JP5854908B2 - 高カロリーガス製造方法 - Google Patents
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Description
nCO+(2n+1)H2→CnH2n+2+nH2O ・・(1)
CO+H2O→CO2+H2 ・・・・・・・・・・・(2)
この特許文献1では、高カロリーガスの製造に際して、担体に鉄およびルテニウムを担持した鉄−ルテニウム系触媒を採用することを提案している。
さらに、特許文献1に記載の鉄−ルテニウム系触媒を用いた高カロリーガスの製造方法では、高い一酸化炭素転化率が得られる反応温度域と、高い換算発熱量を有する高カロリーガスが得られる反応温度域とが必ずしも一致せず、またその範囲も狭いため、両要件を同じ反応温度域において同時に満足する点にあっても改良の余地があった。
上記目的を達成するための本発明に係る高カロリーガスの製造方法は、
金属酸化物担体に、まず、鉄族元素を担持させ、その後、ルテニウムを含浸担持させた後、湿式還元を施して高カロリーガス製造用触媒を形成し、当該高カロリーガス製造用触媒を、水素及び一酸化炭素を含む原料ガスが供給される触媒反応部に収納した後、前記高カロリーガス製造用触媒を200〜500℃の水素処理温度で水素含有ガスと接触させる水素処理工程を実行し、当該水素処理工程の実行に引き続いて、前記触媒反応部に前記原料ガスを供給して、メタン、エタン、プロパン、ブタン等の低級飽和炭化水素化合物を主成分とする高カロリーガスを製造する点にある。
また、この水素処理工程は、200〜500℃の温度域で行われるため、触媒の大幅なシンタリングの進行を抑制する状態で、ルテニウムと鉄族元素の一部が合金化される可能性があり、これによって、高カロリーガス製造用触媒としての活性が高くなるものと考えられる。
また、この水素処理工程における水素処理温度は、250℃〜450℃とすることがより好ましく、350℃〜450℃とすることが更に好ましい。これは、例えば、触媒が300℃程度の反応温度で使用される場合に、触媒使用前の水素処理温度を触媒使用温度以上として、触媒使用時に急激にシンタリングが進んで触媒性能が変化することを防止することができると考えられるためである。
ここで、高カロリーガス製造用触媒を用いて、水素および一酸化炭素を含む原料ガスを反応させると、原料ガス中の一酸化炭素は、ルテニウム触媒上で水素により還元を受けて、メタン化し、さらに、鉄族元素により、炭素−炭素鎖を形成する。そのため、前記原料ガスが反応すると、これらルテニウムと鉄族元素との協働作用により、メタンと炭素数2〜4の飽和炭化水素を主成分とする混合物が得られるようになる。したがって、メタンに加えてエタンや、プロパン、ブタン等の炭素数4以下の飽和炭化水素を主成分とする混合物を、効率良く生成させて高カロリーガスを製造することができる。
また、前記湿式還元はヒドラジンを還元剤として使用することが好ましい。
また、前記水素含有ガスは、水素濃度を20体積%以下とする水素と窒素との混合ガスであることが好ましい。
なお、前記鉄族元素が鉄であることが好ましく、前記金属酸化物担体が、チタニアを主成分とするものであることが好ましい。また、前記金属酸化物担体に、鉄を0.5質量%〜10質量%担持させてあることが好ましく、前記金属酸化物担体に、ルテニウムを1質量%〜8質量%担持させてあることが好ましい。
また、前記金属酸化物担体に、まず、鉄族元素を担持させ、その後、ルテニウムを含浸担持させた後、湿式還元を施すことにより高カロリーガス製造用触媒を形成し、高カロリーガス製造用触媒を、水素及び一酸化炭素を含む原料ガスが供給される触媒反応部に収納した後、高カロリーガス製造用触媒を200〜500℃の温度で水素含有ガスと接触させる水素処理工程を実行し、水素処理工程の実行に引き続いて、触媒反応部に原料ガスを供給して、前記触媒反応部における反応を行うことによって前記原料ガスに含まれる一酸化炭素の転化率を99.9%以上とするとともに、換算発熱量を45MJ/m3(0℃,1気圧における体積)以上とする前記高カロリーガスを製造することができる。
なお、製造された高カロリーガスの換算発熱量が高くなりすぎた場合は、メタンによる希釈により換算発熱量を調節することができる。
そして、この高カロリーガス製造用触媒を、水素及び一酸化炭素を含む原料ガスが供給される反応容器(触媒反応部に相当)に収容した後、水素処理工程を実行し、この水素処理工程の実行に引き続いて、反応容器に原料ガスを供給して、メタン、エタン、プロパン、ブタン等の低級飽和炭化水素化合物を主成分とする高カロリーガスを製造する。ここで、水素処理工程は、高カロリーガス製造用触媒を200〜500℃の温度で水素含有ガスと接触させる工程とされている。
以下に、より具体的な高カロリーガスの製造方法の実施例について、「高カロリーガス製造用触媒の形成」、「高カロリーガス製造試験」、「高カロリーガス製造試験結果」の順に説明する。
(高カロリーガス製造用触媒の形成)
実施例1においては、(a)〜(e)の反応剤を用いる。
(a) 直径2〜4mmの球状のチタニア担体120g
(b) 17.36gの硝酸鉄(III)・9水和物(Fe(NO3)3・9H2O)を含む水溶液
(c) 0.375N水酸化ナトリウム水溶液
(d) 0.3%ヒドラジン水溶液
(e) 5.07gの塩化ルテニウム(III)(ルテニウム含有量47.3質量%)を含む水溶液
本実施例に係る高カロリーガス製造試験は、水素処理工程と触媒反応工程とから構成される。
水素処理工程では、得られた高カロリーガス製造用触媒を有効内径16mmのSUS製チューブ状の反応容器(チューブ状の反応容器中心部に外径6mmのSUS製さや管を設置し、さや管内部に熱電対を挿入して、触媒層付近の温度を熱電対にて測定して反応温度とした)に4ml充填し、水素と窒素とを混合した水素含有ガスを267cc/分の流量で流しながら、250℃の水素処理温度で1時間水素処理を施した。
なお、触媒反応工程では、反応容器への原料ガス供給量(GHSV)は、4000/h、反応圧力は3MPa(ゲージ圧)の条件で反応を行った。また、反応温度を250℃〜325℃とした。
水素処理工程において水素処理温度を450℃とした以外は、実施例1と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
水素処理工程において水素処理温度を550℃とした以外は、実施例1と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
高カロリーガス製造用触媒の形成を、まず、塩化鉄(III)水溶液を用いて含浸法によりチタニア担体に鉄を担持して鉄担持チタニアを得た後、塩化ルテニウム(III)水溶液を鉄担持チタニアに含浸担持させ、その後、ヒドラジン水溶液を用いて湿式還元処理を行い、水洗、乾燥して、高カロリーガス製造用触媒としてのルテニウム/鉄担持チタニアを得た。この高カロリーガス製造用触媒の鉄の含有率(担持量)は1.6質量%であり、ルテニウムの含有率(担持量)は2.1質量%であった。
本実施例に係る高カロリーガス製造試験は、水素処理工程と触媒反応工程とから構成される。
水素処理工程では、得られた高カロリーガス製造用触媒を有効内径16mmのSUS製チューブ状の反応容器(チューブ状の反応容器中心部に外径6mmのSUS製さや管を設置し、さや管内部に熱電対を挿入して、触媒層付近の温度を熱電対にて測定して反応温度とした)に2ml充填し、水素と窒素とを混合した水素含有ガスを100cc/分の流量で流しながら、250℃の水素処理温度で1時間水素処理を施した。
なお、触媒反応工程では、反応容器への原料ガス供給量(GHSV)は2000/h、反応圧力は0.6MPa(ゲージ圧)の条件で反応を行った。また、反応温度を220℃〜350℃とした。
水素処理工程において水素処理温度を350℃とした以外は、実施例3と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
水素処理工程において水素処理温度を450℃とした以外は、実施例3と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
水素処理工程において水素処理温度を550℃とした以外は、実施例3と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
水素処理工程を実行しなかったこと以外は、実施例3と同様に高カロリーガス製造用触媒を形成して、高カロリーガス製造試験を行なった。
高カロリーガス製造用触媒の形成において、塩化鉄(III)水溶液を用いて含浸法によりチタニア担体に鉄を担持して鉄担持チタニアを得る工程をなくすとともに、塩化鉄(III)と塩化ルテニウム(III)を含む水溶液を用いて、鉄化合物とルテニウム化合物を同時にチタニア担体に含浸担持(共担持)させ、その後、ヒドラジン水溶液を用いて湿式還元処理を行い、水洗、乾燥して、高カロリーガス製造用触媒としてのルテニウム−鉄担持チタニアを得た(この高カロリーガス製造用触媒の鉄の含有率(担持量)は1.6質量%であり、ルテニウムの含有率(担持量)は2.1質量%であった。)こと以外は、実施例5と同様に高カロリーガス製造試験を行なった。従って、比較例4は、触媒を共担持した高カロリーガス製造触媒を使用した点でのみ実施例5と異なり、高カロリーガスの製造に際して、水素処理工程を実行した例である。
実施例1〜5および比較例1〜4の高カロリーガス製造試験において、高カロリーガスの成分分析を行なった結果、高カロリーガスには、反応前の原料ガスおよび反応により生成した炭化水素ガス等が含まれ、メタン(C1)、エタン(C2)、プロパン(C3)、ブタン(C4)の他に、ペンタン(C5)、ヘキサン(C6)、ヘプタン(C7)等が含まれている事がわかった。
そして、実施例1〜5におけるCO転化率は、実施例1および実施例2では、少なくとも反応温度275℃以上で99.9%以上となるとともに、実施例3、実施例4および実施例5では少なくとも反応温度300℃以上で99.9%以上となる。
また、換算発熱量については、実施例1および実施例2では少なくとも275℃以下で45MJ/m3以上、実施例3では少なくとも325℃以下で45MJ/m3以上、実施例4および実施例5では少なくとも300℃以下で45MJ/m3以上となることがわかった。
従って、水素処理温度200〜500℃の範囲として水素処理を行なった実施例1〜5の高カロリーガス製造試験では、触媒反応部における反応温度を275〜325℃として、触媒反応部における反応によって原料ガスに含まれる一酸化炭素の転化率を99.9%以上とするとともに、換算発熱量を45MJ/m3以上とする前記高カロリーガスを製造することができた。
この比較例1および比較例2のように、水素処理温度を550℃付近まで上昇させると、高カロリーガス製造触媒においてシンタリングが進行して、触媒のCO吸着性能が低下しているものと考えられる。これにより、表1に示すように、特に300℃以下のCO転化率が大幅に低下し、300℃以上においても99.9%以上のCO転化率が得られなかったものと考えられる。
よって、高カロリーガス製造用触媒を形成するにあたり、実施例1〜5における担持順のように、チタニア担体に鉄を担持したのち、ルテニウムを担持させることが、活性の高い高カロリーガス製造用触媒を製造する上で好ましい条件であることがわかる。
(A)上記実施形態では、含浸法においてルテニウム化合物として塩化ルテニウム、鉄化合物として硝酸鉄、塩化鉄を用いた例が混在するが、一般に含浸法において、担持される活性金属の最終形態が、同等のものであれば、本発明の高カロリーガス製造触媒の製造方法においては、出発原料としてのルテニウム化合物、鉄化合物としてはいかなるものを用いてもかまわない。
Claims (8)
- 金属酸化物担体に、鉄族元素を担持させ、その後、ルテニウムを含浸担持させた後、湿式還元を施して高カロリーガス製造用触媒を形成し、当該高カロリーガス製造用触媒を、水素及び一酸化炭素を含む原料ガスが供給される触媒反応部に収納した後、前記高カロリーガス製造用触媒を200〜500℃の水素処理温度で水素含有ガスと接触させる水素処理工程を実行し、当該水素処理工程の実行に引き続いて、前記触媒反応部に前記原料ガスを供給して低級飽和炭化水素化合物を主成分とする高カロリーガスを製造する高カロリーガスの製造方法。
- 前記湿式還元はヒドラジンを還元剤として使用する請求項1に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記水素含有ガスは、水素濃度を20体積%以下とする水素と窒素との混合ガスである請求項1または2に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記鉄族元素を鉄とする請求項1〜3の何れか1項に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記金属酸化物担体が、チタニアを主成分とするものである請求項1〜4の何れか1項に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記金属酸化物担体に、ルテニウムを1質量%〜8質量%担持させてある請求項1〜5の何れか1項に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記金属酸化物担体に、鉄を0.5質量%〜10質量%担持させてある請求項4〜6の何れか1項に記載の高カロリーガスの製造方法。
- 前記触媒反応部における反応によって前記原料ガスに含まれる一酸化炭素の転化率を99.9%以上とするとともに、0℃,1気圧における単位体積あたりの換算発熱量を45MJ/m3以上とする前記高カロリーガスを製造する請求項1〜7の何れか1項に記載の高カロリーガスの製造方法。
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