JP5811972B2 - ガス処理装置および窒素酸化物処理装置 - Google Patents
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複数の紫外線ランプを使用する場合には、紫外線ランプの各々の個体差、例えば使用初期における紫外線の照度の差や、長時間使用したときの紫外線の照度維持率の差などがあり、しかも、複数の紫外線ランプを同一のアンモニアラジカル発生部に配置したときには、紫外線ランプの各々を光量を個別に制御することは困難である。このため、供給される混合ガスに対して均一に紫外線が照射されず、これにより、被処理ガスに対して、還元処理に必要な量のアンモニアラジカルを混入させることが困難となるばかりでなく、未反応のアンモニアガスが多量に混入されるので、被処理ガス中の窒素酸化物を高い効率で還元処理することが困難である。
前記ガス活性化ユニットの各々は、当該ガス活性化ユニットにおける紫外線ランプからの紫外線の光量を測定する光量測定器を有すると共に、前記ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節するガス流量調節機構を有し、
当該ガス流量調節機構は、前記光量測定器によって測定される紫外線の光量に応じて前記ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節するものであり、
前記ガス活性化ユニットの各々からの活性化ガスが、窒素酸化物を含有する被処理ガスに混合されることにより、当該被処理ガスにおける窒素酸化物が還元処理されることを特徴とする。
前記ガス活性化ユニットの各々は、当該ガス活性化ユニットにおけるガス流路管に供給される混合ガスの流量を測定するガス流量計を有すると共に、前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節する光量調節機構を有し、
当該光量調節機構は、前記ガス流量計によって測定される混合ガスの流量に応じて前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節するものであり、
前記ガス活性化ユニットの各々からの活性化ガスが、窒素酸化物を含有する被処理ガスに混合されることにより、当該被処理ガスにおける窒素酸化物が還元処理されることを特徴とする。
このようなガス処理装置においては、前記ガス活性化ユニットの各々における光量調節機構は、前記被処理ガスが前記活性化ガスによって処理されて得られる処理済ガスにおける窒素酸化物の濃度に応じて前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節するものであることが好ましい。
窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理することを特徴とする。
〔第1の実施の形態〕
図1は、本発明の第1の実施の形態に係るガス処理装置の構成の概略を示す説明図である。このガス処理装置は、窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理するための窒素酸化物処理装置に用いられるものであって、アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給機構10と、この混合ガス供給機構10から供給された混合ガスにおけるアンモニアガスを活性化するガス活性化機構20とを備えてなる。
また、混合ガス供給機構10から供給される混合ガスにおけるアンモニアガスとキャリアガスとの体積比(アンモニアガス供給源11から供給されるアンモニアガスの流量とキャリアガス供給源12から供給されるキャリアガスの流量との比率)は、1:99〜15:85であることが好ましい。アンモニアガスの比率が過小である場合には、活性化されるアンモニアガスが少なくなり、期待される効果が小さくなる。一方、アンモニアガスの比率が過大である場合には、アンモニアガスは可燃性ガスであるため爆発の恐れがあり、取扱いが難しくなる。また、活性化されないアンモニアガスの割合が多くなるため、窒素酸化物の還元処理効率が下がってしまう。アンモニアガスとキャリアガスとの最も望ましい比率は3:97である。
また、複数のガス活性化ユニット30は、ガス分配部21と集気部24との間に互いに並列に設けられている。具体的には、ガス活性化ユニット30の各々においては、ガス流路管31における上流側の一端が、導管22を介してガス分配部21に接続され、当該ガス流路管31における下流側の他端が、導管23を介して集気部24に接続されている。また、ガス活性化ユニット30の各々には、紫外線ランプ35からの紫外線の光量を測定する光量測定器37が設けられている。
ガス分配部21と各ガス流路管31とを接続する導管22の各々には、ガス流量計を備えたガス流量調節機構27が設けられている。このガス流量調節機構27は、光量測定器37によって測定される紫外線ランプ35からの紫外線の光量に応じて、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量を調節するものである。
また、アンモニアにおけるN−H結合を効率良く切断し得るために、紫外線ランプ35としては、アンモニアガスの吸収係数が高い波長の紫外線を放射するもの用いることが好ましい。例えば、アンモニアガスの吸収係数が10atm-1cm-1以上である紫外線の波長域は、150nm以下および162〜210nmである。
このような紫外線ランプの具体例としては、重水素ランプ(波長120〜170nm)、ArBrエキシマランプ(波長165nm)、Xeエキシマランプ(波長172nm)、ArClエキシマランプ(波長175nm)、低圧水銀ランプ(波長185nm)、ArFエキシマランプ(波長193nm)、KrBrエキシマランプ(波長207nm)などが挙げられる。
先ず、混合カス供給機構10においては、ガス混合部15に、アンモニア供給源11から導管13を介してアンモニアガスが供給されると共に、キャリアガス供給源12から導管14を介してキャリアガスが供給される。そして、ガス混合部15においては、アンモニアガスとキャリアガスとが混合されることにより、アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスが調製される。
次いで、ガス混合部15からの混合ガスが、導管18を介して、ガス活性化機構20におけるガス分配部21に供給される。このガス分配部21によって混合ガスが分配され、分配された混合ガスは、導管22を介してガス活性化ユニット30の各々におけるガス流路管31に供給される。
そして、ガス活性化ユニット30においては、紫外線ランプ35からの紫外線が、ガス流路管31内に供給された混合ガスに照射されることにより、当該混合ガス中のアンモニアガスが活性化され、例えばNH2 ラジカル、NHラジカル、Nラジカルなどのラジカルや、N+ イオン、NH+ イオン、NH2 + イオン、NH3 + イオンなどのイオンを含む活性化ガスが生成される。
このようにして得られる活性化ガスは、ガス流路管31から導管26を介して、被処理ガスが流通される排煙管40に供給され、当該排煙管40内において、被処理ガスに活性化ガスが混合されることにより、被処理ガス中の窒素酸化物が還元処理される。その後、処理済ガスが排煙管40から外部に排出される。
ここで、ガス活性化ユニット30の仕様は、以下の通りである。
ガス流路管31としては、全長が1100mmで内径が55mmのものを用いた。
紫外線ランプ35としては、有効発光長が1000mm、外径が20mmで、100%出力時の紫外線の照度が50mW/cm2 のキセノンエキシマランプを用いた。
また、被処理ガスは、一酸化窒素ガスの濃度が500ppm、酸素ガスの濃度が21%のものであり、被処理ガスの流量は7500L/minである。
また、脱硝率は、下記式(1)により求めたものである。
図4は、本発明の第2の実施の形態に係るガス処理装置の構成の概略を示す説明図である。このガス処理装置は、窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理するための窒素酸化物処理装置に用いられるものであって、アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給機構10と、この混合ガス供給機構10から供給された混合ガスにおけるアンモニアガスを活性化するガス活性化機構20とを備えてなる。混合ガス供給機構10は、第1の実施の形態に係るガス処理装置におけるものと同様の構成である。
また、複数のガス活性化ユニット30は、ガス分配部21と集気部24との間に互いに並列に設けられている。具体的には、ガス活性化ユニット30の各々においては、ガス流路管31における上流側の一端が、導管22を介してガス分配部21に接続され、当該ガス流路管31における下流側の他端が、導管23を介して集気部24に接続されている。 ガス分配部21と各ガス流路管31とを接続する導管22の各々には、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量を測定するガス流量計28が設けられている。
紫外線ランプ35の各々は、当該紫外線ランプ35からの紫外線の光量を調節する光量調節機構36に接続されている。この光量調節機構36は、ガス流量計28によって測定される混合ガスの流量に応じて紫外線ランプ35毎に当該紫外線ランプ35の光量を調節する機能を有するものである。
また、ガス活性化ユニット30の各々には、各紫外線ランプ35からの紫外線の光量を測定する光量測定器37が設けられており、この光量測定器37からの信号に基づいて、光量調節機構36がフィードバック制御される。
そして、ガス活性化ユニット30においては、紫外線ランプ35からの紫外線が、ガス流路管31内に供給された混合ガスに照射されることにより、当該混合ガス中のアンモニアガスが活性化される。
このようにして得られる活性化ガスは、ガス流路管31から導管26を介して、被処理ガスが流通される排煙管40に供給され、当該排煙管40内において、被処理ガスに活性化ガスが混合されることにより、被処理ガス中の窒素酸化物が還元処理される。その後、処理済ガスが排煙管40から外部に排出される。
図5は、本発明の第3の実施の形態に係るガス処理装置の構成の概略を示す説明図である。このガス処理装置は、窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理するための窒素酸化物処理装置に用いられるものであって、アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給機構10と、この混合ガス供給機構10から供給された混合ガスにおけるアンモニアガスを活性化するガス活性化機構20とを備えてなる。混合ガス供給機構10は、第1の実施の形態に係るガス処理装置におけるものと同様の構成である。
また、複数のガス活性化ユニット30は、ガス分配部21と集気部24との間に互いに並列に設けられている。具体的には、ガス活性化ユニット30の各々においては、ガス流路管31における上流側の一端が、導管22を介してガス分配部21に接続され、当該ガス流路管31における下流側の他端が、導管23を介して集気部24に接続されている。また、ガス活性化ユニット30の各々には、紫外線ランプ35からの紫外線の光量を測定する光量測定器37が設けられている。
ガス分配部21と各ガス流路管31とを接続する導管22の各々には、ガス流量計を備えたガス流量調節機構27が設けられている。このガス流量調節機構27は、光量測定器37によって測定される紫外線ランプ35からの紫外線の光量に応じて、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量を調節するものである。
そして、ガス活性化ユニット30においては、紫外線ランプ35からの紫外線が、ガス流路管31内に供給された混合ガスに照射されることにより、当該混合ガス中のアンモニアガスが活性化される。
このようにして得られる活性化ガスは、ガス流路管31から導管26を介して、被処理ガスが流通される排煙管40に供給され、当該排煙管40内において、被処理ガスに活性化ガスが混合されることにより、被処理ガス中の窒素酸化物が還元処理される。その後、処理済ガスが排煙管40から外部に排出される。
また、ガス活性化ユニット30の各々における紫外線ランプ35からの紫外線の光量は、光量調節機構36によって、ガス濃度測定器41によって測定される窒素酸化物の濃度に応じて調節される。具体的には、ガス濃度測定器41によって測定される窒素酸化物の濃度が予め設定された基準値を超える場合には、各紫外線ランプ35からの紫外線の光量が大きくなるよう調節される。
また、ガス活性化ユニット30の各々には、被処理ガスが活性化ガスによって処理されて得られる処理済ガスの状態に応じて紫外線ランプ35からの紫外線の光量を調節する光量調節機構36が設けられているため、被処理ガスの流量や被処理ガス中の窒素酸化物の濃度が変動した場合において、例えば処理済ガスの脱硝率が目標とする基準値を超えたときにも、処理済ガスの脱硝率が高くなるよう、紫外線ランプ35からの紫外線の光量を調節することができるので、被処理ガスのガス処理において高い信頼性が得られる。
図6は、本発明の第4の実施の形態に係るガス処理装置の構成の概略を示す説明図である。このガス処理装置は、窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理するための窒素酸化物処理装置に用いられるものであって、アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスを供給する混合ガス供給機構10と、この混合ガス供給機構10から供給された混合ガスにおけるアンモニアガスを活性化するガス活性化機構20とを備えてなる。混合ガス供給機構10は、第1の実施の形態に係るガス処理装置におけるものと同様の構成である。
また、複数のガス活性化ユニット30は、ガス分配部21と集気部24との間に互いに並列に設けられている。具体的には、ガス活性化ユニット30の各々においては、ガス流路管31における上流側の一端が、導管22を介してガス分配部21に接続され、当該ガス流路管31における下流側の他端が、導管23を介して集気部24に接続されている。 ガス分配部21と各ガス流路管31とを接続する導管22の各々には、ガス流量計を備えたガス流量調節機構27が設けられている。このガス流量調節機構27は、ガス濃度測定器41によって測定される窒素酸化物の濃度に応じて、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量を調節するものである。
また、ガス活性化ユニット30の各々には、各紫外線ランプ35からの紫外線の光量を測定する光量測定器37が設けられており、この光量測定器37からの信号に基づいて、光量調節機構36がフィードバック制御される。
そして、ガス活性化ユニット30においては、紫外線ランプ35からの紫外線が、ガス流路管31内に供給された混合ガスに照射されることにより、当該混合ガス中のアンモニアガスが活性化される。
このようにして得られる活性化ガスは、ガス流路管31から導管26を介して、被処理ガスが流通される排煙管40に供給され、当該排煙管40内において、被処理ガスに活性化ガスが混合されることにより、被処理ガス中の窒素酸化物が還元処理される。その後、処理済ガスが排煙管40から外部に排出される。
また、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量は、ガス流量調節機構27によって、ガス濃度測定器41によって測定される窒素酸化物の濃度に応じて調節される。具体的には、ガス濃度測定器41によって測定される窒素酸化物の濃度が予め設定された基準値を超える場合には、ガス流路管31に供給されるアンモニアガスの流量が大きくなるよう、混合ガスの流量が調節される。
また、ガス活性化ユニット30の各々には、被処理ガスが活性化ガスによって処理されて得られる処理済ガスの状態に応じてガス流路管31に供給される混合ガスの流量を調節するガス流量調節機構27が設けられているため、被処理ガスの流量や被処理ガス中の窒素酸化物の濃度が変動した場合において、例えば処理済ガスの脱硝率が目標とする基準値を超えたときにも、処理済ガスの脱硝率が高くなるよう、ガス流路管31に供給される混合ガスの流量を調節することができるので、被処理ガスのガス処理において高い信頼性が得られる。
第1の実施の形態乃至第4の実施の形態においては、単一の混合ガス供給機構からの混合ガスをガス分配部によってガス活性化ユニットの各々に分配して供給する構成であるが、ガス活性化ユニットの各々に対応して複数の混合ガス供給機構が設けられ、これらの混合ガス供給機構の各々から、対応するガス活性化ユニットに直接混合ガスが供給される構成であってもよい。
また、ガス流路管の内面は光反射面とされていてもよい。このような構成によれば、ガス活性化ユニットによるアンモニアガスの活性化において高い光の利用率が得られる。
〈実施例1〉
図1に示す構成に従い、下記の仕様のガス活性化機構を有するガス処理装置を作製した。
ガス活性化ユニット(30)の数:2つ
ガス流路管(31):材質=ステンレス,全長=1100mm、内径=55mm
紫外線ランプ(35):有効発光長が1000mm、外径が20mm、100%出力時の紫外線の照度が50mW/cm2 のキセノンエキシマランプ
上記の実験用ガス処理装置を用いて、下記の条件により、被処理ガスのガス処理を行った。そして、処理済ガス中の窒素酸化物ガスの濃度を測定し、上記式(1)により、脱硝率を求めた。結果を表1に示す。
[被処理ガス]
被処理ガスは、一酸化窒素ガスの濃度が500ppm、酸素ガスの濃度が21%のものであり、排煙管中の被処理ガスの流量は7500L/minである。
[紫外線照射条件]
一方のガス活性化ユニットにおけるキセノンエキシマランプ(以下、「ランプ(L1)という。)および他方のガス活性化ユニットにおけるキセノンエキシマランプ(以下、「ランプ(L2)という。)の出力は、それぞれ100%である。
[混合ガス]
混合ガス供給機構から供給される混合ガスは、アンモニアガスと窒素ガスとの体積比が3:97のものである。一方のガス活性化ユニットにおけるガス流路管(以下、「ガス流路管(P1)という。)および他方のガス活性化ユニットにおけるガス流路管(以下、「ガス流路管(P2)という。)に供給される混合ガスの流量は、それぞれ33.3L/min(アンモニアガスの流量が1L/min)である。
ランプ(L1)の出力、ランプ(L2)の出力、ガス流路管(P1)に供給される混合ガスの流量、およびガス流路管(P2)に供給される混合ガスの流量を下記表1に示す値に設定したこと以外は、実験1と同様にして被処理ガスのガス処理を行った。そして、処理済ガス中の窒素酸化物ガスの濃度を測定し、上記式(1)により、脱硝率を求めた。結果を表1に示す。
ガス活性化機構として、図7に示す構成の一つのガス活性化ユニットを備えてなるものを用いたこと以外は、実施例1と同様の構成の比較用ガス処理装置を作製した。
図7に示すガス活性化ユニット80は、全長が1100mmで内径が78mmのステンレスよりなるガス流路管81内に、2つの紫外線ランプ85が当該ガス流路管81の管軸方向に沿って配置されている。2つの紫外線ランプ85の各々は、実施例1において使用したキセノンエキシマランプと同様の仕様のものである。また、2つの紫外線ランプ85の間の離間距離は、26mmである。また、ガス流路管81における上流側の一端は、ガス流量調節機構(図示省略)を備えた導管82を介して混合ガス供給機構に接続され、ガス流路管81における下流側の他端は、導管83を介して、被処理ガスが流通される排煙管に接続されている。
上記の比較用ガス処理装置を用いて、下記の条件により、被処理ガスのガス処理を行った。そして、処理済ガス中の窒素酸化物ガスの濃度を測定し、上記式(1)により、脱硝率を求めた。結果を表2に示す。
[被処理ガス]
被処理ガスは、一酸化窒素ガスの濃度が500ppm、酸素ガスの濃度が21%のものであり、排煙管中の被処理ガスの流量は7500L/minである。
[紫外線照射条件]
一方のガス活性化ユニットにおけるキセノンエキシマランプ(以下、「ランプ(L3)という。)および他方のガス活性化ユニットにおけるキセノンエキシマランプ(以下、「ランプ(L4)という。)の出力は、それぞれ100%である。
[混合ガス]
混合ガス供給機構から供給される混合ガスは、アンモニアガスと窒素ガスとの体積比が3:97のものである。ガス活性化ユニットにおけるガス流路管に供給される混合ガスの流量は、33.3L/min(アンモニアガスの流量が1L/min)である。
ランプ(L3)の出力、ランプ(L4)の出力、およびガス流路管に供給される混合ガスの流量を下記表1に示す値に設定したこと以外は、比較実験1と同様にして被処理ガスのガス処理を行った。そして、処理済ガス中の窒素酸化物ガスの濃度を測定し、上記式(1)により、脱硝率を求めた。結果を表2に示す。
これに対して、比較例1に係るガス処理装置においては、ランプ(L4)の出力の低下に伴って脱硝率が低下した。また、ランプ(L4)の出力が低下したときに、ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節しても、脱硝率を維持することができなかった。
11 アンモニアガス供給源
12 キャリアガス供給源
13,14 導管
15 ガス混合部
16,17 ガス流量計
18 導管
20 ガス活性化機構
21 ガス分配部
22,23 導管
24 集気部
26 導管
27 ガス流量調節機構
28 ガス流量計
30 ガス活性化ユニット
31 ガス流路管
35 紫外線ランプ
36 光量調節機構
37 光量測定器
40 排煙管
41 ガス濃度測定器
80 ガス活性化ユニット
81 ガス流路管
82,83 導管
85 紫外線ランプ
Claims (5)
- アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスが供給される一つのガス流路管内に、一つの紫外線ランプが配置されてなるガス活性化ユニットの複数が、互いに並列に設けられてなり、
前記ガス活性化ユニットの各々は、当該ガス活性化ユニットにおける紫外線ランプからの紫外線の光量を測定する光量測定器を有すると共に、前記ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節するガス流量調節機構を有し、
当該ガス流量調節機構は、前記光量測定器によって測定される紫外線の光量に応じて前記ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節するものであり、
前記ガス活性化ユニットの各々からの活性化ガスが、窒素酸化物を含有する被処理ガスに混合されることにより、当該被処理ガスにおける窒素酸化物が還元処理されることを特徴とするガス処理装置。 - 前記ガス活性化ユニットの各々におけるガス流量調節機構は、前記被処理ガスが前記活性化ガスによって処理されて得られる処理済ガスにおける窒素酸化物の濃度に応じて前記ガス流路管に供給される混合ガスの流量を調節するものであることを特徴とする請求項1に記載のガス処理装置。
- アンモニアガスとキャリアガスとの混合ガスが供給される一つのガス流路管内に、一つの紫外線ランプが配置されてなるガス活性化ユニットの複数が、互いに並列に設けられてなり、
前記ガス活性化ユニットの各々は、当該ガス活性化ユニットにおけるガス流路管に供給される混合ガスの流量を測定するガス流量計を有すると共に、前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節する光量調節機構を有し、
当該光量調節機構は、前記ガス流量計によって測定される混合ガスの流量に応じて前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節するものであり、
前記ガス活性化ユニットの各々からの活性化ガスが、窒素酸化物を含有する被処理ガスに混合されることにより、当該被処理ガスにおける窒素酸化物が還元処理されることを特徴とするガス処理装置。 - 前記ガス活性化ユニットの各々における光量調節機構は、前記被処理ガスが前記活性化ガスによって処理されて得られる処理済ガスにおける窒素酸化物の濃度に応じて前記紫外線ランプからの紫外線の光量を調節するものであることを特徴とする請求項3に記載のガス処理装置。
- 請求項1乃至請求項4に記載のガス処理装置を備えてなり、
窒素酸化物を含有する被処理ガスにおける当該窒素酸化物を還元処理することを特徴とする窒素酸化物処理装置。
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