JP5854385B2 - Silicone polymer - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示素子や半導体素子等の電子部品の耐熱性材料として有用なシリコーン共重合体に関するものである。 The present invention relates to a silicone copolymer useful as a heat resistant material for electronic parts such as liquid crystal display elements and semiconductor elements.
近年、液晶表示素子や半導体素子等の電子部品に用いられる電子材料としてしては、可視光で透過性が高い高透明性や、素子を製造する際の各種処理工程に耐えられる耐熱性、耐薬品性、クラック耐性などの特性を兼ね備えた樹脂の必要性が高まっている。例えば半導体の導電部として使用されている配線は、近年の高機能化、高密度化により流れる電流が大きくなっており高い熱を発生させる。よってその工程で使用される絶縁膜はより耐熱性のものが求められ、500℃以上で膜形成が可能な高耐熱性材料が求められている。その中で、シルセスキオキサン骨格を有するシリコーン樹脂は、特に耐熱性が優れており、これらの特性を利用して広く利用されてきた。 In recent years, as electronic materials used for electronic components such as liquid crystal display elements and semiconductor elements, high transparency that is highly transmissive with visible light, heat resistance and resistance to withstand various processing steps when manufacturing elements. There is an increasing need for resins that have properties such as chemical properties and crack resistance. For example, a wiring used as a conductive portion of a semiconductor generates a high heat due to an increase in current that flows due to high functionality and high density in recent years. Therefore, the insulating film used in the process is required to be more heat resistant, and a high heat resistant material capable of forming a film at 500 ° C. or higher is required. Among them, silicone resins having a silsesquioxane skeleton are particularly excellent in heat resistance, and have been widely used by utilizing these characteristics.
一方、LSI製造では膜表面の平坦性が重要であり、加熱による膜形成後の膜表面にクラックが入らない膜が求められている。例えばLSI製造の多層配線工程において、加熱により形成した膜にクラックが入っている場合は、その上に膜形成した場合、新たに形成した膜が均一にならずにムラのある膜が形成してしまう可能性がある。そのように形成した膜に露光した場合、不均一な膜界面付近で光の乱反射や散乱が生じ、均一なパターン形成そのものができない。このように膜表面にクラックが入ると光学特性、機械特性などの膜特性に影響を与える場合が多いため、通常クラックが入らない膜が求められている。 On the other hand, the flatness of the film surface is important in LSI production, and a film that does not crack on the film surface after film formation by heating is required. For example, in a multilayer wiring process of LSI manufacturing, if a film formed by heating has cracks, when a film is formed on it, a newly formed film is not uniform and a nonuniform film is formed. There is a possibility. When the film thus formed is exposed to light, irregular reflection or scattering of light occurs near the non-uniform film interface, and a uniform pattern cannot be formed. Thus, since cracks on the film surface often affect film characteristics such as optical characteristics and mechanical characteristics, a film that does not normally crack is required.
例えば、一般的なフェニル基やメチル基で合成したシリコーン組成物を溶媒に溶解させ400℃に加熱して硬化させた硬化膜についてクラック耐性を評価しているが、400℃での硬化でクラック限界が生じており、500℃以上の高温で使用するプロセスでの適応は難しい(特許文献1参照)。 For example, the crack resistance of a cured film obtained by dissolving a general silicone composition synthesized with a phenyl group or methyl group in a solvent and heating and curing at 400 ° C. is evaluated. Therefore, it is difficult to adapt to a process used at a high temperature of 500 ° C. or higher (see Patent Document 1).
また、耐熱性を上げるため、かご状のシルセスキオキサン構造を含有する材料を用いて耐熱性を向上させているが、350℃程度の温度のみ膜形成を行っていないため、500℃以上での耐熱性を有するかどうかは分からない上、構造が複雑で工業化は難しく、量産化には適応できない(特許文献2参照)。 In order to improve heat resistance, heat resistance is improved by using a material containing a cage-shaped silsesquioxane structure, but film formation is not performed only at a temperature of about 350 ° C. It is not known whether or not it has the heat resistance, and the structure is complicated and industrialization is difficult, so that it cannot be applied to mass production (see Patent Document 2).
一方、例えばフェノール基のように、側鎖に水酸基を有するシリコーン共重合体は、樹脂自体が水酸化ナトリウムのようなアルカリ水溶液に溶解するため、化学増幅型のレジスト材料として使用されている(特許文献3,4参照)。
On the other hand, a silicone copolymer having a hydroxyl group in its side chain, such as a phenol group, is used as a chemically amplified resist material because the resin itself dissolves in an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide (patent)
このフェノール基を有するシリコーン共重合体もレジスト材料として使用することができることから、耐熱性が優れた材料だと推測されるが300℃以上の高温で特性を評価した例はなく、より高温での耐熱性は不明である。またフェノールの水酸基がメチル基などのアルキル基で保護した形の材料では、さらに熱特性の評価がなされていないため、材料の熱特性を理解することはできなかった。 Since this silicone copolymer having a phenol group can also be used as a resist material, it is presumed that the material has excellent heat resistance, but there is no example of evaluating the characteristics at a high temperature of 300 ° C. or higher. Heat resistance is unknown. In addition, in the material in which the hydroxyl group of phenol is protected with an alkyl group such as a methyl group, the thermal characteristics have not been evaluated, and thus the thermal characteristics of the material could not be understood.
以上のことから、500℃以上の温度で製膜ができ、透明性が高く、得られた膜にクラックが入らない新規シリコーン材料が求められていた。 From the above, a new silicone material that can be formed at a temperature of 500 ° C. or higher, has high transparency, and does not crack in the obtained film has been demanded.
本発明は、500℃以上の温度で製膜ができ、透明性が高く、得られた膜にクラックが入らないシリコーン材料であり、かつ、高耐熱性、高耐溶剤性の特性を有する膜を形成できる新規シリコーン共重合体を提供することを目的としてなされたものである。 The present invention is a silicone material that can be formed at a temperature of 500 ° C. or higher, has high transparency, does not crack in the obtained film, and has high heat resistance and high solvent resistance. It was made for the purpose of providing a novel silicone copolymer that can be formed.
本発明は、一般式 The present invention provides a general formula
(式中、Aはメチレン基、Bはメチル基を示し、Rは炭化水素基を示す。a、bはモル%を示す。aは30〜100モル%、bは0〜70モル%を示し、a+b=100を示す。nは1または2である。)
で示される繰り返し単位を有し、ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが複数であるシリコーン重合体である。
(In the formula, A represents a methylene group, B represents a methyl group, R represents a hydrocarbon group, a and b represent mol%, a represents 30 to 100 mol%, and b represents 0 to 70 mol%. A + b = 100, n is 1 or 2.)
And a silicone polymer having a plurality of peaks obtained by gel permeation chromatography measurement.
本発明のシリコーン共重合体は、シリコンウェハーなどの基板にスピンコートした後、500℃以上で加熱しても基板と密着しており、かつ高いクラック耐性を有し、高い耐熱性を有する非常に優れた材料になる。 The silicone copolymer of the present invention is in close contact with the substrate even after being heated at 500 ° C. or higher after spin coating on a substrate such as a silicon wafer, and has high crack resistance and high heat resistance. It becomes an excellent material.
また、本発明のシリコーン共重合体は、可視光領域の波長における透明性が良く、密着性、クラック耐性に優れた材料でありことから、液晶表示素子や半導体素子等の電子部品や焼成後も高クラック耐性を有していることから、太陽電池などの高耐熱性材料として利用できる。 In addition, since the silicone copolymer of the present invention is a material having good transparency in the visible light wavelength, and excellent adhesion and crack resistance, it can be used for electronic parts such as liquid crystal display elements and semiconductor elements and after firing. Since it has high crack resistance, it can be used as a high heat resistant material such as a solar cell.
また、本発明のシリコーン共重合体は電子分野に限らず、塗料や接着剤等、幅広い分野に応用できる。 Further, the silicone copolymer of the present invention can be applied not only to the electronic field but also to a wide range of fields such as paints and adhesives.
本発明は、一般式 The present invention provides a general formula
(式中、Aはメチレン基、Bはメチル基を示し、Rは炭化水素基を示す。a、bはモル%を示す。aは30〜100モル%、bは0〜70モル%を示し、a+b=100を示す。nは1または2である。)
で示される繰り返し単位を有し、
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが複数であるシリコーン重合体である。
(In the formula, A represents a methylene group, B represents a methyl group, R represents a hydrocarbon group, a and b represent mol%, a represents 30 to 100 mol%, and b represents 0 to 70 mol%. A + b = 100, n is 1 or 2.)
Having a repeating unit represented by
It is a silicone polymer having a plurality of peaks obtained by measurement by gel permeation chromatography.
本発明のシリコーン共重合体の下記構造 The following structure of the silicone copolymer of the present invention
は、シルセスキオキサン骨格を示し、各ケイ素原子が3個の酸素原子に結合し、各酸素原子が2個のケイ素原子に結合していることを示す。シルセスキオキサン骨格は、例えば、下記一般式 Represents a silsesquioxane skeleton, wherein each silicon atom is bonded to three oxygen atoms, and each oxygen atom is bonded to two silicon atoms. The silsesquioxane skeleton has, for example, the following general formula
に示す構造式で示すことができる。 It can be shown by the structural formula shown in
本発明のシリコーン重合体では、Aは、メチレン基である。 The silicone polymers of the present invention, A is main styrene group.
本発明のシリコーン重合体では、Bは、メチル基である。 The silicone polymers of the present invention, B is a methyltransferase group.
Rは炭化水素基を示す。Rが炭化水素基であると、シリコーン共重合体を加熱による膜を形成するときに、加熱硬化膜に着色しにくくなる。 R represents a hydrocarbon group. When R is a hydrocarbon group, it becomes difficult to color the heat-cured film when a film is formed by heating the silicone copolymer.
好ましい炭化水素基は、炭素数1〜20の直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基、環状炭化水素基であり、炭素数1〜20の直鎖状炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基などの炭化水素基が挙げられる。分岐状炭化水素基としては、イソプロピル基、イソブチル基などの炭化水素基が好ましい。環状炭化水素基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などの環状炭化水素基が好ましく、またノルボルナン骨格を有するような架橋型炭化水素基も好ましい。これらの炭化水素基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜5の炭化水素基は、シリコーン共重合体全体のシリコン含有率を向上させるため、シリコーン樹脂の耐熱性が向上することからより好ましく、原料入手の容易さからメチル基がさらに好ましい。 A preferred hydrocarbon group is a linear hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a branched hydrocarbon group, or a cyclic hydrocarbon group. As the linear hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, Examples thereof include hydrocarbon groups such as an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and an n-pentyl group. As the branched hydrocarbon group, a hydrocarbon group such as isopropyl group and isobutyl group is preferable. As the cyclic hydrocarbon group, a cyclic hydrocarbon group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a cycloheptyl group is preferable, and a bridged hydrocarbon group having a norbornane skeleton is also preferable. Among these hydrocarbon groups, hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group improve the silicon content of the entire silicone copolymer. It is more preferable from the viewpoint of improvement, and a methyl group is more preferable from the viewpoint of availability of raw materials.
また、Rは、好ましくは、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ジフェニルメチル基、シンナミル基、スチリル基、トリチル基などのベンゼン環と炭化水素基とを有した置換基、トルイル基、クメニル基、メシル基、キシリル基などのベンゼン環に置換基が結合した芳香族炭化水素基が挙げられる。4−メチルフェニルエチル基、4−メチルフェニルプロピル基、2,4−ジメチルフェニルエチル基等、ベンゼン環に置換基が結合していても良い。芳香族炭化水素基は、樹脂の耐熱性を向上させることができるためより好ましい。芳香族環とシリコン原子との間に置換基がない場合は、置換基がある場合と比較して一般的にガラス転移温度が低下し耐熱性が悪くなる場合があることから、フェニル基、トルイル基、クメニル基、メシル基、キシリル基等の芳香族炭化水素基が特に好ましく一般的に入手が容易なフェニル基がさらに好ましい。 R is preferably a phenyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a diphenylmethyl group, a cinnamyl group, a styryl group, a trityl group, a substituent having a benzene ring and a hydrocarbon group, or a toluyl group. And an aromatic hydrocarbon group having a substituent bonded to a benzene ring, such as a cumenyl group, a mesyl group, or a xylyl group. A substituent may be bonded to the benzene ring such as a 4-methylphenylethyl group, a 4-methylphenylpropyl group, or a 2,4-dimethylphenylethyl group. An aromatic hydrocarbon group is more preferable because it can improve the heat resistance of the resin. When there is no substituent between the aromatic ring and the silicon atom, the glass transition temperature is generally lower and the heat resistance may be worse than when there is a substituent. Group, cumenyl group, mesyl group, xylyl group and other aromatic hydrocarbon groups are particularly preferred, and generally easily available phenyl groups are more preferred.
本発明のシリコーン重合体では、一般式 In the silicone polymer of the present invention, the general formula
(式中、Aはメチレン基、Bはメチル基を示し、Rは炭化水素基を示す。a、bはモル%を示す。aは30〜100モル%、bは0〜70モル%を示し、a+b=100を示す。)
において、nは1、2の整数を示し、原料入手の観点からn=1が好ましい。
(In the formula, A represents a methylene group, B represents a methyl group, R represents a hydrocarbon group, a and b represent mol%, a represents 30 to 100 mol%, and b represents 0 to 70 mol%. A + b = 100.)
In the above, n represents an integer of 1 or 2, and n = 1 is preferable from the viewpoint of obtaining raw materials.
a成分は、アルコキシフェニルユニットを示し、加熱硬化膜のクラックを抑制するユニットであり、aは30〜100モル%を示す。b成分のRは、シリコーン共重合体の特性を向上させる部位であり、体熱性を向上させたり、シリコン含有率を向上させたりするユニットであり、bは0〜70モル%を示す。本発明のシリコーン重合体では、a+b=100である。 The component a represents an alkoxyphenyl unit and is a unit that suppresses cracks in the heat-cured film, and a represents 30 to 100 mol%. R of b component is a site | part which improves the characteristic of a silicone copolymer, and is a unit which improves body heat property or improves a silicon content rate, b shows 0-70 mol%. In the silicone polymer of the present invention, a + b = 100.
aは、30〜90モル%が好ましく、50〜90モル%がより好ましく、70〜90モル%がさらにより好ましい。bは10〜70モル%が好ましく、10〜50モル%が好ましく、10〜30モル%がよりさらに好ましい。 a is preferably 30 to 90 mol%, more preferably 50 to 90 mol%, and still more preferably 70 to 90 mol%. b is preferably 10 to 70 mol%, preferably 10 to 50 mol%, and more preferably 10 to 30 mol%.
本発明のシリコーン重合体は、好ましくは、下記一般式 The silicone polymer of the present invention preferably has the following general formula
(式中、Aはメチレン基、Bはメチル基を示し、nは1または2を示す)
で示される構成単位のみからなるシリコーン重合体である。
(In the formula, A represents a methylene group, B represents a methyl group, and n represents 1 or 2)
It is a silicone polymer which consists only of structural units shown.
本発明のシリコーン重合体は、ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが複数であるシリコーン重合体である。ゲル浸透クロマトグラフィはGPCと略すことが多い。本分析では分子の大きさによりポリマを分離できる分析カラムを使用しており、東ソー製HLC-8220GPCシステムを使用し、東ソー製TSKgel SuperHZ3000、TSKgel SuperHZ2000、TSKgel1000を直列に接続して分析を行う。検出はRIで行い、リファレンスカラムとしてTSKgelSuperH-RCを1本使用する。展開溶媒には和光純薬製テトラヒドロフランを使用し、カラムとリファレンスカラムの流速は0.35mL/minで行う。測定温度はプランジャーポンプ、カラム共に40℃で行う。サンプルの調整にはシリコーン重合体約0.025gを10mLのテトラヒドロフランで希釈したものを1μL打ちこむ設定で行う。分子量分布計算には、東ソー製TSK標準ポリスチレン(A-500、A-1000、A-2500、A-5000、F-1、F-2、F-4、F-10、F-20、F-40、F-80)を標準物質として使用して算出した。 The silicone polymer of the present invention is a silicone polymer having a plurality of peaks obtained by measurement by gel permeation chromatography. Gel permeation chromatography is often abbreviated as GPC. This analysis uses an analytical column that can separate polymers according to the size of the molecule, and uses Tosoh's HLC-8220GPC system, and Tosoh's TSKgel SuperHZ3000, TSKgel SuperHZ2000, and TSKgel1000 are connected in series for analysis. Detection is performed by RI, and one TSKgelSuperH-RC is used as a reference column. Tetrahydrofuran manufactured by Wako Pure Chemicals is used as the developing solvent, and the flow rate between the column and the reference column is 0.35 mL / min. The measurement temperature is 40 ° C. for both the plunger pump and the column. The sample is prepared by setting 1 μL of about 0.025 g of a silicone polymer diluted with 10 mL of tetrahydrofuran. For molecular weight distribution calculation, Tosoh's TSK standard polystyrene (A-500, A-1000, A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F- 40, F-80) as a standard substance.
本発明のゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが複数あるシリコーン重合体は、分子量分布領域を変曲点で分離して得られるピークが複数あるシリコーン重合体であり、2以上のピークを有するシリコーン重合体を示す。分子量分布が高くなると得られるピークの数は大きくなるが、分散度が高いポリマとなるため特性が得られない場合がある。よってピークの数は2〜10が好ましく、さらに2〜5がさらに好ましい。 The silicone polymer having a plurality of peaks obtained by the gel permeation chromatography measurement of the present invention is a silicone polymer having a plurality of peaks obtained by separating the molecular weight distribution region at the inflection point, and a silicone having two or more peaks. A polymer is shown. When the molecular weight distribution is high, the number of peaks obtained is large, but since the polymer has a high degree of dispersion, characteristics may not be obtained. Therefore, the number of peaks is preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 5.
ゲル浸透クロマトグラフィは分子の大きさを区別することで表れるピークであることから、複数のピークがあることは、本発明のシリコーン重合体は、通常、分子の立体構造が複数存在することを示す。 Since gel permeation chromatography is a peak that appears by distinguishing the size of a molecule, the presence of a plurality of peaks usually indicates that the silicone polymer of the present invention has a plurality of molecular three-dimensional structures.
本発明のシリコーン重合体は、分子の立体構造には次の籠型の構造が含まれていても良い。代表的な籠型構造は下記一般式 In the silicone polymer of the present invention, the following cage structure may be included in the three-dimensional structure of the molecule. Typical saddle type structure is the following general formula
(式中、Rは一般的な有機基を示す)
で示されるケイ素原子を8つ有するT8構造と、下記一般式
(In the formula, R represents a general organic group)
A T8 structure having eight silicon atoms represented by the following general formula:
(式中、Rは一般的な有機基を示す)
で示されるケイ素原子を10個有するT10構造と、下記一般式
(In the formula, R represents a general organic group)
A T10 structure having 10 silicon atoms represented by the following general formula:
(式中、Rは一般的な有機基を示す)
で示されるケイ素原子を12個有するT12構造が挙げられる。それら構造は完全縮合した形では無く、部分的に末端Si-OHが残っている下記構造式
(In the formula, R represents a general organic group)
The T12 structure which has 12 silicon atoms shown by these is mentioned. These structures are not fully condensed, but have a partial Si-OH residue.
(式中、Rは一般的な有機基を示す)
の構造も含まれる。
(In the formula, R represents a general organic group)
Is also included.
本発明のシリコーン重合体は、一般的には、例えば、下記一般式 The silicone polymer of the present invention generally has, for example, the following general formula:
(式中、Xは加水分解性基を示し、nは1から3を示す。)
で示される加水分解反応と下記一般式
(In the formula, X represents a hydrolyzable group, and n represents 1 to 3.)
And the following general formula
(式中、Xは加水分解性基を示し、nは1から3を示す。)
のとおり加水分解反応と縮重合反応との2反応から合成され、一般的なラジカル縮合とは異なり、使用モノマーや反応条件などから重合度を制御することができる。
(In the formula, X represents a hydrolyzable group, and n represents 1 to 3.)
As described above, it is synthesized from two reactions of a hydrolysis reaction and a polycondensation reaction. Unlike general radical condensation, the degree of polymerization can be controlled from the monomers used and reaction conditions.
本発明のシリコーン共重合体は、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が、500〜20,000の範囲にあるものが好ましく、より好ましくは、1,000〜20,000であり、1,000〜8,000の範囲にあるものがさらに好ましい。本発明のシリコーン共重合体は、分散度が、1.1〜2.5の範囲にあるものが好ましく、1.1〜1.8の範囲にあるものがさらに好ましい。 The silicone copolymer of the present invention preferably has a weight average molecular weight (in terms of polystyrene) in the range of 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 20,000, and 1,000 to 8. More preferred is in the range of 1,000. The silicone copolymer of the present invention preferably has a dispersity in the range of 1.1 to 2.5, and more preferably in the range of 1.1 to 1.8.
本発明のシリコーン重合体は、好ましくは、有機溶媒に可溶であり、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、シクロへキサノール等のアルコール溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコール系溶媒に可溶であり、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの有機溶媒に溶解させた場合は、シリコンウェハーやガラス基板上に有機溶媒に溶解させたシリコーン共重合体をスピンコートすることができ、基板上の膜厚を調整したり、平坦で緻密な膜を形成できることから、沸点の高い溶媒に溶解することは特に好ましい。 The silicone polymer of the present invention is preferably soluble in an organic solvent, and is a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, cyclohexanol, etc. Alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, acetonitrile, benzonitrile, etc. Soluble in glycol solvents such as nitrile solvents, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. For example, when dissolved in an organic solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate, a silicone copolymer dissolved in an organic solvent can be spin-coated on a silicon wafer or glass substrate to adjust the film thickness on the substrate. It is particularly preferable to dissolve in a solvent having a high boiling point because a flat and dense film can be formed.
本発明のシリコーン共重合体は、好ましくは、下記一般式 The silicone copolymer of the present invention preferably has the following general formula
(式中、Aはメチレン基、Bはメチル基を示し、Xは加水分解性基を示す。nは1または2を示す)
で示されるシリコンモノマーを加水分解、縮重合して合成することができる。
(In the formula, A represents a methylene group, B represents a methyl group, X represents a hydrolyzable group, and n represents 1 or 2)
Can be synthesized by hydrolysis and condensation polymerization.
ここで、Xは加水分解性基を示すが、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、もしくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましく、特に塩素原子、メトキシ基、エトキシ基が原料入手と反応性が高いことから特に好ましい。 Here, X represents a hydrolyzable group, preferably a halogen atom of chlorine, bromine or iodine, or an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group, particularly a chlorine atom, a methoxy group or an ethoxy group. Is particularly preferred because of the availability of raw materials and high reactivity.
この加水分解、重縮合反応は、水を用いて行うが、通常、触媒を加えて行うことが好ましい。この場合、酸性触媒、塩基性触媒どちらも使用することができるが、分子量分布の制御と樹脂の耐熱性から末端シラノールが少ないほうが好ましく、加水分解、重縮合反応は塩基性触媒がより好ましい。塩基性触媒としては、無機塩基性触媒、第四級アンモニウム塩、アミン類が好ましく、無機塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。第4級アンモニウム塩としては、テトラブチルアンモニウムフルオライド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラn−ブチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリn−ブチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、n−オクチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキシルトリメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラn−プロピルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド、テトラn−プロピルアンモニウムアイオダイド、トリメチルフェニルアンモニウムアイオダイド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシト゛、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロゲンスルフェート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムチオシアネート、テトラメチルアンモニウムp−トルエンスルフォネートなどが挙げられる。アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。 This hydrolysis and polycondensation reaction is carried out using water, but it is usually preferred to carry out by adding a catalyst. In this case, although both an acidic catalyst and a basic catalyst can be used, it is preferable that the number of terminal silanols is small in view of control of molecular weight distribution and heat resistance of the resin, and basic catalysts are more preferable for hydrolysis and polycondensation reactions. As the basic catalyst, inorganic basic catalysts, quaternary ammonium salts and amines are preferable. Examples of the inorganic basic catalyst include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The quaternary ammonium salts include tetrabutylammonium fluoride, benzyltributylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, tetra n-butylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, benzyltrin-butylammonium. Bromide, benzyltriethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium bromide, n-octyltrimethylammonium bromide, hexyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, tetradecyltrimethylammonium bromide, tetramethylammonium Romide, tetra-n-propylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, tetraethylammonium iodide, tetramethylammonium iodide, tetra-n-propylammonium iodide, trimethylphenylammonium iodide, benzyltrimethylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxy Tetrabutylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetramethylammonium thiocyanate, tetramethylammonium p- G Such as Enns Gandolfo sulfonate, and the like. Examples of amines include trimethylamine, triethylamine, pyridine, N, N-dimethylaminopyridine and the like.
この中で、分子量制御などを考慮すると、第4級アンモニウム塩が好ましく、その中でもベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラn−ブチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリn−ブチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキシルトリメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシト゛、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロゲンスルフェート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムチオシアネート、テトラメチルアンモニウムp−トルエンスルフォネートが特に好ましい。さらに、強い塩基でモノマーの加水分解速度を制御可能なテトラメチルアンモニウムヒドロキシドが一番好ましい。 Among these, considering molecular weight control, quaternary ammonium salts are preferable, among which benzyltributylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, tetra n-butylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, benzyltrin-butylammonium bromide, Benzyltrimethylammonium bromide, hexyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetradecyltrimethylammonium bromide, tetramethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetra Methyl Nmo onium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydrogensulfate sulfate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetramethylammonium thiocyanate, tetramethylammonium p- toluenesulfonate is particularly preferred. Furthermore, tetramethylammonium hydroxide capable of controlling the hydrolysis rate of the monomer with a strong base is most preferable.
この触媒使用量は原料モノマーのモル数に対して0.001〜1.0当量が好ましく、0.01〜0.5当量がさらに好ましい。 The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 1.0 equivalent, more preferably 0.01 to 0.5 equivalent, relative to the number of moles of the raw material monomer.
加水分解、重縮合条件として、反応温度0〜100℃が好ましく、触媒を使用することにより反応が容易に進行することから、20〜50℃がより好ましい。 As the hydrolysis and polycondensation conditions, a reaction temperature of 0 to 100 ° C. is preferable, and the reaction proceeds easily by using a catalyst, and 20 to 50 ° C. is more preferable.
この加水分解、重縮合反応には水が必要であるが、原料モノマーのモル数に対して0.1〜20当量使用することが好ましく、0.5〜1当量使用することが特に好ましい。 Water is necessary for the hydrolysis and polycondensation reaction, but it is preferably used in an amount of 0.1 to 20 equivalents, particularly preferably 0.5 to 1 equivalent, based on the number of moles of the raw material monomer.
この反応では、有機溶媒を使用することが好ましく、有機溶媒としては、トルエン、キシレン等の非プロトン性溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒、等の溶媒を使用することができる。また得られたシロキサン樹脂は例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチルなどの高沸点溶媒に溶解させるため、そのまま反応溶媒に使用しても良い。また非プロトン性溶媒を使用した場合は、水と混合しないため加水分解反応が遅くなると推測され、そのような場合は水に可溶なアルコール溶媒を加えて加水分解反応させることが望ましい。 In this reaction, an organic solvent is preferably used. Examples of the organic solvent include aprotic solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol. , Ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, and the like can be used. Moreover, since the obtained siloxane resin is dissolved in a high-boiling solvent such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, or ethyl lactate, it may be used as it is as a reaction solvent. When an aprotic solvent is used, it is presumed that the hydrolysis reaction is slowed because it is not mixed with water. In such a case, it is desirable to add a water-soluble alcohol solvent to cause the hydrolysis reaction.
反応終了後は、非極性溶媒を添加して反応生成物と水とを分離して、有機溶媒に溶解した反応生成物を回収し、水で洗浄後に溶媒を留去することにより目的の生成物を得ることができる。 After completion of the reaction, a non-polar solvent is added to separate the reaction product and water, and the reaction product dissolved in an organic solvent is recovered. After washing with water, the solvent is distilled off to obtain the desired product. Can be obtained.
このようにして本発明のシリコーン共重合体を合成することができる。 In this way, the silicone copolymer of the present invention can be synthesized.
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
以下の実施例において、測定には下記装置を使用し、原料は試薬メーカー(東京化成品、和光純薬品、ナカライテスク品、アズマックス品、信越化学品)から購入した一般的な試薬を用いた。 In the following examples, the following apparatus was used for the measurement, and general reagents purchased from reagent manufacturers (Tokyo Chemicals, Wako Pure Chemicals, Nacalai Tesque, Azmax, Shin-Etsu Chemical) were used as raw materials.
測定装置
NMR測定
日本電子製400MHz NMR測定器を使用した。合成した化合物を約20〜30mgを和光純薬製CDCl3(テトラメチルシラン(TMSと略す)内部標準0.5%w/w入り)約1gに溶解させその溶液をNMRチューブに全量移液した。測定はオートロックで測定し積算回数は16回で測定した。TMSのピークを基準の0ppmとして解析した。
Measuring device NMR measurement
A 400 MHz NMR measuring instrument manufactured by JEOL was used. About 20 to 30 mg of the synthesized compound was dissolved in about 1 g of CDCl3 (tetramethylsilane (abbreviated as TMS) internal standard 0.5% w / w) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, and the total amount of the solution was transferred to an NMR tube. Measurement was performed with auto-lock and the number of integrations was 16 times. The TMS peak was analyzed as the standard 0 ppm.
IR測定
島津製IR Prestige-21を使用した。KBr板に合成品を少量塗布し、別のKBr板に挟んで赤外を透過させて測定した。
IR measurement
Shimadzu IR Prestige-21 was used. A small amount of the synthesized product was applied to the KBr plate, and sandwiched between different KBr plates to transmit infrared light.
GC測定
島津製GC-2010シリーズを使用した。島津社製GC-2010シリーズでカラムはJ&W社製DB-5(長さ30m×膜厚0.5mmI.D.)を使用した。測定条件は、注入口温度:250℃、検出器温度:300℃、カラム温度:50℃(2min Hold)、その後、10℃/minアップ、さらにその後、300℃(2min Hold)で直接0.1μm打ち込みArea比で純度を算出した。
GC measurement Shimadzu GC-2010 series was used. In the GC-2010 series manufactured by Shimadzu, DB-5 (length 30 m × film thickness 0.5 mm I.D.) manufactured by J & W was used as the column. Measurement conditions are inlet temperature: 250 ° C., detector temperature: 300 ° C., column temperature: 50 ° C. (2 min hold), then 10 ° C./min up, and then 300 μC (2 min hold) and 0.1 μm directly. Purity was calculated by the implantation Area ratio.
GPC測定
東ソー製HLC-8220GPCシステムを使用し、東ソー製TSKgel SuperHZ3000、TSKgel SuperHZ2000、TSKgel1000を直列に接続して分析を行った。検出はRIで行い、リファレンスカラムとしてTSKgelSuperH-RCを1本使用した。展開溶媒には和光純薬製テトラヒドロフランを使用し、カラムとリファレンスカラムの流速は0.35mL/minで行った。測定温度はプランジャーポンプ、カラム共に40℃で行った。サンプルの調整にはシリコーン重合体約0.025gを10mLのテトラヒドロフランで希釈したものを1μL打ちこむ設定で行った。分子量分布計算には、東ソー製TSK標準ポリスチレン(A-500、A-1000、A-2500、A-5000、F-1、F-2、F-4、F-10、F-20、F-40、F-80)を標準物質として使用して算出した。
GPC measurement
Using the Tosoh HLC-8220GPC system, Tosoh TSKgel SuperHZ3000, TSKgel SuperHZ2000, and TSKgel1000 were connected in series for analysis. Detection was performed by RI, and one TSKgelSuperH-RC was used as a reference column. Tetrahydrofuran manufactured by Wako Pure Chemicals was used as the developing solvent, and the flow rate between the column and the reference column was 0.35 mL / min. The measurement temperature was 40 ° C. for both the plunger pump and the column. The sample was prepared by setting 1 μL of about 0.025 g of a silicone polymer diluted with 10 mL of tetrahydrofuran. For molecular weight distribution calculation, Tosoh's TSK standard polystyrene (A-500, A-1000, A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F- 40, F-80) as a standard substance.
合成例1
4−メトキシベンジルトリメトキシシランの合成例
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、マグネシウム19.0g(0.784モル)とテトラヒドロフラン300mLを加えヨウ素辺を加えた。そこに少量の4−メトキシベンジルクロライドを滴下し反応を開始させた後、4−メトキシベンジルクロライド合計116.9g(0.746モル)を5〜10℃で滴下してグリニャール試薬を調整した。
Synthesis example 1
Synthesis example of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane To a 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 19.0 g (0.784 mol) of magnesium and 300 mL of tetrahydrofuran were added, and the iodine side was adjusted. added. A small amount of 4-methoxybenzyl chloride was added dropwise thereto to start the reaction, and then a total of 116.9 g (0.746 mol) of 4-methoxybenzyl chloride was added dropwise at 5 to 10 ° C. to prepare a Grignard reagent.
次に撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた1000mL4つ口フラスコに正珪酸メチル568g(3.73モル)仕込み、70〜80℃の温度で先に調整したグリニャール試薬を2時間かけて滴下した。その後冷却し析出したマグネシウム塩をろ過した後、溶媒を留去し、さらに減圧度5mmHgで128〜135℃の留分を122g(0.495モル)回収した。得られた留分のGC分析結果、GC純度98.8%、NMRとIR分析の結果、4−メトキシベンジルトリメトキシシランであった。 Next, 568 g (3.73 mol) of normal methyl silicate was charged into a 1000 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel, and a thermometer, and 2 Grignard reagents previously adjusted at a temperature of 70 to 80 ° C. It was added dropwise over time. After cooling and filtering the precipitated magnesium salt, the solvent was distilled off, and 122 g (0.495 mol) of a 128-135 ° C. fraction was recovered at a reduced pressure of 5 mmHg. As a result of GC analysis of the obtained fraction, GC purity was 98.8%, and NMR and IR analysis revealed that it was 4-methoxybenzyltrimethoxysilane.
得られた化合物のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained compound is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
2839,2941cm-1 (-CH3,Ar)、1080cm-1(Si-O)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR溶媒:CDCl3)
2.15(s、2H、-CH2-)、3.52(s、9H、-OCH3)、3.76(s、3H、CH3-O-)、6.78-6.80(d、J=8.5Hz、2H、Ar-H)、7.07-7.09(d、J=8.5Hz、2H、Ar-H)ppm。
Infrared absorption spectrum (IR) data
2839,2941cm -1 (-CH3, Ar), 1080cm -1 (Si-O)
Nuclear magnetic resonance spectra (NMR) data (1 H-NMR solvent: CDCl?)
2.15 (s, 2H, -CH2-), 3.52 (s, 9H, -OCH3), 3.76 (s, 3H, CH3-O-), 6.78-6.80 (d, J = 8.5Hz, 2H, Ar-H) 7.07-7.09 (d, J = 8.5 Hz, 2H, Ar—H) ppm.
実施例1
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが3つである4−メトキシベンジルシルセスキオキサンの合成
Example 1
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane with three peaks obtained by gel permeation chromatography measurement
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、25%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液2.6gと水9.4gを仕込み、2−プロパノール60mLとトルエン30mLを加えた。そこに4−メトキシベンジルトリメトキシシラン59.2g(0.244モル)のトルエン30mL溶液を滴下ロートに入れ撹拌しながら35〜45℃の温度で滴下した。滴下終了後2時間熟成し、室温に冷却後トルエン90mLと水90mLを加え抽出した。分液ロートに入れ水層を排出後、次に希酢酸水溶液で洗浄し、水層を排出後続けて水で4回洗浄を行った。その後油層を0.5μmのPTFEフィルターでろ過後トルエンを留去してかご型形状の4−メトキシベンジルシルセスキオキサン46.8g得た。 A 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 2.6 g of 25% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and 9.4 g of water, and 60 mL of 2-propanol and 30 mL of toluene were added. It was. Thereto, a 30 mL solution of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane in 59.2 g (0.244 mol) in toluene was placed in a dropping funnel and added dropwise at a temperature of 35 to 45 ° C. with stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged for 2 hours, cooled to room temperature, and extracted with 90 mL of toluene and 90 mL of water. After putting into the separatory funnel and discharging the aqueous layer, it was washed with dilute acetic acid aqueous solution, and after discharging the aqueous layer, it was washed with water four times. Thereafter, the oil layer was filtered with a 0.5 μm PTFE filter, and then toluene was distilled off to obtain 46.8 g of cage-shaped 4-methoxybenzylsilsesquioxane.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1038-1296cm-1(Si-O)、2833-3030 cm-1(C-H)、3410 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
1.78(bs、2H、-CH2-)、3.68(bs、3H、CH3-O-)、6.72(bs、4H、Ar-H)ppm。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1038-1296cm -1 (Si-O), 2833-3030 cm -1 (CH), 3410 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
1.78 (bs, 2H, -CH2-), 3.68 (bs, 3H, CH3-O-), 6.72 (bs, 4H, Ar-H) ppm.
GPC分析データ:Mw=2,320、Mn=2,050、Mw/Mn=1.13(ポリスチレン換算)
図1、図2に、実施例1のゲル浸透クロマトグラフィの測定結果を示した。図中、○はポリスチレンで測定した検量線を示し、一番右の○は重量平均分子量(Mw)500を示し。その間のピークがシリコーン共重合体のピークを示す。図2では、ピーク数を示すため変曲点で分割した。2つの変曲点が存在し、ピーク数は3本であった。
GPC analysis data: Mw = 2,320, Mn = 2,050, Mw / Mn = 1.13 (polystyrene conversion)
1 and 2 show the measurement results of gel permeation chromatography of Example 1. FIG. In the figure, ◯ indicates a calibration curve measured with polystyrene, and the rightmost ◯ indicates a weight average molecular weight (Mw) 500. The peak in between is the peak of the silicone copolymer. In FIG. 2, it was divided at the inflection point to show the number of peaks. There were two inflection points and the number of peaks was three.
実施例2
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが3つである4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合物の合成
Example 2
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer having three peaks obtained by gel permeation chromatography
(70:30は原料の仕込みモル組成比を示す)
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、25%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液2.1gと水7.5gを仕込み、2−プロパノール60mLとトルエン30mLを加えた。そこに4−メトキシベンジルトリメトキシシラン47.4g(0.195モル)とフェニルトリメトキシシラン16.6g(0.084モル)のトルエン30mL溶液を滴下ロートに入れ撹拌しながら35〜45℃の温度で滴下した。滴下終了後2時間熟成し実施例1に記載の抽出方法で精製して、かご型形状の4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合体45.0g得た。
(70:30 indicates the charged molar composition ratio of raw materials)
A 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 2.1 g of 25% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and 7.5 g of water, and 60 mL of 2-propanol and 30 mL of toluene were added. It was. A solution of 47.4 g (0.195 mol) of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane and 16.6 g (0.084 mol) of phenyltrimethoxysilane in 30 mL of toluene was placed in a dropping funnel and stirred at a temperature of 35 to 45 ° C. It was dripped at. After completion of the dropping, the mixture was aged for 2 hours and purified by the extraction method described in Example 1 to obtain 45.0 g of a cage-shaped 4-methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1132cm-1(Si-O)、2970-3071 cm-1(C-H)、3080-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
1.87(bs、1.4H、-CH2-)、3.69(bs、2.1H、CH3-O-)、6.10-7.50(m、5H、Ar-H)ppm。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1132cm -1 (Si-O), 2970-3071 cm -1 (CH), 3080-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
1.87 (bs, 1.4H, -CH2-), 3.69 (bs, 2.1H, CH3-O-), 6.10-7.50 (m, 5H, Ar-H) ppm.
GPC分析データ:Mw=2,800、Mn=2,210、Mw/Mn=1.27(ポリスチレン換算)
GPC分析結果からピーク数は3本であった。
GPC analysis data: Mw = 2,800, Mn = 2,210, Mw / Mn = 1.27 (polystyrene conversion)
The number of peaks was 3 from the GPC analysis results.
実施例3
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが3である4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合物の合成
Example 3
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / methylsilsesquioxane
(70:30は原料の仕込みモル組成比を示す)
合成は実施例3と同様の操作で行い、フェニルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシラン11.4g(0.084モル)に代えて行いかご型形状の4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体38.7g得た。
(70:30 indicates the charged molar composition ratio of raw materials)
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 3, except that phenyltrimethoxysilane was replaced with 11.4 g (0.084 mol) of methyltrimethoxysilane, and cage-shaped 4-methoxybenzylsilsesquioxane / methylsilsesquito. 38.7 g of an oxane copolymer was obtained.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1132cm-1(Si-O)、2970-3071 cm-1(C-H)、3080-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
0.10(bs、1.8H、CH3-Si)、1.94(bs、1.4H、Ar-CH2-Si)、3.71(bs、2.1H、CH3-O-Ar)、6.72(bs、2.9H、Ar-H)ppm。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1132cm -1 (Si-O), 2970-3071 cm -1 (CH), 3080-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
0.10 (bs, 1.8H, CH3-Si), 1.94 (bs, 1.4H, Ar-CH2-Si), 3.71 (bs, 2.1H, CH3-O-Ar), 6.72 (bs, 2.9H, Ar-H) ) Ppm.
GPC分析データ:Mw=3,830、Mn=2,250、Mw−Mn=1.70(ポリスチレン換算)
GPC分析結果からピーク数は3本であった。
GPC analysis data: Mw = 3,830, Mn = 2,250, Mw-Mn = 1.70 (polystyrene conversion)
The number of peaks was 3 from the GPC analysis results.
実施例4
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが3本である4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・n−プロピルシルセスキオキサン共重合物の合成
Example 4
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / n-propylsilsesquioxane copolymer having three peaks obtained by gel permeation chromatography measurement
(70:30は原料の仕込みモル組成比を示す)
合成は実施例3と同様の操作で行い、フェニルトリメトキシシランをn−プロピルトリメトキシシラン13.8g(0.084モル)に代えて行いかご型形状の4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体40.2g得た。
(70:30 indicates the charged molar composition ratio of raw materials)
The synthesis was carried out in the same manner as in Example 3, except that phenyltrimethoxysilane was replaced with 13.8 g (0.084 mol) of n-propyltrimethoxysilane and cage-shaped 4-methoxybenzylsilsesquioxane / methyl 40.2g of silsesquioxane copolymer was obtained.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1132cm-1(Si-O)、2970-3071 cm-1(C-H)、3080-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
0.43(bs、0.6H、-CH2-Si)、0.87(bs、0.9H、CH3-)、1.24(bs、0.6H、-CH2-)、1.86(bs、1.4H、Ar-CH2-Si)、3.75(bs、2.1H、CH3-O-)、6.71(bs、2.9H、Ar-H)ppm
GPC分析データ:Mw=2,770、Mn=1,990、Mw/Mn=1.39(ポリスチレン換算)
GPC分析結果からピーク数は3本であった。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1132cm -1 (Si-O), 2970-3071 cm -1 (CH), 3080-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
0.43 (bs, 0.6H, -CH2-Si), 0.87 (bs, 0.9H, CH3-), 1.24 (bs, 0.6H, -CH2-), 1.86 (bs, 1.4H, Ar-CH2-Si), 3.75 (bs, 2.1H, CH3-O-), 6.71 (bs, 2.9H, Ar-H) ppm
GPC analysis data: Mw = 2,770, Mn = 1,990, Mw / Mn = 1.39 (polystyrene conversion)
The number of peaks was 3 from the GPC analysis results.
実施例5
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが3本である4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合物の合成
Example 5
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer having three peaks obtained by gel permeation chromatography
(50:50は原料の仕込みモル組成比を示す)
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、25%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液2.1gと水7.5gを仕込み、2−プロパノール60mLとトルエン30mLを加えた。そこに4−メトキシベンジルトリメトキシシラン33.9g(0.140モル)とフェニルトリメトキシシラン27.8g(0.140モル)のトルエン30mL溶液を滴下ロートに入れ撹拌しながら35〜45℃の温度で滴下した。滴下終了後2時間熟成し実施例1に記載の抽出方法で精製して、4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合体43.2g得た。
(50:50 indicates the charged molar composition ratio of raw materials)
A 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 2.1 g of 25% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and 7.5 g of water, and 60 mL of 2-propanol and 30 mL of toluene were added. It was. A toluene solution of 33.9 g (0.140 mol) of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane and 27.8 g (0.140 mol) of phenyltrimethoxysilane was placed in a dropping funnel and stirred at a temperature of 35 to 45 ° C. It was dripped at. After completion of the dropping, the mixture was aged for 2 hours and purified by the extraction method described in Example 1 to obtain 43.2 g of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1132cm-1(Si-O)、2970-3071 cm-1(C-H)、3080-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
1.87(bs、1.4H、-CH2-)、3.69(bs、2.1H、CH3-O-)、6.10-7.50(m、5H、Ar-H)
GPC分析データ:Mw=2,800、Mn=2,210、Mw/Mn=1.27(ポリスチレン換算)
図3、図4に、実施例5のゲル浸透クロマトグラフィの測定結果を示した。図中、○はポリスチレンで測定した検量線を示し、一番右の○は重量平均分子量(Mw)500を示し。その間のピークがシリコーン共重合体のピークを示す。図4では、ピーク数を示すため変曲点で分割した。4つの変曲点が存在し、ピーク数は5本であった。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1132cm -1 (Si-O), 2970-3071 cm -1 (CH), 3080-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
1.87 (bs, 1.4H, -CH2-), 3.69 (bs, 2.1H, CH3-O-), 6.10-7.50 (m, 5H, Ar-H)
GPC analysis data: Mw = 2,800, Mn = 2,210, Mw / Mn = 1.27 (polystyrene conversion)
The measurement result of the gel permeation chromatography of Example 5 was shown in FIG. 3, FIG. In the figure, ◯ indicates a calibration curve measured with polystyrene, and the rightmost ◯ indicates a weight average molecular weight (Mw) 500. The peak in between is the peak of the silicone copolymer. In FIG. 4, it was divided at the inflection point to show the number of peaks. There were 4 inflection points and the number of peaks was 5.
比較例1
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが1本である4−メトキシベンジルシルセスキオキサン重合物の合成
Comparative Example 1
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane polymer having one peak obtained by gel permeation chromatography measurement
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、35%塩酸水溶液3.3gと水120gを仕込み撹拌を開始した。また、4−メトキシベンジルトリメトキシシラン78.5g(0.324モル)のトルエン120mL溶液を15〜20℃で滴下した。その後15〜20℃の温度でそのまま2時間熟成し、トルエンを加えて抽出し、水層を除去後、炭酸水素ナトリウム水溶液、希酢酸水溶液、水で4回洗浄後、油層を濃縮して4−メトキシベンジルシルセスキオキサン縮重合物57.5gを得た。 A 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer was charged with 3.3 g of 35% aqueous hydrochloric acid and 120 g of water, and stirring was started. Moreover, the toluene 120mL solution of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane 78.5g (0.324 mol) was dripped at 15-20 degreeC. Thereafter, the mixture was aged for 2 hours at a temperature of 15 to 20 ° C., extracted by adding toluene, removed the aqueous layer, washed 4 times with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dilute acetic acid aqueous solution and water, concentrated the oil layer to 4- 57.5 g of a methoxybenzylsilsesquioxane condensation polymer was obtained.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1246cm-1(Si-O)、2951-3071 cm-1(C-H)、3165-3603 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
1.83(bs、2H、-CH2-)、3.68(bs、3H、CH3-O-)、6.69(bs、4H、Ar-H)ppm
GPC分析データ:Mw=2,530、Mn=1,610、Mw/Mn=1.57(ポリスチレン換算)
図5に、比較例1のゲル浸透クロマトグラフィの測定結果を示した。図中、○はポリスチレンで測定した検量線を示し、一番右の○は重量平均分子量(Mw)500を示し。その間のピークがシリコーン共重合体のピークを示す。GPC分析結果からピーク形状は1本であることが分かった。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1246cm -1 (Si-O), 2951-3071 cm -1 (CH), 3165-3603 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
1.83 (bs, 2H, -CH2-), 3.68 (bs, 3H, CH3-O-), 6.69 (bs, 4H, Ar-H) ppm
GPC analysis data: Mw = 2,530, Mn = 1,610, Mw / Mn = 1.57 (polystyrene conversion)
In FIG. 5, the measurement result of the gel permeation chromatography of the comparative example 1 was shown. In the figure, ◯ indicates a calibration curve measured with polystyrene, and the rightmost ◯ indicates a weight average molecular weight (Mw) 500. The peak in between is the peak of the silicone copolymer. From the GPC analysis results, it was found that there was one peak shape.
比較例2
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが1本である4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合物の合成
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた2000mL4つ口フラスコに、35%塩酸水溶液16.9gと水584gを仕込み撹拌を開始した。また、4−メトキシベンジルトリメトキシシラン291.3g(1.20モル)とフェニルトリメトキシシラン92.7g(0.467モル)のトルエン700mL溶液を15〜20℃で滴下した。その後15〜20℃の温度でそのまま2時間熟成し、トルエンを加えて抽出し、水層を除去後、炭酸水素ナトリウム水溶液、希酢酸水溶液、水で4回洗浄後、油層を濃縮して4−メトキシベンジルシルセスキオキサン・フェニルシルセスキオキサン共重合物255gを得た。
Comparative Example 2
Synthesis of 4-methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer having one peak obtained by gel permeation chromatography measurement 2000 mL4 equipped with stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer A 1-necked flask was charged with 16.9 g of 35% aqueous hydrochloric acid and 584 g of water, and stirring was started. Moreover, the toluene 700mL solution of 4-methoxybenzyltrimethoxysilane 291.3g (1.20mol) and phenyltrimethoxysilane 92.7g (0.467mol) was dripped at 15-20 degreeC. Thereafter, the mixture was aged for 2 hours at a temperature of 15 to 20 ° C., extracted by adding toluene, removed the aqueous layer, washed 4 times with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dilute acetic acid aqueous solution and water, concentrated the oil layer to 4- 255 g of methoxybenzylsilsesquioxane / phenylsilsesquioxane copolymer was obtained.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1026-1130cm-1(Si-O)、2970-3070 cm-1(C-H)、3080-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
1.87(bs、1.4H、-CH2-)、3.69(bs、2.1H、CH3-O-)、6.10-7.50(m、5H、Ar-H)
GPC分析データ:Mw=2,440、Mn=2,190、Mw/Mn=1.11(ポリスチレン換算)
図6に、比較例2のゲル浸透クロマトグラフィの測定結果を示した。図中、○はポリスチレンで測定した検量線を示し、一番右の○は重量平均分子量(Mw)500を示し。その間のピークがシリコーン共重合体のピークを示す。GPC分析結果からピーク形状は1本であることが分かった。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1026-1130cm -1 (Si-O), 2970-3070 cm -1 (CH), 3080-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
1.87 (bs, 1.4H, -CH2-), 3.69 (bs, 2.1H, CH3-O-), 6.10-7.50 (m, 5H, Ar-H)
GPC analysis data: Mw = 2,440, Mn = 2,190, Mw / Mn = 1.11 (polystyrene conversion)
In FIG. 6, the measurement result of the gel permeation chromatography of the comparative example 2 was shown. In the figure, ◯ indicates a calibration curve measured with polystyrene, and the rightmost ◯ indicates a weight average molecular weight (Mw) 500. The peak in between is the peak of the silicone copolymer. From the GPC analysis results, it was found that there was one peak shape.
比較例3
ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが1本であるフェニルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体の合成
Comparative Example 3
Synthesis of phenylsilsesquioxane / methylsilsesquioxane copolymer with one peak obtained by gel permeation chromatography
(70:30の仕込みモル組成比を示す)
(構造式中の50:50は使用原料のモル比)
撹拌機、還流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた500mL4つ口フラスコに、トルエン50.6gと水33.4gを仕込み、35%塩酸を3.13g(0.03モル)を加えた。次にフェニルトリメトキシシラン41.9g(0.211モル)、メチルトリメトキシシラン12.5g(0.091モル)のトルエン25.3gの溶液を15〜20℃で滴下した。滴下終了後、同温度で2時間熟成させた。このときの反応溶液をGCで分析した結果、原料は残っていないことが分かった。次にトルエンと水を加えて抽出し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後に、水で溶液が中性になるまで洗浄した。トルエン油層を回収し、トルエンを除去して、目的の白色固体状の化合物27.2gを得た。
(Indicates a charged molar composition ratio of 70:30)
(50:50 in the structural formula is the molar ratio of the raw materials used)
A 500 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel, and a thermometer was charged with 50.6 g of toluene and 33.4 g of water, and 3.13 g (0.03 mol) of 35% hydrochloric acid was added. . Next, a solution of 45.3 g (0.211 mol) of phenyltrimethoxysilane and 25.3 g of toluene of 12.5 g (0.091 mol) of methyltrimethoxysilane was added dropwise at 15 to 20 ° C. After completion of dropping, the mixture was aged at the same temperature for 2 hours. As a result of analyzing the reaction solution at this time by GC, it was found that no raw material remained. Next, toluene and water were added for extraction, and after washing with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, the solution was washed with water until the solution became neutral. The toluene oil layer was recovered, and toluene was removed to obtain 27.2 g of the target white solid compound.
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。 The spectrum data of the obtained copolymer is shown below.
赤外線吸収スペクトル(IR)データ
1028-1132cm-1(Si-O)、2970-3070 cm-1(C-H)、3070-3700 cm-1(Si-OH)
核磁気共鳴スペクトル(NMR)データ(1H-NMR δ(ppm)、溶媒:CDCl3)
0.16(bs)、7.00-7.57(m)、7.57-7.90(m)
GPC分析データ:Mw=960、Mw/Mn=1.25(ポリスチレン換算)
GPC分析結果からピーク形状は1本であることが分かった。
Infrared absorption spectrum (IR) data
1028-1132cm -1 (Si-O), 2970-3070 cm -1 (CH), 3070-3700 cm -1 (Si-OH)
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) data ( 1 H-NMR δ (ppm), solvent: CDCl 3 )
0.16 (bs), 7.00-7.57 (m), 7.57-7.90 (m)
GPC analysis data: Mw = 960, Mw / Mn = 1.25 (polystyrene conversion)
From the GPC analysis results, it was found that there was one peak shape.
<合成材料の評価>
実施例1〜5、及び、比較例1、2の製造されたシリコーン重合体を、それぞれをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、固形分濃度が40重量%になるように調整した溶液を得た。その後、当該溶液をPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製のフィルタで濾過し、シリコンウエハまたはガラス基板上に、溶媒除去した後の膜厚が2.0μmになるような回転数で30秒間回転塗布した。その後100℃/30秒かけて溶媒除去し、電気炉で750℃/1時間かけて被膜を最終焼成し絶縁被膜とした。
<Evaluation of synthetic materials>
The manufactured silicone polymers of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were each dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate to obtain solutions adjusted to a solid content concentration of 40% by weight. . Thereafter, the solution is filtered through a PTFE (polytetrafluoroethylene) filter, and spin-coated for 30 seconds on a silicon wafer or glass substrate at a rotational speed such that the film thickness after removal of the solvent is 2.0 μm. . Thereafter, the solvent was removed over 100 ° C./30 seconds, and the film was finally baked in an electric furnace over 750 ° C./1 hour to obtain an insulating film.
[加熱硬化膜特性]
上記成膜方法により成膜された被膜に対して、シリコンウェハー上の膜厚を測定し、クラックの有無を確認しクラックが発生したものが×、クラック発生無しのものが○と判定した。特にクラックの発生がなく、膜表面に光沢があるものを◎とした。
[Heat-cured film properties]
The film thickness on the silicon wafer was measured with respect to the film formed by the above film forming method, and the presence or absence of cracks was confirmed. In particular, the case where no crack was generated and the film surface was glossy was rated as ◎.
<評価結果>
硬化膜の評価結果およびそれに基づく総合評価を下記の表1に示す。
<Evaluation results>
The evaluation results of the cured film and the overall evaluation based thereon are shown in Table 1 below.
このように、ピーク形状が複数持つシリコーン重合体は、500℃以上の加熱で形成した硬化膜でクラックの発生がなく、優れた加熱膜を形成することができる。よって、本発明のシリコーン共重合体は、電子材料分野に限らず、塗料や接着剤等、幅広い分野で応用できる。 As described above, the silicone polymer having a plurality of peak shapes does not generate cracks in a cured film formed by heating at 500 ° C. or higher, and can form an excellent heating film. Therefore, the silicone copolymer of the present invention can be applied not only in the field of electronic materials but also in a wide range of fields such as paints and adhesives.
Claims (6)
で示される繰り返し単位を有し、ゲル浸透クロマトグラフィの測定で得られるピークが複数であるシリコーン重合体。 The following general formula
The silicone polymer which has the repeating unit shown by and has several peaks obtained by the measurement of a gel permeation chromatography.
で示される構成単位のみからなる請求項1に記載のシリコーン重合体。 The following general formula
The silicone polymer according to claim 1, comprising only a structural unit represented by:
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