JP5825798B2 - Compound for optical element, optical material and optical element - Google Patents
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Description
本発明は、光学素子用化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関し、特に特異な光学特性を有する(メタ)アクリレート化合物、並びにこれを用いた光学材料及び光学素子に関する。 The present invention relates to a compound for an optical element, and an optical material and an optical element using the same, and particularly relates to a (meth) acrylate compound having specific optical characteristics, and an optical material and an optical element using the same.
一般に、硝材(ガラス材料)や有機樹脂等からなる光学材料は、短波長側になるにつれ徐々にその屈折率が高くなる。ところでこの屈折率の波長分散性を表す指標として、アッベ数(νd)や2次分散特性(θg,F)等が挙げられる。このアッベ数やθg,F値は、それぞれの光学材料特有の値であるが、多くの場合、ある一定の範囲内に収まっている。図1は、従来の光学材料(硝子材及び有機樹脂)の2次分散特性とアッベ数との関係を示す図である。 In general, the refractive index of an optical material made of glass material (glass material), organic resin, or the like gradually increases as the wavelength becomes shorter. By the way, as an index representing the wavelength dispersion of the refractive index, there are Abbe number (ν d ), secondary dispersion characteristic (θg, F), and the like. The Abbe number, θg, and F value are values specific to each optical material, but in many cases are within a certain range. FIG. 1 is a diagram showing the relationship between secondary dispersion characteristics and Abbe number of conventional optical materials (glass material and organic resin).
尚、アッベ数(νd)、2次分散特性(θg,F)は以下の式で表される。
アッベ数[νd]=(nd−1)/(nF−nC)
2次分散特性[θg,F]=(ng−nF)/(nF−nC)
(ndは、波長587.6nmでの屈折率であり、nFは、波長486.1nmでの屈折率であり、nCは、波長656.3nmでの屈折率である、ngは、波長435.8nmでの屈折率である。)
The Abbe number (ν d ) and the secondary dispersion characteristic (θg, F) are expressed by the following equations.
Abbe number [ν d ] = (n d −1) / (n F −n C )
Secondary dispersion characteristic [θg, F] = ( ng −n F ) / (n F −n C )
(N d is the refractive index at a wavelength of 587.6 nm, n F is the refractive index at a wavelength of 486.1 nm, n C is the refractive index at a wavelength of 656.3 nm, ng is (The refractive index at a wavelength of 435.8 nm.)
ところで、光学材料(硝材、有機樹脂等)の構成(材料種や分子構造)を詳細に設計することにより、前記一定の範囲内から外れている優れた光学特性(高θg,F特性)を有する光学材料も提案されている。例えば、図1のAで示されている有機樹脂であるポリビニルカルバゾールは、汎用の有機樹脂材料よりも高い2次分散特性(高θg,F特性)を有している。 By the way, by designing the structure (material type and molecular structure) of the optical material (glass material, organic resin, etc.) in detail, it has excellent optical characteristics (high θg, F characteristics) that are out of the predetermined range. Optical materials have also been proposed. For example, polyvinyl carbazole which is an organic resin shown by A in FIG. 1 has higher secondary dispersion characteristics (high θg, F characteristics) than a general-purpose organic resin material.
また一般に、屈折光学系においては、分散特性の異なる硝材を適宜組み合わせることによって色収差を減らすことは可能である。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとして、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。ただし、レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合等では、色収差を十分に補正することが非常に困難となる場合がある。このような課題を解決する方法の一つとして、異常分散特性を有するガラス材料を活用する方法があり、この方法を利用した光学素子類の設計が行われている。 In general, in a refractive optical system, it is possible to reduce chromatic aberration by appropriately combining glass materials having different dispersion characteristics. For example, in an objective lens such as a telescope, a chromatic aberration appearing on the axis is corrected by using a glass material having a small dispersion as a positive lens and a glass material having a large dispersion as a negative lens. However, when the configuration and number of lenses are limited, or when the glass material used is limited, it may be very difficult to sufficiently correct chromatic aberration. As one method for solving such a problem, there is a method of using a glass material having anomalous dispersion characteristics, and optical elements are designed using this method.
また、色収差補正機能に優れ、その形状が非球面形状等である光学素子を製造する場合、硝材を材料として用いるより、球面ガラス等の上に有機樹脂を成形する等の方が量産性や成形性、形状の自由度、軽量性に優れるという利点がある。しかし、従来の有機樹脂の光学特性は、図1に示すように限られた一定の範囲内(2次分散特性[θg,F]が0.700以下)に収まっており、特異な分散特性を示す有機樹脂類は非常に少ない。 In addition, when manufacturing an optical element that has an excellent chromatic aberration correction function and has an aspherical shape or the like, it is better to produce organic resin on a spherical glass or the like than to use a glass material as a material. There is an advantage that it is excellent in performance, freedom of shape, and lightness. However, the optical characteristics of conventional organic resins are within a limited range (secondary dispersion characteristics [θg, F] is 0.700 or less) as shown in FIG. Very few organic resins are shown.
以上のような背景の中、特許文献1では、N−アクリロイルカルバゾール及び多官能ポリエステルアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート及び重合開始剤を所定の比率で混合してなる光学用樹脂組成物が提案されている。また特許文献1では、上述した光学用樹脂組成物が、加工が容易であって、硬化物において十分な異常分散性と耐久性を有する材料になることを報告している。 In the background as described above, Patent Document 1 proposes an optical resin composition in which N-acryloylcarbazole, polyfunctional polyester acrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, and a polymerization initiator are mixed at a predetermined ratio. Has been. Patent Document 1 reports that the above-described optical resin composition is easy to process and has a material having sufficient anomalous dispersion and durability in a cured product.
また特許文献2では、芳香族化合物に、π電子を有するヘテロ環化合物が、sp2炭素原子を介して少なくとも1つ以上結合していることを特徴とする含ヘテロ芳香族化合物が提案されている。また特許文献2によれば、提案された含ヘテロ芳香族化合物は、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))が高く、かつ2次分散特性(θg,F)が高い(異常分散特性)、色収差補正機能の高い特性を有する材料であることを報告している。 Patent Document 2 proposes a heteroaromatic compound containing an aromatic compound in which at least one heterocyclic compound having π electrons is bonded via an sp 2 carbon atom. . According to Patent Document 2, the proposed heteroaromatic compound has a high refractive index dispersion characteristic (Abbe number (ν d )) and a high secondary dispersion characteristic (θg, F) (anomalous dispersion characteristic). ), A material having a high characteristic of correcting chromatic aberration.
しかしながら、図1中のBで示されているエリア内の特性(高θg、F特性)を有する材料で実用性(低着色、高透明)のあるものが現在存在しない。また特許文献1にて提案された材料は、いずれもθg,F値が0.70以下である。さらに特許文献2にて提案された材料は、θg,F値が0.70以上であるものの、透過率が低い。具体的には、膜厚12.5μmのサンプルにおいて波長430nmの光の透過率91%以下である。 However, there is currently no material having practicality (low coloration, high transparency) among the materials having the characteristics (high θg, F characteristics) in the area indicated by B in FIG. All the materials proposed in Patent Document 1 have a θg and F value of 0.70 or less. Furthermore, although the material proposed in Patent Document 2 has a θg, F value of 0.70 or more, the transmittance is low. Specifically, the transmittance of light having a wavelength of 430 nm is 91% or less in a sample having a thickness of 12.5 μm.
本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))及び2次分散特性(θg,F)が高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供することである。 The present invention has been made in view of the background art described above, and the object thereof is high in refractive index dispersion characteristics (Abbe number (ν d )) and secondary dispersion characteristics (θg, F), and is visible. An object of the present invention is to provide a compound for optical materials having a high transmittance in the light region and a high chromatic aberration correction function.
本発明の光学材料用有機化合物は、下記一般式(1)又は(2)で示される化合物であることを特徴とする(ただし、2,2−ビス(4−アクリロイルオキシエトキシビフェニル)スルホンを除く。)。 The organic compound for optical materials of the present invention is a compound represented by the following general formula (1) or (2) (excluding 2,2-bis (4-acryloyloxyethoxybiphenyl) sulfone) .)
R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。aが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。bが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。)
(式(2)において、Xは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
R 1 and R 2 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group. Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms It is a group. a and b are integers of 0 to 2, respectively. When a is 2, the two Z 1 may be the same or different. When b is 2, the two Z 2 may be the same or different. )
(In Formula (2), X is a substituent selected from the substituents shown below.
Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
Y is a substituent selected from the substituents shown below.
R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基である。
a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。aが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。bが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。)
R 1 and R 2 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group. Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and the following formula (3): It is a substituent selected from the substituents shown.
a and b are integers of 0 to 2, respectively. When a is 2, the two Z 1 may be the same or different. When b is 2, the two Z 2 may be the same or different. )
本発明によれば、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))及び2次分散特性(θg,F)が高く、色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用有機化合物を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an organic compound for an optical material having a high refractive index dispersion characteristic (Abbe number (νd)) and secondary dispersion characteristic (θg, F) and a high chromatic aberration correction function. .
このため、本発明の光学材料用有機化合物を有する光学材料を成形することで得られる光学素子は、効率良く色収差を取り除くことができる。従って、本発明によれば、光学系をより軽量短小化することができる。 For this reason, the optical element obtained by shaping | molding the optical material which has the organic compound for optical materials of this invention can remove a chromatic aberration efficiently. Therefore, according to the present invention, the optical system can be made lighter and shorter.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
まず本発明の光学素子用有機化合物について説明する。本発明の光学素子用有機化合物は、具体的には、下記一般式(1)又は(2)で表される化合物である。 First, the organic compound for optical elements of the present invention will be described. The organic compound for optical elements of the present invention is specifically a compound represented by the following general formula (1) or (2).
本発明の光学素子用有機化合物は、下記(1A)又は(2A)で示される部分構造を基本骨格として有する化合物であるが、好ましくは、下記(1A)又は(2A)で示される部分構造と、(メタ)アクリロイル基と、を有する(メタ)アクリレート化合物である。 The organic compound for an optical element of the present invention is a compound having a partial structure represented by the following (1A) or (2A) as a basic skeleton, preferably a partial structure represented by the following (1A) or (2A) And a (meth) acryloyl group.
尚、本発明の光学素子用有機化合物の好ましい態様については後述する。 In addition, the preferable aspect of the organic compound for optical elements of this invention is mentioned later.
まず式(1)の化合物について説明する。式(1)において、X及びYは、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基である。 First, the compound of formula (1) will be described. In the formula (1), X and Y are each a substituent selected from the substituents shown below.
式(1)中のX及びYで表わされる置換基において、*は、R1又はR2との結合手を表す。 In the substituent represented by X and Y in the formula (1), * represents a bond with R 1 or R 2 .
式(1)において、R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。 In the formula (1), R 1 and R 2 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group.
R1及びR2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 1 and R 2 include a methyl group and an ethyl group.
式(1)において、Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。 In Formula (1), Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 2 carbon atoms. A substituent selected from the group.
Z1及びZ2で表されるハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。 Examples of the halogen atom represented by Z 1 and Z 2 include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
Z1及びZ2で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group represented by Z 1 and Z 2 include a methoxy group and an ethoxy group.
Z1及びZ2で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。 Examples of the alkylthio group represented by Z 1 and Z 2 include a methylthio group and an ethylthio group.
Z1及びZ2で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基)、2−ヒドロキシエトキシ基、2−メルカプトエトキシ基、2−メルカプトエチルチオ基、(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基、3−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基)、3−ヒドロキシプロポキシ基、3−メルカプトプロポキシ基、3−メルカプトプロピルチオ基、(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、3−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、4−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基)、4−ヒドロキシブトキシ基、4−メルカプトブトキシ基、4−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、4−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。 Examples of the alkyl group represented by Z 1 and Z 2 include a methyl group and an ethyl group. The alkyl group further includes (meth) acryloyloxy group, (meth) acryloyloxyethoxy group (1- (meth) acryloyloxyethoxy group, 2- (meth) acryloyloxyethoxy group), 2-hydroxyethoxy group. 2-mercaptoethoxy group, 2-mercaptoethylthio group, (meth) acryloyloxypropoxy group (1- (meth) acryloyloxypropoxy group, 2- (meth) acryloyloxypropoxy group, 3- (meth) acryloyloxypropoxy group Group), 3-hydroxypropoxy group, 3-mercaptopropoxy group, 3-mercaptopropylthio group, (meth) acryloyloxybutoxy group (1- (meth) acryloyloxybutoxy group, 2- (meth) acryloyloxybutoxy group, 3- (meth) acrylo Ruoxybutoxy group, 4- (meth) acryloyloxybutoxy group), 4-hydroxybutoxy group, 4-mercaptobutoxy group, 4-mercaptobutylthio group, allyloxy group, allylthio group, 4-vinylbenzyloxy group, oxira It may have a substituent selected from an nylmethoxy group, an oxiranylethoxy group, a thiranylmethoxy group, a thiranylethoxy group, a methylthio group, an ethylthio group, a methoxy group, and an ethoxy group.
式(1)において、a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。ここでaが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。またbが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、a及びbは、それぞれ0又は1であることが好ましい。 In Formula (1), a and b are integers of 0 to 2, respectively. Here, when a is 2, two Z 1 may be the same or different. When b is 2, the two Z 2 may be the same or different. In consideration of easiness of synthesis, a and b are preferably 0 or 1, respectively.
次に、式(1)に示される化合物の好ましい態様について説明する。ここで式(1)に示される化合物の好ましい態様は、下記(1−1)と(1−2)とに大別される。 Next, the preferable aspect of the compound shown by Formula (1) is demonstrated. Here, the preferable aspect of the compound shown by Formula (1) is divided roughly into following (1-1) and (1-2).
(1−1)X及びYが、それぞれ下記に示す置換基より選択される置換基である場合 (1-1) When X and Y are each a substituent selected from the substituents shown below
(1−1)の場合、下記(1−1−1)乃至(1−1−3)を充足する態様がより好ましい。 In the case of (1-1), an embodiment that satisfies the following (1-1-1) to (1-1-3) is more preferable.
(1−1−1)X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であること (1-1-1) X and Y are each a substituent selected from the substituents shown below.
(1−1−3)Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること
また(1−1)の場合、上記(1−1−1)、並びに下記(1−1−4)及び(1−1−5)を充足する態様が特に好ましい。
(1−1−4)R1及びR2が、それぞれ水素又は(メタ)アクリロイル基であること
(1−1−5)Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること
In the case of (1-1), an embodiment that satisfies the above (1-1-1) and the following (1-1-4) and (1-1-5) is particularly preferable.
(1-1-4) R 1 and R 2 are each hydrogen or a (meth) acryloyl group (1-1-5) Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon number of 1 to 2 a substituent selected from an alkoxy group having 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.
(1−2)の場合、下記(1−2−1)乃至(1−2−3)を充足する態様が好ましい。
(1−2−1)X及びYが、それぞれ−S−又は−O−であること
(1−2−2)R1及びR2が、それぞれ水素又は炭素数1乃至2のアルキル基であること
(1−2−3)Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること
In the case of (1-2), an embodiment satisfying the following (1-2-1) to (1-2-3) is preferable.
(1-2-1) X and Y are each —S— or —O—. (1-2-2) R 1 and R 2 are each hydrogen or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. (1-2-3) Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 2 carbon atoms. A substituent selected from alkyl groups of
また(1−2)の場合、上記(1−2−1)及び(1−2−2)、並びに下記(1−2−4)を充足する態様がより好ましい。
(1−2−4)Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基であること
In the case of (1-2), an embodiment that satisfies the above (1-2-1) and (1-2-2) and the following (1-2-4) is more preferable.
(1-2-4) Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.
さらに(1−2)の場合、上記(1−2−1)及び(1−2−4)、並びに下記(1−2−5)を充足する態様が特に好ましい。
(1−2−5)R1及びR2が、それぞれ炭素数1乃至2のアルキル基であること
Furthermore, in the case of (1-2), an embodiment that satisfies the above (1-2-1) and (1-2-4) and the following (1-2-5) is particularly preferable.
(1-2-5) R 1 and R 2 are each an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.
ところで、Z1及びZ2が置換基を有する炭素数1乃至2のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式(3)に示される構造が好ましい。 Incidentally, when Z 1 and Z 2 is an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms having a substituent group, the structure as a specific structure of the alkyl group represented by the following general formula (3) is preferable.
式(3)において、**は、結合手を表す。またmは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、mは0であることが好ましい。ここで、Z1及びZ2のいずれかの構造が式(3)に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。 In the formula (3), ** represents a bond. M is 0 or 1, and n represents an integer of 2 to 4. Note that m is preferably 0 from the viewpoint of ease of synthesis. Here, when one of the structures of Z 1 and Z 2 is a structure represented by the formula (3), the compound itself becomes a more flexible structure, so that the melting point of the compound itself can be lowered. It can be said that lowering the melting point of the compound itself is advantageous from the viewpoint of ease of molding.
次に、下記一般式(2)の化合物について説明する。 Next, the compound of the following general formula (2) will be described.
式(2)において、Xは、下記に示される置換基から選択される置換基である。 In Formula (2), X is a substituent selected from the substituents shown below.
式(2)中のXで表わされる置換基において、*は、R11との結合手を表す。 In the substituent represented by X in formula (2), * represents a bond to R 11 .
式(2)において、Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。 In Formula (2), Y is a substituent selected from the substituents shown below.
式(2)中のYで表わされる置換基において、*は、R12との結合手を表す。 In the substituent represented by Y in formula (2), * represents a bond to R 12 .
式(2)において、R11及びR12は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。 In the formula (2), R 11 and R 12 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group.
R11及びR12で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 11 and R 12 include a methyl group and an ethyl group.
式(2)において、Z3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基である。 In the formula (2), Z 3 is selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. It is a substituent.
Z3で表されるアルコキシ基として、メトキシ基及びエトキシ基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group represented by Z 3 include a methoxy group and an ethoxy group.
Z3で表されるアルキルチオ基として、メチルチオ基及びエチルチオ基が挙げられる。 Examples of the alkylthio group represented by Z 3 include a methylthio group and an ethylthio group.
Z3で表されるアルキル基として、メチル基及びエチル基が挙げられる。尚、このアルキル基は、さらに、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基)、2−ヒドロキシエトキシ基、2−メルカプトエトキシ基、2−メルカプトエチルチオ基、(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基、3−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ基)、3−ヒドロキシプロポキシ基、3−メルカプトプロポキシ基、3−メルカプトプロピルチオ基、(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基(1−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、2−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、3−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基、4−(メタ)アクリロイルオキシブトキシ基)、4−ヒドロキシブトキシ基、4−メルカプトブトキシ基、4−メルカプトブチルチオ基、アリルオキシ基、アリルチオ基、4−ビニルベンジルオキシ基、オキシラニルメトキシ基、オキシラニルエトキシ基、チイラニルメトキシ基、チイラニルエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される置換基を有していてもよい。 Examples of the alkyl group represented by Z 3 include a methyl group and an ethyl group. The alkyl group further includes (meth) acryloyloxy group, (meth) acryloyloxyethoxy group (1- (meth) acryloyloxyethoxy group, 2- (meth) acryloyloxyethoxy group), 2-hydroxyethoxy group. 2-mercaptoethoxy group, 2-mercaptoethylthio group, (meth) acryloyloxypropoxy group (1- (meth) acryloyloxypropoxy group, 2- (meth) acryloyloxypropoxy group, 3- (meth) acryloyloxypropoxy group Group), 3-hydroxypropoxy group, 3-mercaptopropoxy group, 3-mercaptopropylthio group, (meth) acryloyloxybutoxy group (1- (meth) acryloyloxybutoxy group, 2- (meth) acryloyloxybutoxy group, 3- (meth) acrylo Ruoxybutoxy group, 4- (meth) acryloyloxybutoxy group), 4-hydroxybutoxy group, 4-mercaptobutoxy group, 4-mercaptobutylthio group, allyloxy group, allylthio group, 4-vinylbenzyloxy group, oxira It may have a substituent selected from an nylmethoxy group, an oxiranylethoxy group, a thiranylmethoxy group, a thiranylethoxy group, a methylthio group, an ethylthio group, a methoxy group, and an ethoxy group.
式(2)において、cは、0乃至2の整数である。cが2のとき2つのZ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。合成のし易さを考慮すると、cは、0又は1であることが好ましい。 In the formula (2), c is an integer of 0 to 2. When c is 2, the two Z 3 may be the same or different. In consideration of easiness of synthesis, c is preferably 0 or 1.
次に、式(2)に示される化合物の好ましい態様について説明する。式(2)に示される化合物のうち、好ましい態様は、下記(2−1)乃至(2−4)を充足する態様である。 Next, the preferable aspect of the compound shown by Formula (2) is demonstrated. Among the compounds represented by the formula (2), a preferable embodiment is an embodiment that satisfies the following (2-1) to (2-4).
(2−1)Xが、下記に示される置換基から選択される置換基であること (2-1) X is a substituent selected from the substituents shown below.
(2−4)Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び置換あるいは無置換の炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること
また式(2)に示される化合物のうち、より好ましい態様は、上記(2−3)及び(2−4)、並びに下記(2−5)及び(2−6)を充足する態様である。
(2−5)Xが、下記に示される置換基から選択される置換基であること
Moreover, a more preferable aspect among the compounds shown by Formula (2) is an aspect which satisfies the said (2-3) and (2-4) and following (2-5) and (2-6).
(2-5) X is a substituent selected from the substituents shown below.
また式(2)に示される化合物のうち、特に好ましい態様は、上記(2−5)及び(2−6)、並びに下記(2−7)及び(2−8)を充足する態様である。
(2−7)R11及びR12が、それぞれ水素原子及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基であること
(2−8)Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であること
Of the compounds represented by formula (2), particularly preferred embodiments are those satisfying the above (2-5) and (2-6) and the following (2-7) and (2-8).
(2-7) R 11 and R 12 are each a substituent selected from a hydrogen atom and a (meth) acryloyl group. (2-8) Z 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, or 1 to 2 carbon atoms. And a substituent selected from an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms
ところで、Z3が置換基を有する炭素数1乃至2のアルキル基である場合、当該アルキル基の具体的な構造として下記一般式(3)に示される構造が好ましい。 By the way, when Z < 3 > is a C1-C2 alkyl group which has a substituent, the structure shown by following General formula (3) is preferable as a specific structure of the said alkyl group.
式(3)において、**は、結合手を表す。またmは、0又は1であり、nは、2乃至4の整数を表す。尚、合成のし易さという観点から、mは0であることが好ましい。ここで、Z3の構造が式(3)に示される構造である場合、化合物自体がよりフレキシブルな構造になるので、化合物自体の融点を下げることができる。化合物自体の融点が下がることは、成形のしやすさという観点で有利であるといえる。 In the formula (3), ** represents a bond. M is 0 or 1, and n represents an integer of 2 to 4. Note that m is preferably 0 from the viewpoint of ease of synthesis. Here, when the structure of Z 3 is a structure represented by the formula (3), since the compound itself becomes a more flexible structure, the melting point of the compound itself can be lowered. It can be said that lowering the melting point of the compound itself is advantageous from the viewpoint of ease of molding.
次に、本発明に係る光学材料用有機化合物の製造方法について一例を挙げて説明する。本発明に係る光学材料用有機化合物は、その製造ルートについては特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。ただし少なくとも下記(a)及び(b)の合成工程が含まれ、化合物によってはさらに(c)の合成工程が含まれる。
(a)芳香環(ベンゼン環)同士の結合の形成
(b)エーテル(チオエーテル)化反応
(c)(メタ)アクリレート化反応
Next, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of the organic compound for optical materials which concerns on this invention. The production route of the organic compound for optical materials according to the present invention is not particularly limited, and any production method can be adopted. However, at least the following synthesis steps (a) and (b) are included, and depending on the compound, the synthesis step (c) is further included.
(A) Bond formation between aromatic rings (benzene rings) (b) Ether (thioether) reaction (c) (meth) acrylate reaction
合成のしやすさ等を考慮すると、上記合成工程は、(a)、(b)、(c)の順番で行われる。 Considering ease of synthesis and the like, the synthesis process is performed in the order of (a), (b), and (c).
合成工程(a)においては、芳香族化合物が有する官能基の種類によって臨機応変に変更可能である。例えば、遷移金属触媒によるカップリング反応やハロゲン化物同士の酸化的カップリング反応、芳香環上での置換反応等である。尚、反応の収率を考慮すると遷移金属触媒によるカップリング反応が望ましい。 In the synthesis step (a), it can be changed flexibly depending on the type of functional group of the aromatic compound. For example, a coupling reaction with a transition metal catalyst, an oxidative coupling reaction between halides, a substitution reaction on an aromatic ring, and the like. In view of the reaction yield, a coupling reaction with a transition metal catalyst is desirable.
遷移金属触媒によるカップリング反応は、任意に選択する事が可能である。代表的な方法としては、ホウ酸等を利用する鈴木カップリング、有機スズを利用するスティルカップリング、有機亜鉛を利用する根岸カップリング等が好適に用いられる。 The coupling reaction with a transition metal catalyst can be arbitrarily selected. As typical methods, Suzuki coupling using boric acid or the like, Stille coupling using organic tin, Negishi coupling using organic zinc, or the like is preferably used.
合成工程(b)において、エーテル化反応の代表的な方法としては、水酸基を水素化ナトリウムや水酸化カリウム等で塩にした後、対応するハロゲン化物を添加するウィリアムソンエーテル合成法等である。 In the synthesis step (b), a typical method for the etherification reaction is a Williamson ether synthesis method in which a hydroxyl group is salted with sodium hydride, potassium hydroxide or the like, and then a corresponding halide is added.
一方、チオエーテル化反応は、チオール基生成反応と、チオール基とハロゲン化物との反応と、により行われる。ここでチオール基生成反応は、例えば、水酸基を求核置換反応に対して活性がある置換基(TsO−、Cl−、CF3S(=O)2−O−等)に変換した後、硫化イオン(S2-)を用いた求核置換反応を行うことにより達成される。またチオール基とハロゲン化物との反応においては、上述したウィリアムソンエーテル合成法等を応用することができる。 On the other hand, the thioetherification reaction is performed by a thiol group generation reaction and a reaction between a thiol group and a halide. Here, in the thiol group generation reaction, for example, a hydroxyl group is converted into a substituent active for a nucleophilic substitution reaction (TsO—, Cl—, CF 3 S (═O) 2 —O—, etc.), This is achieved by performing a nucleophilic substitution reaction using ions (S 2− ). In the reaction between a thiol group and a halide, the above-described Williamson ether synthesis method can be applied.
合成工程(c)において、代表的な方法としては、(メタ)アクリル酸ハライドや(メタ)アクリル酸無水物を使用して水酸基をエステル化する方法、(メタ)アクリル酸の低級アルコールのエステルを使用するエステル交換反応、N,N‘−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤を使用して(メタ)アクリル酸と該ジオールとを脱水縮合させる直接エステル化反応、(メタ)アクリル酸と該ジオールを硫酸等の脱水剤存在下で加熱する方法等が好適に用いられる。 In the synthesis step (c), representative methods include esterifying a hydroxyl group using (meth) acrylic acid halide or (meth) acrylic anhydride, and (meth) acrylic acid lower alcohol ester. Transesterification reaction used, direct esterification reaction using (de) condensation of (meth) acrylic acid and the diol using a dehydrating condensing agent such as N, N′-dicyclohexylcarbodiimide, and (meth) acrylic acid and the diol in sulfuric acid A method of heating in the presence of a dehydrating agent such as is preferably used.
また、本発明に係る光学材料用有機化合物が(メタ)アクリレート化合物である場合、反応時や保存時に重合が進行しないように重合禁止剤を必要に応じて使用してもよい。重合禁止剤の例としては、p−ベンゾキノン、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、2,5−ジフェニルパラベンゾキノン等のヒドロキノン類、テトラメチルピペリジニル−N−オキシラジカル(TEMPO)等のN−オキシラジカル類、t−ブチルカテコール等の置換カテコール類、フェノチアジン、ジフェニルアミン、フェニル−β−ナフチルアミン等のアミン類、ニトロソベンゼン、ピクリン酸、分子状酸素、硫黄、塩化銅(II)等を挙げることができる。この中でもヒドロキノン類、フェノチアジン及びN−オキシラジカル類が汎用性かつ重合抑制の点で好ましい。 Moreover, when the organic compound for optical materials which concerns on this invention is a (meth) acrylate compound, you may use a polymerization inhibitor as needed so that superposition | polymerization may not advance at the time of reaction or a preservation | save. Examples of polymerization inhibitors include hydroquinones such as p-benzoquinone, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,5-diphenylparabenzoquinone, and N-oxy radicals such as tetramethylpiperidinyl-N-oxy radical (TEMPO). , Substituted catechols such as t-butylcatechol, amines such as phenothiazine, diphenylamine and phenyl-β-naphthylamine, nitrosobenzene, picric acid, molecular oxygen, sulfur, copper (II) chloride and the like. Of these, hydroquinones, phenothiazines and N-oxy radicals are preferred from the viewpoint of versatility and polymerization inhibition.
重合禁止剤の使用量は、前記(メタ)アクリレート化合物に対して、下限が、通常10ppm以上、好ましくは50ppm以上であり、上限が、通常10000ppm以下、好ましくは1000ppm以下である。少なすぎる場合は、重合禁止剤としての効果が発現しないか効果が小さく、反応時や後処理工程での濃縮時に重合が進行する危険性があり、多すぎる場合には、例えば、後述する光学材料を製造する際の不純物となり、また、重合反応性を阻害する等の悪影響を及ぼす危険性があり好ましくない。 The lower limit of the amount of the polymerization inhibitor used relative to the (meth) acrylate compound is usually 10 ppm or more, preferably 50 ppm or more, and the upper limit is usually 10,000 ppm or less, preferably 1000 ppm or less. If the amount is too small, the effect as a polymerization inhibitor does not appear or is small, and there is a risk that the polymerization proceeds during the reaction or the concentration in the post-treatment process. This is not preferable because it may become an impurity in the production of, and may have an adverse effect such as inhibiting polymerization reactivity.
次に、本発明の光学素子用有機化合物の特徴について説明する。 Next, the characteristics of the organic compound for optical elements of the present invention will be described.
本発明者らは、従来よりも高い色収差補正機能を光学素子に付与するためには、光学素子の材料特性として、下記(i)及び(ii)を充足することが光学設計上、極めて有効であることに着目した。
(i)可視光領域内の透過率が高いこと
(ii)2次分散特性(θg,F)が汎用の材料から外れて、より大きい特性(高θg,F特性)であること
In order to provide an optical element with a higher chromatic aberration correction function than in the past, it is extremely effective in terms of optical design to satisfy the following (i) and (ii) as material characteristics of the optical element. I focused on that.
(I) High transmittance in the visible light region (ii) Secondary dispersion characteristics (θg, F) deviate from general-purpose materials and have larger characteristics (high θg, F characteristics)
具体的には、図1にて示される、アッベ数(νd)と2次分散特性(θg,F)との関係が硝材若しくは有機樹脂の汎用材料のプロットからずれているBのエリアである。具体的には、500μm内部透過率が410nmで90%以上の特性である。ここでBエリアの特性は、νd<25、θg,F>0.70である。 Specifically, it is an area B shown in FIG. 1 where the relationship between the Abbe number (ν d ) and the secondary dispersion characteristics (θg, F) is deviated from the plot of the general-purpose material of glass material or organic resin. . Specifically, the internal transmittance of 500 μm is a characteristic of 90% or more at 410 nm. Here, the characteristics of the B area are ν d <25, θg, F> 0.70.
本発明者等は、図1に示されるBエリアの特性を満たす材料について鋭意検討を重ねた結果、共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))が高く、かつ2次分散特性(θg,F)が高い(高θg,F特性)、色収差補正機能の高い特性と実用性を兼ね備えた材料になることを見出した。即ち、本発明者らは、下記(1A)あるいは(2A)で示される部分構造を基本骨格とする化合物を見出した。 As a result of intensive studies on materials satisfying the characteristics of the B area shown in FIG. 1, the present inventors have a long conjugated structure having at least one electron-withdrawing substituent capable of conjugation and one electron-donating substituent. Aromatic compounds have high refractive index dispersion characteristics (Abbe number (ν d )), high secondary dispersion characteristics (θg, F) (high θg, F characteristics), high chromatic aberration correction function and practicality It has been found that it becomes a material that combines. That is, the present inventors have found a compound having the basic structure as a partial structure represented by the following (1A) or (2A).
一般に、芳香族化合物に代表される長い共役構造を有する化合物は、汎用材料よりもバンドギャップが小さいため、紫外領域の吸収端が可視光領域側にシフトしている。その影響により、長い共役構造を有する化合物は、高屈折率特性を有するようになる。この高屈折率特性は、短波長側により影響を与えるため、必然的に2次分散特性(θg、F)が高くなって化合物の特性が図1に示されるBエリア内に収まるようになる。しかし、単純に芳香族化合物を連結させて長い共役構造を構築するだけでは実用性のある材料は得られない。例えば、大きな芳香族化合物は、合成性や他の化合物との相溶性、着色の点において課題が残る。そのため、前記共役可能な電子吸引性置換基と電子供与性置換基を少なくとも一つずつ有する長い共役構造の芳香族化合物が望ましい。 In general, a compound having a long conjugated structure typified by an aromatic compound has a smaller band gap than that of a general-purpose material, and thus the absorption edge in the ultraviolet region is shifted to the visible light region side. Due to the influence, a compound having a long conjugated structure has a high refractive index characteristic. Since this high refractive index characteristic has an influence on the short wavelength side, the secondary dispersion characteristics (θg, F) are inevitably increased so that the characteristics of the compound fall within the area B shown in FIG. However, a practical material cannot be obtained by simply connecting aromatic compounds to construct a long conjugated structure. For example, large aromatic compounds still have problems in terms of synthesis, compatibility with other compounds, and coloring. Therefore, an aromatic compound having a long conjugated structure having at least one electron-withdrawing substituent capable of conjugation and one electron-donating substituent is desirable.
このように、屈折率特性や2次分散特性を高くするという観点からすれば、化合物の共役長は長ければ長い方がよい。しかし、共役構造が長くなり過ぎると可視光領域の短波長側での透過率が低下するため、光学材料という用途を考慮する場合には、共役構造の長さを調整する必要がある。ここで、一般式(1A)及び(2A)で示される部分構造においては、透過率及び屈折率特性について塩梅がよい程の共役長を有している。 Thus, from the viewpoint of increasing the refractive index characteristics and the secondary dispersion characteristics, the longer the conjugate length of the compound, the better. However, if the conjugated structure becomes too long, the transmittance on the short wavelength side of the visible light region is lowered. Therefore, when considering the use as an optical material, it is necessary to adjust the length of the conjugated structure. Here, in the partial structures represented by the general formulas (1A) and (2A), the salt and plum have a conjugate length enough for the transmittance and the refractive index characteristics.
ところで共役可能な電子吸引性置換基としては、スルホン、ケトン、イミン、オキシム、ニトリル、ニトロ、エステル等が挙げられる。ここで生成物の長期安定性を考慮すると、好ましくは、スルホン、ケトン、ニトリル、エステルであり、より好ましくはスルホンである。このため、本発明の光学素子用有機化合物には、(1A)及び(2A)に示されるように部分構造としてスルホンを有する化合物である。 By the way, examples of the electron-withdrawing substituent that can be conjugated include sulfone, ketone, imine, oxime, nitrile, nitro, and ester. In consideration of the long-term stability of the product, sulfone, ketone, nitrile and ester are preferable, and sulfone is more preferable. For this reason, the organic compound for optical elements of the present invention is a compound having a sulfone as a partial structure as shown in (1A) and (2A).
また共役可能な電子供与性置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボニルオキシ基等である。好ましくは、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル基、カルボニルオキシ基である。ただし、置換基の分子量が大きくなり過ぎると高い2次分散特性(θg、F)が得られなくなる。このため、置換基としては、炭素数が0乃至10の置換基が望ましい。合成のし易さという観点からすれば、好ましくは、炭素数1乃至4の置換基である。本発明においては、特に好ましい置換基であるヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数1乃至4のアルコキシ基及び炭素数1乃至4のアルキルチオ基が選択されている。 Examples of the electron-donating substituent that can be conjugated include a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkyl group, an amino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, and a carbonyloxy group. Preferred are a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkyl group, and a carbonyloxy group. However, if the molecular weight of the substituent becomes too large, high secondary dispersion characteristics (θg, F) cannot be obtained. Therefore, the substituent is preferably a substituent having 0 to 10 carbon atoms. From the viewpoint of easy synthesis, a substituent having 1 to 4 carbon atoms is preferable. In the present invention, particularly preferred substituents are a hydroxyl group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms.
また式(1)乃至(2)中に示されているH(水素原子)は、共役構造を調整するために必要であり、その他の置換基では当該置換基の立体障害に起因する芳香環同士のねじれによる共役の切断が起こり、特性が発現しない場合がある。 In addition, H (hydrogen atom) shown in the formulas (1) and (2) is necessary for adjusting the conjugated structure, and in other substituents, aromatic rings due to steric hindrance of the substituent Conjugation may occur due to twisting of the material, and the characteristics may not be exhibited.
次に、本発明に係る光学材料について説明する。 Next, the optical material according to the present invention will be described.
本発明の光学材料は、下記(A)乃至(C)に大別される。
(A)本発明の光学材料用有機化合物をマトリックスポリマーに含有させてなる材料
(B)本発明の光学材料用有機化合物を重合させてなる材料
(C)本発明の光学材料用有機化合物と他の化合物とを共重合させてなる材料
The optical material of the present invention is roughly classified into the following (A) to (C).
(A) Material obtained by containing the organic compound for optical material of the present invention in a matrix polymer (B) Material obtained by polymerizing the organic compound for optical material of the present invention (C) Organic compound for optical material of the present invention and others A material obtained by copolymerizing a compound of
ここで、本発明の光学材料用有機化合物のうち、(メタ)アクリロイル基を有していない化合物は(A)の形態で用いられる。一方、本発明の光学材料用有機化合物のうち、(メタ)アクリロイル基を有している化合物は(A)乃至(C)のいずれの形態においても利用可能であるが、専ら(B)又は(C)の形態で用いられる。 Here, among the organic compounds for optical materials of the present invention, a compound having no (meth) acryloyl group is used in the form of (A). On the other hand, among the organic compounds for optical materials of the present invention, the compound having a (meth) acryloyl group can be used in any of the forms (A) to (C), but exclusively (B) or ( C).
本発明の光学材料用有機化合物を(A)の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとして、(メタ)アクリル系ポリマー;アリル系ポリマー;エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン等の1種又は2種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの1種又は2種以上のランダム又はブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン等の1種又は2種以上のα−オレフィンとのランダム又はブロック共重合体、1−ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂;石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素原子系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン610、ナイロン6/66、ナイロン66/610、ナイロンMXD等ポリアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン,アクリロニトリル系樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリケトン樹脂;ポリメチレンオキシド樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリイミド樹脂;ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。尚、(メタ)アクリル系ポリマーとは、後述する(メタ)アクリレート化合物を重合してなるポリマーである。またアリル系ポリマーとは、後述するアリル化合物を重合してなるポリマーである。これらの樹脂は1種類を単独で使用してもよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、本発明の光学材料用有機化合物との相溶性を考慮した上で適宜選択される。 When the organic compound for an optical material of the present invention is used in the form of (A), as a matrix polymer, a (meth) acrylic polymer; an allyl polymer; an ethylene homopolymer, ethylene and propylene, 1-butene, 1-pentene, Random or block copolymer of 1-hexene, 4-methyl-1-pentene or one or more α-olefins, ethylene and vinyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate 1 type or 2 or more types of random or block copolymers, 1 type of propylene homopolymer, 1-butene other than propylene and propylene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, etc. Random or block copolymer with two or more α-olefins, 1-butene homopolymer, ionomer resin, Further, polyolefin resins such as a mixture of these polymers; hydrocarbon atom resins such as petroleum resins and terpene resins; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; nylon 6, nylon 66, nylon 11 , Nylon 12, nylon 610, nylon 6/66, nylon 66/610, nylon MXD and other polyamide resins; polymethyl methacrylate and other acrylic resins; polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer Styrene, acrylonitrile resin such as polyacrylonitrile; polyvinyl alcohol resin such as polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer; polycarbonate resin; ; Polymethylene oxide resins; polysulfone resins; polyimide resin; polyamideimide resins. The (meth) acrylic polymer is a polymer obtained by polymerizing a (meth) acrylate compound described later. The allyl polymer is a polymer obtained by polymerizing an allyl compound described later. These resins may be used alone or in combination of two or more. These matrix polymers are appropriately selected in consideration of compatibility with the organic compound for optical materials of the present invention.
また本発明の光学材料用有機化合物を(A)の形態で用いる場合、材料全体に対する本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、本発明の光学材料用有機化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮した上で適宜選択される。 When the organic compound for optical material of the present invention is used in the form (A), the content of the organic compound for optical material of the present invention relative to the whole material is compatible with the organic compound for optical material of the present invention and the matrix polymer. Is selected as appropriate.
本発明の光学材料用有機化合物を(A)の形態で用いる場合、マトリックスポリマーとなる樹脂の含有量は、材料全体を基準として50重量%以上99重量%以下である。得られる光学材料のθg,F特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、50重量%以上80重量%以下が望ましい。 When the organic compound for optical material of the present invention is used in the form of (A), the content of the resin to be the matrix polymer is 50% by weight or more and 99% by weight or less based on the whole material. Considering the θg, F characteristics of the obtained optical material and the brittleness of the molded product, it is preferably 50% by weight or more and 80% by weight or less.
本発明の光学材料用有機化合物を(B)の形態で用いる場合、本発明の光学材料は、本発明の光学材料用有機化合物((メタ)アクリレート化合物)と、重合開始剤と、からなる組成物から作製される。尚、この組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、樹脂等をさらに含有させてもよい。 When the organic compound for optical material of the present invention is used in the form (B), the optical material of the present invention is a composition comprising the organic compound for optical material of the present invention ((meth) acrylate compound) and a polymerization initiator. Made from things. The composition may further contain a polymerization inhibitor, a photosensitizer, a resin and the like as necessary.
重合開始剤には、光照射によりラジカル種を発生するものやカチオン種を発生するもの、熱によりラジカル種を発生するもの等が挙げられるがこれらに限定されない。 Examples of the polymerization initiator include, but are not limited to, those that generate radical species by irradiation with light, those that generate cationic species, and those that generate radical species by heat.
光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、4−フェニルベンゾフェノン、4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジフェニルベンゾフェノン、4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン等であるがこれらに限定されない。 As a polymerization initiator that generates radical species by light irradiation, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy- 2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 4-phenylbenzophenone, 4-phenoxybenzophenone, 4,4′-diphenylbenzophenone, 4 , 4'-diphenoxybenzophenone and the like, but not limited thereto.
また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]−ヘキサフルオロフォスフェートが好適な重合開始剤として挙げられるがこれに限定されない。 As a polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation, iodonium (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] -hexafluorophosphate is exemplified as a suitable polymerization initiator. It is not limited to.
さらに、熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビソイソブチルニトリル(AIBN)等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシピバレート、t―ブチルパーオキシネオヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、t―ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物が挙げられるがこれらに限定されない。 Furthermore, examples of polymerization initiators that generate radical species by heat include azo compounds such as azobisisobutyl nitrile (AIBN), benzoyl peroxide, t-butyl peroxypivalate, t-butyl peroxyneohexanoate, t -Peroxides such as hexyl peroxyneohexanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, cumylperoxyneohexanoate, cumylperoxyneodecanoate Although it is mentioned, it is not limited to these.
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を(B)の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物の含有量は、望ましくは1.0重量%以上99重量%以下であり、50重量%以上99重量%以下が好ましい。 In the optical material of the present invention, when the organic compound for optical material of the present invention is used in the form of (B), the content of the organic compound for optical material of the present invention is desirably 1.0 wt% or more and 99 wt% or less. It is preferably 50% by weight or more and 99% by weight or less.
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を(B)の形態で用いる場合、本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して0.01重量%以上10.00重量%以下の範囲が好ましい。尚、光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。 In the optical material of the present invention, when the organic compound for optical material of the present invention is used in the form of (B), the addition amount of the photopolymerization initiator used for curing and molding of the optical material of the present invention is based on the polymerizable component. On the other hand, the range of 0.01% by weight or more and 10.00% by weight or less is preferable. In addition, a photoinitiator can also be used only by 1 type according to the reactivity of resin, and the wavelength of light irradiation, and can also be used in combination of 2 or more types.
本発明の光学材料において、本発明の光学材料用有機化合物を(B)の形態で用いる場合、使用される重合禁止剤としては、本発明の光学材料用有機化合物の保存剤として上述した重合禁止剤が挙げられる。 In the optical material of the present invention, when the organic compound for optical material of the present invention is used in the form of (B), the polymerization inhibitor used as the preservative of the organic compound for optical material of the present invention is the polymerization prohibition described above. Agents.
光として紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の増感剤等を使用することもできる。増感剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、4,4−ジエチルアミノベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。 In the case of initiating polymerization by irradiating ultraviolet rays or the like as light, a known sensitizer can also be used. Typical sensitizers include benzophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin Examples include isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, 2,2-diethoxyacetophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and acylphosphine oxide.
尚、重合可能な樹脂成分に対する光重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択することができる。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整することもできる。 The addition ratio of the photopolymerization initiator to the polymerizable resin component can be appropriately selected according to the amount of light irradiation and further the additional heating temperature. Moreover, it can also adjust according to the average molecular weight made into the target of the polymer obtained.
本発明の光学材料の硬化・成形に用いる光重合開始剤の添加量は、重合可能な成分に対して0.01重量%以上10.00重量%以下の範囲が好ましい。光重合開始剤は樹脂の反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。 The addition amount of the photopolymerization initiator used for curing / molding the optical material of the present invention is preferably in the range of 0.01 wt% to 10.00 wt% with respect to the polymerizable component. The photopolymerization initiator can be used alone or in combination of two or more depending on the reactivity of the resin and the wavelength of light irradiation.
本発明の光学材料用有機化合物を(C)の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物としては、特に制限は無い。例えば、1,3−アダマンタンジオールジメタクリレート、1,3−アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、2(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−メタクリロイルオキシ)フェニル]フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールFジアクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、1,1−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)スルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の(メタ)アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、3,9−ジビニルスピロビ(m−ジオキサン)等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。ただし本発明はこれらに限定されない。 When using the organic compound for optical materials of this invention with the form of (C), there is no restriction | limiting in particular as a compound copolymerized with the organic compound for optical materials of this invention. For example, 1,3-adamantanediol dimethacrylate, 1,3-adamantane dimethanol dimethacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, propoxylated neopentyl glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethoxylated Bisphenol A dimethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, isodecyl acrylate, isobornyl acrylate, iso Bonyl methacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,4-butanedioldia Relate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 9,9-bis [4- (2 -Acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-me Acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-methacryloyloxy) phenyl] fluorene, benzyl acrylate, benzyl methacrylate , Butoxyethyl acrylate, butoxymethyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxymethyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene Glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, Ethylene glycol bisglycidyl acrylate, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate, 2,2-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) Propane, 2,2-bis (4-acryloxydiethoxyphene) Propane, 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, bisphenol F diacrylate, bisphenol F dimethacrylate, 1,1-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) methane, 1,1-bis (4- Acryloxyethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-methacryloxydiethoxy) Phenyl) sulfone, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trime Roll propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, methylthioacrylate, methylthiomethacrylate, phenylthioacrylate, benzylthiomethacrylate, xylylene diene (Meth) acrylate compounds such as thiol diacrylate, xylylene dithiol dimethacrylate, mercaptoethyl sulfide diacrylate, mercaptoethyl sulfide dimethacrylate, allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl carbonate, die Examples include allyl compounds such as tylene glycol bisallyl carbonate, vinyl compounds such as styrene, chlorostyrene, methylstyrene, bromostyrene, dibromostyrene, divinylbenzene, and 3,9-divinylspirobi (m-dioxane), and diisopropenylbenzene. . However, the present invention is not limited to these.
本発明の光学材料用有機化合物を(C)の形態で用いる場合、本発明の光学材料用有機化合物と共重合させる化合物の含有量は、材料全体を基準として1.0重量%以上80重量%以下である。得られる光学材料のθg,F特性や成形体の脆性を考慮すると、好ましくは、1.0重量%以上30重量%以下である。 When the organic compound for optical material of the present invention is used in the form of (C), the content of the compound to be copolymerized with the organic compound for optical material of the present invention is 1.0% by weight or more and 80% by weight based on the whole material. It is as follows. Considering the θg, F characteristics of the obtained optical material and the brittleness of the molded product, it is preferably 1.0% by weight or more and 30% by weight or less.
次に、本発明の光学素子について図を参照しながら説明する。図2は、本発明の光学素子の例を示す概略図である。(a)の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜(光学部材10)がレンズ基板20の片方の面上に設けられている。図1(a)の光学素子を作製する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基板上に膜厚の薄い層構造を形成する方法が採用される。具体的には、金属材料からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板との間にある空隙に流動性の光学材料又は光学用樹脂組成物を充填してから、軽く抑えることで、型成形を行う。そして必要に応じてその状態に保ったまま該光学材料又は該光学用樹脂組成物の重合を行う。かかる重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を用いて行う。例えば、前記基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板を介して、成形されている光学材料調製用のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。 Next, the optical element of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic view showing an example of the optical element of the present invention. In the optical element (a), a thin film (optical member 10) formed by molding the optical material of the present invention is provided on one surface of the lens substrate 20. As a method of manufacturing the optical element in FIG. 1A, for example, a method of forming a thin layer structure on a substrate made of a light transmissive material is employed. Specifically, a mold made of a metal material is provided at a certain distance from the glass substrate, and a gap between the mold and the glass substrate is filled with a flowable optical material or optical resin composition. Molding is performed by holding lightly. Then, if necessary, the optical material or the optical resin composition is polymerized while being kept in that state. The light irradiation used for such a polymerization reaction is performed using light of a suitable wavelength, usually ultraviolet light or visible light, corresponding to the mechanism resulting from radical generation using a photopolymerization initiator. For example, light irradiation is uniformly performed on a light-transmitting material used as the substrate, specifically, a raw material such as a monomer for preparing an optical material that is molded through a glass substrate. The amount of light to be irradiated is appropriately selected according to the mechanism resulting from radical generation using the photopolymerization initiator and according to the content ratio of the contained photopolymerization initiator.
一方、かかる光重合反応による光学材料の成形体の作製においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学材料の成形体の厚さを薄くすることは、本発明にはより好適である。 On the other hand, in the production of a molded body of an optical material by such a photopolymerization reaction, it is more preferable that the irradiated light is uniformly irradiated to the entire raw material such as a monomer that is molded. Therefore, it is more preferable to select light having a wavelength that can be uniformly applied through a light-transmitting material used for the substrate, for example, a glass substrate. At this time, it is more suitable for the present invention to reduce the thickness of the molded body of the optical material formed on the substrate of the light transmissive material.
一方、図1(b)の光学素子は、本発明の光学材料を成形加工してなる薄膜(光学部材10)がレンズ基板30とレンズ基板40との間に設けられている。図1(b)の光学素子を作製する方法としては、例えば、前述した成形体の樹脂組成物側の面と、対応する別のレンズの両者の間に、同様の未硬化の樹脂組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行う。それにより前記光学材料がレンズに挟まれた成形体を得ることができる。
On the other hand, in the optical element of FIG. 1B, a thin film (optical member 10) formed by molding the optical material of the present invention is provided between the
同様に、熱重合法により成形体の作製を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の成形体の総厚を薄くすることは、本発明にはより好適なものとなる。また形成する光学材料の成形体の総厚を厚くする場合には、より膜厚、樹脂成分の吸収、微粒子成分の吸収を考慮した照射量、照射強度、光源等の選択が必要である。 Similarly, a molded body can be produced by a thermal polymerization method. In this case, it is desirable to make the entire temperature more uniform, and it is more suitable for the present invention to reduce the total thickness of the molded body of the polymerizable composition formed on the substrate of the light transmissive material. Become. Further, when the total thickness of the molded body of the optical material to be formed is increased, it is necessary to select the irradiation amount, the irradiation intensity, the light source, etc. in consideration of the film thickness, the absorption of the resin component, the absorption of the fine particle component.
一方、本発明の光学材料用有機化合物を含んだ光学材料の成形体を形成する場合、成形方法については、特に限定されるものはないが、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得るためには、溶融成形が特に好ましい。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。また、成形工程における成形条件は、使用目的又は成形方法により適宜選択されるが、射出成形における樹脂組成物の温度は、150℃から400℃の範囲であることが好ましく、200℃から350℃の範囲であることがより好ましく、200℃から330℃の範囲であることが特に好ましい。前記温度範囲で成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形品のヒケやひずみの発生とともに、樹脂の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、成形物の黄変を効果的に防止することができる。 On the other hand, when forming a molded body of an optical material containing the organic compound for optical material of the present invention, the molding method is not particularly limited, but characteristics such as low birefringence, mechanical strength and dimensional accuracy are included. In order to obtain an excellent molded product, melt molding is particularly preferable. Examples of the melt molding method include press molding, extrusion molding, and injection molding, and injection molding is preferable from the viewpoint of moldability and productivity. The molding conditions in the molding step are appropriately selected depending on the purpose of use or the molding method, but the temperature of the resin composition in the injection molding is preferably in the range of 150 ° C. to 400 ° C., preferably 200 ° C. to 350 ° C. The range is more preferable, and the range of 200 ° C. to 330 ° C. is particularly preferable. By molding in the above temperature range, the resin is imparted with appropriate fluidity during molding to prevent the occurrence of silver streaks due to thermal decomposition of the resin, as well as the occurrence of sink marks and distortion of the molded product. Yellowing can be effectively prevented.
本発明の光学材料を上記の成形方法で成形された成形体は光学素子として用いることができる。光学素子の利用例としては、例えばカメラレンズ等が挙げられる。 A molded body obtained by molding the optical material of the present invention by the above molding method can be used as an optical element. Examples of the use of the optical element include a camera lens.
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。また、反応式中の略号はそれぞれ下記の通りである。尚、合成した化合物の分子構造の分析は、日本電子製JNM−ECA400 NMRを用いて行った。
THF:テトラヒドロフラン
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
TsOH:パラトルエンスルホン酸水和物
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to the Example demonstrated below, unless the summary is exceeded. The abbreviations in the reaction formula are as follows. The molecular structure of the synthesized compound was analyzed using JEOL JNM-ECA400 NMR.
THF: tetrahydrofuran DMF: N, N-dimethylformamide TsOH: p-toluenesulfonic acid hydrate
(合成例1)4,4’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルスルホンの合成 Synthesis Example 1 Synthesis of 4,4′-bis (4-hydroxyphenyl) diphenylsulfone
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン:15g
4−ヒドロキシフェニルボロン酸:21g
炭酸水素ナトリウム:33g
1,4−ジオキサン:500ml
水:250ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.5g
The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4,4'-dichlorodiphenyl sulfone: 15 g
4-hydroxyphenylboronic acid: 21 g
Sodium bicarbonate: 33g
1,4-dioxane: 500 ml
Water: 250ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 2.5 g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合を薄相クロマトグラフィー(以下、TLC)で随時確認した。反応終了後、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機相を回収した。次に、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次に、有機相を減圧濃縮することで得られた残渣についてヘキサン及び酢酸エチルの混合溶液による再結晶精製を行うことにより、淡黄色結晶の4,4’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルスルホン(以下、中間体化合物D1という。)を20g(収率95%)得た。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the degree of reaction progress was confirmed by thin phase chromatography (hereinafter TLC) as needed. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with water, and the organic phase was recovered by solvent extraction. Next, the organic layer was washed with water and then saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the residue obtained by concentrating the organic phase under reduced pressure is recrystallized and purified with a mixed solution of hexane and ethyl acetate, whereby 4,4′-bis (4-hydroxyphenyl) diphenylsulfone of pale yellow crystals is obtained. 20 g (yield 95%) of (hereinafter referred to as intermediate compound D1) was obtained.
(合成例2)4−(2−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ)−フェニルボロン酸ピナコールエステルの合成 Synthesis Example 2 Synthesis of 4- (2-tetrahydropyranyloxyethylthio) -phenylboronic acid pinacol ester
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム(55%):6.2g
N,N−ジメチルホルムアミド:200ml
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 6.2 g
N, N-dimethylformamide: 200 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、4−ブロモチオフェノール25gをゆっくり添加した。次に、室温まで昇温しながら反応溶液を撹拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン24mlを添加した後、反応溶液を40℃に昇温した後この温度(40℃)で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止させた後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4−(2−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ)−ブロモベンゼンを44g得た。尚、得られた化合物は、そのまま次の工程で使用した。 Next, after cooling the reaction solution to 0 ° C., 25 g of 4-bromothiophenol was slowly added. Next, the reaction solution was stirred while raising the temperature to room temperature. Next, 24 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran was added, the reaction solution was heated to 40 ° C., and stirred at this temperature (40 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then quenched with water and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, 44 g of 4- (2-tetrahydropyranyloxyethylthio) -bromobenzene was obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure by column chromatography. The obtained compound was used in the next step as it was.
(2)(1)にて得られた化合物及びテトラヒドロフラン400mlを反応容器内に投入した。次に、反応溶液を−78℃に冷却した後、ブチルリチウム(2.6M)64mlをゆっくり滴下した。次に、反応溶液を同温度(−78℃)でさらに2時間撹拌した。次に、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン35mlを滴下した後、反応溶液を室温までゆっくりと昇温しながら12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮することで得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4−(2−テトラヒドロピラニルオキシエチルチオ)−フェニルボロン酸ピナコールエステル(以下、中間体化合物D2という。)を31g(収率64%)得た。 (2) The compound obtained in (1) and 400 ml of tetrahydrofuran were put into a reaction vessel. Next, after cooling the reaction solution to −78 ° C., 64 ml of butyl lithium (2.6M) was slowly added dropwise. Next, the reaction solution was further stirred at the same temperature (−78 ° C.) for 2 hours. Next, 35 ml of 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane was added dropwise, and the reaction solution was stirred for 12 hours while slowly warming to room temperature. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain 4- (2-tetrahydropyranyloxyethylthio) -phenylboronic acid pinacol ester (hereinafter, intermediate). Body compound D2) (31 g, yield 64%).
(合成例3)トリフルオロメタンスルホン酸4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェニルの合成 Synthesis Example 3 Synthesis of 4- (4-hydroxyphenylsulfonyl) phenyl trifluoromethanesulfonate
下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン:25g
トリフルオロメタンスルホニルクロリド:12ml
クロロホルム:200ml
The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone: 25 g
Trifluoromethanesulfonyl chloride: 12ml
Chloroform: 200ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン15mlを滴下した。次に、同温度(0℃)で反応溶液を1時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに5時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することでトリフルオロメタンスルホン酸4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェニル(以下、中間化合物D3という。)を17g(収率45%)得た。 Next, after cooling the reaction solution to 0 ° C., 15 ml of triethylamine was slowly added dropwise. Next, the reaction solution was stirred at the same temperature (0 ° C.) for 1 hour. Next, the reaction solution was warmed to room temperature and stirred for another 5 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then stopped with aqueous ammonium chloride solution and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, 17 g of 4- (4-hydroxyphenylsulfonyl) phenyl trifluoromethanesulfonate (hereinafter referred to as intermediate compound D3) is obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure by column chromatography. (Yield 45%).
(合成例4)4,4’−ビス(3−ヒドロキシメチル−4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホンの合成 Synthesis Example 4 Synthesis of 4,4′-bis (3-hydroxymethyl-4-methoxyphenyl) diphenylsulfone
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン:25g
トリフルオロメタンスルホニルクロリド:25ml
クロロホルム:300ml
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone: 25 g
Trifluoromethanesulfonyl chloride: 25ml
Chloroform: 300ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、ゆっくりとトリエチルアミン42mlを滴下した。次に、同温度(0℃)で反応溶液を1時間撹拌した。次に、反応溶液を室温まで昇温してからさらに5時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物についてヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、ジフェニルスルホン−4,4’−ジイルビス(トリフルオロメタンスルホナート)を49g(収率94%)得た。ここで得られた化合物については、そのまま次の工程で使用した。 Next, after cooling the reaction solution to 0 ° C., 42 ml of triethylamine was slowly added dropwise. Next, the reaction solution was stirred at the same temperature (0 ° C.) for 1 hour. Next, the reaction solution was warmed to room temperature and stirred for another 5 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then stopped with aqueous ammonium chloride solution and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic phase under reduced pressure was recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain 49 g of diphenylsulfone-4,4′-diylbis (trifluoromethanesulfonate) ( Yield 94%). The compound obtained here was used in the next step as it was.
(2)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
ジフェニルスルホン−4,4’−ジイルビス(トリフルオロメタンスルホナート)((1)で合成したものをそのまま使用):28g
3−ホルミル−4−メトキシフェニルボロン酸:25g
炭酸水素ナトリウム:30g
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:1.3g
1,4−ジオキサン:500ml
水:250ml
(2) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Diphenylsulfone-4,4′-diylbis (trifluoromethanesulfonate) (using the one synthesized in (1) as it is): 28 g
3-formyl-4-methoxyphenylboronic acid: 25 g
Sodium bicarbonate: 30g
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 1.3 g
1,4-dioxane: 500 ml
Water: 250ml
次に、反応溶液を80℃に加熱してこの温度(80℃)で3時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水250mlを添加した後、反応溶液を80℃で1時間撹拌した。次に、生成した結晶(粗結晶)をろ過・回収した後、この粗結晶をエタノールで洗浄してから、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで薄灰色の結晶を得た。 The reaction solution was then heated to 80 ° C. and stirred at this temperature (80 ° C.) for 3 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, 250 ml of water was added, and the reaction solution was stirred at 80 ° C. for 1 hour. Next, the produced crystal (crude crystal) was filtered and collected, and the crude crystal was washed with ethanol and then recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain a light gray crystal.
次に、得られた薄灰色結晶と、下記に示す溶媒を反応容器内に投入した。
メタノール:200ml
テトラヒドロフラン:200ml
Next, the obtained light gray crystal and the solvent shown below were charged into the reaction vessel.
Methanol: 200ml
Tetrahydrofuran: 200ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム12gをゆっくり添加した。次に、反応進行度合をTLCで確認しながら反応溶液を同温度(0℃)で撹拌した。反応の進行を確認した後、2N塩酸水溶液を添加した。次に、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、生成した結晶を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順で洗浄した。次に、エタノール/酢酸エチル/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’−ビス(3−ヒドロキシメチル−4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホン(以下、中間化合物D4という。)を48g(収率90%)得た。 Next, after cooling the reaction solution to 0 ° C., 12 g of sodium borohydride was slowly added. Next, the reaction solution was stirred at the same temperature (0 ° C.) while checking the degree of reaction progress by TLC. After confirming the progress of the reaction, 2N hydrochloric acid aqueous solution was added. Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 1 hour. Next, the produced | generated crystal | crystallization was wash | cleaned in order of sodium hydrogencarbonate aqueous solution and water. Next, 48 g of 4,4′-bis (3-hydroxymethyl-4-methoxyphenyl) diphenylsulfone (hereinafter referred to as intermediate compound D4) is obtained by recrystallization purification using a mixed solvent of ethanol / ethyl acetate / hexane. (Yield 90%).
[実施例1]
実施例1で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 1]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 1 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム(55%):620mg
N,N−ジメチルホルムアミド:30ml
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 620 mg
N, N-dimethylformamide: 30 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、中間化合物D1(2.3g)をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン2.7mlを添加した後、反応溶液を60℃に加熱してこの温度(60℃)で12時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して粗生成物を得た。このようにして得られた粗生成物をそのまま次の工程で使用した。 Next, the reaction solution was cooled to 0 ° C., and then intermediate compound D1 (2.3 g) was slowly added. Next, the reaction solution was stirred while warming to room temperature. Next, 2.7 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran was added, and then the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then quenched with water and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the organic phase was concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. The crude product thus obtained was used as such in the next step.
(2)(1)にて得られた粗生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン:10ml
メタノール:40ml
パラトルエンスルホン酸水和物:少量
(2) The crude product obtained in (1) and the reagents and solvents shown below were charged into a reaction vessel.
Tetrahydrofuran: 10ml
Methanol: 40ml
Paratoluenesulfonic acid hydrate: small amount
次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過した後、この沈殿物をクロロホルム/ヘキサン混合溶液で再結晶精製を行うことにより、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホン2.3g(収率82%)が得られた。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, the produced precipitate is filtered, and then this precipitate is recrystallized and purified with a chloroform / hexane mixed solution to obtain 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone 2. 0.3 g (82% yield) was obtained.
(3)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホン:3.0g
メタクリル酸:30ml
パラトルエンスルホン酸:0.2g
4−メトキシフェノール:0.2g
トルエン:30ml
(3) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
4,4′-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenyl sulfone: 3.0 g
Methacrylic acid: 30ml
Paratoluenesulfonic acid: 0.2 g
4-methoxyphenol: 0.2 g
Toluene: 30ml
次に、反応溶液を20時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4,4’−ビス(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンを2.1g(収率55%)得た。 Next, the reaction solution was heated and stirred for 20 hours. In addition, the water | moisture content produced | generated at this time was removed suitably, and reaction progress was confirmed at any time by TLC. Next, an aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the reaction solution, and then the organic phase was extracted with chloroform. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain 2.1 g of 4,4′-bis (4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone. (Yield 55%).
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.95(s、6H)、4.27(t、4H)、4.52(t、4H)、5.59(s、2H)、6.14(s、2H)、6.99−7.01(m、4H)、7.25−7.26(m、4H)、7.50−7.53(m、4H)、7.65−7.67(m、4H)、7.98−8.02(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.95 (s, 6H), 4.27 (t, 4H), 4.52 (t, 4H), 5.59 (s, 2H), 6. 14 (s, 2H), 6.99-7.01 (m, 4H), 7.25-7.26 (m, 4H), 7.50-7.53 (m, 4H), 7.65- 7.67 (m, 4H), 7.98-8.02 (m, 4H)
[実施例2]
実施例2で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 2]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 2 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間体化合物D3:5g
中間体化合物D2:6g
炭酸水素ナトリウム:4g
ジオキサン:150ml
水:70ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Intermediate compound D3: 5 g
Intermediate compound D2: 6 g
Sodium bicarbonate: 4g
Dioxane: 150ml
Water: 70ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.3g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。この精製によって得られた化合物をそのまま次の工程で使用した。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The compound obtained by this purification was directly used in the next step.
(2)次に、下記に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム:0.6g
N,N−ジメチルホルムアミド:100ml
(2) Next, the following reagents and solvent were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride: 0.6g
N, N-dimethylformamide: 100 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、(1)にて得られた化合物をゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間撹拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン2.4mlを添加した後、反応溶液を60℃に加熱しこの温度(60℃)で10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮することで粗生成物を得た。得られた粗生成物は、このまま次の工程で使用した。 Next, after the reaction solution was cooled to 0 ° C., the compound obtained in (1) was slowly added. Next, the reaction solution was stirred for 2 hours while warming to room temperature. Next, after adding 2.4 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran, the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 10 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. The obtained crude product was used in the next step as it was.
(3)(2)で得られた粗生成物、及び下記に示した試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン:10ml
メタノール:40ml
パラトルエンスルホン酸:少量
(3) The crude product obtained in (2) and the reagents and solvents shown below were charged into a reaction vessel.
Tetrahydrofuran: 10ml
Methanol: 40ml
P-Toluenesulfonic acid: small amount
次に、反応溶液を室温で10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収し、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4−(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)−4’−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ジフェニルスルホンを4.1g(収率73%)得た。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 10 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, the produced precipitate is filtered and collected, and recrystallized and purified with a mixed solvent of chloroform / hexane to give 4- (4- (2-hydroxyethylthio) phenyl) -4 ′-(2-hydroxyethyl). 4.1 g (73% yield) of oxy) diphenylsulfone was obtained.
(4)実施例1(3)において、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンに代えて4−(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)−4’−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例1(3)と同様の方法により合成を行い、4−(4−(2−メタクリロイルオキシエチルチオ)フェニル)−4’−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)ジフェニルスルホンを2.5g(収率63%)得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は20mlである。 (4) In Example 1 (3), 4- (4- (2-hydroxyethylthio) phenyl) -4 ′ instead of 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone -(2-Hydroxyethyloxy) diphenylsulfone was used. Except for this, synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 (3), and 4- (4- (2-methacryloyloxyethylthio) phenyl) -4 ′-(2-methacryloyloxyethyloxy) diphenylsulfone was obtained. 2.5 g (yield 63%) was obtained. In this example, the amount of methacrylic acid used is 20 ml.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.92(s、3H)、1.95(s、3H)、3.22(t、2H)、4.25(t、2H)、4.27(t、2H)、4.50(t、2H)、5.57(d、1H)、5.58(d、1H)、6.12(d、1H)、6.12(d、1H)、6.94−7.03(m、4H)、7.47−7.67(m、4H)、7.89−7.99(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.92 (s, 3H), 1.95 (s, 3H), 3.22 (t, 2H), 4.25 (t, 2H), 4. 27 (t, 2H), 4.50 (t, 2H), 5.57 (d, 1H), 5.58 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.12 (d, 1H) ), 6.94-7.03 (m, 4H), 7.47-7.67 (m, 4H), 7.89-7.99 (m, 4H)
[実施例3]
実施例3で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 3]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 3 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン:10g
4−ヒドロキシフェニルボロン酸:5.8g
炭酸水素ナトリウム:10g
ジオキサン:400ml
水:200ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.8g
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
4,4′-dichlorodiphenyl sulfone: 10 g
4-hydroxyphenylboronic acid: 5.8 g
Sodium bicarbonate: 10g
Dioxane: 400ml
Water: 200ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.8g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で10時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 10 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The product thus obtained was used as such in the next step.
(2)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム:1.4g
N,N−ジメチルホルムアミド:200ml
(2) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride: 1.4g
N, N-dimethylformamide: 200 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、(1)にて得られた生成物をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間撹拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン6.4mlを添加した後、反応溶液を60℃に加熱してこの温度(60℃)で5時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。 Next, after the reaction solution was cooled to 0 ° C., the product obtained in (1) was slowly added. Next, the reaction solution was stirred for 2 hours while warming to room temperature. Next, after adding 6.4 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran, the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 5 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The product thus obtained was used as such in the next step.
(3)(2)にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
中間化合物D2:6.6g
炭酸水素ナトリウム:4.5g
ジオキサン:300ml
水:150ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g
(3) The product obtained in (2) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Intermediate compound D2: 6.6 g
Sodium bicarbonate: 4.5g
Dioxane: 300ml
Water: 150ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.3g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The product thus obtained was used as such in the next step.
(4)(3)にて得られた生成物及び下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン:10ml
メタノール:40ml
パラトルエンスルホン酸:少量
(4) The product obtained in (3) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Tetrahydrofuran: 10ml
Methanol: 40ml
P-Toluenesulfonic acid: small amount
次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、この沈殿物をクロロホルム/ヘキサンの混合溶媒で再結晶精製を行うことで4−(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)−4’−(4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)フェニル)ジフェニルスルホンを5g(28%)得た。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, the produced precipitate was filtered and collected, and then the precipitate was recrystallized and purified with a mixed solvent of chloroform / hexane to give 4- (4- (2-hydroxyethylthio) phenyl) -4′-. 5 g (28%) of (4- (2-hydroxyethyloxy) phenyl) diphenylsulfone was obtained.
(5)実施例1(3)において、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンの代わりに4−(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)−4’−(4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)フェニル)ジフェニルスルホン(2.0g)を使用した。これを除いては、実施例1(3)と同様の方法により合成を行い、4−(4−(2−メタクリロイルオキシエチルチオ)フェニル)−4’−(4−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)フェニル)ジフェニルスルホンを0.8g(収率31%)得た。尚、本実施例において、メタクリル酸の使用量は20mlである。 (5) In Example 1 (3), 4- (4- (2-hydroxyethylthio) phenyl) -4 ′ instead of 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone -(4- (2-Hydroxyethyloxy) phenyl) diphenylsulfone (2.0 g) was used. Except for this, the synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 (3), and 4- (4- (2-methacryloyloxyethylthio) phenyl) -4 ′-(4- (2-methacryloyloxyethyloxy) was obtained. ) Phenyl) diphenylsulfone 0.8g (yield 31%) was obtained. In this example, the amount of methacrylic acid used is 20 ml.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.91(s、3H)、1.95(s、3H)、3.24(t、2H)、4.27(t、2H)、4.35(t、2H)、4.52(t、2H)、5.56−5.60(m、2H)、6.09−6.13(m、2H)、6.98−7.02(m、2H)、7.45−7.69(m、12H)、7.98−8.02(m、2H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.91 (s, 3H), 1.95 (s, 3H), 3.24 (t, 2H), 4.27 (t, 2H), 4. 35 (t, 2H), 4.52 (t, 2H), 5.56-5.60 (m, 2H), 6.09-6.13 (m, 2H), 6.98-7.02 ( m, 2H), 7.45-7.69 (m, 12H), 7.98-8.02 (m, 2H)
[実施例4]
実施例4で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 4]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 4 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン:13g
中間化合物D2:50g
炭酸水素ナトリウム:29g
ジオキサン:400ml
水:200ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.1g
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
4,4′-dichlorodiphenyl sulfone: 13 g
Intermediate compound D2: 50 g
Sodium bicarbonate: 29g
Dioxane: 400ml
Water: 200ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 2.1 g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして得られた生成物を、次の工程でそのまま使用した。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after stopping the reaction with an aqueous ammonium chloride solution, the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The product thus obtained was used as such in the next step.
(2)(1)にて得られた生成物及び下記に示される試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
テトラヒドロフラン:30ml
メタノール:100ml
パラトルエンスルホン酸:少量
(2) The product obtained in (1) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Tetrahydrofuran: 30ml
Methanol: 100ml
P-Toluenesulfonic acid: small amount
次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)ジフェニルスルホンを19g(収率74%)得た。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after the produced precipitate was filtered and collected, 19 g of 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethylthio) phenyl) diphenylsulfone was obtained by recrystallization purification with a chloroform / hexane mixed solvent. (Yield 74%).
(3)実施例1(3)において、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンの代わりに、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエチルチオ)フェニル)ジフェニルスルホンを使用した。これを除いては、実施例1(3)と同様の方法により合成を行い、4,4’−ビス(4−(2−メタクリロイルオキシエチルチオ)フェニル)ジフェニルスルホンを3.0g(収率80%)得た。尚、本実施例において、メタクリル酸及びトルエンの使用量は、それぞれ29ml、40mlである。 (3) In Example 1 (3), instead of 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone, 4,4′-bis (4- (2-hydroxyethylthio) Phenyl) diphenylsulfone was used. Except for this, synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 (3), and 3.0 g (yield 80) of 4,4′-bis (4- (2-methacryloyloxyethylthio) phenyl) diphenylsulfone was obtained. %)Obtained. In this example, the amounts of methacrylic acid and toluene used are 29 ml and 40 ml, respectively.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.91(s、6H)、3.22(t、4H)、4.35(t、4H)、5.56(s、2H)、6.07(s、2H)、7.42−7.52(m、8H)、7.65−7.71(m、4H)、8.00−8.05(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.91 (s, 6H), 3.22 (t, 4H), 4.35 (t, 4H), 5.56 (s, 2H), 6. 07 (s, 2H), 7.42-7.52 (m, 8H), 7.65-7.71 (m, 4H), 8.00-8.05 (m, 4H)
[実施例5]
実施例5で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 5]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 5 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)下記に示す試薬、溶媒を反応容器内に投入した。
水素化ナトリウム(55%):2.5g
N,N−ジメチルホルムアミド:200ml
(1) Reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 2.5 g
N, N-dimethylformamide: 200 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、中間化合物D1(10g)をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら撹拌した。次に、3−ブロモプロパノール5.4mlを添加した後、反応溶液を50℃に加熱してこの温度(50℃)で12時間撹拌した。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止し、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機相を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶することにより白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。 Next, the reaction solution was cooled to 0 ° C., and then intermediate compound D1 (10 g) was slowly added. Next, the reaction solution was stirred while warming to room temperature. Next, after adding 5.4 ml of 3-bromopropanol, the reaction solution was heated to 50 ° C. and stirred at this temperature (50 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then quenched with water and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic phase under reduced pressure was recrystallized with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain white crystals. The white crystals thus obtained were used as such in the next step.
(2)実施例1(3)において、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の(1)で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例1(3)と同様の方法により、4,4’−ビス(4−(3−メタクリロイルオキシプロポキシ)フェニル)ジフェニルスルホンを11.5g(収率71%)得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ90ml、0.6g、0.6g、90mlである。 (2) In Example 1 (3), the white crystals obtained in (1) of this example were used in place of 4,4'-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone. Except this, 11.5 g (yield 71%) of 4,4′-bis (4- (3-methacryloyloxypropoxy) phenyl) diphenylsulfone was obtained in the same manner as in Example 1 (3). . In this example, the amounts of methacrylic acid, paratoluenesulfonic acid, methoxyphenol and toluene used are 90 ml, 0.6 g, 0.6 g and 90 ml, respectively.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.94(s、6H)、2.19(dt、4H)、4.11(t、4H)、4.36(t、4H)、5.56(br、2H)、6.11(br、2H)、6.94−6.99(m、4H)、7.45−7.54(m、4H)、7.63−7.69(m、4H)、7.96−8.03(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.94 (s, 6H), 2.19 (dt, 4H), 4.11 (t, 4H), 4.36 (t, 4H), 5. 56 (br, 2H), 6.11 (br, 2H), 6.94-6.99 (m, 4H), 7.45-7.54 (m, 4H), 7.63-7.69 ( m, 4H), 7.96-8.03 (m, 4H)
[実施例6]
実施例6で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 6]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 6 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン:10g
3−メトキシ−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェノール:25g
炭酸水素ナトリウム:25g
1,4−ジオキサン:500ml
水:250ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:2.5g
(1) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4,4′-dichlorodiphenyl sulfone: 10 g
3-methoxy-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenol: 25 g
Sodium bicarbonate: 25g
1,4-dioxane: 500 ml
Water: 250ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 2.5 g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈して溶媒抽出により有機相を回収した後、この有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、この有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで粗生成物を得た。次に、この粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで4,4’−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)ジフェニルスルホンが淡黄色結晶として得られた。このようにして得られた淡黄色結晶を、次の工程でそのまま使用した。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after diluting the reaction solution with water and recovering the organic phase by solvent extraction, the organic layer was washed with water and saturated brine in this order. Next, this organic phase was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Next, this crude product was recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain 4,4'-bis (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) diphenylsulfone as pale yellow crystals. The pale yellow crystals thus obtained were used as such in the next step.
(2)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム(55%):5.1g
N,N−ジメチルホルムアミド:300ml
(2) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 5.1 g
N, N-dimethylformamide: 300 ml
次に、反応溶液中に、(1)にて得られた淡黄色結晶をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、3−ブロモプロパノール10mlをゆっくりと滴下した後、反応溶液を60℃に加熱してこの温度(60℃)で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水で反応を停止した後、有機相を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶することで白色結晶を得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。 Next, the pale yellow crystals obtained in (1) were slowly added to the reaction solution. Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 1 hour. Next, 10 ml of 3-bromopropanol was slowly added dropwise, and then the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. The reaction was then quenched with water and the organic phase was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was recrystallized with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain white crystals. The white crystals thus obtained were used as such in the next step.
(3)実施例1(3)において、4,4’−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)ジフェニルスルホンの代わりに本実施例の(2)で得られた白色結晶を使用した。これを除いては、実施例1(3)と同様の方法により、4,4’−ビス(4−(3−メタクリロイルオキシプロポキシ)−3−メトキシフェニル)ジフェニルスルホンを21g(収率84%)得た。尚、本実施例において、メタクリル酸、パラトルエンスルホン酸、メトキシフェノール及びトルエンの使用量は、それぞれ120ml、1.3g、11.3g、300mlである。 (3) In Example 1 (3), white crystals obtained in (2) of this example were used instead of 4,4'-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) diphenylsulfone. Except for this, 21 g (yield 84%) of 4,4′-bis (4- (3-methacryloyloxypropoxy) -3-methoxyphenyl) diphenylsulfone was obtained in the same manner as in Example 1 (3). Obtained. In this example, the amounts used of methacrylic acid, paratoluenesulfonic acid, methoxyphenol and toluene are 120 ml, 1.3 g, 11.3 g and 300 ml, respectively.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.94(s、6H)、2.24(dt、4H)、3.91(s、6H)、4.17(t、4H)、4.37(t、4H)、5.56(br、2H)、6.11(br、2H)、6.92−7.15(m、6H)、7.64−7.70(m、4H)、7.97−8.03(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.94 (s, 6H), 2.24 (dt, 4H), 3.91 (s, 6H), 4.17 (t, 4H), 4. 37 (t, 4H), 5.56 (br, 2H), 6.11 (br, 2H), 6.92-7.15 (m, 6H), 7.64-7.70 (m, 4H) 7.97-8.03 (m, 4H)
[実施例7]
実施例7で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 7]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 7 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)実施例6(1)において、2−メトキシ−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェノールの代わりに2,6−ジメチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェノールを使用した以外は、実施例6(1)と同様の方法で合成を行った。尚、本実施例において4,4’−ジクロロジフェニルスルホン及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムの使用量は、それぞれ9.6g、2.3gである。これにより4,4’−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ジフェニルスルホンを白色結晶として得た。このようにして得られた白色結晶を、次の工程でそのまま使用した。 (1) Instead of 2-methoxy-4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenol in Example 6 (1), 2,6-dimethyl Synthesis was performed in the same manner as in Example 6 (1) except that -4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenol was used. In this example, the amounts of 4,4'-dichlorodiphenylsulfone and tetrakistriphenylphosphine palladium used are 9.6 g and 2.3 g, respectively. As a result, 4,4'-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) diphenylsulfone was obtained as white crystals. The white crystals thus obtained were used as such in the next step.
(2)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム(55%):3.1g
N,N−ジメチルホルムアミド:300ml
(2) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 3.1 g
N, N-dimethylformamide: 300 ml
次に、反応溶液中に、(1)にて得られた白色結晶をゆっくりと添加した後、反応溶液を室温で1時間撹拌した。次に、メタクリル酸−2−ブロモエチル15gをゆっくりと滴下した後、反応溶液を60℃に加熱してこの温度(60℃)で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止した後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより4,4’−ビス(4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル)ジフェニルスルホンを15g(収率66%)得た。 Next, the white crystals obtained in (1) were slowly added to the reaction solution, and then the reaction solution was stirred at room temperature for 1 hour. Next, 15 g of 2-bromoethyl methacrylate was slowly added dropwise, and then the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, water was added to stop the reaction, and the organic layer was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain 4,4′-bis (4- (2-methacryloyloxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl) diphenyl. 15 g (yield 66%) of sulfone was obtained.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.89(s、6H)、2.30(s、12H)、4.30(t、4H)、4.62(s、4H)、5.47(br、2H)、6.05(br、2H)、7.21−7.27(m、4H)、7.60−7.67(m、4H)、7.93−8.01(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.89 (s, 6H), 2.30 (s, 12H), 4.30 (t, 4H), 4.62 (s, 4H), 5. 47 (br, 2H), 6.05 (br, 2H), 7.21-7.27 (m, 4H), 7.60-7.67 (m, 4H), 7.93-8.01 ( m, 4H)
[実施例8]
実施例8で合成した化合物の合成スキームを以下に示す。また具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 8]
A synthesis scheme of the compound synthesized in Example 8 is shown below. A specific synthesis method will be described below.
(1)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム(55%):11g
N,N−ジメチルホルムアミド:300ml溶液
(1) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride (55%): 11 g
N, N-dimethylformamide: 300 ml solution
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、中間化合物D4(30g)をゆっくりと添加した。次に、反応溶液を同温度(0℃)で1時間撹拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン36mlを添加した後、反応溶液を70℃に加熱してこの温度(70℃)で6時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色液体を得た。このようにして得られた薄黄色固体をそのまま次の工程で使用した。 Next, the reaction solution was cooled to 0 ° C., and then intermediate compound D4 (30 g) was slowly added. Next, the reaction solution was stirred at the same temperature (0 ° C.) for 1 hour. Next, after adding 36 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran, the reaction solution was heated to 70 ° C. and stirred at this temperature (70 ° C.) for 6 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, water was added to stop the reaction, and the organic layer was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain a pale yellow liquid. The pale yellow solid thus obtained was used as such in the next step.
(2)(1)にて得られた薄黄色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
メタノール:150ml
テトラヒドロフラン:50ml
パラトルエンスルホン酸:触媒量
(2) The light yellow liquid obtained in (1) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Methanol: 150ml
Tetrahydrofuran: 50ml
P-Toluenesulfonic acid: catalyst amount
次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、トリエチルアミンを添加して反応を停止させた後、生成した結晶をろ過・回収した。次に、得られた結晶をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことで白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after adding triethylamine to stop the reaction, the produced crystals were filtered and collected. Next, the obtained crystals were recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain white crystals. The white solid thus obtained was used as such in the next step.
(3)(2)にて得られた白色液体及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
クロロホルム:100ml
ピリジン:150ml
4−メトキシフェノール:0.2g
N,N−ジメチルアミノピリジン:1.2g
無水メタクリル酸:30ml
(3) The white liquid obtained in (2) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Chloroform: 100ml
Pyridine: 150ml
4-methoxyphenol: 0.2 g
N, N-dimethylaminopyridine: 1.2 g
Methacrylic anhydride: 30 ml
次に、反応溶液を室温で12時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、2N塩酸を添加して反応を停止させた後、有機層をトルエンで抽出した。次に、得られた有機層を2N塩酸、10%水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで油状の生成物を得た。次に、得られた油状生成物をヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’−ビス((3−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)メチル)−4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホンを26g(収率55%)得た。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, 2N hydrochloric acid was added to stop the reaction, and then the organic layer was extracted with toluene. Next, the obtained organic layer was washed with 2N hydrochloric acid, 10% aqueous sodium hydroxide, water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain an oily product. Next, the obtained oily product was recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain 4,4′-bis ((3- (2-methacryloyloxyethoxy) methyl) -4-methoxyphenyl). 26 g (55% yield) of diphenyl sulfone was obtained.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.89(s、6H)、3.78(t、4H)、3.87(s、6H)、4.35(t、4H)、4.65(s、4H)、5.49(br、2H)、6.09(br、2H)、6.90−6.98(m、2H)、7.45−7.51(m、2H)、7.60−7.72(m、8H)、7.94−8.02(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.89 (s, 6H), 3.78 (t, 4H), 3.87 (s, 6H), 4.35 (t, 4H), 4. 65 (s, 4H), 5.49 (br, 2H), 6.09 (br, 2H), 6.90-6.98 (m, 2H), 7.45-7.51 (m, 2H) 7.60-7.72 (m, 8H), 7.94-8.02 (m, 4H)
[実施例9]
実施例9で合成した化合物の具体的な合成方法について以下に説明する。
[Example 9]
A specific method for synthesizing the compound synthesized in Example 9 will be described below.
(1)実施例8(1)において、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピランの代わりに、下記に示す2−(4−クロロブトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン(9.0ml)を使用した。これを除いては、実施例8(1)と同様の方法により合成を行い、薄黄色液体の生成物を得た。尚、本実施例において、水素化ナトリウム(55%)及び中間化合物D4の使用量は、それぞれ2.8g、8.0gである。このようにして得られた薄黄色液体をそのまま次の工程で使用した。 (1) In Example 8 (1), 2- (4-chlorobutoxy) tetrahydro-2H-pyran (9.0 ml) shown below was used instead of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran. used. Except this, synthesis was performed in the same manner as in Example 8 (1) to obtain a pale yellow liquid product. In this example, the amounts of sodium hydride (55%) and intermediate compound D4 used are 2.8 g and 8.0 g, respectively. The pale yellow liquid thus obtained was used as such in the next step.
(2)実施例8(2)において、実施例8(1)にて得られた薄黄色液体の代わりに、本実施例(1)にて得られた薄黄色液体を使用したことを除いては、実施例8(2)と同様の方法により白色結晶を得た。このようにして得られた白色固体をそのまま次の工程で使用した。 (2) In Example 8 (2), except that the light yellow liquid obtained in Example (1) was used instead of the light yellow liquid obtained in Example 8 (1). Produced white crystals in the same manner as in Example 8 (2). The white solid thus obtained was used as such in the next step.
(3)実施例8(3)において、実施例8(2)にて得られた白色固体の代わりに、本実施例(2)にて得られた白色固体を使用した。これを除いては、実施例8(2)と同様の方法により、下記に示される化合物、即ち、4,4’−ビス((3−(4−メタクリロイルオキシブトキシ)メチル)−4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホンを6.7g(収率53%)得た。 (3) In Example 8 (3), the white solid obtained in Example (2) was used instead of the white solid obtained in Example 8 (2). Except for this, the compound shown below, ie, 4,4′-bis ((3- (4-methacryloyloxybutoxy) methyl) -4-methoxyphenyl, was obtained in the same manner as in Example 8 (2). ) 6.7 g (53% yield) of diphenylsulfone was obtained.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.89(s、6H)、2.24(dt、4H)、3.73(t、4H)、3.85(s、6H)、4.32(t、4H)、4.65(s、4H)、5.49(br、2H)、6.09(br、2H)、6.91−6.99(m、2H)、7.45−7.52(m、2H)、7.59−7.72(m、8H)、7.93−8.02(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.89 (s, 6H), 2.24 (dt, 4H), 3.73 (t, 4H), 3.85 (s, 6H), 4. 32 (t, 4H), 4.65 (s, 4H), 5.49 (br, 2H), 6.09 (br, 2H), 6.91-6.99 (m, 2H), 7.45 -7.52 (m, 2H), 7.59-7.72 (m, 8H), 7.93-8.02 (m, 4H)
[比較例1]
下記に示す化合物を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
[Comparative Example 1]
The following compounds were synthesized and experiments for optical properties and practicality described later were conducted. Below, the synthesis | combining method of the compound of this comparative example is demonstrated.
(1)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
中間化合物D3:5g
4−ヒドロキシフェニルボロン酸:2.5g
炭酸水素ナトリウム:4g
ジオキサン:200ml
水:100ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.3g
(1) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
Intermediate compound D3: 5 g
4-hydroxyphenylboronic acid: 2.5 g
Sodium bicarbonate: 4g
Dioxane: 200ml
Water: 100ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.3g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度(90℃)で20時間撹拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することで4−(4−ヒドロキシフェニル)−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンを4.2g(収率98%)得た。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature (90 ° C.) for 20 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, an aqueous ammonium chloride solution was added to stop the reaction, and then the organic layer was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography to obtain 4.2 g of 4- (4-hydroxyphenyl) -4′-hydroxydiphenylsulfone (yield 98%). )Obtained.
(2)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
水素化ナトリウム:1.2g
N,N−ジメチルホルムアミド:150ml
(2) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
Sodium hydride: 1.2g
N, N-dimethylformamide: 150 ml
次に、反応溶液を0℃に冷却した後、(1)にて合成した4−(4−ヒドロキシフェニル)−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン4.2gを同温度(0℃)でゆっくり添加した。次に、反応溶液を室温まで昇温しながら2時間攪拌した。次に、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン4.8mlを添加した後、反応溶液を60℃に加熱してこの温度(60℃)で12時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで確認した。次に、塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた後、有機層を酢酸エチルで抽出した。次に、得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、この有機層を減圧濃縮して得られる粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。これにより得られた生成物を次の工程でそのまま使用した。 Next, after cooling the reaction solution to 0 ° C., 4.2 g of 4- (4-hydroxyphenyl) -4′-hydroxydiphenyl sulfone synthesized in (1) was slowly added at the same temperature (0 ° C.). Next, the reaction solution was stirred for 2 hours while warming to room temperature. Next, after adding 4.8 ml of 2- (2-bromoethoxy) tetrahydro-2H-pyran, the reaction solution was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature (60 ° C.) for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC. Next, an aqueous ammonium chloride solution was added to stop the reaction, and then the organic layer was extracted with ethyl acetate. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure was purified by column chromatography. The product thus obtained was used as such in the next step.
(3)(2)にて得られた生成物及び以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
テトラヒドロフラン:10ml
メタノール:40ml
パラトルエンスルホン酸:少量
(3) The product obtained in (2) and the reagents and solvents shown below were charged into the reaction vessel.
Tetrahydrofuran: 10ml
Methanol: 40ml
P-Toluenesulfonic acid: small amount
次に、反応溶液を室温で12時間攪拌した。尚、このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、生成した沈殿物をろ過・回収した後、クロロホルム/ヘキサン混合溶媒で再結晶精製を行うことで4−(4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)フェニル)−4’−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ジフェニルスルホンを5.0g(収率92%)得た。 Next, the reaction solution was stirred at room temperature for 12 hours. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, the produced precipitate is filtered and collected, and then recrystallized and purified with a mixed solvent of chloroform / hexane to give 4- (4- (2-hydroxyethyloxy) phenyl) -4 ′-(2-hydroxyethyl). 5.0 g (yield 92%) of oxy) diphenylsulfone was obtained.
(4)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
4−(4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)フェニル)−4’−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ジフェニルスルホン:4.0g
メタクリル酸:25ml
パラトルエンスルホン酸:0.2g
4−メトキシフェノール:0.2g
トルエン:30ml
(4) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4- (4- (2-hydroxyethyloxy) phenyl) -4 ′-(2-hydroxyethyloxy) diphenylsulfone: 4.0 g
Methacrylic acid: 25 ml
Paratoluenesulfonic acid: 0.2 g
4-methoxyphenol: 0.2 g
Toluene: 30ml
次に、反応溶液を20時間加熱撹拌した。尚、このとき生成する水分を適宜除去し、反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応溶液を中性にした後、有機相をクロロホルムで抽出した。次に、得られた有機相を水、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、有機層を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより、4−(4−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)フェニル)−4’−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)ジフェニルスルホンを4.3g(収率81%)得た。 Next, the reaction solution was heated and stirred for 20 hours. In addition, the water | moisture content produced | generated at this time was removed suitably, and reaction progress was confirmed at any time by TLC. Next, an aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the reaction solution, and then the organic phase was extracted with chloroform. Next, the obtained organic phase was washed with water and saturated brine in that order, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. Next, the crude product obtained by concentrating the organic layer under reduced pressure is purified by column chromatography to give 4- (4- (2-methacryloyloxyethyloxy) phenyl) -4 ′-(2-methacryloyloxy). 4.3 g (81% yield) of ethyloxy) diphenylsulfone was obtained.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 1.92(s、3H)、1.95(s、3H)、4.20−4.29(m、4H)、4.46−4.52(m、4H)、5.58(d、1H)、5.58(d、1H)、6.12(d、1H)、6.12(d、1H)、6.94−7.03(m、4H)、7.47−7.54(m、2H)、7.61−7.67(m、2H)、7.88−7.97(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 1.92 (s, 3H), 1.95 (s, 3H), 4.20-4.29 (m, 4H), 4.46-4.52 (M, 4H), 5.58 (d, 1H), 5.58 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.12 (d, 1H), 6.94-7.03 ( m, 4H), 7.47-7.54 (m, 2H), 7.61-7.67 (m, 2H), 7.88-7.97 (m, 4H)
[比較例2]4,4’−ビス(2−メチルチオフェニル)ジフェニルスルホンの合成
下記に示す化合物(4,4’−ビス(2−メチルチオフェニル)ジフェニルスルホン)を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
[Comparative Example 2] Synthesis of 4,4'-bis (2-methylthiophenyl) diphenylsulfone A compound shown below (4,4'-bis (2-methylthiophenyl) diphenylsulfone) was synthesized and optical properties described later. And practicality experiments were conducted. Below, the synthesis | combining method of the compound of this comparative example is demonstrated.
(1)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン:0.4g
2−メチルチオフェニルボロン酸:0.6g
炭酸水素ナトリウム:0.8g
1,4−ジオキサン:20ml
水:10ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.07g
(1) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4,4'-dichlorodiphenyl sulfone: 0.4 g
2-methylthiophenylboronic acid: 0.6 g
Sodium bicarbonate: 0.8g
1,4-dioxane: 20 ml
Water: 10ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.07g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度で20時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4,4’−ビス(2−メチルチオフェニル)ジフェニルスルホンを淡黄色結晶として0.5g(収率72%)得た。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature for 20 hours. still. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after diluting the reaction solution with water, the organic layer was recovered by solvent extraction. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in this order. Next, the obtained organic phase was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Next, the crude product was recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain 0.5 g of 4,4′-bis (2-methylthiophenyl) diphenylsulfone as pale yellow crystals (yield 72). %)Obtained.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 2.37(s、6H)、7.14−7.40(m、8H)、7.56−7.62(m、4H)、8.00−8.06(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 2.37 (s, 6H), 7.14-7.40 (m, 8H), 7.56-7.62 (m, 4H), 8.00 -8.06 (m, 4H)
[比較例3]4−(4−メチルチオフェニル)ジフェニルエーテルの合成
下記に示す化合物(4−(4−メチルチオフェニル)ジフェニルエーテル)を合成して、後述する光学特性及び実用性の実験を行った。以下に、本比較例の化合物の合成方法を説明する。
[Comparative Example 3] Synthesis of 4- (4-methylthiophenyl) diphenyl ether The following compound (4- (4-methylthiophenyl) diphenyl ether) was synthesized, and experiments for optical properties and practicality described later were performed. Below, the synthesis | combining method of the compound of this comparative example is demonstrated.
(1)以下に示す試薬、溶媒を反応容器に投入した。
4−ブロモジフェニルエーテル:0.8g
4−メチルチオフェニルボロン酸:0.6g
炭酸水素ナトリウム:0.8g
ジオキサン:20ml
水:10ml
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム:0.1g
(1) The following reagents and solvents were charged into the reaction vessel.
4-bromodiphenyl ether: 0.8 g
4-methylthiophenylboronic acid: 0.6 g
Sodium bicarbonate: 0.8g
Dioxane: 20ml
Water: 10ml
Tetrakistriphenylphosphine palladium: 0.1 g
次に、反応溶液を90℃に加熱してこの温度で20時間撹拌した。尚。このとき反応進行度合をTLCで随時確認した。次に、反応溶液を水で希釈した後、溶媒抽出により有機層を回収した。次に、得られた有機層を、水、飽和食塩水の順で洗浄した。次に、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して粗生成物を得た。次に、この粗生成物を、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製を行うことにより、4−(4−メチルチオフェニル)ジフェニルエーテルを0.8g(収率89%)得た。 The reaction solution was then heated to 90 ° C. and stirred at this temperature for 20 hours. still. At this time, the progress of the reaction was confirmed by TLC as needed. Next, after diluting the reaction solution with water, the organic layer was recovered by solvent extraction. Next, the obtained organic layer was washed with water and saturated brine in this order. Next, the obtained organic phase was dried over anhydrous magnesium sulfate and then concentrated under reduced pressure to obtain a crude product. Next, this crude product was recrystallized and purified with a mixed solvent of hexane / ethyl acetate to obtain 0.8 g (yield 89%) of 4- (4-methylthiophenyl) diphenyl ether.
得られた化合物について、1H−NMRによりその構造を確認した。 About the obtained compound, the structure was confirmed by < 1 > H-NMR.
1H−NMR(CDCl3;TMS):δ 2.51(s、3H)、7.03−7.15(m、4H)、7.28−7.39(m、5H)、7.46−7.55(m、4H) 1 H-NMR (CDCl 3 ; TMS): δ 2.51 (s, 3H), 7.03-7.15 (m, 4H), 7.28-7.39 (m, 5H), 7.46 -7.55 (m, 4H)
[光学特性の評価]
実施例及び比較例でそれぞれ合成した化合物について光学特性の評価を以下に示す方法で行った。
[Evaluation of optical properties]
The optical properties of the compounds synthesized in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.
(1)評価用サンプルの作製
まず評価用のサンプルを以下に示す方法で作製した。
(1) Production of Evaluation Sample First, an evaluation sample was produced by the following method.
(1a)屈折率測定用サンプル
直径20mmの円板型のガラス基板を2枚用意して、測定対象となる化合物を、厚さが12.5μmで均一になるように、1枚目のガラス基板上に載置した。次に、2枚目のガラス基板を測定対象となる化合物上に載置した後、ガラス基板の外周部分を封止した。ここで測定対象となる化合物が(メタ)アクリレート化合物である場合は、サンプルに紫外光を照射することで2枚のガラス基板に挟まっている化合物を硬化させた。一方、測定対象となる化合物が(メタ)アクリレート化合物以外の化合物である場合は、サンプルを加熱して2枚のガラス基板に挟まっている化合物を融解させた。
(1a) Sample for refractive index measurement Two disc-shaped glass substrates having a diameter of 20 mm are prepared, and the first glass substrate is prepared so that the compound to be measured has a uniform thickness of 12.5 μm. Placed on top. Next, after placing the second glass substrate on the compound to be measured, the outer peripheral portion of the glass substrate was sealed. Here, when the compound to be measured was a (meth) acrylate compound, the compound sandwiched between the two glass substrates was cured by irradiating the sample with ultraviolet light. On the other hand, when the compound to be measured is a compound other than the (meth) acrylate compound, the sample was heated to melt the compound sandwiched between the two glass substrates.
(1b)透過率測定用サンプル
上記(1a)において、用意する基板を直径50μmの円板型のガラス基板とし、1枚目のガラス基板上に載置する測定対象となる化合物の厚さを500μmとすることを除いては、上記(1a)と同様の方法によりサンプルを作製した。
(1b) Transmittance measurement sample In (1a) above, the substrate to be prepared is a disc-shaped glass substrate having a diameter of 50 μm, and the thickness of the compound to be measured placed on the first glass substrate is 500 μm. A sample was prepared by the same method as in (1a) except for the above.
(2)測定及び評価
屈折率は、アッベ屈折計(カルニュー光学工業)を用いて測定した。また透過率は、光路長の異なる2種類の膜を成形し、日立ハイテクノロジー社製分光光度計U−4000(製品名)でそれぞれ測定し、410nmでの内部透過率(500μm)に換算した結果を表に示す。ここで光学特性が図1中のB範囲内でありかつ410nmでの透過率が90%以上のものを総合評価○とし、それ以外を総合評価×とした。結果を表1に示す。
(2) Measurement and evaluation The refractive index was measured using an Abbe refractometer (Kalnew Optical Industry). Further, the transmittance was obtained by forming two types of films having different optical path lengths, measuring them with a spectrophotometer U-4000 (product name) manufactured by Hitachi High-Technology Co., Ltd., and converting them to an internal transmittance (410 μm) at 410 nm. Is shown in the table. Here, the optical characteristics within the range B in FIG. 1 and the transmittance at 410 nm of 90% or more were evaluated as comprehensive evaluation ◯, and the others were evaluated as comprehensive evaluation ×. The results are shown in Table 1.
[安定性の評価]
安定性は、大気中25℃で2週間保管した際に変質がないものを○、変質したものを×とした。但し、重合性置換基を有するものは、少量(1000ppm以下)の重合禁止剤を含有させた状態で判定している。結果を表1に示す。
[Evaluation of stability]
Stability was evaluated as “◯” when there was no alteration when stored at 25 ° C. in the atmosphere for 2 weeks, and “x” when altered. However, those having a polymerizable substituent are determined in a state where a small amount (1000 ppm or less) of a polymerization inhibitor is contained. The results are shown in Table 1.
本発明の光学材料用有機化合物及び光学材料は、屈折率の分散特性(アッベ数(νd))及び2次分散特性(θg,F)が高く(高θg,F特性)、色収差補正機能の高い特性を有する。このため、カメラレンズ等の複数枚のレンズを有する装置に利用することができる。 The organic compound for optical materials and the optical material of the present invention have high refractive index dispersion characteristics (Abbe number (ν d )) and secondary dispersion characteristics (θg, F) (high θg, F characteristics), and have a chromatic aberration correction function. It has high characteristics. For this reason, it can utilize for the apparatus which has several lenses, such as a camera lens.
10:光学部材、20(30,40):レンズ基板 10: Optical member, 20 (30, 40): Lens substrate
Claims (19)
R1及びR2は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。Z1及びZ2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基である。
a及びbは、それぞれ0乃至2の整数である。aが2のとき2つのZ1は、同じであってもよいし異なっていてもよい。bが2のとき2つのZ2は、同じであってもよいし異なっていてもよい。) Following general formula (1) for optical material organic compound which is a compound represented by (excluding 2,2-bis (4-acryloyloxy ethoxy-biphenyl) sulfone.).
R 1 and R 2 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group. Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and the following formula (3): It is a substituent selected from the substituents shown.
a and b are integers of 0 to 2, respectively. When a is 2, the two Z 1 may be the same or different. When b is 2, the two Z 2 may be the same or different. )
X及びYが、それぞれ下記に示される置換基から選択される置換基であり、
Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。
X and Y are each a substituent selected from the substituents shown below,
Z 1 and Z 2 are each a substituent selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. the optical material for an organic compound according to any one of claims 1 to 3, characterized.
R1及びR2が、それぞれ水素原子又は炭素数1乃至2のアルキル基であり、
Z1及びZ2が、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基
であることを特徴とする請求項1に記載の光学材料用有機化合物。 X and Y are each -S- or -O-;
R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and the following formula (3): A substituent selected from the substituents shown
The organic compound for optical materials according to claim 1, wherein
R1及びR2が、それぞれ水素原子又は炭素数1乃至2のアルキル基であり、
Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基
であることを特徴とする請求項1又は5に記載の光学材料用有機化合物。 X and Y are each -S- or -O-;
R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms and a substituent selected from the substituent represented by the following formula (3)
The organic compound for optical materials according to claim 1 or 5, wherein
R1及びR2が、それぞれ炭素数1乃至2のアルキル基であり、
Z1及びZ2が、それぞれ水素原子又は無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基
であることを特徴とする請求項1、5及び6のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。 X and Y are each -S- or -O-;
R 1 and R 2 are each an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
Z 1 and Z 2 are each a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms and a substituent selected from the substituent represented by the following formula (3)
The organic compound for an optical material according to claim 1, wherein the organic compound is an optical material.
整数であり、Rは、水素又はメチル基である。) Z 1 and / or Z 2 is an organic optical material according to any one of claims 1 to 3 and claims 5 to 7, characterized in that a substituent represented by the following general formula (3) Compound.
Yは、下記に示される置換基から選択される置換基である。
R11及びR12は、それぞれ水素原子、炭素数1乃至2のアルキル基及び(メタ)アクリロイル基から選択される置換基である。Z3は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基、無置換の炭素数1乃至2のアルキル基及び下記式(3)に示す置換基から選択される置換基である。
cは、0乃至2の整数である。cが2のとき2つのZ3は、同じであってもよいし異なっていてもよい。) An organic compound for optical materials represented by the following general formula (2):
Y is a substituent selected from the substituents shown below.
R 11 and R 12 are each a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and a (meth) acryloyl group. Z 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, an unsubstituted alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, or a substituent represented by the following formula (3). Is the selected substituent.
c is an integer of 0 to 2. When c is 2, the two Z 3 may be the same or different. )
Yが、下記に示される置換基から選択される置換基であることを特徴とする請求項9に記載の光学材料用有機化合物。
The organic compound for an optical material according to claim 9, wherein Y is a substituent selected from the following substituents.
Yが、下記に示される置換基であることを特徴とする請求項9又は10に記載の光学材料用有機化合物。
The organic compound for optical materials according to claim 9 or 10, wherein Y is a substituent shown below.
Yが、下記に示される置換基であり、
R11及びR12が水素原子又は(メタ)アクリロイル基であり、
Z3が、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1乃至2のアルコキシ基、炭素数1乃至2のアルキルチオ基及び炭素数1乃至2のアルキル基から選択される置換基であることを特徴とする、請求項9乃至11のいずれか一項に記載の光学材料用有機化合物。 X is a substituent shown below,
Y is a substituent shown below,
R 11 and R 12 are a hydrogen atom or a (meth) acryloyl group,
Z 3 is a substituent selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 2 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, The organic compound for optical materials as described in any one of Claims 9 thru | or 11.
前記光学材料用有機化合物がアクリロイル基を有することを特徴とする光学材料。An optical material, wherein the organic compound for an optical material has an acryloyl group.
前記光学材料用有機化合物がアクリロイル基を有することを特徴とする光学材料。An optical material, wherein the organic compound for an optical material has an acryloyl group.
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