JP5853620B2 - 水素化触媒の製造方法 - Google Patents
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Description
(水素化触媒前駆体の調製)
1LのSUS製ニーダーに、シリカ粉末(東ソーシリカ製、Nipsil「NS−K」)81.1g、消石灰粉末(関東化学製、試薬1級)25.0gを仕込み、次に、イオン交換水74.5g、29%アンモニア水(関東化学製、試薬特級)165.5gを添加し、20℃で40時間混練し、ケイ酸カルシウム担体を調製した。その後、塩基性炭酸銅粉末(関東化学製、試薬特級)147.3gを添加し、6時間混練して銅を担持した。
上記水素化触媒前駆体を0.5〜1.0mmに篩分けした。篩分けした触媒22.2mgを同様に篩分けしたグラファイト245mgと混合して固定床反応器に充填し、水素流通下で還元して水素化触媒を得た。
触媒性能評価は、常圧、反応温度240℃、水素/ニトロベンゼン(モル比30)で行い、GHSV(触媒層単位体積当りの体積流量)54,000hr−1となるように窒素で希釈して実施した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
ケイ酸カルシウム担体を調製した後に、20%炭酸ナトリウム水溶液8.7gを添加し、30分間混練すること以外は、実施例1と同様の方法で水素化触媒を調製し、触媒性能を評価した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
20%炭酸ナトリウム水溶液の添加量が15.7gであること以外は、実施例2と同様の方法で水素化触媒を調製し、触媒性能を評価した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
29%アンモニア水の添加量が105.2gであること以外は、実施例3と同様の方法で水素化触媒を調製し、触媒性能を評価した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
アンモニア水を添加せず、イオン交換水の添加量が160.0gであること以外は、実施例3と同様の方法で水素化触媒を調製し、触媒性能を評価した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
20%炭酸ナトリウム水溶液の添加量が87.1gであり、イオン交換水の添加量が22.5gであること以外は、実施例3と同様の方法で水素化触媒を調製し、触媒性能を評価した。初期アニリン生成速度を表1に示す。
Claims (4)
- シリカおよびカルシウム化合物を仕込み、水とアンモニアを添加して混練した後、銅化合物添加してペーストを得た後、該ペーストを乾燥後、300〜600℃の温度で焼成して得られる水素化触媒前駆体を還元処理することを特徴とする水素化触媒の製造方法。
- シリカ、カルシウム化合物、水およびアンモニアの混練時に、アルカリ金属化合物を添加し、その添加量がアルカリ金属として水素化触媒に対して0.22〜2.5重量%であることを特徴とする請求項1に記載の水素化触媒の製造方法。
- アンモニアの添加量が銅化合物中の銅金属量に対して30〜65重量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の水素化触媒の製造方法。
- 銅化合物が銅、銅酸化物、または焼成によって銅酸化物形態に変化しうる水酸化物、炭酸塩もしくは硝酸塩より選ばれる1種類以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水素化触媒の製造方法。
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