JP5829700B2 - 短絡保護された複合スイッチを含むインバータ回路 - Google Patents
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Description
本明細書で使用される、用語「III−V族」は少なくとも1つのIII族元素と少なくとも1つのV族元素を含む化合物半導体を意味する。例えば、III−V族半導体は、III族窒化物半導体の形を取り得る。「III族窒化物」又は「III−N」は窒素とアルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)及びボロン(B)などの少なくとも1つのIII族元素を含む化合物半導体を意味し、例えば窒化アルミニウムガリウム(AlxGa(1−x)N、窒化インジウムガリウムInyGa(1−y)N、窒化アルミニウムインジウムガリウムAlxInyGa(1−x−y)N、砒化リン化窒化ガリウム(GaAsaPbN(1−a−b))、砒化リン化窒化アルミニウムインジウムガリウム(AlxInyGa(1−x−y)AsaPbN(1−a−b))などの合金を含むが、これらに限定されない。また、III−N(III族窒化物)は一般に、Ga極性、N極性、半極性又は非極性結晶方位などの任意の極性を有するが、これらに限定されない。また、III−N材料は、ウルツ鉱型、閃亜鉛鉱型、あるいは混合ポリタイプ(結晶多形)のいずれかを含むことができ、単結晶又はモノクリスタル、多結晶、または非結晶の結晶構造を含むことができる。本明細書で使用される、「窒化ガリウム」、「GaN」はIII−N化合物半導体を意味し、III族元素は若干量又は相当量のガリウムを含むが、ガリウムに加えて他のIII族元素も含むことができる。また、III−V族又はGaNトランジスタはIII−V族又はGaNトランジスタを低電圧IV族トランジスタとカスコード接続することによって形成される複合高電圧エンハンスメントモードトランジスタを意味する。
米国特許第8,017,978号明細書(発明の名称「Hybrid Semiconductor Device」;出願日:2006年3月10日;発行日:2011年9月13日)(この特許文献は先に言及済み)に記載され、また
米国特許第8,368,120号明細書(発明の名称「Hybrid Semiconductor Device having a GaN Transistor and a Silicon MOSFET」;出願日:2011年9月2日;発行日:2013年2月5日)、
米国特許第8,084,783号明細書(発明の名称「GaN-Based Device Cascoded with an Integrated FET/Schottky Diode Device」;出願日:2009年11月9日;発行日:2011年12月27日)、
米国特許出願第13/053,556号(発明の名称「III-Nitride Transistor Stacked with FET in a Package」;出願日:2011年3月22日)、
米国特許出願第13/415,779号(発明の名称「Composite Semiconductor Device with Turn-On Prevention Control」;出願日:2012年3月8日)、
米国特許出願第13/416,252号(発明の名称「High Voltage Composite Semiconductor Device with Protection for Low a Voltage Device」;出願日:2012年3月9日)、
米国特許出願第13/419,820号(発明の名称「III-Nitride Transistor with Passive Oscillation Prevention」;出願日:2012年3月14日)、
米国特許出願第13/417,143号(発明の名称「Composite Semiconductor Device with Active Oscillation Prevention」;出願日:2012年3月9日)、
米国特許出願第13/433,864号(発明の名称「Stacked Composite Device Including a Group III-V Transistor and a Group IV Lateral Transistor」;出願日:2012年3月29日)、
米国特許出願第13/434,412号(発明の名称「Stacked Composite Device Including a Group III-V Transistor and a Group IV Vertical Transistor」;出願日:2012年3月29日)、
米国特許出願第13/780,436号(発明の名称「Group III-V Transistor and Group IV Composite Switch」;出願日:2013年2月28日)、
米国特許出願第14/073,783号(発明の名称「Cascode Circuit Integration of Group III-N and Group IV Devices」;出願日:2013年11月6日)、
米国仮特許出願第61/763,115号(発明の名称「Half Brifge Circuit with Integrated Cascoded Device」;出願日:2013年2月11日)、
にも記載されている。上記の特許及び特許出願の全開示内容は参照することにより本願明細書にすべて組み込まれる。
Claims (20)
- ドレイン、ソース及びゲートを含むIII−N電界効果トランジスタ(FET)と、
前記III−N FETと直列に結合され、前記III−N FETを流れる電流を制限する高電流IV族FETと、
前記III−N FETの前記ゲートと前記III−N FETの前記ソースとの間に結合された別のIV族FETと、
前記III−N FETの前記ゲートと前記高電流IV族FETのソースとの間に結合された別のトランジスタと、
を備える短絡保護された複合スイッチ。 - 前記III−N FETはノーマリオンIII−N高電子移動度トランジスタ(HEMT)である、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記別のトランジスタはノーマリオントランジスタである、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記別のトランジスタはノーマリオンIII−N HEMTである、請求項3記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記III−N FET及び前記別のトランジスタはモノリシック集積されている、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記高電流IV族FET及び前記別のIV族FETはモノリシック集積されている、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記III−N FET、前記高電流IV族FET、前記別のIV族FET及び前記別のトランジスタは共通の基板上にモノリシック集積されている、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記高電流IV族FETの飽和電流は前記III−N FETが短絡状態に少なくとも2.0μs間耐えることができる最大電流より小さい、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記高電流IV族FETのゲートは前記別のIV族FETのゲートと同じ電位に結合されている、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 4つの外部接続部を更に備え、前記4つの外部接続部は前記短絡保護された複合スイッチの複合ドレイン、複合ソース、複合ゲート及び複合短絡制御ゲートを含む、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記別のトランジスタは、過電流限界状態が存在し且つ前記短絡保護された複合スイッチがオン状態であるときオフ状態であり、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- 前記別のトランジスタは、短絡状態が検出された後100ns未満内にターンオフするように構成されている、請求項1記載の短絡保護された複合スイッチ。
- スイッチングブロックを備える回路であって、
前記回路の前記スイッチングブロックは少なくとも1つの短絡保護された複合スイッチを含み、前記少なくとも1つの短絡保護された複合スイッチは、
ドレイン、ソース及びゲートを含むIII−N 電界効果トランジスタ(FET)と、
前記III−N FETと直列に結合され、前記III−N FETを流れる電流を制限する高電流IV族FETと、
前記III−N FETの前記ゲートと前記III−N FETの前記ソースとの間に結合された別のIV族FETと、
前記III−N FETの前記ゲートと前記高電流IV族FETのソースとの間に結合された別のトランジスタと、
を備える回路。 - 前記回路は3相回路である、請求項13記載の回路。
- 前記回路はフルブリッジ回路である、請求項13記載の回路。
- 前記回路はハーフブリッジ回路である、請求項13記載の回路。
- 前記回路はモータ駆動回路である、請求項13記載の回路。
- 前記回路は誘導負荷を駆動するように構成されている、請求項13記載の回路。
- 前記短絡保護された複合スイッチの前記III−N FET及び前記別のトランジスタはモノリシック集積されている、請求項13記載の回路。
- 前記短絡保護された複合スイッチの前記III−N FET、前記高電流IV族FET、前記別のIV族FET及び前記別のトランジスタは共通の基板上にモノリシック集積されている、請求項13記載の回路。
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