JP5878212B2 - パターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法及びカーボンナノチューブ素子 - Google Patents
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Description
図1及び図2を参照すると、本実施形態はパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法を提供する。本実施形態のパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法は、代替基板30の表面に転移されたカーボンナノチューブアレイ10を提供するステップであって、該カーボンナノチューブアレイ10が代替基板30に近接する表面は第二表面104であり、第二表面104と対向する表面は第一表面102であり、カーボンナノチューブアレイ10の形態はカーボンナノチューブ構造体40をカーボンナノチューブアレイ10から連続的に引き出すことを保証できる形態であるステップ(S1)と、カーボンナノチューブアレイ10の第一表面102をレーザーでエッチングし、カーボンナノチューブアレイ10を二つの部分に区分するステップであって、該二つの部分は保留領域12及び除去領域14であるステップ(S2)と、第一方向(X)に沿って、除去領域14におけるカーボンナノチューブアレイ10を引き出すことによって、除去領域14におけるカーボンナノチューブアレイ10を除去し、保留領域12におけるカーボンナノチューブアレイ10を保留するステップ(S3)と、を含む。
図7を参照すると、本実施形態はパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法を提供する。本実施形態のパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法は実施形態1のパターン化カーボンナノチューブアレイと基本的に同じであるが、以下の点が異なる。代替基板30と成長基板20の間にスペーサ装置22が設置される。スペーサ装置22によって、代替基板30の第四表面302と成長基板20の第三表面202との距離を維持し、代替基板30の第四表面302と成長基板20の第三表面202との距離が非常に小さくなり過ぎないので、カーボンナノチューブアレイ10を倒すことを防止する。スペーサ装置22が代替基板30及び成長基板20の間における高さはカーボンナノチューブアレイ10の高さの以下である。これにより、カーボンナノチューブアレイ10がスペーサ装置22と高度差(Z)を有する。且つ、スペーサ装置22の高さは、カーボンナノチューブアレイ10を圧縮することができるが、カーボンナノチューブアレイ10からカーボンナノチューブ構造体40を連続的に引き出すことができないほどに圧縮されたカーボンナノチューブアレイ10の最小の高さより高い。ステップ(S121)において、スペーサ装置22及びカーボンナノチューブアレイ10は、代替基板30と成長基板20の間に設置される。
本実施形態はパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法を提供する。本実施形態のパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法は実施形態1のパターン化カーボンナノチューブアレイと基本的に同じであるが、ステップ(S32)がステップ(S12)と異なる。具体的には、ステップ(S32)は、代替基板30をカーボンナノチューブアレイ10の第二表面104に設置し、代替基板30とカーボンナノチューブアレイ10の第二表面104との間に液相状態の媒体60を設置し、該液相状態の媒体60はポリビニルアルコール(PVA)溶液であるステップ(S321)と、代替基板30とカーボンナノチューブアレイ10の第二表面104との間に設置された液相状態の媒体60を固体の媒体60’に固化させるステップ(S322)と、代替基板30及び成長基板20のうちの少なくとも一方を移動させて、代替基板30と成長基板20とを離れさせ、カーボンナノチューブアレイ10を成長基板20から脱離させ、代替基板30に転移するステップ(S323)と、温度を上昇させることによって、代替基板30とカーボンナノチューブアレイ10の第二表面104との間の固体の媒体60’を除去するステップであって、固体の媒体60’を除去した後、カーボンナノチューブアレイ10の形態はカーボンナノチューブ構造体40をカーボンナノチューブアレイ10から連続的に引き出すことを保証できる形態であるステップ(S324)と、を含む。
本実施形態は実施形態1のパターン化カーボンナノチューブアレイを利用するカーボンナノチューブ素子80を提供する。該カーボンナノチューブ素子80は本体84及び本体84に設置されるパターン化カーボンナノチューブアレイ82を含む。パターン化カーボンナノチューブアレイ82は、カーボンナノチューブ構造体40をパターン化カーボンナノチューブアレイ82から連続的に引き出すことができるものである。パターン化カーボンナノチューブアレイ82が設置される本体84を前記基板30として、まず、カーボンナノチューブアレイ10を本体84に転移し、次いて、前記ステップによって、パターン化カーボンナノチューブアレイ82を形成する。本体84の材料は制限されず、絶縁性な有機高分子ポリマーが使用できる。本体84は特定の領域のカーボンナノチューブの導電性、伝熱性或いは力学性能を利用する装置である。例えば、本体84は印刷回路板、集積回路板、処理装置、散熱素子の何れか一種である。
102 第一表面
104 第二表面
106 溝
12 保留領域
14 除去領域
20 成長基板
22 スペーサ装置
202 第三表面
30 弾性代替基板
302 第四表面
304 微構造体
40 カーボンナノチューブ構造体
50 引き工具
60 液相状態の媒体
60’ 固体の媒体
70 低温箱
80 レーザー装置
82 パターン化カーボンナノチューブアレイ
84 本体
Claims (2)
- 代替基板の表面に転移されたカーボンナノチューブアレイを提供する第一ステップであって、前記カーボンナノチューブアレイが前記代替基板に近接する表面は第二表面であり、第二表面と対向する表面は第一表面であり、前記カーボンナノチューブアレイの形態はカーボンナノチューブ構造体を前記カーボンナノチューブアレイから連続的に引き出すことを保証できる形態である第一ステップと、
前記カーボンナノチューブアレイの前記第一表面をレーザーでエッチングし、前記カーボンナノチューブアレイを二つの部分に区分する第二ステップであって、前記二つの部分は保留領域及び除去領域である第二ステップと、
前記除去領域における前記カーボンナノチューブアレイを引き出すことによって、前記除去領域における前記カーボンナノチューブアレイを除去し、前記保留領域における前記カーボンナノチューブアレイを保留する第三ステップと、を含むことを特徴とするパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法。 - 前記第一ステップは
代替基板及び成長基板を提供する第一サブステップであって、前記成長基板の表面にカーボンナノチューブアレイを有し、前記カーボンナノチューブアレイが前記成長基板と隣接する表面は第一表面であり、前記第一表面と対向する表面は第二表面であり、前記カーボンナノチューブアレイの形態はカーボンナノチューブ構造体を前記カーボンナノチューブアレイから連続的に引き出すことを保証する形態である第一サブステップと、
前記代替基板を前記カーボンナノチューブアレイの前記第二表面に設置し、前記代替基板と前記カーボンナノチューブアレイの前記第二表面との間にポリビニルアルコール溶液を設置する第二サブステップと、
前記代替基板と前記カーボンナノチューブアレイの前記第二表面との間に設置された前記ポリビニルアルコール溶液における溶剤を固体の溶剤に固化させる第三サブステップと、
前記代替基板及び前記成長基板のうちの少なくとも一方を移動させて、前記代替基板と前記成長基板とを離れさせ、前記カーボンナノチューブアレイを前記成長基板から脱離させ、前記代替基板に転移する第四サブステップと、
温度を上昇させることによって、前記代替基板と前記カーボンナノチューブアレイの前記第二表面との間の前記固体の溶剤を除去する第五サブステップであって、前記固体の溶剤を除去した後、前記カーボンナノチューブアレイの形態は前記カーボンナノチューブ構造体を前記カーボンナノチューブアレイから連続的に引き出すことを保証する形態である第五サブステップと、含み、
前記カーボンナノチューブ構造体は端と端で接続される複数のカーボンナノチューブを含み、
前記ポリビニルアルコール溶液におけるポリビニルアルコールの質量百分率は0.1%〜2%であることを特徴とする請求項1に記載のパターン化カーボンナノチューブアレイの製造方法。
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