JP5816116B2 - Vacuum measuring device - Google Patents
Vacuum measuring device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5816116B2 JP5816116B2 JP2012070484A JP2012070484A JP5816116B2 JP 5816116 B2 JP5816116 B2 JP 5816116B2 JP 2012070484 A JP2012070484 A JP 2012070484A JP 2012070484 A JP2012070484 A JP 2012070484A JP 5816116 B2 JP5816116 B2 JP 5816116B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- molten metal
- filter
- orifice
- measuring device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 81
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 80
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
本発明は、溶融金属の蒸気や飛沫が飛散するような空間に真空計を取り付けて当該空間の真空度を計測する装置に関し、特に飛散する蒸気や飛沫が真空計の内部に浸入して真空計による真空測定の障害となること及び蒸気や飛沫によりもたらされる真空計の故障の発生を防止した真空測定装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for measuring the degree of vacuum of a space by attaching a vacuum gauge to a space where molten metal vapor or droplets are scattered, and in particular, the scattered vapor or splash penetrates into the vacuum gauge and the vacuum gauge The present invention relates to a vacuum measuring apparatus that prevents the occurrence of a vacuum gauge failure caused by steam and droplets.
例えば溶融アルミニウム等の溶融金属を収納した減圧溶融金属槽内において、溶融金属にArガスなどの不活性ガスを吹き込み、溶融金属を攪拌、循環させることで、溶融金属内に含まれるガスや不純物を溶融金属内部から放出させ、キャリアガスとしての不活性ガスと共に溶融金属内部から除去する溶融金属の精製装置が使用されている。 For example, in a reduced pressure molten metal tank containing molten metal such as molten aluminum, an inert gas such as Ar gas is blown into the molten metal, and the molten metal is stirred and circulated, so that the gas and impurities contained in the molten metal are removed. An apparatus for purifying molten metal is used which is discharged from the inside of the molten metal and removed from the inside of the molten metal together with an inert gas as a carrier gas.
図1は、このような溶融金属精製装置の一例を示す。例えばこの溶融金属精製装置では溶融金属槽11と共に不純物除去槽1が並立して設けられている。
溶融金属槽11の内部にはアルミニウム等の金属16が収納され、この金属16が溶融金属槽11の外側に設けられたヒータ17により加熱されて溶融状態とされる。この溶融金属槽11の内部の溶融金属16には溶融金属槽11の内部に垂下した電極15の下端が浸漬され、当該溶融金属16の状態、具体的にはその温度や液位が検知される。この溶融金属槽11の中には、窒素ガス供給源13から窒素ガスが供給後、窒素減圧装置19によって1/100気圧以下に減圧される。溶融金属槽11の天板側には溶融金属供給筒12が設けられ、この溶融金属供給筒12は蓋18により開閉される。この溶融金属供給筒12と溶融金属槽11の内部との間は遮蔽板14により遮熱されている。
FIG. 1 shows an example of such a molten metal purification apparatus. For example, in this molten metal purification apparatus, the impurity removal tank 1 is provided side by side with the
A
溶融金属槽11の内部にアルミニウム等の溶融金属16が収納された後に、溶融金属供給管9は、溶融金属によって閉止されるので、溶融金属槽11と不純物除去槽1内が同時に減圧可能状態になる。
一方、不純物除去槽1の外壁にはヒータ20が取り付けられ、その内壁の底部に溶融金属8を収納し、その内部がフィルター3を設けた排気筒2を通して真空ポンプ4により溶融金属槽11と同時に排気される。また、この排気前にガス置換するように、アルゴンガス供給源5から不純物除去槽1内にアルゴンガスが送り込まれ、不純物除去槽1内は、溶融金属槽11と同時減圧後は常に溶融金属槽11と同じか低い圧力、例えばPaオーダーの真空状態に設定される。不純物除去槽1の内部と排気筒2との間は遮蔽板6により遮熱されている。溶融金属槽11の内部と不純物除去槽1内は、同時に減圧されているから溶融金属供給管9を通して不純物除去槽1に溶融金属16が移動することはない。例えば溶融金属槽11の内部の圧力が1kPaで不純物除去槽1の内部の圧力が1Paに設定すると、不純物除去槽1との圧力差の約1kPaに見合った分だけ溶融金属が、溶融金属槽11の内部の溶融金属供給管9内で押し上げられるだけである。溶融金属16が溶融アルミニウムの場合、比重が2.5g/cm3とすると、4cm押し上げられるだけである。
After the
On the other hand, a
前記不純物除去槽1の上部から溶融金属槽11の溶融金属16の中に溶融アルミニウム供給管9が配管され、溶融金属槽11に窒素ガスを導入すると、この溶融アルミニウム供給管9を通して不純物除去槽1へ溶融金属槽11の中から溶融金属16が圧送される。不純物除去槽1側の溶融アルミニウム供給管9の下端には、邪魔板7が取り付けられ、溶融金属16がこの邪魔板7に当たって飛散し、不純物除去槽1に溜る。
When a molten aluminum supply pipe 9 is piped from the upper part of the impurity removal tank 1 into the
溶融アルミニウム供給管9を通して不純物除去供給槽1へ溶融金属槽11の中の溶融金属16が圧送されると、溶融金属16が邪魔板7により飛散し溶融アルミニウムの表面積が拡大される。これにより溶融金属16に含まれるガスや蒸気圧の高い不純物が溶融金属16の内部から放出される。溶融金属16の内部から放出されたガスや蒸気圧の高いマグネシウムや鉛や亜鉛等の不純物の蒸気は、溶融金属槽11の中に送り込まれるキャリアガスとしての窒素ガスとアルゴンガス等の不活性ガスと共に運転中の真空ポンプ4で不純物除去槽1の排気筒2のフィルター3で除去される。
When the
このように減圧下でアルゴンガス中を飛散する溶融金属16から水素ガスや蒸気圧の高い不純物を除去する装置では、アルゴンガスを流しながらPaオーダーの真空圧力で行われている。溶融金属16が溶融アルミニウムの場合は、窒素と僅かに反応して窒化物を作って、不純物の蒸発を妨げるので、アルゴンガス中で飛散させる必要がある。溶融アルミニウムを押し出すための溶融金属槽11に供給するガスもアルゴンガスが最適だが、元来溶融金属槽11内の処理されるべき溶融金属16は図1に示す量より多く、押し出している間のガスはコスト低減の為に窒素ガスで説明した。鉄等の高温で溶融される金属用の減圧不純物除去装置は、RH装置と呼ばれ、どの製鉄所でも使われている。これらのRH装置では、大容量の真空ポンプとして蒸気エゼクターポンプが使われ、硫黄や水素等の非金属元素を排気する手段となっている。
Thus, in the apparatus which removes hydrogen gas and impurities with high vapor pressure from the
他方、アルミニウムスクラップ等の比較的低温で溶融する金属用の場合、鉄用に比べると溶湯温度が低いのでフラックスや塩素ガスによる精製でも十分可能である。そのため前述のような手段はあまり普及していない。ところが塩素ガスを使用した設備は環境対策が大変である。そこで近年ではスクラップアルミニウムについても、その中のマグネシウムや亜鉛や鉛等を前述した手段で除去したいとの要望が高まっている。 On the other hand, in the case of a metal that melts at a relatively low temperature, such as aluminum scrap, the molten metal temperature is lower than that for iron, so that purification by flux or chlorine gas is sufficiently possible. Therefore, the means as described above are not so popular. However, facilities using chlorine gas are difficult to take environmental measures. Therefore, in recent years, there is an increasing demand for removing magnesium, zinc, lead and the like in scrap aluminum by the above-described means.
しかし、溶融アルミニウムの蒸気は腐食性が高いため、真空計の使用は困難である。一般の真空計をそのまま使用し、設置すると、早期に故障し、使用出来なくなる。そのため、不活性ガスと減圧による溶融アルミニウムの精製装置では、真空計の設置に特別な技術と工夫が要求される。 However, since the vapor of molten aluminum is highly corrosive, it is difficult to use a vacuum gauge. If a general vacuum gauge is used as it is and installed, it will fail early and become unusable. Therefore, special techniques and devices are required for installing a vacuum gauge in an apparatus for purifying molten aluminum using inert gas and reduced pressure.
本発明は、前記従来の課題に鑑みてなされたもので、溶融金属の蒸気が浸入しにくく、その浸入による真空計の障害が起こりにくい真空測定装置を提供するものである。特に真空空間に真空計を取り付けるのに好適な構造を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and provides a vacuum measuring apparatus in which molten metal vapor is less likely to enter and obstruction of a vacuum gauge due to the intrusion is less likely to occur. In particular, an object is to provide a structure suitable for mounting a vacuum gauge in a vacuum space.
本発明では、前記の目的を達成するため、真空空間33に上向きに接続した分岐ダクト状のフィルター部32の先端に真空計31を取り付ける。そしてこのフィルター部32を加熱することにより、蒸気の凝固を防止すると共に、その中にオリフィス34を設けて真空計31への蒸気や液滴の浸入を防止し、真空空間33に復流させるようにした。
In the present invention, in order to achieve the above object, the
すなわち、本発明による真空測定装置は、減圧された真空空間33に上向きに分岐ダクト状のフィルター部32を接続し、このフィルター部32を加熱すると共に、その上端に真空計31を取り付け、フィルター部32に蒸気や液滴をトラップするオリフィス34を設けたものである。さらにこのオリフィス34の下部には、それらオリフィス34及びフィルター部32の壁面に付着した液滴を下方へ流す切欠き状のドレン36を設ける。蒸気や液滴を真空空間33に復流させるためフィルター部32の上向き勾配θ1は、液滴が自然に流れ落ちやすい最低の角度の7゜以上がよい。
That is, the vacuum measuring apparatus according to the present invention connects a
オリフィス34はフィルター部32の途中に設けた仕切状のものであり、複数段設けるのが好ましい。オリフィス34には希薄気体分子を通す分子通過孔35が設けられている。フィルター部32にオリフィス34を複数段設けた場合は、それらオリフィス34の分子通過孔35は互いに各オリフィス34の面方向にずれて配置するのがよい。
The
このような本発明による真空測定装置では、真空空間33の中の希薄ガスがフィルター部32を通して真空計31に導入され、ガス分子が真空計31で検知されて真空が測定される。このとき、フィルター部32は、真空空間33に上向きに接続されているため、真空空間33から真空計31には液滴が浸入しにくい。また、フィルター部32に液滴が浸入しても、フィルター部32は加熱されているため、その中で液滴が凝固せず、フィルター部32の勾配に沿って真空空間33側に復流し、排出される。
In such a vacuum measuring apparatus according to the present invention, the diluted gas in the
これに加え、フィルター部32にオリフィス34が設けられていることにより、このオリフィス34によっても液滴が真空計31側に浸入するのが阻止される。特に、フィルター部32にオリフィス34を複数段設け、それらオリフィス34の分子通過孔35を互いに面方向にずれて配置すると、前記液滴の阻止効果がさらに高くなる。オリフィス34の下部に切欠き状のドレン36を設けていることにより、それらオリフィス34及びフィルター部32の壁面に付着した液滴をフィルター部32の勾配に沿って下方へ流し、真空空間33側への復流を促すことが出来る。
In addition to this, since the
このように本発明による真空測定装置では、真空計31で真空空間33の真空を測定するに当たり、フィルター部32とそれに設けたオリフィス34により真空計31に蒸気や液滴が到達し難くなる。よって蒸気や液滴の浸入に起因する真空計31の障害が起こりにくくなり、安定した真空測定が可能となる。
As described above, in the vacuum measuring apparatus according to the present invention, when the
本発明では、前記の目的を達成するため、真空空間33に上向きに接続した分岐ダクト状のフィルター部32を設け、その上端に真空計31を取り付けた。前記フィルター部32は加熱すると共に、その内部に蒸気や液滴をトリップするオリフィス34を設けた。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、実施例をあげて詳細に説明する。
In the present invention, in order to achieve the above object, a branch duct-
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to examples.
図2は、本発明による真空測定装置の一実施例を示している。例えば前述した溶融アルミニウムの精製装置等においては、減圧される真空空間33を有している。図2はこの真空空間33に真空計31を取り付ける構造を示している。この図2の例では真空空間33は垂直な配管状となっている例であり、矢印は気体の流れる方向を示している。
FIG. 2 shows an embodiment of a vacuum measuring device according to the present invention. For example, the above-described apparatus for purifying molten aluminum has a
この真空空間33に上向き勾配を与えてダクト管状のフィルター部32が接続されていると共に、このフィルター部32は熱源37によりその中の液滴が凝固しない程度の温度に加熱される。真空計31はこのフィルター部32の上端に設けられている。フィルター部32は上向き勾配である限り、途中で角度が変化していてもよい。また他の管状ダクトが分岐する構造であってもよい。何れにしてもフィルター部32の真空空間33に対する接続位置より高い位置に真空計31を設ける。図2に示すフィルター部32の勾配はθ1であるが、このθ1は、液滴が自然に流れ落ちやすい最低の角度の7゜以上とする。また熱源37は、図示のようにフィルター部32の近傍に配置する他、筒状のフィルター部32を囲むようにワイヤ状のヒータを巻いた状態で取り付けてもよい。
A duct-shaped
フィルター部32にはオリフィス34が設けられている。前述のようにフィルター部32はダクト管状であり、このオリフィス34はフィルター部32を途中で仕切る仕切板状である。図2の実施例では、フィルター部32の内部通路は円筒形であり、オリフィス34はこれを仕切る円板形である。このオリフィス34には1個所以上にガス分子を通すための分子通過孔35が設けられている。
The
オリフィス34は、フィルター部32に複数段、より具体的には3段以上設けることが好ましい。各オリフィス34に設けた分子通過孔35は、それらの面方向に互いにずれて設けられている。例えばあるオリフィス34の分子通過孔35が中心付近に設けた場合、それより上にあるオリフィス34の分子通過孔35は中心から偏った位置に設ける。図2において矢印は下段のオリフィス34を分子が通過する状態を示している。
The
また、オリフィス34の一部又は全部には、切欠状のドレン36を設ける。このドレン36は、オリフィス34の下部、すなわちフィルター部32の底面側に設ける。図2の実施例では、下から2段のオリフィス34にドレン36を設けている。下段のみではなく、全てのオリフィス34にドレンを設けてもよい。
A cut-out
このような真空測定装置において真空計31を使用する時、加熱されるフィルター部32が水分や溶融金属の飛沫が真空計31に浸入するのを防止し、溶融金属を溶融状態のまま真空空間33に復流させるのに重要な働きをする。しかし、単にフィルター部32を設置しただけでは、すぐに目詰りしてしまう。そこで大きな飛沫を取ってから、その飛沫もフィルター部32で凝固しない程度に加熱しながら自然に液滴となして真空空間33に復流させ、フィルター部32から排出するのが良い。この状態でフィルター部32を介して、系内の真空圧力を測定するのが有効である。
When the
飛沫流から液滴が四方八方へ散乱したとき、液滴が真空計31の検出部に付着し又は液滴が真空計31の検出部を閉塞すると、真空計31が正確な測定値を示さなくなる。従って、液滴が真空計31に侵入することを防止するために、オリフィス34を設ける。オリフィス34は3段以上とする。複数段のオリフィス34の分子通過孔35は互いに面方向にずれているので、液滴は真空計31まで届くのを阻止する。真空計31に到達する前にオリフィス34でトラップされた液滴はオリフィス34の切欠状のドレン36を通ってフィルター部32の底部に導かれ、その後フィルター部32を通って真空空間33に復流し、排出される。液滴がスムーズに流れて真空空間33に復流するためにはフィルター部32の勾配θ1は、液滴が自然に流れ落ちやすい最低の角度の7°以上必要である。
When the droplets are scattered in all directions from the splash flow, if the droplets adhere to the detection part of the
図3は、本発明による真空測定装置の他の実施例を示しており、この例では真空空間33は水平な配管状のものが例示されている。フィルター部32はこの水平な真空空間33に対して垂直に分岐配管され、熱源37により加熱される。フィルター部32の上端に真空計31を設けたこと、フィルター部32に分子通過孔35を有するオリフィス34を複数段設けたこと、各オリフィス34の分子通過孔35が面方向にずれていること、少なくとも下段側のオリフィス34に切欠状のドレン36を設けていること等は図2より前述した実施例と同様である。オリフィス34はθ2の勾配をもってフィルター部32の内部に設けられており、このθ2は、液滴が自然に流れ落ちやすい最低の角度の7゜以上とする。
FIG. 3 shows another embodiment of the vacuum measuring apparatus according to the present invention. In this example, the
この実施例においても、各オリフィス34の分子通過孔35は面方向にずれているので、液滴は真空計31まで届かない。真空計31に到達する前にトラップされた液滴は切欠状のドレン36を通って真空空間33に復流し、排出される。
Also in this embodiment, since the
図4は、これらフィルター部32の後にバルブ39と金属メッシュフィルター38を取り付けた後に、真空計31を取り付けた場合を示している。これに拠って非常に細かい不純物蒸気が、金属メッシュフィルター38で取り除かれ、メンテナンス時にバルブ39を閉めて、金属メッシュフィルター38を交換するだけで、真空計31を再稼働することが出来る。フィルター部32は温度が高いので耐熱性と耐食性があればこの金属メッシュフィルター38に替わってセラミックフィルターでも良い。フィルター部32の内部の構成は図3により前述した実施例と同じであるので、説明を省略する。
これらの実施例による真空計31は、真空ポンプ4と不純物除去槽1との間の真空空間33に取り付けられる。
FIG. 4 shows a case where the
The
本発明は、例えば溶融金属にArガスなどの不活性ガスを吹き込み、溶融金属を攪拌、循環させることで、溶融金属内に含まれるガスや不純物を溶融金属内部から放出させ、溶融金属内部から除去する溶融金属の精製装置における真空測定等に適用することが可能である。 In the present invention, for example, an inert gas such as Ar gas is blown into the molten metal, and the molten metal is stirred and circulated, so that gas and impurities contained in the molten metal are released from the molten metal and removed from the molten metal. It is possible to apply to the vacuum measurement etc. in the refiner | purifier of the molten metal to do.
31 真空計
32 フィルター部
33 真空空間
34 オリフィス
35 分子通過孔
36 ドレン
37 熱源
38 金属メッシュフィルター
39 バルブ
31
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012070484A JP5816116B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Vacuum measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012070484A JP5816116B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Vacuum measuring device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013205011A JP2013205011A (en) | 2013-10-07 |
JP5816116B2 true JP5816116B2 (en) | 2015-11-18 |
Family
ID=49524275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012070484A Active JP5816116B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Vacuum measuring device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5816116B2 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58101155U (en) * | 1981-12-29 | 1983-07-09 | 株式会社大阪真空機器製作所 | Dust trap for vacuum gauge |
JPH10153510A (en) * | 1996-11-21 | 1998-06-09 | Nec Kansai Ltd | Vacuum apparatus and diaphragm vacuum gauge |
JP4877320B2 (en) * | 2008-12-26 | 2012-02-15 | 第一真空エンジニアリング株式会社 | Impurity inflow prevention device |
-
2012
- 2012-03-27 JP JP2012070484A patent/JP5816116B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013205011A (en) | 2013-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8101131B2 (en) | Chlorosilanes purifying apparatus and chlorosilanes manufacturing method | |
US20130098974A1 (en) | Apparatus And Method For Providing An Inerting Gas During Soldering | |
JP2011506435A5 (en) | ||
JP6120852B2 (en) | Liquid fuel capture device | |
JP5816116B2 (en) | Vacuum measuring device | |
WO2008010319A1 (en) | Cleaning device | |
US9044701B2 (en) | Gas purification apparatus and related method | |
CN109181786B (en) | Improved process for coke oven gas desulfurization | |
JP2014185713A (en) | Tank protection container | |
JP5409185B2 (en) | Air salinity measuring method and measuring system | |
ES2674770T3 (en) | Solid water separation to sample water spray from a continuous casting machine | |
JP3464583B2 (en) | Na recovery method and apparatus | |
CN109181785B (en) | Coke oven gas desulfurizing tower | |
TW201909996A (en) | Inertial impactor with particle loading effect, wet impact surface | |
KR102600367B1 (en) | Immersion sensor for determining the chemical composition of molten metal | |
KR102593663B1 (en) | Moisture trap for analysis of atmospheric air sample and System of analysis for air pollutant using the same | |
JP2001113112A (en) | Wet type aerosol removing device | |
JP3072008B2 (en) | Atmospheric sampling equipment in soldering equipment | |
JP2010016227A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus and exhaust trap device | |
EP2361323B1 (en) | Method and device for measuring a chemical composition of a liquid metal suitable for coating a steel strip | |
JP5803779B2 (en) | Cracked oil recovery device and cracked oil manufacturing method | |
JP2007205606A (en) | Dust generation suppressing device | |
JP6155169B2 (en) | Filter | |
CN105377471A (en) | Lead retaining purge plug | |
US20090107154A1 (en) | Cooling trap unit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141027 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150818 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150908 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150925 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5816116 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |