JP5817403B2 - めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 - Google Patents
めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5817403B2 JP5817403B2 JP2011217078A JP2011217078A JP5817403B2 JP 5817403 B2 JP5817403 B2 JP 5817403B2 JP 2011217078 A JP2011217078 A JP 2011217078A JP 2011217078 A JP2011217078 A JP 2011217078A JP 5817403 B2 JP5817403 B2 JP 5817403B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- anode
- anode material
- pure
- sulfur
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
(評価用の陽極)
先ず、下記の表1に示す実施例及び比較例の3種類の評価用の可溶性陽極板サンプルを作製した。実施例1の陽極は、99.9重量%以上の純Niを機械加工により幅50mm、長さ100mm、厚さ5mmの形状とした後、硫黄(S)を付着させ、温度800℃、120分間熱処理を施した硫化処理Ni(S−Ni)からなる陽極板である。この実施例1の硫化処理Niの陽極板は、Niの含有量が99.8重量%であり、Sの含有量は0.20重量%である。比較例1の陽極は、電解精錬法で得られた電解Niからなり、比較例2は、硫黄を0.20重量%含有する電解Ni(SK−Ni)からなる。
陰極には、厚さ0.5mmのTi板とハルセル銅陰極板(株式会社山本鍍金試験器製)を組み合わせたものを用いた。先ず、マスキングテープ「ポリエステルテープNo.558B(ニチバン株式会社製)」を利用して、Ti板表面にハルセル陰極板と同じ大きさの露出面を作製した。その後、Ti板露出面とハルセル陰極板の裏面が接触するように重ねて、8×5cmの銅面(陰極面積)が露出するようにマスキングテープで固定した。
評価に使用した電気Niめっき浴は、スルファミン酸ニッケルの濃度が500g/L、ホウ酸の濃度が30g/Lであるスルファミン酸浴である。めっき時の陽極溶解性を把握しやすくするために、ハロゲン化物を無添加とした。
Niめっき前とめっき後(電流密度1、3、5、7A/dm2のそれぞれの条件終了後)の陽極を観察した。観察した結果、実施例1は、S−Niの陽極板の面全体に粒界腐食のような溶解跡が見られた。このことから、実施例1では、硫黄がめっき浴に溶解して不導体膜の発生が抑えられることがわかる。また、実施例1のS−Niは、純ニッケルの粒界に硫黄が存在していることがわかる。一方、比較例1は、電解Niの陽極板の外観に溶解跡はほとんど見られなかった。比較例2は、SK−Niの陽極板の電流の集中しやすいエッジ部を中心に溶解跡が見られた。
陰極電流効率は、各電流密度において、Niめっき前後の銅陰極板の重量変化を測定して析出量を算出し、理論析出量に対する割合として求めた。理論析出量は、次にようにして求めた。理論析出量(g)={Ni原子量(58.693g)/価数(2)}×{電流値(A)×通電時間(s)/クーロン量(96500C)}
陽極電流効率は、各電流密度において、Niめっき前後の陽極板の重量変化を測定して析出量を算出し、理論析出量に対する割合として求めた。理論析出量は、陰極電流効率を求める際の理論析出量と同じである。
実施例及び比較例において、電極間の電圧を測定し、各電流密度におけるめっき時間と電極間電圧との関係を図5〜8に示す。図5〜7に示す結果から、DA=1、3、5A/dm2の電流密度の場合では、比較例1の電解Niと比較例2のSK−Niにおける電圧値はほぼ同じ値となったが、実施例1のS−Niの電圧値は比較例と比較して低い値となった。また、図8に示す結果から、DA=7A/dm2の電流密度の場合では、実施例1のS−Niの電圧値と比較例1や2の電圧値とはほぼ同じになった。このような電極間電圧の評価結果から、実施例1のS−Niを用いた場合には、消費電力が小さく、効率的にめっき処理ができることがわかる。
実施例及び比較例の陽極材を用いて成膜しためっき被膜の外観については、目視により光沢を確認した。図9(A)は、実施例1のS−Niによるめっき被膜、図9(B)は、比較例1の電解Niによるめっき被膜、図9(C)は、比較例2のSK−Niによるめっき被膜である。
先ず、実施例1〜10の陽極材は、純度が99.9重量%以上の純Niを機械加工により幅50mm、長さ100mm、厚さ5mmの形状とした後、硫黄(S)を付着させ、温度500〜900℃、60又は120分間熱処理を施した硫化処理Ni(S−Ni)からなる表3に示される陽極板である。
陰極板及びめっき浴は、上述した陰極電流効率、陽極電流効率等を評価するにあたって作製した陰極板及びめっき浴と同じであるため、詳細な説明は省略する。
電気めっきの条件についても、上述した陰極電流効率、陽極電流効率等を評価する際の電気めっきの条件と同様であるため、詳細な説明を省略する。なお、電流密度は、4A/dm2である。
Claims (4)
- 純ニッケルの粒界のみに硫黄が存在し、ニッケル陽極材全体に対する当該硫黄の含有量が0.01重量%〜0.50重量%であることを特徴とするめっき用ニッケル陽極材。
- 上記純ニッケルの粒内のビッカース硬さが100〜150であることを特徴とする請求項1記載のめっき用ニッケル陽極材。
- 純ニッケルをめっき用電極の形状に加工した後に、硫黄を付着させて熱処理することによって上記純ニッケルを硫化処理するめっき用ニッケル陽極材の製造方法。
- 上記硫黄を含む鉱油を上記加工した純ニッケルに塗布して熱処理することを特徴とする請求項3記載のめっき用ニッケル陽極材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011217078A JP5817403B2 (ja) | 2011-09-30 | 2011-09-30 | めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011217078A JP5817403B2 (ja) | 2011-09-30 | 2011-09-30 | めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013076134A JP2013076134A (ja) | 2013-04-25 |
JP5817403B2 true JP5817403B2 (ja) | 2015-11-18 |
Family
ID=48479805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011217078A Active JP5817403B2 (ja) | 2011-09-30 | 2011-09-30 | めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5817403B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS533904A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-14 | Sumitomo Metal Mining Co | Method of manufacturing nickel anode for electroplating |
JP3158786B2 (ja) * | 1993-05-14 | 2001-04-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 硫黄含有電気ニッケルの製造方法 |
JP2001115287A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-24 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 硫黄を含有するメッキ用電気ニッケルの製造方法 |
-
2011
- 2011-09-30 JP JP2011217078A patent/JP5817403B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013076134A (ja) | 2013-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Isakhani-Zakaria et al. | Evaluation of corrosion behaviour of Pb-Co3O4 electrodeposited coating using EIS method | |
Fashu et al. | Influence of electrodeposition conditions on the microstructure and corrosion resistance of Zn–Ni alloy coatings from a deep eutectic solvent | |
Adelkhani et al. | Properties of Fe–Ni–Cr alloy coatings by using direct and pulse current electrodeposition | |
Roventi et al. | Electrodeposition of nickel–zinc alloy coatings with high nickel content | |
Tuaweri et al. | A study of process parameters for zinc electrodeposition from a sulphate bath | |
Donten et al. | Pulse electroplating of rich-in-tungsten thin layers of amorphous Co-W alloys | |
EP3132071A1 (en) | Ionic liquid electrolyte and method to electrodeposit metals | |
Zanella et al. | Effect of electrodeposition parameters on chemical and morphological characteristics of Cu–Sn coatings from a methanesulfonic acid electrolyte | |
Sassi et al. | Effect of pyridine on the electrocrystallization and corrosion behavior of Ni–W alloy coated from citrate–ammonia media | |
Garcia et al. | Pulsed cobalt-rich Zn–Co alloy coatings produced from citrate baths | |
EP2877615B1 (en) | Electrodeposition process of nickel-cobalt coatings with dendritic structure | |
Lima-Neto et al. | Morphological, structural, microhardness and corrosion characterisations of electrodeposited Ni-Mo and Cr coatings | |
CN110446802B (zh) | 在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法 | |
CN113463148A (zh) | 一种在钛或钛合金基材表面电镀金的方法 | |
JP2007308801A (ja) | ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物及びその用途 | |
JP5817403B2 (ja) | めっき用陽極材、めっき用陽極材の製造方法 | |
Popov et al. | The shape of the polarization curve and diagnostic criteria for control of the metal electrodeposition process | |
Grill et al. | Cobalt–nickel material libraries obtained from electrodeposition using citrate or glycine as additives | |
JP5353253B2 (ja) | 高耐食性めっき鋼材 | |
Zhu et al. | Copper coating electrodeposited directly onto AZ31 magnesium alloy | |
Zhang et al. | Influence of malonic acid and triethyl-benzylammonium chloride on Zn electrowinning in zinc electrolyte | |
JP2014037587A (ja) | アルミニウムまたはアルミニウム合金材への純鉄の電気めっき方法 | |
Fekih et al. | The iron-nickel-molybdenum (Fe-Ni-Mo) electrodeposited alloy on n-type silicon | |
Assaf et al. | Electrodeposition mechanism of Zn‒Ni‒Mn alloy at different time intervals | |
JP6969688B2 (ja) | 電気めっき浴、電気めっき製品の製造方法、及び電気めっき装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140904 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150708 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150901 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150914 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Ref document number: 5817403 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |