JP5872971B2 - Flow cell and manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明は、試料溶液を移送する流路を備えたフローセルおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a flow cell having a flow path for transferring a sample solution and a manufacturing method thereof.

抗原抗体反応やDNA断片(DNAプローブ)とDNAとの結合などの高度な生体分子の識別機能を利用した測定は、臨床検査および生化学分野での測定および環境汚染物質の測定で重要な技術となっている。この測定の適用先としては、例えば、マイクロTAS(Total analysis systems),マイクロコンビナトリアルケミストリ,化学IC,化学センサ,バイオセンサ,微量分析,電気化学分析,QCM測定,SPR測定,ATR測定などがある。このような測定の分野では、測定対象の試料溶液は微量な場合が多い。   Measurements using advanced biomolecular identification functions such as antigen-antibody reaction and DNA fragment (DNA probe) -DNA binding are important technologies for clinical laboratory and biochemical measurements and environmental pollutants. It has become. Application destinations of this measurement include, for example, micro TAS (Total analysis systems), micro combinatorial chemistry, chemical IC, chemical sensor, biosensor, trace analysis, electrochemical analysis, QCM measurement, SPR measurement, ATR measurement and the like. In such a measurement field, the sample solution to be measured is often in a very small amount.

上述したような測定においては、試料溶液を保持可能な試料セルが用いられている。この試料セルに微量の試料溶液を供給し、当該試料セルの測定を行う検出部まで移送する。これにより、試料溶液に溶解または分散しているDNAや抗体などの検体の濃度を低下させることなく、より高感度・高効率に測定を行う。このように試料溶液を測定部分に流す試料セルは、フローセルと呼ばれる。   In the measurement as described above, a sample cell capable of holding a sample solution is used. A small amount of sample solution is supplied to the sample cell, and the sample cell is transferred to a detection unit for measuring the sample cell. As a result, measurement is performed with higher sensitivity and higher efficiency without reducing the concentration of a sample such as DNA or antibody dissolved or dispersed in the sample solution. A sample cell that allows the sample solution to flow through the measurement portion in this way is called a flow cell.

フローセルで微量な試料溶液の移送を実現する技術としては、例えば、以下のような方法がある。例えば、フローセルの検出部に対面する流路を設けるとともに、シリンジポンプなどによる外部からの圧力で試料溶液を移送させる方法,静電気力で移送させる方法,エレクトロウエッティング法,加熱による体積変化や気泡の生成により溶液を移送させる方法,および電気浸透流を利用する方法などがある。   As a technique for realizing the transfer of a very small amount of sample solution in the flow cell, for example, there are the following methods. For example, a flow channel facing the detection part of the flow cell is provided, and a sample solution is transferred by an external pressure such as a syringe pump, a method of transferring by electrostatic force, an electrowetting method, a volume change caused by heating, There are a method of transferring a solution by generation and a method of using electroosmotic flow.

しかしながら、これらの方法で微量な試料溶液を移送させるためには、例えば、基板(チップ)の上に微細な溝を流路や検出部として形成するとともに、同じ基板の上に電極や加熱器などの構成部品が設けられている状態とする必要があり、作製が容易ではない。また、外部からの圧力で試料溶液を移送する場合、検出部を構成するチップ以外に、ポンプや配管などの部品が必要となり、加えて、移送経路に大きな無駄が発生することになり、試料溶液の微量化には限界がある。   However, in order to transfer a small amount of sample solution by these methods, for example, a fine groove is formed on the substrate (chip) as a flow path or a detection unit, and an electrode, a heater, or the like is formed on the same substrate. It is necessary to be in a state in which the component parts are provided, and the production is not easy. In addition, when transferring the sample solution with external pressure, parts such as a pump and piping are required in addition to the chip constituting the detection unit, and in addition, a large waste is generated in the transfer path. There is a limit to the miniaturization of.

上述した試料移送の技術の他に、毛細管力を利用した溶液の移送技術がある。毛細管力を利用した送液は、非常に簡便な方法である。この毛細管力を利用した移送技術として、フローセル中に、試料溶液に対して毛細管現象が発現可能な流路またはポンプとなる領域を形成する技術が提案されている(特許文献1、2参照)。この技術によるフローセルは、試料溶液が導入される導入口(供給部)と、導入された試料溶液を吸引する毛細管ポンプ(移送部)と、これら導入口と毛細管ポンプとの間に設けられた測定のための流路とが板状のセルの平面方向に沿って直線状に並んで形成されている。このフローセルでは、導入口に試料溶液を供給すると、供給された試料溶液は導入口から流路を通って毛細管ポンプへと達し、毛細管ポンプに吸引されて連続的に流路を流れる。   In addition to the sample transfer technique described above, there is a solution transfer technique using capillary force. Liquid feeding using capillary force is a very simple method. As a transfer technique using this capillary force, a technique has been proposed in which a flow path or a region serving as a pump capable of expressing a capillary phenomenon is formed in a flow cell in a flow cell (see Patent Documents 1 and 2). The flow cell according to this technique has an introduction port (supply unit) through which a sample solution is introduced, a capillary pump (transfer unit) that sucks the introduced sample solution, and a measurement provided between the introduction port and the capillary pump. Are formed in a straight line along the planar direction of the plate-like cell. In this flow cell, when a sample solution is supplied to the introduction port, the supplied sample solution reaches the capillary pump from the introduction port through the flow path, and is sucked by the capillary pump and continuously flows through the flow path.

また、他の試料移送の手段として、流路の両端に半径の異なる液滴を形成し、液滴に生じる表面張力の大きさの違いにより、液体を移送する方法も提案されている(非特許文献1参照)。   As another sample transfer means, a method has been proposed in which liquid droplets having different radii are formed at both ends of a flow path, and the liquid is transferred according to the difference in surface tension generated in the liquid droplets (non-patent document). Reference 1).

上述した毛細管力や表面張力を利用した送液方法は、外部からの駆動力を必要とせず、パッシブポンプと呼ばれている。パッシブポンプを内蔵するフローセルは、送液のための周辺装置を必要としないため、オンサイトでの測定が容易であり、また、一度に多数の測定を行う場合に有利となる。   The liquid feeding method using the capillary force and the surface tension described above does not require an external driving force and is called a passive pump. Since the flow cell incorporating the passive pump does not require a peripheral device for liquid feeding, it is easy to perform on-site measurement, and is advantageous when performing many measurements at once.

このようなフローセルを作製する材料としては、リソグラフィによる製造方法を利用するため、一般に、シリコン,石英,ガラスウエハなどが用いられてきた。フローセルの形成では、流路となる溝を形成した基板と、溝を閉じて流路とする基板とを接着している。この2つの基板を接着する方法として、高温にして融着する方法,陽極接合,フッ酸による接合などがある。   As a material for producing such a flow cell, silicon, quartz, glass wafers and the like have been generally used in order to use a manufacturing method by lithography. In the formation of the flow cell, a substrate on which a groove serving as a flow path is formed and a substrate that closes the groove and forms a flow path are bonded. As a method of bonding the two substrates, there are a method of fusing at a high temperature, anodic bonding, bonding with hydrofluoric acid, and the like.

ところで、バイオセンサとして機能させるために、バイオ材料をフローセル内に固定化する方法が多く採用されている。しかしながら、バイオ材料は高温,強酸,強アルカリ,有機溶剤などに対して耐性が低い。このため、一般には、バイオ材料を固定化した後、上記の様な接合方法でフローセルを作製してもバイオセンサとして機能させることは困難である。   By the way, in order to function as a biosensor, many methods of immobilizing a biomaterial in a flow cell are employed. However, biomaterials have low resistance to high temperatures, strong acids, strong alkalis, organic solvents, and the like. For this reason, it is generally difficult to function as a biosensor even if a flow cell is produced by the above-described joining method after immobilizing a biomaterial.

近年、ポリジメチルシロキサン(PDMS)を材料とするフローセルが多く研究されている。これは、PDMSが、ガラスやシリコン基板に対する自己接着力が強く、接着のプロセスを必要せずに両者を接着できるためである。PDMSを用いて流路となる溝を備える流路基板を作製すれば、これを平坦な支持基板に搭載するだけで、これら2つの基板を接着せることができ、簡便にフローセルを作製することができる。また、これらの接着では、高温処理,強酸,強アルカリ,有機溶剤などを用いないため、バイオ材料の固定化が容易である。   In recent years, many researches have been conducted on flow cells made of polydimethylsiloxane (PDMS). This is because PDMS has a strong self-adhesive force with respect to glass and a silicon substrate, and can bond them together without requiring a bonding process. If a flow path substrate having a groove serving as a flow path is manufactured using PDMS, these two substrates can be bonded by simply mounting the flow path substrate on a flat support substrate, and a flow cell can be easily manufactured. it can. Moreover, in these adhesion | attachment, since high temperature processing, a strong acid, a strong alkali, an organic solvent, etc. are not used, fixation of biomaterial is easy.

ここで、PDMSは、水溶液に対する接触角が90度以上あり、疎水性である。液滴の表面張力による送液に関しては、液滴を形成するために、疎水性であることは好都合であるが、予め呼び水となる溶液を導入するにはピペットなどによる強制的な送液が前準備として必要となる。これは、支持基板が親水性であっても、PDMSで構成する流路基板に形成されている流路の面が疎水性であるため、外部から加圧しなければ水溶液は入っていかないためである。   Here, PDMS has a contact angle with respect to an aqueous solution of 90 degrees or more and is hydrophobic. Concerning liquid feeding due to the surface tension of the liquid droplets, it is convenient to be hydrophobic in order to form liquid droplets. Necessary as a preparation. This is because even if the support substrate is hydrophilic, the surface of the flow channel formed on the flow channel substrate made of PDMS is hydrophobic, so that the aqueous solution does not enter unless pressure is applied from the outside. .

このことからも、毛細管力を駆動力とするパッシブポンプを備えるフローセルの流路基板をPDMSだけで実現することは難しいことは明らかである。このため、PDMS表面に試薬を塗布し親水性にすることが行われるが、時間と共に親水性が失われていくといった問題点があった。このため、PDMS自体に改質剤を添加し、PDMS自体を親水性にしてフローセルを作製した研究が行われている(非特許文献2参照)。   From this, it is clear that it is difficult to realize a flow path substrate of a flow cell including a passive pump that uses a capillary force as a driving force only by PDMS. For this reason, a reagent is applied to the PDMS surface to make it hydrophilic, but there is a problem that the hydrophilicity is lost with time. For this reason, studies have been conducted in which a flow cell is produced by adding a modifier to PDMS itself to make PDMS itself hydrophilic (see Non-Patent Document 2).

WO 2009/088021WO 2009/088021 WO 2009/145172WO 2009/145172

Glenn M. Walker and David J. Beebe, "A passive pumping method for microfluidic devices", Lab Chip ,vol.2 ,pp.131-134, 2002.Glenn M. Walker and David J. Beebe, "A passive pumping method for microfluidic devices", Lab Chip, vol.2, pp.131-134, 2002. YuChang Kima, Seung-Hoon Kimb, Duckjong Kima, Sang-Jin Parka, Je-Kyun Parkb, "Plasma extraction in a capillary-driven microfluidic device using surfactant-added poly (dimethylsiloxane)", Sens. Actuators B, vol.145, pp.861-868, 2010.YuChang Kima, Seung-Hoon Kimb, Duckjong Kima, Sang-Jin Parka, Je-Kyun Parkb, "Plasma extraction in a capillary-driven microfluidic device using surfactant-added poly (dimethylsiloxane)", Sens. Actuators B, vol.145, pp.861-868, 2010.

しかしながら、PDMS自体を親水化すると、流路の近傍において、支持基板と流路基板との間に微細な不純物粒子などを原因とする僅かな隙間があると、この隙間に流路から水溶液が漏れだしてしまうといった問題点があった。これは、支持基板の表面および流路基板の表面の両方が親水性のため、微小な間隙を水溶液が侵入しやすいためである。このような状態では、隣接する流路間で溶液が混合する可能性がある。このため、上述した技術では、1つのフローセル内に多数の微細な流路を集積して配置することができず、例えば、高度な溶液処理を必要とする分析や多重測定への応用が困難であるという問題がある。   However, when the PDMS itself is hydrophilized, if there is a slight gap between the support substrate and the flow path substrate due to fine impurity particles in the vicinity of the flow path, the aqueous solution leaks from the flow path to this gap. There was a problem of getting out. This is because both the surface of the support substrate and the surface of the flow path substrate are hydrophilic, so that the aqueous solution can easily enter the minute gap. In such a state, the solution may be mixed between adjacent flow paths. For this reason, in the above-described technique, a large number of fine flow paths cannot be integrated and arranged in one flow cell, and for example, it is difficult to apply to analysis and multiplex measurement that require advanced solution processing. There is a problem that there is.

本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、ポリジメチルシロキサンを材料としたフローセルにおいて、流路からの液漏れが抑制できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to make it possible to suppress liquid leakage from a flow path in a flow cell made of polydimethylsiloxane.

本発明に係るフローセルは、親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部と、疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部と、接着面形成部が溝形成部を覆う状態に形成されて溝形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板と、ポリジメチルシロキサンの自己接着力により流路基板の接着面に接着された支持基板と、流路基板の支持基板との接着面の側に形成された溝からなる流路とを少なくとも備え、流路基板の支持基板との接着面は疎水性とされ、流路は親水性とされている。
また、本発明に係るフローセルは、親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部と、疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部と、接着面形成部以外に溝形成部が配置されて接着面形成部を覆う状態に溝形成部が形成され、溝形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板と、ポリジメチルシロキサンの自己接着力により流路基板の接着面に接着された支持基板と、流路基板の支持基板との接着面の側に形成された溝からなる流路とを少なくとも備え、流路基板の支持基板との接着面は疎水性とされ、流路は親水性とされている。
The flow cell according to the present invention includes a groove forming portion including a groove formed of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path, an adhesive surface forming portion formed of hydrophobic polydimethylsiloxane and having an adhesive surface, The surface forming portion is formed so as to cover the groove forming portion, and the groove forming portion and the bonding surface forming portion are integrated with each other, and the self-adhesive force of polydimethylsiloxane is adhered to the adhesive surface of the flow path substrate. A support substrate and at least a flow path including a groove formed on a side of the flow path substrate that is bonded to the support substrate. The flow path substrate is bonded to the support substrate with a hydrophobic surface, and the flow path is hydrophilic. It is considered sex.
In addition, the flow cell according to the present invention includes a groove forming portion including a groove formed of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path, and an adhesive surface forming portion formed of hydrophobic polydimethylsiloxane and having an adhesive surface. A flow path substrate in which a groove forming part is formed in a state where the groove forming part is disposed in addition to the adhesive surface forming part and covers the adhesive surface forming part, and the groove forming part and the adhesive surface forming part are integrated; and polydimethylsiloxane A support substrate that is bonded to the bonding surface of the flow path substrate by the self-adhesive force and a flow path that is formed by a groove formed on the bonding surface side of the flow path substrate with the support substrate. The adhesion surface with the substrate is hydrophobic, and the flow path is hydrophilic.

上記フローセルにおいて、流路に沿って流路の脇の流路基板の支持基板との接着面側に形成された流路より小さな側溝を備えるようにしてもよい。   The flow cell may be provided with a side groove smaller than the flow path formed along the flow path on the adhesion surface side of the flow path substrate on the side of the flow path with the support substrate.

また、本発明に係るフローセルの製造方法は、親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部を形成する溝形成部形成工程と、疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部を形成する接着面形成工程と、溝形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板の接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着して溝による流路を形成する接着工程とを少なくとも備え、溝形成部を形成した後で、溝形成部を覆う状態に接着面形成部を形成し、溝形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板とする。 In addition, the flow cell manufacturing method according to the present invention includes a groove forming portion forming step for forming a groove forming portion including a groove that is made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serves as a flow path, and a hydrophobic polydimethylsiloxane. The adhesive surface forming step of forming an adhesive surface forming portion having an adhesive surface, and the adhesive surface of the flow path substrate in which the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are integrated into the support substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane. An adhesion step of forming a flow path by a groove by bonding, and after forming the groove forming portion, the adhesive surface forming portion is formed so as to cover the groove forming portion, and the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are shall be the channel substrate is integrated.

また、本発明に係るフローセルの製造方法は、親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部を形成する溝形成部形成工程と、疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部を形成する接着面形成工程と、溝形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板の接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着して溝による流路を形成する接着工程とを少なくとも備え、接着面形成部を形成した後で、接着面形成部以外に溝形成部が配置されて接着面形成部を覆う状態に溝形成部を形成し、形成部および接着面形成部が一体とされた流路基板とする In addition, the flow cell manufacturing method according to the present invention includes a groove forming portion forming step for forming a groove forming portion including a groove that is made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serves as a flow path, and a hydrophobic polydimethylsiloxane. The adhesive surface forming step of forming an adhesive surface forming portion having an adhesive surface, and the adhesive surface of the flow path substrate in which the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are integrated into the support substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane. A bonding step of forming a flow path by a groove by bonding, and forming the bonding surface forming portion, and then forming the groove so that the groove forming portion is arranged in addition to the bonding surface forming portion to cover the bonding surface forming portion part is formed, the groove forming portion and the adhesive surface forming portion is a channel substrate which has been integrated.

上記フローセルの製造方法において、ポリジメチルシロキサンから構成されて溝形成部の脇に形成された溝形成部より小さな側溝を形成する側溝形成工程を備え、接着工程では、溝形成部,側溝,および接着面形成部が一体とされた流路基板の接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着してもよい。   The flow cell manufacturing method includes a side groove forming step of forming a side groove smaller than a groove forming portion made of polydimethylsiloxane and formed on the side of the groove forming portion. In the bonding step, the groove forming portion, the side groove, and the bonding You may adhere | attach the adhesion surface of the flow-path board | substrate with which the surface formation part was united with a support substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane.

以上説明したことにより、本発明によれば、ポリジメチルシロキサンを材料としたフローセルにおいて、流路からの液漏れが抑制できるようになるという優れた効果が得られる。   As described above, according to the present invention, in the flow cell using polydimethylsiloxane as a material, an excellent effect that liquid leakage from the flow path can be suppressed can be obtained.

図1Aは、本発明の実施の形態1におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining a method of manufacturing a flow cell in the first embodiment of the present invention. 図1Bは、本発明の実施の形態1におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 1B is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention. 図1Cは、本発明の実施の形態1におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 1C is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention. 図1Dは、本発明の実施の形態1におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 1D is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention. 図2は、本発明の実施の形態1におけるフローセルの概略的な構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a schematic configuration of the flow cell according to Embodiment 1 of the present invention. 図3は、本発明の実施の形態1におけるフローセルによる液漏れ防止について説明する説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining prevention of liquid leakage by the flow cell according to Embodiment 1 of the present invention. 図4Aは、本発明の実施の形態2におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 4A is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 2 of the present invention. 図4Bは、本発明の実施の形態2におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method in Embodiment 2 of the present invention. 図4Cは、本発明の実施の形態2におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 4C is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method in Embodiment 2 of the present invention. 図4Dは、本発明の実施の形態2におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 4D is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for illustrating the method of manufacturing the flow cell in the second embodiment of the present invention. 図5Aは、本発明の実施の形態3におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention. 図5Bは、本発明の実施の形態3におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 5B is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention. 図5Cは、本発明の実施の形態3におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 5C is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention. 図5Dは、本発明の実施の形態3におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 5D is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for illustrating the method of manufacturing the flow cell in the third embodiment of the present invention. 図6Aは、本発明の実施の形態4におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 6A is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 4 of the present invention. 図6Bは、本発明の実施の形態4におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 6B is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 4 of the present invention. 図6Cは、本発明の実施の形態4におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 6C is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method in Embodiment 4 of the present invention. 図6Dは、本発明の実施の形態4におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 6D is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for illustrating the flow cell manufacturing method according to Embodiment 4 of the present invention. 図7Aは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining a method of manufacturing a flow cell in the fifth embodiment of the present invention. 図7Bは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7B is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 5 of the present invention. 図7Cは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7C is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 5 of the present invention. 図7Dは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7D is a cross sectional view schematically showing a state in each step for illustrating the method for manufacturing the flow cell in the fifth embodiment of the present invention. 図7Eは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7E is a cross-sectional view schematically showing a state in each step for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 5 of the present invention. 図7Fは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。FIG. 7F is a cross sectional view schematically showing a state in each step for illustrating the method for manufacturing the flow cell in the fifth embodiment of the present invention. 図7Gは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの一部構成を示す斜視図である。FIG. 7G is a perspective view showing a partial configuration of the flow cell according to Embodiment 5 of the present invention.

以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[実施の形態1]
はじめに、本発明の実施の形態1について、図1A〜図1Dを用いて説明する。図1A〜図1Dは、本発明の実施の形態1におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 1]
First, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 1D. 1A to 1D are cross-sectional views schematically showing states in respective steps for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention.

まず、図1Aに示すように、型基板101および型枠102からなる型を用意し、型基板101の型枠102内に流路型103を形成する。型基板101は、例えば、シリコンウエハである。また、流路型103は、公知のフォトリソグラフィ技術により形成したレジストパターンであればよい。   First, as shown in FIG. 1A, a mold including a mold substrate 101 and a mold frame 102 is prepared, and a flow path mold 103 is formed in the mold frame 102 of the mold substrate 101. The mold substrate 101 is, for example, a silicon wafer. The flow path mold 103 may be a resist pattern formed by a known photolithography technique.

例えば、まず、濃硫酸(濃度約98wt%)と過酸化水素水(濃度30wt%)とを混合した洗浄液にシリコンウエハである型基板101を30分程度浸漬することなどにより洗浄し、水洗の後、200℃・20分の加熱乾燥処理をする。次いで、型基板101の上に、ネガ型のフォトレジストを塗布する。フォトレジストは、例えば、化薬マイクロケム株式会社製の「SU−8」であればよい。このフォトレジストをスピンコート法により塗布し、65℃・30分、引き続き、95℃・270分の条件でプリベークをした後、流路となる溝形成部形成のためのパターンを露光する。この後、90℃・90分の加熱処理をした後、現像液を用いて現像し、イソプロピルアルコール・アセトンでリンスを行い、流路型103を形成する。このようにして流路型103を形成した後、型枠102を形成する。   For example, first, the mold substrate 101, which is a silicon wafer, is immersed in a cleaning solution in which concentrated sulfuric acid (concentration of about 98 wt%) and hydrogen peroxide water (concentration of 30 wt%) are mixed, for about 30 minutes. Heat drying at 200 ° C. for 20 minutes. Next, a negative photoresist is applied on the mold substrate 101. The photoresist may be “SU-8” manufactured by Kayaku Microchem Corporation. This photoresist is applied by spin coating, pre-baked at 65 ° C. for 30 minutes, and subsequently at 95 ° C. for 270 minutes, and then exposed to a pattern for forming a groove forming portion serving as a flow path. Thereafter, after heat treatment at 90 ° C. for 90 minutes, development is performed using a developer, and rinsing with isopropyl alcohol / acetone is performed to form the flow path mold 103. After forming the flow path mold 103 in this way, the mold 102 is formed.

次に、図1Bに示すように、流路型103の上面および側面を覆う状態に親水性のポリジメチルシロキサン(PDMS)の膜を形成(塗布)して溝形成部104を形成する。親水性PDMSは固化前の疎水性PDMSにポリエーテル変性シリコーンであるトリシロキサンエトキシレート(SILWET L−77)を重量比で1パーセント添加し、減圧脱泡したものである。固化前の疎水性PDMSは、PDMSのベース(SYLGARD 184)と重合開始剤とを10:1で混合し減圧脱泡したものである。   Next, as shown in FIG. 1B, a film of hydrophilic polydimethylsiloxane (PDMS) is formed (applied) so as to cover the upper surface and side surfaces of the flow path mold 103 to form the groove forming portion 104. Hydrophilic PDMS is obtained by adding 1 percent by weight of trisiloxane ethoxylate (SILWET L-77), which is a polyether-modified silicone, to hydrophobic PDMS before solidification and degassing under reduced pressure. The hydrophobic PDMS before solidification is obtained by mixing a PDMS base (SYLGARD 184) and a polymerization initiator at a ratio of 10: 1 and degassing under reduced pressure.

溝形成部104の形成は、例えば、上記親水性PDMSをマイクロディスペンサで流路型103を覆うように塗布することで形成すればよい。また、刷毛などを用い流路型103を覆うように上記親水性PDMSを塗布することで、溝形成部104を形成してもよい。また、凹版印刷,凸版印刷,平版印刷,孔版印刷技術により、流路型103の箇所に選択的に親水性PDMSのパターンを形成することで、溝形成部104を形成してもよい。親水性PDMSを塗布した後、80℃・120分の加熱条件で加熱して硬化(固化)する。   The groove forming part 104 may be formed, for example, by applying the hydrophilic PDMS so as to cover the flow path mold 103 with a microdispenser. Alternatively, the groove forming portion 104 may be formed by applying the hydrophilic PDMS so as to cover the flow path mold 103 using a brush or the like. Alternatively, the groove forming portion 104 may be formed by selectively forming a hydrophilic PDMS pattern at a location of the flow path mold 103 by intaglio printing, letterpress printing, planographic printing, or stencil printing technology. After applying hydrophilic PDMS, it is cured (solidified) by heating at 80 ° C. for 120 minutes.

次に、図1Cに示すように、型枠102の内側に疎水性PDMSを充填して硬化し、接着面形成部105を形成する。疎水性PDMSは、PDMSのベース(SYLGARD 184)と重合開始剤とを10:1で混合し減圧脱泡したものである。充填した後、80℃・120分の加熱条件により熱硬化すればよい。これらのことにより、溝形成部104と接着面形成部105とが一体に成型された状態となる。   Next, as shown in FIG. 1C, the inside of the mold 102 is filled with hydrophobic PDMS and cured to form an adhesive surface forming portion 105. Hydrophobic PDMS is obtained by mixing PDMS base (SYLGARD 184) and a polymerization initiator at 10: 1 and degassing under reduced pressure. After filling, heat curing may be performed under heating conditions of 80 ° C. for 120 minutes. As a result, the groove forming portion 104 and the bonding surface forming portion 105 are integrally molded.

次に、一体に成型された溝形成部104および接着面形成部105からなる流路基板を型基板101および型枠102からなる型より離型し、図1Dに示すように、離型した流路基板111の接着面を支持基板112に接着する。流路基板111の溝形成部104が形成されて溝形成部104の開口領域が配置されている側の面が、接着面である。この接着面を支持基板112の上に載置すれば、PDMSの自己接着力により接着する。このように両者を接着することで、溝形成部104の開口領域が支持基板112により閉じられ、図2の斜視図にも示すように、溝形成部104の溝による流路106が形成される。なお、支持基板112は、PDMSの自己接着力により接着可能な材料から構成されていればよい。   Next, the flow path substrate composed of the integrally formed groove forming portion 104 and the adhesive surface forming portion 105 is separated from the mold composed of the mold substrate 101 and the mold frame 102, and the separated flow is formed as shown in FIG. 1D. The bonding surface of the road substrate 111 is bonded to the support substrate 112. The surface on the side where the groove forming portion 104 of the flow path substrate 111 is formed and the opening region of the groove forming portion 104 is disposed is an adhesive surface. If this adhesion surface is placed on the support substrate 112, it adheres by the self-adhesive force of PDMS. By bonding the two in this way, the opening region of the groove forming portion 104 is closed by the support substrate 112, and as shown in the perspective view of FIG. . Note that the support substrate 112 may be made of a material that can be bonded by the self-adhesive force of PDMS.

実施の形態1により製造されたフローセルは、PDMSから構成された流路基板111と、PDMSの自己接着力により流路基板111に接着された支持基板112と、流路基板111の支持基板112との接着面の側に形成された溝からなる流路106とを少なくとも備えたものとなる。また、このフローセルは、流路基板111の支持基板112との接着面は、疎水性PDMSから形成した接着面形成部105から構成され、疎水性とされており、流路106は親水性PDMSから形成した溝形成部104より構成され、親水性とされていることになる。   The flow cell manufactured according to the first embodiment includes a flow path substrate 111 made of PDMS, a support substrate 112 bonded to the flow path substrate 111 by the self-adhesive force of PDMS, and a support substrate 112 of the flow path substrate 111. And at least a flow path 106 made of a groove formed on the bonding surface side. Further, in this flow cell, the adhesion surface of the flow path substrate 111 to the support substrate 112 is composed of an adhesion surface forming portion 105 formed of hydrophobic PDMS, and is made hydrophobic, and the flow path 106 is made of hydrophilic PDMS. It is comprised from the formed groove formation part 104, and is made hydrophilic.

このフローセルは、例えば、予め、支持基板112の流路106となる箇所にバイオ材料を固定しておけば、バイオセンサとして用いることができる。流路106の内側面は親水性PDMSであるため、流路106の一端に供給される水溶液は、毛細管力により自発的に流路106を流れるようになる。   This flow cell can be used as a biosensor if, for example, a biomaterial is fixed in advance to a location that becomes the flow path 106 of the support substrate 112. Since the inner surface of the channel 106 is hydrophilic PDMS, the aqueous solution supplied to one end of the channel 106 spontaneously flows through the channel 106 by capillary force.

一方、支持基板112に密着する接着面は、疎水性のPDMSから形成した接着面形成部105であるため、流路106からの液漏れが抑制できるようになる。この点について説明すると、まず、図3の(a)の断面図に示すように、親水性PDMSから形成した流路基板305を支持基板312に貼り合わせている場合について説明する。この状態では、微粒子の混入や、製造プロセスの不具合などで生じた微小間隙が形成されると、拡大した図3の(a’)にも示すように、微小間隙の両面が親水性のため、流路306内の水溶液は通常の毛細管力により、微小間隙内を進行する。これが流路306からの液漏れの原因となり、複数の流路が接近している場合、液体が混合してしまう。   On the other hand, since the adhesive surface that is in close contact with the support substrate 112 is the adhesive surface forming portion 105 formed from hydrophobic PDMS, liquid leakage from the flow path 106 can be suppressed. This point will be described. First, a case where a flow path substrate 305 formed of hydrophilic PDMS is bonded to a support substrate 312 as shown in the sectional view of FIG. In this state, when a minute gap generated due to mixing of fine particles or a defect in the manufacturing process is formed, both sides of the minute gap are hydrophilic, as shown in the enlarged (a ′) of FIG. The aqueous solution in the channel 306 travels in the minute gap by a normal capillary force. This causes liquid leakage from the flow path 306, and when a plurality of flow paths are approaching, the liquid is mixed.

次に、図3の(b)の断面図に示すように、親水性PDMSから形成した流路基板111を支持基板112に貼り合わせている実施の形態1の場合について説明する。上述同様に、微粒子の混入や、製造プロセスの不具合などで生じた微小間隙が形成されると、拡大した図3の(b’)にも示すように、微小間隙の流路基板111(接着面形成部105)の面は、疎水性であるため、メニスカスの接触角は鈍角となる。十分大きな鈍角の接触角が得られれば、微小間隔の中に水溶液が進行することがない。この結果、上述したように微小間隔が形成されても、流路106からの液漏れが抑制されるようになる。このため、実施の形態1によれば、複数の微細な流路106を接近して配置することが可能になり、高度な集積化が可能となる。   Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 3B, the case of Embodiment 1 in which the flow path substrate 111 formed of hydrophilic PDMS is bonded to the support substrate 112 will be described. As described above, when a minute gap caused by mixing of fine particles or a defect in the manufacturing process is formed, as shown in the enlarged (b ′) of FIG. Since the surface of the forming portion 105) is hydrophobic, the contact angle of the meniscus becomes an obtuse angle. If a sufficiently large obtuse angle of contact is obtained, the aqueous solution will not advance in a minute interval. As a result, even if the minute interval is formed as described above, liquid leakage from the flow path 106 is suppressed. For this reason, according to the first embodiment, it is possible to arrange a plurality of fine flow paths 106 close to each other, and a high degree of integration is possible.

ところで、上述した実施の形態1では、溝形成部104の形成と接着面形成部105の形成とを異なる工程で行い、親水性PDMSと疎水性PDMSとが互いに混じり合わない状態としたが、集積度が低くある程度の混合が許容される場合には、これらを同時に硬化することも可能である。   By the way, in the first embodiment described above, the formation of the groove forming portion 104 and the formation of the adhesive surface forming portion 105 are performed in different steps so that hydrophilic PDMS and hydrophobic PDMS are not mixed with each other. If the degree of mixing is low and some mixing is allowed, they can be cured simultaneously.

また、図1Aで説明した流路型103に、部分的に厚い箇所を設けることで、接着面形成部105を貫通する部分(貫通孔)が形成できる。このような貫通孔を設けることで、この部分を表面張力ポンプとして利用することができる。上述した貫通孔においては、貫通孔側壁が親水性PDMSで被覆された状態になるため、貫通孔および流路106にかけては親水性の状態であり、試料となる溶液の液滴を、流路基板111(接着面形成部105)の上より貫通孔の部分に滴下すれば、溶液は、毛細管現象により親水性の貫通孔を流れて流路106内に到達し、流路106内を溶液で満たすことができる。このようにすることで、ピペットなどを用いて外部から加圧して導入する必要がない。   Further, by providing a thick part in the flow path mold 103 described with reference to FIG. 1A, a portion (through hole) that penetrates the adhesive surface forming portion 105 can be formed. By providing such a through hole, this portion can be used as a surface tension pump. In the above-described through-hole, the side wall of the through-hole is covered with hydrophilic PDMS. Therefore, the through-hole and the channel 106 are in a hydrophilic state. If the solution is dropped onto the through-hole portion from above 111 (adhesive surface forming portion 105), the solution flows through the hydrophilic through-hole by capillary action to reach the flow channel 106, and fills the flow channel 106 with the solution. be able to. By doing in this way, it is not necessary to pressurize and introduce from the outside using a pipette or the like.

また、上述した貫通孔を、流路106の両端に各々接続して形成すれば、一端から他端にかけて送液することができる。接着面形成部105の上面は疎水性であるため、一方の貫通孔には大きな液滴を滴下し、他方の貫通孔には小さな液滴を滴下すれば、表面張力の差により、流路106内を小さな液滴側から、大きな液滴側に送液することができる(非特許文献1参照)。   In addition, if the above-described through holes are connected to both ends of the flow path 106, liquid can be fed from one end to the other end. Since the upper surface of the bonding surface forming portion 105 is hydrophobic, if a large droplet is dropped into one through hole and a small droplet is dropped into the other through hole, the flow path 106 is caused by the difference in surface tension. The inside can be fed from the small droplet side to the large droplet side (see Non-Patent Document 1).

[実施の形態2]
次に、本発明の実施の形態2について図4A〜図4Dを用いて説明する。図4A〜図4Dは、本発明の実施の形態2におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 2]
Next, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4D. 4A to 4D are cross-sectional views schematically showing states in respective steps for explaining the method of manufacturing the flow cell in the second embodiment of the present invention.

まず、図4Aに示すように、型基板401および型枠402からなる型を用意し、型基板401の型枠402内に流路型403を形成する。型基板401は、例えば、シリコンウエハである。また、流路型403は、公知のフォトリソグラフィ技術により形成したレジストパターンであればよい。   First, as illustrated in FIG. 4A, a mold including a mold substrate 401 and a mold frame 402 is prepared, and a flow path mold 403 is formed in the mold frame 402 of the mold substrate 401. The mold substrate 401 is, for example, a silicon wafer. The flow path mold 403 may be a resist pattern formed by a known photolithography technique.

例えば、まず、前述した実施の形態1と同様に、濃硫酸と過酸化水素水とを混合した洗浄液にシリコンウエハである型基板401を30分程度浸漬することなどにより洗浄し、水洗の後、200℃・20分の加熱乾燥処理をする。次いで、型基板401の上に、ネガ型のフォトレジストを塗布する。引き続き、所定の加熱条件でプリベークをした後、流路となる溝形成部形成のためのパターンを露光する。この後、所定の加熱処理をした後、現像処理・リンス処理を行い、流路型403を形成する。このようにして流路型403を形成した後、型枠402を形成する。   For example, as in the first embodiment described above, first, the mold substrate 401, which is a silicon wafer, is cleaned by immersing it in a cleaning solution in which concentrated sulfuric acid and hydrogen peroxide water are mixed for about 30 minutes. Heat drying at 200 ° C for 20 minutes. Next, a negative photoresist is applied on the mold substrate 401. Subsequently, after pre-baking under predetermined heating conditions, a pattern for forming a groove forming portion to be a flow path is exposed. Thereafter, after performing a predetermined heat treatment, a developing process and a rinsing process are performed to form the flow path mold 403. After forming the flow path mold 403 in this way, the mold 402 is formed.

次に、流路型403が形成されずに露出している型枠402内側の型基板401の上に、図4Bに示すように、疎水性PDMSの膜を形成(塗布)して接着面形成部404を形成する。例えば、疎水性PDMSをマイクロディスペンサで流路型403が形成されていない型基板401の表面を覆うように塗布することで形成すればよい。また、刷毛などを用い流路型403が形成されていない型基板401の表面を覆うように疎水性PDMSを塗布することで、接着面形成部404を形成してもよい。また、凹版印刷,凸版印刷,平版印刷,孔版印刷技術により、流路型403が形成されていない型基板401の表面に選択的に疎水性PDMSのパターンを形成することで、接着面形成部404を形成してもよい。疎水性PDMSを塗布した後、80℃・120分の加熱条件で加熱して硬化する。   Next, as shown in FIG. 4B, a hydrophobic PDMS film is formed (applied) on the mold substrate 401 inside the mold 402 exposed without forming the flow path mold 403, thereby forming an adhesive surface. A portion 404 is formed. For example, hydrophobic PDMS may be formed by coating with a microdispenser so as to cover the surface of the mold substrate 401 on which the flow path mold 403 is not formed. Alternatively, the adhesive surface forming portion 404 may be formed by applying hydrophobic PDMS using a brush or the like so as to cover the surface of the mold substrate 401 on which the flow channel mold 403 is not formed. Further, the adhesive surface forming portion 404 is formed by selectively forming a pattern of hydrophobic PDMS on the surface of the mold substrate 401 on which the flow path mold 403 is not formed by intaglio printing, relief printing, lithographic printing, and stencil printing technology. May be formed. After applying hydrophobic PDMS, it is cured by heating at 80 ° C. for 120 minutes.

次に、図4Cに示すように、型枠402の内側に親水性PDMSを充填して硬化し、溝形成部405を形成する。溝形成部405には、流路型403による溝が形成される。なお、疎水性PDMSおよび親水性PDMSは、前述した実施の形態1と同様である。充填した後、80℃・120分の加熱条件により熱硬化すればよい。これらのことにより、接着面形成部404と溝形成部405とが一体に成型された状態となる。   Next, as shown in FIG. 4C, hydrophilic PDMS is filled inside the mold 402 and cured to form a groove forming portion 405. In the groove forming portion 405, a groove formed by the flow path mold 403 is formed. Hydrophobic PDMS and hydrophilic PDMS are the same as those in the first embodiment. After filling, heat curing may be performed under heating conditions of 80 ° C. for 120 minutes. As a result, the bonding surface forming portion 404 and the groove forming portion 405 are integrally molded.

次に、一体に成型された接着面形成部404および溝形成部405からなる流路基板を型基板401および型枠402からなる型より離型し、図4Dに示すように、離型した流路基板411の接着面を支持基板412に接着する。流路基板411の接着面形成部404が形成されている領域が、接着面である。この接着面の側に、溝形成部405に形成されている溝が開口している。この接着面を支持基板412の上に載置すれば、PDMSの自己接着力により接着する。このように両者を接着することで、溝形成部405に形成されている溝の開口領域が支持基板412により閉じられ、溝形成部405の溝による流路406が形成される。   Next, the flow path substrate composed of the integrally formed adhesive surface forming portion 404 and groove forming portion 405 is released from the mold consisting of the mold substrate 401 and the mold frame 402, and as shown in FIG. The bonding surface of the road substrate 411 is bonded to the support substrate 412. A region where the adhesion surface forming portion 404 of the flow path substrate 411 is formed is an adhesion surface. Grooves formed in the groove forming portion 405 are opened on the side of the bonding surface. When this adhesion surface is placed on the support substrate 412, adhesion is achieved by the self-adhesion force of PDMS. By bonding the two in this manner, the opening area of the groove formed in the groove forming portion 405 is closed by the support substrate 412, and the flow path 406 is formed by the groove of the groove forming portion 405.

実施の形態2により製造されたフローセルは、PDMSから構成された流路基板411と、PDMSの自己接着力により流路基板411に接着された支持基板412と、流路基板411の支持基板412との接着面の側に形成された溝からなる流路406とを少なくとも備えたものとなる。また、このフローセルは、流路基板411の支持基板412との接着面は、疎水性PDMSから形成した接着面形成部404であり、疎水性とされており、流路406は親水性PDMSから形成した溝形成部405から構成され、親水性とされていることになる。   The flow cell manufactured according to Embodiment 2 includes a flow path substrate 411 made of PDMS, a support substrate 412 bonded to the flow path substrate 411 by the self-adhesive force of PDMS, and a support substrate 412 of the flow path substrate 411. And at least a flow path 406 made of a groove formed on the bonding surface side. In this flow cell, the adhesive surface of the flow path substrate 411 and the support substrate 412 is an adhesive surface forming portion 404 formed from hydrophobic PDMS, and the flow path 406 is formed from hydrophilic PDMS. The groove forming portion 405 is made hydrophilic.

このフローセルは、例えば、予め、支持基板412の流路406となる箇所にバイオ材料を固定しておけば、バイオセンサとして用いることができる。流路406の内側面は親水性PDMSであるため、流路406の一端に供給される水溶液は、毛細管力により自発的に流路406を流れるようになる。   This flow cell can be used as a biosensor if, for example, a biomaterial is fixed in advance at a location that becomes the flow path 406 of the support substrate 412. Since the inner surface of the channel 406 is hydrophilic PDMS, the aqueous solution supplied to one end of the channel 406 spontaneously flows through the channel 406 by capillary force.

一方、支持基板412に密着する接着面は、疎水性のPDMSから形成した接着面形成部404であるため、支持基板412と接着面形成部404との密着面に微粒子などによる微小間隙が形成され、これが流路406の一端まで届いていたとしても、水溶液はこの間隙には入っていくことはできず、液漏れを起こすことはない。このため、実施の形態2においても、複数の微細な流路406を接近して配置することが可能になり、高度な集積化が可能となる。   On the other hand, since the adhesive surface that is in close contact with the support substrate 412 is the adhesive surface forming portion 404 formed of hydrophobic PDMS, a minute gap due to fine particles or the like is formed on the adhesive surface between the support substrate 412 and the adhesive surface forming portion 404. Even if this reaches one end of the flow path 406, the aqueous solution cannot enter the gap and does not cause liquid leakage. For this reason, also in Embodiment 2, it becomes possible to arrange a plurality of fine flow paths 406 close to each other, and a high degree of integration is possible.

また、実施の形態2においても、接着面形成部404の形成と溝形成部405の形成とを異なる工程で行い、親水性PDMSと疎水性PDMSとが互いに混じり合わない状態としたが、集積度が低くある程度の混合が許容される場合には、これらを同時に硬化することも可能である。   Also in the second embodiment, the formation of the adhesive surface formation portion 404 and the formation of the groove formation portion 405 are performed in different steps so that hydrophilic PDMS and hydrophobic PDMS are not mixed with each other. If they are low and some mixing is allowed, they can be cured simultaneously.

[実施の形態3]
次に、本発明の実施の形態3について、図5A〜図5Dを用いて説明する。図5A〜図5Dは、本発明の実施の形態3におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 3]
Next, Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIGS. 5A to 5D. 5A to 5D are cross-sectional views schematically showing states in respective steps for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 3 of the present invention.

まず、図5Aに示すように、型基板501および型枠502からなる型を用意し、型基板501の型枠502内に流路型503および側溝型513を形成する。側溝型513は、流路型503の両側部(両脇)に形成され、流路型503と同様に延在している。また、側溝型513は、断面形状が流路型503より小さく形成されている。流路型503は、2つの側溝型513に挟まれて設けられている。なお、型基板501は、例えば、シリコンウエハである。また、流路型503および側溝型513は、公知のフォトリソグラフィ技術により形成したレジストパターンであればよい。   First, as shown in FIG. 5A, a mold including a mold substrate 501 and a mold frame 502 is prepared, and a flow path mold 503 and a side groove mold 513 are formed in the mold frame 502 of the mold substrate 501. The side groove mold 513 is formed on both sides (both sides) of the flow path mold 503 and extends in the same manner as the flow path mold 503. Further, the side groove mold 513 has a cross-sectional shape smaller than that of the flow path mold 503. The flow path mold 503 is provided between two side groove molds 513. The mold substrate 501 is, for example, a silicon wafer. The flow path mold 503 and the side groove mold 513 may be a resist pattern formed by a known photolithography technique.

例えば、まず、濃硫酸と過酸化水素水とを混合した洗浄液にシリコンウエハである型基板501を30分程度浸漬することなどにより洗浄し、水洗の後、乾燥処理をする。次いで、型基板501の上に、ネガ型のフォトレジストを塗布する。このフォトレジストをスピンコート法により塗布し、所定の温度条件でプリベークをした後、流路となる溝形成部形成のためのパターンを露光する。この後、所定の温度条件で加熱処理をした後、現像・リンスを行い、流路型503および側溝型513を形成する。このようにして流路型503および側溝型513を形成した後、型枠502を形成する。   For example, the mold substrate 501 that is a silicon wafer is first immersed in a cleaning solution in which concentrated sulfuric acid and hydrogen peroxide water are mixed for about 30 minutes, and then washed with water and then dried. Next, a negative photoresist is applied on the mold substrate 501. This photoresist is applied by spin coating, pre-baked at a predetermined temperature condition, and then exposed to a pattern for forming a groove forming portion that becomes a flow path. Thereafter, after heat treatment under a predetermined temperature condition, development and rinsing are performed, and the flow path mold 503 and the side groove mold 513 are formed. After forming the flow path mold 503 and the side groove mold 513 in this way, the mold 502 is formed.

次に、図5Bに示すように、流路型503の上面および側面を覆う状態に親水性のPDMSの膜を形成(塗布)して溝形成部504を形成する。例えば、上記親水性PDMSをマイクロディスペンサで流路型503を覆うように塗布することで、溝形成部504を形成すればよい。また、刷毛などを用い流路型503を覆うように親水性PDMSを塗布することで、溝形成部504を形成してもよい。また、凹版印刷,凸版印刷,平版印刷,孔版印刷技術により、流路型503の箇所に選択的に親水性PDMSのパターンを形成することで、溝形成部504を形成してもよい。親水性PDMSを塗布した後、80℃・120分の加熱条件で加熱して硬化(固化)する。ここで、溝形成部504が、側溝型513を覆わないように形成する。溝形成部504と側溝型503との間に、ある程度の間隙があってもよい。   Next, as shown in FIG. 5B, a grooved portion 504 is formed by forming (applying) a hydrophilic PDMS film so as to cover the upper surface and side surfaces of the flow path mold 503. For example, the groove forming portion 504 may be formed by applying the hydrophilic PDMS so as to cover the flow path mold 503 with a microdispenser. Alternatively, the groove forming portion 504 may be formed by applying hydrophilic PDMS so as to cover the flow path mold 503 using a brush or the like. Alternatively, the groove forming portion 504 may be formed by selectively forming a hydrophilic PDMS pattern at the location of the flow path mold 503 by intaglio printing, letterpress printing, planographic printing, or stencil printing technology. After applying hydrophilic PDMS, it is cured (solidified) by heating at 80 ° C. for 120 minutes. Here, the groove forming portion 504 is formed so as not to cover the side groove mold 513. There may be a certain amount of gap between the groove forming portion 504 and the side groove mold 503.

次に、図5Cに示すように、型枠502の内側に疎水性PDMSを充填して硬化し、接着面形成部505を形成する。充填した後、80℃・120分の加熱条件により熱硬化すればよい。これらのことにより、溝形成部504と接着面形成部505とが一体に成型された状態となる。また、実施の形態3では、接着面形成部505に、側溝型503による側溝が形成された状態となる。   Next, as shown in FIG. 5C, hydrophobic PDMS is filled inside the mold 502 and cured to form an adhesive surface forming portion 505. After filling, heat curing may be performed under heating conditions of 80 ° C. for 120 minutes. As a result, the groove forming portion 504 and the bonding surface forming portion 505 are integrally molded. Further, in the third embodiment, a side groove by the side groove mold 503 is formed in the bonding surface forming portion 505.

次に、一体に成型された溝形成部504および接着面形成部505からなる流路基板を型基板501および型枠502からなる型より離型し、図5Dに示すように、離型した流路基板511の接着面を支持基板512に接着する。流路基板511の溝形成部504が形成されて溝形成部504の開口領域が配置されている側の面が、接着面である。この接着面を支持基板512の上に載置すれば、PDMSの自己接着力により接着する。このように両者を接着することで、溝形成部504の開口領域が支持基板512により閉じられ、溝形成部504の溝による流路506が形成される。また、流路506の両脇には、接着面形成部505に設けられた側溝516が形成される。側溝516の内側面などは、疎水性となる。   Next, the flow path substrate made up of the integrally formed groove forming portion 504 and the adhesive surface forming portion 505 is released from the mold made up of the mold substrate 501 and the mold frame 502, and as shown in FIG. The bonding surface of the road substrate 511 is bonded to the support substrate 512. The surface on the side where the groove forming portion 504 of the flow path substrate 511 is formed and the opening region of the groove forming portion 504 is disposed is an adhesive surface. If this adhesion surface is placed on the support substrate 512, it adheres by the self-adhesive force of PDMS. By bonding the two in this way, the opening region of the groove forming portion 504 is closed by the support substrate 512, and the flow path 506 is formed by the groove of the groove forming portion 504. Further, side grooves 516 provided in the bonding surface forming portion 505 are formed on both sides of the flow path 506. The inner surface of the side groove 516 is hydrophobic.

実施の形態3により製造されたフローセルは、PDMSから構成された流路基板511と、PDMSの自己接着力により流路基板511に接着された支持基板512と、流路基板511の支持基板512との接着面の側に形成された溝からなる流路506とを少なくとも備えたものとなる。また、このフローセルは、流路基板511の支持基板512との接着面は、疎水性PDMSから形成した接着面形成部505から構成され、疎水性とされており、流路506は親水性PDMSから形成した溝形成部504より構成され、親水性とされていることになる。加えて、流路506に沿って流路506の脇の流路基板511の支持基板512との接着面側に形成された流路506より小さな側溝516を備える。   The flow cell manufactured according to Embodiment 3 includes a flow path substrate 511 made of PDMS, a support substrate 512 bonded to the flow path substrate 511 by the self-adhesive force of PDMS, and a support substrate 512 of the flow path substrate 511. And at least a flow path 506 formed of a groove formed on the bonding surface side. In this flow cell, the adhesive surface of the flow path substrate 511 and the support substrate 512 is composed of an adhesive surface forming portion 505 formed of hydrophobic PDMS, and the flow path 506 is made of hydrophilic PDMS. It is comprised from the formed groove formation part 504, and is made hydrophilic. In addition, a side groove 516 smaller than the channel 506 formed on the bonding surface side of the channel substrate 511 on the side of the channel 506 with the support substrate 512 is provided along the channel 506.

このフローセルは、例えば、予め、支持基板512の流路506となる箇所にバイオ材料を固定しておけば、バイオセンサとして用いることができる。流路506の内側面は親水性PDMSであるため、流路506の一端に供給される水溶液は、毛細管力により自発的に流路506を流れるようになる。   This flow cell can be used as a biosensor if, for example, a biomaterial is fixed in advance at a location that becomes the flow path 506 of the support substrate 512. Since the inner surface of the channel 506 is hydrophilic PDMS, the aqueous solution supplied to one end of the channel 506 spontaneously flows through the channel 506 by capillary force.

一方、支持基板512に密着する接着面は、疎水性のPDMSから形成した接着面形成部505であるため、流路506からの液漏れが抑制できるようになる。支持基板512と接着面形成部505との密着面に微粒子などによる微小間隙が形成されても、接着面形成部505の接着面は疎水性であるため、水溶液はこの間隙には入っていくことができない。また、実施の形態3では、側溝516を設けているので、流路506から漏れた溶液は、ある程度が側溝516に収容されるようになり、この点でも、液漏れの拡散が抑制できるようになる。このため、実施の形態3によれば、微細な流路506を接近して配置することが可能になり、高度な集積化が可能となる。   On the other hand, since the adhesive surface that is in close contact with the support substrate 512 is an adhesive surface forming portion 505 formed from hydrophobic PDMS, liquid leakage from the flow path 506 can be suppressed. Even if a minute gap made of fine particles or the like is formed on the adhesion surface between the support substrate 512 and the adhesion surface forming portion 505, the adhesion surface of the adhesion surface forming portion 505 is hydrophobic, so that the aqueous solution enters the gap. I can't. In the third embodiment, since the side groove 516 is provided, a part of the solution leaking from the flow path 506 is accommodated in the side groove 516, and also in this respect, diffusion of liquid leakage can be suppressed. Become. For this reason, according to Embodiment 3, it becomes possible to arrange | position the fine flow path 506 closely, and a high degree of integration is attained.

また、実施の形態3では、流路基板511の上面が疎水性であるため、前述した実施の形態1と同様の表面張力ポンプの構造が応用できる。   In the third embodiment, since the upper surface of the flow path substrate 511 is hydrophobic, the same surface tension pump structure as that of the first embodiment can be applied.

[実施の形態4]
次に、本発明の実施の形態4について、図6A〜図6Dを用いて説明する。図6A〜図6Dは、本発明の実施の形態4におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 4]
Next, Embodiment 4 of the present invention will be described with reference to FIGS. 6A to 6D. 6A to 6D are cross-sectional views schematically showing the states in the respective steps for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 4 of the present invention.

まず、図6Aに示すように、型基板601および型枠602からなる型を用意し、型基板601の型枠602内に流路型603および側溝型613を形成する。側溝型613は、流路型603の両側部(両脇)に形成され、流路型603と同様に延在している。また、側溝型613は、断面形状が流路型603より小さく形成されている。流路型603は、2つの側溝型613に挟まれて設けられている。なお、型基板601は、例えば、シリコンウエハである。また、流路型603および側溝型613は、公知のフォトリソグラフィ技術により形成したレジストパターンであればよい。このようにして流路型603および側溝型613を形成した後、型枠602を形成する。   First, as shown in FIG. 6A, a mold including a mold substrate 601 and a mold frame 602 is prepared, and a flow channel mold 603 and a side groove mold 613 are formed in the mold frame 602 of the mold substrate 601. The side groove mold 613 is formed on both sides (both sides) of the flow path mold 603 and extends in the same manner as the flow path mold 603. The side groove mold 613 is formed so that the cross-sectional shape is smaller than that of the flow path mold 603. The flow path mold 603 is provided between two side groove molds 613. The mold substrate 601 is, for example, a silicon wafer. The flow path mold 603 and the side groove mold 613 may be a resist pattern formed by a known photolithography technique. After forming the flow path mold 603 and the side groove mold 613 in this way, the mold 602 is formed.

次に、流路型603および側溝型613が形成されずに露出している型枠602内側の型基板601の上に、図6Bに示すように、疎水性PDMSの膜を形成(塗布)して接着面形成部604を形成する。なお、流路型603と側溝型613との間には、接着面形成部604が形成されないようにする。例えば、疎水性PDMSをマイクロディスペンサで塗布することで、接着面形成部604を形成すればよい。また、刷毛などを用いて疎水性PDMSを塗布することで、接着面形成部604を形成してもよい。また、凹版印刷,凸版印刷,平版印刷,孔版印刷技術により、対象とする箇所に選択的に疎水性PDMSのパターンを形成することで、接着面形成部604を形成してもよい。疎水性PDMSを塗布した後、80℃・120分の加熱条件で加熱して硬化する。   Next, as shown in FIG. 6B, a hydrophobic PDMS film is formed (applied) on the mold substrate 601 inside the mold 602 that is exposed without forming the flow path mold 603 and the side groove mold 613. Thus, an adhesive surface forming portion 604 is formed. It should be noted that the adhesive surface forming portion 604 is not formed between the flow path mold 603 and the side groove mold 613. For example, the adhesive surface forming portion 604 may be formed by applying hydrophobic PDMS with a microdispenser. Alternatively, the adhesive surface forming portion 604 may be formed by applying hydrophobic PDMS using a brush or the like. Alternatively, the adhesive surface forming portion 604 may be formed by selectively forming a hydrophobic PDMS pattern at a target location by intaglio printing, letterpress printing, planographic printing, or stencil printing technology. After applying hydrophobic PDMS, it is cured by heating at 80 ° C. for 120 minutes.

次に、図6Cに示すように、型枠602の内側に親水性PDMSを充填して硬化し、溝形成部605を形成する。溝形成部605には、流路型603による溝が形成される。なお、疎水性PDMSおよび親水性PDMSは、前述した実施の形態1と同様である。充填した後、80℃・120分の加熱条件により熱硬化すればよい。これらのことにより、接着面形成部604と溝形成部605とが一体に成型された状態となる。   Next, as shown in FIG. 6C, hydrophilic PDMS is filled inside the mold 602 and cured to form a groove forming portion 605. In the groove forming portion 605, a groove by the flow path mold 603 is formed. Hydrophobic PDMS and hydrophilic PDMS are the same as those in the first embodiment. After filling, heat curing may be performed under heating conditions of 80 ° C. for 120 minutes. As a result, the adhesive surface forming portion 604 and the groove forming portion 605 are integrally molded.

次に、一体に成型された接着面形成部604および溝形成部605からなる流路基板を型基板601および型枠602からなる型より離型し、図6Dに示すように、離型した流路基板611の接着面を支持基板612に接着する。流路基板611の接着面形成部604が形成されている領域が、接着面である。この接着面の側に、溝形成部605に形成されている溝が開口している。この接着面を支持基板612の上に載置すれば、PDMSの自己接着力により接着する。このように両者を接着することで、溝形成部605に形成されている溝の開口領域が支持基板612により閉じられ、溝形成部605の溝による流路606が形成される。また、流路606の両脇には、溝形成部605に設けられた側溝616が形成される。側溝616の内側面などは、親水性となる。   Next, the flow path substrate made up of the integrally formed adhesive surface forming portion 604 and groove forming portion 605 is released from the mold made up of the mold substrate 601 and the mold frame 602, and as shown in FIG. The bonding surface of the road substrate 611 is bonded to the support substrate 612. A region where the adhesive surface forming portion 604 of the flow path substrate 611 is formed is an adhesive surface. A groove formed in the groove forming portion 605 is opened on the side of the bonding surface. If this adhesion surface is placed on the support substrate 612, it adheres by the self-adhesive force of PDMS. By bonding the two in this manner, the opening region of the groove formed in the groove forming portion 605 is closed by the support substrate 612, and the flow path 606 is formed by the groove of the groove forming portion 605. Further, side grooves 616 provided in the groove forming portion 605 are formed on both sides of the flow path 606. The inner side surface of the side groove 616 is hydrophilic.

実施の形態4により製造されたフローセルは、PDMSから構成された流路基板611と、PDMSの自己接着力により流路基板611に接着された支持基板612と、流路基板611の支持基板612との接着面の側に形成された溝からなる流路606とを少なくとも備えたものとなる。また、このフローセルは、流路基板611の支持基板612との接着面は、疎水性PDMSから形成した接着面形成部604であり、疎水性とされており、流路606は親水性PDMSから形成した溝形成部605から構成され、親水性とされていることになる。加えて、流路606に沿って流路606の脇の流路基板611の支持基板612との接着面側に形成された流路606より小さな側溝616を備える。   A flow cell manufactured according to Embodiment 4 includes a flow path substrate 611 made of PDMS, a support substrate 612 bonded to the flow path substrate 611 by the self-adhesive force of PDMS, and a support substrate 612 of the flow path substrate 611. And at least a flow path 606 made of a groove formed on the bonding surface side. In this flow cell, the adhesive surface of the flow path substrate 611 and the support substrate 612 is an adhesive surface forming portion 604 formed from hydrophobic PDMS, and the flow path 606 is formed from hydrophilic PDMS. The groove forming portion 605 is made hydrophilic. In addition, a side groove 616 smaller than the channel 606 formed on the side of the bonding surface of the channel substrate 611 on the side of the channel 606 with the support substrate 612 is provided along the channel 606.

このフローセルは、例えば、予め、支持基板612の流路606となる箇所にバイオ材料を固定しておけば、バイオセンサとして用いることができる。流路606の内側面は親水性PDMSであるため、流路606の一端に供給される水溶液は、毛細管力により自発的に流路606を流れるようになる。   This flow cell can be used as a biosensor if, for example, a biomaterial is fixed in advance at a location that becomes the flow path 606 of the support substrate 612. Since the inner surface of the channel 606 is hydrophilic PDMS, the aqueous solution supplied to one end of the channel 606 spontaneously flows through the channel 606 by capillary force.

一方、支持基板612に密着する接着面は、疎水性のPDMSから形成した接着面形成部604であるため、支持基板612と接着面形成部604との密着面に微粒子などによる微小間隙が形成され、これが流路606の一端まで届いていたとしても、水溶液はこの間隙には入っていくことはできず、液漏れを起こすことはない。また、実施の形態4では、側溝616を設けているので、流路606から漏れた溶液は、ある程度が側溝616に収容されるようになり、この点でも、液漏れの拡散が抑制できるようになる。このため、実施の形態4においても、微細な流路606を接近して配置することが可能になり、高度な集積化が可能となる。   On the other hand, since the adhesion surface that is in close contact with the support substrate 612 is the adhesion surface formation portion 604 formed from hydrophobic PDMS, a minute gap due to fine particles or the like is formed on the adhesion surface between the support substrate 612 and the adhesion surface formation portion 604. Even if this reaches one end of the flow path 606, the aqueous solution cannot enter the gap and does not cause liquid leakage. Further, in the fourth embodiment, since the side groove 616 is provided, a part of the solution leaked from the flow path 606 is accommodated in the side groove 616, and also in this respect, the diffusion of the liquid leak can be suppressed. Become. For this reason, also in Embodiment 4, it becomes possible to arrange | position the fine flow path 606 closely, and a high degree of integration is attained.

[実施の形態5]
次に、本発明の実施の形態5について図7A〜図7Dを用いて説明する。図7A〜図7Dは、本発明の実施の形態5におけるフローセルの製造方法を説明するための各工程における状態を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 5]
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A to 7D. 7A to 7D are cross-sectional views schematically showing the states in the respective steps for explaining the flow cell manufacturing method according to Embodiment 5 of the present invention.

まず、図7Aに示すように、型基板701および型枠702からなる型を用意し、型基板701の型枠702内に流路型703および吸引流路型704を形成する。型基板701は、例えば、シリコンウエハである。また、流路型703は、公知のフォトリソグラフィ技術により形成したレジストパターンであればよい。また、流路型703および吸引流路型704を形成した後、型枠702を形成する。   First, as shown in FIG. 7A, a mold including a mold substrate 701 and a mold frame 702 is prepared, and a flow path mold 703 and a suction flow path mold 704 are formed in the mold frame 702 of the mold substrate 701. The mold substrate 701 is, for example, a silicon wafer. The flow path mold 703 may be a resist pattern formed by a known photolithography technique. Further, after forming the flow path mold 703 and the suction flow path mold 704, the mold 702 is formed.

次に、図7Bに示すように、流路型703および吸引流路型704が形成されずに露出している型枠702内側の型基板701の上に、疎水性PDMSの膜を形成(塗布)して接着面形成部705を形成する。疎水性PDMSを塗布した後、80℃・120分の加熱条件で加熱して硬化する。次に、図7Cに示すように、型枠702の内側に親水性PDMSを充填して溝形成部706を形成する。この状態では、溝形成部706を未硬化状態とする。溝形成部706には、流路型703による溝および吸引流路型704による溝が形成される。なお、疎水性PDMSおよび親水性PDMSは、前述した実施の形態1と同様である。   Next, as shown in FIG. 7B, a hydrophobic PDMS film is formed (coated) on the mold substrate 701 inside the mold 702 exposed without forming the flow path mold 703 and the suction flow path mold 704. ) To form an adhesive surface forming portion 705. After applying hydrophobic PDMS, it is cured by heating at 80 ° C. for 120 minutes. Next, as shown in FIG. 7C, the groove forming portion 706 is formed by filling the inside of the mold 702 with hydrophilic PDMS. In this state, the groove forming portion 706 is set in an uncured state. In the groove forming portion 706, a groove formed by the flow path mold 703 and a groove formed by the suction flow path mold 704 are formed. Hydrophobic PDMS and hydrophilic PDMS are the same as those in the first embodiment.

次いで、図7Dに示すように、複数のピン707を備えた押し型部品708を用意する。ピン707は、吸引流路型704の領域に配置されている。このように構成した押し型部品708を、型基板701の型枠702内に形成されている溝形成部706の上より押し付け、図7Eに示すように、ピン707を溝形成部706に挿入する。ピン707の先端が、吸引流路型704に到達する状態とする。このように、ピン707を挿入した状態で、溝形成部706を熱硬化する。例えば、80℃・120分の加熱条件により熱硬化すればよい。これらのことにより、接着面形成部705と溝形成部706とが一体に成型された状態となる。   Next, as shown in FIG. 7D, a stamping die component 708 having a plurality of pins 707 is prepared. The pin 707 is disposed in the region of the suction flow path mold 704. The pressing mold component 708 configured as described above is pressed from above the groove forming portion 706 formed in the mold frame 702 of the mold substrate 701, and the pins 707 are inserted into the groove forming portion 706 as shown in FIG. 7E. . The tip of the pin 707 reaches the suction flow path mold 704. As described above, the groove forming portion 706 is thermally cured with the pin 707 inserted. For example, heat curing may be performed under heating conditions of 80 ° C. and 120 minutes. As a result, the bonding surface forming portion 705 and the groove forming portion 706 are integrally molded.

次に、押し付け型708を取り除いた後、一体に成型された接着面形成部705および溝形成部706からなる流路基板を型基板701および型枠702からなる型より離型し、図7Fに示すように、離型した流路基板711の接着面を支持基板712に接着する。流路基板711の接着面形成部705が形成されている領域が、接着面である。この接着面の側に、溝形成部706に形成されている溝が開口している。この接着面を支持基板712の上に載置すれば、PDMSの自己接着力により接着する。このように両者を接着することで、溝形成部706に形成されている溝の開口領域が支持基板712により閉じられ、溝形成部706の溝による流路713が形成され、吸引流路型704の溝による吸引流路714が形成される。また、吸引流路714においては、溝形成部706に、複数の貫通孔717が形成される。貫通孔717は、例えば円筒形状である。   Next, after the pressing mold 708 is removed, the flow path substrate composed of the adhesive surface forming portion 705 and the groove forming portion 706 formed integrally is released from the mold composed of the mold substrate 701 and the mold frame 702, and FIG. As shown, the bonded surface of the released flow path substrate 711 is bonded to the support substrate 712. A region where the adhesive surface forming portion 705 of the flow path substrate 711 is formed is an adhesive surface. A groove formed in the groove forming portion 706 is opened on the side of the bonding surface. If this adhesion surface is placed on the support substrate 712, it adheres by the self-adhesive force of PDMS. By bonding the two in this way, the opening area of the groove formed in the groove forming portion 706 is closed by the support substrate 712, and a flow path 713 is formed by the groove of the groove forming section 706, and the suction flow path mold 704 is formed. A suction flow path 714 is formed by the groove. In the suction channel 714, a plurality of through holes 717 are formed in the groove forming portion 706. The through hole 717 has, for example, a cylindrical shape.

実施の形態5により製造されたフローセルは、PDMSから構成された流路基板711と、PDMSの自己接着力により流路基板711に接着された支持基板712と、流路基板711の支持基板712との接着面の側に形成された溝からなる流路713とを少なくとも備えたものとなる。また、このフローセルは、流路基板711の支持基板712との接着面は、疎水性PDMSから形成した接着面形成部705であり、疎水性とされており、流路713は親水性PDMSから形成した溝形成部706から構成され、親水性とされていることになる。   A flow cell manufactured according to Embodiment 5 includes a flow path substrate 711 made of PDMS, a support substrate 712 bonded to the flow path substrate 711 by the self-adhesive force of PDMS, and a support substrate 712 of the flow path substrate 711. And at least a flow path 713 made of a groove formed on the side of the bonding surface. In this flow cell, the adhesive surface of the flow path substrate 711 with the support substrate 712 is an adhesive surface forming portion 705 formed from hydrophobic PDMS, and is made hydrophobic, and the flow channel 713 is formed from hydrophilic PDMS. The groove forming portion 706 is made hydrophilic.

また、このフローセルは、図7Gの斜視図にも示すように、流路基板711に、流路713に接続する吸引流路714を設けている。図7Gでは、流路基板711のみを示している。なお、流路713の一端には、流路基板711(溝形成部706)に形成した導入口718が連通し、試料溶液が投入可能とされている。ここで、流路713は、液体に対して毛細管現象が発現する範囲の断面寸法とされ、同様に、貫通孔717は、液体に対して毛細管現象が発現する範囲の管径とされている。また、吸引流路714の流路高さは、流路713より液体が浸入したときに、上下方向に隙間が形成されない範囲とされている。言い換えると、浸入した液体が、吸引流路714の上下の両面に同時に接触可能な状態とされている。   In addition, as shown in the perspective view of FIG. 7G, this flow cell is provided with a suction channel 714 connected to the channel 713 on the channel substrate 711. In FIG. 7G, only the flow path substrate 711 is shown. An inlet 718 formed in the channel substrate 711 (groove forming portion 706) communicates with one end of the channel 713 so that the sample solution can be input. Here, the flow path 713 has a cross-sectional dimension in a range in which capillary action occurs with respect to the liquid, and similarly, the through hole 717 has a tube diameter in a range in which capillary action appears with respect to the liquid. The height of the suction channel 714 is set such that no gap is formed in the vertical direction when liquid enters the channel 713. In other words, the infiltrated liquid can be in contact with both upper and lower surfaces of the suction channel 714 at the same time.

このフローセルは、例えば、予め、支持基板712の流路713となる箇所にバイオ材料を固定しておけば、バイオセンサとして用いることができる。流路713の内側面は親水性PDMSであるため、流路713の一端に供給される水溶液は、毛細管力により自発的に流路713を流れるようになる。   This flow cell can be used as a biosensor if, for example, a biomaterial is fixed in advance at a location that becomes the flow path 713 of the support substrate 712. Since the inner surface of the flow path 713 is hydrophilic PDMS, the aqueous solution supplied to one end of the flow path 713 spontaneously flows through the flow path 713 by capillary force.

一方、支持基板712に密着する接着面は、疎水性のPDMSから形成した接着面形成部705であるため、支持基板712と接着面形成部705との密着面に微粒子などによる微小間隙が形成され、これが流路713の一端まで届いていたとしても、水溶液はこの間隙には入っていくことはできず、液漏れを起こすことはない。このため、実施の形態5においても、微細な流路713を接近して配置することが可能になり、高度な集積化が可能となる。   On the other hand, since the adhesion surface that is in close contact with the support substrate 712 is an adhesion surface formation portion 705 formed from hydrophobic PDMS, a minute gap due to fine particles or the like is formed on the adhesion surface between the support substrate 712 and the adhesion surface formation portion 705. Even if this reaches one end of the flow path 713, the aqueous solution cannot enter this gap and does not cause liquid leakage. For this reason, also in Embodiment 5, it becomes possible to arrange the fine flow paths 713 close to each other, and a high degree of integration is possible.

また、実施の形態5では、吸引流路714を設けており、導入口718より導入されて毛細管現象により流路713を流れて吸引流路714に浸入した試料溶液は、毛細管現象により貫通孔717に吸い上げられる。このように、導入口718に導入された試料溶液は、吸引流路714における複数の貫通孔717に吸い上げられることで、流路713を所定の流速で吸引流路714の方向に流れていくことになる。また、実施の形態5では、流路713の側方(両側)に、吸引流路714が展開して配置されているようにしたので、フローセル全体の面積を大きく広げることなく、吸引流路714の領域を拡大することができ、吸引流路714による送液能力を、より拡大させることができる。   In the fifth embodiment, the suction channel 714 is provided, and the sample solution introduced from the introduction port 718, flowing through the channel 713 by the capillary phenomenon, and entering the suction channel 714 has a through-hole 717 by the capillary phenomenon. Sucked up. As described above, the sample solution introduced into the introduction port 718 is sucked into the plurality of through holes 717 in the suction channel 714 and flows in the direction of the suction channel 714 at a predetermined flow rate. become. In the fifth embodiment, since the suction channel 714 is deployed and arranged on the side (both sides) of the channel 713, the suction channel 714 is not greatly expanded without greatly increasing the area of the entire flow cell. , And the liquid feeding ability by the suction channel 714 can be further expanded.

以上に説明したように、本発明によれば、試料溶液が流れる流路における試料溶液が接触する領域は、親水性のPDMSから形成し、流路となる溝が設けられている流路基板が支持基板に密着する領域は、疎水性のPDMSから構成したので、PDMSを材料としたフローセルにおいて、流路からの液漏れが抑制できるようになる。この結果、複数の微細な流路を、1チップ上に集積化することが可能となり、フロー分析,ケミカルセンサ,バイオセンサなどに適用すれば、測定精度,確度,利便性を著しく向上させることができる。   As described above, according to the present invention, the region where the sample solution contacts in the channel through which the sample solution flows is formed from hydrophilic PDMS, and the channel substrate provided with the groove serving as the channel is provided. Since the region in close contact with the support substrate is composed of hydrophobic PDMS, in the flow cell made of PDMS, liquid leakage from the flow path can be suppressed. As a result, a plurality of fine channels can be integrated on one chip, and if applied to flow analysis, chemical sensors, biosensors, etc., measurement accuracy, accuracy, and convenience can be significantly improved. it can.

なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。例えば、実施の形態5を用いて説明した複数の貫通孔による吸引流路を備えるフローセルは、実施の形態1を用いて説明した製造方法により形成してもよい。この場合、吸引流路型を形成するとともに、貫通孔を形成するための複数の突起部を吸引流路型に形成しておけばよい。このようにすることで、内壁が親水性PDMSで被覆された複数の貫通孔が、疎水性PDMSによる接着面形成部(流路基板)に形成できる。また、形成する流路は、直線状に限るものではなく、曲線状に形成してもよい。   The present invention is not limited to the embodiment described above, and many modifications and combinations can be implemented by those having ordinary knowledge in the art within the technical idea of the present invention. It is obvious. For example, the flow cell including the suction flow path with the plurality of through holes described using the fifth embodiment may be formed by the manufacturing method described using the first embodiment. In this case, the suction channel mold may be formed, and a plurality of protrusions for forming the through holes may be formed in the suction channel mold. By doing in this way, the several through-hole by which the inner wall was coat | covered with hydrophilic PDMS can be formed in the adhesion surface formation part (flow-path board | substrate) by hydrophobic PDMS. Moreover, the flow path to be formed is not limited to a linear shape, and may be formed in a curved shape.

101…型基板、102…型枠、103…流路型、104…溝形成部、105…接着面形成部、106…流路、111…流路基板、112…支持基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Mold substrate, 102 ... Mold, 103 ... Channel type, 104 ... Groove formation part, 105 ... Adhesion surface formation part, 106 ... Channel, 111 ... Channel substrate, 112 ... Support substrate.

Claims (6)

親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部を形成する溝形成部形成工程と、
疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部を形成する接着面形成工程と、
前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた流路基板の前記接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着して前記溝による流路を形成する接着工程と
を少なくとも備え
前記溝形成部を形成した後で、前記溝形成部を覆う状態に前記接着面形成部を形成し、前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた前記流路基板とすることを特徴とするフローセルの製造方法。
A groove forming part forming step of forming a groove forming part comprising a groove made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path;
An adhesive surface forming step of forming an adhesive surface forming portion having an adhesive surface made of hydrophobic polydimethylsiloxane;
An adhesion step of forming the flow path by the groove by adhering the adhesive surface of the flow path substrate in which the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are integrated to a support substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane. Prepared ,
Wherein after forming the groove forming portion, the forming the adhesive surface forming portion to cover the groove forming portion, said channel substrate and to Rukoto the groove forming portion and the adhesive surface forming portion is integral A process for producing a flow cell characterized by the above.
親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部を形成する溝形成部形成工程と、
疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部を形成する接着面形成工程と、
前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた流路基板の前記接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着して前記溝による流路を形成する接着工程と
を少なくとも備え、
前記接着面形成部を形成した後で、前記接着面形成部以外に前記溝形成部が配置されて前記接着面形成部を覆う状態に前記溝形成部を形成し、前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた前記流路基板とすることを特徴とするフローセルの製造方法。
A groove forming part forming step of forming a groove forming part comprising a groove made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path;
An adhesive surface forming step of forming an adhesive surface forming portion having an adhesive surface made of hydrophobic polydimethylsiloxane;
An adhesion step of forming the flow path by the groove by adhering the adhesive surface of the flow path substrate in which the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are integrated to a support substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane;
Comprising at least
After forming the adhesive surface forming section, said forming a groove forming portion in a state in which the is arranged a groove forming portion in addition to the adhesive surface forming portion covering the adhesive surface forming section, front Kimizo forming portion and the A method of manufacturing a flow cell, characterized in that the flow path substrate is integrated with an adhesive surface forming portion.
請求項1または2記載のフローセルの製造方法において、
ポリジメチルシロキサンから構成されて前記溝形成部の脇に形成された前記溝形成部より小さな側溝を形成する側溝形成工程を備え、
前記接着工程では、前記溝形成部,前記側溝,および前記接着面形成部が一体とされた流路基板の前記接着面をポリジメチルシロキサンの自己接着力により支持基板に接着する
ことを特徴とするフローセルの製造方法。
In the manufacturing method of the flow cell of Claim 1 or 2 ,
A side groove forming step of forming a side groove smaller than the groove forming part formed of polydimethylsiloxane and formed on the side of the groove forming part,
In the bonding step, the bonding surface of the flow path substrate in which the groove forming portion, the side groove, and the bonding surface forming portion are integrated is bonded to a support substrate by a self-adhesive force of polydimethylsiloxane. A manufacturing method of a flow cell.
親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部と、
疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部と、
前記接着面形成部が前記溝形成部を覆う状態に形成されて前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた流路基板と、
ポリジメチルシロキサンの自己接着力により前記流路基板の前記接着面に接着された支持基板と、
前記流路基板の前記支持基板との前記接着面の側に形成された前記溝からなる流路と
を少なくとも備え、
前記流路基板の前記支持基板との接着面は疎水性とされ、前記流路は親水性とされていることを特徴とするフローセル。
A groove forming portion comprising a groove made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path;
An adhesive surface forming portion made of hydrophobic polydimethylsiloxane and having an adhesive surface;
A flow path substrate in which the adhesive surface forming portion is formed so as to cover the groove forming portion, and the groove forming portion and the adhesive surface forming portion are integrated ;
A support substrate bonded to the adhesive surface of the flow path substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane;
Comprising at least a flow path consisting of the groove formed on a side of the bonding surface between the supporting substrate of the channel substrate,
A flow cell characterized in that an adhesive surface of the flow path substrate with the support substrate is hydrophobic, and the flow path is hydrophilic.
親水性のポリジメチルシロキサンから構成されて流路となる溝を備える溝形成部と、A groove forming portion comprising a groove made of hydrophilic polydimethylsiloxane and serving as a flow path;
疎水性のポリジメチルシロキサンから構成されて接着面を有する接着面形成部と、An adhesive surface forming portion made of hydrophobic polydimethylsiloxane and having an adhesive surface;
前記接着面形成部以外に前記溝形成部が配置されて前記接着面形成部を覆う状態に前記溝形成部が形成され、前記溝形成部および前記接着面形成部が一体とされた流路基板と、A flow path substrate in which the groove forming part is formed in a state where the groove forming part is disposed in addition to the adhesive surface forming part and covers the adhesive surface forming part, and the groove forming part and the adhesive surface forming part are integrated. When,
ポリジメチルシロキサンの自己接着力により前記流路基板の前記接着面に接着された支持基板と、A support substrate bonded to the adhesive surface of the flow path substrate by the self-adhesive force of polydimethylsiloxane;
前記流路基板の前記支持基板との前記接着面の側に形成された前記溝からなる流路とA flow path comprising the grooves formed on the side of the adhesion surface of the flow path substrate with the support substrate;
を少なくとも備え、Comprising at least
前記流路基板の前記支持基板との接着面は疎水性とされ、前記流路は親水性とされていることを特徴とするフローセル。A flow cell characterized in that an adhesive surface of the flow path substrate with the support substrate is hydrophobic, and the flow path is hydrophilic.
請求項4または5記載のフローセルにおいて、
前記流路に沿って前記流路の脇の前記流路基板の前記支持基板との接着面側に形成された前記流路より小さな側溝を備えることを特徴とするフローセル。
The flow cell according to claim 4 or 5,
A flow cell comprising a side groove smaller than the flow path formed on the side of the flow path substrate adjacent to the flow path along the flow path.
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