membrane is obtained.
According to the inventions of claims 4 , 5 and 6 , compared to the case where the sum of c1 to c5 in the general formula (II) is not within the above range, the charge whose mobility is suppressed even when used repeatedly. Reactive compounds that provide transportable membranes are provided.

実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an electrophotographic photosensitive member according to an embodiment. 化合物I−7のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound 1-7. 化合物I−15のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-15. 化合物I−17のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-17. 化合物I−23のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-23. 化合物I−25のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-25. 化合物I−27のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-27. 化合物I−30のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-30. 化合物I−43のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound 1-43. 化合物I−46のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-46. 化合物I−53のIRスペクトルである。It is IR spectrum of compound I-53.

以下、添付した図面を適宜参照しながら、本発明について説明する。   The present invention will be described below with reference to the accompanying drawings as appropriate.

〔反応性化合物〕
本実施形態に係る新規な反応性化合物は、下記一般式(I)で示される反応性化合物である。
[Reactive compound]
The novel reactive compound according to this embodiment is a reactive compound represented by the following general formula (I).

一般式(I)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、Dは下記一般式(III)で示される基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。   In general formula (I), F represents a charge transporting skeleton, and D represents a group represented by the following general formula (III). m represents an integer of 1 or more and 8 or less.

一般式(III)中、Lは、−C(=O)−O−基を1つ以上含む2価の連結基を示す。   In general formula (III), L represents a divalent linking group containing one or more —C (═O) —O— groups.

本実施形態に係る反応性化合物は、連鎖重合性基としてベンゼン環にビニル基(−CH=CH)が直結した構造を有するスチレン骨格を有し、電荷輸送剤の主骨格であるアリール基と相溶性が良く、これを用いた硬化膜は、膜収縮や硬化による電荷輸送構造、連鎖重合性基周辺構造の凝集が抑制されることで、繰り返し使用によっても移動度の変動が抑制されると考えられる。さらに本実施形態の反応性化合物においては、前記電荷輸送性骨格と前記スチレン骨格を、−C(=O)−O−基を含む連結基を介して連結することにより、該エステル基と前記電荷輸送性骨格中の窒素原子との間や、前記エステル基同士の相互作用などにより、硬化膜の強度がさらに向上すると考えられる。 The reactive compound according to the present embodiment has a styrene skeleton having a structure in which a vinyl group (—CH═CH 2 ) is directly connected to a benzene ring as a chain polymerizable group, and an aryl group that is a main skeleton of a charge transport agent; It has good compatibility, and cured films using it can suppress fluctuations in mobility even after repeated use by suppressing aggregation of charge transport structures due to film shrinkage and curing and chain polymerizable group peripheral structures. Conceivable. Furthermore, in the reactive compound of the present embodiment, the charge transporting skeleton and the styrene skeleton are linked via a linking group containing a —C (═O) —O— group, whereby the ester group and the charge are It is considered that the strength of the cured film is further improved by the interaction with the nitrogen atom in the transporting skeleton or the interaction between the ester groups.

本実施形態の反応性化合物は、電荷輸送性に優れる観点から、下記一般式(II)で示される化合物であることが望ましい。
The reactive compound of this embodiment is preferably a compound represented by the following general formula (II) from the viewpoint of excellent charge transportability.

一般式(II)中、Ar乃至Arは、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arは置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dは前記一般式(I)中のDと同義である。c1乃至c5はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、c1乃至c5の合計は1以上8以下の整数である。kは0又は1である。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group. D has the same meaning as D in formula (I). c1 to c5 each represents an integer of 0 to 2, and the sum of c1 to c5 is an integer of 1 to 8. k is 0 or 1.

また、前記一般式(III)中のLが、−C(=O)−O−と−(CH−を組み合わせて形成される2価の連結基(ただし、nは1以上10以下の整数)であることが望ましい。
前記一般式(III)で示される基は、具体的には、下記一般式(IV)で示される基であることが望ましく、下記一般式(V)で示される基であることがより望ましい。
In addition, L in the general formula (III) is a divalent linking group formed by combining —C (═O) —O— and — (CH 2 ) n — (wherein n is 1 or more and 10 or less. Is an integer).
Specifically, the group represented by the general formula (III) is desirably a group represented by the following general formula (IV), and more desirably a group represented by the following general formula (V).

一般式(IV)中、pは0以上4以下の整数を示す。   In general formula (IV), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.

一般式(V)中、pは0以上4以下の整数を示す。   In general formula (V), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.

また、前記一般式(I)中のm、または前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、2以上6以下の整数であることが望ましく、3以上6以下の整数であることがより望ましく、4以上6以下の整数であることが特に望ましい。   Further, m in the general formula (I) or the sum of c1 to c5 in the general formula (II) is preferably an integer of 2 or more and 6 or less, and an integer of 3 or more and 6 or less. More desirably, it is an integer of 4 or more and 6 or less.

[電子写真感光体]
以下、本実施形態に係る反応性化合物が適用される具体例として、電子写真感光体について説明する。
[Electrophotographic photoreceptor]
Hereinafter, an electrophotographic photoreceptor will be described as a specific example to which the reactive compound according to the present embodiment is applied.

電子写真感光体の表面を硬化膜とすることで、繰り返し使用による感光体の機械強度は向上するものの、画質そのものや繰り返し使用による画質の安定性に関しては十分ではない。その要因は明らかになっていないが、硬化することにより、電荷輸送性を担う化学構造の分子間距離やコンホメーションが、硬化前の状態から変化することや、硬化することで連鎖重合性基周辺の化学構造と電荷輸送性を担う化学構造がそれぞれ凝集し、硬化前の膜状態が変化することなどが要因として考えられる。また、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質に加え、さらに結着樹脂を含む膜を硬化させる場合は、硬化することで電荷輸送物質の構造と結着樹脂の相溶性が低下することなども要因として考えられる。
このように、電子写真感光体の長寿命化を目指した、機械的強度と画質の両立は重要でる。
By making the surface of the electrophotographic photosensitive member a cured film, the mechanical strength of the photosensitive member by repeated use is improved, but the image quality itself and the stability of the image quality by repeated use are not sufficient. The cause is not clear, but by curing, the intermolecular distance and conformation of the chemical structure responsible for charge transport properties change from the state before curing, or by curing, the chain polymerizable group It is considered that the peripheral chemical structure and the chemical structure responsible for charge transporting are aggregated to change the film state before curing. Moreover, in addition to the charge transporting material having a chain polymerizable functional group, when the film containing the binder resin is cured, the structure of the charge transporting material and the compatibility of the binder resin are reduced by curing. It is considered as a factor.
Thus, it is important to achieve both mechanical strength and image quality with the aim of extending the life of the electrophotographic photosensitive member.

本実施形態に係る電子写真感光体(以下単に「感光体」と称すことがある)は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、最表面層として、前記一般式(I)で示される化合物、すなわち、同一分子内に1つ以上の電荷輸送性骨格と、電荷輸送性骨格と共役していない1つ以上のスチレン骨格とが連結された構造を有し、かつ、該電荷輸送性骨格と該スチレン骨格を連結する連結基中に、−C(=O)−O−基(即ち、エステル基)を含む電荷輸送性を有する化合物(適宜「電荷輸送材料(A)」と記す)を含有する組成物の重合あるいは硬化膜からなる層(Oc)を備えている。
上記実施形態により、繰り返し使用してもキズが発生しにくく、かつ画質劣化が少なく、さらにディレッション発生の少ない電子写真感光体が提供される。
The electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment (hereinafter may be simply referred to as “photoreceptor”) includes at least a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and is an outermost surface layer. As described above, the compound represented by the general formula (I), that is, a structure in which one or more charge transporting skeletons and one or more styrene skeletons not conjugated to the charge transporting skeleton are linked in the same molecule. And a compound having a charge transporting property containing a —C (═O) —O— group (that is, an ester group) in a linking group for linking the charge transporting skeleton and the styrene skeleton (as appropriate “ A layer (Oc) made of a polymerized or cured film of a composition containing the charge transporting material (A) ”.
According to the above-described embodiment, an electrophotographic photosensitive member is provided that is less likely to be scratched even when used repeatedly, has little image quality degradation, and has less occurrence of depletion.

本実施形態の感光体が効果を発現する要因は明らかになっていないが、繰り返し使用による画質劣化が少ない要因としては、以下のように推定される。最表面を重合あるいは硬化膜とした感光体は、重合あるいは硬化に伴う膜収縮や、電荷輸送構造と連鎖重合性基周辺の構造の凝集が起きると考えられる。よって、繰り返し使用で感光体表面が機械的ストレスを受けると、膜自体が摩耗したり、分子中の化学構造が切断されたりして、上記の膜収縮や凝集状態が大きく変化し、感光体としての電気特性が変化し、画質劣化を引き起こしてしまう。
一方、本実施形態においては、連鎖重合性基としてスチレン骨格を用いており、電荷輸送剤の主骨格であるアリール基と相溶性が良く、膜収縮や硬化による電荷輸送構造、連鎖重合性基周辺構造の凝集が抑制されて、繰り返し使用による画質劣化が抑制されると考えられる。
Although the cause of the effect of the photoconductor of the present embodiment has not been clarified, the cause of little deterioration in image quality due to repeated use is estimated as follows. It is considered that a photoreceptor having a polymerized or cured film as the outermost surface causes film shrinkage due to polymerization or curing, and aggregation of the structure around the charge transport structure and the chain polymerizable group. Therefore, if the surface of the photoreceptor is subjected to mechanical stress by repeated use, the film itself is worn out or the chemical structure in the molecule is cut, and the above-mentioned film contraction and aggregation state change greatly, and as a photoreceptor The electrical characteristics of the image will change, causing image quality degradation.
On the other hand, in this embodiment, a styrene skeleton is used as the chain polymerizable group, and is compatible with the aryl group that is the main skeleton of the charge transport agent, and the charge transport structure due to film shrinkage and curing, around the chain polymerizable group It is considered that the aggregation of the structure is suppressed and the image quality deterioration due to repeated use is suppressed.

さらに本実施形態においては、前記電荷輸送性骨格と前記スチレン骨格を、−C(=O)−O−基を含む連結基を介して連結することにより、該エステル基と前記電荷輸送性骨格中の窒素原子との間や、前記エステル基同士の相互作用などにより、重合あるいは硬化膜中の強度がさらに向上すると考えられる。
なお、前記連結基に含まれるエステル基は、その極性や親水性に起因し、電荷輸送性や高湿条件下における画質劣化を引き起こす要因となり得るが、本実施形態においては、連鎖重合性基として(メタ)アクリルなどよりも疎水性の高いスチレン骨格を用いているため、上述のような電荷輸送性悪化やディレッションなどの画質劣化が抑制される。
Furthermore, in this embodiment, the charge transporting skeleton and the styrene skeleton are linked via a linking group containing a —C (═O) —O— group, so that the ester group and the charge transporting skeleton are contained in the charge transporting skeleton. It is considered that the strength in the polymerized or cured film is further improved by the interaction between the nitrogen atoms and the ester groups.
The ester group contained in the linking group is attributed to its polarity and hydrophilicity, and may cause deterioration in image quality under charge transportability and high humidity conditions, but in this embodiment, as a chain polymerizable group. Since a styrene skeleton having a higher hydrophobicity than (meth) acryl or the like is used, image quality deterioration such as the above-described deterioration of charge transportability and depression is suppressed.

本実施形態に係る感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、最表面層として、前記一般式(I)で示される反応性化合物である電荷輸送材料(A)を含有する組成物の重合あるいは硬化膜からなる層(Oc)を備えていれば、その層構成等に特に限定はない。
本実施形態に係る感光層は電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層であってもよいし、電荷輸送層と電荷発生層とを含む機能分離型の感光層であってもよい。さらには、下引層等のその他の層を設けてもよい。
The photoreceptor according to the exemplary embodiment includes at least a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and the outermost surface layer is a reactive compound represented by the general formula (I). As long as a layer (Oc) composed of a polymerized or cured film of a composition containing a certain charge transporting material (A) is provided, the layer structure and the like are not particularly limited.
The photosensitive layer according to the present embodiment may be a function-integrated type photosensitive layer having both charge transport capability and charge generation capability, or a function-separated type photosensitive layer including a charge transport layer and a charge generation layer. Also good. Furthermore, other layers such as an undercoat layer may be provided.

以下、本実施形態に係る感光体の構成について、図1乃至図3を参照して説明するが、本実施形態は図1乃至図3によって限定されることはない。
図1は、本実施形態に係る感光体の層構成の一例を示す概略図である。図1に示す感光体は、基体1上に、下引き層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B−1、電荷輸送層2B−2がこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2A、電荷輸送層2B−1,2B−2の3層から構成される(第1の態様)。図1に示す感光体においては、電荷輸送層2B−2が、前記一般式(I)で示される反応性化合物を含む本実施形態の層(Oc)に相当する。以下、この第1の態様における本実施形態の層を、本実施形態の層(Oc1)と称する。なお、最表面層となる電荷輸送層2B−2は電荷輸送層2B−1を保護する保護層としても機能する。
Hereinafter, the configuration of the photoreceptor according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3, but the present embodiment is not limited to FIGS. 1 to 3.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the layer structure of the photoreceptor according to the present embodiment. The photoreceptor shown in FIG. 1 has a layer structure in which an undercoat layer 4, a charge generation layer 2A, a charge transport layer 2B-1, and a charge transport layer 2B-2 are laminated on a substrate 1 in this order. 2 is composed of three layers, a charge generation layer 2A and charge transport layers 2B-1 and 2B-2 (first embodiment). In the photoreceptor shown in FIG. 1, the charge transport layer 2B-2 corresponds to the layer (Oc) of this embodiment containing the reactive compound represented by the general formula (I). Hereinafter, the layer of the present embodiment in the first aspect is referred to as a layer (Oc1) of the present embodiment. The charge transport layer 2B-2 serving as the outermost surface layer also functions as a protective layer for protecting the charge transport layer 2B-1.

図2は、本実施形態に係る感光体における層構成の他の例を示す概略図である。図2に示す感光体は、基体1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2Bがこの順に積層された層構成を有し、感光層2は電荷発生層2A及び電荷輸送層2Bの2層から構成される(第2の態様)。図2に示す感光体においては電荷輸送層2Bが前記一般式(I)で示される反応性化合物を含む本実施形態の層(Oc)に相当する。以下、この第2の態様における本実施形態の層を、本実施形態の層(Oc2)と称する。   FIG. 2 is a schematic view showing another example of the layer structure of the photoreceptor according to this embodiment. 2 has a layer structure in which an undercoat layer 4, a charge generation layer 2A, and a charge transport layer 2B are laminated in this order on a substrate 1, and the photosensitive layer 2 includes the charge generation layer 2A and the charge transport layer. It is composed of two layers 2B (second embodiment). In the photoreceptor shown in FIG. 2, the charge transport layer 2B corresponds to the layer (Oc) of this embodiment containing the reactive compound represented by the general formula (I). Hereinafter, the layer of this embodiment in the second aspect is referred to as a layer (Oc2) of this embodiment.

図3は、本実施形態に係る感光体における層構成の他の例を示す概略図である。図3に示す感光体は、基体1上に、下引層4、感光層6がこの順に積層された層構成を有し、感光層6は、図2に示す電荷発生層2A及び電荷輸送層2Bの機能が一体となった層である(第3の態様)。図3に示す感光体においては機能一体型の感光層6が前記一般式(I)で示される反応性化合物を含む本実施形態の層(Oc)に相当し、以下、この第3の態様における本実施形態の層を、本実施形態の層(Oc3)と称する。   FIG. 3 is a schematic view showing another example of the layer structure of the photoreceptor according to this embodiment. 3 has a layer structure in which an undercoat layer 4 and a photosensitive layer 6 are laminated in this order on a substrate 1, and the photosensitive layer 6 includes a charge generation layer 2A and a charge transport layer shown in FIG. This is a layer in which the functions of 2B are integrated (third mode). In the photoreceptor shown in FIG. 3, the function-integrated photosensitive layer 6 corresponds to the layer (Oc) of this embodiment containing the reactive compound represented by the general formula (I). The layer of the present embodiment is referred to as a layer (Oc3) of the present embodiment.

以下、本実施形態に係る感光体の例として、上記第1乃至第3の態様のそれぞれについて説明する。   Hereinafter, each of the first to third aspects will be described as an example of the photoreceptor according to the present exemplary embodiment.

−導電性基体−
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜(例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)等の膜)を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体粒子は、例えば体積抵抗率が10Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。
-Conductive substrate-
Any conductive substrate may be used as long as it is conventionally used. For example, thin films (eg, metals such as aluminum, nickel, chromium, stainless steel, and films of aluminum, titanium, nickel, chromium, stainless steel, gold, vanadium, tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), etc.) And a plastic film coated or impregnated with a conductivity-imparting agent, a plastic film coated or impregnated with a conductivity-imparting agent, and the like. The shape of the substrate is not limited to a cylindrical shape, and may be a sheet shape or a plate shape.
The conductive base particles preferably have conductivity with a volume resistivity of less than 10 7 Ω · cm, for example.

導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め、鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。   When a metal pipe is used as the conductive substrate, the surface may be left as it is, and processing such as mirror cutting, etching, anodizing, rough cutting, centerless grinding, sand blasting, wet honing has been performed in advance. May be.

−下引き層−
下引き層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
-Undercoat layer-
The undercoat layer is provided as necessary for the purpose of preventing light reflection on the surface of the conductive substrate and preventing inflow of unnecessary carriers from the conductive substrate to the photosensitive layer.

下引き層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引き層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
The undercoat layer includes, for example, a binder resin and, if necessary, other additives.
As the binder resin contained in the undercoat layer, acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, Known polymer resin compounds such as polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin, and charge transporting group Examples thereof include charge transporting resins having a conductive resin such as polyaniline. Among these, resins that are insoluble in the upper coating solvent are preferably used, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferably used.

下引き層には、シリコン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。   The undercoat layer may contain a metal compound such as a silicon compound, an organic zirconium compound, an organic titanium compound, or an organic aluminum compound.

金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。   The ratio between the metal compound and the binder resin is not particularly limited, and is set within a range in which desired electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained.

下引き層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル(PMMA)樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引き層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。   In the undercoat layer, resin particles may be added to the undercoat layer in order to adjust the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate (PMMA) resin particles. The surface may be polished after forming the undercoat layer for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sandblasting, wet honing, grinding, or the like is used.

ここで、下引き層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が10Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。 Here, the constitution of the undercoat layer includes a constitution containing at least a binder resin and conductive particles. Note that the conductive particles preferably have conductivity with a volume resistivity of less than 10 7 Ω · cm, for example.

導電性粒子としては、例えば、金属粒子(アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子)、導電性金属酸化物粒子(酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子)、導電性物質粒子(カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子)等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、2種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤(例えばカップリング剤)等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
下引き層における導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが望ましく、より望ましくは40質量%以上80質量%以下である。
Examples of the conductive particles include metal particles (particles such as aluminum, copper, nickel, and silver), conductive metal oxide particles (particles such as antimony oxide, indium oxide, tin oxide, and zinc oxide), and conductive substance particles. (Carbon fiber, carbon black, particles of graphite powder) and the like. Among these, conductive metal oxide particles are preferable. You may mix and use 2 or more types of electroconductive particle.
In addition, the conductive particles may be subjected to a surface treatment with a hydrophobizing agent (for example, a coupling agent) or the like to adjust the resistance.
The content of the conductive particles in the undercoat layer is, for example, desirably from 10% by mass to 80% by mass, and more desirably from 40% by mass to 80% by mass with respect to the binder resin.

下引き層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引き層形成用塗布液が使用される。
また、下引き層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
In forming the undercoat layer, an undercoat layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is used.
In addition, as a method of dispersing particles in the coating solution for forming the undercoat layer, a media dispersing machine such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, a stirring, an ultrasonic dispersing machine, a roll mill, a high-pressure homogenizer, etc. Medialess dispersers are used. Here, examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high-pressure state. .

下引き層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the coating solution for forming the undercoat layer onto the conductive substrate include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, and curtain coating. It is done.

下引き層の膜厚は、15μm以上が望ましく、20μm以上50μm以下がより望ましい。   The thickness of the undercoat layer is preferably 15 μm or more, and more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.

ここで、図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。 中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム若しくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。   Here, although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer. As the binder resin used for the intermediate layer, acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl In addition to polymer resins such as acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, zirconium, titanium, aluminum, manganese, silicon atom, etc. An organometallic compound containing These compounds may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds. Among these, an organometallic compound containing zirconium or silicon is preferable in that it has a low residual potential, a small potential change due to the environment, and a small potential change due to repeated use.

中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   In forming the intermediate layer, a coating solution for forming an intermediate layer in which the above components are added to a solvent is used. As the coating method for forming the intermediate layer, usual methods such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, and a curtain coating method are used.

なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引き層として使用してもよい。   In addition to improving the coatability of the upper layer, the intermediate layer also serves as an electrical blocking layer, but if the film thickness is too large, the electrical barrier becomes too strong and the potential increases due to desensitization or repetition. May cause. Therefore, when forming the intermediate layer, it is preferable to set the film thickness within the range of 0.1 μm to 3 μm. In this case, the intermediate layer may be used as the undercoat layer.

−電荷発生層−
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±02゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。
-Charge generation layer-
The charge generation layer includes, for example, a charge generation material and a binder resin. Examples of such a charge generating material include phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, dichlorotin phthalocyanine, and titanyl phthalocyanine. Chlorogallium phthalocyanine crystal having strong diffraction peaks at 7.4 °, 16.6 °, 25.5 ° and 28.3 °, at least 7.7 Bragg angle (2θ ± 0.2 °) with respect to CuKα characteristic X-ray Metal-free phthalocyanine crystals having strong diffraction peaks at °, 9.3 °, 16.9 °, 17.5 °, 22.4 ° and 28.8 °, Bragg angle with respect to CuKα characteristic X-ray (2θ ± 0.2 °) at least 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, Hydroxygallium phthalocyanine crystal having strong diffraction peaks at 5.1 ° and 28.3 °, Bragg angle (2θ ± 0.2 °) to CuKα characteristic X-ray of at least 9.6 °, 24.1 ° and 27.2 A titanyl phthalocyanine crystal having a strong diffraction peak at 0 ° can be mentioned. In addition, examples of the charge generation material include quinone pigments, perylene pigments, indigo pigments, bisbenzimidazole pigments, anthrone pigments, quinacridone pigments, and the like. These charge generation materials may be used alone or in combination of two or more.

電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。
Examples of the binder resin constituting the charge generation layer include polycarbonate resin such as bisphenol A type or bisphenol Z type, acrylic resin, methacrylic resin, polyarylate resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene. Copolymer resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride Examples thereof include resins, silicone resins, phenol-formaldehyde resins, polyacrylamide resins, polyamide resins, poly-N-vinylcarbazole resins. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the charge generating material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10, for example.

電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。   When forming the charge generation layer, a coating solution for forming a charge generation layer in which the above components are added to a solvent is used.

電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。   As a method for dispersing particles (for example, charge generation material) in the coating solution for forming the charge generation layer, a media dispersion machine such as a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, an agitation, an ultrasonic dispersion machine, a roll mill, etc. Medialess dispersers such as high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high-pressure state.

電荷発生層形成用塗布液を下引き層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the charge generation layer forming coating liquid on the undercoat layer include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, and curtain coating. It is done.

電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。   The thickness of the charge generation layer is desirably set in the range of 0.01 μm to 5 μm, more desirably 0.05 μm to 2.0 μm.

−電荷輸送層2B−1(第1の態様の場合)−
電荷輸送層2B−1は第1の態様の場合であり、電荷輸送材料と、必要に応じて結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送材料としては、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
-Charge transport layer 2B-1 (in the case of the first embodiment)-
The charge transport layer 2B-1 is the case of the first embodiment, and is configured to include a charge transport material and, if necessary, a binder resin.
Examples of the charge transport material include oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,3,5-triphenyl-pyrazoline, 1- [ Pyrazoline derivatives such as pyridyl- (2)]-3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline, triphenylamine, N, N′-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl- Aromatic tertiary amino compounds such as 4-amine, tri (p-methylphenyl) aminyl-4-amine, dibenzylaniline, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-diphenylbenzidine Aromatic tertiary diamino compounds such as 3- (4'-dimethylaminophenyl) -5,6-di- (4'-methoxyphenyl) -1,2,4 1,2,4-triazine derivatives such as triazine, hydrazone derivatives such as 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline, 6-hydroxy-2,3- Benzofuran derivatives such as di (p-methoxyphenyl) benzofuran, α-stilbene derivatives such as p- (2,2-diphenylvinyl) -N, N-diphenylaniline, enamine derivatives, carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole, poly -Hole transport materials such as -N-vinylcarbazole and its derivatives, quinone compounds such as chloranil and broanthraquinone, tetraanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7 -Fluorenone such as tetranitro-9-fluorenone Examples thereof include an electron transport material such as a compound, a xanthone compound, and a thiophene compound, and a polymer having a group consisting of the above-described compounds in a main chain or a side chain. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more.

電荷輸送層2B−1を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
As the binder resin constituting the charge transport layer 2B-1, for example, polycarbonate resin such as bisphenol A type or bisphenol Z type, acrylic resin, methacrylic resin, polyarylate resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, Acrylonitrile-styrene copolymer resin, acrylonitrile-butadiene copolymer resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate -Insulating resins such as maleic anhydride resin, silicone resin, phenol-formaldehyde resin, polyacrylamide resin, polyamide resin, chlorine rubber, and polyvinylcarbazole, polyvinyl Anthracene, organic photoconductive polymers such as polyvinyl pyrene, and the like. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio between the charge transport material and the binder resin is preferably 10: 1 to 1: 5, for example.

電荷輸送層2B−1は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層2B−1形成用塗布液を用いて形成される。   The charge transport layer 2B-1 is formed using a coating liquid for forming the charge transport layer 2B-1 in which the above components are added to a solvent.

電荷輸送層2B−1形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
電荷輸送層2B−1の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上40μm以下の範囲に設定される。
As a method of applying the coating liquid for forming the charge transport layer 2B-1 on the charge generation layer, dip coating method, push-up coating method, wire bar coating method, spray coating method, blade coating method, knife coating method, curtain coating method Ordinary methods such as are used.
The film thickness of the charge transport layer 2B-1 is desirably set in the range of 5 μm or more and 50 μm or less, more desirably 10 μm or more and 40 μm or less.

−電荷輸送層2B−2(第1の態様における本実施形態の層(Oc1)に相当)−
本実施形態の層(Oc1)は、同一分子内に1つ以上の電荷輸送性骨格と1つ以上のスチレン骨格とが連結された構造を有し、かつ、該電荷輸送性骨格と該スチレン骨格を連結する連結基中に、−C(=O)−O−基を1つ以上含む電荷輸送材料(A)、を含有する組成物の重合あるいは硬化膜からなる層である。
-Charge transport layer 2B-2 (corresponding to the layer (Oc1) of the present embodiment in the first mode)-
The layer (Oc1) of the present embodiment has a structure in which one or more charge transporting skeletons and one or more styrene skeletons are linked in the same molecule, and the charge transporting skeletons and the styrene skeletons. Is a layer formed of a polymerized or cured film of a composition containing a charge transporting material (A) containing one or more —C (═O) —O— groups in a linking group for linking.

なお、本実施形態の電荷輸送材料(A)に含まれるスチレン骨格とは、ベンゼン環にビニル基(−CH=CH)が直結した構造であるが、前記ベンゼン環の水素原子の代わりに置換基を有してもよい。置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられるが、置換基は無い方が望ましい。 The styrene skeleton contained in the charge transport material (A) of the present embodiment has a structure in which a vinyl group (—CH═CH 2 ) is directly connected to a benzene ring, but is substituted instead of the hydrogen atom of the benzene ring. It may have a group. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and the like, but it is desirable that there is no substituent.

以下、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物について説明する。
本実施形態の電荷輸送材料(A)における電荷輸送性骨格としては、前記電荷輸送層2B−1に記載したものが挙げられる。電荷輸送性骨格としては、アリールアミン骨格を含むものが望ましく、中でもトリアリールアミン骨格を含むものがより望ましい。
Hereinafter, the composition for forming the charge transport layer 2B-2 will be described.
Examples of the charge transporting skeleton in the charge transport material (A) of the present embodiment include those described in the charge transport layer 2B-1. The charge transporting skeleton preferably includes an arylamine skeleton, and more preferably includes a triarylamine skeleton.

以下に、本実施形態の電荷輸送性材料(A)のより望ましい構造を一般式(II)で示す。   Hereinafter, a more desirable structure of the charge transporting material (A) of this embodiment is represented by the general formula (II).

一般式(II)中、Ar乃至Arは、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Arは置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは、前記一般式(III)で示される基である。一般式(III)において、Lは、−C(=O)−O−基を1つ以上含む2価の連結基を示す。
一般式(II)におけるc1乃至c5はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、互いに異なっていてもよい。ただし、式(II)中のc1乃至c5の合計は1以上8以下の整数である。kは0又は1である。
In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group, D is a group represented by the general formula (III). In General Formula (III), L represents a divalent linking group containing one or more —C (═O) —O— groups.
C1 to c5 in the general formula (II) each represents an integer of 0 or more and 2 or less, and may be different from each other. However, the sum total of c1 to c5 in the formula (II) is an integer of 1 to 8. k is 0 or 1.

一般式(I)におけるスチレン骨格の総数は、mに相当する。一般式(II)におけるスチレン骨格の総数は、c1+c2+k×(c3+c4)+c5の値に相当する。
一般式(I)及び(II)におけるスチレン骨格の総数の下限としては、より強度の高い架橋膜(硬化膜)を得る観点から、望ましくは2以上であり、より望ましくは3以上、更に望ましくは4以上である。また、一分子中の連鎖重合性基の数が多すぎると、重合(架橋)反応が進むにつれ、分子が動きにくくなり連鎖重合反応性が低下し、未反応の連鎖重合性基の割合が増えてしまうことから、一般式(II)におけるスチレン骨格の総数の上限としては、望ましくは7以下、更に望ましくは6以下である。
The total number of styrene skeletons in the general formula (I) corresponds to m. The total number of styrene skeletons in the general formula (II) corresponds to a value of c1 + c2 + k × (c3 + c4) + c5.
The lower limit of the total number of styrene skeletons in the general formulas (I) and (II) is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and still more preferably, from the viewpoint of obtaining a stronger crosslinked film (cured film). 4 or more. Also, if the number of chain polymerizable groups in one molecule is too large, as the polymerization (crosslinking) reaction proceeds, the molecules become difficult to move and the chain polymerization reactivity decreases, and the proportion of unreacted chain polymerizable groups increases. Therefore, the upper limit of the total number of styrene skeletons in the general formula (II) is preferably 7 or less, and more preferably 6 or less.

一般式(II)中のDは、前記一般式(III)で示される基であり、Lは、−C(=O)−O−基を1つ以上含む2価の連結基を示す。
一般式(II)中にDとして示される一般式(III)中のLとしては、前記エステル基を含む2価の連結基であれば特に限定されないが、例えば、前記エステル基と、飽和炭化水素(直鎖状、分岐状、環状いずれも含む)または芳香族炭化水素の残基と、酸素原子を任意に組み合わせて形成される2価の基が具体的に挙げられる。Lとしては、前記エステル基と、直鎖状の飽和炭化水素の残基を任意に組み合わせて形成されることが望ましい。
一般式(II)中のLに含まれる炭素原子の総数としては、分子中のスチレン骨格の密度と連鎖重合反応性の観点から、1以上20以下が望ましく、2以上10以下がより望ましい。
D in the general formula (II) is a group represented by the general formula (III), and L represents a divalent linking group containing one or more —C (═O) —O— groups.
L in the general formula (III) shown as D in the general formula (II) is not particularly limited as long as it is a divalent linking group containing the ester group. For example, the ester group and a saturated hydrocarbon Specific examples include a divalent group formed by arbitrarily combining a residue of an aromatic hydrocarbon (including any of linear, branched, and cyclic) and an oxygen atom. L is preferably formed by arbitrarily combining the ester group and a linear saturated hydrocarbon residue.
The total number of carbon atoms contained in L in the general formula (II) is preferably from 1 to 20 and more preferably from 2 to 10 from the viewpoints of the density of the styrene skeleton in the molecule and the chain polymerization reactivity.

一般式(II)中、Ar乃至Arは、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar乃至Arは、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。ここで、置換アリール基における置換基としては、D以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar 1 to Ar 4 may be the same or different. Here, as a substituent in the substituted aryl group, a substituent other than D is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. A phenyl group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a halogen atom, and the like.

Ar乃至Arとしては、下記構造式(1)乃至(7)のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記構造式(1)乃至(7)は、各Ar乃至Arに連結され得る「−(D)c」と共に示す。ここで、「−(D)c」は前記一般式(II)における「−(D)c1乃至(D)c4」と同義であり、望ましい例も同様である。 Ar 1 to Ar 4 are preferably any one of the following structural formulas (1) to (7). The following structural formulas (1) to (7) are shown together with “-(D) c” that can be connected to each of Ar 1 to Ar 4 . Here, “-(D) c” has the same meaning as “-(D) c1 to (D) c4” in the general formula (II), and the same applies to desirable examples.


上記構造式(1)中、R01は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表す。
上記構造式(2)及び(3)中、R02乃至R04は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表す。また、mは1以上3以下の整数を表す
上記構造式(7)中、Arは置換又は未置換のアリーレン基を表す。
ここで、式(7)中のArとしては、下記構造式(8)又は(9)で示されるものが望ましい。
In the structural formula (1), R 01 is a phenyl group substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. , An unsubstituted phenyl group, and one selected from the group consisting of an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms.
In the structural formulas (2) and (3), R 02 to R 04 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 or more carbon atoms. 1 type selected from the group consisting of a phenyl group substituted with 4 or less alkoxy groups, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. M represents an integer of 1 or more and 3 or less. In the structural formula (7), Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group.
Here, as Ar in Formula (7), what is shown by following Structural formula (8) or (9) is desirable.

上記構造式(8)及び(9)中、R05及びR06は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、qはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。 In the structural formulas (8) and (9), R 05 and R 06 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 or more carbon atoms. 1 represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with 4 or less alkoxy groups, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, and q is 1 to 3 Represents an integer.

また、前記構造式(7)中、Z’は2価の有機連結基を示すが、下記構造下記式(10)乃至(17)のうちのいずれかで示されるものが望ましい。また、pは0又は1を表す。   In the structural formula (7), Z ′ represents a divalent organic linking group, and is preferably represented by any one of the following structural formulas (10) to (17). P represents 0 or 1.

上記構造式(10)乃至(17)中、R07及びR08は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、r及びsはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。 In the structural formulas (10) to (17), R 07 and R 08 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 or more carbon atoms. 1 represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with 4 or less alkoxy groups, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, and W represents a divalent group. , R and s each independently represents an integer of 1 to 10, and t represents an integer of 1 to 3.

前記構造式(16)乃至(17)中のWとしては、下記(18)乃至(26)で示される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式(25)中、uは0以上3以下の整数を表す。   W in the structural formulas (16) to (17) is preferably any one of divalent groups represented by the following (18) to (26). However, in formula (25), u represents an integer of 0 or more and 3 or less.


また、一般式(II)中、Arは、kが0のときは置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ar乃至Arの説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Arは、kが1のときは置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ar乃至Arの説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。 In general formula (II), Ar 5 is a substituted or unsubstituted aryl group when k is 0, and this aryl group is the same as the aryl group exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4. Can be mentioned. Ar 5 is a substituted or unsubstituted arylene group when k is 1, and the arylene group includes a hydrogen atom at a target position from the aryl group exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4. An arylene group excluding one may be mentioned.

以下に、一般式(I)で示される化合物の具体例を示す。なお、一般式(I)で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are shown below. In addition, the compound shown by general formula (I) is not limited at all by these.

まず、一般式(I)におけるDの総数が1の場合の電荷輸送性骨格Fの具体例として、「(1)−1」から「(1)−25」を示すが、これらに限られるものではない。なお、各構造中の*の部分が、一般式(I)中のDと連結することを示す。   First, as specific examples of the charge transporting skeleton F in the case where the total number of D in the general formula (I) is 1, “(1) -1” to “(1) -25” are shown, but are not limited thereto. is not. In addition, the part of * in each structure shows connecting with D in general formula (I).



次に、一般式(I)におけるDの総数が2の場合の電荷輸送性骨格Fの具体例として、「(2)−1」から「(2)−29」を示すが、これらに限られるものではない。
なお、各構造中の*の部分が、一般式(I)中のDと連結することを示す。
Next, as specific examples of the charge transporting skeleton F in the case where the total number of D in the general formula (I) is 2, “(2) -1” to “(2) -29” are shown, but are not limited thereto. It is not a thing.
In addition, the part of * in each structure shows connecting with D in general formula (I).



次に、一般式(I)におけるDの総数が3の場合の電荷輸送性骨格Fの具体例として、「(3)−1」から「(3)−29」を示すが、これらに限られるものではない。
なお、各構造中の*の部分が、一般式(I)中のDと連結することを示す。
Next, specific examples of the charge transporting skeleton F in the case where the total number of D in the general formula (I) is 3 are “(3) -1” to “(3) -29”, but are not limited thereto. It is not a thing.
In addition, the part of * in each structure shows connecting with D in general formula (I).



次に、一般式(I)におけるDの総数が4以上の場合の電荷輸送性骨格Fの具体例として、「(4)−1」から「(4)−31」を示すが、これらに限られるものではない。なお、各構造中の*の部分が、一般式(I)中のDと連結することを示す。   Next, specific examples of the charge transporting skeleton F in the case where the total number of D in the general formula (I) is 4 or more include “(4) -1” to “(4) -31”. It is not something that can be done. In addition, the part of * in each structure shows connecting with D in general formula (I).

次に、一般式(I)または一般式(II)中のD、すなわち式(III)で示される基の具体例として「(III)−1」から「(III)−11」を示す。なお、各構造中の*の部分が、一般式(I)中の電荷輸送性骨格Fまたは一般式(II)中のAr乃至Arと連結することを示す。 Next, “(III) -1” to “(III) -11” are shown as specific examples of D in the general formula (I) or the general formula (II), that is, the group represented by the formula (III). In addition, it shows that the part of * in each structure connects with the charge transporting skeleton F in the general formula (I) or Ar 1 to Ar 5 in the general formula (II).


次に、一般式(I)で示される反応性化合物の具体例として以下に「(I)−1」から「(I)−60」を示すが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。なお、下表中のCTM骨格構造とは、一般式(I)中の電荷輸送性骨格Fに相当する。   Next, as specific examples of the reactive compound represented by the general formula (I), “(I) -1” to “(I) -60” are shown below, but this embodiment is not limited thereto. Absent. In addition, the CTM skeleton structure in the table below corresponds to the charge transporting skeleton F in the general formula (I).



次に、本実施形態の反応性化合物の合成経路を一例として以下に示す。   Next, the synthesis route of the reactive compound of this embodiment is shown below as an example.

電荷輸送層2B−2を形成するための組成物に、本実施形態の電荷輸送性材料(A)を2種以上用いてもよい。例えば、本実施形態の電荷輸送性材料(A)のうち、一分子中のスチレン骨格の総数が4以上である化合物と、一分子中のスチレン骨格の総数が1以上3以下である化合物とを併用すると、電荷輸送性能を低下させることなく、重合あるいは硬化膜の強度を調整しうる。その場合、本実施形態の電荷輸送性材料(A)の総含有量に対して、本実施形態の電荷輸送性材料(A)のうち、一分子中のスチレン骨格の総数が4以上である化合物が5質量%以上とすることが望ましく、20質量%以上とすることがより望ましい。   Two or more kinds of the charge transport material (A) of this embodiment may be used in the composition for forming the charge transport layer 2B-2. For example, in the charge transport material (A) of the present embodiment, a compound having a total number of styrene skeletons in one molecule of 4 or more and a compound having a total number of styrene skeletons in one molecule of 1 to 3 are included. When used in combination, the strength of the polymerized or cured film can be adjusted without reducing the charge transport performance. In that case, a compound in which the total number of styrene skeletons in one molecule is 4 or more in the charge transporting material (A) of the present embodiment with respect to the total content of the charge transporting material (A) of the present embodiment. Is preferably 5% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more.

本実施形態の電荷輸送性材料(A)の含有量は、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物の固形分全量に対して40質量%以上が望ましく、50質量%以上が望ましく、60質量%以上が更に望ましい。   The content of the charge transport material (A) of the present embodiment is preferably 40% by mass or more, preferably 50% by mass or more, based on the total solid content of the composition for forming the charge transport layer 2B-2. 60 mass% or more is more desirable.

次に、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物を構成する成分のうち、本実施形態の電荷輸送性材料(A)以外のものについて説明する。   Next, components other than the charge transport material (A) of the present embodiment among the components constituting the composition for forming the charge transport layer 2B-2 will be described.

電荷輸送層2B−2を形成するための組成物には、本実施形態の電荷輸送性材料(A)以外の連鎖重合性官能基を持つ電荷輸送剤(B)を含んでもよい。電荷輸送剤(B)の例としては、特開2000−206715号公報の段落[0060]乃至[0099]に記載の化合物、特開2011−70023号公報の段落[0066]及至[0080]に記載の化合物などが挙げられる。電荷輸送剤(B)の含有量は、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物の固形分全量に対して通常0質量%以上40質量%以下であり、0質量%以上30質量%以下が望ましく、0質量%以上20質量%以下が更に望ましい。   The composition for forming the charge transport layer 2B-2 may contain a charge transport agent (B) having a chain polymerizable functional group other than the charge transport material (A) of the present embodiment. Examples of the charge transfer agent (B) include compounds described in paragraphs [0060] to [0099] of JP-A-2000-206715, and paragraphs [0066] to [0080] of JP-A-2011-70023. And the like. The content of the charge transport agent (B) is usually 0% by mass or more and 40% by mass or less, and 0% by mass or more and 30% by mass with respect to the total solid content of the composition for forming the charge transport layer 2B-2. The following is desirable, and more preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less.

電荷輸送層2B−2を形成するための組成物には、前記電荷輸送層2B−1の説明で挙げた電荷輸送材料や結着樹脂を含んでもよい。その含有量はいずれも、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物の固形分全量に対して通常0質量%以上40質量%以下であり、0質量%以上30質量%以下が望ましく、0質量%以上20質量%以下が更に望ましい。   The composition for forming the charge transport layer 2B-2 may include the charge transport material and the binder resin mentioned in the description of the charge transport layer 2B-1. The content is usually 0% by mass or more and 40% by mass or less, and preferably 0% by mass or more and 30% by mass or less, based on the total solid content of the composition for forming the charge transport layer 2B-2. More preferably, the content is 0% by mass to 20% by mass.

電荷輸送層2B−2を形成するための組成物には、製膜性を確保する観点から、下記界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、例えば、(A)フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造、(B)炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造、(C)アルキレンオキサイド構造、(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造のうち1種以上の構造を分子内に含む界面活性剤である。
この界面活性剤は、分子内に、(A)乃至(D)の構造を1種以上含有していればよく、2種以上を含有していてもよい。
The composition for forming the charge transport layer 2B-2 may contain the following surfactant from the viewpoint of ensuring film forming properties.
Examples of the surfactant include (A) a structure formed by polymerizing an acrylic monomer having a fluorine atom, (B) a structure having a carbon-carbon double bond and a fluorine atom, (C) an alkylene oxide structure, and (D) carbon. -A surfactant containing in the molecule thereof one or more types of structures having a carbon triple bond and a hydroxyl group.
This surfactant needs to contain 1 or more types of the structure of (A) thru | or (D) in the molecule | numerator, and may contain 2 or more types.

以下、上記の(A)乃至(D)の構造と該構造を有する界面活性剤について説明する。   Hereinafter, the structures (A) to (D) and the surfactant having the structure will be described.

・(A)フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造
(A)フッ素原子を有するアクリルモノマーを重合してなる構造としては、特に制限されないが、フルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることが望ましく、パーフルオロアルキル基を有するアクリルモノマーを重合してなる構造であることがより望ましい。
(A) Structure formed by polymerizing an acrylic monomer having a fluorine atom (A) The structure formed by polymerizing an acrylic monomer having a fluorine atom is not particularly limited, but an acrylic monomer having a fluoroalkyl group is polymerized. The structure is preferably a structure obtained by polymerizing an acrylic monomer having a perfluoroalkyl group.

上記(A)の構造を有する界面活性剤としては、具体的には、ポリフローKL−600(共栄社化学社製)、エフトップEF−351、EF−352、EF−801、EF−802、EF−601(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。   Specific examples of the surfactant having the structure (A) include Polyflow KL-600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-top EF-351, EF-352, EF-801, EF-802, and EF- 601 (manufactured by JEMCO).

・(B)炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造
(B)炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を有する構造としては、特に制限されないが、下記構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方で示される基であることが望ましい。
(B) Structure having a carbon-carbon double bond and a fluorine atom (B) The structure having a carbon-carbon double bond and a fluorine atom is not particularly limited, but in the following structural formulas (B1) and (B2) It is desirable that the group be at least one of them.


(B)の構造を有する界面活性剤としては、アクリル重合体の側鎖に上記構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方で示される基を有する化合物、若しくは、下記構造式(B3)乃至(B5)のいずれかで示される化合物であることが望ましい。
(B)の構造を有する界面活性剤がアクリル重合体の側鎖に構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方を有する化合物である場合には、アクリル構造が組成物中の他の成分となじみやすい性質を有しているため、均一に近い最表面層を形成しうる。
また、(B)の構造を有する界面活性剤が、構造式(B3)乃至(B5)のいずれかで示される化合物である場合には、塗布の際のはじきを防止する傾向にあり、塗膜欠陥を抑制しうる。
As the surfactant having the structure (B), a compound having a group represented by at least one of the structural formulas (B1) and (B2) in the side chain of the acrylic polymer, or the following structural formulas (B3) to (B3) to The compound represented by any one of (B5) is desirable.
When the surfactant having the structure (B) is a compound having at least one of the structural formulas (B1) and (B2) in the side chain of the acrylic polymer, the acrylic structure and the other components in the composition Since it has the property of being easily adapted, an outermost surface layer that is nearly uniform can be formed.
In addition, when the surfactant having the structure (B) is a compound represented by any one of the structural formulas (B3) to (B5), it tends to prevent repelling during coating. Defects can be suppressed.


上記構造式(B3)乃至(B5)中、v及びwはそれぞれ独立に1以上の整数を示し、R’は水素原子又は1価の有機基を示し、Rfはそれぞれ独立に構造式(B1)又は(B2)で示される基を表す。
構造式(B3)乃至(B5)中、R’が表す1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上30以下のアルキル基、炭素数1以上30以下のヒドロキシアルキル基が挙げられる
In the structural formulas (B3) to (B5), v and w each independently represent an integer of 1 or more, R ′ represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and Rf each independently represents a structural formula (B1). Or represents the group shown by (B2).
In the structural formulas (B3) to (B5), examples of the monovalent organic group represented by R ′ include an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and a hydroxyalkyl group having 1 to 30 carbon atoms.

(B)の構造を有する界面活性剤の市販品としては以下のものが挙げられる。
例えば、構造式(B3)乃至(B5)のいずれかで示される化合物として、フタージェント100、100C、110、140A、150、150CH、A−K、501、250、251、222F、FTX−218、300、310、400SW、212M、245M、290M、FTX−207S、FTX−211S、FTX−220S、FTX−230S、FTX−209F、FTX−213F、FTX−222F、FTX−233F、FTX−245F、FTX−208G、FTX−218G、FTX−230G、FTX−240G、FTX−204D、FTX−280D、FTX−212D、FTX−216D、FTX−218D、FTX−220D、FTX−222D(ネオス株式会社製)等が挙げられる。
また、アクリル重合体の側鎖に構造式(B1)及び(B2)の少なくとも一方を有する化合物としては、KB−L82、KB−L85、KB−L97、KB−L109、KB−L110、KB−F2L、KB−F2M、KB−F2S、KB−F3M、KB−FaM(ネオス株式会社製)等が挙げられる。
The following are mentioned as a commercial item of surfactant which has the structure of (B).
For example, as a compound represented by any one of structural formulas (B3) to (B5), the following are possible: 100, 100C, 110, 140A, 150, 150CH, AK, 501, 250, 251, 222F, FTX-218, 300, 310, 400SW, 212M, 245M, 290M, FTX-207S, FTX-211S, FTX-220S, FTX-230S, FTX-209F, FTX-213F, FTX-222F, FTX-233F, FTX-245F, FTX- 208G, FTX-218G, FTX-230G, FTX-240G, FTX-204D, FTX-280D, FTX-212D, FTX-216D, FTX-218D, FTX-220D (manufactured by Neos Corporation), etc. It is done.
Moreover, as a compound which has at least one of Structural formula (B1) and (B2) in the side chain of an acrylic polymer, KB-L82, KB-L85, KB-L97, KB-L109, KB-L110, KB-F2L , KB-F2M, KB-F2S, KB-F3M, KB-FaM (manufactured by Neos Corporation) and the like.

・(C)アルキレンオキサイド構造
(C)アルキレンオキサイド構造としては、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイドを含む。具体的には、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどがあり、これらのアルキレンオキサイドの繰り返し数が2以上10000以下であるポリアルキレンオキサイドであってもよい。
(C)アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤としては、ポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
ポリエチレングリコールとしては、平均分子量が2000以下のものが望ましく、平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000(平均分子量2000)、ポリエチレングリコール600(平均分子量600)、ポリエチレングリコール400(平均分子量400)、ポリエチレングリコール200(平均分子量200)等が挙げられる。
また、PE−M、PE−L(以上、和光純薬工業社製)、消泡剤No.1、消泡剤No.5(以上、花王社製)等のポリエーテル消泡剤も好適な例として挙げられる。
-(C) alkylene oxide structure (C) As an alkylene oxide structure, an alkylene oxide and a polyalkylene oxide are included. Specific examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide, and the alkylene oxide may be a polyalkylene oxide having a repeating number of 2 to 10,000.
Examples of the surfactant (C) having an alkylene oxide structure include polyethylene glycol, polyether antifoaming agent, and polyether-modified silicone oil.
The polyethylene glycol preferably has an average molecular weight of 2000 or less, and the polyethylene glycol having an average molecular weight of 2000 or less includes polyethylene glycol 2000 (average molecular weight 2000), polyethylene glycol 600 (average molecular weight 600), polyethylene glycol 400 (average molecular weight). 400), polyethylene glycol 200 (average molecular weight 200), and the like.
In addition, PE-M, PE-L (above, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), antifoam No. 1. Antifoaming agent No. 1 Polyether antifoaming agents such as 5 (above, manufactured by Kao Corporation) are also suitable examples.

(C)アルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤としては、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドをフッ素原子を有する重合体の側鎖に有するものや、アルキレンオキサイド若しくはポリアルキレンオキサイドの末端がフッ素原子を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。
(C)アルキレンオキサイド構造の他に分子内にフッ素原子を含む界面活性剤として具体的には、例えば、メガファックF−443、F−444、F−445、F−446(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)、フタージェント250、251、222F(以上、ネオス社製)、POLY FOX PF636、PF6320、PF6520、PF656(以上、北村化学社製)などが挙げられる。
(C) As the surfactant containing a fluorine atom in the molecule in addition to the alkylene oxide structure, those having an alkylene oxide or polyalkylene oxide in the side chain of the polymer having a fluorine atom, and alkylene oxide or polyalkylene oxide Examples thereof include those in which the terminal is substituted with a substituent containing a fluorine atom.
(C) Specific examples of surfactants containing a fluorine atom in the molecule in addition to the alkylene oxide structure include, for example, Megafac F-443, F-444, F-445, F-446 (and above, Dainippon Ink, Inc.). Chemical Industry Co., Ltd.), Footgent 250, 251, 222F (above, manufactured by Neos), POLY FOX PF636, PF6320, PF6520, PF656 (above, made by Kitamura Chemical Co., Ltd.).

(C)アルキレンオキサイド構造の他に分子内にシリコーン構造を含む界面活性剤としては、具体的には、KF351(A)、KF352(A)、KF353(A)、KF354(A)、KF355(A)、KF615(A)、KF618、KF945(A)、KF6004(以上、信越化学工業社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453、TSF4460(以上、GE東芝シリコン社製)、BYK−300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377,378、UV3500、UV3510、UV3570等(以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製)が挙げられる。   (C) Specific examples of the surfactant containing a silicone structure in the molecule in addition to the alkylene oxide structure include KF351 (A), KF352 (A), KF353 (A), KF354 (A), KF355 (A ), KF615 (A), KF618, KF945 (A), KF6004 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4452, TSF4453, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicon Corporation), BYK- 300, 302, 306, 307, 310, 315, 320, 322, 323, 325, 330, 331, 333, 337, 341, 344, 345, 346, 347, 348, 370, 375, 377, 378, UV3500, UV3510, UV3570, etc. (above, Kkukemi Japan Co., Ltd.) and the like.

・(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造
(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造としては特に制限はなく、この構造を有する界面活性剤としては、以下に示す化合物が挙げられる。
(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、分子中に三重結合及び水酸基を有する化合物が挙げられ、具体的には、例えば、2−プロピン−1−オール、1−ブチン−3−オール、2−ブチン−1−オール、3−ブチン−1−オール、1−ペンチン−3−オール、2−ペンチン−1−オール、3−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−2−オール、1−ヘキシン−3−オール、2−ヘキシン−1−オール、3−ヘキシン−1−オール、5−ヘキシン−1−オール、5−ヘキシン−3−オール、1−ヘプチン−3−オール、2−ヘプチン−1−オール、3−ヘプチン−1−オール、4−ヘプチン−2−オール、5−ヘプチン−3−オール、1−オクチン−3−オール、1−オクチン−3−オール、3−オクチン−1−オール、3−ノニン−1−オール、2−デシン−1−オール、3−デシン−1−オール、10−ウンデシン−1−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンテン−4−イン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、5−メチル−1−ヘキシン−3−オール、3−エチル−1−ペンチン−3−オール、3−エチル−1−ヘプチン−3−オール、4−エチル−1−オクチン−3−オール、3,4−ジメチル−1−ペンチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3,6−ジメチル−1−ヘプチン−3−オール、2,2,8,8−テトラメチル−3,6−ノナジイン−5−オール、4,6−ノナデカジイン−1−オール、10,12−ペンタコサジイン−1−オール、2−ブチン−1,4−ジオール、3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、(+)−1,6−ビス(2−クロロフェニル)−1,6−ジフェニル−2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、(−)−1,6−ビス(2−クロロフェニル)−1,6−ジフェニル−2,4−ヘキサジイン−1,6−ジオール、2−ブチン−1,4−ジオール ビス(2−ヒロドキシエチル)、1,4−ジアセトキシ−2−ブチン、4−ジエチルアミノ−2−ブチン−1−オール、1,1−ジフェニル−2−プロピン−1−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、9−エチニル−9−フルオレノール、2,4−ヘキサジインジイル−1,6−ビス(4−フェニルアゾベンゼンスルフォネート)、2−ヒドロキシ−3−ブチン酸、2−ヒドロキシ−3−ブチン酸 エチルエステル、2−メチル−4−フェニル−3−ブチン−2−オール、メチル プロパラギル エーテル、5−フェニル−4−ペンチン−1−オール、1−フェニル−1−プロピン−3−オール、1−フェニル−2−プロピン−1−オール、4−トリメチルシリル−3−ブチン−2−オール、3−トリメチルシリル−2−プロピン−1−ol等が挙げられる。
また、上記の化合物の水酸基の一部又は全部にエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドが付加した化合物(例えば、サーフィノール400シリーズ(信越化学社製))等が挙げられる。
-(D) Structure having a carbon-carbon triple bond and a hydroxyl group (D) The structure having a carbon-carbon triple bond and a hydroxyl group is not particularly limited, and examples of the surfactant having this structure include the following compounds. It is done.
(D) Examples of the surfactant having a structure having a carbon-carbon triple bond and a hydroxyl group include compounds having a triple bond and a hydroxyl group in the molecule. Specifically, for example, 2-propyn-1-ol, 1-butyn-3-ol, 2-butyn-1-ol, 3-butyn-1-ol, 1-pentyn-3-ol, 2-pentyn-1-ol, 3-pentyn-1-ol, 4- Pentyn-1-ol, 4-pentyn-2-ol, 1-hexyn-3-ol, 2-hexyn-1-ol, 3-hexyn-1-ol, 5-hexyn-1-ol, 5-hexyne- 3-ol, 1-heptin-3-ol, 2-heptin-1-ol, 3-heptin-1-ol, 4-heptin-2-ol, 5-heptin-3-ol, 1-octin-3- All, 1-o Chin-3-ol, 3-octyn-1-ol, 3-nonin-1-ol, 2-decyn-1-ol, 3-decyn-1-ol, 10-undecin-1-ol, 3-methyl- 1-butyn-3-ol, 3-methyl-1-penten-4-in-3-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, 5-methyl-1-hexyn-3-ol, 3- Ethyl-1-pentyn-3-ol, 3-ethyl-1-heptin-3-ol, 4-ethyl-1-octin-3-ol, 3,4-dimethyl-1-pentyn-3-ol, 3, 5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 3,6-dimethyl-1-heptin-3-ol, 2,2,8,8-tetramethyl-3,6-nonadiin-5-ol, 4,6 -Nonadecadiin-1-ol, 10,12-pe Tacosadin-1-ol, 2-butyne-1,4-diol, 3-hexyne-2,5-diol, 2,4-hexadiyne-1,6-diol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2, 5-diol, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol, (+)-1,6-bis (2-Chlorophenyl) -1,6-diphenyl-2,4-hexadiyne-1,6-diol, (-)-1,6-bis (2-chlorophenyl) -1,6-diphenyl-2,4-hexadiyne -1,6-diol, 2-butyne-1,4-diol bis (2-hydroxyethyl), 1,4-diacetoxy-2-butyne, 4-diethylamino-2-butyn-1-ol, 1,1-diphenyl -2-propyne 1-ol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 9-ethynyl-9-fluorenol, 2,4-hexadiindiyl-1,6-bis (4-phenylazobenzenesulfonate), 2-hydroxy-3- Butynoic acid, 2-hydroxy-3-butynoic acid ethyl ester, 2-methyl-4-phenyl-3-butyn-2-ol, methyl propargyl ether, 5-phenyl-4-pentyn-1-ol, 1-phenyl- 1-propyn-3-ol, 1-phenyl-2-propyne-1-ol, 4-trimethylsilyl-3-butyn-2-ol, 3-trimethylsilyl-2-propyne-1-ol and the like can be mentioned.
Moreover, the compound (For example, Surfynol 400 series (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) etc.) which alkylene oxides, such as ethylene oxide, added to a part or all of the hydroxyl group of said compound are mentioned.

(D)炭素−炭素三重結合及び水酸基を有する構造を有する界面活性剤としては、下記一般式(D1)及び(D2)のいずれかで示される化合物が望ましい。   (D) As the surfactant having a structure having a carbon-carbon triple bond and a hydroxyl group, a compound represented by any one of the following general formulas (D1) and (D2) is desirable.


上記一般式(D1)及び(D2)中、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に、1価の有機基を示し、x、y、及びzは、それぞれ独立に、1以上の整数を示す。
上記一般式(D1)又は(D2)で示される化合物の中でも、R、R、R、Rが、アルキル基であるものが望ましい。また、R及びRの少なくとも一方、R及びRの少なくとも一方が分岐アルキル基であるものがより望ましい。更に、zは1以上10以下であることが望ましい。x及びyは、それぞれ1以上500以下であることが望ましい。
In the general formulas (D1) and (D2), R a , R b , R c , and R d each independently represent a monovalent organic group, and x, y, and z are each independently An integer of 1 or more is shown.
Among the compounds represented by the general formula (D1) or (D2), those in which R a , R b , R c and R d are alkyl groups are preferable. More preferably, at least one of R a and R b and at least one of R c and R d are branched alkyl groups. Furthermore, z is preferably 1 or more and 10 or less. x and y are each preferably 1 or more and 500 or less.

一般式(D1)又は(D2)で示される化合物の市販品としては、サーフィノール400シリーズ(信越化学社製)が挙げられる。   Surfinol 400 series (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is mentioned as a commercial item of the compound shown by general formula (D1) or (D2).

上述した(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤は、1種を単独で用いてもよいが、複数種を混合して用いてもよい。また、複数種を混合して用いる場合、効果を損なわない範囲において、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤とは異なる構造の界面活性剤を併用してもよい。
併用しうる界面活性剤としては、以下に挙げるフッ素原子を有する界面活性剤やシリコーン構造を有する界面活性剤が挙げられる。
即ち、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸類(例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など)、パーフルオロアルキルカルボン酸類(例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など)、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。
パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF−114(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップEF−101、EF102、EF−103、EF−104、EF−105、EF−112、EF−121、EF−122A、EF−122B、EF−122C、EF−123A(以上、JEMCO社製)、フタージェント 100、100C、110、140A、150、150CH、A−K、501(以上、ネオス社製)などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えば、メガファックF−410(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップ EF−201、EF−204(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF−493、F−494(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)エフトップ EF−123A、EF−123B、EF−125M、EF−132、(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。
The surfactants having the structures (A) to (D) described above may be used singly or in combination of two or more. In the case of using a mixture of a plurality of types, a surfactant having a structure different from the surfactant having the structure of (A) to (D) may be used in combination as long as the effect is not impaired.
Examples of the surfactant that can be used in combination include the following surfactants having a fluorine atom and surfactants having a silicone structure.
That is, as the surfactant having a fluorine atom that can be used in combination with the surfactant having the structure of (A) to (D), perfluoroalkylsulfonic acid (for example, perfluorobutanesulfonic acid, perfluorooctanesulfonic acid, etc.) ), Perfluoroalkyl carboxylic acids (for example, perfluorobutane carboxylic acid, perfluoro octane carboxylic acid, etc.), and perfluoroalkyl group-containing phosphate esters. Perfluoroalkylsulfonic acids and perfluoroalkylcarboxylic acids may be salts thereof and amide-modified products thereof.
Examples of commercially available perfluoroalkyl sulfonic acids include Megafac F-114 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), F-top EF-101, EF102, EF-103, EF-104, EF-105, and EF. -112, EF-121, EF-122A, EF-122B, EF-122C, EF-123A (JEMCO) As mentioned above, the Neos company) etc. are mentioned.
Examples of commercially available perfluoroalkylcarboxylic acids include Megafac F-410 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), F-Top EF-201, EF-204 (above, JEMCO).
As commercial products of perfluoroalkyl group-containing phosphates, MegaFac F-493, F-494 (above, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) F-top EF-123A, EF-123B, EF-125M, EF -132 (above, manufactured by JEMCO).

なお、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤と併用しうるフッ素原子を有する界面活性剤としては、上記に限られず、例えば、フッ素原子含有ベタイン構造化合物(例えば、フタージェント 400SW、ネオス社製)、両性イオン基を持つ界面活性剤(例えば、フタージェント SW(ネオス社製))も好適に用いられる。   In addition, the surfactant having a fluorine atom that can be used in combination with the surfactant having the structure of (A) to (D) is not limited to the above, and for example, a fluorine atom-containing betaine structure compound (for example, Factent 400SW, Neos) and surfactants having amphoteric ion groups (for example, Footent SW (manufactured by Neos)) are also preferably used.

(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤と併用しうるシリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンや、それらの誘導体の如く一般的なシリコーンオイルが挙げられる。   Examples of the surfactant having a silicone structure that can be used in combination with the surfactant having the structure of (A) to (D) include general silicone oils such as dimethyl silicone, methylphenyl silicone, diphenyl silicone, and derivatives thereof. Can be mentioned.

界面活性剤の含有量は、電荷輸送層2B−2を形成するための組成物の固形分全量に対して望ましくは0.01質量%以上1質量%以下、より望ましくは0.02質量%以上0.5質量%以下である。界面活性剤の含有量が0.01質量%未満の場合は塗膜欠陥防止効果が不十分となる傾向にある。また、界面活性剤の含有量が1質量%を超えると、界面活性剤と硬化成分(一般式(I)で示される化合物やその他のモノマー、オリゴマーなど)の分離により、得られる重合あるいは硬化膜の強度が低下する傾向にある。
また、全界面活性剤中、(A)乃至(D)の構造を有する界面活性剤は、1質量%以上含まれることが望ましく、10質量%以上含まれることがより望ましい。
The content of the surfactant is desirably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less, more desirably 0.02% by mass or more, based on the total solid content of the composition for forming the charge transport layer 2B-2. 0.5% by mass or less. When the content of the surfactant is less than 0.01% by mass, the coating film defect preventing effect tends to be insufficient. Further, when the content of the surfactant exceeds 1% by mass, a polymerized or cured film obtained by separating the surfactant from the curing component (a compound represented by the general formula (I), other monomers, oligomers, etc.) The strength of the steel tends to decrease.
The surfactant having the structures (A) to (D) is preferably contained in an amount of 1% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more.

また、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、該組成物の粘度、膜の強度、かとう性、平滑性、クリーニング性などの制御を目的とし、電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマー等が添加されていてもよい。
1官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等が挙げられる。
In addition, the composition used for forming the charge transport layer 2B-2 has no charge transport ability for the purpose of controlling the viscosity, film strength, flexibility, smoothness, cleaning property, etc. of the composition. A radical polymerizable monomer, oligomer or the like may be added.
Examples of the monofunctional radical polymerizable monomer include isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate , Phenoxypolyethyleneglycol Lumpur acrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, and the like o- phenylphenol glycidyl ether acrylate.

2官能のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート、ジビニルベンゼン、イソシアヌル酸ジアリルプロピル、等が挙げられる。   Examples of the bifunctional radical polymerizable monomer include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 2-n-butyl-2-ethyl- 1,3-propanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, dioxane glycol diacrylate, polytetramethylene glycol diacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, tricyclodecane Examples include methanol diacrylate, tricyclodecane methanol dimethacrylate, divinylbenzene, and diallylpropyl isocyanurate.

3官能以上のラジカル重合性のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンEO付加トリアクリレート、グリセリンPO付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート、イソシアヌル酸トリアリル、トリビニルシクロヘキサン、トリビニルベンゼン、等が挙げられる。   Examples of the tri- or more functional radical polymerizable monomer include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol acrylate, trimethylolpropane EO-added triacrylate, glycerin PO-added triacrylate, and trisacryloyloxyethylphosphine. Fate, pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated isocyanuric triacrylate, triallyl isocyanuric acid, trivinylcyclohexane, trivinylbenzene, and the like.

また、ラジカル重合性のオリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。   Moreover, as a radically polymerizable oligomer, an epoxy acrylate type, a urethane acrylate type, and a polyester acrylate type oligomer are mentioned, for example.

電荷輸送能を持たないラジカル重合性のモノマー、オリゴマーは、組成物の全固形分に対して0質量以上50質量%以下含有することが望ましく、0質量以上40質量%以下含有することがより望ましく、0質量以上30質量%以下含有することが更に望ましい。   The radically polymerizable monomer or oligomer having no charge transporting ability is preferably contained in an amount of 0 to 50% by mass, more preferably 0 to 40% by mass, based on the total solid content of the composition. More preferably, the content is from 0 to 30% by mass.

ここで、電荷輸送層2B−2を構成する硬化膜(架橋膜)は、上記各成分を含む組成物を、熱、光、電子線など様々な方法にて硬化することで得られる。必要により、組成物中に熱重合開始剤、光重合開始剤を添加して使用してもよい。
なお、機械的強度等の特性のバランスを取るためには熱硬化が望ましい。通常、一般的なアクリル塗料などを硬化する際には無触媒で硬化する電子線、短時間で硬化する光重合が好適に用いられる。しかしながら、電子写真感光体は最表面層の被形成面となる感光層が感光材料を含むため、この感光材料にダメージを与え難くするため、また、得られる硬化膜の表面性状を高めるため、穏やかに反応を進められる熱硬化が望ましい。熱硬化は無触媒で行ってもよいが、熱ラジカル開始剤を触媒として用いることが望ましい。
Here, the cured film (crosslinked film) constituting the charge transport layer 2B-2 can be obtained by curing the composition containing the above components by various methods such as heat, light, and electron beam. If necessary, a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator may be added to the composition.
In order to balance characteristics such as mechanical strength, thermosetting is desirable. Usually, when curing a general acrylic paint or the like, an electron beam that cures without a catalyst and photopolymerization that cures in a short time are preferably used. However, in the electrophotographic photosensitive member, since the photosensitive layer which is the surface of the outermost layer contains a photosensitive material, it is difficult to damage the photosensitive material, and in order to improve the surface properties of the obtained cured film, It is desirable to perform thermosetting that allows the reaction to proceed. Thermal curing may be performed without a catalyst, but it is desirable to use a thermal radical initiator as a catalyst.

熱ラジカル開始剤は特に限定されないが、電荷輸送層2B−2の形成時における感光層中の感光材料のダメージを抑制するために、10時間半減期温度が40℃以上110℃以下のものが望ましい。   The thermal radical initiator is not particularly limited, but is preferably one having a 10-hour half-life temperature of 40 ° C. or higher and 110 ° C. or lower in order to suppress damage to the photosensitive material in the photosensitive layer during formation of the charge transport layer 2B-2. .

熱ラジカル開始剤の市販品としては、V−30(10時間半減期温度:104℃)、V−40(同:88℃)、V−59(同:67℃)、V−601(同:66℃)、V−65(同:51℃)、V−70(同:30℃)、VF−096(同:96℃)、Vam−110(同:111℃)、Vam−111(同:111℃)、VE−073(同:73℃)(以上、和光純薬工業製)、OTAZO−15(同:61℃)、OTAZO−30(同:57℃)、AIBN(同:65℃)、AMBN(同:67℃)、ADVN(同:52℃)、ACVA(同:68℃)(以上、大塚化学社製)等のアゾ系開始剤;
パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH,パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーへヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(以上、日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(以上、化薬アクゾ社製)、ルペロックス LP(同:64℃)、ルペロックス 610(同:37℃)、ルペロックス 188(同:38℃)、ルペロックス 844(同:44℃)、ルペロックス 259(同:46℃)、ルペロックス 10(同:48℃)、ルペロックス 701(同:53℃)、ルペロックス 11(同:58℃)、ルペロックス 26(同:77℃)、ルペロックス 80(同:82℃)、ルペロックス 7(同:102℃)、ルペロックス 270(同:102℃)、ルペロックス P(同:104℃)、ルペロックス 546(同:46℃)、ルペロックス 554(同:55℃)、ルペロックス 575(同:75℃)、ルペロックス TANPO(同:96℃)、ルペロックス 555(同:100℃)、ルペロックス 570(同:96℃)、ルペロックス TAP(同:100℃)、ルペロックス TBIC(同:99℃)、ルペロックス TBEC(同:100℃)、ルペロックス JW(同:100℃)、ルペロックス TAIC(同:96℃)、ルペロックス TAEC(同:99℃)、ルペロックス DC(同:117℃)、ルペロックス 101(同:120℃)、ルペロックス F(同:116℃)、ルペロックス DI(同:129℃)、ルペロックス 130(同:131℃)、ルペロックス 220(同:107℃)、ルペロックス 230(同:109℃)、ルペロックス 233(同:114℃)、ルペロックス 531(同:93℃)(以上、アルケマ吉富社製)などが挙げられる。
Commercially available products of thermal radical initiators include V-30 (10-hour half-life temperature: 104 ° C.), V-40 (same: 88 ° C.), V-59 (same: 67 ° C.), V-601 (same as above: 66 ° C), V-65 (same: 51 ° C), V-70 (same: 30 ° C), VF-096 (same: 96 ° C), Vam-110 (same: 111 ° C), Vam-111 (same: 111 ° C.), VE-073 (same as above: 73 ° C.) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), OTAZO-15 (same as 61 ° C.), OTAZO-30 (same as 57 ° C.), AIBN (same as 65 ° C.) Azo initiators such as AMBN (same: 67 ° C.), ADVN (same: 52 ° C.), ACVA (same: 68 ° C.) (above, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.);
Pertetra A, Perhexa HC, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H, Park Mill H, Park Mill P, Permenta H, Per Octa H, Perbutyl C, Perbutyl D, Perhexyl D, Parroyl IB, Parroyl 355, Parroyl L , Parroyl SA, Niper BW, Niper BMT-K40 / M, Parroyl IPP, Parroyl NPP, Parroyl TCP, Parroyl OPP, Parroyl SBP, Parkmill ND, Perocta ND, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl L, Perbutyl 355, Perhexyl I, Perbutyl I, Perbutyl E, Perhexa 5Z, perbutyl A, perhexyl Z, perbutyl ZT, perbutyl Z (manufactured by NOF Chemical Co., Ltd.), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Parkardox L-W75, Percadox CH-50L, Trigonox TMBH, Kayakumen H, Kayabutyl H-70, Percadox BC-FF, Kaya Hexa AD, Parka Dox 14, Kaya Butyl C, Kaya Butyl D, Kaya Hexa YD-E85, Perkadox 12-XL25, Perkadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox DT50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W5 N, Trigonox 257-C70, Kayaester P-70, Kayaester TMPO-70, Trigonox 121, Kayaester O, Kayaester HTP-65W, Kayaester AN, Trigonox42, Trigonox F-C50, Kayabutyl B, Kayacarboxyl EH- C70, Kaya-Carbon EH-W60, Kaya-Carbon I-20, Kaya-Carbon BIC-75, Trigonox 117, Kayalen 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo), Luperox LP (same: 64 ° C.), Ruperox 610 (same: 37 ° C. ), Lupelox 188 (same: 38 ° C), Lupelox 844 (same: 44 ° C), Lupelox 259 (same: 46 ° C), Lupelox 10 (same: 48 ° C), Lupelox 701 (same: 53 ° C), Lupelox 11 ( Same: 58 ℃) Rox 26 (same: 77 ° C), Lupelox 80 (same: 82 ° C), Lupelox 7 (same: 102 ° C), Lupelox 270 (same: 102 ° C), Lupelox P (same: 104 ° C), Lupelox 546 (same: 46 ° C), Lupelox 554 (same: 55 ° C), Lupelox 575 (same: 75 ° C), Lupelox TANPO (same: 96 ° C), Lupelox 555 (same: 100 ° C), Lupelox 570 (same: 96 ° C), Lupelox TAP (same as above: 100 ° C.), Luperox TBIC (same as above: 99 ° C.), Luperlocks TBEC (same as above: 100 ° C.), Luperlocks JW (same as above: 100 ° C.), Lupelox TAIC (same as above: 96 ° C.), Luperox TAEC (same as 99 ° C), Luperox DC (same as 117 ° C), Luperox 101 (same as 120 ° C) Lupelox F (same as 116 ° C), Lupelox DI (same as 129 ° C), Lupelox 130 (same as 131 ° C), Lupelox 220 (same as 107 ° C), Lupelox 230 (same as 109 ° C), Lupelox 233 (same as above) : 114 ° C.), Ruperox 531 (same as 93 ° C.) (above, manufactured by Arkema Yoshitomi).

熱ラジカル開始剤は、組成物中の反応性化合物に対して0.001質量%以上10質量%以下含有することが望ましく、0.01質量%以上5質量%以下含有することがより望ましく、0.1質量以上3質量%以下含有することが更に望ましい。   The thermal radical initiator is preferably contained in an amount of 0.001% by mass to 10% by mass with respect to the reactive compound in the composition, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass. It is more desirable to contain 1 mass% or more and 3 mass% or less.

また、電荷輸送層2B−2を光硬化により形成する場合は、光重合開始剤として公知のものが用いられる。光ラジカル開始剤としては、分子内開列型、水素引抜型などが挙げられる。
分子内開列型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系が挙げられる。
具体的には、ベンジルケタール系としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルホニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。ホスフィンオキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(0−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)などが挙げられる。
Moreover, when forming charge transport layer 2B-2 by photocuring, a well-known thing is used as a photoinitiator. Examples of the photo radical initiator include an intramolecular open type and a hydrogen abstraction type.
Examples of the intramolecular open type include benzyl ketal, alkylphenone, aminoalkylphenone, phosphine oxide, titanocene, and oxime.
Specifically, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one is mentioned as the benzyl ketal system. Examples of alkylphenones include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2. -Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propane- Examples include 1-one, acetophenone, and 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone. Examples of aminoalkylphenones include p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1 -Butanone and the like. Examples of the phosphine oxide include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. Examples of the titanocene include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium. Examples of oximes include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (0-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)- 9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime) and the like.

水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
具体的には、ベンゾフェノン系としては、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル 4’−メチルジフェニル スルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。
Examples of the hydrogen abstraction type include benzophenone series, thioxanthone series, benzyl series, and Michler ketone series.
Specifically, examples of the benzophenone series include 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl 4′-methyldiphenyl sulfide, p, p′-bisdiethylaminobenzophenone, and the like. It is done. Examples of the thioxanthone series include 2,4-diethylthioxanthen-9-one, 2-chlorothioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone. Examples of the benzyl type include benzyl, (±) -camphorquinone, p-anisyl and the like.

光ラジカル開始剤は、組成物中の反応性化合物に対して0.001質量%以上10質量%以下含有することが望ましく、0.01質量%以上5質量%以下含有することがより望ましく、0.1質量以上3質量%以下含有することが更に望ましい。   The photo radical initiator is preferably contained in an amount of 0.001% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass, based on the reactive compound in the composition. It is more desirable to contain 1 mass% or more and 3 mass% or less.

また、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、放電生成ガスを吸着しすぎないように添加することで放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的から、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を添加してもよい。   In addition, the composition used for forming the charge transport layer 2B-2 is added with a phenol resin, for the purpose of effectively suppressing oxidation by the discharge generated gas by adding the discharge generated gas so as not to adsorb too much. You may add other thermosetting resins, such as a melamine resin and a benzoguanamine resin.

また、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
Further, the composition used for forming the charge transport layer 2B-2 further includes a coupling agent, a hard coat for the purpose of adjusting the film formability, flexibility, lubricity, and adhesiveness of the film. An agent and a fluorine-containing compound may be added. Specifically, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used as these additives.
As the silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and the like are used.

また、市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越シリコーン社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量比で0.25倍以下とすることが望ましい。
Commercially available hard coat agents include KP-85, X-40-9740, X-8239 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (manufactured by Toray Dow Corning). Etc.) are used.
Further, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) for imparting water repellency and the like. Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added.
Although the silane coupling agent is used in an arbitrary amount, the amount of the fluorine-containing compound should be 0.25 times or less in terms of mass ratio with respect to the compound not containing fluorine from the viewpoint of the film formability of the crosslinked film. Is desirable.

また、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、電荷輸送層2B−2の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、熱可塑性樹脂を加えてもよい。
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂(たとえば積水化学社製エスレックB、K等)、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は2,000以上100,000以下が望ましく、5,000以上50,000以下がより望ましい。樹脂の分子量が2,000未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、100,000を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、更には塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は1質量%以上40質量%以下が望ましく、1質量%以上30質量%以下がより望ましく、5質量%以上20質量%以下が更に望ましい。当該樹脂の添加量が1質量%未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、40質量%を超えると高温高湿下(例えば28℃、85%RH)での画像ボケが発生しやすくなる。
The composition used to form the charge transport layer 2B-2 includes discharge gas resistance, mechanical strength, scratch resistance, torque reduction, wear amount control, pot life extension, etc. of the charge transport layer 2B-2, A thermoplastic resin may be added for the purpose of particle dispersibility and viscosity control.
Polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyvinyl acetal resin such as partially acetalized polyvinyl acetal resin in which a part of butyral is modified with formal, acetoacetal or the like (for example, Sleksui Chemical Co., Ltd. ESREC B, K etc.), polyamide resin, cellulosic -Resin, polyvinyl phenol resin and the like. In particular, polyvinyl acetal resin and polyvinyl phenol resin are desirable in terms of electrical characteristics. The resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, and more preferably 5,000 to 50,000. If the molecular weight of the resin is less than 2,000, the effect due to the addition of the resin tends to be insufficient, and if it exceeds 100,000, the solubility is reduced and the addition amount is limited. It tends to cause defects. The amount of the resin added is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, and further preferably 5% by mass or more and 20% by mass or less. If the addition amount of the resin is less than 1% by mass, the effect of the addition of the resin tends to be insufficient. If the addition amount exceeds 40% by mass, the temperature is high under high humidity (for example, 28 ° C., 85% RH). Image blur is likely to occur.

電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、電荷輸送層2B−2の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等が挙げられる。
An antioxidant is added to the composition used for forming the charge transport layer 2B-2 for the purpose of preventing deterioration due to an oxidizing gas such as ozone generated in the charging device of the charge transport layer 2B-2. Is desirable. When the mechanical strength of the surface of the photoconductor is increased and the photoconductor has a long life, the photoconductor is in contact with the oxidizing gas for a long time, and therefore, stronger oxidation resistance is required than before.
Antioxidants are preferably hindered phenols or hindered amines, organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants. , Etc., may be used. The addition amount of the antioxidant is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
Examples of the hindered phenol antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, N, N′-hexamethylene bis (3,5-di). -T-butyl-4-hydroxyhydrocinnamide, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -o-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,5-di-t-amylhydroquinone, 2-t-butyl-6- (3-butyl-2-hydro Xyl-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and the like.

更に、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、電荷輸送層2B−2の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。電荷輸送層2B−2中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、電荷輸送層2B−2の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
電荷輸送層2B−2中のシリコーン粒子の含有量は、電荷輸送層2B−2の全固形分全量を基準として望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
Furthermore, various particles may be added to the composition used for forming the charge transport layer 2B-2 for the purpose of lowering the residual potential of the charge transport layer 2B-2 or improving the strength.
An example of the particles is silicon-containing particles. The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples include colloidal silica and silicone particles. The colloidal silica used as the silicon-containing particles is obtained by dispersing silica having an average particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, preferably 10 nm or more and 30 nm or less in an organic solvent such as an acidic or alkaline aqueous dispersion, alcohol, ketone, or ester. A commercially available product may be used. The solid content of colloidal silica in the charge transport layer 2B-2 is not particularly limited, but the total solid content of the charge transport layer 2B-2 is determined from the viewpoint of film forming properties, electrical characteristics, and strength. As a reference, it is used in the range of 0.1 to 50% by mass, desirably 0.1 to 30% by mass.
The silicone particles used as the silicon-containing particles are selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and those commercially available are generally used. These silicone particles are spherical, and the average particle size is desirably 1 nm or more and 500 nm or less, and more desirably 10 nm or more and 100 nm or less. Silicone particles are small particles that are chemically inert and excellent in dispersibility in resin, and since the content required to obtain more sufficient properties is low, the electron does not hinder the crosslinking reaction. The surface properties of the photographic photoreceptor are improved. In other words, it is improved in lubricity and water repellency on the surface of the electrophotographic photosensitive member in a state of being taken in without a variation in a strong cross-linked structure, and has good wear resistance and contamination resistance adhesion over a long period of time. Maintained.
The content of the silicone particles in the charge transport layer 2B-2 is desirably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more desirably 0.5% by mass based on the total amount of the total solid content of the charge transport layer 2B-2. It is 10 mass% or less.

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子、“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 p89”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO−Al、SnO−Sb、In−SnO、ZnO−TiO、ZnO−TiO、MgO−Al、FeO−TiO、TiO、SnO、In、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等 の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。 Other particles include fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride, as shown in the 8th Polymer Materials Forum Lecture Proceedings p89. As shown, particles made of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin and a monomer having a hydroxyl group, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 —TiO 2 , ZnO Examples thereof include semiconductive metal oxides such as —TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO. For the same purpose, an oil such as silicone oil may be added. Silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as tetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixtures, pentamethylcyclopentasiloxane, and phenylhydrocyclosiloxane; penta And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as vinylpentamethylcyclopentasiloxane.

また、電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は電荷輸送層2B−2の透明性の点で0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。   Moreover, you may add a metal, a metal oxide, carbon black, etc. to the composition used in order to form charge transport layer 2B-2. Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver, and stainless steel, or those obtained by depositing these metals on the surface of plastic particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide, antimony and tantalum-doped tin oxide, and antimony-doped zirconium oxide. . These may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, they may be simply mixed, or may be in the form of a solid solution or fusion. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less, from the viewpoint of the transparency of the charge transport layer 2B-2.

電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物は、電荷輸送層2B−2形成用塗布液として調製されることが望ましく、この塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸nプロピル、酢酸nブチル、乳酸エチル等のエステル類等の溶剤を含有していてもよい。
かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が100度以下のものである。
また、電荷輸送層2B−2形成用塗布液の保存安定性を高める目的で、重合禁止剤を含有させてもよい。重合禁止剤としては公知のものが使用される。前記の酸化防止剤の具体例として挙げたヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が重合禁止剤としても機能するため好都合である。
The composition used to form the charge transport layer 2B-2 is preferably prepared as a coating solution for forming the charge transport layer 2B-2, and this coating solution may be solventless or necessary. Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and chlorobenzene; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclopentanol and cyclohexanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; tetrahydrofuran, diethyl Ethers such as ether, diisopropyl ether and dioxane; solvents such as esters such as ethyl acetate, npropyl acetate, nbutyl acetate and ethyl lactate may be contained.
Such solvents are used singly or in combination of two or more, and preferably have a boiling point of 100 degrees or less.
Moreover, you may contain a polymerization inhibitor in order to improve the storage stability of the coating liquid for charge transport layer 2B-2 formation. Known polymerization inhibitors are used. The hindered phenol type or hindered amine type listed as specific examples of the above-mentioned antioxidant is advantageous because it functions also as a polymerization inhibitor.

電荷輸送層2B−2を形成するために用いる組成物を含む電荷輸送層2B−2形成用塗布液は、電荷輸送層2B−1の 上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布され、必要に応じて、例えば、温度100度以上170度以下で加熱して硬化させることで、重合あるいは硬化膜が得られる。その結果、この重合あるいは硬化膜からなる電荷輸送層2B−2(第1の態様における本実施形態の層(Oc1)に相当)が得られる。
なお、電荷輸送層2B−2形成用塗布液の硬化中の酸素濃度は1%以下が望ましく、1000ppm以下がより望ましく、500ppm以下が更に望ましい。
A coating liquid for forming a charge transport layer 2B-2 containing a composition used for forming the charge transport layer 2B-2 is formed on the charge transport layer 2B-1 by a blade coating method, a wire bar coating method, or a spray coating method. It is applied by a usual method such as a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, etc., and polymerized by heating at a temperature of 100 ° C. or more and 170 ° C. or less as necessary. Alternatively, a cured film is obtained. As a result, a charge transport layer 2B-2 (corresponding to the layer (Oc1) of the present embodiment in the first mode) made of this polymerized or cured film is obtained.
In addition, the oxygen concentration during curing of the coating liquid for forming the charge transport layer 2B-2 is desirably 1% or less, more desirably 1000 ppm or less, and further desirably 500 ppm or less.

この電荷輸送層2B−2形成用塗布液は、感光体用途以外にも、例えば、蛍光発色性塗料、ガラス表面、プラスチック表面などの帯電防止膜等に利用される。この塗布液を用いると、下層に対する密着性に優れた皮膜が形成され、長期にわたる繰り返し使用による性能劣化が抑制される。   The coating liquid for forming the charge transport layer 2B-2 is used for, for example, an antistatic film such as a fluorescent coloring paint, a glass surface, a plastic surface, etc. in addition to the use as a photoreceptor. When this coating solution is used, a film having excellent adhesion to the lower layer is formed, and performance deterioration due to repeated use over a long period is suppressed.

−電荷輸送層2B(第2の態様における本実施形態の層(Oc2)に相当−
電荷輸送層2Bは、第1の態様における前記電荷輸送層2B−2と同じ構成としてよく、電荷輸送層2Bを形成するための組成物、およびその形成方法としては、前記電荷輸送層2B−2の場合と同じである。
-Charge transport layer 2B (corresponding to the layer (Oc2) of the present embodiment in the second mode)
The charge transport layer 2B may have the same configuration as that of the charge transport layer 2B-2 in the first embodiment. As a composition for forming the charge transport layer 2B and a method for forming the composition, the charge transport layer 2B-2 is used. Is the same as

−単層型感光層6(第3の態様における本実施形態の層(Oc3)に相当−
以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図3に示される単層型感光層6(電荷発生/電荷輸送層)中の電荷発生材料の含有量は、10質量%以上85質量%以下程度、望ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、電荷輸送材料の含有量は5質量%以上50質量%以下とすることが望ましい。
単層型感光層6(電荷発生/電荷輸送層)の形成方法は、電荷発生層2Aや電荷輸送層2B−2の形成方法と同様である。単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)6の膜厚は5μm以上50μm以下程度が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。
-Single-layer type photosensitive layer 6 (corresponding to the layer (Oc3) of the present embodiment in the third mode)-
As described above, the example of the function separation type is described as the electrophotographic photosensitive member. However, the content of the charge generation material in the single-layer type photosensitive layer 6 (charge generation / charge transport layer) shown in FIG. It is about 85% by mass or less, desirably 20% by mass or more and 50% by mass or less. In addition, the content of the charge transport material is desirably 5% by mass or more and 50% by mass or less.
The formation method of the single-layer type photosensitive layer 6 (charge generation / charge transport layer) is the same as the formation method of the charge generation layer 2A and the charge transport layer 2B-2. The film thickness of the single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) 6 is preferably about 5 μm to 50 μm, and more preferably 10 μm to 40 μm.

また、上記実施形態では、前記電荷輸送性材料(A)を含む組成物の重合あるいは硬化膜からなる最表面層(電荷輸送性膜)が電荷輸送性層又は感光層である形態を説明したが、電荷輸送性層又は感光層上の最表面層として保護層を有する場合は、保護層を、前記電荷輸送性材料(A)を含む組成物の重合あるいは硬化膜によって構成してもよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the form in which the outermost surface layer (charge transport film | membrane) which consists of a polymerized or cured film of the composition containing the said charge transport material (A) is a charge transport layer or a photosensitive layer. When the protective layer is provided as the outermost surface layer on the charge transporting layer or the photosensitive layer, the protective layer may be constituted by polymerization or a cured film of a composition containing the charge transporting material (A).

なお、以上説明した本実施形態では、電子写真感光体の最表面層として、本実施形態の電荷輸送性材料(A)を含有する組成物の重合あるいは硬化膜(電荷輸送性膜)を適用した形態を説明したが、本実施形態の電荷輸送性材料(A)を含む重合あるいは硬化膜はこれに限定されない。本実施形態の電荷輸送性材料(A)を含む硬化膜は、例えば、有機電界発光(エレクトロルミネッセンス、EL)素子、メモリー素子、波長変換素子等に適用される。そして、本実施形態に係る硬化膜は、電荷輸送性を損なうことなく形成されると考えられるため、従来の電荷輸送性の膜で見られるようなジュール熱によるモルホルジー変化がない、積層する際の製膜性に優れた膜となる。その結果、上記用途に有用となる。   In the present embodiment described above, a polymerized or cured film (charge transport film) of the composition containing the charge transport material (A) of the present embodiment is applied as the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member. Although the embodiment has been described, the polymerized or cured film containing the charge transporting material (A) of the present embodiment is not limited thereto. The cured film containing the charge transport material (A) of this embodiment is applied to, for example, an organic electroluminescence (electroluminescence, EL) element, a memory element, a wavelength conversion element, and the like. And since the cured film according to the present embodiment is considered to be formed without impairing the charge transport property, there is no change in the morphology due to Joule heat as seen in the conventional charge transport film, and when the layers are laminated. The film has excellent film forming properties. As a result, it is useful for the above applications.

〔光電変換デバイス〕
本実施形態に係る光電変換デバイスは、前述した本実施形態に係る電荷輸送性膜を備えることを特徴とする。
前述したように、本実施形態に係る電荷輸送性膜は、機械的強度及び電荷輸送性能の両方に優れるため、光電変換デバイスにおいて機械的強度が求められる層に好適に適用しうる。
[Photoelectric conversion device]
The photoelectric conversion device according to this embodiment includes the above-described charge transport film according to this embodiment.
As described above, since the charge transport film according to this embodiment is excellent in both mechanical strength and charge transport performance, it can be suitably applied to a layer that requires mechanical strength in a photoelectric conversion device.

本実施形態に係る光電変換デバイスとしては、例えば、電子写真感光体、有機ELデバイス、有機トランジスタ、有機太陽電池等が挙げられる。
具体的には、例えば、有機ELデバイスは、少なくとも一方が透明または半透明である一対の電極と、それら電極間に挾持された一つまたは複数の有機化合物層より構成される。該有機化合物層の少なくとも一層に本発明の電荷輸送膜を用いることができ、その層構成は特に限定されない。具体的には発光層、正孔輸送層、正孔注入層として、前述した本実施形態に係る電荷輸送性膜を適用する。
また、例えば、有機薄膜トランジスタは、対向して設けられたソース電極及びドレイン電極の双方に接する有機半導体層と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極の双方から離間したゲート電極および前記有機半導体層とゲート電極間に配置される絶縁層を有するものである。前記有機半導体層に少なくとも一層に本発明の電荷輸送膜を用いることができ、その層構成は特に限定されない。
Examples of the photoelectric conversion device according to this embodiment include an electrophotographic photosensitive member, an organic EL device, an organic transistor, and an organic solar battery.
Specifically, for example, the organic EL device is composed of a pair of electrodes, at least one of which is transparent or translucent, and one or a plurality of organic compound layers sandwiched between the electrodes. The charge transport film of the present invention can be used for at least one layer of the organic compound layer, and the layer structure is not particularly limited. Specifically, the above-described charge transport film according to this embodiment is applied as the light emitting layer, the hole transport layer, and the hole injection layer.
Further, for example, the organic thin film transistor includes an organic semiconductor layer that is in contact with both the source electrode and the drain electrode that are provided to face each other, a gate electrode that is separated from both the source electrode and the drain electrode, and the organic semiconductor layer and the gate electrode. It has an insulating layer disposed between them. The charge transport film of the present invention can be used for at least one layer of the organic semiconductor layer, and the layer structure is not particularly limited.

以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

<合成例1>
−本発明の電荷輸送剤I−7の合成−
500ml三口フラスコに3,4−ジメチルアセトアニリド32.6g、4−ヨードビフェニル56.0g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後、温度を120℃まで下げてからエチレングリコール50ml、水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム15.7g/水20ml)を添加し、さらに6時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム20g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−7aを42.1g得た(収率77%)。
<Synthesis Example 1>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-7 of the Present Invention—
To a 500 ml three-necked flask, 32.6 g of 3,4-dimethylacetanilide, 56.0 g of 4-iodobiphenyl, 30.4 g of potassium carbonate, 1.5 g of copper sulfate pentahydrate, and 50 ml of n-tridecane were added. The mixture was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing. Thereafter, the temperature was lowered to 120 ° C., 50 ml of ethylene glycol and an aqueous potassium hydroxide solution (15.7 g of potassium hydroxide / 20 ml of water) were added, and the mixture was further stirred for 6 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 20 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 42.1 g of I-7a (yield 77%).

500ml三口フラスコにI−15aを41.0g、3−(4−ヨードフェニル)プロピオン酸メチル43.5g、炭酸カリウム22.8g、硫酸銅5水和物1.1g、n−トリデカン40mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム20g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−7bを47.0g得た(収率72%)。   To a 500 ml three-necked flask was added 41.0 g of I-15a, 43.5 g of methyl 3- (4-iodophenyl) propionate, 22.8 g of potassium carbonate, 1.1 g of copper sulfate pentahydrate, and 40 ml of n-tridecane. The mixture was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing nitrogen. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 20 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 47.0 g of I-7b (yield 72%).

3L三口フラスコにI−7bを43.6g、テトラヒドロフラン450mlを添加しそこに水酸化ナトリウム4.4gを水450mlに溶解した水溶液を添加し、60℃で3時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸20ml水溶液に滴下し、析出した固体をを吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−7cを31.2g得た(収率74%)。   To a 3 L three-necked flask, 43.6 g of I-7b and 450 ml of tetrahydrofuran were added, an aqueous solution in which 4.4 g of sodium hydroxide was dissolved in 450 ml of water was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 20 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 31.2 g of I-7c. (Yield 74%).

500ml三口フラスコにI−7cを29.5g、4−クロロメチルスチレン11.8g、炭酸カリウム10.6g、ニトロベンゼン0.17g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−7を29.7g得た(収率79%)。
得られた化合物(I)−7のIRスペクトルを図4に示す。
To a 500 ml three-necked flask, 29.5 g of I-7c, 11.8 g of 4-chloromethylstyrene, 10.6 g of potassium carbonate, 0.17 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide) were added. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 3 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 29.7 g of the charge transfer agent I-7 of the present invention (yield 79%). .
FIG. 4 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -7.

<合成例2>
−本発明の電荷輸送剤I−15の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、4−ヨードキシレン46.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム20g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−15aを65.1g得た(収率73%)。
<Synthesis Example 2>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-15 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 46.4 g of 4-iodoxylene, 30.4 g of potassium carbonate, 1.5 g of copper sulfate pentahydrate, 50 ml of n-tridecane Was added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing nitrogen. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 20 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 65.1 g of I-15a (yield 73%).

3L三口フラスコにI−15aを59.4g、テトラヒドロフラン450mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム11.7gを水450mlに溶解した水溶液を添加し、60℃で3時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸60ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。さらにこの固体にアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−15bを46.2g得た(収率83%)。   To a 3 L three-necked flask, 59.4 g of I-15a and 450 ml of tetrahydrofuran were added, and an aqueous solution in which 11.7 g of sodium hydroxide was dissolved in 450 ml of water was added thereto, followed by stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 60 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. Further, 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60) was added to this solid and stirred in a suspended state, and then collected by suction filtration and vacuum-dried for 10 hours to obtain 46.2 g of I-15b. (Yield 83%).

500ml三口フラスコにI−15bを29.2g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.17g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−15を36.4g得た(収率80%)。
得られた化合物(I)−15のIRスペクトルを図5に示す。
To a 500 ml three-necked flask were added 29.2 g of I-15b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.17 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide). The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 3 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 36.4 g of the charge transfer agent I-15 of the present invention (yield 80%). .
FIG. 5 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -15.

<合成例3>
−本発明の電荷輸送剤I−17の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、4−ヨードビフェニル56.0g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム20g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−17aを74.0g得た(収率75%)。
<Synthesis Example 3>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-17 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 56.0 g of 4-iodobiphenyl, 30.4 g of potassium carbonate, 1.5 g of copper sulfate pentahydrate, 50 ml of n-tridecane Was added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing nitrogen. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 20 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 74.0 g of I-17a (yield 75%).

3L三口フラスコにI−17aを65.8g、テトラヒドロフラン450mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム11.7gを水450mlに溶解した水溶液を添加し、60℃で3時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸60ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。さらにこの固体にアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−17bを53.4g得た(収率86%)。   To a 3 L three-necked flask, 65.8 g of I-17a and 450 ml of tetrahydrofuran were added, and an aqueous solution obtained by dissolving 11.7 g of sodium hydroxide in 450 ml of water was added thereto, followed by stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 60 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. Further, 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60) was added to this solid and stirred in a suspended state, and then collected by suction filtration and vacuum-dried for 10 hours to obtain 53.4 g of I-17b. (Yield 86%).

500ml三口フラスコにI−17bを32.6g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.17g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−17を36.8g得た(収率81%)。
得られた化合物(I)−17のIRスペクトルを図6に示す。
To a 500 ml three-necked flask were added 32.6 g of I-17b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.17 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide). The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 3 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 36.8 g of the charge transfer agent I-17 of the present invention (yield 81%). .
FIG. 6 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -17.

<合成例4>
−本発明の電荷輸送剤I−23の合成−
500ml三口フラスコに3−[4−(3,4−ジメチルフェニルアミノ)フェニル)]プロピオン酸メチル56.7g、4,4’−ジヨードー3,3’−ジメチルー1,1’−ビフェニル43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−23aを48.4g得た(収率65%)。
<Synthesis Example 4>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-23 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 56.7 g of methyl 3- [4- (3,4-dimethylphenylamino) phenyl)] propionate, 43.4 g of 4,4′-diiodo 3,3′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 30.4 g of potassium carbonate, 1.5 g of copper sulfate pentahydrate and 50 ml of n-tridecane were added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing nitrogen. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 48.4 g of I-23a (yield 65%).

3L三口フラスコにI−23aを37.3g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム4.4gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸20ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−23bを32.6g得た(収率91%)。   37.3 g of I-23a and 350 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 4.4 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added thereto, followed by stirring for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was dropped into 1 L of water / 20 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 32.6 g of I-23b. (Yield 91%).

500ml三口フラスコにI−23bを25.1g、4−クロロメチルスチレン11.8g、炭酸カリウム10.6g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−23を28.2g得た(収率85%)。
得られた化合物(I)−23のIRスペクトルを図7に示す。
To a 500 ml three-necked flask was added 25.1 g of I-23b, 11.8 g of 4-chloromethylstyrene, 10.6 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide), and the system was filled with nitrogen. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 28.2 g of the charge transfer agent I-23 of the present invention (yield 85%). .
The IR spectrum of the obtained compound (I) -23 is shown in FIG.

<合成例5>
−本発明の電荷輸送剤I−25の合成−
500ml三口フラスコに3−[4−(フェニルアミノ)フェニル]プロピオン酸メチル51.1g、1,2−ビス(4−ヨードフェニル)エタン43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−25aを51.7g得た(収率75%)。
<Synthesis Example 5>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-25 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 51.1 g of methyl 3- [4- (phenylamino) phenyl] propionate, 43.4 g of 1,2-bis (4-iodophenyl) ethane, 30.4 g of potassium carbonate, copper sulfate pentahydrate 1.5 g and 50 ml of n-tridecane were added, and the system was stirred for 20 hours while being heated at 220 ° C. with nitrogen flow. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 51.7 g of I-25a (yield 75%).

3L三口フラスコにI−25aを34.4g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム4.4gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸20ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−25bを28.4g得た(収率86%)。   34.4 g of I-25a and 350 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 4.4 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added thereto, followed by stirring for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was dropped into 1 L of water / 20 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 28.4 g of I-25b. (Yield 86%).

500ml三口フラスコにI−25bを23.1g、4−クロロメチルスチレン11.8g、炭酸カリウム10.6g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−25を25.6g得た(収率82%)。
得られた化合物(I)−25のIRスペクトルを図8に示す。
To a 500 ml three-necked flask were added 23.1 g of I-25b, 11.8 g of 4-chloromethylstyrene, 10.6 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide), and nitrogen was added to the system. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 25.6 g of the charge transfer agent I-25 of the present invention (yield 82%). .
An IR spectrum of the obtained compound (I) -25 is shown in FIG.

<合成例6>
−本発明の電荷輸送剤I−27の合成−
500ml三口フラスコに3−[4−(3,4−ジメチルフェニルアミノ)フェニル]プロピオン酸メチル56.7g、1,2−ビス(4−ヨードフェニル)エタン43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−27aを54.4g得た(収率73%)。
<Synthesis Example 6>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-27 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 56.7 g of methyl 3- [4- (3,4-dimethylphenylamino) phenyl] propionate, 43.4 g of 1,2-bis (4-iodophenyl) ethane, 30.4 g of potassium carbonate, sulfuric acid Copper pentahydrate 1.5g and n-tridecane 50ml were added, and it stirred for 20 hours, heating at 220 degreeC under nitrogen flow in the system. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 54.4 g of I-27a (yield 73%).

3L三口フラスコにI−27aを 37.3g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム4.4gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸20ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−27bを29.4g得た(収率82%)。   37.3 g of I-27a and 350 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 4.4 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added thereto, followed by stirring for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was dropped into 1 L of water / 20 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 29.4 g of I-27b. (Yield 82%).

500ml三口フラスコにI−27bを25.1g、4−クロロメチルスチレン11.8g、炭酸カリウム10.6g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−27を26.2g得た(収率79%)。
得られた化合物(I)−27のIRスペクトルを図9に示す。
To a 500 ml three-necked flask was added 25.1 g of I-27b, 11.8 g of 4-chloromethylstyrene, 10.6 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide), and the system was filled with nitrogen. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 26.2 g of the charge transfer agent I-27 of the present invention (yield 79%). .
FIG. 9 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -27.

<合成例7>
−本発明の電荷輸送剤I−30の合成−
500ml三口フラスコに3−[4−(4−フェニル)フェニルアミノ)フェニル]プロピオン酸メチル66.3g、1,2−ビス(4−ヨードフェニル)エタン43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−30aを62.2g得た(収率74%)。
<Synthesis Example 7>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-30 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 66.3 g of methyl 3- [4- (4-phenyl) phenylamino) phenyl] propionate, 43.4 g of 1,2-bis (4-iodophenyl) ethane, 30.4 g of potassium carbonate, copper sulfate 1.5 g of pentahydrate and 50 ml of n-tridecane were added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. with nitrogen flow. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 62.2 g of I-30a (yield 74%).

3L三口フラスコにI−30aを42.1g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム4.4gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸20ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−30bを34.1g得た(収率84%)。   42.1 g of I-30a and 350 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 4.4 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added thereto, followed by stirring for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was dropped into 1 L of water / 20 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 34.1 g of I-30b. (Yield 84%).

500ml三口フラスコにI−30bを28.5g、4−クロロメチルスチレン11.8g、炭酸カリウム10.6g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−30を26.7g得た(収率73%)。
得られた化合物(I)−30のIRスペクトルを図10に示す。
To a 500 ml three-necked flask were added 28.5 g of I-30b, 11.8 g of 4-chloromethylstyrene, 10.6 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide). The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 26.7 g of the charge transfer agent I-30 of the present invention (yield 73%). .
FIG. 10 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -30.

<合成例8>
−本発明の電荷輸送剤I−43の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、4,4’−ジヨードー3,3’−ジメチルー1,1’−ビフェニル43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−43aを56.0g得た(収率65%)。
3L三口フラスコにI−43aを43.1g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム8.8gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸40ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−43bを36.6g得た(収率91%)。
500ml三口フラスコにI−43bを28.2g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−43を37.8g得た(収率85%)。
得られた化合物(I)−43のIRスペクトルを図11に示す。
<Synthesis Example 8>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-43 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 43.4 g of 4,4′-diiodo 3,3′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 30.4 g of potassium carbonate, Copper sulfate pentahydrate (1.5 g) and n-tridecane (50 ml) were added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. with nitrogen flow. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 56.0 g of I-43a (yield 65%).
43.1 g of I-43a and 350 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 8.8 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added thereto, followed by stirring for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 40 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 36.6 g of I-43b. (Yield 91%).
To a 500 ml three-necked flask, 28.2 g of I-43b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide) were added. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 37.8 g of the charge transfer agent I-43 of the present invention (yield 85%). .
An IR spectrum of the obtained compound (I) -43 is shown in FIG.

<合成例9>
−本発明の電荷輸送剤I−46の合成−
3L三口フラスコにI−43aを43.1g、テトラヒドロフラン300mlを添加し、撹拌して系中を窒素置換してから水素化ホウ素ナトリウム16.3gを添加した。その後、加熱還流しながらメタノール50mlを2時間かけて滴下した。さらに2時間加熱還流した後、いったん0℃まで冷却し、2N塩酸300mlを1時間かけて滴下し、徐々に室温に戻した。その後、酢酸エチル400mlを加えて分液操作を行い、酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10gを加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−46aを28.5g得た(収率76%)。
<Synthesis Example 9>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-46 of the Present Invention—
To a 3 L three-necked flask, 43.1 g of I-43a and 300 ml of tetrahydrofuran were added, and the system was stirred and purged with nitrogen. Then, 16.3 g of sodium borohydride was added. Thereafter, 50 ml of methanol was added dropwise over 2 hours while heating under reflux. The mixture was further refluxed for 2 hours, then cooled to 0 ° C., and 300 ml of 2N hydrochloric acid was added dropwise over 1 hour, and the temperature was gradually returned to room temperature. Thereafter, 400 ml of ethyl acetate was added to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 28.5 g of I-46a (yield 76%).

500ml三口フラスコにI−46aを26.2g、コハク酸無水物14.9g、テトラヒドロフラン70mlを添加し、系中を窒素フローて撹拌しながらトリエチルアミン14.9g、N,N−ジメチルアミノピリジン0.2gを添加し、さらに2時間撹拌した。その後、1N塩酸200mlを添加し、さらに酢酸エチル300mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10gを加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−46bを35.0g得た(収率87%)。   To a 500 ml three-necked flask, 26.2 g of I-46a, 14.9 g of succinic anhydride, and 70 ml of tetrahydrofuran were added, and 14.9 g of triethylamine and 0.2 g of N, N-dimethylaminopyridine were stirred while flowing through the system. Was added and stirred for another 2 hours. Thereafter, 200 ml of 1N hydrochloric acid was added, and 300 ml of ethyl acetate was further added to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 35.0 g of I-46b (yield 87%).

500ml三口フラスコにI−46bを23.0g、4−クロロメチルスチレン13.4g、炭酸カリウム12.2g、ニトロベンゼン0.05g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)100mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−46を26.1g得た(収率81%)。
得られた化合物(I)−46のIRスペクトルを図12に示す。
To a 500 ml three-necked flask was added 23.0 g of I-46b, 13.4 g of 4-chloromethylstyrene, 12.2 g of potassium carbonate, 0.05 g of nitrobenzene, and 100 ml of DMF (N, N-dimethylformamide), and the system was filled with nitrogen. The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 26.1 g of the charge transfer agent I-46 of the present invention (yield 81%). .
FIG. 12 shows the IR spectrum of the obtained compound (I) -46.

<合成例10>
−本発明の電荷輸送剤I−53の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、1,2−ビス(4−ヨードフェニル)エタン43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、I−53aを59.4g得た(収率69%)。
<Synthesis Example 10>
—Synthesis of Charge Transfer Agent I-53 of the Present Invention—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 43.4 g of 1,2-bis (4-iodophenyl) ethane, 30.4 g of potassium carbonate, copper sulfate pentahydrate 1.5 g and 50 ml of n-tridecane were added, and the system was stirred for 20 hours while being heated at 220 ° C. with nitrogen flow. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 59.4 g of I-53a (yield 69%).

3L三口フラスコにI−53aを43.1g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム8.8gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸40ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、I−53bを34.2g得た(収率85%)。   To a 3 L three-necked flask, 43.1 g of I-53a and 350 ml of tetrahydrofuran were added, an aqueous solution in which 8.8 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added, and the mixture was stirred for 5 hours while heating to 60 ° C. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 40 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, and vacuum-dried for 10 hours to obtain 34.2 g of I-53b. (Yield 85%).

500ml三口フラスコにI−53bを28.2g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、本発明の電荷輸送剤I−53を35.1g得た(収率79%)。
得られた化合物(I)−53のIRスペクトルを図13に示す。
To a 500 ml three-necked flask was added 28.2 g of I-53b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, and 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide). The mixture was flowed and stirred at 75 ° C. for 5 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 35.1 g of the charge transfer agent I-53 of the present invention (yield 79%). .
The IR spectrum of the obtained compound (I) -53 is shown in FIG.


<実施例1>
−電荷輸送性膜の作製−
下記組成の電荷輸送膜形成用塗布液を調製した。
(電荷輸送剤)
前記合成例1で合成した電荷輸送材料((I)−15):100質量部
(開始剤)
V−601(和光純薬社製):2質量部
(溶剤)
テトラヒドロフラン(THF)/トルエン混合溶剤(質量比40/60):150質量部
<Example 1>
-Fabrication of charge transport film-
A coating liquid for forming a charge transport film having the following composition was prepared.
(Charge transport agent)
Charge transport material synthesized in Synthesis Example 1 ((I) -15): 100 parts by mass (initiator)
V-601 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 2 parts by mass (solvent)
Tetrahydrofuran (THF) / toluene mixed solvent (mass ratio 40/60): 150 parts by mass

ガラス基板上にITO膜を備えるITOガラス基板を用意し、そのITO膜を2mm幅の短冊状にエッチングしてITO電極(陽極)を形成した。このITOガラス基板を、イソプロパノール(電子工業用、関東化学社製)で超音波洗浄した後、スピンコーターで乾燥させた。
上記ITOガラス基板のITO電極が形成されている面上に、上記電荷輸送性膜形成用塗布液を塗布し、酸素濃度約100ppmの雰囲気下で150℃、40分加熱し、5μmの電荷輸送性膜1を形成した。
An ITO glass substrate provided with an ITO film on a glass substrate was prepared, and the ITO film was etched into a strip shape having a width of 2 mm to form an ITO electrode (anode). The ITO glass substrate was ultrasonically cleaned with isopropanol (for electronics industry, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and then dried with a spin coater.
On the surface of the ITO glass substrate on which the ITO electrode is formed, the coating solution for forming a charge transporting film is applied and heated at 150 ° C. for 40 minutes in an atmosphere having an oxygen concentration of about 100 ppm. Film 1 was formed.

(移動度の安定性の測定)
上記電荷輸送性膜に対し、TOF−401(住友重機械工業製)を用いて30V/μmの電界をかけて移動度を100回繰り返し測定し、下記式から移動度の安定性を評価した。
なお、「||」は、絶対値を指す。A++が最も良好な特性であることを示す。
(Measurement of mobility stability)
The mobility was repeatedly measured 100 times by applying an electric field of 30 V / μm to the charge transporting film using TOF-401 (manufactured by Sumitomo Heavy Industries), and the stability of the mobility was evaluated from the following formula.
“||” indicates an absolute value. A ++ indicates the best characteristics.

移動度の安定性 =
|(1回目測定の移動度)−(100回目測定の移動度)|/(1回目測定の移動度)
A++:0.05未満
A+:0.05以上 0.08未満
A :0.08以上 0.1未満
B :0.1以上 0.2未満
C :0.2以上
Mobility stability =
| (Mobility of first measurement) − (mobility of 100th measurement) | / (mobility of first measurement)
A ++: Less than 0.05 A +: 0.05 or more and less than 0.08 A: 0.08 or more and less than 0.1 B: 0.1 or more and less than 0.2 C: 0.2 or more

‐有機電界発光素子の作製‐
ガラス基板上にITO膜を備えるITOガラス基板を用意し、そのITO膜を2mm幅の短冊状にエッチングしてITO電極(陽極)を形成した。このITOガラス基板を、イソプロパノール(電子工業用、関東化学社製)で超音波洗浄した後、スピンコーターで乾燥させた。
次に、ITOガラス基板のITO電極が形成されている面上に、昇華精製した銅フタロシアニンを真空蒸着することにより厚さ0.015μmの薄膜を形成した。
上記の電荷輸送性膜形成用塗布液を上記銅フタロシアニン膜上に塗布し、酸素濃度約100ppmの雰囲気下で145℃、40分加熱し、0.05μmの薄膜を形成した。これにより、ITO電極上に2層構造の正孔輸送層を形成した。
次に、上記正孔輸送層上に、発光材料としてトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)を蒸着することにより厚さ0.060μmの発光層を形成した。
更に、上記発光層上に、Mg−Ag合金を共蒸着により蒸着して、2mm幅、0.13μm厚の短冊状のMg−Ag電極(陰極)を形成し、有機電界発光素子1を得た。なお、ITO電極とMg−Ag電極とは、それぞれの延在方向が直交するように形成した。得られた有機電界発光素子1の有効面積は0.04cmであった。
-Fabrication of organic electroluminescent devices-
An ITO glass substrate provided with an ITO film on a glass substrate was prepared, and the ITO film was etched into a strip shape having a width of 2 mm to form an ITO electrode (anode). The ITO glass substrate was ultrasonically cleaned with isopropanol (for electronics industry, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and then dried with a spin coater.
Next, a thin film having a thickness of 0.015 μm was formed by vacuum deposition of copper phthalocyanine purified by sublimation on the surface of the ITO glass substrate on which the ITO electrode was formed.
The charge transporting film-forming coating solution was applied onto the copper phthalocyanine film and heated at 145 ° C. for 40 minutes in an atmosphere having an oxygen concentration of about 100 ppm to form a 0.05 μm thin film. Thereby, a hole transport layer having a two-layer structure was formed on the ITO electrode.
Next, tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq) was vapor-deposited as a light emitting material on the hole transport layer to form a light emitting layer having a thickness of 0.060 μm.
Further, a Mg—Ag alloy was vapor-deposited on the light emitting layer by co-evaporation to form a strip-shaped Mg—Ag electrode (cathode) having a width of 2 mm and a thickness of 0.13 μm, whereby an organic electroluminescent device 1 was obtained. . The ITO electrode and the Mg—Ag electrode were formed so that their extending directions were orthogonal to each other. The effective area of the obtained organic electroluminescent element 1 was 0.04 cm 2 .

<比較例1>
電荷輸送材料(I−15)を下記の構造を有する比較用化合物(AC−1)に変更する以外は実施例1と同様にして、比較電荷輸送性膜1及び比較有機電界発光素子1を得た。これを比較有機電界発光素子1とする。
<Comparative Example 1>
A comparative charge transporting film 1 and a comparative organic electroluminescent element 1 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the charge transporting material (I-15) was changed to the comparative compound (AC-1) having the following structure. It was. This is referred to as a comparative organic electroluminescent element 1.

<比較例2>
電荷輸送材料(I−15)を下記の構造を有する比較用化合物(AC−2)に変更する以外は実施例1と同様にして、比較電荷輸送性膜2及び比較有機電界発光素子2を得た。これを比較有機電界発光素子2とする。
<Comparative Example 2>
A comparative charge transporting film 2 and a comparative organic electroluminescent element 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the charge transporting material (I-15) was changed to the comparative compound (AC-2) having the following structure. It was. This is referred to as a comparative organic electroluminescent element 2.

<実施例2乃至16>
実施例1において、電荷輸送材料、開始剤、溶剤を表3に記載したものに変更する以外は実施例1と同様にして、電荷輸送性膜2〜16及び有機電界発光素子2〜16を得た。
<Examples 2 to 16>
In Example 1, charge transport films 2 to 16 and organic electroluminescent elements 2 to 16 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the charge transport material, initiator, and solvent were changed to those described in Table 3. It was.

(素子特性の評価)
実施例、比較例で得られた有機電界発光素子について、以下のようにして素子特性を評価した。
(Evaluation of device characteristics)
About the organic electroluminescent element obtained by the Example and the comparative example, the element characteristic was evaluated as follows.

<最高輝度>
真空中(0.125Pa)で、ITO電極をプラス(陽極)、Mg−Ag電極をマイナス(陰極)とし、これらの間に直流電圧を印加して発光させ、そのときの最高輝度を評価した。それらの結果を表3に示す。
なお、最高輝度の評価基準は以下の通りである。(数値の単位はcd/m
A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:800以上
A+:750以上 800未満
A :700以上 750未満
B :650以上 700未満
C :650未満
<Maximum brightness>
In a vacuum (0.125 Pa), the ITO electrode was positive (anode) and the Mg-Ag electrode was negative (cathode). A direct current voltage was applied between them to emit light, and the maximum luminance at that time was evaluated. The results are shown in Table 3.
The evaluation standard for the maximum luminance is as follows. (The unit of the numerical value is cd / m 2 )
A ++ indicates the best characteristics.
A ++: 800 or more
A: 750 or more and less than 800 A: 700 or more and less than 750 B: 650 or more and less than 700 C: Less than 650

<素子寿命>
また、乾燥窒素中で有機電界発光素子の発光寿命の測定を以下のようにして行った。室温において直流駆動方式(DC駆動)で初期輝度を500cd/mとし、比較例1の素子の輝度(初期輝度L0:500cd/m)が(輝度L/初期輝度L0)=0.5となった時点の駆動時間を1.0とした場合の相対時間、及び、素子の輝度が(輝度L/初期輝度L0)=0.5となった時点での電圧上昇分(=電圧/初期駆動電圧)により評価した。
なお、相対時間(L/L0=0.5)及び電圧上昇(L/L0=0.5となるとき)の評価基準は以下の通りである。
<Element life>
In addition, the emission lifetime of the organic electroluminescent element was measured in dry nitrogen as follows. At room temperature, the initial luminance is 500 cd / m 2 by DC driving method (DC driving), and the luminance (initial luminance L0: 500 cd / m 2 ) of the element of Comparative Example 1 is (luminance L / initial luminance L0) = 0.5. The relative time when the driving time at the time of becoming 1.0 is the relative time and the voltage increase at the time when the luminance of the element becomes (luminance L / initial luminance L0) = 0.5 (= voltage / initial driving) Voltage).
The evaluation criteria for the relative time (L / L0 = 0.5) and voltage increase (when L / L0 = 0.5) are as follows.

‐相対時間(L/L0=0.5)
A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:1.6以上
A+:1.4以上 1.6未満
A :1.2以上 1.4未満
B :1.0以上 1.2未満
C :1.0未満
-Relative time (L / L0 = 0.5)
A ++ indicates the best characteristics.
A ++: 1.6 or more A +: 1.4 or more and less than 1.6 A: 1.2 or more and less than 1.4 B: 1.0 or more and less than 1.2 C: Less than 1.0

‐電圧上昇(L/L0=0.5となるとき)
A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:1.0以上1.1未満
A+:1.1以上 1.2未満
A :1.2以上 1.3未満
B :1.3以上 1.4未満
C :1.4以上
-Voltage rise (when L / L0 = 0.5)
A ++ indicates the best characteristics.
A ++: 1.0 or more and less than 1.1 A +: 1.1 or more and less than 1.2 A: 1.2 or more and less than 1.3 B: 1.3 or more and less than 1.4 C: 1.4 or more


VE−073:重合開始剤(和光純薬製)
OTazo−15:重合開始剤(大塚化学製)
VE-073: Polymerization initiator (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
OTazo-15: polymerization initiator (manufactured by Otsuka Chemical)

1…基体、2…感光層、2A…電荷発生層、2B,2B−1,2B−2…電荷輸送層、4…下引層、6…機能一体型の感光層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base | substrate, 2 ... Photosensitive layer, 2A ... Charge generation layer, 2B, 2B-1, 2B-2 ... Charge transport layer, 4 ... Undercoat layer, 6 ... Function-integrated type photosensitive layer

Claims (11)

下記一般式(II)で示される反応性化合物。

(一般式(II)中、Ar 乃至Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dは下記一般式(III)で示される基である。c1乃至c5はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、c1乃至c5の合計は2以上8以下の整数である。kは0又は1である。

(一般式(III)中、Lは、−C(=O)−O−と−(CH )n−を組み合わせて形成される2価の連結基(ただし、nは1以上10以下の整数)を示す。)
A reactive compound represented by the following general formula ( II ).

(In the general formula ( II ), Ar 1 to Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. . D is below in formula (III) a group represented .c1 to c5 represents a 2 an integer 0 or more, respectively, the sum of c1 to c5 is 2 to 8 integer .k is 0 or 1 in is.)

(In General Formula (III), L is a divalent linking group formed by combining —C (═O) —O— and — (CH 2 ) n— (where n is an integer of 1 or more and 10 or less). )
前記一般式(III)で示される基が、下記一般式(IV)で示される基である請求項1に記載の反応性化合物。

(一般式(IV)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
The reactive compound according to claim 1, wherein the group represented by the general formula (III) is a group represented by the following general formula (IV).

(In general formula (IV), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)
前記一般式(IV)で示される基が、下記一般式(V)で示される基である請求項に記載の反応性化合物。

(一般式(V)中、pは0以上4以下の整数を示す。)
The reactive compound according to claim 2 , wherein the group represented by the general formula (IV) is a group represented by the following general formula (V).

(In general formula (V), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)
前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、2以上6以下の整数である請求項1〜 請求項のいずれか一項に記載の反応性化合物。 The reactive compound according to any one of claims 1 to 3 , wherein the total of c1 to c5 in the general formula (II) is an integer of 2 to 6. 前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、3以上6以下の整数である請求項に記載の反応性化合物。 The reactive compound according to claim 4 , wherein the total of c1 to c5 in the general formula (II) is an integer of 3 or more and 6 or less. 前記一般式(II)中のc1乃至c5の合計が、4以上6以下の整数である請求項に記載の反応性化合物。 The reactive compound according to claim 5 , wherein the total of c1 to c5 in the general formula (II) is an integer of 4 or more and 6 or less. 下記一般式(II)で示される反応性化合物。  A reactive compound represented by the following general formula (II).

(一般式(II)中、Ar(In the general formula (II), Ar 1 乃至ArTo Ar 4 は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。ArEach independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar 5 は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dは下記一般式(IV)で示される基である。c1乃至c5はそれぞれ0又は1を示し、c1乃至c5の合計は1である。kは0又は1である。)Represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group. D is a group represented by the following general formula (IV). c1 to c5 each represent 0 or 1, and the sum of c1 to c5 is 1. k is 0 or 1. )

(一般式(IV)中、pは0以上4以下の整数を示す。)(In general formula (IV), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)
前記一般式(IV)で示される基が、下記一般式(V)で示される基である請求項7に記載の反応性化合物。  The reactive compound according to claim 7, wherein the group represented by the general formula (IV) is a group represented by the following general formula (V).

(一般式(V)中、pは0以上4以下の整数を示す。)(In general formula (V), p represents an integer of 0 or more and 4 or less.)
請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の反応性化合物又は該反応性化合物に由来する構造を含む電荷輸送性膜。   The charge transport film | membrane containing the structure derived from the reactive compound as described in any one of Claims 1-8, or this reactive compound. 請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の反応性化合物を含有する組成物の重合あるいは硬化膜からなる電荷輸送性膜。   A charge transport film comprising a polymerized or cured film of a composition containing the reactive compound according to any one of claims 1 to 8. 請求項9又は請求項10に記載の電荷輸送性膜を有する光電変換装置。   A photoelectric conversion device comprising the charge transporting film according to claim 9.
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