JP6024555B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus Download PDF

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Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.

電子写真方式の画像形成装置は、一般的には次のような構成、およびプロセスを有する。即ち、電子写真感光体表面を帯電装置で定められた極性および電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体の表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像に付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させる。   An electrophotographic image forming apparatus generally has the following configuration and process. That is, the surface of the electrophotographic photosensitive member was charged to the polarity and potential determined by the charging device, and the electrostatic latent image was formed by selectively removing the surface of the charged electrophotographic photosensitive member by image exposure. Thereafter, the latent image is developed as a toner image by being attached to the electrostatic latent image by a developing unit, and the toner image is transferred to a transfer medium by a transfer unit, and discharged as an image formed product.

例えば、電子写真感光体の表面に保護層を設けて強度を向上させることが提案されている。
保護層を形成する材料系としては、例えば、導電粉をフェノール樹脂に分散したもの(例えば特許文献1参照)、有機―無機ハイブリッド材料によるもの(例えば特許文献2参照)、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるもの(例えば特許文献3参照)等が開示されている。また、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸あるいは、電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜(例えば特許文献4参照)、ベンゾグアナミン樹脂にヨウ素、有機スルホン酸化合物、あるいは、塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜(例えば特許文献5参照)、特定の添加剤とフェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、あるいは、ウレタン樹脂との硬化膜(例えば特許文献6参照)が開示されている。
For example, it has been proposed to improve the strength by providing a protective layer on the surface of the electrophotographic photosensitive member.
Examples of the material system for forming the protective layer include a material in which conductive powder is dispersed in a phenol resin (see, for example, Patent Document 1), a material using an organic-inorganic hybrid material (see, for example, Patent Document 2), an alcohol-soluble charge transport material, and the like. The thing by a phenol resin (for example, refer patent document 3) etc. are disclosed. Further, a cured film of an alkyl etherified benzoguanamine / formaldehyde resin and an electron-accepting carboxylic acid or an electron-accepting polycarboxylic acid anhydride (see, for example, Patent Document 4), iodine, an organic sulfonic acid compound, or a chlorinated benzoguanamine resin. A cured film doped with ferric iron (see, for example, Patent Document 5), a cured film of a specific additive and a phenol resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, a siloxane resin, or a urethane resin (for example, see Patent Document 6). It is disclosed.

また、近年ではアクリル系材料による保護層が注目されている。
例えば、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜(例えば特許文献7参照)、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材および結着樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜(例えば特許文献8参照)、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜(例えば特許文献9参照)が開示されている。
In recent years, a protective layer made of an acrylic material has attracted attention.
For example, a film obtained by applying and curing a liquid containing a photocurable acrylic monomer (see, for example, Patent Document 7), a monomer having a carbon-carbon double bond, a charge transfer material having a carbon-carbon double bond, and a binder A film formed by reacting a carbon-carbon double bond of the monomer and a carbon-carbon double bond of the charge transfer material with heat or light energy in a resin mixture (see, for example, Patent Document 8); A film made of a compound obtained by polymerizing a hole transporting compound having two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule (see, for example, Patent Document 9) is disclosed.

これらアクリル系材料は、硬化条件、硬化雰囲気等の影響を強く受け、例えば、真空中、あるいは不活性ガス中で放射線照射後に加熱されることによって形成された膜(例えば特許文献10参照)、不活性ガス中で加熱硬化された膜(例えば特許文献11参照)が開示されている。   These acrylic materials are strongly affected by curing conditions, curing atmospheres, etc., and are, for example, films formed by heating after irradiation with radiation in a vacuum or an inert gas (see, for example, Patent Document 10), A film (see, for example, Patent Document 11) that is heat-cured in an active gas is disclosed.

また、電荷輸送材料自身をアクリル変性し、架橋し得るものとするとともに、電荷輸送性を有さない反応性モノマーを添加させることも開示されている(例えば特許文献8、12参照)   Further, it is disclosed that the charge transporting material itself can be acrylic-modified and crosslinked, and a reactive monomer having no charge transporting property is added (see, for example, Patent Documents 8 and 12).

また、表面層中にフッ素含有樹脂粒子を含有させることにより、感光体の表面層の表面エネルギーを低減する方法が提案されており、潤滑剤としてフッ素原子含有化合物を保護層中に含有する技術が開示されている(例えば特許文献13参照)。
また、感光層と表面層の間に接着層を設けることにより、耐摩耗強度や電気特性を改善する方法が提示されており、電荷輸送層構造を有しない3官能以上のラジカル重合性化合物と電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物を含有する表面層を有し、表面層と感光層の間に接着層を有した感光体(例えば特許文献14参照)、(メタ)アクリロイル基を含有する表面層のうち最表面の第1層と、該第1層に隣接した第2層を有し、第1層と第2層の酸化電位の差が0.1V以下である感光体(例えば特許文献15参照)が開示されている。
In addition, a method for reducing the surface energy of the surface layer of the photoreceptor by incorporating fluorine-containing resin particles in the surface layer has been proposed, and a technique for containing a fluorine atom-containing compound as a lubricant in the protective layer is proposed. It is disclosed (see, for example, Patent Document 13).
In addition, a method of improving the wear resistance strength and electrical characteristics by providing an adhesive layer between the photosensitive layer and the surface layer has been proposed. The trifunctional or higher functional radical polymerizable compound having no charge transport layer structure and the charge are proposed. A photoreceptor having a surface layer containing a radically polymerizable compound having a transport structure and having an adhesive layer between the surface layer and the photosensitive layer (see, for example, Patent Document 14), a surface layer containing a (meth) acryloyl group Photoconductor having a first layer on the outermost surface and a second layer adjacent to the first layer, and the difference in oxidation potential between the first layer and the second layer is 0.1 V or less (for example, Patent Document 15) Reference).

特許第3287678号公報Japanese Patent No. 3287678 特開平12−019749号公報Japanese Patent Laid-Open No. 12-019749 特開2002−82469号公報JP 2002-82469 A 特開昭62−251757号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-251757 特開平7−146564号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-146564 特開平2006−84711号公報JP 2006-84711 A 特開平5−40360号公報JP-A-5-40360 特開平5−216249号公報JP-A-5-216249 特開2000−206715号公報JP 2000-206715 A 特開2004−12986号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-12986 特開平7−72640号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-72640 特開2004−302450号公報JP 2004-302450 A 特開2001−175016号公報JP 2001-175016 A 特開2007−17633号公報JP 2007-17633 A 特開2010−156836号公報JP 2010-156836 A

本発明の課題は、電気特性及び耐傷性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体を提供することである。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having an outermost surface layer excellent in electrical characteristics and scratch resistance.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、   The above problem is solved by the following means. That is,

請求項1に係る発明は、
導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を有し、
最表面層である第1層が、下記一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜で構成され、
前記最表面層に隣接した下層である第2層が、電荷輸送性の硬化膜で構成される電子写真感光体。
The invention according to claim 1
A conductive substrate, and a photosensitive layer provided on the conductive substrate,
The first layer which is the outermost surface layer is composed of a cured film of a composition containing at least one selected from reactive compounds represented by the following general formulas (I) and (II),
An electrophotographic photosensitive member, wherein a second layer which is a lower layer adjacent to the outermost surface layer is formed of a charge transporting cured film.


〔一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕 [In general formula (I), F represents a charge transporting skeleton. L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O-. Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. m represents an integer of 1 or more and 8 or less. ]


〔一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。〕 [In General Formula (II), F represents a charge transporting skeleton. L ′ represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, and an alkylene group, alkenylene group, —C (═O) —, —N (R) —, —S—, and —O—. (N + 1) -valent linking groups containing two or more selected from the group consisting of: R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. m ′ represents an integer of 1 to 6. n represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]

請求項2に係る発明は、
前記一般式(I)で示される反応性化合物が、下記一般式(I−a)、下記一般式(I−b)、下記一般式(I−c)、及び下記一般式(I−d)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物である請求項1に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 2
The reactive compound represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (Ia), the following general formula (Ib), the following general formula (Ic), or the following general formula (Id). The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, which is at least one reactive compound selected from the reactive compounds represented by:


〔一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ara5及びAra6は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Xaは、アルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Daは、下記一般式(IA−a)で示される基を示す。ac1〜ac4は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。但し、Daの総数は1又は2である。〕 [In the general formula (Ia), Ar a1 to Ar a4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar a5 and Ar a6 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group. Xa represents a divalent linking group formed by combining groups selected from an alkylene group, -O-, -S-, and an ester. Da represents a group represented by the following general formula (IA-a). ac1 to ac4 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. However, the total number of Da is 1 or 2. ]


〔一般式(IA−a)中、Lは、*−(CHan−O−CH−で示され、*にてAra1〜Ara4で示される基に連結する2価の連結基を示す。anは、1又は2の整数を示す。〕 [In the general formula (IA-a), L a is, * - (CH 2) an -O-CH 2 - is represented by the linking divalent linked to a group represented by Ar a1 to Ar a4 at * Indicates a group. an represents an integer of 1 or 2. ]


〔一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arb5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dbは、下記一般式(IA−b)で示される基を示す。bc1〜bc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。bkは、0又は1を示す。但し、Dbの総数は、1又は2である。〕 [In the general formula (Ib), Ar b1 to Ar b4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Db represents a group represented by the following general formula (IA-b). bc1 to bc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. bk represents 0 or 1. However, the total number of Db is 1 or 2. ]


〔一般式(IA−b)中、Lは、*−(CHbn−O−で示される基を含み、*にてArb1〜Arb5で示される基に連結する2価の連結基を示す。bnは、3以上6以下の整数を示す。〕 [In General Formula (IA-b), L b includes a group represented by * — (CH 2 ) bn —O—, and is a divalent linkage linked to a group represented by Ar b1 to Ar b5 at *. Indicates a group. bn represents an integer of 3 to 6. ]


〔一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arc5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dcは、下記一般式(IA−c)で示される基を示す。cc1〜cc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。ckは、0又は1を示す。但し、Dcの総数は、1以上8以下である。〕 [In the general formula (Ic), Ar c1 to Ar c4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dc represents a group represented by the following general formula (IA-c). cc1 to cc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. ck represents 0 or 1. However, the total number of Dc is 1 or more and 8 or less. ]


〔一般式(IA−c)中、Lは、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。〕 [In the general formula (IA-c), L C is, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and, -C (= O) - and -O -, - N ( R)-or -S- represents a divalent linking group containing one or more groups selected from the group consisting of groups. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. ]


〔一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ard5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Ddは、下記一般式(IA−d)で示される基を示す。dc1〜dc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。dkは、0又は1を示す。但し、Ddの総数は、3以上8以下である。〕 [In the general formula (Id), Ar d1 to Ar d4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dd represents a group represented by the following general formula (IA-d). dc1 to dc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. dk represents 0 or 1. However, the total number of Dd is 3 or more and 8 or less. ]


〔一般式(IA−d)中、Lは、*−(CHdn−O−で示される基を含み、*にてArd1〜Ard5で示される基に連結する2価の連結基を示す。dnは、1以上6以下の整数を示す。〕 [In General Formula (IA-d), L d includes a group represented by * — (CH 2 ) dn —O—, and is a divalent linkage linked to a group represented by Ar d1 to Ar d5 at *. Indicates a group. dn represents an integer of 1 to 6. ]

請求項3に係る発明は、
前記一般式(IA−c)で示される基が、下記一般式(IA−c1)で示される基である請求項2に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 3
The electrophotographic photosensitive member according to claim 2, wherein the group represented by the general formula (IA-c) is a group represented by the following general formula (IA-c1).


〔一般式(IA−c1)中、cp1は0以上4以下の整数を示す。〕 [In the general formula (IA-c1), cp1 represents an integer of 0 or more and 4 or less. ]

請求項4に係る発明は、
前記一般式(II)で示される化合物が、下記一般式(II−a)で示される化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 4
The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (II) is a compound represented by the following general formula (II-a).


〔一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ark5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dkは、下記一般式(IIA−a)で示される基を示す。kc1〜kc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。kkは、0又は1を示す。但し、Dkの総数は、1以上8以下である。〕 [In the general formula (II-a), Ar k1 to Ar k4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar k5 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group. Dk represents a group represented by the following general formula (IIA-a). kc1 to kc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. kk represents 0 or 1. However, the total number of Dk is 1 or more and 8 or less. ]


〔一般式(IIA−a)中、Lは、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(kn+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。knは、2以上3以下の整数を示す。〕 [In the general formula (IIA-a), L k represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, an alkylene group, an alkenylene group, —C (═O) —, —N (R) A (kn + 1) -valent linking group containing two or more selected from the group consisting of-, -S-, and -O- is shown. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. kn represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]

請求項5に係る発明は、
前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)で示される基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 5
The group connected to the charge transporting skeleton represented by F of the compound represented by the general formula (II) is a group represented by the following general formula (IIA-a3) or (IIA-a4). The electrophotographic photosensitive member according to any one of the above.


〔一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)中、Xk3は2価の連結基を示す。kq3は0又は1の整数を示す。Xk4は2価の連結基を示す。kq4は0又は1の整数を示す。〕 [In general formula (IIA-a3) or (IIA-a4), Xk3 represents a divalent linking group. kq3 represents an integer of 0 or 1. X k4 represents a divalent linking group. kq4 represents an integer of 0 or 1. ]

請求項6に係る発明は、
前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)で示される基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 6
The group linked to the charge transporting skeleton represented by F of the compound represented by the general formula (II) is a group represented by the following general formula (IIA-a1) or (IIA-a2). The electrophotographic photosensitive member according to any one of the above.


〔一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)中、Xk1は2価の連結基を示す。kq1は0又は1の整数を示す。Xk2は2価の連結基を示す。kq2は0又は1の整数を示す。〕 [In general formula (IIA-a1) or (IIA-a2), Xk1 represents a divalent linking group. kq1 represents an integer of 0 or 1. X k2 represents a divalent linking group. kq2 represents an integer of 0 or 1. ]

請求項7に係る発明は、
前記最表面層である第1層が、フッ素樹脂粒子を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The invention according to claim 7 provides:
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the first layer as the outermost surface layer contains fluororesin particles.

請求項10に係る発明は、
請求項1〜のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
The invention according to claim 10 is:
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 9 ,
A process cartridge that can be attached to and detached from an image forming apparatus.

請求項11に係る発明は、
請求項1〜のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
The invention according to claim 11 is:
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 9 ,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to a transfer medium;
An image forming apparatus comprising:

請求項1、2,3、4、5、又は6に係る発明によれば、最表面層である第1層が上記反応性化合物を含む組成物の硬化膜で構成され、最表面層に隣接する下層である第2層が非硬化膜である場合に比べ、電気特性及び耐傷性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体が提供される。
請求項7に係る発明によれば、最表面層である第1層が上記反応性化合物を含む組成物の硬化膜で構成され、最表面層に隣接する下層である第2層が非硬化膜である場合に比べ、フッ素含有樹脂粒子の偏在が抑制された最表面層を持つ電子写真感光体が提供される。
According to the invention according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, the first layer which is the outermost surface layer is composed of a cured film of the composition containing the reactive compound, and is adjacent to the outermost surface layer. An electrophotographic photosensitive member having an outermost surface layer excellent in electrical characteristics and scratch resistance is provided as compared with the case where the second layer, which is the lower layer, is an uncured film.
According to the invention concerning Claim 7, the 1st layer which is the outermost surface layer is comprised with the cured film of the composition containing the said reactive compound, and the 2nd layer which is the lower layer adjacent to an outermost surface layer is a non-hardened film. Compared to the case, an electrophotographic photosensitive member having an outermost surface layer in which uneven distribution of fluorine-containing resin particles is suppressed is provided.

請求項10、又は11に係る発明によれば、最表面層である第1層が上記反応性化合物を含む組成物の硬化膜で構成され、最表面層に隣接する下層である第2層が非硬化膜である電子写真感光体を備えた場合に比べ、長寿命のプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。 According to the invention concerning Claim 10 or 11 , the 1st layer which is an outermost surface layer is comprised with the cured film of the composition containing the said reactive compound, and the 2nd layer which is a lower layer adjacent to an outermost surface layer is A process cartridge or an image forming apparatus having a long life is provided as compared with a case where an electrophotographic photosensitive member which is a non-cured film is provided.

本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of an electrophotographic photoreceptor according to an exemplary embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view illustrating another example of the layer configuration of the electrophotographic photosensitive member according to the exemplary embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view illustrating another example of the layer configuration of the electrophotographic photosensitive member according to the exemplary embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an image forming apparatus according to an exemplary embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows another example of the image forming apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows another example of the image forming apparatus which concerns on this embodiment. 図6に示す画像形成装置における現像装置を示す概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram illustrating a developing device in the image forming apparatus illustrated in FIG. 6. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows another example of the image forming apparatus which concerns on this embodiment. 図8に示す画像形成装置において、現像装置の記録電極の周囲に形成される液体現像剤のメニスカス及び画像部への液体移行の状態を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a meniscus of a liquid developer formed around a recording electrode of a developing device and a state of liquid transfer to an image portion in the image forming apparatus illustrated in FIG. 8. 図6及び図8に示す画像形成装置における現像装置の他の一例を示す概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the developing device in the image forming apparatus illustrated in FIGS. 6 and 8.

以下、本発明の一例である本実施形態について説明する。   Hereinafter, the present embodiment which is an example of the present invention will be described.

[電子写真感光体]
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を有する。
最表面層である第1層が、下記一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物(以下、「特定の反応性基含有電荷輸送材料」と称することがある)から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜で構成される。一方、最表面層に隣接した下層である第2層が、電荷輸送性の硬化膜で構成される。
[Electrophotographic photoreceptor]
The electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment includes a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate.
The first layer which is the outermost surface layer is selected from reactive compounds represented by the following general formulas (I) and (II) (hereinafter sometimes referred to as “specific reactive group-containing charge transport material”) It is comprised with the cured film of the composition containing at least 1 sort (s). On the other hand, the second layer, which is the lower layer adjacent to the outermost surface layer, is composed of a charge transporting cured film.

ここで、第1層は、電子写真感光体の最表面層を構成する層である。該最表面層は、電子写真感光体において導電性基体上に設けられる層のうち、導電性基体から最も遠い位置に設けられる層である。具体的には、第1層は、例えば、保護層として機能する層、電荷輸送層として機能する層、又はこれらの機能を併有する層として設けられる。
一方、第2層は、第1層に隣接した下層であり、例えば、電荷輸送層として機能する層として設けられる。
Here, the first layer is a layer constituting the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member. The outermost surface layer is a layer provided at a position farthest from the conductive substrate among the layers provided on the conductive substrate in the electrophotographic photosensitive member. Specifically, the first layer is provided, for example, as a layer that functions as a protective layer, a layer that functions as a charge transport layer, or a layer that has both of these functions.
On the other hand, the second layer is a lower layer adjacent to the first layer, and is provided, for example, as a layer that functions as a charge transport layer.

本実施形態に係る電子写真感光体は、上記構成により、電気特性及び耐傷性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体となる。
この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。
The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment is an electrophotographic photosensitive member having an outermost surface layer excellent in electrical characteristics and scratch resistance due to the above configuration.
The reason for this is not clear, but is thought to be due to the following reasons.

まず、特定の反応性基含有電荷輸送材料(一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物)から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜を最表面層に利用すると、最表面層が優れた電気特性と機械的強度が実現されると考えられる。
これは、特定の反応性基含有電荷輸送材料自身が電荷輸送性能に優れる上、−OH、−NH−などの電荷輸送を妨げる極性基が少なく、また、電荷輸送に有効なπ電子を有するスチリル基で、重合により当該材料が連結されることから、残留歪が抑制され、電荷を捕獲する構造的なトラップの形成が抑制されると考えられるためである。
また、特定の反応性基含有電荷輸送材料は、アクリル系材料よりも疎水的で水分がつきにくい性質があることから、長期にわたって電気特性が維持されると考えられる。
First, when a cured film of a composition containing at least one selected from specific reactive group-containing charge transport materials (reactive compounds represented by general formulas (I) and (II)) is used as the outermost surface layer, It is considered that the outermost surface layer realizes excellent electrical characteristics and mechanical strength.
This is because the specific reactive group-containing charge transport material itself has excellent charge transport performance, and there are few polar groups that hinder charge transport such as —OH and —NH—, and styryl having π electrons effective for charge transport. This is because, since the material is linked by polymerization, residual strain is suppressed, and it is considered that formation of a structural trap for trapping charges is suppressed.
In addition, the specific reactive group-containing charge transporting material is considered to maintain its electrical characteristics over a long period of time because it has a property of being more hydrophobic and less likely to get moisture than an acrylic material.

しかしながら、電子写真感光体の最表面層として、下層の感光層(例えば電荷輸送層)上に、特定の反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物による硬化膜を形成するには、当該材料を含む塗布液を下層の感光層(例えば電荷輸送層)上に塗布して形成する。このため、塗布液作製のために使用する溶媒の種類によっては、最表面層を塗布形成するときに、下層の感光層(例えば電荷輸送層)に含まれる電荷輸送性材料が最表面層へ移行する現象が発生することがある。
最表面層に移行する電荷輸送性材料が多量に移行すると電荷注入性の障壁となると考えられ、電気特性が悪化する。
However, in order to form a cured film of a composition containing a specific reactive group-containing charge transport material on the lower photosensitive layer (for example, a charge transport layer) as the outermost surface layer of the electrophotographic photoreceptor, the material is used. A coating solution containing the coating solution is formed on the lower photosensitive layer (for example, a charge transport layer). For this reason, depending on the type of solvent used for preparing the coating solution, when the outermost surface layer is applied and formed, the charge transporting material contained in the lower photosensitive layer (for example, the charge transporting layer) moves to the outermost surface layer. May occur.
If a large amount of the charge transporting material that migrates to the outermost surface layer migrates, it is considered that it becomes a barrier against charge injection, and the electrical characteristics deteriorate.

一方、最表面層を塗布形成するとき、塗布液作製のために使用する溶媒の種類によっては、下層の感光層(例えば電荷輸送層)に含まれる結着樹脂が溶解または膨潤し、最表面層へ移行する現象を引き起こすことがある。
最表面層に結着樹脂が移行すると、特定の反応性基含有電荷輸送材料の分子間に入り込み、その重合反応を阻害すると考えられ、硬化膜の膜強度が低下し、耐傷性が低下する。また、特定の反応性基含有電荷輸送材料の濃度が低下すると考えられ、硬化膜の膜強度が低下し、耐傷性が低下する。
On the other hand, when the outermost surface layer is applied and formed, depending on the type of solvent used for preparing the coating solution, the binder resin contained in the lower photosensitive layer (for example, the charge transport layer) dissolves or swells, and the outermost surface layer It may cause a phenomenon to shift to.
When the binder resin migrates to the outermost surface layer, it is considered to enter between molecules of the specific reactive group-containing charge transporting material and inhibit the polymerization reaction, so that the film strength of the cured film is lowered and the scratch resistance is lowered. Moreover, it is thought that the density | concentration of a specific reactive group containing charge transport material falls, the film | membrane intensity | strength of a cured film falls, and scratch resistance falls.

これに対して、最表面層(第1層)に隣接する下層の第2層を電荷輸送性の硬化膜とした上で、この第2層上に最表面層を設けることにより、最表面層に対する電荷輸送材料及び結着樹脂の移行が抑制される。このため、最表面層において、電荷輸送材料の移行に起因する電気特性の悪化が抑制されると共に、結着樹脂の移行に起因する膜強度の低下が抑制される。   On the other hand, the second layer adjacent to the outermost surface layer (first layer) is used as a charge transporting cured film, and the outermost surface layer is provided on the second layer, thereby providing the outermost surface layer. Migration of the charge transport material and the binder resin with respect to is suppressed. For this reason, in the outermost surface layer, the deterioration of the electrical characteristics due to the transfer of the charge transport material is suppressed, and the decrease in the film strength due to the transfer of the binder resin is suppressed.

以上から、本実施形態に係る電子写真感光体は、電気特性及び耐傷性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体となると考えられる。
そして、本実施形態に係る電子写真感光体を備えた画像形成装置(又はプロセスカートリッジ)は、長寿命化が実現される。
From the above, it is considered that the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment is an electrophotographic photosensitive member having an outermost surface layer excellent in electrical characteristics and scratch resistance.
In addition, the life of the image forming apparatus (or process cartridge) including the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment is realized.

なお、本実施形態に係る電子写真感光体では、最表面層に対する電荷輸送材料及び結着樹脂の移行が抑制されることから、この移行に起因する最表面層の膜厚変動も抑制される。つまり、目的とする最表面層の膜厚の制御が容易となる。   In the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment, since the transfer of the charge transport material and the binder resin to the outermost surface layer is suppressed, the film thickness fluctuation of the outermost surface layer due to this transfer is also suppressed. That is, it becomes easy to control the film thickness of the target outermost layer.

本実施形態に係る電子写真感光体は、最最表面層にフッ素含有樹脂粒子を含む場合、最表面層中でのフッ素含有樹脂粒子の偏在が抑制される。
ここで、最表面層を塗布形成するとき、下層の感光層(例えば電荷輸送層)に含まれる結着樹脂が溶解または膨潤し、最表面層へ移行する現象が生じると、フッ素含有樹脂粒子が最表面層の表層側に偏在(つまり高濃度に偏析)する場合がある。
しかしながら、本実施形態に係る感光体は、最表面層(第1層)に隣接する下層の第2層を電荷輸送性の硬化膜とした上で、この第2層上に最表面層を設けることにより、最表面層に対する結着樹脂の移行が抑制される。このため。最表面層にフッ素含有樹脂粒子を含む場合でも、最表面層中でのフッ素含有樹脂粒子の偏在が抑制される。
なお、フッ素含有樹脂粒子が最表面層の表層側に偏在(高濃度に偏析)すると、例えば、最表面層の表層部の樹脂成分の割合が低下し、使用初期の耐摩耗性が低下する。また、最表面層の内部(特に下層側)のフッ素含有樹脂粒子の濃度が低いため、電子写真感光体を長期に使用したときに、最表面層が削れて、フッ素含有樹脂粒子の低濃度領域に達したとき、クリーニングブレードにかかる負荷(トルク)が高まってクリーニング不良が生じ、これによって画質の悪化が起こりうる。
一方で、本実施形態に係る電子写真感光体では、最表面層中でのフッ素含有樹脂粒子の偏在が抑制されることから、これら現象が改善される。
In the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment, when the outermost surface layer includes fluorine-containing resin particles, uneven distribution of the fluorine-containing resin particles in the outermost surface layer is suppressed.
Here, when the outermost surface layer is applied and formed, when the phenomenon that the binder resin contained in the lower photosensitive layer (for example, the charge transport layer) dissolves or swells and moves to the outermost layer occurs, In some cases, the outermost surface layer is unevenly distributed (that is, segregated to a high concentration).
However, in the photoconductor according to the present embodiment, the lowermost second layer adjacent to the outermost surface layer (first layer) is used as a charge transporting cured film, and the outermost surface layer is provided on the second layer. Thereby, the transfer of the binder resin to the outermost surface layer is suppressed. For this reason. Even when the outermost surface layer contains fluorine-containing resin particles, uneven distribution of the fluorine-containing resin particles in the outermost surface layer is suppressed.
If the fluorine-containing resin particles are unevenly distributed (segregated at a high concentration) on the surface layer side of the outermost surface layer, for example, the ratio of the resin component in the surface layer portion of the outermost surface layer is decreased, and the wear resistance at the initial use is decreased. In addition, since the concentration of fluorine-containing resin particles inside the outermost surface layer (especially the lower layer side) is low, the outermost surface layer is scraped when the electrophotographic photosensitive member is used for a long period of time, resulting in a low concentration region of fluorine-containing resin particles. When the pressure reaches the value, the load (torque) applied to the cleaning blade increases, resulting in poor cleaning, which may deteriorate image quality.
On the other hand, in the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment, the uneven distribution of fluorine-containing resin particles in the outermost surface layer is suppressed, so these phenomena are improved.

以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。図2〜図3はそれぞれ本実施形態に係る電子写真感光体の他の一例を示す概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 2 to 3 are schematic sectional views showing other examples of the electrophotographic photosensitive member according to this embodiment.

図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、2種類の電荷輸送層3−1及び3−2が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2、電荷輸送層3−1及び3−2により感光層が構成されており、電荷輸送層3−1及び3−2が、それぞれ第1層及び第2層に該当する。   An electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function-separated photoreceptor (or a laminated photoreceptor), and an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, on which charge generation layers 2, 2 are formed. The type has a structure in which the charge transport layers 3-1 and 3-2 are sequentially formed. In the electrophotographic photoreceptor 7A, the charge generation layer 2 and the charge transport layers 3-1 and 3-2 constitute a photosensitive layer, and the charge transport layers 3-1 and 3-2 include the first layer and the first layer, respectively. It corresponds to 2 layers.

図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aと同様に、電荷発生層2と、電荷輸送層3−1、3−2及び3−3とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図2に示す電子写真感光体7Bは、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷発生層2、非硬化型の電荷輸送層3−3、硬化型の電荷輸送層3−2及び3−1が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3−1、3−2及び3−3、電荷発生層2により感光層が構成されている。電子写真感光体7Bにおける3種類の電荷輸送層は、電荷輸送層3−1及び3−2が硬化型の電荷輸送層として、電荷輸送層3−3が非硬化型の電荷輸送層として構成されており、電荷輸送層3−1及び3−2が、それぞれ第1層及び第2層に該当する。
The electrophotographic photosensitive member 7B shown in FIG. 2 has a function separated into the charge generation layer 2 and the charge transport layers 3-1, 3-2 and 3-3, like the electrophotographic photosensitive member 7A shown in FIG. This is a separate function photoreceptor.
An electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 is provided with an undercoat layer 1 on a conductive substrate 4, on which a charge generation layer 2, a non-curing charge transport layer 3-3, and a curing charge transport. It has a structure in which the layers 3-2 and 3-1 are sequentially formed. In the electrophotographic photoreceptor 7B, a photosensitive layer is constituted by the charge transport layers 3-1, 3-2 and 3-3 and the charge generation layer 2. The three types of charge transport layers in the electrophotographic photoreceptor 7B are configured such that the charge transport layers 3-1 and 3-2 are curable charge transport layers and the charge transport layer 3-3 is a non-curable charge transport layer. The charge transport layers 3-1 and 3-2 correspond to the first layer and the second layer, respectively.

図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6)に含有するものである。
図3に示す電子写真感光体7Cは、導電性支持体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、電荷輸送層3−2及び3−1が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Cにおいては、単層型感光層6、電荷輸送層3−1及び3−2により感光層が構成されており、電荷輸送層3−1及び3−2が、それぞれ第1層及び第2層に該当する。
The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 contains a charge generation material and a charge transport material in the same layer (single layer type photosensitive layer 6).
In the electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3, the undercoat layer 1 is provided on the conductive support 4, and the monolayer type photosensitive layer 6 and the charge transport layers 3-2 and 3-1 are sequentially formed thereon. It has a structure. In the electrophotographic photoreceptor 7C, the photosensitive layer is constituted by the single-layer type photosensitive layer 6 and the charge transport layers 3-1 and 3-2, and the charge transport layers 3-1 and 3-2 are the first layer, respectively. And fall under the second layer.

なお、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。   In the electrophotographic photosensitive member shown in FIGS. 1, 2, and 3, the undercoat layer 1 may or may not be provided.

以下、代表例として図2に示す電子写真感光体7Bに基づいて、各層について説明する。なお。符号は省略して説明する。
但し、電荷輸送層3−1は「保護層」、電荷輸送層3−2は「硬化型の電荷輸送層」、電荷輸送層3−3は「非硬化型の電荷輸送層」と称して、説明する。
Hereinafter, each layer will be described based on the electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 as a representative example. Note that. Reference numerals will be omitted.
However, the charge transport layer 3-1 is referred to as a “protective layer”, the charge transport layer 3-2 is referred to as a “curing charge transport layer”, and the charge transport layer 3-3 is referred to as a “non-curing charge transport layer”. explain.

(導電性基体)
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜(例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム(ITO)等の膜)を設けた樹脂フィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させた樹脂フィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体は、例えば体積抵抗率が10Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。
(Conductive substrate)
Any conductive substrate may be used as long as it is conventionally used. For example, thin films (eg, metals such as aluminum, nickel, chromium, stainless steel, and films of aluminum, titanium, nickel, chromium, stainless steel, gold, vanadium, tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), etc.) And a resin film coated or impregnated with a conductivity-imparting agent, a resin film coated or impregnated with a conductivity-imparting agent, and the like. The shape of the substrate is not limited to a cylindrical shape, and may be a sheet shape or a plate shape.
Note that the conductive substrate preferably has a conductivity of, for example, a volume resistivity of less than 10 7 Ω · cm.

導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、湿式ホーニングなどの処理が行われていてもよい。   When a metal pipe is used as the conductive substrate, the surface may be left as it is, and processing such as mirror cutting, etching, anodizing, rough cutting, centerless grinding, sand blasting, wet honing has been performed in advance. Also good.

(下引層)
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から有機感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
(Undercoat layer)
The undercoat layer is provided as necessary for the purpose of preventing light reflection on the surface of the conductive substrate and preventing inflow of unnecessary carriers from the conductive substrate to the organic photosensitive layer.

下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、不飽和ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、結着樹脂としては、上層(電荷発生層)の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
The undercoat layer includes, for example, a binder resin and, if necessary, other additives.
Examples of the binder resin contained in the undercoat layer include acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, and polyvinyl chloride. Resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, unsaturated urethane resin, polyester resin, alkyd resin, Examples thereof include known polymer resin compounds such as epoxy resins, charge transporting resins having a charge transporting group, and conductive resins such as polyaniline.
Among these, as the binder resin, a resin insoluble in the coating solvent of the upper layer (charge generation layer) is desirable, and in particular, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin, unsaturated polyester resin, A thermosetting resin such as an alkyd resin or an epoxy resin, a polyamide resin, a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, a polyvinyl alcohol resin, or a polyvinyl acetal resin and at least one resin selected from the group and a curing agent Resins obtained by reaction are preferred.
When these binder resins are used in combination of two or more, the mixing ratio is set as necessary.

下引層には、シリコーン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。   The undercoat layer may contain a metal compound such as a silicone compound, an organic zirconium compound, an organic titanium compound, or an organic aluminum compound.

金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。   The ratio between the metal compound and the binder resin is not particularly limited, and is set within a range in which desired electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained.

下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル(PMMA)樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。   Resin particles may be added to the undercoat layer in order to adjust the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate (PMMA) resin particles. The surface may be polished after forming the undercoat layer for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sandblasting, wet honing, grinding, or the like is used.

ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が10Ω・cm未満の導電性を有するものがよい。 Here, the structure of the undercoat layer includes a structure containing at least a binder resin and conductive particles. Note that the conductive particles preferably have conductivity with a volume resistivity of less than 10 7 Ω · cm, for example.

導電性粒子としては、例えば、金属粒子(アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子)、導電性金属酸化物粒子(酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子)、導電性物質粒子(カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子)等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、2種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤(例えばカップリング剤)等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが望ましく、より望ましくは40質量%以上80質量%以下である。
Examples of the conductive particles include metal particles (particles such as aluminum, copper, nickel, and silver), conductive metal oxide particles (particles such as antimony oxide, indium oxide, tin oxide, and zinc oxide), and conductive substance particles. (Carbon fiber, carbon black, particles of graphite powder) and the like. Among these, conductive metal oxide particles are preferable. You may mix and use 2 or more types of electroconductive particle.
In addition, the conductive particles may be subjected to a surface treatment with a hydrophobizing agent (for example, a coupling agent) or the like to adjust the resistance.
For example, the content of the conductive particles is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the binder resin.

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。   The formation of the undercoat layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. For example, a coating film of a coating solution for forming an undercoat layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. This is done by heating as necessary.

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the coating solution for forming the undercoat layer on the conductive substrate include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, curtain coating, and the like. Is mentioned.

なお、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる場合、その分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。   In the case of dispersing the particles in the coating solution for forming the undercoat layer, the dispersion method may be, for example, a media disperser such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, an agitator, an ultrasonic disperser, or the like. Medialess dispersers such as roll mills and high-pressure homogenizers are used. Here, examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high-pressure state. Can be mentioned.

下引層の膜厚は、例えば、望ましくは15μm以上、より望ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。   The thickness of the undercoat layer is, for example, preferably set in the range of 15 μm or more, more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.

ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。   Here, although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer. As the binder resin used for the intermediate layer, acetal resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl In addition to polymer resins such as acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, zirconium, titanium, aluminum, manganese, silicon atom, etc. An organometallic compound containing These compounds may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds. Among these, an organometallic compound containing zirconium or silicon is preferable in that it has a low residual potential, a small potential change due to the environment, and a small potential change due to repeated use.

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行われる。   The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. For example, a coating film of the intermediate layer forming coating solution in which the above components are added to the solvent is formed, and the coating film is dried and necessary. It is performed by heating according to.

中間層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   Examples of the method for applying the intermediate layer forming coating solution onto the undercoat layer include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, and curtain coating. Conventional methods are used.

中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、0.1μm以上3μm以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。   In addition to improving the coatability of the upper layer, the intermediate layer also serves as an electrical blocking layer.However, if the film thickness is too large, the electrical barrier becomes too strong, leading to increased desensitization and potential increase due to repetition. It may happen. Therefore, when forming the intermediate layer, it is preferable to set the film thickness within the range of 0.1 μm to 3 μm. In this case, the intermediate layer may be used as the undercoat layer.

(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含んで構成される。なお、電荷発生層は、例えば、電荷発生材料の蒸着膜で構成されていてもよい。
(Charge generation layer)
The charge generation layer includes, for example, a charge generation material and a binder resin. Note that the charge generation layer may be formed of, for example, a vapor generation film of a charge generation material.

電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.4゜、16.6゜、25.5゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.7゜、9.3゜、16.9゜、17.5゜、22.4゜及び28.8゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the charge generation material include phthalocyanine pigments such as metal-free phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, dichlorotin phthalocyanine, and titanyl phthalocyanine, and in particular, have a Bragg angle (2θ ± 0.2 °) with respect to CuKα characteristic X-rays. Chlorogallium phthalocyanine crystal having strong diffraction peaks at least at 7.4 °, 16.6 °, 25.5 ° and 28.3 °, Bragg angle (2θ ± 0.2 °) to CuKα characteristic X-ray of at least 7. Metal-free phthalocyanine crystals having strong diffraction peaks at 7 °, 9.3 °, 16.9 °, 17.5 °, 22.4 ° and 28.8 °, Bragg angle (2θ ± 0. 2 °) at least 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25 Hydroxygallium phthalocyanine crystals having strong diffraction peaks at 1 ° and 28.3 °, Bragg angles (2θ ± 0.2 °) with respect to CuKα characteristic X-rays of at least 9.6 °, 24.1 ° and 27.2 ° A titanyl phthalocyanine crystal having a strong diffraction peak can be mentioned. In addition, examples of the charge generation material include quinone pigments, perylene pigments, indigo pigments, bisbenzimidazole pigments, anthrone pigments, quinacridone pigments, and the like. These charge generation materials may be used alone or in combination of two or more.

電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂(例えば、ビスフェノールA若しくはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂)、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば10:1乃至1:10の範囲が望ましい。
Examples of the binder resin constituting the charge generation layer include polycarbonate resin (for example, polycarbonate resin such as bisphenol A or bisphenol Z type), acrylic resin, methacrylic resin, polyarylate resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene. Resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-acetic acid Examples include vinyl-maleic anhydride resin, silicone resin, phenol-formaldehyde resin, polyacrylamide resin, polyamide resin, poly-N-vinylcarbazole resin. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
The mixing ratio of the charge generating material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10, for example.

電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。   In addition, the charge generation layer may contain a known additive.

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。   The formation of the charge generation layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of a charge generation layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. This is done by heating as necessary. The charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material.

電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the charge generation layer forming coating liquid on the undercoat layer (or on the intermediate layer) include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, and knife coating. Method, curtain coating method and the like.

なお、電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。   In addition, as a method of dispersing particles (for example, charge generation material) in the coating solution for forming the charge generation layer, for example, a media dispersion machine such as a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, agitation, ultrasonic Medialess dispersers such as dispersers, roll mills, and high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which a dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high pressure state.

電荷発生層の膜厚は、望ましくは0.01μm以上5μm以下、より望ましくは0.05μm以上2.0μm以下の範囲に設定される。   The thickness of the charge generation layer is desirably set in the range of 0.01 μm to 5 μm, more desirably 0.05 μm to 2.0 μm.

(非硬化型の電荷輸送層)
非硬化型の電荷輸送層は、例えば、電荷輸送性材料と、結着樹脂と、を含んで構成される。
(Non-curing charge transport layer)
The non-curing type charge transport layer includes, for example, a charge transport material and a binder resin.

電荷輸送性材料としては、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリス[4−(4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエニル)フェニル]アミン、N,N′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the charge transporting material include oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,3,5-triphenyl-pyrazoline, 1- [Pyridyl- (2)]-3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazolin derivatives such as pyrazoline, triphenylamine, tris [4- (4,4-diphenyl-1,3- Aromatic tertiary amino such as butadienyl) phenyl] amine, N, N′-bis (3,4-dimethylphenyl) biphenyl-4-amine, tri (p-methylphenyl) aminyl-4-amine, dibenzylaniline Compounds, aromatic tertiary diamino compounds such as N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-diphenylbenzidine, 3- (4′- 1,2,4-triazine derivatives such as methylaminophenyl) -5,6-di- (4'-methoxyphenyl) -1,2,4-triazine, 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, etc. Hydrazone derivatives, quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline, benzofuran derivatives such as 6-hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) benzofuran, p- (2,2-diphenylvinyl) -N Α-stilbene derivatives such as N-diphenylaniline, enamine derivatives, carbazole derivatives such as N-ethylcarbazole, hole transport materials such as poly-N-vinylcarbazole and its derivatives, quinone compounds such as chloranil and bromoanthraquinone, Tetracyanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trini Polymers having a main chain or a side chain having a group consisting of an electron transport material such as trofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, an electron transport material such as a xanthone compound, a thiophene compound, and the above compound. Etc. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more.

非硬化型の電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂(例えば、ビスフェノールA若しくはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂)、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、ポリカーボネートがよく、特に、Feders法で算出した溶解度パラメーターが11.40以上11.75以下であるポリカーボネート共重合体であることがよい。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で、例えば10:1乃至1:5が望ましい。
Examples of the binder resin constituting the non-curing type charge transport layer include polycarbonate resin (for example, polycarbonate resin such as bisphenol A or bisphenol Z type), acrylic resin, methacrylic resin, polyarylate resin, polyester resin, polychlorinated resin. Vinyl resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, acrylonitrile-butadiene copolymer resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin , Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, phenol-formaldehyde resin, polyacrylamide resin, polyamide resin, chlorinated rubber insulating resin, and polyvinyl chloride Carbazole, polyvinyl anthracene, organic photoconductive polymers such as polyvinyl pyrene, and the like. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
Among these binder resins, polycarbonate is preferable, and in particular, a polycarbonate copolymer having a solubility parameter calculated by the Feders method of 11.40 or more and 11.75 or less is preferable.
The mixing ratio of the charge transport material and the binder resin is desirably a mass ratio of, for example, 10: 1 to 1: 5.

非硬化型の電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。   In addition, the non-curable charge transport layer may contain a known additive.

非硬化型の電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。   The formation of the non-curing type charge transport layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of a coating liquid for forming a charge transport layer in which the above components are added to a solvent is formed. The coating is dried and heated as necessary.

非硬化型の電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。   Examples of the method for applying the non-curing type charge transport layer forming coating solution on the charge generation layer include dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, A usual method such as a curtain coating method is used.

なお、非硬化型の電荷輸送層形成用塗布液中に粒子を分散させる場合、その分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。   In the case of dispersing the particles in the coating liquid for forming the non-curing charge transport layer, the dispersion method may be, for example, a media disperser such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, agitation, Medialess dispersers such as ultrasonic dispersers, roll mills, and high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which a dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high pressure state.

非硬化型の電荷輸送層の膜厚は、例えば、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。   The film thickness of the non-curing type charge transport layer is, for example, preferably set in the range of 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm.

(硬化型の電荷輸送層)
硬化型の電荷輸送層は、電荷輸送性の硬化膜で構成される。
硬化型の電荷輸送層は、電荷輸送性の硬化膜で構成されていれば、その構成について特に制限はないが、例えば、下記1)又は2)に示す層が挙げられる。
1)反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内持つ反応基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層(つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層)
2)非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を持つ反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層(つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層)
(Curing type charge transport layer)
The curable charge transport layer is composed of a charge transport cured film.
The curable charge transport layer is not particularly limited as long as it is composed of a charge transportable cured film, and examples thereof include the layers shown in 1) or 2) below.
1) A layer composed of a cured film of a composition containing a reactive group-containing charge transporting material having a reactive group and a charge transporting skeleton in the same molecule (that is, a polymer or a crosslinked product of the reactive group-containing charge transporting material) Including layers)
2) A layer composed of a cured film of a composition comprising a non-reactive charge transport material and a reactive group-containing non-charge transport material having a reactive group and having no charge transport skeleton (that is, A layer comprising a non-reactive charge transport material and a polymer or a cross-linked product of the reactive group-containing non-charge transport material)

反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−OH、−OR[但し、Rはアルキル基を示す],−NH、−SH、−COOH,−SiRQ1 3−Qn(ORQ2Qn[但し、RQ1は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表し、RQ2は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Qnは1〜3の整数を表す]等の周知の反応性基が挙げられる。
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが望ましい。
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
The reactive group of the reactive group-containing charge transport material includes a chain polymerizable group, an epoxy group, —OH, —OR [wherein R represents an alkyl group], —NH 2 , —SH, —COOH, —SiR. Q1 3-Qn (OR Q2 ) Qn [wherein R Q1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and R Q2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a trialkylsilyl group. Qn represents an integer of 1 to 3], and the like, and other well-known reactive groups.
The chain polymerizable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of radical polymerization. For example, it is a functional group having a group containing at least a carbon double bond. Specific examples include a group containing at least one selected from a vinyl group, a vinyl ether group, a vinyl thioether group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof. Among them, the chain polymerizable functional group is a group containing at least one selected from a vinyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof because of its excellent reactivity. Is desirable.
The charge transporting skeleton of the reactive group-containing charge transporting material is not particularly limited as long as it is a known structure in an electrophotographic photoreceptor, and examples thereof include triarylamine compounds, benzidine compounds, hydrazone compounds, and the like. And a structure conjugated from a nitrogen-containing hole transporting compound and conjugated with a nitrogen atom. Among these, a triarylamine skeleton is desirable.

これら反応性基及び電荷輸送性骨格を持つ反応性基含有電荷輸送材料としては、周知の材料から選択され、また、後述する特定の反応性基含有電荷輸送材料(一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物)も挙げられる。   The reactive group-containing charge transporting material having a reactive group and a charge transporting skeleton is selected from well-known materials, and specific reactive group-containing charge transporting materials (general formulas (I) and (II) described later) And a reactive compound represented by

非反応性の電荷輸送材料としては、非硬化型の電荷輸送層を構成する電荷輸送材料と同じ材料が挙げられる。
反応性基含有非電荷輸送材料としては、電荷輸送性骨格を有さない周知の熱又は光硬化性樹脂が挙げられる。
Examples of the non-reactive charge transport material include the same materials as the charge transport material constituting the non-curable charge transport layer.
Examples of the reactive group-containing non-charge transport material include well-known heat- or photo-curable resins that do not have a charge transport skeleton.

ここで、硬化型の電荷輸送層としては、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基を持つ反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層(つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層)であることが望ましく、特に、特定の反応性基含有電荷輸送材料(一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物)を含む組成物の硬化膜で構成された層(特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層)であることが望ましい。
つまり、硬化型の電荷輸送層は、保護層と同様の構成であることが特に望ましい。
Here, the curable charge transport layer is a layer composed of a cured film of a composition containing a reactive group-containing charge transport material having a styryl group, an acryloyl group, or a methacryloyl group (that is, the reactive group-containing charge transport layer). A layer containing a polymer or cross-linked material), and in particular, a composition containing a specific reactive group-containing charge transporting material (reactive compounds represented by the general formulas (I) and (II)). A layer composed of a cured film (a layer containing a polymer or a crosslinked product of a specific reactive group-containing charge transport material) is desirable.
That is, it is particularly desirable that the curable charge transport layer has the same configuration as the protective layer.

硬化型の電荷輸送層の膜厚は、例えば、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。   The film thickness of the curable charge transport layer is, for example, preferably set in the range of 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm.

なお、硬化型の電荷輸送層のその他添加剤や硬化方法等について、保護層と同様であるため、その説明を省略する。   In addition, since other additives, curing methods, and the like of the curable charge transport layer are the same as those of the protective layer, description thereof is omitted.

(保護層)
保護層は、電子写真感光体における最表面層であり、特定の反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成されてる。
つまり、保護層は、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含んで構成されている。
(Protective layer)
The protective layer is the outermost surface layer in the electrophotographic photosensitive member, and is composed of a cured film of a composition containing a specific reactive group-containing charge transport material.
That is, the protective layer includes a polymer or a cross-linked product of a specific reactive group-containing charge transport material.

なお、硬化膜の硬化方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると、保護層(最表面層)の機械的強度及び電気特性が向上し、また膜のムラやシワの発生も抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが望ましい。この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。つまり、保護層(最表面層)を構成する硬化膜を形成するための組成物には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含むことがよい。   The cured film is cured by radical polymerization using heat, light, radiation, or the like. Adjusting the reaction so that it does not progress too quickly improves the mechanical strength and electrical properties of the protective layer (outermost surface layer), and also suppresses the occurrence of film unevenness and wrinkles, so that radical generation is relatively slow. It is desirable to polymerize under the conditions that occur. From this point, thermal polymerization that allows easy adjustment of the polymerization rate is preferred. That is, the composition for forming the cured film constituting the protective layer (outermost surface layer) preferably contains a thermal radical generator or a derivative thereof.

−特定の反応性基含有電荷輸送材料−
特定の反応性基含有電荷輸送材料としては、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物である。
-Specific reactive group-containing charge transport material-
The specific reactive group-containing charge transport material is at least one reactive compound selected from the reactive compounds represented by the general formulas (I) and (II).


一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。
Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。
mは1以上8以下の整数を示す。
In general formula (I), F represents a charge transporting skeleton.
L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O-. Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
m represents an integer of 1 or more and 8 or less.


一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。
L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−の基からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。なお、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基とは、アルカン又はアルケンから水素原子を3つ又は4つ取り除いた基を意味する。以下、同様である。
m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。
In general formula (II), F represents a charge transporting skeleton.
L ′ represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, and an alkylene group, alkenylene group, —C (═O) —, —N (R) —, —S—, and —O—. And an (n + 1) -valent linking group containing two or more selected from the group consisting of: R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. The trivalent or tetravalent group derived from alkane or alkene means a group obtained by removing three or four hydrogen atoms from alkane or alkene. The same applies hereinafter.
m ′ represents an integer of 1 to 6. n represents an integer of 2 or more and 3 or less.

一般式(I)及び(II)中、Fは、電荷輸送性骨格、つまり電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などの電荷輸送性を有する構造が挙げられる。   In general formulas (I) and (II), F represents a charge transporting skeleton, that is, a structure having charge transporting properties. Specifically, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds Examples thereof include structures having charge transporting properties such as compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, and fluorenone compounds.

一般式(I)中、Lで示される連結基としては、例えば、
アルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−S−が介在した2価の連結基、
が挙げられる。
なお、Lで示される連結基は、アルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
In general formula (I), examples of the linking group represented by L include:
A divalent linking group in which —C (═O) —O— is interposed in the alkylene group,
A divalent linking group in which —C (═O) —N (R) — is interposed in an alkylene group,
A divalent linking group in which —C (═O) —S— is interposed in the alkylene group,
A divalent linking group in which -O- is interposed in the alkylene group,
A divalent linking group in which -N (R)-is interposed in the alkylene group,
A divalent linking group in which -S- is interposed in the alkylene group,
Is mentioned.
The linking group represented by L is an alkylene group, -C (= O) -O-, -C (= O) -N (R)-, -C (= O) -S-, -O. Two groups of-or -S- may be present.

一般式(I)中、Lで示される連結基として具体的には、例えば、
*−(CH−C(=O)−O−(CH−、
*−(CH−O−C(=O)−(CH−C(=O)−O−(CH−、
*−(CH−C(=O)−N(R)−(CH−、
*−(CH−C(=O)−S−(CH−、
*−(CH−O−(CH−、
*−(CH−N(R)−(CH−、
*−(CH−S−(CH−、
*−(CH−O−(CH−O−(CH
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、pは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。qは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。rは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
Specific examples of the linking group represented by L in the general formula (I) include:
* — (CH 2 ) p —C (═O) —O— (CH 2 ) q —,
* - (CH 2) p -O -C (= O) - (CH 2) r -C (= O) -O- (CH 2) q -,
* — (CH 2 ) p —C (═O) —N (R) — (CH 2 ) q —,
* - (CH 2) p -C (= O) -S- (CH 2) q -,
* - (CH 2) p -O- (CH 2) q -,
* - (CH 2) p -N (R) - (CH 2) q -,
* - (CH 2) p -S- (CH 2) q -,
* - (CH 2) p -O- (CH 2) r -O- (CH 2) q -
Etc.
Here, in the linking group represented by L, p represents 0 or an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). q represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). r represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
In the linking group represented by L, “*” represents a site linked to F.

一方、一般式(II)中、L’で示される連結基としては、例えば、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−S−が介在した(n+1)価の連結基、
が挙げられる。
なお、L’で示される連結は、分枝状に連結したアルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
On the other hand, in the general formula (II), as the linking group represented by L ′, for example,
A (n + 1) -valent linking group in which —C (═O) —O— is interposed in a branchedly linked alkylene group,
A (n + 1) -valent linking group in which —C (═O) —N (R) — is interposed in a branchedly linked alkylene group,
A (n + 1) -valent linking group in which —C (═O) —S— is interposed in a branchedly linked alkylene group,
(N + 1) -valent linking group in which —O— is interposed in a branched alkylene group,
A (n + 1) -valent linking group in which —N (R) — is interposed in a branchedly linked alkylene group,
A (n + 1) -valent linking group in which -S- is interposed in a branched alkylene group;
Is mentioned.
In addition, the linkage represented by L ′ is in a branched alkylene group, —C (═O) —O—, —C (═O) —N (R) —, —C (═O). Two groups of -S-, -O-, or -S- may be present.

一般式(II)中、L’で示される連結基として具体的には、例えば、
*−(CH−CH[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH[C(=O)−N(R)−(CH−]
*−(CH−CH[C(=O)−S−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−N(R)−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−S−(CH−]

*−(CH−O−C[(CH−O−(CH−]
*−(CH−C(=O)−O−C[(CH−O−(CH−]
等が挙げられる。
ここで、L’で示される連結基中、pは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。qは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。rは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。sは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、L’で示される連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
In the general formula (II), as the linking group represented by L ′, for example,
* — (CH 2 ) p —CH [C (═O) —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* — (CH 2 ) p —CH═C [C (═O) —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* - (CH 2) p -CH [C (= O) -N (R) - (CH 2) q -] 2,
* - (CH 2) p -CH [C (= O) -S- (CH 2) q -] 2,
* — (CH 2 ) p —CH [(CH 2 ) r —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* - (CH 2) p -CH = C [(CH 2) r -O- (CH 2) q -] 2,
* - (CH 2) p -CH [(CH 2) r -N (R) - (CH 2) q -] 2,
* - (CH 2) p -CH [(CH 2) r -S- (CH 2) q -] 2,

* — (CH 2 ) p —O—C [(CH 2 ) r —O— (CH 2 ) q —] 3
* — (CH 2 ) p —C (═O) —O—C [(CH 2 ) r —O— (CH 2 ) q —] 3
Etc.
Here, in the linking group represented by L ′, p represents 0 or an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). q represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). r represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). s represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
In the linking group represented by L ′, “*” represents a site linked to F.

これらの中もで、一般式(II)中、L’で示される連結基としては、
*−(CH−CH[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[(CH−O−(CH−]
がよい。
具体的には、一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基(一般式(IIA−a)で示される基が該当)は、下記一般式(IIA−a1)、下記一般式(IIA−a2)、下記一般式(IIA−a3)、又は下記一般式(IIA−a4)で示される基であることがよい。
Among these, as the linking group represented by L ′ in the general formula (II),
* — (CH 2 ) p —CH [C (═O) —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* — (CH 2 ) p —CH═C [C (═O) —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* — (CH 2 ) p —CH [(CH 2 ) r —O— (CH 2 ) q —] 2 ,
* - (CH 2) p -CH = C [(CH 2) r -O- (CH 2) q -] 2,
Is good.
Specifically, a group connected to the charge transporting skeleton represented by F of the compound represented by the general formula (II) (corresponding to the group represented by the general formula (IIA-a)) is represented by the following general formula (IIA- It may be a group represented by a1), the following general formula (IIA-a2), the following general formula (IIA-a3), or the following general formula (IIA-a4).


一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)中、Xk1は2価の連結基を示す。kq1は0又は1の整数を示す。Xk2は2価の連結基を示す。kq2は0又は1の整数を示す。
ここで、Xk1及びXk2で示される2価の連結基は、例えば、−(CH−(但しpは1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す))が挙げられる。当該2価の連結基としては、アルキルオキシキ基も挙げられる。
In general formula (IIA-a1) or (IIA-a2), Xk1 represents a divalent linking group. kq1 represents an integer of 0 or 1. X k2 represents a divalent linking group. kq2 represents an integer of 0 or 1.
Here, the divalent linking group represented by X k1 and X k2 is, for example, — (CH 2 ) p — (wherein p represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5))). Can be mentioned. Examples of the divalent linking group include an alkyloxy group.


一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)中、Xk3は2価の連結基を示す。kq3は0又は1の整数を示す。Xk4は3価の連結基を示す。kq4は0又は1の整数を示す。
ここで、Xk3及びXk4で示される2価の連結基は、例えば、−(CH−(但しpは1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す))が挙げられる。当該2価の連結基としては、アルキルオキシキ基も挙げられる。
In general formula (IIA-a3) or (IIA-a4), Xk3 represents a divalent linking group. kq3 represents an integer of 0 or 1. X k4 represents a trivalent linking group. kq4 represents an integer of 0 or 1.
Here, the divalent linking group represented by X k3 and X k4 is, for example, — (CH 2 ) p — (wherein p represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5))). Can be mentioned. Examples of the divalent linking group include an alkyloxy group.

一般式(I)及び(II)中、L、L’で示される連結基において、「−N(R)−」のRで示されるアルキル基としては、炭素数1以上5以下(望ましくは1以上4以下)の直鎖状、分枝状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
「−N(R)−」のRで示されるアリール基としては、炭素数6以上15以下(望ましくは6以上12以下)のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリジル基、ナフチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上15以下(望ましくは7以上14以下)のアラルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニルメチレン基等が挙げられる。
In general formulas (I) and (II), in the linking group represented by L or L ′, the alkyl group represented by R in “—N (R) —” has 1 to 5 carbon atoms (preferably 1 4 or less) linear and branched alkyl groups, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
Examples of the aryl group represented by R in “—N (R) —” include aryl groups having 6 to 15 carbon atoms (preferably 6 to 12 carbon atoms). Specific examples include phenyl groups and toluyl groups. Group, xylidyl group, naphthyl group and the like.
Examples of the aralkyl group include aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms (preferably 7 to 14 carbon atoms). Specific examples include a benzyl group, a phenethyl group, and a biphenylmethylene group.

一般式(I)及び(II)中、mは、1以上6以下の整数を示すことが望ましい。
m’は、1以上6以下の整数を示すことが望ましい。
nは、2以上3以下の整数を示すことが望ましい。
In general formulas (I) and (II), m preferably represents an integer of 1 to 6.
m ′ preferably represents an integer of 1 to 6.
n is preferably an integer of 2 or more and 3 or less.

次に、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の好適な化合物について説明する。
一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物としては、Fとしてトリアリールアミン系化合物に由来する電荷輸送性骨格(電荷輸送性を有する構造)を有する反応性化合物がよい。
具体的には、一般式(I)で示される反応性化合物としては、一般式(I−a)、一般式(I−b)、一般式(I−c)、及び一般式(I−d)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種の化合物が好適である。
一方、一般式(II)で示される反応性化合物としては、一般式(II−a)で示される反応性化合物が好適である。
Next, preferred compounds of the reactive compounds represented by the general formulas (I) and (II) will be described.
As the reactive compound represented by the general formulas (I) and (II), a reactive compound having a charge transporting skeleton (structure having charge transporting property) derived from a triarylamine compound as F is preferable.
Specifically, the reactive compound represented by the general formula (I) includes the general formula (Ia), the general formula (Ib), the general formula (Ic), and the general formula (Id). At least one compound selected from the reactive compounds represented by) is preferred.
On the other hand, as the reactive compound represented by the general formula (II), the reactive compound represented by the general formula (II-a) is preferable.

・一般式(I−a)で示される反応性化合物
一般式(I−a)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性基含有電荷輸送材料として一般式(I−a)で示される反応性化合物を適用すると、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、従来用いられていた、(メタ)アクリル基を有する反応性化合物は、重合の際に電荷輸送性能を発現する骨格の部位に対して、(メタ)アクリル基の親水性が強いことから、ある種の層分離状態を形成してしまい、ホッピング伝導の妨げとなっていることが考えられる。このため、(メタ)アクリル基を有する反応性化合物の重合体又は架橋体を含む電荷輸送性膜は、電荷輸送の効率が落ち、更に、部分的な水分の吸着などにより環境安定性が低下するものと考えられる。
これ対して、一般式(I−a)で示される反応性化合物は、親水性の強くないビニル系の連鎖重合性基を有しており、更に、電荷輸送性能を発現する骨格を一分子内に複数有し、その骨格同士を芳香環や共役二重結合などの共役結合を有しない、柔軟性のある連結基で連結している。このような構造を有することから、効率的な電荷輸送性能と高強度化が図れると共に、重合の際の層分離状態の形成が抑制されるものと考えられる。その結果として、一般式(I−a)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、電荷輸送性能と機械的強度との両方に優れ、更に、電荷輸送性能の環境依存(温湿度依存)を低減しうるものと考えられる。
以上から、一般式(I−a)で示される反応性化合物を適用すると、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制され易くなると考えられる。
-Reactive compound shown by general formula (Ia) The reactive compound shown by general formula (Ia) is demonstrated.
When the reactive compound represented by the general formula (Ia) is applied as the specific reactive group-containing charge transport material, it is easy to suppress deterioration of electrical characteristics due to environmental changes. The reason is not clear, but is thought to be as follows.
First, since the reactive compound having a (meth) acrylic group that has been used conventionally has a strong hydrophilicity of the (meth) acrylic group with respect to a skeleton part that expresses charge transport performance during polymerization, It is considered that a certain kind of layer separation state is formed, which hinders hopping conduction. For this reason, a charge transporting film containing a polymer of a reactive compound having a (meth) acrylic group or a crosslinked product has a reduced efficiency of charge transport, and further has a reduced environmental stability due to partial moisture adsorption or the like. It is considered a thing.
On the other hand, the reactive compound represented by the general formula (Ia) has a vinyl-based chain polymerizable group that is not strongly hydrophilic, and further has a skeleton that exhibits charge transport performance within one molecule. The skeletons are linked by a flexible linking group that does not have a conjugated bond such as an aromatic ring or a conjugated double bond. Since it has such a structure, it is considered that efficient charge transport performance and high strength can be achieved, and formation of a layer separation state during polymerization is suppressed. As a result, the protective layer (outermost surface layer) containing the polymer or cross-linked product of the reactive compound represented by the general formula (Ia) is excellent in both charge transport performance and mechanical strength. It is thought that the environment dependence (temperature and humidity dependence) of transport performance can be reduced.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (Ia) is applied, deterioration of electrical characteristics due to environmental changes is easily suppressed.


一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ara5及びAra6は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Xaは、アルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Daは、下記一般式(IA−a)で示される基を示す。ac1〜ac4は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。但し、Daの総数は1又は2である。 In the general formula (Ia), Ar a1 to Ar a4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar a5 and Ar a6 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group. Xa represents a divalent linking group formed by combining groups selected from an alkylene group, -O-, -S-, and an ester. Da represents a group represented by the following general formula (IA-a). ac1 to ac4 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. However, the total number of Da is 1 or 2.


一般式(IA−a)中、Lは、*−(CHan−O−CH−で示され、*にてAra1〜Ara4で示される基に連結する2価の連結基を示す。anは、1又は2の整数を示す。 In the general formula (IA-a), L a is, * - (CH 2) an -O-CH 2 - is represented by the divalent linking group linked to the group represented by Ar a1 to Ar a4 at * Indicates. an represents an integer of 1 or 2.

以下、一般式(I−a)の詳細を説明する。
一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、「Da」以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
Details of the general formula (Ia) will be described below.
In general formula (Ia), the substituted or unsubstituted aryl groups represented by Ar a1 to Ar a4 may be the same or different.
Here, as a substituent in the substituted aryl group, other than “Da”, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Examples thereof include a substituted phenyl group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom.

一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4としては、下記構造式(1)〜(7)のうちのいずれかであることが望ましい。
なお、下記構造式(1)〜(7)は、Ara1〜Ara4の各々に連結され得る「−(Da)ac1」〜「−(Da)ac1」を総括的に示した「−(D)」と共に示す。
In general formula (Ia), Ar a1 to Ar a4 are preferably any of the following structural formulas (1) to (7).
In addition, the following structural formulas (1) to (7) collectively indicate “— (Da) ac1 ” to “— (Da) ac1 ” that can be connected to each of Ar a1 to Ar a4. ) C ”.



構造式(1)〜(7)中、R11は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を示す。R12、及びR13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。R14は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。Arは、置換又は未置換のアリーレン基を示す。sは、0又は1を示す。tは、0以上3以下の整数を示す。Z’は、2価の有機連結基を示す。 In the structural formulas (1) to (7), R 11 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. And a phenyl group, an unsubstituted phenyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms. R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. 1 group selected from the group consisting of an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted phenyl group, 1 type chosen from the group which consists of a C7-C10 aralkyl group and a halogen atom is shown. Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group. s represents 0 or 1. t represents an integer of 0 or more and 3 or less. Z ′ represents a divalent organic linking group.

ここで、式(7)中、Arとしては、下記構造式(8)又は(9)で示されるものが望ましい。   Here, in the formula (7), Ar is preferably represented by the following structural formula (8) or (9).



構造式(8)及び(9)中、R15及びR16は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t1及びt2はそれぞれ0以上3以下の整数を示す。 In structural formulas (8) and (9), R 15 and R 16 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with a group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, and t1 and t2 each represent an integer of 0 to 3 Show.

また、式(7)中、Z’は、下記構造式(10)〜(17)のうちのいずれかで示されるものが望ましい。   In formula (7), Z ′ is preferably represented by any one of the following structural formulas (10) to (17).



構造式(10)〜(17)中、R17及びR18は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。Wは、2価の基を示す。q1及びr1は、それぞれ独立に1以上10以下の整数を示す。t3及びt4は、それぞれ0以上3以下の整数を示す。 In Structural Formulas (10) to (17), R 17 and R 18 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. 1 type selected from the group consisting of a phenyl group substituted with a group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. W represents a divalent group. q1 and r1 each independently represents an integer of 1 or more and 10 or less. t3 and t4 each represent an integer of 0 or more and 3 or less.

構造式(16)〜(17)中、Wとしては、下記構造式(18)〜(26)で示される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式(25)中、uは、0以上3以下の整数を示す。   In Structural Formulas (16) to (17), W is preferably any one of divalent groups represented by the following Structural Formulas (18) to (26). However, in Formula (25), u shows the integer of 0-3.


一般式(I−a)中、Ara5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基において、このアリーレン基としては、Ara1〜Ara4の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。
また、置換アリーレン基における置換基としては、Ara1〜Ara4の説明で、置換アリール基における「Da」以外の置換基として挙げられているものと同様である。
In the general formula (Ia), in the substituted or unsubstituted arylene group represented by Ar a5 and Ar a6 , the arylene group is a target position from the aryl group exemplified in the description of Ar a1 to Ar a4. And an arylene group in which one hydrogen atom is removed.
Moreover, as a substituent in a substituted arylene group, it is the same as that of what is mentioned as substituents other than "Da" in a substituted aryl group by description of Ar < a1 > -Ar < a4 >.

一般式(I−a)中、Xaで示される2価の連結基は、アルキレン基、又はアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基であって、芳香環や共役二重結合などの共役結合を含まない連結基である。
具体的には、Xaで示す2価の連結基として、炭素数1以上10以下のアルキレン基が挙げられ、その他、炭素数1以上10以下のアルキレン基と−O−、−S−、−O−C(=O)−、及び−C(=O)−O−から選ばれる基とを組み合わせてなる2価の基も挙げられる。
なお、Xaで示される2価の連結基がアルキレン基である場合、このアルキレン基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン等の置換基を有していてもよく、この置換基の2つが互いに結合して、構造式(16)〜(17)中のWの具体例として記載した構造式(26)で示される2価の連結基のような構造となってもよい。
In general formula (Ia), the divalent linking group represented by Xa is an alkylene group or a divalent group formed by combining alkylene groups, —O—, —S—, and groups selected from esters. Thus, the linking group does not contain a conjugated bond such as an aromatic ring or a conjugated double bond.
Specifically, examples of the divalent linking group represented by Xa include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and —O—, —S—, and —O. A divalent group formed by combining a group selected from —C (═O) — and —C (═O) —O— is also included.
When the divalent linking group represented by Xa is an alkylene group, the alkylene group may have a substituent such as alkyl, alkoxy, halogen, etc., and two of these substituents are bonded to each other, A structure such as a divalent linking group represented by Structural Formula (26) described as a specific example of W in Structural Formulas (16) to (17) may be used.

・一般式(I−b)で示される反応性化合物
一般式(I−b)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性基含有電荷輸送材料として一般式(I−b)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、かさ高い電荷輸送骨格と重合部位(スチリル基)が構造的に近く、剛直(リジッド)であると重合部位同士が動きずらくなり、硬化反応による残留歪が残りやすく、電荷輸送骨格が歪むことによりキャリア輸送をになうHOMO(最高被占軌道)のレベルの変化が起こり、結果としてエネルギー分布が広がった状態(エネルギー的ディスオーダー:σが大きい)となりやすいと考えられる。
これに対し、メチレン基、エーテル基を介すると、分子構造に柔軟性が得られ、σが小さいものが得られやすく、さらに、メチレン基、エーテル基は、エステル基、アミド基などに比較し、双極子モーメント(ダイポールモーメント)が小さく、この効果もσを小さくすることに寄与し、電気特性が向上すると考えられる。また、分子構造に柔軟性が加わることで、反応部位(反応サイト)の動きの自由度が増し、反応率も向上することで強度の高い膜となると考えられる
これらのことから、電荷輸送骨格と重合部位との間に柔軟性に富む連結鎖を介在させる構造がよい。
このため、一般式(I−b)で示される反応性化合物は、硬化反応により分子自身の分子量が増大し、重心は移動し難くなると共に、スチリル基の自由度が高いと考えられる。の結果、一般式(I−b)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、電気特性に優れ、且つ、高い強度を有すると考えられる。
以上から、一般式(I−b)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなると考えられる。
-Reactive compound shown by general formula (Ib) The reactive compound shown by general formula (Ib) is demonstrated.
When the reactive compound represented by the general formula (Ib) is applied as a specific reactive group-containing charge transport material, wear of the protective layer (outermost surface layer) is suppressed and generation of density unevenness of the image is suppressed. It becomes easy to be done. The reason is not clear, but is thought to be as follows.
First, the bulky charge transport skeleton and the polymerization site (styryl group) are structurally close, and if it is rigid, the polymerization sites will not move easily, residual strain due to the curing reaction tends to remain, and the charge transport skeleton is distorted. As a result, a change in the level of HOMO (the highest occupied orbit) that leads to carrier transport occurs, and as a result, the energy distribution is likely to be widened (energy disorder: σ is large).
On the other hand, through a methylene group and an ether group, flexibility is obtained in the molecular structure, and a small σ is easily obtained. Further, the methylene group and the ether group are compared with an ester group, an amide group, etc. The dipole moment (dipole moment) is small, and this effect also contributes to the reduction of σ and is considered to improve the electrical characteristics. In addition, it is considered that the flexibility of the molecular structure increases the degree of freedom of movement of the reaction site (reaction site), and the reaction rate also improves, resulting in a strong film. A structure in which a flexible connecting chain is interposed between the polymerization sites is preferable.
For this reason, it is considered that the reactive compound represented by the general formula (Ib) increases the molecular weight of the molecule itself due to the curing reaction, makes the center of gravity difficult to move, and has a high degree of freedom of the styryl group. As a result, the protective layer (outermost surface layer) containing the polymer or crosslinked product of the reactive compound represented by the general formula (Ib) is considered to have excellent electrical properties and high strength.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (Ib) is applied, wear of the protective layer (outermost surface layer) is suppressed and occurrence of uneven density in the image is easily suppressed.


一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arb5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dbは、下記一般式(IA−b)で示される基を示す。bc1〜bc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。bkは、0又は1を示す。但し、Dbの総数は、1又は2である。 In the general formula (Ib), Ar b1 to Ar b4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Db represents a group represented by the following general formula (IA-b). bc1 to bc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. bk represents 0 or 1. However, the total number of Db is 1 or 2.


一般式(IA−b)中、Lは、*−(CHbn−O−で示される基を含み、*にてArb1〜Arb5で示される基に連結する2価の連結基を示す。bnは、3以上6以下の整数を示す。 In General Formula (IA-b), L b includes a group represented by * — (CH 2 ) bn —O—, and is a divalent linking group linked to a group represented by Ar b1 to Ar b5 at *. Indicates. bn represents an integer of 3 to 6.

以下、一般式(I−b)の詳細を説明する。
一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arb5は、bkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arb5は、bkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Hereinafter, the details of the general formula (Ib) will be described.
In general formula (Ib), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar b1 to Ar b4 is the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in general formula (Ia). It is the same.
Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when bk is 0, and examples of the substituted or unsubstituted aryl group include substituted or unsubstituted Ar a1 to Ar a4 in the general formula (Ia) Same as unsubstituted aryl group.
Ar b5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when bk is 1, and the substituted or unsubstituted arylene group includes a substituent represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (Ia) or The same as the unsubstituted arylene group.

次に、一般式(IA−b)の詳細を説明する。
一般式(IA−b)中、Lで示される2価の連結基としては、例えば、
*−(CHbp−O−、
*−(CHbp−O−(CHbq−O−
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、bpは、3以上6以下(望ましくは3以上5以下)の整数を示す。bqは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Arb1〜Arb5で示される基と連結する部位を示している。
Next, the details of the general formula (IA-b) will be described.
In the general formula (IA-b), examples of the divalent linking group represented by L b, for example,
* — (CH 2 ) bp —O—,
* — (CH 2 ) bp —O— (CH 2 ) bq —O—
Etc.
Here, in the linking group represented by L b, bp represents an integer of 3 to 6 (preferably 3 to 5). bq represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
Incidentally, in the linking group represented by L b, "*" represents a site connecting to a group represented by Ar b1 to Ar b5.

・一般式(I−c)で示される反応性化合物
一般式(I−c)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性基含有電荷輸送材料として一般式(I−c)で示される反応性化合物を適用すると、繰り返し使用しても表面にキズが発生しにくく、かつ画質劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む最表面層を形成する際には、その重合反応又は架橋反応に伴う膜収縮や、電荷輸送構造と連鎖重合性基周辺の構造の凝集が起きると考えられる。よって、繰り返し使用で電子写真感光体表面が機械的負荷を受けると、膜自体が摩耗したり、分子中の化学構造が切断されたりして、膜収縮や凝集状態が変化し、電子写真感光体としての電気特性が変化し、画質劣化を引き起こしてしまうと考えられる。
一方、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、連鎖重合性基としてスチレン骨格を有していることから、電荷輸送材料の主骨格であるアリール基と相溶性が良く、膜収縮や重合反応又は架橋反応による電荷輸送構造、連鎖重合性基周辺構造の凝集が抑制されると考えられる。その結果、その結果、一般式(I−c)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)を持つ電子写真感光体は、繰り返し使用による画質劣化が抑制されると考えられる。
加えて、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、電荷輸送性骨格とスチレン骨格を、−C(=O)−、−N(R)−、−S−など特定の基を含む連結基を介して連結することにより、特定の基と電荷輸送性骨格中の窒素原子との間や、特定の基同士の相互作用等が生じると考えられる、その結果、一般式(I−c)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、強度がさらに向上すると考えられる。
以上から、一般式(I−c)で示される反応性化合物を適用すると、繰り返し使用しても表面にキズが発生しにくく、かつ画質劣化が抑制され易くなると考えられる。
なお、−C(=O)−、−N(R)−、−S−など特定の基は、その極性や親水性に起因し、電荷輸送性や高湿条件下における画質劣化を引き起こす要因となるが、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、連鎖重合性基として(メタ)アクリルなどよりも疎水性の高いスチレン骨格を有してるため、電荷輸送性悪化や前サイクルの履歴による残像現象(ゴースト)等の画質劣化が生じ難いと考えられる。
-Reactive compound shown by general formula (Ic) The reactive compound shown by general formula (Ic) is demonstrated.
When the reactive compound represented by the general formula (Ic) is applied as the specific reactive group-containing charge transporting material, scratches are hardly generated on the surface even when used repeatedly, and image quality deterioration is easily suppressed. The reason is not clear, but is thought to be as follows.
First, when forming the outermost surface layer containing a polymer or cross-linked product of a specific reactive group-containing charge transport material, film shrinkage accompanying the polymerization reaction or cross-linking reaction, charge transport structure and chain-polymerizable group periphery Aggregation of the structure is considered to occur. Therefore, when the surface of the electrophotographic photosensitive member is subjected to a mechanical load by repeated use, the film itself is worn or the chemical structure in the molecule is cut, so that the film contraction and aggregation state change, and the electrophotographic photosensitive member changes. It is considered that the electrical characteristics of the image change and cause image quality degradation.
On the other hand, since the reactive compound represented by the general formula (Ic) has a styrene skeleton as a chain polymerizable group, it has good compatibility with the aryl group which is the main skeleton of the charge transport material, and the film shrinks. It is considered that the aggregation of the charge transport structure and the structure around the chain polymerizable group due to polymerization reaction or crosslinking reaction is suppressed. As a result, the electrophotographic photosensitive member having a protective layer (outermost surface layer) containing a polymer or a crosslinked product of the reactive compound represented by the general formula (Ic) is suppressed from deterioration in image quality due to repeated use. It is thought.
In addition, the reactive compound represented by the general formula (Ic) includes a charge transporting skeleton and a styrene skeleton, a specific group such as —C (═O) —, —N (R) —, and —S—. It is thought that the interaction between the specific group and the nitrogen atom in the charge transporting skeleton, the interaction between the specific groups, and the like are caused by linking via the linking group including, as a result, the general formula (I- It is thought that the strength of the protective layer (outermost surface layer) containing the polymer or crosslinked product of the reactive compound represented by c) is further improved.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (Ic) is applied, scratches are hardly generated on the surface even when used repeatedly, and image quality deterioration is easily suppressed.
Note that specific groups such as -C (= O)-, -N (R)-, and -S- are attributed to the polarity and hydrophilicity, causing the charge transportability and image quality deterioration under high humidity conditions. However, since the reactive compound represented by the general formula (Ic) has a styrene skeleton having higher hydrophobicity than (meth) acryl or the like as a chain polymerizable group, the charge transportability is deteriorated or the previous cycle is deteriorated. It is considered that image quality deterioration such as an afterimage phenomenon (ghost) due to the history hardly occurs.


一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arc5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dcは、下記一般式(IA−c)で示される基を示す。cc1〜cc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。ckは、0又は1を示す。但し、Dcの総数は、1以上8以下である。 In the general formula (Ic), Ar c1 to Ar c4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dc represents a group represented by the following general formula (IA-c). cc1 to cc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. ck represents 0 or 1. However, the total number of Dc is 1 or more and 8 or less.


一般式(IA−c)中、Lは、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 In the general formula (IA-c), L C is, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and, -C (= O) - and -O -, - N (R )-Or -S- represents a divalent linking group containing one or more groups selected from the group consisting of groups. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.

以下、一般式(I−c)の詳細を説明する。
一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arc5は、ckが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arc5は、ckが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Dcの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、望ましくは2以上であり、更に望ましくは4以上である。一般に、一分子中の連鎖重合性基の数が多すぎると、重合(架橋)反応が進むにつれ、分子が動きにくくなり連鎖重合反応性が低下し、未反応の連鎖重合性基の割合が増えてしまうことから、Dcの総数は、望ましくは7以下、さらに望ましくは6以下である。
Details of the general formula (Ic) will be described below.
In general formula (Ic), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar c1 to Ar c4 is a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in general formula (Ia). It is the same.
Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when ck is 0, and examples of the substituted or unsubstituted aryl group include a substituted group represented by Ar a1 to Ar a4 in formula (Ia) or Same as unsubstituted aryl group.
Ar c5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when ck is 1, and the substituted or unsubstituted arylene group includes a substituent represented by Ar a5 and Ar a6 in formula (Ia) or The same as the unsubstituted arylene group.
The total number of Dc is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more, from the viewpoint of obtaining a protective layer (outermost surface layer) with higher strength. In general, if the number of chain polymerizable groups in one molecule is too large, as the polymerization (crosslinking) reaction proceeds, the molecules become difficult to move and the chain polymerization reactivity decreases, and the proportion of unreacted chain polymerizable groups increases. Therefore, the total number of Dc is preferably 7 or less, more preferably 6 or less.

次に、一般式(IA−c)の詳細を説明する。
一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基としては、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基(以下、「特定連結基」と称する)を含む2価の連結基である。
ここで、特定連結基としては、保護層(最表面層)の強度と極性(親疎水性)のバランスの観点から、例えば、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−C(=O)−O−、−O−C(=O)−N(R)−がよく、望ましくは−N(R)−、−S−、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(H)−、−C(=O)−O−、より望ましくは−C(=O)−O−である。
そして、Lで示される2価の連結基としては、例えば、特定連結基と、飽和炭化水素(直鎖状、分岐状、環状いずれも含む)または芳香族炭化水素の残基と、酸素原子と、を組み合わせて形成される2価の連結基が挙げられ、これらの中でも、特定連結基と、直鎖状の飽和炭化水素の残基と、酸素原子と、を組み合わせて形成される2価の連結基がよい。
で示される2価の連結基に含まれる炭素原子の総数としては、分子中のスチレン骨格の密度と連鎖重合反応性の観点から、例えば、1以上20以下がよく、望ましくは2以上10以下である。
Next, the details of the general formula (IA-c) will be described.
In the general formula (IA-c), examples of the divalent linking group represented by L c include —C (═O) —, —N (R) —, —S—, and —C (═O) —. And a divalent linking group comprising one or more groups selected from the group consisting of a combination of —O—, —N (R) — or —S— (hereinafter referred to as “specific linking group”). It is.
Here, the specific linking group includes, for example, —C (═O) —, —N (R) —, and —S— from the viewpoint of the balance between the strength and polarity (hydrophobicity) of the protective layer (outermost surface layer). , -C (= O) -O-, -C (= O) -N (R)-, -C (= O) -S-, -O-C (= O) -O-, -O-C (═O) —N (R) — is preferred, desirably —N (R) —, —S—, —C (═O) —O—, —C (═O) —N (H) —, — C (= O) -O-, more preferably -C (= O) -O-.
The divalent linking group represented by L c includes, for example, a specific linking group, a saturated hydrocarbon (including any of linear, branched, and cyclic) or aromatic hydrocarbon residues, and an oxygen atom. And a divalent linking group formed by combining a specific linking group, a linear saturated hydrocarbon residue, and an oxygen atom. The linking group is preferable.
The total number of carbon atoms contained in the divalent linking group represented by L c is, for example, from 1 to 20 in terms of the density of the styrene skeleton in the molecule and the chain polymerization reactivity, and desirably from 2 to 10 It is as follows.

一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基として具体的には、例えば、
*−(CHcp−C(=O)−O−(CHcq−、
*−(CHcp−O−C(=O)−(CHcr−C(=O)−O−(CHcq−、
*−(CHcp−C(=O)−N(R)−(CHcq−、
*−(CHcp−C(=O)−S−(CHcq−、
*−(CHcp−N(R)−(CHcq−、
*−(CHcp−S−(CHcq−、
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、cpは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。cqは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。crは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Arc1〜Arc5で示される基と連結する部位を示している。
Specific examples of the divalent linking group represented by L c in the general formula (IA-c) include, for example,
* - (CH 2) cp -C (= O) -O- (CH 2) cq -,
* — (CH 2 ) cp —O—C (═O) — (CH 2 ) cr —C (═O) —O— (CH 2 ) cq —,
* — (CH 2 ) cp —C (═O) —N (R) — (CH 2 ) cq —,
* - (CH 2) cp -C (= O) -S- (CH 2) cq -,
* - (CH 2) cp -N (R) - (CH 2) cq -,
* - (CH 2) cp -S- (CH 2) cq -,
Etc.
Here, in the linking group represented by L c, cp is 0, or 1 to 6 (preferably 1 to 5) represents an integer of. cq represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). cr represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
In the linking group represented by L c , “*” represents a site linked to the group represented by Ar c1 to Ar c5 .

これらの中でも、一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基としては、*−(CHcp−C(=O)−O−CH−が望ましい。つまり、一般式(IA−c)で示される基は、下記一般式(IA−c1)で示される基であることが望ましい。但し、一般式(IA−c1)中、cp1は0以上4以下の整数を示す。 Among these, in the general formula (IA-c), * — (CH 2 ) cp —C (═O) —O—CH 2 — is desirable as the divalent linking group represented by L c . That is, the group represented by the general formula (IA-c) is preferably a group represented by the following general formula (IA-c1). However, in general formula (IA-c1), cp1 shows the integer of 0-4.


・一般式(I−d)で示される反応性化合物
一般式(I−d)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性基含有電荷輸送材料として一般式(I−d)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、一般式(I−b)で示される反応性化合物と同様の理由によるものと考えられる。
特に、一般式(I−d)で示される反応性化合物は、一般式(I−b)に比べ、Ddの総数が3以上8以下と多いため、形成される架橋体がより高い架橋構造(架橋ネットワーク)が形成され易く、より保護層(最表面層)の摩耗が抑制され易くなると考えられる。
-Reactive compound shown by general formula (Id) The reactive compound shown by general formula (Id) is demonstrated.
When the reactive compound represented by the general formula (Id) is applied as a specific reactive group-containing charge transporting material, wear of the protective layer (outermost surface layer) is suppressed and generation of uneven density in the image is suppressed. It becomes easy to be done. Although the reason is not certain, it is thought to be due to the same reason as the reactive compound represented by the general formula (Ib).
In particular, the reactive compound represented by the general formula (Id) has a higher total number of Dd of 3 or more and 8 or less than the general formula (Ib). It is considered that a crosslinked network is easily formed, and wear of the protective layer (outermost surface layer) is more easily suppressed.


一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ard5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Ddは、下記一般式(IA−d)で示される基を示す。dc1〜dc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。dkは、0又は1を示す。但し、Ddの総数は、3以上8以下である。 In the general formula (Id), Ar d1 to Ar d4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dd represents a group represented by the following general formula (IA-d). dc1 to dc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. dk represents 0 or 1. However, the total number of Dd is 3 or more and 8 or less.


一般式(IA−d)中、Lは、*−(CHdn−O−で示される基を含み、*にてArd1〜Ard5で示されるに連結する2価の連結基を示す。dnは、1以上6以下の整数を示す。 In General Formula (IA-d), L d includes a group represented by * — (CH 2 ) dn —O—, and represents a divalent linking group that is coupled to Ar d1 to Ar d5 by *. Show. dn represents an integer of 1 to 6.

以下、一般式(I−d)の詳細を説明する。
一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ard5は、dkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ard5は、dkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Ddの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、望ましくは4以上である。
Details of the general formula (Id) will be described below.
In general formula (Id), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar d1 to Ar d4 is the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in general formula (Ia). It is the same.
Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when dk is 0, and examples of the substituted or unsubstituted aryl group include substituted or unsubstituted Ar a1 to Ar a4 in the general formula (Ia) Same as unsubstituted aryl group.
Ar d5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when dk is 1, and the substituted or unsubstituted arylene group includes a substituent represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (Ia) or The same as the unsubstituted arylene group.
The total number of Dd is desirably 4 or more from the viewpoint of obtaining a protective layer (outermost surface layer) with higher strength.

次に、一般式(IA−d)の詳細を説明する。
一般式(IA−d)中、Lで示される2価の連結基としては、例えば、
*−(CHdp−O−、
*−(CHdp−O−(CHdq−O−
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、dpは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。dqは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Ard1〜Ard5で示される基と連結する部位を示している。
Next, the details of the general formula (IA-d) will be described.
In the general formula (IA-d), examples of the divalent linking group represented by L d include:
* — (CH 2 ) dp —O—,
* - (CH 2) dp -O- (CH 2) dq -O-
Etc.
Here, in the linking group represented by L d, dp represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). dq represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
In the linking group represented by L d , “*” represents a site linked to the group represented by Ar d1 to Ar d5 .

・一般式(II−a)で示される反応性化合物
一般式(II−a)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性基含有電荷輸送材料として、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物を適用すると、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、電荷輸送性骨格から、1つの連結基を介して2つ又は3つの連鎖重合性の反応性基(スチレン基)を有する化合物である。
このため、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、高い硬化度、架橋部位数を保ちつつも、この連結基の存在により、重合又は架橋させた際に電荷輸送性骨格に歪みを発生させ難く、高い硬化度と優れた電荷輸送性能との両立が実現され易くなると考えられる。
また、従来用いられていた、(メタ)アクリル基を有する電荷輸送性化合物は、上記のようにひずみを生じやすい上に、反応性部位は親水性が高く、電荷輸送性部位は疎水性が高いため、微視的な相分離(ミクロ相分離)しやすいのに対し、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、スチレン基を反応性基として有しており、更に、硬化(架橋)させた際に電荷輸送性骨格に歪みを生じさせ難い連結基を有している構造であること、反応性部位、電荷輸送性部位ともに疎水性のため相分離が起きに難くなるため、効率的な電荷輸送性能と高強度化が図れると考えられる。その結果として、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、機械的強度に優れると共に、電荷輸送性能(電気特性)がより優れるものと考えられる。
以上から、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物を適用すると、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制され易くなると考えられる。
-Reactive compound shown by general formula (II-a) The reactive compound shown by general formula (II-a) is demonstrated.
When a reactive compound represented by the general formula (II) (especially the general formula (II-a)) is applied as a specific reactive group-containing charge transport material, deterioration of electrical characteristics is suppressed even when used repeatedly over a long period of time. It becomes easy to be done. The reason is not clear, but is thought to be as follows.
First, the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly the general formula (II-a)) has two or three chain polymerizable reactive groups from a charge transporting skeleton through one linking group. It is a compound having (styrene group).
Therefore, the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly the general formula (II-a)) was polymerized or cross-linked by the presence of this linking group while maintaining a high degree of curing and the number of cross-linking sites. At this time, it is difficult to cause distortion in the charge transporting skeleton, and it is considered that it is easy to realize both high curing degree and excellent charge transport performance.
In addition, conventionally used charge transporting compounds having a (meth) acryl group are likely to be distorted as described above, and the reactive sites are highly hydrophilic and the charge transporting sites are highly hydrophobic. Therefore, the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly the general formula (II-a)) has a styrene group as a reactive group, whereas microscopic phase separation (microphase separation) is likely to occur. Furthermore, the structure has a linking group that is difficult to cause distortion in the charge transporting skeleton when cured (crosslinked), and both the reactive site and the charge transporting site are hydrophobic. Since separation is difficult to occur, it is considered that efficient charge transport performance and high strength can be achieved. As a result, the protective layer (outermost surface layer) containing a polymer or a crosslinked product of the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly the general formula (II-a)) has excellent mechanical strength and charge. It is considered that the transport performance (electrical characteristics) is superior.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly, the general formula (II-a)) is applied, deterioration of electric characteristics is easily suppressed even when used repeatedly over a long period of time.


一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ark5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dkは、下記一般式(IIA−a)で示される基を示す。kc1〜kc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。kkは、0又は1を示す。但し、Dkの総数は、1以上8以下である。 In the general formula (II-a), Ar k1 to Ar k4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ark5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dk represents a group represented by the following general formula (IIA-a). kc1 to kc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. kk represents 0 or 1. However, the total number of Dk is 1 or more and 8 or less.


一般式(IIA−a)中、Lは、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(kn+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。knは、2以上3以下の整数を示す。 In the general formula (IIA-a), L k represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)- A (kn + 1) -valent linking group containing two or more selected from the group consisting of, -S-, and -O-. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. kn represents an integer of 2 or more and 3 or less.

以下、一般式(II−a)の詳細を説明する。
一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ark5は、kkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ark5は、kkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Dkの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、望ましくは2以上であり、更に望ましくは4以上である。一般に、一分子中の連鎖重合性基の数が多すぎると、重合(架橋)反応が進むにつれ、分子が動きにくくなり連鎖重合反応性が低下し、未反応の連鎖重合性基の割合が増えてしまうことから、Dcの総数は、望ましくは7以下、さらに望ましくは6以下である。
Hereinafter, the details of the general formula (II-a) will be described.
In general formula (II-a), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar k1 to Ar k4 is the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in general formula (Ia). It is the same.
Ar k5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when kk is 0. Examples of the substituted or unsubstituted aryl group include substituted or unsubstituted Ar a1 to Ar a4 in the general formula (Ia) Same as unsubstituted aryl group.
Ar k5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when kk is 1, and the substituted or unsubstituted arylene group includes a substituent represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (Ia) or The same as the unsubstituted arylene group.
The total number of Dk is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more, from the viewpoint of obtaining a protective layer (outermost surface layer) with higher strength. In general, if the number of chain polymerizable groups in one molecule is too large, as the polymerization (crosslinking) reaction proceeds, the molecules become difficult to move and the chain polymerization reactivity decreases, and the proportion of unreacted chain polymerizable groups increases. Therefore, the total number of Dc is preferably 7 or less, more preferably 6 or less.

次に、一般式(IIA−a)の詳細を説明する。
一般式(IIA−a)中、Lで示される(kn+1)価の連結基としては、例えば、一般式(II)中、L’で示される(n+1)価の連結基と同様である。
Next, the detail of general formula (IIA-a) is demonstrated.
In the general formula (IIA-a), the (kn + 1) -valent linking group represented by L k is, for example, the same as the (n + 1) -valent linking group represented by L ′ in the general formula (II).

以下に、特定の反応性基含有電荷輸送材料の具体的を示す。
具体的には、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(例えば一般式(I−a)中のDaや一般式(II−a)のDkを除く骨格に相当する部位)の具体例、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基(例えば一般式(I−a)中のDaや一般式(II−a)のDkに相当する部位)の具体例と共に、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の具体例を示すが、これらに限定されるわけではない。
なお、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格Fの具体例の「*」部分は、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基の「*」部分が連結していることを意味する。
つまり、例えば、例示化合物(I−b)−1は、電荷輸送性骨格Fの具体例:(M1)−1、官能基の具体例:(R2)−1と示されているが、その具体的な構造は以下の構造を示す。
Specific examples of the specific reactive group-containing charge transport material are shown below.
Specifically, the charge transporting skeleton F of the general formulas (I) and (II) (for example, a portion corresponding to the skeleton excluding Da in the general formula (Ia) and Dk of the general formula (II-a)). Together with specific examples of functional groups linked to the charge transporting skeleton F (for example, a site corresponding to Da in the general formula (Ia) or Dk in the general formula (II-a)). Specific examples of the reactive compound represented by (II) and (II) are shown below, but are not limited thereto.
In the specific examples of the charge transporting skeleton F in the general formulas (I) and (II), the “*” part means that the “*” part of the functional group linked to the charge transporting skeleton F is linked. To do.
That is, for example, the exemplary compound (Ib) -1 is shown as a specific example of the charge transporting skeleton F: (M1) -1, and a specific example of the functional group: (R2) -1. The typical structure shows the following structure.


まず、電荷輸送性骨格Fの具体例を以下示す。   First, specific examples of the charge transporting skeleton F are shown below.




次に、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基の具体例を示す。   Next, specific examples of the functional group linked to the charge transporting skeleton F are shown.


次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−a)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically, the general formula (Ia) are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−b)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically, the general formula (Ib) are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−c)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically, the general formula (Ic) are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−d)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically, the general formula (Id) will be shown.

次に、一般式(II)、具体的には一般式(II−a)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (II), specifically, the general formula (II-a) are shown.

特定の反応性基含有電荷輸送材料(特に、一般式(I)で示される反応性化合物)は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、特定の反応性基含有電荷輸送材料は、前駆体であるカルボン酸、又は、アルコールと、対応するクロロメチルスチレンなどでのエーテル化などにより合成される。
A specific reactive group-containing charge transport material (in particular, a reactive compound represented by the general formula (I)) is synthesized, for example, as follows.
That is, a specific reactive group-containing charge transport material is synthesized by etherification with a carboxylic acid or alcohol as a precursor and a corresponding chloromethylstyrene or the like.

特定の反応性基含有電荷輸送材料の例示化合物(I−d)−22の合成経路を一例として以下に示す。   An example of the synthesis route of the exemplary compound (Id) -22 of the specific reactive group-containing charge transporting material is shown below.

アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P.51などに記載されたように、塩基性触媒(NaOH、KCO等)、酸性触媒(例えばリン酸、硫酸等)を用いる加水分解により得られる。
この際、溶媒としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶媒の量は、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、室温(例えば25℃)以上溶媒の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の関係上、50度以上が望ましい。
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して0.001質量部以上1質量部以下、望ましくは0.01質量部以上0.5質量部以下で用いることがよい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸(例えば塩酸等)で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶媒により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。
The arylamine compound carboxylic acid is an ester group of an arylamine compound, for example, as described in Experimental Chemistry Course, 4th edition, volume 20, p. As described in No. 51 and the like, it can be obtained by hydrolysis using a basic catalyst (NaOH, K 2 CO 3 etc.) and an acidic catalyst (eg phosphoric acid, sulfuric acid etc.).
In this case, various solvents can be used, and it is preferable to use alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, or a mixture of water.
Furthermore, when the solubility of the arylamine compound is low, methylene chloride, chloroform, toluene, dimethyl sulfoxide, ether, tetrahydrofuran or the like may be added.
Although there is no restriction | limiting in particular in the quantity of a solvent, For example, it is 1 mass part or more and 100 mass parts or less with respect to 1 mass part of arylamine compounds containing an ester group, Preferably it is used by 2 mass parts or more and 50 mass parts or less. Good.
The reaction temperature is set, for example, in the range from room temperature (for example, 25 ° C.) to the boiling point of the solvent, and is preferably 50 ° C. or higher in view of the reaction rate.
Although there is no restriction | limiting in particular about the quantity of a catalyst, For example, 0.001 mass part or more and 1 mass part or less with respect to 1 mass part of arylamine compounds containing an ester group, Desirably 0.01 mass part or more and 0.5 It is good to use below mass parts.
When hydrolysis is performed with a basic catalyst after the hydrolysis reaction, the generated salt is neutralized with an acid (for example, hydrochloric acid or the like) and released. Furthermore, after washing thoroughly with water, use after drying, or if necessary, recrystallize and purify with an appropriate solvent such as methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, acetone, etc. Also good.

アリールアミン化合物のアルコール体は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P.10などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元して合成する。   The alcohol form of the arylamine compound may be prepared by reacting the ester group of the arylamine compound with, for example, Experimental Chemistry Course, 4th Edition, Volume 20, As described in No. 10 and the like, it is synthesized by reducing to the corresponding alcohol using lithium aluminum hydride, sodium borohydride or the like.

例えば、エステル結合にて反応基を導入する場合、アリールアミン化合物カルボン酸と、ヒドロキシメチルスチレンを酸触媒にて脱水縮合させる通常のエステル化や、アリールアミン化合物カルボン酸と、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用し得るが、ハロゲン化メチルスチレンを用いる方法が副生成物が抑制されることから好適である。   For example, when a reactive group is introduced by an ester bond, normal esterification in which an arylamine compound carboxylic acid and hydroxymethylstyrene are subjected to dehydration condensation using an acid catalyst, an arylamine compound carboxylic acid and a halogenated methylstyrene, A method of condensation using a base such as pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide can be used, but a method using halogenated methylstyrene is a by-product. This is preferable because the object is suppressed.

アリールアミン化合物カルボン酸の酸に対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、望ましくは、1.2当量以上、より望ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、望ましくは1.0当量以上1.5当量以下で用いることがよい。
溶媒としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶媒などが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶媒で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
The halogenated methylstyrene should be added in an amount of 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, more preferably 1.5 equivalents or more with respect to the acid of the arylamine compound carboxylic acid. .8 equivalents to 2.0 equivalents, preferably 1.0 equivalents to 1.5 equivalents.
Solvents include aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 -Aromatic solvents such as chloronaphthalene are effective, and in the range of 1 to 100 parts by weight, preferably 2 to 50 parts by weight with respect to 1 part by weight of the arylamine compound carboxylic acid. It should be used.
The reaction temperature is not particularly limited. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and further purified using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay if necessary. May be.

また、エーテル結合にて導入する場合、アリールアミン化合物アルコールと、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用することがよい。
アリールアミン化合物アルコールのアルコールに対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、望ましくは、1.2当量以上、より望ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、望ましくは、1.0当量以上1.5当量以下で用いることがよい。
溶媒としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶媒などが有効であり、アリールアミン化合物アルコールの1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶媒で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
In addition, when introduced by an ether bond, arylamine compound alcohol and halogenated methylstyrene are converted into bases such as pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. It is preferable to use a method of condensing with.
The halogenated methylstyrene should be added in an amount of 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, and more preferably 1.5 equivalents or more with respect to the alcohol of the arylamine compound alcohol. 8 equivalents or more and 2.0 equivalents or less, preferably 1.0 equivalents or more and 1.5 equivalents or less.
Solvents include aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 -Aromatic solvents such as chloronaphthalene are effective, and are used in the range of 1 to 100 parts by weight, preferably 2 to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the arylamine compound alcohol. It is good.
The reaction temperature is not particularly limited. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and further purified using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay if necessary. May be.

特定の反応性基含有電荷輸送材料(特に一般式(II)で示される反応性化合物)は、例えば、以下に示す一般の電荷輸送材料の合成方法(ホルミル化、エステル化、エーテル化、水素添加)を利用して、合成される。
・ホルミル化:電子供与性基を持つ芳香族化合物・複素環化合物・アルケンにホルミル基を導入するのに適した反応。DMFとオキシ三塩化リンを用いるのが一般的であり、反応温度は室温(例えば25℃)から100℃程度で行われることが多い。
・エステル化:有機酸とアルコールまたはフェノールのようなヒドロキシル基を含む化合物との縮合反応。脱水剤を共存させたり、水を系外へ除去することで平衡をエステル側へ偏らせる手法を用いることが好ましい。
・エーテル化:アルコキシドと有機ハロゲン化合物を縮合させるウィリアムソン合成法が一般的である。
・水素添加:種々の触媒を用いて不飽和結合に水素を反応させる方法。
Specific reactive group-containing charge transport materials (especially the reactive compounds represented by the general formula (II)) are, for example, the following general charge transport material synthesis methods (formylation, esterification, etherification, hydrogenation) ) And synthesized.
-Formylation: Aromatic compounds with electron donating groups-Heterocyclic compounds-Reactions suitable for introducing formyl groups into alkenes. In general, DMF and phosphorus oxytrichloride are used, and the reaction temperature is often from room temperature (for example, 25 ° C.) to about 100 ° C.
Esterification: A condensation reaction between an organic acid and a compound containing a hydroxyl group such as alcohol or phenol. It is preferable to use a method of biasing the equilibrium toward the ester side by coexisting a dehydrating agent or removing water out of the system.
Etherification: A Williamson synthesis method in which an alkoxide and an organic halogen compound are condensed is common.
-Hydrogenation: A method in which hydrogen is reacted with an unsaturated bond using various catalysts.

特定の反応性基含有電荷輸送材料の含有量は、例えば、層形成のための組成物中の全固形分に対して40質量%以上95質量%以下がよく、望ましくは50質量%以上95質量%以下である。   The content of the specific reactive group-containing charge transport material is, for example, preferably 40% by mass or more and 95% by mass or less, and preferably 50% by mass or more and 95% by mass with respect to the total solid content in the composition for layer formation. % Or less.

−フッ素含有樹脂粒子−
保護層(最表面層)を構成する膜は、フッ素含有樹脂粒子を含有してもよい。
フッ素含有樹脂粒子としては、フルオロオレフィンのホモポリマーや、2種以上の共重合体であって、フルオロオレフィンの1種又は2種以上と非フッ素系のモノマーとの共重合体の粒子が挙げられる。
-Fluorine-containing resin particles-
The film constituting the protective layer (outermost surface layer) may contain fluorine-containing resin particles.
Examples of the fluorine-containing resin particles include homopolymers of fluoroolefins and copolymers of two or more types, which are copolymers of one or more types of fluoroolefins and non-fluorinated monomers. .

フルオロオレフィンとしては、例えばテトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)などのパーハロオレフィン、フッ化ビニリデン(VdF)、トリフルオロエチレン、フッ化ビニルなどの非パーフルオロオレフィン等が挙げられ、VdF、TFE、CTFE、HFPなどが望ましい。   Examples of the fluoroolefin include perhaloolefin such as tetrafluoroethylene (TFE), perfluorovinyl ether, hexafluoropropylene (HFP), and chlorotrifluoroethylene (CTFE), vinylidene fluoride (VdF), trifluoroethylene, and fluoride. Examples thereof include non-perfluoroolefins such as vinyl, and VdF, TFE, CTFE, HFP and the like are preferable.

一方、非フッ素系のモノマーとしては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなどのハイドロカーボン系オレフィン、シクロヘキシルビニルエーテル(CHVE)、エチルビニルエーテル(EVE)、ブチルビニルエーテル、メチルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテル(POEAE)、エチルアリルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル、ビニルトリメトキシシラン(VSi)、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(メトキシエトキシ)シランなどの反応性α,β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル、メタアクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタアクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、「ベオバ」(商品名、シェル社製のビニルエステル)などのビニルエステルなどが挙げられ、アルキルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ビニルエステル、反応性α,β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物が望ましい。   On the other hand, examples of non-fluorine monomers include hydrocarbon olefins such as ethylene, propylene and butene, alkyl vinyl ethers such as cyclohexyl vinyl ether (CHVE), ethyl vinyl ether (EVE), butyl vinyl ether and methyl vinyl ether, and polyoxyethylene allyl ether. (POEAE), alkenyl vinyl ethers such as ethyl allyl ether, organosilicon compounds having reactive α, β-unsaturated groups such as vinyltrimethoxysilane (VSi), vinyltriethoxysilane, vinyltris (methoxyethoxy) silane, and acrylic acid Acrylic esters such as methyl and ethyl acrylate, methacrylates such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl benzoate, Examples include vinyl esters such as “Oba” (trade name, vinyl ester manufactured by Shell), and alkyl vinyl ethers, allyl vinyl ethers, vinyl esters, and organosilicon compounds having a reactive α, β-unsaturated group are preferable.

これらのうち、フッ素化率の高いものが望ましく、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)などが好ましい。これらのうちでも、PTFE、FEP、PFAが特に望ましい。   Of these, those having a high fluorination rate are desirable, such as polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA). ), Ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), and the like are preferable. Of these, PTFE, FEP, and PFA are particularly desirable.

フッ素含有樹脂粒子は、例えばフッ素系単量体を乳化重合などの方法で製造した粒子(フッ素樹脂水性分散液)をそのまま使用してもよく、十分に水洗した後に乾燥したものを使用してもよい。
フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径としては0.01μm以上100μm以下が好ましく、特に0.03μm以上5μm以下であることが好ましい。
尚、上記フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA−700(堀場製作所製)を用いて測定した値をいう。
As the fluorine-containing resin particles, for example, particles (fluorine resin aqueous dispersion) produced by a method such as emulsion polymerization of a fluorine-based monomer may be used as they are, or may be used after thoroughly washing with water and drying. Good.
The average particle size of the fluorine-containing resin particles is preferably 0.01 μm or more and 100 μm or less, and particularly preferably 0.03 μm or more and 5 μm or less.
In addition, the average particle diameter of the said fluorine-containing resin particle means the value measured using laser diffraction type particle size distribution measuring device LA-700 (made by Horiba Seisakusho).

フッ素含有樹脂粒子は、市販で入手したものを用いてもよく、例えばPTFE粒子としては、フルオンL173JE(旭ガラス社製)、ダニイオンTHV−221AZ、ダニイオン9205(住友3M社製)、ルブロンL2、ルブロンL5(ダイキン社製)などが挙げられる。   As the fluorine-containing resin particles, commercially available ones may be used. For example, as PTFE particles, Fullon L173JE (Asahi Glass Co., Ltd.), Taniion THV-221AZ, Taniion 9205 (Sumitomo 3M), Lubron L2, Lubron And L5 (manufactured by Daikin).

フッ素含有樹脂粒子は、紫外領域の発振波長を有するレーザー光を照射されたものであってもよい。フッ素含有樹脂粒子に照射されるレーザー光については特に限定されるものではなく、例えば、エキシマレーザー等が挙げられる。エキシマレーザー光としては、波長が400nm以下、特に193nm以上308nm以下の紫外レーザー光が好適である。特に、KrFエキシマレーザー光(波長:248nm)およびArFエキシマレーザー光(波長:193nm)等が好ましい。エキシマレーザー光照射は、通常、室温(25℃)大気中で行うが、酸素雰囲気中で行ってもよい。   The fluorine-containing resin particles may be irradiated with laser light having an oscillation wavelength in the ultraviolet region. The laser beam irradiated to the fluorine-containing resin particles is not particularly limited, and examples thereof include an excimer laser. As the excimer laser light, an ultraviolet laser light having a wavelength of 400 nm or less, particularly 193 nm or more and 308 nm or less is suitable. In particular, KrF excimer laser light (wavelength: 248 nm) and ArF excimer laser light (wavelength: 193 nm) are preferred. Excimer laser light irradiation is usually performed in the air at room temperature (25 ° C.), but may be performed in an oxygen atmosphere.

また、エキシマレーザー光の照射条件は、フッ素樹脂の種類および求められる表面改質の程度によって左右されるが、一般的な照射条件は次の通りである。
フルエンス:50mJ/cm/パルス以上
入射エネルギー:0.1J/cm以上
ショット数:100以下
The irradiation conditions of excimer laser light depend on the type of fluororesin and the required degree of surface modification, but general irradiation conditions are as follows.
Fluence: 50 mJ / cm 2 / pulse or more Incident energy: 0.1 J / cm 2 or more Shot number: 100 or less

特に好適なKrFエキシマレーザー光およびArFエキシマレーザー光の常用される照射条件は次の通りである。
KrF
フルエンス:100mJ/cm/パルス以上500mJ/cm/パルス以下
入射エネルギー:0.2J/cm以上2.0J/cm以下
ショット数:1以上20以下
Particularly suitable irradiation conditions for particularly suitable KrF excimer laser light and ArF excimer laser light are as follows.
KrF
Fluence: 100 mJ / cm 2 / pulse or more 500 mJ / cm 2 / pulse or less incident energy: 0.2 J / cm 2 or more 2.0 J / cm 2 or less number of shots: 1 to 20

ArF
フルエンス:50mJ/cm/パルス以上150mJ/cm/パルス以下
入射エネルギー:0.1J/cm以上1.0J/cm以下
ショット数:1以上20以下
ArF
Fluence: 50 mJ / cm 2 / pulse or more 150 mJ / cm 2 / pulse or less incident energy: 0.1 J / cm 2 or more 1.0 J / cm 2 or less number of shots: 1 to 20

フッ素含有樹脂粒子の含有量は、保護層(最表面層)の固形分全量に対して1質量%以上20質量%以下が好ましく、1質量%以上12質量%以下がさらに好ましい。   The content of the fluorine-containing resin particles is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 12% by mass or less with respect to the total solid content of the protective layer (outermost surface layer).

−フッ素含有分散剤−
保護層(最表面層)を構成する膜は、フッ素含有樹脂粒子と共に、フッ素含有分散剤を含有してもよい。
フッ素含有分散剤は、フッ素含有樹脂粒子を保護層(最表面層)中に分散させるために用いられるものであるため、界面活性作用を有していることが好ましく、つまり分子内に親水基と疎水基とを持つ物質であることがよい。
-Fluorine-containing dispersant-
The film constituting the protective layer (outermost surface layer) may contain a fluorine-containing dispersant together with the fluorine-containing resin particles.
Since the fluorine-containing dispersant is used to disperse the fluorine-containing resin particles in the protective layer (outermost surface layer), it preferably has a surface active action, that is, has a hydrophilic group in the molecule. A substance having a hydrophobic group is preferable.

フッ素含有分散剤としては、以下の反応性の単量体を重合した樹脂(以下「特定樹脂」と称する。)が挙げられる。具体的には、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートホモポリマーおよび前記パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体が挙げられる。尚、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートとしては、例えば2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレートが挙げられる。
また、フッ素を有さないモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレートが挙げられる。また、米国特許5637142号明細書、特許第4251662号公報、特許第4251662号公報などに開示されたブロック又はブランチポリマーなどが挙げられる。またその他に、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例としては、サーフロンS−611、サーフロンS−385(AGCセイミケミカル社製)、フタージェント730FL、フタージェント750FL(ネオス社製)、PF−636、PF−6520(北村化学社製)、メガファックEXP,TF−1507、メガファックEXP、TF−1535(大日本インキ社製)、FC−4430、FC−4432(3M社製)などが挙げられる。
なお、特定樹脂の重量平均分子量は100以上50000以下が好ましい。
Examples of the fluorine-containing dispersant include resins obtained by polymerizing the following reactive monomers (hereinafter referred to as “specific resins”). Specifically, a random or block copolymer of an acrylate having a perfluoroalkyl group and a monomer having no fluorine, a methacrylate homopolymer, and an acrylate having the perfluoroalkyl group, and not having the fluorine Examples thereof include random or block copolymers of monomers and random or block copolymers of methacrylate and monomers not containing fluorine. Examples of the acrylate having a perfluoroalkyl group include 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate.
Moreover, as a monomer which does not have fluorine, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate Phenoxypolyethyleneglycol Le acrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate. Further, block or branch polymers disclosed in US Pat. No. 5,637,142, Japanese Patent No. 4,251,662, Japanese Patent No. 4,251,662, etc. may be mentioned. In addition, a fluorine-type surfactant is mentioned. Specific examples of the fluorosurfactant include Surflon S-611, Surflon S-385 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), Aftergent 730FL, Aftergent 750FL (manufactured by Neos), PF-636, and PF-6520 (Kitamura). Chemical Co., Ltd.), Mega-Fac EXP, TF-1507, Mega-Fac EXP, TF-1535 (Dainippon Ink Co., Ltd.), FC-4430, FC-4432 (3M Co., Ltd.), and the like.
The weight average molecular weight of the specific resin is preferably 100 or more and 50000 or less.

フッ素含有分散剤の含有量は、保護層(最表面層)の固形分全量に対して0.1質量%以上1質量%以下が好ましく、0.2質量%以上0.5質量%以下がさらに好ましい。   The content of the fluorine-containing dispersant is preferably 0.1% by mass or more and 1% by mass or less, and more preferably 0.2% by mass or more and 0.5% by mass or less with respect to the total solid content of the protective layer (outermost surface layer). preferable.

フッ素含有分散剤をフッ素含有樹脂粒子の表面に付着させる方法としては、フッ素含有分散剤を直接フッ素含有樹脂粒子の表面に付着させてもよいし、まず上記の単量体をフッ素含有樹脂粒子の表面に吸着させた後に重合を行なって、フッ素含有樹脂粒子の表面に前記特定樹脂を形成させてもよい。   As a method of attaching the fluorine-containing dispersant to the surface of the fluorine-containing resin particles, the fluorine-containing dispersant may be attached directly to the surface of the fluorine-containing resin particles, or first, the above monomer is added to the fluorine-containing resin particles. The specific resin may be formed on the surface of the fluorine-containing resin particles by polymerizing after adsorbing on the surface.

フッ素含有分散剤は、他の界面活性剤と併用してもよい。但し、その量としては極力少ないことがよく、他の界面活性剤の含有量は、フッ素含有樹脂粒子1質量部に対し、0質量部以上0.1質量部以下がよく、望ましくは0質量部以上0.05質量部以下、より望ましくは0質量部以上0.03質量部以下である。   The fluorine-containing dispersant may be used in combination with other surfactants. However, the amount is preferably as small as possible, and the content of the other surfactant is preferably 0 parts by mass or more and 0.1 parts by mass or less, and preferably 0 parts by mass with respect to 1 part by mass of the fluorine-containing resin particles. It is 0.05 parts by mass or less, and more preferably 0 parts by mass or more and 0.03 parts by mass or less.

他の界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤がよく、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類、グリセリンエステル類、フッ素系界面活性剤およびその誘導体などが挙げられる。
ポリオキシエチレン類の具体例としては、例えばエマルゲン707(花王社製)、ナロアクティーCL−70、ナロアクティーCL−85(三洋化成工業社製)、レオコールTD−120(ライオン社製)などが挙げられる。
Other surfactants are preferably nonionic surfactants, such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, polyoxyethylene sorbitan alkyls. Examples thereof include esters, glycerin esters, fluorosurfactants and derivatives thereof.
Specific examples of polyoxyethylenes include, for example, Emulgen 707 (manufactured by Kao Corporation), NAROACTY CL-70, NAROACTY CL-85 (manufactured by Sanyo Chemical Industries), Leocor TD-120 (manufactured by Lion Corporation), and the like. It is done.

−不飽和結合を有する化合物−
保護層(最表面層)を構成する膜は、不飽和結合を有する化合物を併用してもよい。
不飽和結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよく、また、電荷輸送性骨格を有していてもよい。
-Compound having an unsaturated bond-
The film constituting the protective layer (outermost surface layer) may be used in combination with a compound having an unsaturated bond.
The compound having an unsaturated bond may be any of a monomer, an oligomer and a polymer, and may have a charge transporting skeleton.

不飽和結合を有する化合物として、電荷輸送性骨格を有さないものとしては以下のようなものが挙げられる。
1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。
Examples of the compound having an unsaturated bond include those having no charge transporting skeleton as follows.
Monofunctional monomers include, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl Acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate The Roh carboxymethyl polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate, styrene, and the like.

2官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。
3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Examples of the bifunctional monomer include diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth). Examples thereof include acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate and the like.
Examples of the trifunctional monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, aliphatic tri (meth) acrylate, trivinylcyclohexane, and the like.
Examples of the tetrafunctional monomer include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate.
Examples of the pentafunctional or higher monomer include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like, as well as (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton.

また、反応性のポリマーとしては、例えば、特開平5−216249号公報、特開平5−323630号公報、特開平11―52603号公報、特開2000−264961号公報、特開2005−2291号公報などに開示されたものが挙げられる。   Examples of the reactive polymer include JP-A-5-216249, JP-A-5-323630, JP-A-11-52603, JP-A-2000-264961, and JP-A-2005-2291. And the like.

電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を用いる場合には、単独又は2種以上の混合物として使用される。
電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物の含有量は、保護層(最表面層)を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、例えば、望ましくは60質量%以下がよく、望ましくは55質量%以下、より望ましくは50質量%以下である。
When using the compound which has an unsaturated bond which does not have a charge transport component, it is used individually or in mixture of 2 or more types.
The content of the compound having an unsaturated bond having no charge transport component is preferably 60% by mass or less, for example, based on the total solid content of the composition used in forming the protective layer (outermost surface layer). It is preferably 55% by mass or less, more preferably 50% by mass or less.

一方、不飽和結合を有する化合物として、電荷輸送骨格を有するものとしては、次のものが挙げられる。
・連鎖重合性官能基(スチリル基を除く連鎖重合性官能基)及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における連鎖重合性官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが望ましい。
また、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における電荷輸送性骨格としては電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
On the other hand, examples of the compound having an unsaturated bond include those having a charge transport skeleton.
・ Chain polymerizable functional group (chain polymerizable functional group excluding styryl group) and compound having charge transporting skeleton in the same molecule Chain polymerization property in compound having chain polymerizable functional group and charge transporting skeleton in the same molecule The functional group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of radical polymerization, and is, for example, a functional group having a group containing at least a carbon double bond. Specific examples include a group containing at least one selected from a vinyl group, a vinyl ether group, a vinyl thioether group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof. Among them, the chain polymerizable functional group is a group containing at least one selected from a vinyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof because of its excellent reactivity. Is desirable.
Further, the charge transporting skeleton in the compound having a chain polymerizable functional group and a charge transporting skeleton in the same molecule is not particularly limited as long as it is a known structure in an electrophotographic photosensitive member. For example, triarylamine Examples thereof include a skeleton derived from a nitrogen-containing hole transporting compound such as a benzene compound, a benzidine compound, or a hydrazone compound, and a structure conjugated with a nitrogen atom. Among these, a triarylamine skeleton is desirable.

−非反応性の電荷輸送材料−
保護層(最表面層)を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)に用いた場合には電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
-Non-reactive charge transport material-
The film constituting the protective layer (outermost surface layer) may be used in combination with a non-reactive charge transport material. Since non-reactive charge transport materials do not have reactive groups that are not responsible for charge transport, when non-reactive charge transport materials are used for the protective layer (outermost surface layer), the concentration of the charge transport component is low. It is effective for further improving the electrical characteristics. Further, a non-reactive charge transport material may be added to reduce the crosslink density and adjust the strength.

非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、電荷移動度、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
As the non-reactive charge transport material, a known charge transport material may be used. Specifically, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds. Anthracene compounds, hydrazone compounds and the like are used.
Among these, those having a triphenylamine skeleton are desirable from the viewpoint of charge mobility and compatibility.

非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して0質量%以上30質量%以下で用いられることが望ましく、より望ましくは1質量%以上25質量%以下であり、更に望ましくは5質量%以上25質量%以下である。   The non-reactive charge transport material is desirably used in an amount of 0% by mass to 30% by mass, and more desirably 1% by mass to 25% by mass with respect to the total solid content in the coating solution for layer formation. More preferably, it is 5 mass% or more and 25 mass% or less.

−その他の添加剤−
保護層(最表面層)を構成する膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
-Other additives-
The film constituting the protective layer (outermost surface layer) is further mixed with other coupling agents, especially fluorine-containing coupling agents, for the purpose of adjusting the film formability, flexibility, lubricity, and adhesion. May be used. As such a compound, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used. Moreover, you may use the silicon compound and fluorine-containing compound which have a radically polymerizable group.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
As silane coupling agents, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane , Dimethyldimethoxysilane, and the like.
As commercially available hard coat agents, KP-85, X-40-9740, X-8239 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (above, made by Toray Dow Corning) ) And the like.

また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。   In order to impart water repellency and the like, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added.

シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。更に、特開2001−166510号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。
Although the silane coupling agent is used in an arbitrary amount, the amount of the fluorine-containing compound may be 0.25 times or less by mass with respect to the compound containing no fluorine from the viewpoint of the film formability of the crosslinked film. desirable. Furthermore, you may mix the reactive fluorine compound etc. which are disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-166510 etc.
Examples of the silicon compound and the fluorine-containing compound having a radical polymerizable group include compounds described in JP-A No. 2007-11005.

保護層(最表面層)を構成する膜には、劣化防止剤を添加することが望ましい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
It is desirable to add a deterioration inhibitor to the film constituting the protective layer (outermost surface layer). As the degradation inhibitor, hindered phenols or hindered amines are desirable, organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants. You may use well-known antioxidants, such as an agent.
The addition amount of the deterioration inhibitor is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076(以上、チバ・ジャパン社製)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744(以上、三共ライフテック社製)、チヌビン144、チヌビン622LD(以上、チバ・ジャパン社製)、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63(以上、アデカ社製)が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーTPS、スミライザーTP−D(以上、住友化学社製)が挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10(以上、アデカ社製)等が挙げられる。
Examples of the hindered phenol antioxidant include Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076 (manufactured by Ciba Japan), 3, 5 -Di-t-butyl-4-hydroxybiphenyl and the like.
Examples of the hindered amine antioxidant include Sanol LS2626, Sanol LS765, Sanol LS770, Sanol LS744 (Sanyo Lifetech Co., Ltd.), Tinuvin 144, Tinuvin 622LD (above, manufactured by Ciba Japan), Mark LA57, Mark LA67, Mark LA62, Mark LA68, Mark LA63 (manufactured by Adeka Co., Ltd.), and thioethers include Sumilizer TPS and Sumitizer TP-D (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Mark PEP-8, Mark PEP-24G, Mark PEP-36, Mark 329K, Mark HP-10 (manufactured by Adeka) and the like.

保護層(最表面層)を構成する膜には、導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、望ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、又はアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
Conductive particles, organic or inorganic particles may be added to the film constituting the protective layer (outermost surface layer).
An example of such particles is silicon-containing particles. The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples include colloidal silica and silicone particles. The colloidal silica used as the silicon-containing particles is preferably silica having an average particle diameter of 1 nm to 100 nm, more preferably 10 nm to 30 nm, in an acidic or alkaline aqueous dispersion, or an organic solvent such as alcohol, ketone, or ester. It is selected from those dispersed in. As the particles, commercially available particles may be used.

保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。   The solid content of colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% by mass based on the total solid content of the protective layer. % Or more and 30% by mass or less.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層の全固形分全量を基準として、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
The silicone particles used as the silicon-containing particles may be selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and commercially available particles may be used.
These silicone particles are spherical, and the average particle size is desirably 1 nm or more and 500 nm or less, and more desirably 10 nm or more and 100 nm or less.
The content of the silicone particles in the surface layer is desirably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more desirably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total amount of the total solid content of the protective layer. .

また、その他の粒子としては、ZnO−Al、SnO−Sb、In−SnO、ZnO−TiO、ZnO−TiO、MgO−Al、FeO−TiO、TiO、SnO、In、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 Other particles include ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 —TiO 2 , ZnO—TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO. Examples thereof include semiconductive metal oxides such as —TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO. Furthermore, various known dispersing materials may be used to disperse the particles.

保護層(最表面層)を構成する膜には、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
Oil such as silicone oil may be added to the film constituting the protective layer (outermost surface layer).
Silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as 3- (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; Hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixture, pentamethylcyclopentasiloxane, and phenylhydrocyclosiloxane And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane.

保護層(最表面層)を構成する膜には、塗膜の濡れ性改善のため、シリコーン含有オリゴマー、フッ素含有アクリルポリマー、シリコーン含有ポリマー等を添加してもよい。   In order to improve the wettability of the coating film, a silicone-containing oligomer, a fluorine-containing acrylic polymer, a silicone-containing polymer, or the like may be added to the film constituting the protective layer (outermost surface layer).

保護層(最表面層)を構成する膜には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属を樹脂の粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。
Metal, metal oxide, carbon black, or the like may be added to the film constituting the protective layer (outermost surface layer). Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver, and stainless steel, or those obtained by depositing these metals on the surface of resin particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide, antimony and tantalum-doped tin oxide, and antimony-doped zirconium oxide. .
These are used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, they may be simply mixed or mixed by solid solution or fusion. The average particle size of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less.

−組成物−
保護層を形成するために用いる組成物は、各成分を溶媒中に溶解又は分散してなる保護層形成用塗布液として調製されることが望ましい。
ここで、保護層形成用塗布液の溶媒は、電荷輸送性材料の溶解性、フッ素含有樹脂粒子の分散性、最表面層の表層側へのフッ素含有樹脂粒子の偏在を抑制する観点から、電荷輸送層の結着樹脂(特定ポリカーボネート共重合体)とのSP値(Feders法で算出した溶解度パラメータ)の差(絶対値)が2.0以上4.0以下(望ましくは2.5以上3.5以下)のケトン系溶媒またはエステル系溶媒を用いることがよい。
具体的には、保護層形成用塗布液の溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、エチルnブチルケトン、ジnプロピルケトン、メチルnアミルケトン、メチルnブチルケトン、ジエチルケトン、メチルnプロピルケトン等のケトン類;、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、酢酸nプロピル、酢酸nブチル、イソ吉草酸エチル、酢酸イソアミル、酪酸イソプロピル、プロピオン酸イソアミル、酪酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸エチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酢酸アリル等のエステル類等の単独溶媒又は混合溶媒が挙げられる。また、0質量%以上50質量%以下のエーテル系溶剤(例えばジエチルエーテル、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等)、アルキレングリコール系溶剤(例えば1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)を混合して用いてもよい。
-Composition-
The composition used for forming the protective layer is preferably prepared as a coating solution for forming a protective layer obtained by dissolving or dispersing each component in a solvent.
Here, the solvent of the coating solution for forming the protective layer is charged from the viewpoint of suppressing the solubility of the charge transporting material, the dispersibility of the fluorine-containing resin particles, and the uneven distribution of the fluorine-containing resin particles on the surface layer side of the outermost surface layer. The difference (absolute value) in SP value (solubility parameter calculated by the Feders method) with the binder resin (specific polycarbonate copolymer) of the transport layer is 2.0 or more and 4.0 or less (preferably 2.5 or more and 3. 5 or less) ketone solvents or ester solvents may be used.
Specifically, as a solvent for the coating solution for forming the protective layer, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, ethyl n butyl ketone, di n propyl ketone, methyl n amyl ketone, methyl n butyl ketone, diethyl ketone, Ketones such as methyl n-propyl ketone; isopropyl acetate, isobutyl acetate, ethyl acetate, npropyl acetate, nbutyl acetate, ethyl isovalerate, isoamyl acetate, isopropyl butyrate, isoamyl propionate, butyl butyrate, amyl acetate, propionic acid Examples thereof include single solvents or mixed solvents such as esters such as butyl, ethyl propionate, methyl acetate, methyl propionate, and allyl acetate. Also, 0% by mass or more and 50% by mass or less of an ether solvent (for example, diethyl ether, dioxane, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, etc.), an alkylene glycol solvent (for example, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy- 2-propanol, ethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.) may be mixed and used.

保護層形成用塗布液中にフッ素含有樹脂粒子を分散させるための分散方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機を利用した分散方法が挙げられる。さらに、当該分散方法としては、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液 液衝突や液 壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などの分散方法も挙げられる。   As a dispersion method for dispersing the fluorine-containing resin particles in the coating liquid for forming the protective layer, a media dispersion machine such as a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, a stirring, an ultrasonic dispersion machine, a roll mill, Examples thereof include a dispersion method using a medialess disperser such as a high-pressure homogenizer. Furthermore, as the dispersion method, as a high-pressure homogenizer, a collision method in which the dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid wall collision in a high-pressure state, a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high-pressure state, etc. A dispersion method is also mentioned.

なお、保護層形成用塗布液の調製方法については特に限定されるものではなく、電荷輸送材料とフッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤と必要に応じて溶媒等のその他の成分とを混合し、上述の分散機を用いて調製してもよいし、フッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤と溶媒とを含む混合液A及び少なくとも電荷輸送材料と溶媒とを含む混合液Bの2液を別々に準備した後に、これら混合液A及び混合液Bを混合することにより調製してもよい。フッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤とを溶媒中で混合することにより、フッ素含有樹脂粒子の表面にフッ素含有分散剤を付着され易くなる。   The method for preparing the coating liquid for forming the protective layer is not particularly limited, and the charge transport material, the fluorine-containing resin particles, the fluorine-containing dispersant and, if necessary, other components such as a solvent are mixed, You may prepare using the above-mentioned disperser, or two liquids of the liquid mixture A containing a fluorine-containing resin particle, a fluorine-containing dispersing agent, and a solvent, and the liquid mixture B containing at least a charge transport material and a solvent are separately prepared. You may prepare by mixing these liquid mixture A and liquid mixture B after preparing. By mixing the fluorine-containing resin particles and the fluorine-containing dispersant in a solvent, the fluorine-containing dispersant is easily attached to the surface of the fluorine-containing resin particles.

また、前述の成分を反応させて保護層形成用塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温(20℃)以上100℃以下、より望ましくは30℃以上80℃以下で、望ましくは10分以上100時間以下、より望ましくは1時間以上50時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。   In addition, when a coating liquid for forming a protective layer is obtained by reacting the above-mentioned components, each component may be simply mixed and dissolved, but is desirably room temperature (20 ° C.) to 100 ° C., more desirably 30 ° C. Heating is performed at a temperature of 80 ° C. or lower, preferably 10 minutes or longer and 100 hours or shorter, more preferably 1 hour or longer and 50 hours or shorter. It is also desirable to irradiate ultrasonic waves at this time.

−保護層の形成−
保護層形成用塗布液は、被塗布面(電荷輸送層)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を硬化させる。
-Formation of protective layer-
The coating solution for forming the protective layer is formed on the surface to be coated (charge transport layer) by a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, The coating is performed by a normal method such as an inkjet coating method.
Thereafter, light, electron beam or heat is applied to the obtained coating film to cause radical polymerization, thereby curing the coating film.

硬化の方法は、熱、光、放射線などが用いられる。熱、光で硬化を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒又は熱重合開始剤を用いてもよい。この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が望ましい。   As the curing method, heat, light, radiation or the like is used. When curing with heat and light, a polymerization initiator is not necessarily required, but a photocuring catalyst or a thermal polymerization initiator may be used. Known photocuring catalysts and thermal polymerization initiators are used as the photocuring catalyst and the thermal polymerization initiator. The radiation is preferably an electron beam.

・電子線硬化
電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が望ましく、最適には150KV以下である。また、線量は望ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より望ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
-Electron beam curing When an electron beam is used, the acceleration voltage is desirably 300 KV or less, and optimally 150 KV or less. The dose is preferably in the range of 1 Mrad to 100 Mrad, more preferably in the range of 3 Mrad to 50 Mrad. When the acceleration voltage is 300 KV or less, damage caused by electron beam irradiation on the characteristics of the photoreceptor is suppressed. Further, when the dose is 1 Mrad or more, crosslinking is sufficiently performed, and when the dose is 100 Mrad or less, deterioration of the photoreceptor is suppressed.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が1000ppm、望ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。   Irradiation is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of 1000 ppm, preferably 500 ppm or less, and may be further heated to 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower during or after irradiation.

・光硬化
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm以上、1000mW/cm以下が望ましく、例えば600mW/cmのUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。
-Photocuring As a light source, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are used, A suitable wavelength may be selected using filters, such as a band pass filter. Irradiation time, the light intensity is selected freely, for example, the illuminance (365 nm) is 300 mW / cm 2 or more, 1000 mW / cm 2 or less is desirable, for example, the case of irradiation with UV light of 600 mW / cm 2, 5 seconds or more 360 What is necessary is just to irradiate for less than a second.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは1000ppm以下、より望ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。   Irradiation is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, preferably at an oxygen concentration of 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and may be further heated to 50 ° C. or more and 150 ° C. or less during or after the irradiation.

光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。
Examples of the photocuring catalyst include intramolecular cleavage types such as benzyl ketal, alkylphenone, aminoalkylphenone, phosphine oxide, titanocene, and oxime.
More specifically, examples of the benzyl ketal system include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one.

また、アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。
Examples of the alkylphenone series include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl]. 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl- Examples include propan-1-one, acetophenone, and 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone.
Examples of aminoalkylphenones include p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1 -Butanone and the like.
Examples of the phosphinoxide include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.
Examples of the titanocene include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
Examples of oxime compounds include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)- 9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) and the like.

水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。
Examples of the hydrogen abstraction type include benzophenone series, thioxanthone series, benzyl series, and Michler ketone series.
More specifically, examples of the benzophenone series include 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, p, p′-bisdiethylaminobenzophenone, and the like. Can be mentioned.
Examples of the thioxanthone series include 2,4-diethylthioxanthen-9-one, 2-chlorothioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone.
Examples of the benzyl type include benzyl, (±) -camphorquinone, p-anisyl and the like.

これらの光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用られる。   These photopolymerization initiators are used alone or in combination of two or more.

・熱硬化
熱重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が挙げられ、具体的には、例えば、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−073、Vam−110、Vam−111(和光純薬工業製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531(アルケマ吉富社製)などが挙げられる。
-Thermosetting Thermal polymerization initiators include thermal radical generators or derivatives thereof. Specifically, for example, V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF- Azo initiators such as 096, VE-073, Vam-110, Vam-111 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), OTazo-15, OTazo-30, AIBN, AMBN, ADVN, ACVA (Otsuka Chemical); Perhexa HC, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H, Parkmill H, Parkmill P, Permenta H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, Perhexyl D, Parroyl IB, Parroyl 355, Parroyl L, Parroyl SA , Nyper BW, Nyper BMT-K40 / M, Parroyl IPP, Parro Il NPP, Parroyl TCP, Parroyl OPP, Parroyl SBP, Park Mill ND, Perocta ND, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl L, Perbutyl 355 Perhexyl I, perbutyl I, perbutyl E, perhexa 25Z, perbutyl A, perhexyl Z, perbutyl ZT, perbutyl Z (manufactured by NOF Chemical), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Perkadox L-W75, Parkadox CH-50L, Trigonox TMBH, Kayacumen H, Kayabutyl H-70, Percadox BC-FF, Kaya Hexa AD, Parkadox 14, Kayabuchi C, Kayabutyl D, Kayahexa YD-E85, Parkadox 12-XL25, Parkadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox D-T50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W50N, Trigonox 257-C70, Kaya ester P-70, Kaya ester TMPO-70, Trigonox 121, Kaya ester O, Kaya ester HTP-65W, Kaya ester AN, Trigonox 42 , Trigonox F-C50, Kaya Butyl B, Kaya Carbon EH-C70, Kaya Carbon EH-W60, Kaya Carbon I-20, Kaya Carbon BIC-75, Trigonok 117, Kayalen 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo), Lupelox 610, Lupelox 188, Lupelox 844, Lupelox 259, Lupelox 10, Lupelox 701, Lupelox 11, Lupelox 26, Lupelox 80, Lupelox 7, Lupelox P, Lupelox P, Lupelox 546, Lupelox 554, Lupelox 575, Lupelox TANPO, Lupelox 555, Lupelox 570, Lupelox TAP, Lupelox TBIC, Lupelox TBEC, Lupelox JW, Lupelox TAIC, Lupelox DC, Lupelox DC, Lupelox DC , Lupelox 220, Lupelox 230, Lupelox 23 3, Lupelox 531 (manufactured by Arkema Yoshitomi) and the like.

これらのうち、分子量250以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラの抑制された高強度の膜の形成が図られる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、250以上であり、300以上が更に好適である。   Among these, when an azo polymerization initiator having a molecular weight of 250 or more is used, the reaction proceeds without unevenness at a low temperature, so that formation of a high-strength film with suppressed unevenness can be achieved. More preferably, the molecular weight of the azo polymerization initiator is 250 or more, and more preferably 300 or more.

加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは1000ppm以下、より望ましくは500ppm以下で行い、望ましくは50℃以上170℃以下、より望ましくは70℃以上150℃以下で、望ましくは10分以上120分以下、より望ましくは15分以上100分以下加熱する。   The heating is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and the oxygen concentration is desirably 1000 ppm or less, more desirably 500 ppm or less, desirably 50 ° C. or more and 170 ° C. or less, more desirably 70 ° C. or more and 150 ° C. or less. The heating is desirably performed for 10 minutes or more and 120 minutes or less, more desirably 15 minutes or more and 100 minutes or less.

光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下が望ましく、更には0.1質量%以上8質量%以下がより望ましく、0.1質量%以上5質量%以下の範囲が特に望ましい。   The total content of the photocuring catalyst or thermal polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more, based on the total solid content in the solution for forming the layer. 8 mass% or less is more desirable, and the range of 0.1 mass% or more and 5 mass% or less is especially desirable.

なお、本実施態様では、反応が早く進行しすぎると架橋により塗膜の構造緩和ができ難くなり、膜のムラやシワを発生しやすくなるといった理由から、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が採用される。
特に、特定の連鎖重合性基含有電荷輸送材料と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い保護層(最表面層)が得られ易くなる。
In this embodiment, if the reaction proceeds too quickly, the structure of the coating film is difficult to be relaxed by crosslinking, and the generation of radicals is relatively slow because it tends to cause film unevenness and wrinkles. The curing method is adopted.
In particular, by combining a specific chain-polymerizable group-containing charge transport material and curing by heat, the structure relaxation of the coating film can be promoted, and a high protective layer (outermost surface layer) excellent in surface properties can be easily obtained. Become.

保護層の膜厚は、例えば、望ましくは3μm以上40μm以下、より望ましくは5μm以上35μm以下の範囲内に設定される。   The thickness of the protective layer is, for example, preferably set in the range of 3 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 35 μm.

以上、図2に示される電子写真感光体を参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図1に示される機能分離型の電子写真感光体における各層においてもこの構成が採用しうる。但し、図1に示される機能分離型の電子写真感光体の場合、硬化型の電荷輸送層の膜厚は、例えば、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。
一方、図3に示される電子写真感光体の単層型感光層の場合、以下の態様であることが望ましい。
The structure of each layer in the function-separated type photosensitive layer has been described above with reference to the electrophotographic photoreceptor shown in FIG. 2, but this structure is also applied to each layer in the function-separated type electrophotographic photoreceptor shown in FIG. Can be adopted. However, in the case of the function separation type electrophotographic photosensitive member shown in FIG. 1, the film thickness of the curable charge transport layer is preferably set in the range of 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm. Is done.
On the other hand, in the case of the single-layer type photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member shown in FIG.

即ち、単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含んで構成されることがよい。なお、これら材料は、電荷発生材料及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して10質量%以上85質量%以下がよく、望ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、5μm以上50μm以下がよく、望ましくは10μm以上40μm以下である。
That is, the single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) includes a charge generation material, a charge transport material, and, if necessary, a binder resin and other known additives. Is good. These materials are the same as those described in the charge generation material and the charge transport layer.
In the single-layer type photosensitive layer, the content of the charge generation material is preferably 10% by mass or more and 85% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total solid content. In the single-layer type photosensitive layer, the content of the charge transport material is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less based on the total solid content.
The method for forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method for forming the charge generation layer and the charge transport layer.
The film thickness of the single-layer type photosensitive layer is, for example, preferably from 5 μm to 50 μm, and more preferably from 10 μm to 40 μm.

[画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)]
以下、本実施形態に係る画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)について詳細に説明する。
[Image forming apparatus (and process cartridge)]
The image forming apparatus (and process cartridge) according to this embodiment will be described in detail below.

図4は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図4に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。なお、図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を被転写体に転写する二次転写装置も有している。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an image forming apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 4, the image forming apparatus 100 according to the present embodiment. A process cartridge 300 including the electrophotographic photoreceptor 7, an exposure device 9, a transfer device 40 (primary transfer device), and an intermediate transfer member 50 are provided. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is interposed between the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. 7, and a part of the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member 7. Although not shown, a secondary transfer device that transfers the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 to the transfer target member is also provided.

図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11、及びクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。   The process cartridge 300 in FIG. 4 integrally supports the electrophotographic photoreceptor 7, the charging device 8, the developing device 11, and the cleaning device 13 in a housing. The cleaning device 13 has a cleaning blade (cleaning member), and the cleaning blade 131 is disposed so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.

また、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。   Moreover, although the fibrous member 132 (roll shape) which supplies the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 and the fibrous member 133 (flat brush shape) which assists cleaning are shown, these are shown. It may or may not be used.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。   Hereinafter, each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described.

−帯電装置−
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
-Charging device-
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube or the like is used. Further, a non-contact type roller charger, a known charger such as a scorotron charger using a corona discharge or a corotron charger may be used.

なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。   Although not shown, a photosensitive member heating member for raising the temperature of the electrophotographic photosensitive member 7 and reducing the relative temperature may be provided around the electrophotographic photosensitive member 7.

−露光装置−
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
-Exposure device-
Examples of the exposure device 9 include optical system devices that expose the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image-like manner. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the photoreceptor. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. In addition, a surface-emitting type laser light source that can output a multi-beam is also effective for color image formation.

−現像装置−
現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
-Developer-
As the developing device 11, for example, a general developing device that performs development by bringing a magnetic or non-magnetic one-component developer or a two-component developer into contact or non-contact may be used. The developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching the one-component developer or the two-component developer to the electrophotographic photosensitive member 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding the developer on the surface are desirable.

現像装置11に使用される現像剤は、トナー単独の一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分現像剤であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。   The developer used in the developing device 11 may be a single component developer of toner alone, or may be a two component developer containing toner and carrier. A well-known thing is applied for these developers.

−クリーニング装置−
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
-Cleaning device-
As the cleaning device 13, a cleaning blade type device including a cleaning blade 131 is used.
In addition to the cleaning blade method, a fur brush cleaning method and a simultaneous development cleaning method may be employed.

−転写装置−
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
-Transfer device-
As the transfer device 40, for example, a contact transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., or a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger. Can be mentioned.

−中間転写体−
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
-Intermediate transfer member-
As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) made of polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used. Further, as the form of the intermediate transfer member, a drum-like one may be used in addition to the belt-like.

以上説明した画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、公知の装置を備えてもよい。   The image forming apparatus 100 described above may include, for example, a known apparatus in addition to the above-described apparatuses.

図5は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図5に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
An image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a tandem multicolor image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.

なお、本実施形態に係るプロセスカートリッジは、電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジであればよい。   The process cartridge according to this embodiment may be any process cartridge that includes an electrophotographic photosensitive member and can be attached to and detached from the image forming apparatus.

以上説明した本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)では、乾式の現像剤を適用する画像形成装置について説明したが、液体現像剤を適用した画像形成装置(プロセスカートリッジ)であってもよい。特に、液体現像剤を適用する画像形成装置(プロセスカートリッジ)では、当該液体現像剤の液体成分によって、電子写真感光体の最表面層が膨潤したりして割れ(クラック)や、クリーニングによるクリーニング傷が生じ易いが、上記本実施形態に係る電子写真感光体を適用することで、これらが改善され、結果、長期に亘り安定した画像が得られる。   In the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment described above, the image forming apparatus to which the dry developer is applied has been described. However, the image forming apparatus (process cartridge) to which the liquid developer is applied may be used. . In particular, in an image forming apparatus (process cartridge) to which a liquid developer is applied, the liquid component of the liquid developer causes the outermost surface layer of the electrophotographic photoreceptor to swell, cracks, or cleaning scratches due to cleaning. However, by applying the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment, these can be improved, and as a result, a stable image can be obtained over a long period of time.

図6は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。図7は、図6に示す画像形成装置における画像形成ユニットを示す概略構成図である。
図6に示す画像形成装置130は、主に、ベルト状中間転写体401と、各色画像形成ユニット481,482,483,484と、加熱部450(層状化手段の一例)と、転写定着部460と、から構成されている。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus according to the present embodiment. FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an image forming unit in the image forming apparatus shown in FIG.
The image forming apparatus 130 shown in FIG. 6 mainly includes a belt-shaped intermediate transfer member 401, color image forming units 481, 482, 483, 484, a heating unit 450 (an example of a layering unit), and a transfer fixing unit 460. And is composed of.

画像形成ユニット481は、図7に示すように、電子写真感光体410と、電子写真感光体410を帯電させる帯電装置411と、帯電した電子写真感光体410表面に画像情報に従って静電潜像を形成するために画像露光を行うLEDアレイヘッド412(静電潜像形成手段の一例)と、電子写真感光体410上に形成された静電潜像を液体現像剤を用いて現像する現像装置414と、感光体面をクリーニングするクリーナ415と、除電器416と、ベルト状中間転写体401を介して電子写真感光体410と対向配置され電子写真感光体410上に形成された液体現像剤による現像画像をベルト状中間転写体401に転写する転写バイアスが印加される転写ロール417(一次転写手段の一例)と、から構成されている。   As shown in FIG. 7, the image forming unit 481 includes an electrophotographic photosensitive member 410, a charging device 411 for charging the electrophotographic photosensitive member 410, and an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member 410 according to image information. An LED array head 412 (an example of an electrostatic latent image forming unit) that performs image exposure for forming, and a developing device 414 that develops the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member 410 using a liquid developer. And a developed image by a liquid developer formed on the electrophotographic photosensitive member 410 and disposed opposite to the electrophotographic photosensitive member 410 via a cleaner 415 for cleaning the surface of the photosensitive member, a static eliminator 416, and a belt-shaped intermediate transfer member 401. And a transfer roll 417 (an example of a primary transfer unit) to which a transfer bias for transferring the toner to the belt-shaped intermediate transfer member 401 is applied.

現像装置414には、図7に示すように、現像ロール4141と、液切りロール4142と、現像剤クリーニングロール4143と、現像剤クリーニングブレード4144と、現像剤クリーニングブラシ4145と、循環ポンプ(図示せず)と、液体現像剤供給路4146と、現像剤カートリッジ4147と、が配設されている。   As shown in FIG. 7, the developing device 414 includes a developing roll 4141, a liquid draining roll 4142, a developer cleaning roll 4143, a developer cleaning blade 4144, a developer cleaning brush 4145, and a circulation pump (not shown). 2), a liquid developer supply path 4146, and a developer cartridge 4147.

ここで用いられる液体現像剤としては、ポリエステル、ポリスチレン等の加熱溶融定着型樹脂を主成分とする粒子が分散した液体現像剤や、余剰な分散媒(キャリア液)を除去し液体現像剤中の固形分比率を上げることで層状化(以下、フィルムフォーム化と称する)する液体現像剤が用いられる。具体的なフィルムフォーム化する材料については、USP5,650,253号公報(Column 10 Line 8からColumn 13 Line 14まで)およびUSP5,698,616号公報にその詳細が示されている。
フィルムフォーム化する現像剤とは、室温(例えば25℃)より低いガラス転移温度を有する微小物質(微小トナーのようなもの)がキャリア液中に分散されている液体現像剤であり、通常は互いに接触凝集することはないが、キャリア液を除去するとその物質だけになり、膜状に付着されると室温(例えば25℃)で結合しフィルム化するものをいう。この物質は、エチルアルコールとメチルメタアクリレートとを配合することにより得られ、その配合比によってガラス転移温度が設定されるものである。
Examples of the liquid developer used here include a liquid developer in which particles mainly composed of a heat-melt fixing resin such as polyester and polystyrene are dispersed, and an excess dispersion medium (carrier liquid) is removed to remove the liquid developer in the liquid developer. A liquid developer that is layered (hereinafter referred to as film form) by increasing the solid content ratio is used. Details of the material for forming a film form are shown in USP 5,650,253 (Column 10 Line 8 to Column 13 Line 14) and USP 5,698,616.
A developer that forms a film form is a liquid developer in which a minute substance (such as a minute toner) having a glass transition temperature lower than room temperature (for example, 25 ° C.) is dispersed in a carrier liquid. It does not agglomerate in contact, but when the carrier liquid is removed, it becomes only the substance, and when attached in a film form, it binds at room temperature (for example, 25 ° C.) to form a film. This substance is obtained by blending ethyl alcohol and methyl methacrylate, and the glass transition temperature is set by the blending ratio.

なお、他の画像形成ユニット482,483,484も同様の構成である。各画像形成ユニットの現像装置には、異なる色(イエロー、マゼンタ、シアン、ブラック)の液体現像剤が入っている。また、各画像形成ユニット481,482,483,484においては、電子写真感光体や現像装置などがカートリッジ化されている。   The other image forming units 482, 483, and 484 have the same configuration. The developing device of each image forming unit contains liquid developers of different colors (yellow, magenta, cyan, black). In each of the image forming units 481, 482, 483, and 484, an electrophotographic photosensitive member, a developing device, and the like are formed into a cartridge.

以上の構成において、ベルト状中間転写体401の材料としては、例えば、シリコンラバーコート又はフッ素樹脂コートしたPETフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム)、ポリイミドフィルムなどが挙げられる。   In the above configuration, examples of the material of the belt-shaped intermediate transfer member 401 include a PET film (polyethylene terephthalate film) coated with silicon rubber coating or fluororesin, and a polyimide film.

電子写真感光体410は、その上方表面でベルト状中間転写体401と接触し、ベルト状中間転写体401と同速移動する。   The electrophotographic photosensitive member 410 contacts the belt-shaped intermediate transfer member 401 on the upper surface thereof, and moves at the same speed as the belt-shaped intermediate transfer member 401.

帯電装置411としては、例えば、コロナ帯電器が用いられている。画像形成ユニット481,482,483,484における電子写真感光体410には、同一周長の電子写真感光体410が用いられ、さらに、各転写ロール417の互いの配設間隔は、電子写真感光体410の周長と同じ、又はその周長の整数倍となるよう構成されている。   For example, a corona charger is used as the charging device 411. The electrophotographic photosensitive member 410 having the same circumference is used as the electrophotographic photosensitive member 410 in the image forming units 481, 482, 483, and 484. Further, the arrangement intervals of the transfer rolls 417 are different from each other. It is configured to be the same as the circumference of 410 or an integral multiple of the circumference.

加熱部450は、ベルト状中間転写体401の内面と接触回転するように配設された加熱ロール451と、加熱ロール451と対向しベルト状中間転写体401の外面を囲うように配設された貯留槽452と、貯留槽452からのキャリア液蒸気およびキャリア液を回収するキャリア液回収部453と、から構成されている。キャリア液回収部453には、貯留槽452内キャリア液蒸気を吸引する吸引羽根454と、キャリア液蒸気を液状とする凝縮部455と、凝縮部455からのキャリア液を回収する回収カートリッジ456と、が装着されている。   The heating unit 450 is disposed so as to rotate in contact with the inner surface of the belt-shaped intermediate transfer member 401 and to surround the outer surface of the belt-shaped intermediate transfer member 401 so as to face the heating roller 451. The storage tank 452 includes a carrier liquid recovery unit 453 that recovers carrier liquid vapor and carrier liquid from the storage tank 452. The carrier liquid recovery unit 453 includes a suction blade 454 that sucks the carrier liquid vapor in the storage tank 452, a condensing unit 455 that converts the carrier liquid vapor into a liquid state, a recovery cartridge 456 that recovers the carrier liquid from the condensing unit 455, Is installed.

転写定着部460(二次転写手段の一例)は、ベルト状中間転写体401を回転支持する転写支持ロール461と、転写定着部460を通過する記録媒体をベルト状中間転写体401側へ押し付けながら回転する転写定着ロール462と、から構成され、共に内部に発熱体を有している。   The transfer fixing unit 460 (an example of the secondary transfer unit) is configured to press the transfer support roll 461 that rotatably supports the belt-shaped intermediate transfer member 401 and the recording medium that passes through the transfer fixing unit 460 toward the belt-shaped intermediate transfer member 401. The transfer fixing roll 462 rotates, and both have a heating element inside.

これ以外には、ベルト状中間転写体401上へのカラー画像形成に先立って、ベルト状中間転写体401上をクリーニングするクリーニングロール470およびクリーニングウェッブ471と、ベルト状中間転写体401の回転駆動を支持する支持ロール441〜444と、支持シュー445〜447と、が設けられている。   In addition to this, prior to color image formation on the belt-shaped intermediate transfer body 401, the cleaning roll 470 and the cleaning web 471 for cleaning the belt-shaped intermediate transfer body 401 and the belt-shaped intermediate transfer body 401 are driven to rotate. Support rolls 441 to 444 to support and support shoes 445 to 447 are provided.

ベルト状中間転写体401は、各色画像形成ユニットの転写ロール417と、加熱ロール451と、転写支持ロール461と、支持ロール441〜444と、支持シュー445〜447と、クリーニングロール470およびクリーニングウェッブ471とで中間体ユニット402を構成し、加熱ロール451付近を支点に、一体的に支持ロール441付近が上下するようになっている。   The belt-shaped intermediate transfer member 401 includes a transfer roll 417, a heating roll 451, a transfer support roll 461, support rolls 441 to 444, support shoes 445 to 447, a cleaning roll 470, and a cleaning web 471 of each color image forming unit. The intermediate unit 402 is configured so that the vicinity of the heating roll 451 moves up and down integrally with the vicinity of the heating roll 451 as a fulcrum.

以下、図6に示す液体現像剤を用いた画像形成装置の動作を説明する。
まず、画像形成ユニット481では、帯電装置411によりその表面を帯電された電子写真感光体410は、LEDアレイヘッド412によりイエロー画像情報に従った画像露光がなされて静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像装置414にてイエロー液体現像剤で現像される。
The operation of the image forming apparatus using the liquid developer shown in FIG. 6 will be described below.
First, in the image forming unit 481, the electrophotographic photosensitive member 410 whose surface is charged by the charging device 411 is subjected to image exposure according to the yellow image information by the LED array head 412 to form an electrostatic latent image. This electrostatic latent image is developed with a yellow liquid developer by a developing device 414.

ここでの現像は、次のようなステップで行われる。現像剤カートリッジ4147から循環ポンプによりイエロー液体現像剤が液体現像剤供給路4146を通って、現像ロール4141と電子写真感光体410が接近する付近に供給される。電子写真感光体410上の静電潜像と現像ロール4141間で形成される現像電界により、供給された液体現像剤中の電荷を有した着色固形分が電子写真感光体410上の画像分となる静電潜像部側に移行する。   The development here is performed in the following steps. The yellow liquid developer is supplied from the developer cartridge 4147 by the circulation pump through the liquid developer supply path 4146 to the vicinity where the developing roll 4141 and the electrophotographic photosensitive member 410 are close to each other. Due to the developing electric field formed between the electrostatic latent image on the electrophotographic photosensitive member 410 and the developing roll 4141, the colored solid content having a charge in the supplied liquid developer is changed to the image portion on the electrophotographic photosensitive member 410. To the electrostatic latent image portion side.

続いて、液切りロール4142により、次なる転写工程において必要とされるキャリア液比率となるよう電子写真感光体410上からキャリア液が除去される。こうして現像装置414を通過した電子写真感光体410面にはイエロー液体現像剤によるイエロー画像が形成される。   Subsequently, the carrier liquid is removed from the electrophotographic photoreceptor 410 by the liquid draining roll 4142 so that the carrier liquid ratio required in the next transfer process is obtained. Thus, a yellow image is formed by the yellow liquid developer on the surface of the electrophotographic photosensitive member 410 that has passed through the developing device 414.

現像装置414内では、現像剤クリーニングロール4143が、現像動作後の現像ロール4141上の液体現像剤とスクイズ動作によりスクイズロール上に付着した液体現像剤の除去を行い、現像剤クリーニングブレード4144および現像剤クリーニングブラシ4145が、現像剤クリーニングロール4143のクリーニングを行って、常に安定した現像動作がなされる。この現像装置の構成および動作などについては、特開平11−249444号公報に詳細に説明されている。   In the developing device 414, the developer cleaning roll 4143 removes the liquid developer on the developing roll 4141 after the developing operation and the liquid developer attached on the squeeze roll by the squeeze operation, and the developer cleaning blade 4144 and the developer. The agent cleaning brush 4145 cleans the developer cleaning roll 4143 so that a stable developing operation is always performed. The configuration and operation of this developing device are described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-249444.

なお、現像ロール4141に対しては、一定固形分比率の液体現像剤が供給されるように現像装置414および現像剤カートリッジ4147の少なくとも一方にて液体現像剤中の固形分比率濃度の自動制御が行われている。   Note that the solid content ratio concentration in the liquid developer is automatically controlled by at least one of the developing device 414 and the developer cartridge 4147 so that the liquid developer having a constant solid content ratio is supplied to the developing roll 4141. Has been done.

電子写真感光体410上に形成されたイエロー現像画像は、電子写真感光体410の回転により、その上方表面でベルト状中間転写体401と接触し、ベルト状中間転写体401を介して電子写真感光体410に圧接対向配置され転写バイアスが印加された転写ロール417により、ベルト状中間転写体401に接触静電転写される。   The yellow developed image formed on the electrophotographic photosensitive member 410 is brought into contact with the belt-shaped intermediate transfer member 401 on the upper surface thereof by the rotation of the electrophotographic photosensitive member 410, and the electrophotographic photosensitive member is passed through the belt-shaped intermediate transfer member 401. Electrostatic transfer is performed on the belt-shaped intermediate transfer body 401 by a transfer roll 417 arranged in pressure-contact with the body 410 and applied with a transfer bias.

接触静電転写を終えた電子写真感光体410は、クリーナ415により転写残の液体現像剤が除去され、除電器416により除電されて、次なる画像形成に使用される。   After the contact electrostatic transfer, the electrophotographic photosensitive member 410 is removed from the residual liquid developer by the cleaner 415, and is neutralized by the static eliminator 416, and used for the next image formation.

他の画像形成ユニット482,483,484においても同様の動作が行われる。各画像形成ユニットにおける電子写真感光体としては、同一周長の電子写真感光体410が使用されており、かつ、各感光体上に形成された各色現像画像は、感光体の周長と同じ、又はその整数倍間隔で配設された転写ロールによって、ベルト状中間転写体401上に順次静電転写されていくため、ベルト状中間転写体401上での重なり位置を考慮して各電子写真感光体410上に形成されたイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各現像画像は、電子写真感光体410の偏芯があっても、ベルト状中間転写体401上に、順次高精度に位置ズレなく重なり合いながら接触静電転写されて行き、画像形成ユニット484を通過したベルト状中間転写体401上には、各色液体現像剤による現像画像が形成される。   Similar operations are performed in the other image forming units 482, 483, and 484. The electrophotographic photoreceptor 410 having the same circumference is used as the electrophotographic photoreceptor in each image forming unit, and each color developed image formed on each photoreceptor is the same as the circumference of the photoreceptor. Alternatively, electrostatic transfer is sequentially performed on the belt-shaped intermediate transfer member 401 by transfer rolls arranged at integer multiple intervals, and therefore, each electrophotographic photosensitive member is considered in consideration of the overlapping position on the belt-shaped intermediate transfer member 401. The developed images of yellow, magenta, cyan, and black formed on the body 410 are sequentially superimposed on the belt-shaped intermediate transfer body 401 with high accuracy without misalignment even if the electrophotographic photosensitive member 410 is decentered. On the belt-like intermediate transfer member 401 that has undergone contact electrostatic transfer and has passed through the image forming unit 484, a developed image is formed with each color liquid developer.

ベルト状中間転写体401上に形成された現像画像は、加熱部450にて、ベルト状中間転写体401の裏面から加熱ロール451により加熱され、分散媒であるキャリア液がほとんど蒸発され、フィルムフォーム化された画像となる。これは液体現像剤が、加熱溶融定着型樹脂を主成分とする粒子が分散した液体現像剤では、余剰な分散媒の除去と加熱ロール451による加熱で分散粒子が溶融されフィルムフォーム化するからである。又は、余剰な分散媒(キャリア液)を除去し液体現像剤中の固形分比率を上げることでフィルムフォーム化する液体現像剤であるからである。   The developed image formed on the belt-shaped intermediate transfer member 401 is heated by the heating unit 450 from the back surface of the belt-shaped intermediate transfer member 401 by the heating roll 451, and the carrier liquid as a dispersion medium is almost evaporated, and the film form The resulting image is This is because when the liquid developer is a liquid developer in which particles mainly composed of a heat-melt fixing type resin are dispersed, the dispersed particles are melted by removal of excess dispersion medium and heating by the heating roll 451 to form a film foam. is there. Alternatively, it is a liquid developer that forms a film by removing excess dispersion medium (carrier liquid) and increasing the solid content ratio in the liquid developer.

加熱部450においては、加熱ロール451により加熱蒸発させられ発生した貯留槽452内のキャリア液蒸気がキャリア液回収部453内の吸引羽根454により凝縮部455に導入され液化され、再液化したキャリア液は、回収カートリッジ456へと導かれ回収される。   In the heating unit 450, the carrier liquid vapor in the storage tank 452 generated by being heated and evaporated by the heating roll 451 is introduced into the condensing unit 455 by the suction blade 454 in the carrier liquid recovery unit 453, and is liquefied and re-liquefied. Is guided to the recovery cartridge 456 and recovered.

加熱部450を通過しその上にフィルム状(層状)の画像が形成されたベルト状中間転写体401は、転写定着部460において、装置下部の用紙収納部490からタイミングを合わせて搬送されてきた被転写体(例えば、普通紙)に対して、回転支持ロール461と転写定着ロール462により加熱加圧転写され、被転写体上に画像が形成され、排出ロール491,492により装置外へ出力排出される。ここでの転写においては、ベルト状中間転写体401上に形成されたフィルムフォーム化された画像のベルト状中間転写体401に対する付着力は、フィルムフォーム化された画像の被転写体に対する付着力より弱く、この付着力の差により被転写体に転写が行われるもので、転写時には静電気力は付与されない。なお、フィルムフォーム化した画像のフィルムとしての結合力は、被転写体への付着力より大きい。   The belt-shaped intermediate transfer member 401 on which a film-like (layer-like) image is formed passing through the heating unit 450 has been conveyed at the transfer fixing unit 460 from the paper storage unit 490 at the lower part of the apparatus in time. A transfer body (for example, plain paper) is heated and pressed by a rotation support roll 461 and a transfer fixing roll 462, an image is formed on the transfer body, and output is discharged out of the apparatus by discharge rolls 491 and 492. Is done. In the transfer here, the adhesion force of the film-formed image formed on the belt-shaped intermediate transfer member 401 to the belt-shaped intermediate transfer member 401 is greater than the adhesion force of the film-formed image to the transfer target. The transfer is weak, and the transfer is performed on the transfer target due to the difference in adhesion, and no electrostatic force is applied during transfer. Note that the bonding force of the film-formed image as a film is larger than the adhesion force to the transfer target.

転写定着部460を通過したベルト状中間転写体401は、内部に発熱源を配したクリーニングロール470とクリーニングウェッブ471により、転写残の固形分や固形分に含まれベルト状中間転写体401の機能を阻害する物質が回収除去される。その後、ベルト状中間転写体401は、次なる画像形成に使用される。   The belt-shaped intermediate transfer body 401 that has passed through the transfer fixing unit 460 is included in the solid content of the transfer residue and the solid content by the cleaning roll 470 and the cleaning web 471 in which a heat source is disposed. The substance that inhibits is recovered and removed. Thereafter, the belt-shaped intermediate transfer member 401 is used for the next image formation.

以上のような画像形成が行われた後、中間体ユニット402は加熱ロール451付近を支点に、一体的に支持ロール441付近が上方に移動し、ベルト状中間転写体401は、各画像形成ユニットの電子写真感光体410から離れる。また、転写定着ロール462も同じく、ベルト状中間転写体401から離される。   After the image formation as described above is performed, the intermediate body unit 402 moves integrally around the heating roll 451 and around the support roll 441, and the belt-like intermediate transfer body 401 is connected to each image forming unit. The electrophotographic photosensitive member 410 is separated. Similarly, the transfer fixing roll 462 is separated from the belt-shaped intermediate transfer member 401.

再び画像形成要求があった場合には、ベルト状中間転写体401が、各画像形成ユニットの電子写真感光体410に接触するように中間体ユニット402が動作し、転写定着ロール462も同じくベルト状中間転写体401と接触するように動作する。転写定着ロール462のこの動作については、記録媒体への画像転写タイミングに合わせて行ってもよい。   When there is a request for image formation again, the intermediate unit 402 operates so that the belt-shaped intermediate transfer member 401 contacts the electrophotographic photosensitive member 410 of each image forming unit, and the transfer-fixing roll 462 is also belt-shaped. It operates so as to come into contact with the intermediate transfer member 401. This operation of the transfer fixing roll 462 may be performed in accordance with the timing of image transfer to the recording medium.

一方、液体現像剤を用いた画像形成装置は、上記図6に示す画像形成装置130に限られるわけではなく、例えば、図8に示す画像形成装置であってもよい。
図8は、実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
On the other hand, the image forming apparatus using the liquid developer is not limited to the image forming apparatus 130 shown in FIG. 6, and may be, for example, the image forming apparatus shown in FIG.
FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus according to the embodiment.

図8に示す画像形成装置140は、図6示す画像形成装置130の構成と同じように、主に、ベルト状中間転写体401と、各色画像形成ユニット485,486,487,488と、加熱部450と、転写定着部460と、から構成される。   Similar to the configuration of the image forming apparatus 130 shown in FIG. 6, the image forming apparatus 140 shown in FIG. 8 mainly includes a belt-shaped intermediate transfer member 401, color image forming units 485, 486, 487, and 488, and a heating unit. 450 and a transfer fixing unit 460.

図8に示す画像形成装置140は、図6示す画像形成装置130に対して、ベルト状中間転写体401を略三角形で走行するようにした点と、各色画像形成ユニット485,486,487,488における現像装置420の構成が異なる。加熱部450および転写定着部460は、図6に示す画像形成装置130と同様である。なお、クリーニングロール470およびクリーニングウェッブ471は図示を省略した。   The image forming apparatus 140 shown in FIG. 8 is different from the image forming apparatus 130 shown in FIG. 6 in that the belt-shaped intermediate transfer member 401 travels in a substantially triangular manner and the color image forming units 485, 486, 487, and 488. The configuration of the developing device 420 in FIG. The heating unit 450 and the transfer fixing unit 460 are the same as those of the image forming apparatus 130 shown in FIG. The cleaning roll 470 and the cleaning web 471 are not shown.

ベルト状中間転写体401の回転走行に伴いベルト状中間転写体401が屈曲動作することになるが、この屈曲動作がベルト状中間転写体401の安定走行と寿命に影響を与えることから、極力屈曲動作が少ない略三角形の走行形態としてある。   As the belt-shaped intermediate transfer member 401 rotates, the belt-shaped intermediate transfer member 401 bends. This bending operation affects the stable travel and life of the belt-shaped intermediate transfer member 401. The traveling form is a substantially triangular shape with little movement.

現像装置420には、現像ロールや液切りロール等はなく、電子写真感光体410上に形成された静電潜像に対して選択的に液体現像剤を飛翔付着する記録ヘッド421が複数列配列されている。   The developing device 420 does not have a developing roll, a liquid draining roll, or the like, and a plurality of rows of recording heads 421 for selectively adhering the liquid developer to the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photosensitive member 410 are arranged. Has been.

また、記録ヘッド421のそれぞれの列には、記録電極422が電子写真感光体410の長手方向に多数個均等に配設されており、電子写真感光体410上に形成された静電潜像電位と記録電極422に印加された飛翔バイアス電位との間で飛翔電界が形成され、記録電極422に供給された液体現像剤中の電荷を有した着色固形分が電子写真感光体410上の画像部となる静電潜像部側に移行し現像するようになっている。   Further, in each row of the recording heads 421, a large number of recording electrodes 422 are evenly arranged in the longitudinal direction of the electrophotographic photosensitive member 410, and the electrostatic latent image potential formed on the electrophotographic photosensitive member 410. And a flying bias potential applied to the recording electrode 422, a flying electric field is formed, and a colored solid having a charge in the liquid developer supplied to the recording electrode 422 becomes an image portion on the electrophotographic photoreceptor 410. The electrostatic latent image portion side is developed and developed.

記録電極422の周囲には、液体現像剤のメニスカス(液体の粘性、表面張力、接触部材表面の表面エネルギーによって、液体が接触した部材上や部材間で形成される液体保持形態)424が形成される。図9はその状態を示す図である。液体現像剤の液粒423の飛翔先である電子写真感光体410A上には画像部となる静電潜像が形成されている。このとき、画像部410Bは例えば50V以上100V以下の静電潜像電位が印加された状態であり、非画像部410Cは例えば500V以上600V以下の電位が印加された状態である。ここで、バイアス電圧供給部425を介して記録電極422に約1000Vの飛翔バイアス電位が印加されると、電界集中により記録電極422の先端に供給液体現像剤中の固形分比率よりその比率が高い、即ち、高濃度の液体現像剤が供給され、電子写真感光体410A上の画像部410Cの静電潜像電位と記録電極422の飛翔バイアス電位との電位差(例えば700V以上800V以下が飛翔のための電位差のしきい値)により、この高濃度の液体現像剤による液粒423が電子写真感光体410A上の静電潜像部(画像部)に飛翔付着する。また、この現像装置420では、現像装置そのものが現像剤カートリッジの役割を有している。   Around the recording electrode 422, a meniscus of liquid developer (a liquid holding form formed on or between members in contact with the liquid by liquid viscosity, surface tension, surface energy of the contact member surface) 424 is formed. The FIG. 9 shows the state. An electrostatic latent image serving as an image portion is formed on the electrophotographic photosensitive member 410A, which is the destination of the liquid developer droplets 423. At this time, for example, an electrostatic latent image potential of 50 V to 100 V is applied to the image portion 410B, and a potential of 500 V to 600 V is applied to the non-image portion 410C, for example. Here, when a flying bias potential of about 1000 V is applied to the recording electrode 422 via the bias voltage supply unit 425, the ratio is higher than the solid content ratio in the supplied liquid developer at the tip of the recording electrode 422 due to electric field concentration. That is, a high-concentration liquid developer is supplied, and the potential difference between the electrostatic latent image potential of the image portion 410C on the electrophotographic photosensitive member 410A and the flying bias potential of the recording electrode 422 (for example, 700 V to 800 V is flying). ) Is caused to fly and adhere to the electrostatic latent image portion (image portion) on the electrophotographic photoreceptor 410A. In the developing device 420, the developing device itself serves as a developer cartridge.

図8に示す画像形成装置140の動作については、ベルト状中間転写体401の走行形態と現像装置420の動作が図6に示す画像形成装置130と異なるのみであり、他の動作は同じであるので、説明は省略する。   The operation of the image forming apparatus 140 shown in FIG. 8 is the same as the operation of the belt-shaped intermediate transfer member 401 and the developing apparatus 420 except for the operation of the image forming apparatus 130 shown in FIG. Therefore, explanation is omitted.

ここで、液体現像剤を用いた画像形成装置において、現像装置は上記構成に限られず、例えば、図10に示す現像装置であってもよい。
図10は、図6又は図8に示す画像形成装置における他の現像装置を示す概略構成図である。
Here, in the image forming apparatus using the liquid developer, the developing device is not limited to the above configuration, and may be, for example, the developing device shown in FIG.
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing another developing device in the image forming apparatus shown in FIG. 6 or FIG.

図10示す現像装置4150は、図6又は図8に示す画像形成装置130,140において、電子写真感光体410上に形成された静電潜像を現像ロール4151にて現像するにあたり、現像剤カートリッジ4155から供給される液体現像剤中の固形分比率より高固形分比率を有する液体現像剤層を現像ロール4151上に形成し、この高濃度化された液体現像剤層により現像するものである。   The developing device 4150 shown in FIG. 10 is a developer cartridge when the electrostatic latent image formed on the electrophotographic photoreceptor 410 is developed by the developing roll 4151 in the image forming apparatuses 130 and 140 shown in FIG. A liquid developer layer having a solid content ratio higher than the solid content ratio in the liquid developer supplied from 4155 is formed on the developing roll 4151 and developed with the liquid developer layer having a high concentration.

現像ロール4151上への固形分比率を高くした液体現像剤層形成は、供給ロール4152と現像ロール4151間に電位差を設けて電界形成することで、現像ロール4151上に現像剤カートリッジ4155からの液体現像剤の固形分比率より高めの固形分比率の液体現像剤層が形成される。現像ロール4151および供給ロール4152に対しては、それぞれのロール表面をクリーニングするクリーニングブレード4153および4154が配設されている。   Liquid developer layer formation with a high solid content ratio on the developing roll 4151 is performed by forming an electric field by providing a potential difference between the supply roll 4152 and the developing roll 4151, so that the liquid from the developer cartridge 4155 is formed on the developing roll 4151. A liquid developer layer having a solid content ratio higher than the solid content ratio of the developer is formed. For the developing roll 4151 and the supply roll 4152, cleaning blades 4153 and 4154 for cleaning the respective roll surfaces are provided.

なお、以上説明した本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)は、上記構成に限られず、周知の構成を適用してもよい。   The image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment described above is not limited to the above configuration, and a known configuration may be applied.

以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

[実施例1]
(下引層の作製)
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m/g)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
[Example 1]
(Preparation of undercoat layer)
Zinc oxide: (average particle diameter 70 nm: manufactured by Teica Co., Ltd .: specific surface area value 15 m 2 / g) 100 parts by mass is stirred and mixed with 500 parts by mass of toluene, and silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.3 parts by mass Part was added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at 120 ° C. for 3 hours to obtain a surface-treated zinc oxide having a silane coupling agent.
110 parts by mass of surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran, a solution prepared by dissolving 0.6 parts by mass of alizarin in 50 parts by mass of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours. . Then, the zinc oxide to which alizarin was imparted by filtration under reduced pressure was filtered off, and further dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain alizarin imparted zinc oxide.

このアリザリン付与酸化亜鉛60質量部と硬化剤(ブロック化イソシアネート スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製):13.5質量部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15質量部とをメチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部とメチルエチルケトン:25質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製):40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。
60 parts by mass of this alizarin-provided zinc oxide and a curing agent (blocked isocyanate Sumijoule 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.): 13.5 parts by mass and 15 parts by mass of butyral resin (ESLEC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) A solution obtained by mixing 38 parts by mass of a solution dissolved in 85 parts by mass of methyl ethyl ketone and 25 parts by mass of methyl ethyl ketone was dispersed for 2 hours in a sand mill using 1 mmφ glass beads.
Dioctyltin dilaurate: 0.005 parts by mass and silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by GE Toshiba Silicone): 40 parts by mass were added as catalysts to the resulting dispersion to obtain a coating liquid for forming an undercoat layer.

導電性支持体として直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmの円筒状アルミニウム支持体を準備し、得られた下引層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、円筒状アルミニウム支持体上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い、厚さ18.7μmの下引層を得た。   A cylindrical aluminum support having a diameter of 30 mm, a length of 340 mm, and a thickness of 1 mm is prepared as a conductive support, and the resulting coating solution for forming the undercoat layer is applied onto the cylindrical aluminum support by a dip coating method. Then, dry curing at 170 ° C. for 40 minutes was performed to obtain an undercoat layer having a thickness of 18.7 μm.

(電荷発生層の作製)
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、及びn−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。
得られた電荷発生層形成用塗布液を先に円筒状アルミニウム支持体に形成した下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
(Preparation of charge generation layer)
Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-ray as a charge generating material are at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° A mixture consisting of 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak, 10 parts by mass of vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nihon Unicar) as a binder resin, and 200 parts by mass of n-butyl acetate. The mixture was dispersed for 4 hours in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mmφ. To the obtained dispersion, 175 parts by mass of n-butyl acetate and 180 parts by mass of methyl ethyl ketone were added and stirred to obtain a coating solution for forming a charge generation layer.
The resulting charge generation layer forming coating solution is dip coated on the undercoat layer previously formed on the cylindrical aluminum support, dried at room temperature (25 ° C.), and a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm. Formed.

(非硬化型の電荷輸送層の作製)
次に、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)40質量部、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン10質量部、及び結着樹脂としてビスフェノールZポリカーボネート樹脂(三菱ガス(株)製:粘度平均分子量:6万、重量平均分子量5万)55質量部をテトラヒドロフラン560質量部、トルエン240質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、135℃、45分の乾燥を行って膜厚が25μmの非硬化型の電荷輸送層を形成した。
(Preparation of non-curing charge transport layer)
Next, 40 parts by mass of N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1 ′] biphenyl-4,4′-diamine (TPD), N, N-bis ( 3,4-dimethylphenyl) biphenyl-4-amine 10 parts by mass and 55 parts by mass of bisphenol Z polycarbonate resin (Mitsubishi Gas Co., Ltd .: viscosity average molecular weight: 60,000, weight average molecular weight 50,000) as a binder resin It melt | dissolved in addition to 560 mass parts of tetrahydrofuran and 240 mass parts of toluene, and obtained the coating liquid for charge transport layers. This coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 135 ° C. for 45 minutes to form a non-curing charge transport layer having a thickness of 25 μm.

(硬化型の電荷輸送層(第2層)の作製)
反応性基含有電荷輸送材料として、化合物(a−1)[例示化合物(II)−50]: 100質量部と、重合開始剤としてVE−73(和光純薬工業(株)製)2質量部、をシクロペンチルメチルエーテル(CPME)溶剤300質量部に加えて溶解し、硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を作成した。
得られた硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した非硬化型の電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度50mm/minで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度200ppm以下の状態で、温度160±5℃、時間60分の硬化反応を実施し、硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成した。硬化型の電荷輸送層の膜厚は2μmであった。
(Preparation of curable charge transport layer (second layer))
As a reactive group-containing charge transport material, compound (a-1) [Exemplary compound (II) -50]: 100 parts by mass and VE-73 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a polymerization initiator 2 parts by mass Were added to 300 parts by mass of a cyclopentyl methyl ether (CPME) solvent and dissolved to prepare a coating liquid for forming a curable charge transport layer (second layer).
The obtained coating liquid for forming a curable charge transport layer (second layer) is pushed up by a ring coating method onto a non-curable charge transport layer previously formed on a cylindrical aluminum support at a speed of 50 mm / min. It was applied with. Thereafter, a curing reaction is carried out in a nitrogen dryer having an oxygen concentration meter at a temperature of 160 ± 5 ° C. for 60 minutes with an oxygen concentration of 200 ppm or less to form a curable charge transport layer (second layer). did. The film thickness of the curable charge transport layer was 2 μm.

(保護層(第1層)の作製)
フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)5質量部及びフッ素系グラフトポリマー(アロンGF300:東亜合成製)0.2質量部を、テトラヒドロフラン(THF)/酢酸イソブチル混合溶剤(質量比7:3)300質量部とともに、20℃の恒温槽内にて超音波ホモジナイザー(日本精機製作所(株)製)で10分間の分散処理を3回繰り返し、懸濁液を得た。その懸濁液に、反応性基含有電荷輸送材料として化合物(a−1)[例示化合物(II)−50]100質量部と、重合開始剤のVE−73(和光純薬工業(株)製)2質量部とを加え、室温(25℃)で12時間撹拌撹拌混合して、保護層(第1層)形成用塗布液を作製した。
得られた保護層(第1層)形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度150mm/minで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度200ppm以下の状態で、温度160±5℃、時間60分の硬化反応を実施し、保護層(第1層)を形成した。保護層の膜厚は7μmであった。
(Preparation of protective layer (first layer))
As fluorine-containing resin particles, 5 parts by mass of Lubron L2 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and 0.2 part by mass of a fluorine-based graft polymer (Aron GF300: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) were mixed with a tetrahydrofuran (THF) / isobutyl acetate mixed solvent (mass). Ratio 7: 3) Along with 300 parts by mass, a dispersion treatment for 10 minutes was repeated 3 times with an ultrasonic homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusyo) in a constant temperature bath at 20 ° C. to obtain a suspension. In the suspension, 100 parts by mass of the compound (a-1) [Exemplary Compound (II) -50] as a reactive group-containing charge transport material and a polymerization initiator VE-73 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2 parts by mass was added and stirred and mixed at room temperature (25 ° C.) for 12 hours to prepare a coating solution for forming a protective layer (first layer).
The obtained coating liquid for forming the protective layer (first layer) was applied on the charge transport layer previously formed on the cylindrical aluminum support by a ring coating method at a push-up speed of 150 mm / min. Thereafter, in a nitrogen dryer having an oxygen concentration meter, a curing reaction was carried out at a temperature of 160 ± 5 ° C. for 60 minutes with an oxygen concentration of 200 ppm or less to form a protective layer (first layer). The film thickness of the protective layer was 7 μm.

以上のようにして、電子写真感光体を作製した。   An electrophotographic photosensitive member was produced as described above.

[実施例2〜28、31〜36]
実施例1に記載の方法により円筒状アルミニウム支持体に下引層、電荷発生層を順次塗布により形成した。その後、下記表1及び表2に従って保護層(第1層)形成用塗布液、硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液の組成を変更した以外は、実施例1に記載の方法により、保護層(第1層)及び硬化型の電荷輸送層(第2層)電荷輸送層1及び電荷輸送層2を形成して電子写真感光体を作製した。
但し、表1及び表2中、フッ素含有樹脂粒子の欄の「有」とは、フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)5質量部及びフッ素系グラフトポリマー(アロンGF300:東亜合成製)0.2質量部を保護層形成用塗布液に配合することを示し、「無」とは、これを保護層形成用塗布液に配合しないことを示す。
[Examples 2-28, 31-36]
By the method described in Example 1, an undercoat layer and a charge generation layer were sequentially formed on a cylindrical aluminum support by coating. Then, according to Table 1 and Table 2 below, the composition of the coating solution for forming the protective layer (first layer) and the coating solution for forming the curable charge transport layer (second layer) was changed, as described in Example 1. By the method, a protective layer (first layer), a curable charge transport layer (second layer), charge transport layer 1 and charge transport layer 2 were formed to produce an electrophotographic photoreceptor.
However, in Tables 1 and 2, “Yes” in the column of fluorine-containing resin particles means that 5 parts by mass of Lubron L2 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and fluorine-based graft polymer (Aron GF300: (Toa Gosei Co., Ltd.) 0.2 parts by mass is blended in the protective layer forming coating solution, and “none” indicates that this is not blended in the protective layer forming coating solution.

[実施例29〜30]
以下のようにして、硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例29の電子写真感光体を作製した。
そして、保護層(第1層)形成用塗布液に、フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)及びフッ素系グラフトポリマーを配合しない以外は、実施例29と同様にして、実施例30の電子写真感光体を作製した。
[Examples 29 to 30]
An electrophotographic photoreceptor of Example 29 was produced in the same manner as in Example 1 except that a curable charge transport layer (second layer) was formed as follows.
Then, in the same manner as in Example 29, except that Lubron L2 (produced by Daikin Industries, Ltd.) and fluorine-based graft polymer were not blended as the fluorine-containing resin particles in the protective layer (first layer) forming coating solution, The electrophotographic photosensitive member of Example 30 was produced.

−硬化型の電荷輸送層(第2層)の作製−
非反応性の電荷輸送材料として化合物(a−14)20質量部と、反応性基含有非電荷輸送材料として化合物(b−1)[FA−321M(日立化成工業(株)製)]80質量部と、重合開始剤のVE−73(和光純薬工業(株)製)2質量部、をCPME溶剤300質量部に加えて溶解し、硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を作製した。
得られた硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した非硬化型の電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度50mm/minで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度200ppm以下の状態で、温度160±5℃、時間60分の硬化反応を実施し、硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成した。硬化型の電荷輸送層の膜厚は2μmであった。
-Preparation of curable charge transport layer (second layer)-
20 parts by mass of compound (a-14) as a non-reactive charge transport material and 80 parts by mass of compound (b-1) [FA-321M (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)] as a non-reactive group-containing non-charge transport material Part and 2 parts by weight of a polymerization initiator VE-73 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are added to 300 parts by weight of CPME solvent and dissolved to form a curable charge transport layer (second layer) coating. A liquid was prepared.
The obtained coating liquid for forming a curable charge transport layer (second layer) is pushed up by a ring coating method onto a non-curable charge transport layer previously formed on a cylindrical aluminum support at a speed of 50 mm / min. It was applied with. Thereafter, a curing reaction is carried out in a nitrogen dryer having an oxygen concentration meter at a temperature of 160 ± 5 ° C. for 60 minutes with an oxygen concentration of 200 ppm or less to form a curable charge transport layer (second layer). did. The film thickness of the curable charge transport layer was 2 μm.

[比較例1〜2]
保護層(第1層)形成用塗布液の組成において、反応性基含有電荷輸送材料として化合物(a−4)[例示化合物((I−b)−23)]を配合し、硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成せず、直接、保護層(第1層)を非硬化型の電荷輸送層上に形成した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の電子写真感光体を作製した。
そして、保護層(第1層)形成用塗布液に、フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)及びフッ素系グラフトポリマーを配合しない以外は、比較例1と同様にして、比較例2の電子写真感光体を作製した。
[Comparative Examples 1-2]
In the composition of the coating liquid for forming the protective layer (first layer), the compound (a-4) [Exemplary Compound ((Ib) -23)] is blended as a reactive group-containing charge transport material, and a curable charge The electrophotography of Comparative Example 1 was made in the same manner as in Example 1 except that the transport layer (second layer) was not formed and the protective layer (first layer) was directly formed on the non-curable charge transport layer. A photoconductor was prepared.
Then, in the same manner as in Comparative Example 1, except that Lubron L2 (produced by Daikin Industries, Ltd.) and fluorine-based graft polymer were not blended as the fluorine-containing resin particles in the coating solution for forming the protective layer (first layer). An electrophotographic photosensitive member of Comparative Example 2 was produced.

[比較例3〜4]
以下のようにして、硬化型の電荷輸送層(第2層)に代えて、非硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の電子写真感光体を作製した。
そして、保護層(第1層)形成用塗布液に、フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)及びフッ素系グラフトポリマーを配合しない以外は、比較例3と同様にして、比較例4の電子写真感光体を作製した。
[Comparative Examples 3 to 4]
Comparative Example 3 was performed in the same manner as in Example 1 except that a non-curable charge transport layer (second layer) was formed instead of the curable charge transport layer (second layer) as follows. An electrophotographic photoreceptor was prepared.
Then, except that Lubron L2 (produced by Daikin Industries, Ltd.) and a fluorine-based graft polymer are not blended as fluorine-containing resin particles in the protective layer (first layer) forming coating solution, An electrophotographic photosensitive member of Comparative Example 4 was produced.

−非硬化型の電荷輸送層(第2層)の作製−
非反応性の電荷輸送材料として化合物(a−14)20質量部と、樹脂として、(C−1)[ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学(株)製)]80質量部をCPME溶剤300質量部に加えて溶解し、非硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を作成した。
得られた非硬化型の電荷輸送層(第2層)形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度50mm/minで塗布した。その後、135℃、45分の乾燥を行って、非硬化型の電荷輸送層(第2層)を形成した。非硬化型の電荷輸送層(第2層)の膜厚は2μmであった。
-Production of non-curing type charge transport layer (second layer)-
20 parts by mass of the compound (a-14) as a non-reactive charge transport material and 80 parts by mass of (C-1) [Butyral resin (Esreck BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)] as a CPME solvent It melt | dissolved in addition to 300 mass parts, and the coating liquid for non-hardening type charge transport layer (2nd layer) formation was created.
The obtained coating liquid for forming a non-curable charge transport layer (second layer) was applied on the charge transport layer previously formed on the cylindrical aluminum support by a ring coating method at a push-up speed of 50 mm / min. . Thereafter, drying was performed at 135 ° C. for 45 minutes to form a non-curing charge transport layer (second layer). The film thickness of the non-curing charge transport layer (second layer) was 2 μm.

[比較例5〜6]
保護層(第1層)形成用塗布液の組成において、反応性基含有電荷輸送材料として化合物(a−10)を配合した以外は、実施例1と同様にして、比較例5の電子写真感光体を作製した。
そして、保護層(第1層)形成用塗布液に、フッ素含有樹脂粒子としてルブロンL2(ダイキン工業(株)社製)及びフッ素系グラフトポリマーを配合しない以外は、比較例5と同様にして、比較例6の電子写真感光体を作製した。
[Comparative Examples 5-6]
In the composition of the coating liquid for forming the protective layer (first layer), the electrophotographic photosensitive film of Comparative Example 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound (a-10) was blended as the reactive group-containing charge transport material. The body was made.
Then, except that Lubron L2 (produced by Daikin Industries, Ltd.) and fluorine-based graft polymer are not blended as fluorine-containing resin particles in the protective layer (first layer) forming coating solution, An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 6 was produced.

[評価1]
各例で得られた電子写真感光体を、DocuCentre Color 400CP(富士ゼロックス社製)に装着し、通常環境(20℃、50%RH)下で画像濃度100%のベタ塗り画像部分、画像濃度10%のハーフトーン画像部分および細線画像部分を有する印刷画像を出力した。その後、連続して30000枚の黒ベタパターンを出力した後、再び画像評価パターンを出力した。なお、光量は、電荷発生材料の感度によって、フィルターを用いて調整した。
[Evaluation 1]
The electrophotographic photoreceptor obtained in each example is mounted on a DocuCenter Color 400CP (Fuji Xerox Co., Ltd.), and a solid image portion having an image density of 100% under an ordinary environment (20 ° C., 50% RH), an image density of 10 A printed image having a halftone image portion and a fine line image portion was output. Then, after continuously outputting 30000 black solid patterns, an image evaluation pattern was output again. The amount of light was adjusted using a filter depending on the sensitivity of the charge generation material.

―膜厚ムラ評価―
前記評価1の実施する前に、塗工開始位置から3cm塗工終了位置に向けて進んだ箇所から、塗工終了位置から3cm塗工開始位置に向けて進んだ箇所までの表面電荷輸送層1の膜厚を、渦電流膜厚計を用いて周方向に間隔90°で膜厚測定を行い、その膜厚の平均値を用いて以下の基準で判断した。
A+:塗工開始位置から3cm塗工終了位置に向けて進んだ箇所から塗工終了位置から3cm塗工開始位置に向けて進んだ箇所までの膜厚差が0.0μm以上 2.0μmより小さい
A :塗工開始位置から3cm塗工終了位置に向けて進んだ箇所から塗工終了位置から3cm塗工開始位置に向けて進んだ箇所までの膜厚差が2.0μm以上 3.0μmより小さい
B :塗工開始位置から3cm塗工終了位置に向けて進んだ箇所から塗工終了位置から3cm塗工開始位置に向けて進んだ箇所までの膜厚差が3.0μm以上 5.0μmより小さい
C :塗工開始位置から3cm塗工終了位置に向けて進んだ箇所から塗工終了位置から3cm塗工開始位置に向けて進んだ箇所までの膜厚差が5.0μm以上
―Evaluation of film thickness unevenness―
Before carrying out the evaluation 1, the surface charge transport layer 1 from a position advanced from the coating start position toward the 3 cm coating end position to a position advanced from the coating end position toward the 3 cm coating start position. The film thickness was measured at an interval of 90 ° in the circumferential direction using an eddy current film thickness meter, and the average value of the film thickness was used to determine the film thickness according to the following criteria.
A +: The difference in film thickness from the position proceeding from the coating start position toward the 3 cm coating end position to the position proceeding from the coating end position toward the 3 cm coating start position is 0.0 μm or more and smaller than 2.0 μm A: The difference in film thickness from the position advanced from the coating start position toward the 3 cm coating end position to the position advanced from the coating end position toward the 3 cm coating start position is 2.0 μm or more and smaller than 3.0 μm. B: The difference in film thickness from the position advanced from the coating start position toward the 3 cm coating end position to the position advanced from the coating end position toward the 3 cm coating start position is 3.0 μm or more and smaller than 5.0 μm. C: The film thickness difference from the position advanced from the coating start position toward the 3 cm coating end position to the position advanced from the coating end position toward the 3 cm coating start position is 5.0 μm or more.

―電気特性安定性評価―
前記評価1の実施する前後で、各感光体を通常環境(20℃、50%RH)環境下、グリッド印加電圧−700Vのスコロトロン帯電器で感光体をマイナス帯電させ、次いで帯電させた感光体に780nmの半導体レーザーを用いて、10mJ/mの光量にてフラッシュ露光をした。露光後、10秒後の感光体表面の電位(V)を測定し、この値を残留電位の値とした。いずれの感光体においても、残留電位は負の値を示した。それぞれの感光体において、(評価1実施前の残留電位)−(評価1実施後の残留電位)の値を算出し、電気特性安定性を評価した。A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:10V未満
A+:10V以上 20V未満
A :20V以上 30V未満
B :30V以上 50V未満
C :50V以上
―Evaluation of electrical property stability―
Before and after the evaluation 1, each photoconductor was negatively charged with a scorotron charger with a grid applied voltage of −700 V in a normal environment (20 ° C., 50% RH), and then the charged photoconductors. Using a 780 nm semiconductor laser, flash exposure was performed with a light amount of 10 mJ / m 2 . The potential (V) on the surface of the photoconductor after 10 seconds after the exposure was measured, and this value was taken as the value of the residual potential. In any photoreceptor, the residual potential showed a negative value. For each of the photoreceptors, a value of (residual potential before evaluation 1) − (residual potential after evaluation 1) was calculated to evaluate electrical property stability. A ++ indicates the best characteristics.
A ++: Less than 10V A +: 10V or more and less than 20V A: 20V or more and less than 30V B: 30V or more and less than 50V C: 50V or more

―初期の耐傷性評価―
評価1を行った後の感光体表面の傷発生度合いを以下のように評価した。
A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:顕微鏡観察でもキズが確認されない。
A+:目視でキズが確認されないが、顕微鏡観察で小さなキズが確認される。
A :目視でキズが若干確認される(実用上は問題ない)。
B :部分的にキズが発生。
C :全面にキズ発生。
―Evaluation of initial scratch resistance―
The degree of occurrence of scratches on the surface of the photoreceptor after the evaluation 1 was evaluated as follows.
A ++ indicates the best characteristics.
A ++: Scratches are not confirmed even by microscopic observation.
A +: Although scratches are not visually confirmed, small scratches are confirmed by microscopic observation.
A: Some scratches are visually confirmed (no problem in practical use).
B: Scratches are partially generated.
C: Scratches are generated on the entire surface.

―長期の耐傷性評価―
評価1と同じ条件でさらに50000枚の黒ベタパターンを出力した後、感光体表面の傷発生度合いを以下のように評価した。
A++が最も良好な特性であることを示す。
A++:顕微鏡観察でもキズが確認されない。
A+:目視でキズが確認されないが、顕微鏡観察で小さなキズが確認される。
A :目視でキズが若干確認される(実用上は問題ない)。
B :部分的にキズが発生。
C :全面にキズ発生。
-Long-term scratch resistance evaluation-
After outputting 50,000 black solid patterns under the same conditions as in Evaluation 1, the degree of scratches on the surface of the photoreceptor was evaluated as follows.
A ++ indicates the best characteristics.
A ++: Scratches are not confirmed even by microscopic observation.
A +: Although scratches are not visually confirmed, small scratches are confirmed by microscopic observation.
A: Some scratches are visually confirmed (no problem in practical use).
B: Scratches are partially generated.
C: Scratches are generated on the entire surface.

[評価2]
−フッ素含有樹脂粒子の分散性評価−
各例で得られた電子写真感光体のフッ素含有樹脂粒子の分散性を以下の方法で評価した。感光体の基材から、片刃トリミング用カミソリ(日新EM(株)製)を用いて、下引層から表面電荷輸送層1までの積層の切片を切り出し、光硬化性アクリル樹脂(品名D−800:日本電子データム製)を用いて切片を包埋した。次にダイアモンドナイフを用いるミクロトーム法(ミクロトーム装置:LEICA社製)で、積層の切片の断面が表れるように切削した。切片の断面を、オリンパス光学工業社製のレーザ顕微鏡OLS−1100にて、ステップ量0.01μmの条件で観察し、以下の基準で判断した。
A:均一に分散し、凝集なし。
B:部分的に弱い凝集あり。
C:強い凝集あり。
なお、保護層(第1層)にフッ素含有樹脂粒子を配合しない感光体については、本評価は実施しなかった。
[Evaluation 2]
-Dispersibility evaluation of fluorine-containing resin particles-
The dispersibility of the fluorine-containing resin particles of the electrophotographic photoreceptor obtained in each example was evaluated by the following method. Using a single-edged trimming razor (manufactured by Nissin EM Co., Ltd.), a slice of the laminate from the undercoat layer to the surface charge transport layer 1 was cut out from the photoreceptor substrate, and a photocurable acrylic resin (product name D- 800: manufactured by JEOL Datum). Next, it was cut by a microtome method (microtome apparatus: manufactured by LEICA) using a diamond knife so that the cross section of the laminated section appeared. The cross section of the section was observed with a laser microscope OLS-1100 manufactured by Olympus Optical Co., Ltd. under the condition of a step amount of 0.01 μm and judged according to the following criteria.
A: Dispersed uniformly and no aggregation.
B: Some weak aggregation.
C: Strong aggregation.
In addition, this evaluation was not implemented about the photoreceptor which does not mix | blend a fluorine-containing resin particle with a protective layer (1st layer).

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、膜厚ムラ、電気特性安定性、耐傷性の評価について良好な結果が得られたことがわかる。
また、本実施例では、比較例に比べ、保護層(第1層)にフッ素含有樹脂粒子を配合した場合、その分散性に優れることがわかる。
From the above results, it can be seen that in this example, better results were obtained in terms of evaluation of film thickness unevenness, electrical property stability, and scratch resistance compared to the comparative example.
Moreover, in a present Example, when a fluorine-containing resin particle is mix | blended with a protective layer (1st layer) compared with a comparative example, it turns out that it is excellent in the dispersibility.

以下、実施例で使用した材料の略称等の詳細について示す。
[電荷輸送材料(反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料]
・(a−1):例示化合物(II)−50
・(a−2):例示化合物(II)−58
・(a−3):例示化合物(II)−33
・(a−4):例示化合物(I−b)−23
・(a−5):例示化合物(I−c)−30
・(a−6):例示化合物(II)−13
・(a−7):例示化合物(I−c)−15(下記合成法参照)
・(a−8):例示化合物(I−b)−29
・(a−9):例示化合物(I−c)−43(下記合成法参照)
・(a−10):下記構造式で表される化合物
・(a−11):下記構造式で表される化合物
・(a−12):下記構造式で表される化合物
・(a−13):下記構造式で表される化合物
・(a−14):下記構造式で表される化合物
・(a−15):例示化合物(I−a)−25
・(a−16):例示化合物(I−d)−11
・(a−17):例示化合物(II)−184
Hereinafter, details such as abbreviations of materials used in the examples will be described.
[Charge transport materials (reactive group-containing charge transport materials, non-reactive charge transport materials]
(A-1): Exemplified compound (II) -50
(A-2): Exemplary compound (II) -58
(A-3): Exemplary compound (II) -33
(A-4): Exemplified compound (Ib) -23
(A-5): Exemplified compound (Ic) -30
(A-6): Exemplified compound (II) -13
(A-7): Exemplified compound (Ic) -15 (see the synthesis method below)
(A-8): Exemplified compound (Ib) -29
(A-9): Exemplified compound (Ic) -43 (see the synthesis method below)
(A-10): Compound represented by the following structural formula (a-11): Compound represented by the following structural formula (a-12): Compound represented by the following structural formula (a-13) ): A compound represented by the following structural formula: (a-14): a compound represented by the following structural formula: (a-15): exemplary compound (Ia) -25
(A-16): Exemplary compound (Id) -11
(A-17): Exemplary compound (II) -184

−例示化合物(I−c)−15の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、4−ヨードキシレン46.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム20g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、(I−c)−15aを65.1g得た(収率73%)。
3L三口フラスコに(I−c)−15aを59.4g、テトラヒドロフラン450mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム11.7gを水450mlに溶解した水溶液を添加し、60℃で3時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸60ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。さらにこの固体にアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、(I−c)−15bを46.2g得た(収率83%)。
500ml三口フラスコに(I−c)−15bを29.2g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.17g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら3時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、例示化合物(I−c)−15を36.4g得た(収率80%)。
—Synthesis of Exemplary Compound (Ic) -15—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 46.4 g of 4-iodoxylene, 30.4 g of potassium carbonate, 1.5 g of copper sulfate pentahydrate, 50 ml of n-tridecane Was added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. while flowing nitrogen. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 20 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 65.1 g of (Ic) -15a (yield 73%).
59.4 g of (Ic) -15a and 450 ml of tetrahydrofuran were added to a 3 L three-necked flask, and an aqueous solution in which 11.7 g of sodium hydroxide was dissolved in 450 ml of water was added thereto, followed by stirring at 60 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 60 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. Further, 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60) was added to this solid and stirred in a suspended state, then collected by suction filtration, dried in vacuo for 10 hours, and 46 of (Ic) -15b was obtained. 0.2 g was obtained (yield 83%).
To a 500 ml three-necked flask, 29.2 g of (Ic) -15b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.17 g of nitrobenzene, 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide) were added, The system was stirred for 3 hours with nitrogen flowing and heated to 75 ° C. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 36.4 g of Exemplified Compound (Ic) -15 (yield 80%). .

−例示化合物(I−c)−43の合成−
500ml三口フラスコに4,4’−ビス(2−メトキシカルボニルエチル)ジフェニルアミン68.3g、4,4’−ジヨードー3,3’−ジメチルー1,1’−ビフェニル43.4g、炭酸カリウム30.4g、硫酸銅5水和物1.5g、n−トリデカン50mlを添加し、系中を窒素フローしながら220℃で加熱しながら20時間撹拌した。その後温度を室温まで下げ、トルエン200ml、水150mlを加えて分液操作を行った。トルエン層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。トルエンを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、(I−c)−43aを56.0g得た(収率65%)。
3L三口フラスコに(I−c)−43aを43.1g、テトラヒドロフラン350mlを添加し、そこに水酸化ナトリウム8.8gを水350mlに溶解した水溶液を添加し、60℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、反応液を水1L/濃塩酸40ml水溶液に滴下し、析出した固体を吸引ろ過により採取した。この固体をさらにアセトン/水混合溶剤(体積比40/60)50mlを加えて懸濁状態で撹拌した後、吸引ろ過により採取し、10時間真空乾燥した後、(I−c)−43bを36.6g得た(収率91%)。
500ml三口フラスコに(I−c)−43bを28.2g、4−クロロメチルスチレン23.5g、炭酸カリウム21.3g、ニトロベンゼン0.09g、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)175mlを添加し、系中を窒素フローして75℃に加熱しながら5時間撹拌した。その後、温度を室温まで下げ、反応溶液に酢酸エチル200ml/水200mlを加えて分液操作を行った。酢酸エチル層を採取し、硫酸ナトリウム10g加えて10分撹拌した後、硫酸ナトリウムをろ過した。酢酸エチルを減圧留去した粗生成物を、トルエン/酢酸エチルを溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、例示化合物(I−c)−43を37.8g得た(収率85%)。
—Synthesis of Exemplary Compound (Ic) -43—
In a 500 ml three-necked flask, 68.3 g of 4,4′-bis (2-methoxycarbonylethyl) diphenylamine, 43.4 g of 4,4′-diiodo 3,3′-dimethyl-1,1′-biphenyl, 30.4 g of potassium carbonate, Copper sulfate pentahydrate (1.5 g) and n-tridecane (50 ml) were added, and the system was stirred for 20 hours while heating at 220 ° C. with nitrogen flow. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of toluene and 150 ml of water were added to carry out a liquid separation operation. The toluene layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by evaporating toluene under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 56.0 g of (Ic) -43a (yield 65%).
To a 3 L three-necked flask, 43.1 g of (Ic) -43a and 350 ml of tetrahydrofuran were added, an aqueous solution in which 8.8 g of sodium hydroxide was dissolved in 350 ml of water was added, and the mixture was stirred for 5 hours while heating to 60 ° C. did. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to 1 L of water / 40 ml of concentrated hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by suction filtration. The solid was further added with 50 ml of an acetone / water mixed solvent (volume ratio 40/60), stirred in a suspended state, collected by suction filtration, dried in vacuo for 10 hours, and (Ic) -43b was replaced with 36. 0.6 g was obtained (yield 91%).
To a 500 ml three-necked flask, 28.2 g of (Ic) -43b, 23.5 g of 4-chloromethylstyrene, 21.3 g of potassium carbonate, 0.09 g of nitrobenzene, 175 ml of DMF (N, N-dimethylformamide) were added, The system was stirred for 5 hours while flowing nitrogen and heating to 75 ° C. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and 200 ml of ethyl acetate / 200 ml of water was added to the reaction solution to carry out a liquid separation operation. The ethyl acetate layer was collected, 10 g of sodium sulfate was added and stirred for 10 minutes, and then the sodium sulfate was filtered. The crude product obtained by distilling off ethyl acetate under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography using toluene / ethyl acetate as an eluent to obtain 37.8 g of Exemplified Compound (Ic) -43 (yield 85%). .

なお、他の例示化合物も、上記合成に準じて合成した。   Other exemplary compounds were also synthesized according to the above synthesis.


[反応性基含有非電荷輸送材料]
・(b−1):FA−321M(日立化成工業(株)製)
[樹脂]
・(c−1):ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学(株)製)
[Reactive group-containing non-charge transport material]
(B-1): FA-321M (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
[resin]
-(C-1): Butyral resin (ESREC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)

1 下引層、2 電荷発生層、3−1 電荷輸送層、3−2 電荷輸送層、3−3 電荷輸送層、4 導電性基体、、6 単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)、7A、7B、7C、7 電子写真感光体、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、40 転写装置、50 中間転写体、100、120、130、140 画像形成装置、300 プロセスカートリッジ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Undercoat layer, 2 Charge generation layer, 3-1 Charge transport layer, 3-2 Charge transport layer, 3-3 Charge transport layer, 4 Conductive substrate, 6 Single layer type photosensitive layer (Charge generation / charge transport layer ), 7A, 7B, 7C, 7 Electrophotographic photosensitive member, 8 Charging device, 9 Exposure device, 11 Developing device, 13 Cleaning device, 14 Lubricant, 40 Transfer device, 50 Intermediate transfer member, 100, 120, 130, 140 Image forming apparatus, 300 process cartridge

Claims (11)

導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を有し、
最表面層である第1層が、下記一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜で構成され、
前記最表面層に隣接した下層である第2層が、電荷輸送性の硬化膜で構成される電子写真感光体。



〔一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕



〔一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。〕
A conductive substrate, and a photosensitive layer provided on the conductive substrate,
The first layer which is the outermost surface layer is composed of a cured film of a composition containing at least one selected from reactive compounds represented by the following general formulas (I) and (II),
An electrophotographic photosensitive member, wherein a second layer which is a lower layer adjacent to the outermost surface layer is formed of a charge transporting cured film.



[In general formula (I), F represents a charge transporting skeleton. L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O-. Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. m represents an integer of 1 or more and 8 or less. ]



[In General Formula (II), F represents a charge transporting skeleton. L ′ represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, and an alkylene group, alkenylene group, —C (═O) —, —N (R) —, —S—, and —O—. (N + 1) -valent linking groups containing two or more selected from the group consisting of: R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. m ′ represents an integer of 1 to 6. n represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]
前記一般式(I)で示される反応性化合物が、下記一般式(I−a)、下記一般式(I−b)、下記一般式(I−c)、及び下記一般式(I−d)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物である請求項1に記載の電子写真感光体。



〔一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ara5及びAra6は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Xaは、アルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Daは、下記一般式(IA−a)で示される基を示す。ac1〜ac4は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。但し、Daの総数は1又は2である。〕



〔一般式(IA−a)中、Lは、*−(CHan−O−CH−で示され、*にてAra1〜Ara4で示される基に連結する2価の連結基を示す。anは、1又は2の整数を示す。〕



〔一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arb5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dbは、下記一般式(IA−b)で示される基を示す。bc1〜bc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。bkは、0又は1を示す。但し、Dbの総数は、1又は2である。〕



〔一般式(IA−b)中、Lは、*−(CHbn−O−で示される基を含み、*にてArb1〜Arb5で示される基に連結する2価の連結基を示す。bnは、3以上6以下の整数を示す。〕



〔一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arc5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dcは、下記一般式(IA−c)で示される基を示す。cc1〜cc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。ckは、0又は1を示す。但し、Dcの総数は、1以上8以下である。〕



〔一般式(IA−c)中、Lは、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。〕



〔一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ard5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Ddは、下記一般式(IA−d)で示される基を示す。dc1〜dc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。dkは、0又は1を示す。但し、Ddの総数は、3以上8以下である。〕



〔一般式(IA−d)中、Lは、*−(CHdn−O−で示される基を含み、*にてArd1〜Ard5で示される基に連結する2価の連結基を示す。dnは、1以上6以下の整数を示す。〕
The reactive compound represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (Ia), the following general formula (Ib), the following general formula (Ic), or the following general formula (Id). The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, which is at least one reactive compound selected from the reactive compounds represented by:



[In the general formula (Ia), Ar a1 to Ar a4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar a5 and Ar a6 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group. Xa represents a divalent linking group formed by combining groups selected from an alkylene group, -O-, -S-, and an ester. Da represents a group represented by the following general formula (IA-a). ac1 to ac4 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. However, the total number of Da is 1 or 2. ]



[In the general formula (IA-a), L a is, * - (CH 2) an -O-CH 2 - is represented by the linking divalent linked to a group represented by Ar a1 to Ar a4 at * Indicates a group. an represents an integer of 1 or 2. ]



[In the general formula (Ib), Ar b1 to Ar b4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Db represents a group represented by the following general formula (IA-b). bc1 to bc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. bk represents 0 or 1. However, the total number of Db is 1 or 2. ]



[In General Formula (IA-b), L b includes a group represented by * — (CH 2 ) bn —O—, and is a divalent linkage linked to a group represented by Ar b1 to Ar b5 at *. Indicates a group. bn represents an integer of 3 to 6. ]



[In the general formula (Ic), Ar c1 to Ar c4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dc represents a group represented by the following general formula (IA-c). cc1 to cc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. ck represents 0 or 1. However, the total number of Dc is 1 or more and 8 or less. ]



[In the general formula (IA-c), L C is, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and, -C (= O) - and -O -, - N ( R)-or -S- represents a divalent linking group containing one or more groups selected from the group consisting of groups. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. ]



[In the general formula (Id), Ar d1 to Ar d4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dd represents a group represented by the following general formula (IA-d). dc1 to dc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. dk represents 0 or 1. However, the total number of Dd is 3 or more and 8 or less. ]



[In General Formula (IA-d), L d includes a group represented by * — (CH 2 ) dn —O—, and is a divalent linkage linked to a group represented by Ar d1 to Ar d5 at *. Indicates a group. dn represents an integer of 1 to 6. ]
前記一般式(IA−c)で示される基が、下記一般式(IA−c1)で示される基である請求項2に記載の電子写真感光体。



〔一般式(IA−c1)中、cp1は0以上4以下の整数を示す。〕
The electrophotographic photosensitive member according to claim 2, wherein the group represented by the general formula (IA-c) is a group represented by the following general formula (IA-c1).



[In the general formula (IA-c1), cp1 represents an integer of 0 or more and 4 or less. ]
前記一般式(II)で示される反応性化合物が、下記一般式(II−a)で示される反応性化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。



〔一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ark5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dkは、下記一般式(IIA−a)で示される基を示す。kc1〜kc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。kkは、0又は1を示す。但し、Dkの総数は、1以上8以下である。〕



〔一般式(IIA−a)中、Lは、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(kn+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。knは、2以上3以下の整数を示す。〕
The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the reactive compound represented by the general formula (II) is a reactive compound represented by the following general formula (II-a).



[In the general formula (II-a), Ar k1 to Ar k4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. Ar k5 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group. Dk represents a group represented by the following general formula (IIA-a). kc1 to kc5 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. kk represents 0 or 1. However, the total number of Dk is 1 or more and 8 or less. ]



[In the general formula (IIA-a), L k represents a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, an alkylene group, an alkenylene group, —C (═O) —, —N (R) A (kn + 1) -valent linking group containing two or more selected from the group consisting of-, -S-, and -O- is shown. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. kn represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]
前記一般式(II)で示される反応性化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)で示される基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。



〔一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)中、Xk3は2価の連結基を示す。kq3は0又は1の整数を示す。Xk4は2価の連結基を示す。kq4は0又は1の整数を示す。〕
The group linked to the charge transporting skeleton represented by F of the reactive compound represented by the general formula (II) is a group represented by the following general formula (IIA-a3) or (IIA-a4): The electrophotographic photosensitive member according to any one of -4.



[In general formula (IIA-a3) or (IIA-a4), Xk3 represents a divalent linking group. kq3 represents an integer of 0 or 1. X k4 represents a divalent linking group. kq4 represents an integer of 0 or 1. ]
前記一般式(II)で示される反応性化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)で示される基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。



〔一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)中、Xk1は2価の連結基を示す。kq1は0又は1の整数を示す。Xk2は2価の連結基を示す。kq2は0又は1の整数を示す。〕
The group linked to the charge transporting skeleton represented by F of the reactive compound represented by the general formula (II) is a group represented by the following general formula (IIA-a1) or (IIA-a2): The electrophotographic photosensitive member according to any one of -4.



[In general formula (IIA-a1) or (IIA-a2), Xk1 represents a divalent linking group. kq1 represents an integer of 0 or 1. X k2 represents a divalent linking group. kq2 represents an integer of 0 or 1. ]
前記最表面層である第1層が、フッ素樹脂粒子を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the first layer as the outermost surface layer contains fluororesin particles. 前記第2層が、前記一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜で構成される請求項1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The said 2nd layer is any one of Claims 1-7 comprised with the cured film of the composition containing at least 1 sort (s) selected from the reactive compound shown by the said general formula (I) and (II). The electrophotographic photoreceptor described in 1. 前記感光層が電荷発生層と非硬化型の電荷輸送層とを含み、
前記第2層は、前記非硬化型の電荷輸送層の上に設けられる、請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The photosensitive layer includes a charge generation layer and a non-curing charge transport layer;
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the second layer is provided on the non-curing charge transport layer.
請求項1〜のいずれか1項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 9 ,
A process cartridge that can be attached to and detached from an image forming apparatus.
請求項1〜のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 9 ,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to a transfer medium;
An image forming apparatus comprising:
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