JP5790056B2 - Cell culture vessel - Google Patents

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Description

本発明は、培養用恒温槽から取り出した際の防曇性およびコンタミネーション防止性に優れた細胞培養容器に関するものである。   The present invention relates to a cell culture container excellent in antifogging property and anti-contamination property when taken out from a culture thermostat.

細胞を効率的に培養するには、生育に適した条件下で培養する必要がある。このため、通常、所定の温度・湿度に保つことができる培養用恒温槽内で細胞の培養が行われる。
また、培養中の細胞の状態を観察する際には、細胞が入った細胞培養容器を恒温槽から取り出す必要があるが、恒温槽から取り出した際のコンタミネーションを防止するため、通常、細胞培養容器として蓋つきの細胞培養容器が用いられる。
ここで、例えば、ヒト等の細胞では37℃程度の温度条件が用いられるが、このような温度条件下で長時間配置された細胞培養容器を恒温槽から取り出し、室温条件下に置くと、細胞培養容器内に含まれる水蒸気が細胞培養容器を覆う蓋内面に結露し、多量の水滴が付着した状態となる。その結果、蓋により覆った状態での細胞の観察が困難となるといった問題があった。
In order to culture cells efficiently, it is necessary to culture them under conditions suitable for growth. For this reason, cells are usually cultured in a culture constant temperature bath that can be maintained at a predetermined temperature and humidity.
In addition, when observing the state of cells in culture, it is necessary to take out the cell culture container containing the cells from the thermostat. In order to prevent contamination when the cells are taken out from the thermostat, cell culture is usually performed. A cell culture container with a lid is used as the container.
Here, for example, a temperature condition of about 37 ° C. is used for cells such as humans, but if a cell culture vessel placed for a long time under such a temperature condition is taken out of the thermostat and placed under a room temperature condition, Water vapor contained in the culture container is condensed on the inner surface of the lid covering the cell culture container, and a large amount of water droplets are attached. As a result, there is a problem that it becomes difficult to observe cells in a state covered with a lid.

このような問題に対して、蓋の内面にワイパーを備えたもの(特許文献1)や、蓋の内面に親水性ポリマー層を有し、さらに蓋の外周部に親水性ポリマー層に付着した水を受ける鍔部を有するもの(特許文献2)等が開示されている。このような方法によれば、蓋内面に結露した水が水滴状に付着することを防ぐことができ、細胞を視認性良く観察することができる。
しかしながら、特許文献1のように蓋の内面にワイパーを設けたものは、培養容器の観察可能面積が減少することや、作業者の手間などの不具合があった。
また、特許文献2は蓋部に設けられた水受け部へ結露水がたまることが特徴とされているが、このような構造は本来の培養容器に比べ、ハンドリング性が悪くなること、培地交換などの実験操作において溜まった水が流出、飛散することにより、コンタミネーションのリスクが増大するといった問題があった。
With respect to such problems, water having a wiper on the inner surface of the lid (Patent Document 1), water having a hydrophilic polymer layer on the inner surface of the lid, and further adhering to the hydrophilic polymer layer on the outer periphery of the lid The thing (patent document 2) etc. which have a collar part to receive are disclosed. According to such a method, the water condensed on the inner surface of the lid can be prevented from adhering in the form of water droplets, and the cells can be observed with high visibility.
However, the thing which provided the wiper in the inner surface of the lid | cover like patent document 1 had malfunctions, such as a reduction of the observable area of a culture container and an operator's effort.
Further, Patent Document 2 is characterized in that condensed water accumulates in a water receiving portion provided in the lid portion. However, such a structure has poor handling properties compared to an original culture vessel, and medium replacement. There has been a problem that the risk of contamination increases due to the outflow and scattering of water accumulated in the experimental operation.

特開平5−184349号公報JP-A-5-184349 特開2010−51200号公報JP 2010-51200 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、培養用恒温槽から取り出した際の防曇性およびコンタミネーション防止性に優れた細胞培養容器を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and a main object of the present invention is to provide a cell culture container excellent in anti-fogging property and anti-contamination property when taken out from a culture constant temperature bath.

上記目的を達成するために、本発明は、周囲が側壁により囲まれた凹部を有する細胞培養部と、上記細胞培養部を覆う蓋部と、を有する細胞培養容器であって、上記蓋部の内面には、上記細胞培養部の上記凹部の開口部の一部と平面視上重なるように形成された水膜形成部および上記水膜形成部を囲うように形成され、かつ、上記側壁の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部を有することを特徴とする細胞培養容器を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a cell culture container having a cell culture part having a recess surrounded by a side wall and a lid part covering the cell culture part, The inner surface is formed so as to surround a part of the opening of the concave portion of the cell culture portion so as to overlap in plan view, and the upper surface of the side wall. And a water-blocking portion formed so as to overlap with each other in plan view.

本発明によれば、上記蓋部の内面に上記凹部の開口部の一部と平面視上重なるように水膜形成部が形成されていることにより、培養用恒温槽から取り出した際に蓋内面に水滴の付着を防止することができ、優れた防曇性を発揮することができる。
また、上記蓋部の内面に上記側壁の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部を有することにより、コンタミネーションを安定的に防止することができる。
According to the present invention, the water film forming portion is formed on the inner surface of the lid portion so as to overlap with a part of the opening of the concave portion in plan view. In addition, it is possible to prevent adhesion of water droplets and to exhibit excellent antifogging properties.
Moreover, contamination can be stably prevented by having the water blocking part formed on the inner surface of the lid part so as to overlap the upper surface of the side wall in plan view.

本発明においては、上記水膜形成部が、親水性部または微細凹凸部であることが好ましい。水膜形成部への水滴の付着を防止することができ、安定的に水膜を形成することができるからである。   In the present invention, the water film forming part is preferably a hydrophilic part or a fine uneven part. This is because adhesion of water droplets to the water film forming portion can be prevented, and a water film can be stably formed.

本発明においては、水遮断部が疎水性部、水吸収部、および/または段差部を含むことが好ましい。このような部位を含むことにより、水膜形成部に付着した水が細胞培養部外に流出することを安定的に防止することができるからである。   In the present invention, the water blocking part preferably includes a hydrophobic part, a water absorbing part, and / or a step part. By including such a part, it is possible to stably prevent water adhering to the water film forming part from flowing out of the cell culture part.

本発明は、培養用恒温槽から取り出した際の防曇性およびコンタミネーション防止性に優れた細胞培養容器を提供できるといった効果を奏する。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention has an effect that the cell culture container excellent in the anti-fogging property at the time of taking out from the culture thermostat and the anti-contamination property can be provided.

本発明の細胞培養容器の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the cell culture container of this invention. 図3のX−X線断面図である。It is the XX sectional view taken on the line of FIG. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明における細胞培養部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the cell culture part in this invention. 本発明における細胞培養部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the cell culture part in this invention. 本発明における側壁を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the side wall in this invention. 本発明における側壁を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the side wall in this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention. 本発明の細胞培養容器の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the cell culture container of this invention.

本発明は、細胞培養容器に関するものである。
以下、本発明の細胞培養容器について詳細に説明する。
The present invention relates to a cell culture container.
Hereinafter, the cell culture container of the present invention will be described in detail.

本発明の細胞培養容器は、周囲が側壁により囲まれた凹部を有する細胞培養部と、上記細胞培養部を覆う蓋部と、を有する細胞培養容器であって、上記蓋部の内面には、上記細胞培養部の開口部の一部と平面視上重なるように形成された水膜形成部および上記水膜形成部を囲うように形成され、かつ、上記側壁の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部を有することを特徴とするものである。   The cell culture container of the present invention is a cell culture container having a cell culture part having a recess surrounded by a side wall and a lid part covering the cell culture part, and the inner surface of the lid part has A water film forming part formed so as to overlap a part of the opening of the cell culture part in plan view, and so as to surround the water film forming part, and so as to overlap the upper surface of the side wall in plan view It has the formed water interruption | blocking part, It is characterized by the above-mentioned.

このような本発明の細胞培養容器について図を参照して説明する。図1は、本発明の細胞培養容器の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明の細胞培養容器20は、周囲が側壁1により囲まれた凹部2を有する細胞培養部3と、上記細胞培養部3を覆う蓋部10と、を有するものである。上記蓋部10は主に蓋基材13からなり、蓋基材13の内面には、上記細胞培養部3の凹部2の開口部の一部と平面視上重なるように形成された水膜形成部11および上記水膜形成部11を囲うように形成され、かつ、上記側壁1の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部12を有するものである。   Such a cell culture container of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the cell culture container of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the cell culture container 20 of the present invention has a cell culture part 3 having a recess 2 surrounded by a side wall 1 and a lid part 10 covering the cell culture part 3. It is. The lid portion 10 mainly comprises a lid base material 13, and a water film is formed on the inner surface of the lid base material 13 so as to overlap a part of the opening of the concave portion 2 of the cell culture part 3 in plan view. The water blocking part 12 is formed so as to surround the part 11 and the water film forming part 11 and is formed so as to overlap the upper surface of the side wall 1 in plan view.

本発明によれば、上記蓋部の内面に上記開口部の一部と平面視上重なるように水膜形成部が形成されていることにより、培養用恒温槽から取り出した際に蓋内面に水滴ができるのを防止し水膜を形成することができる。その結果、このような水膜形成部において優れた防曇性を発揮することができ、凹部内で培養中の細胞を良好に観察する観察領域として用いることができる。
また、上記蓋部の内面に上記側壁の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部を有することにより、水膜形成部に付着した水が、平面視上、細胞培養部外に流出することを防止することができる。このため、細胞培養容器の外部と、細胞培養部内の培養液とが結露により蓋に付着した水を介して接触することを防止することができる。その結果、コンタミネーションを安定的に防止することができる。
これに対して、平面視上、水膜形成部が細胞培養部の凹部の開口部より広く配置されている場合には、水膜形成部に付着した結露水が、例えば、細胞培養部の側壁の上面に落下し、その後、側壁の上面を伝って、細胞培養容器の外部まで流出する可能性がある。そして、細胞培養部内から細胞培養容器の外部まで水が移動することにより形成された連続した水跡が、細胞培養部の凹部内と細胞培養容器外とを接続した状態とし、細胞培養容器外から細胞培養部の凹部内へのコンタミネーションの可能性を高くするのである。
According to the present invention, the water film forming part is formed on the inner surface of the lid part so as to overlap with a part of the opening in plan view, so that when the water film is removed from the culture thermostat, water droplets are formed on the lid inner surface. Can be prevented and a water film can be formed. As a result, excellent anti-fogging properties can be exhibited in such a water film forming portion, and it can be used as an observation region for favorably observing cells in culture in the recess.
Further, by having a water blocking part formed on the inner surface of the lid part so as to overlap the upper surface of the side wall in plan view, water attached to the water film forming part flows out of the cell culture part in plan view. Can be prevented. For this reason, it can prevent that the exterior of a cell culture container and the culture solution in a cell culture part contact through the water adhering to the lid | cover by dew condensation. As a result, contamination can be stably prevented.
On the other hand, when the water film forming part is arranged wider than the opening of the concave part of the cell culture part in plan view, the dew condensation water adhering to the water film forming part is, for example, the side wall of the cell culture part. May then flow down to the outside of the cell culture vessel along the upper surface of the side wall. Then, the continuous water marks formed by the movement of water from the inside of the cell culture section to the outside of the cell culture container are connected to the inside of the recess of the cell culture section and the outside of the cell culture container. This increases the possibility of contamination in the recess of the cell culture part.

本発明の細胞培養容器は細胞培養部および蓋部を少なくとも有するものである。
以下、本発明の細胞培養容器の各構成について詳細に説明する。
The cell culture container of the present invention has at least a cell culture part and a lid part.
Hereafter, each structure of the cell culture container of this invention is demonstrated in detail.

1.細胞培養部
本発明に用いられる細胞培養部は、周囲が側壁により囲まれた凹部を有するものである。また、本発明における凹部で細胞および培地を保持し、細胞の培養が行われるものである。
1. Cell culture part The cell culture part used for this invention has a recessed part with the circumference | surroundings surrounded by the side wall. In addition, the cells and the medium are held in the recesses in the present invention, and the cells are cultured.

このような細胞培養部としては、少なくとも一つの凹部を有し、蓋部により覆われることができるものであれば特に限定されるものではない。このような細胞培養部としては、一体として形成されているものであれば2以上の凹部を有するものであっても良く、例えば、既に説明した図1に示すようなシャーレ、図2および図3に例示するようなマルチウェルプレートや、培養用フラスコ等の細胞培養瓶等、一般的な細胞培養容器と同様とすることができる。
なお、図2は図3のX−X線断面図であり、図3は細胞培養容器の他の例を示す概略平面図である。また、図2〜図3中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Such a cell culture part is not particularly limited as long as it has at least one recess and can be covered with a lid part. As such a cell culture part, as long as it is integrally formed, it may have two or more recesses. For example, the petri dish as shown in FIG. 1 already described, FIG. 2 and FIG. It can be made to be the same as that of a general cell culture container, such as a multi-well plate and cell culture bottles, such as a culture flask.
2 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 3, and FIG. 3 is a schematic plan view showing another example of the cell culture container. Moreover, about the code | symbol in FIGS. 2-3, since the same member as the thing in FIG. 1 is shown, description here is abbreviate | omitted.

本発明における細胞培養部を構成する材料としては、細胞の培養および観察を容易に行うことができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な細胞培養容器と同様とすることができる。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリスチレン(PS)、ポリカーボネート(PC)、TAC(トリアセチルセルロース)、ポリイミド(PI)、ナイロン(Ny)、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ウレタンアクリレート等のアクリル系材料、セルロース、ガラス等が挙げられる。また、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクタン、もしくはその共重合体のような生分解性ポリマー等の樹脂等を用いることができる。
本発明においては、なかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネートを好ましく用いることができ、特に、ポリスチレンを好ましく用いることができる。細胞毒性が低いからである。
The material constituting the cell culture section in the present invention is not particularly limited as long as cell culture and observation can be easily performed, and can be the same as a general cell culture vessel. .
Specifically, polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS), polycarbonate (PC), TAC (triacetyl cellulose), polyimide (PI), nylon (Ny), low density polyethylene (LDPE), medium density polyethylene (MDPE) ), Acrylic materials such as vinyl chloride, vinylidene chloride, polyphenylene sulfide, polyether sulfone, polyethylene naphthalate, polypropylene, urethane acrylate, cellulose, glass and the like. In addition, a resin such as a biodegradable polymer such as polylactic acid, polyglycolic acid, polycaprolactan, or a copolymer thereof can be used.
In the present invention, among these, polyethylene terephthalate, polystyrene, and polycarbonate can be preferably used, and in particular, polystyrene can be preferably used. This is because the cytotoxicity is low.

本発明における凹部は、細胞を収納し培養できれば、その形状、容積などに制限はなく、一般的な細胞培養に用いられるものと同様とすることができる。例えば、既に説明した図1〜図3に示すような、側壁が垂直に立設している円柱状のものや、図4に例示するように、側壁が傾斜している円錐台状、円錐状、多角錐状、多角錐台状のものや、図5に例示するように、側壁が湾曲しているもの等を用いることができる。
なお、図4〜図5中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、図4および図5中の、Aで示す部位は、側壁の上面を示すものである。
As long as cells can be stored and cultured in the present invention, the shape and volume thereof are not limited, and can be the same as those used for general cell culture. For example, as shown in FIG. 1 to FIG. 3 described above, the columnar shape in which the side wall is erected vertically, or the truncated cone shape and the conical shape in which the side wall is inclined as illustrated in FIG. A polygonal pyramid shape, a polygonal frustum shape, or a curved side wall as exemplified in FIG. 5 can be used.
The reference numerals in FIGS. 4 to 5 indicate the same members as those in FIG. Moreover, the site | part shown by A in FIG. 4 and FIG. 5 shows the upper surface of a side wall.

本発明における凹部の表面については、上記細胞培養部を構成する材料が露出するものであっても良いが、必要に応じて表面処理がされたものであっても良い。
このような表面処理としては、紫外線照射、コロナ処理、プラズマ処理や、コラーゲン、フィブロネクチン、ラミニン、ポリL−リジン、等を含むコーティング液の塗布を挙げることができる。
As for the surface of the recess in the present invention, the material constituting the cell culture part may be exposed, or it may be subjected to a surface treatment if necessary.
Examples of such surface treatment include ultraviolet irradiation, corona treatment, plasma treatment, and application of a coating solution containing collagen, fibronectin, laminin, poly L-lysine, and the like.

なお、本発明における細胞培養部の凹部の開口部は、上記水膜形成部と平面視上重なるものであるが、ここでいう、細胞培養部の凹部の開口部とは、凹部の上側(蓋部と対向する側)の開口領域をいうものであり、側壁の上面により囲まれた領域を指すものである。
また、本発明における細胞培養部の側壁の上面は、上記水遮断部と平面視上重なるものであるが、ここでいう側壁の上面とは、側壁の上面のみならず、側壁の上面と連続し、かつ、同程度の高さの上面を有する部位の上面も含むものである。ここで、同程度の高さとは、表面に凹凸形状が付与されている場合も本発明における上面に含むことを示すものである。具体的には、既に説明した図2に示すように、平坦な板状の部材に凹部が形成されたものである場合には、その板状部材の表面のうち、凹部が形成された部位以外の全てが側壁の上面となる。また、細胞培養部が、図6に例示するように複数の凹部が開口部側で連結されたような形状である場合、または図7に例示するように複数の凹部が底側で連結されたような形状である場合には、それぞれ、Aで示す部位が側壁の上面となる。さらに、既に説明した図4〜図5に示すように、細胞培養部の側壁が傾斜しているものや、側壁が湾曲しているものでは、それぞれ、Aで示す、蓋部と対向する部位が側壁の上面となる。
なお、図6〜図7中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Note that the opening of the concave portion of the cell culture portion in the present invention overlaps with the water film forming portion in plan view, and the opening portion of the concave portion of the cell culture portion referred to here is the upper side (lid) of the concave portion. The opening region on the side facing the part) refers to a region surrounded by the upper surface of the side wall.
In addition, the upper surface of the side wall of the cell culture unit in the present invention overlaps with the water blocking unit in plan view, and the upper surface of the side wall here is continuous with the upper surface of the side wall as well as the upper surface of the side wall. And the upper surface of the site | part which has the upper surface of comparable height is also included. Here, the same level of height indicates that the surface includes an uneven shape on the upper surface in the present invention. Specifically, as shown in FIG. 2 described above, when a concave portion is formed on a flat plate-like member, other than the portion where the concave portion is formed on the surface of the plate-like member. Is the upper surface of the side wall. Further, when the cell culture part has a shape such that a plurality of recesses are connected on the opening side as illustrated in FIG. 6, or a plurality of recesses are connected on the bottom side as illustrated in FIG. In the case of such a shape, the part indicated by A is the upper surface of the side wall. Furthermore, as shown in FIGS. 4 to 5 already described, in the case where the side wall of the cell culture part is inclined or the side wall is curved, the part indicated by A and facing the lid part is respectively provided. It becomes the upper surface of the side wall.
6 to 7 indicate the same members as those in FIG. 1, and thus the description thereof is omitted here.

2.蓋部
本発明における蓋部は、上記細胞培養部を覆うものであり、内面に水膜形成部および水遮断部を有するものである。
2. Lid part The cover part in this invention covers the said cell culture part, and has a water film formation part and a water interruption | blocking part in an inner surface.

(1)水膜形成部
本発明における水膜形成部は、上記細胞培養部の開口部の一部と平面視上重なるように形成されるものであり、結露により付着した水により水膜を形成する部位である。
(1) Water film formation part The water film formation part in this invention is formed so that it may overlap with a part of opening part of the said cell culture part on planar view, and forms a water film with the water adhering by dew condensation. It is a part to do.

本発明における水膜形成部の形成箇所としては、上記細胞培養部の開口部の一部と平面視上重なるように形成されるものであれば良いが、平面視上、開口部の中央部と重なる箇所であることが好ましい。細胞培養部の凹部内で培養される細胞を視認性良く観察することができるからである。   The formation location of the water film forming portion in the present invention is not particularly limited as long as it is formed so as to overlap with a part of the opening of the cell culture portion in plan view. It is preferable that they are overlapping portions. This is because the cells cultured in the recesses of the cell culture part can be observed with good visibility.

本発明においては、開口部の面積の80%以上の面積で水膜形成部が形成されることが好ましく、なかでも、90%〜98%の範囲内の面積で水膜形成部が形成されることが好ましい。上記面積で水膜形成部が形成されることにより、細胞培養部の凹部で培養される細胞を視認性良く観察することができるからである。また、水膜形成部上の水が、凹部外に移動することを防止することができるからである。   In the present invention, the water film forming part is preferably formed with an area of 80% or more of the area of the opening, and in particular, the water film forming part is formed with an area within the range of 90% to 98%. It is preferable. This is because, when the water film forming part is formed with the above area, the cells cultured in the concave part of the cell culture part can be observed with high visibility. Moreover, it is because the water on a water film formation part can prevent moving outside a recessed part.

このような水膜形成部としては、安定的に水膜を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、親水性部や微細凹凸部からなるもの等を挙げることができる。   Such a water film forming portion is not particularly limited as long as it can stably form a water film, and examples thereof include a hydrophilic portion and a fine uneven portion.

(a)親水性部
本発明における親水性部は、親水性を有し、付着した結露水が水膜を形成できるものである。
本発明においては、なかでも、表面の水接触角が、50°以下であることが好ましく、特に、30°以下であることが好ましい。上記水接触角であることにより、水膜を安定的に形成できるからである。
なお、水接触角とは、水、もしくは同等の接触角を有する液体との接触角をいうものであり、親水性部の表面上に純水を一滴(一定量)滴下させ、一定時間経過後、顕微鏡またはCCDカメラを用いて水滴形状を観察し、物理的に接触角を求める方法を用いて計測することができる。
より具体的には接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから純水の液滴を滴下して30秒後)し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得ることができる。
また、上記水接触角の下限としては小さい程効果を発揮することができるため特に限定されるものではなく、上記親水性部の形成性や構成する材料のコスト等に応じて適宜設定することができる。
(A) Hydrophilic part The hydrophilic part in this invention has hydrophilicity, and the condensed water which adhered can form a water film.
In the present invention, the water contact angle on the surface is preferably 50 ° or less, and particularly preferably 30 ° or less. This is because the water film can be stably formed by the water contact angle.
The water contact angle refers to the contact angle with water or a liquid having an equivalent contact angle. After a predetermined time has elapsed after a drop (a certain amount) of pure water has been dropped on the surface of the hydrophilic portion. The water droplet shape can be observed using a microscope or a CCD camera, and can be measured using a method for physically obtaining the contact angle.
More specifically, using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) (measured 30 seconds after dropping a drop of pure water from a microsyringe), from the result, or The result can be obtained as a graph.
In addition, the lower limit of the water contact angle is not particularly limited because the smaller the effect, the more effective it can be set according to the formability of the hydrophilic part, the cost of the constituent material, and the like. it can.

このような親水性部を構成する材料としては、蓋部上から細胞培養部内の細胞を観察できる程度の透明性を有し、水膜を安定的に形成できる親水性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、所定の表面処理を施したポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートおよびポリカーボネート等の樹脂材料やガラス等、さらには、酸化珪素等の無機材料、自己組織化単分子膜の配向基をヒドロキシル基に置換したもの等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、所定の表面処理を施したポリスチレンおよびポリエチレンテレフタレート等を好ましく用いることができる。このような材料を用いることにより、親水性の高い親水性部を容易に形成することができるからである。
なお、樹脂材料に施される所定の表面処理としては、具体的には、界面活性剤等の防曇剤の塗布や、プラズマ、コロナ、マイクロウェーブ、電子線および紫外線等の照射等を挙げることができる。
なお、このような所定の表面処理が施された樹脂材料としては、具体的には、ポリスチレンからなるシートに防曇剤が施されたポリスチレンシート(サンディック株式会社製サンディックシート)を挙げることができる。
As a material constituting such a hydrophilic portion, any material may be used as long as it has a transparency that allows the cells in the cell culture portion to be observed from above the lid portion and has a hydrophilic property that can stably form a water film. Although not limited, for example, resin materials such as polystyrene, polyethylene terephthalate, and polycarbonate subjected to a predetermined surface treatment, glass, and the like, furthermore, inorganic materials such as silicon oxide, orientation groups of self-assembled monolayers In which is substituted with a hydroxyl group.
In the present invention, among them, polystyrene and polyethylene terephthalate subjected to a predetermined surface treatment can be preferably used. This is because by using such a material, a hydrophilic portion having high hydrophilicity can be easily formed.
Specific examples of the surface treatment applied to the resin material include application of an antifogging agent such as a surfactant, irradiation with plasma, corona, microwave, electron beam, ultraviolet light, and the like. Can do.
Specific examples of the resin material subjected to such a predetermined surface treatment include a polystyrene sheet (Sandick sheet manufactured by Sandic Corporation) in which an antifogging agent is applied to a sheet made of polystyrene. Can do.

ここで、上記材料が酸化珪素である場合、すなわち、親水性部が酸化珪素膜である場合、酸化珪素膜に含まれる酸素原子の割合としては、Si原子数100に対して150〜300、中でも180〜250の範囲内であることが好ましい。   Here, when the material is silicon oxide, that is, when the hydrophilic portion is a silicon oxide film, the ratio of oxygen atoms contained in the silicon oxide film is 150 to 300, more particularly, 100 to 100 Si atoms. It is preferable to be within the range of 180 to 250.

また、酸化珪素膜に含まれる炭素原子の割合が、Si原子数100に対して50以下、中でも20以下の範囲内であることが好ましい。   Further, the ratio of carbon atoms contained in the silicon oxide film is preferably 50 or less, more preferably 20 or less, with respect to 100 Si atoms.

酸化珪素膜における酸素原子の割合が上記範囲内であることにより、酸化珪素膜を、例えば炭素原子やフッ素原子等の不純物が少ない純度の高い酸化珪素膜とすることが可能となる。また、酸化珪素膜中において疎水性を示す炭素原子の割合が上記範囲内であることにより、より高い親水性の酸化珪素膜とすることが可能となるからである。   When the ratio of oxygen atoms in the silicon oxide film is within the above range, the silicon oxide film can be a high-purity silicon oxide film with few impurities such as carbon atoms and fluorine atoms. Further, when the ratio of carbon atoms exhibiting hydrophobicity in the silicon oxide film is within the above range, a higher hydrophilic silicon oxide film can be obtained.

ここで、本発明における酸化珪素膜における成分割合は、XPS(X−ray Photoelectron Spectroscopy)で測定された値である。XPSによる分析法を以下説明する。真空中で固体表面にX線を照射すると、X線によりエネルギ−を与えられた表面原子から電子が飛散する。この電子は、X線などの光照射によって発生するため光電子と呼ばれ、この光電子は、元素固有のエネルギーを有することから、エネルギ−分布を測定することにより元素の定性分析や定量分析が可能となる。また、表面から深いところで発生した光電子は、表面に出てくる前にそのエネルギーを失うため測定が困難であり、1000eVの運動エネルギーを有する電子の脱出深さは、数nm(数十原子層)であることから、最表面の情報を得ることが可能となる。さらに、深部を測定するためには、表面をアルゴン等のイオンによりスパッタリングする必要があり、元素の種類により選択的なスパッタリングが生じるので、定量の際には補正が必要となる。   Here, the component ratio in the silicon oxide film in the present invention is a value measured by XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy). The analysis method by XPS will be described below. When a solid surface is irradiated with X-rays in a vacuum, electrons are scattered from the surface atoms given energy by the X-rays. Since these electrons are generated by irradiation with light such as X-rays, they are called photoelectrons. Since these photoelectrons have energy inherent to the elements, it is possible to perform qualitative analysis and quantitative analysis of elements by measuring the energy distribution. Become. In addition, photoelectrons generated deep from the surface lose their energy before coming out to the surface and are difficult to measure. The escape depth of electrons having a kinetic energy of 1000 eV is several nm (tens of atomic layers). Therefore, it is possible to obtain information on the outermost surface. Furthermore, in order to measure the deep part, the surface needs to be sputtered with ions such as argon, and selective sputtering occurs depending on the type of element, so correction is required for quantification.

また、上記材料が自己組織化単分子膜の配向基をヒドロキシル基に置換したものである場合における自己組織化単分子膜とは、固体/液体もしくは固体/気体界面で、有機分子同士が自発的に集合し、会合体を形成しながら自発的に単分子膜を形作ってなる有機薄膜である。例として、ある特定の材料でできた基板を、その基板材料と化学的親和性の高い有機分子の溶液または蒸気に曝すと、有機分子は基板表面で化学反応し吸着する。その有機分子が、化学的親和性の高い官能基と、基板との化学反応を全く起こさないアルキル基との2つのパートからなり、親和性の高い官能基がその末端にある場合、分子は反応性末端である化学的親和性の高い官能基が基板側を向き、アルキル基が外側を向いて吸着する。アルキル基同士が集合すると、全体として安定になるため、化学吸着の過程で有機分子同士は自発的に集合する。分子の吸着には、基板と末端官能基との間で化学反応が起こることが必要であることから、一旦基板表面が有機分子でおおわれ単分子膜ができあがると、それ以降は分子の吸着は起こらない。その結果、分子が密に集合し、配向性の揃った有機単分子膜ができる。このような膜を本発明においては、自己組織化単分子膜とする。ここで、上記の基板と結合する反応性末端基を吸着基、外側を向いて配向する基を配向基とする。
したがって、本発明における自己組織化単分子膜の配向基をヒドロキシル基に置換したものとは、上記自己組織化単分子膜が形成された後に、上記配向基がヒドロキシル基に置換されたものである。
なお、配向基をヒドロキシル基に置換する方法としては、反応性雰囲気下における高エネルギー照射する方法が挙げられる。なかでも、酸素ガスを含む雰囲気下におけるプラズマ照射、あるいは酸素含有雰囲気下における紫外線照射する方法が望ましい。
In addition, the self-assembled monomolecular film in the case where the above-described material is obtained by replacing the orientation group of the self-assembled monomolecular film with a hydroxyl group is a solid / liquid or solid / gas interface, and organic molecules spontaneously It is an organic thin film that spontaneously forms a monomolecular film while gathering together to form an aggregate. For example, when a substrate made of a specific material is exposed to a solution or vapor of an organic molecule having a high chemical affinity with the substrate material, the organic molecule chemically reacts and adsorbs on the substrate surface. If the organic molecule consists of two parts, a functional group with high chemical affinity and an alkyl group that does not cause any chemical reaction with the substrate, the molecule reacts when the functional group with high affinity is at its end. The functional group having a high chemical affinity at the sex end faces the substrate side and the alkyl group is adsorbed outward. When alkyl groups gather together, the whole becomes stable, so organic molecules gather spontaneously during the process of chemisorption. Since molecular adsorption requires a chemical reaction between the substrate and the terminal functional group, once the surface of the substrate is covered with organic molecules to form a monomolecular film, molecular adsorption does not occur thereafter. Absent. As a result, an organic monomolecular film in which molecules are densely gathered and aligned is formed. In the present invention, such a film is a self-assembled monolayer. Here, the reactive terminal group bonded to the substrate is an adsorbing group, and the group oriented to the outside is an aligning group.
Accordingly, the substitution of the orientation group of the self-assembled monolayer in the present invention with a hydroxyl group means that the orientation group is substituted with a hydroxyl group after the formation of the self-assembled monolayer. .
In addition, as a method of substituting the orientation group with a hydroxyl group, a method of irradiating with high energy in a reactive atmosphere can be mentioned. In particular, a method of plasma irradiation in an atmosphere containing oxygen gas or ultraviolet irradiation in an oxygen-containing atmosphere is desirable.

ここで、上記自己組織化単分子膜は、下記の一般式(1)で示される自己組織化単分子膜形成物質を原料として形成されたものであることが好ましい。   Here, the self-assembled monolayer is preferably formed using a self-assembled monolayer forming material represented by the following general formula (1) as a raw material.

αXR β (1) R 1 α XR 2 β (1)

ここで、Rは、炭素数1〜30までのアルキル基あるいはアリール基(ベンゼン環)であり、炭素基は部分的に分岐鎖や多重結合を有するものも含まれる。また、炭素に結合する元素としてはフッ素や塩素等のハロゲン、水素あるいは窒素等も含まれる。また、Rは、ハロゲン、または−OR(Rは、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、またはアリル基である。なお、炭素が酸素や水素だけでなく、ハロゲンや窒素と結合しているものも含まれる。)で示される置換基である。また、Xは、Si、Ti、Al、CおよびSからなる群から選択される一つの元素である。ここで、αおよびβは1以上の整数であり、α+βは2から4である。 Here, R 1 is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group (benzene ring), and the carbon group includes those partially having a branched chain or multiple bonds. In addition, examples of the element bonded to carbon include halogen such as fluorine and chlorine, hydrogen, nitrogen, and the like. R 2 is halogen, or —OR 3 (R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or an allyl group. Note that carbon is not only oxygen or hydrogen, but also halogen and nitrogen. A bonded group is also included). X is one element selected from the group consisting of Si, Ti, Al, C and S. Here, α and β are integers of 1 or more, and α + β is 2 to 4.

ここで、Rは上述の配向基、Rは上述の吸着基、Xは自己組織化単分子膜の核となる物質である。上記構造の物質が自己組織化単分子膜を形成するのである。 Here, R 1 is the above-mentioned orientation group, R 2 is the above-mentioned adsorption group, and X is a substance that becomes the nucleus of the self-assembled monolayer. The substance having the above structure forms a self-assembled monolayer.

上記に示した自己組織化単分子膜形成物質の具体的な例として、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、オクタデシルメチルジエトキシシラン、オクタデシルジメチルメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシラン、オクタデシルメトキシジクロロシラン、オクタデシルメチルジクロロシラン、オクタデシルジメチル(ジメチルアミノ)シラン、オクタデシルジメチルクロロシラン、ノニルクロロシラン、オクテニルトリクロロシラン、オクテニルトリメトキシシラン、オクチルメチルジクロロシラン、オクチルメチルジエトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリクロロシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、フェネチルトリクロロシラン、フェネチルトリメトキシシラン、フェニルジクロロシラン、フェニルジエトキシシラン、フェニルエチルジクロロシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリクロロシラン、テトラデシルトリクロロシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメチルクロロシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリエトキシシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、イソオクチルトリメトキシシラン、イソブチルメチルジクロロシラン、イソブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキセニルトリクロロシラン、ヘキシルジクロロシラン、ヘキサデシルトリクロロシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリクロロシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリクロロシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)メチルジクロロシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)ジメチルクロロシラン、エイコシルトリクロロシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリクロロシラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ドデシルジメチルクロロシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、デシルメチルジクロロシラン、デシルトリクロロシラン、デシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルジメチルクロロシラン、シクロヘキシルメチルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリクロロシラン、クロロフェニルトリクロロシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリクロロシラン等を挙げることができる。   Specific examples of the self-assembled monolayer forming material shown above include octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, octadecylmethyldiethoxysilane, octadecyldimethylmethoxysilane, octadecylmethyldimethoxysilane, octadecyl Methoxydichlorosilane, octadecylmethyldichlorosilane, octadecyldimethyl (dimethylamino) silane, octadecyldimethylchlorosilane, nonylchlorosilane, octenyltrichlorosilane, octenyltrimethoxysilane, octylmethyldichlorosilane, octylmethyldiethoxysilane, octyltrichlorosilane, Octyltriethoxysilane, Octyltrimethoxysilane, Pentafluorophenylpropyltri Lolosilane, pentafluorophenylpropyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, pentyltrichlorosilane, phenethyltrichlorosilane, phenethyltrimethoxysilane, phenyldichlorosilane, phenyldiethoxysilane, phenylethyldichlorosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane , Phenyltrichlorosilane, phenyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltrichlorosilane, tetradecyltrichlorosilane, (3,3,3-trifluoropropyl) dimethylchlorosilane, (3,3,3- (Trifluoropropyl) trichlorosilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, (3,3,3-toe) Fluoropropyl) triethoxysilane, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexylmethyldichlorosilane, 3,3,4,4,5,5,6,6,6- Nonafluorohexyltrichlorosilane, isooctyltrimethoxysilane, isobutylmethyldichlorosilane, isobutyltriethoxysilane, isobutyltrichlorosilane, hexyltrichlorosilane, hexyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexenyltrichlorosilane, hexyldichlorosilane, hexadecyl Trichlorosilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, heptyltrichlorosilane, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane, (heptadecafluoro- 1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) methyldichlorosilane, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) Dimethylchlorosilane, eicosyltrichlorosilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, dodecyltrichlorosilane, dodecylmethyldichlorosilane, dodecyldimethylchlorosilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethoxy Methyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, decylmethyldichlorosilane, decyltrichlorosilane, decyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyldimethyl L-chlorosilane, cyclohexylmethyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrichlorosilane, chlorophenyltrichlorosilane, butyltrimethoxy Examples thereof include silane and butyltrichlorosilane.

本発明においては、中でもオクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ノニルクロロシラン、オクテニルトリクロロシラン、オクテニルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリクロロシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、フェネチルトリクロロシラン、フェネチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリクロロシラン、テトラデシルトリクロロシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリエトキシシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、イソオクチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキセニルトリクロロシラン、ヘキサデシルトリクロロシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリクロロシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリクロロシラン、エイコシルトリクロロシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリクロロシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、デシルトリクロロシラン、デシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルジメチルクロロシラン、シクロヘキシルメチルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリクロロシラン、クロロフェニルトリクロロシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリクロロシランが好ましく、特にオクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシランが好ましい。   In the present invention, among them, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, nonylchlorosilane, octenyltrichlorosilane, octenyltrimethoxysilane, octyltrichlorosilane, octyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, pentafluoro Phenylpropyltrichlorosilane, pentafluorophenylpropyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, pentyltrichlorosilane, phenethyltrichlorosilane, phenethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltri Methoxysilane, propyltrichlorosilane, tetradecylto Chlorosilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trichlorosilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) triethoxysilane, 3,3, 4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyltrichlorosilane, isooctyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, isobutyltrichlorosilane, hexyltrichlorosilane, hexyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexenyl Trichlorosilane, hexadecyltrichlorosilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, heptyltrichlorosilane, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane, (heptadeca (Luoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane, eicosyltrichlorosilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, dodecyltrichlorosilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, decyl Trichlorosilane, decyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyldimethylchlorosilane, cyclohexylmethyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrichlorosilane, chlorophenyl Trichlorosilane, butyltrimethoxysilane, and butyltrichlorosilane are preferred, especially octadecyltrimethoxysilane and octadecyltriethoxy. Sisilane, octadecyltrichlorosilane, octyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, (heptadecafluoro-1,1, 2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane are preferred.

本発明における親水性部の厚みとしては、所望の親水性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではなく、材料等に応じて適宜設定することができ、例えば、1nm〜1mm程度とすることができる。より具体的には、親水性部を構成する材料が酸化珪素等の無機材料や、自己組織化単分子膜の配向基をヒドロキシル基に置換したもの等である場合には、1nm〜150nmの範囲内であることが好ましく、なかでも1nm〜100nmであることが好ましく、特に1nm〜50nmの範囲内であることが好ましい。親水性部を安定的に形成することができるからである。また、親水性部が、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等の樹脂材料からなるシートを蓋基材に貼り付けることにより形成されるものである場合には、100μm〜1mm程度であることが好ましい。貼り付けが容易だからである。   The thickness of the hydrophilic portion in the present invention is not particularly limited as long as desired hydrophilicity can be exhibited, and can be appropriately set depending on the material and the like, for example, 1 nm to 1 mm. Can be about. More specifically, when the material constituting the hydrophilic portion is an inorganic material such as silicon oxide or a material in which the orientation group of the self-assembled monolayer is substituted with a hydroxyl group, the range of 1 nm to 150 nm. In particular, it is preferably 1 nm to 100 nm, and particularly preferably in the range of 1 nm to 50 nm. This is because the hydrophilic portion can be formed stably. Moreover, when a hydrophilic part is formed by affixing the sheet | seat which consists of resin materials, such as a polystyrene, a polyethylene terephthalate, a polycarbonate, to a cover base material, it is preferable that it is about 100 micrometers-1 mm. This is because pasting is easy.

本発明における親水性部の形成方法としては、所望の親水性を有する親水性部を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、蓋基材上に上記材料を含む塗工液を塗布し、乾燥させることで親水性部を形成する方法や、親水性部を形成した後、蓋基材上に貼り付ける方法等を用いることができる。
また、上記材料が酸化珪素等の無機材料の場合には蒸着法等を用いる方法であっても良い。
The method for forming the hydrophilic portion in the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of stably forming a hydrophilic portion having a desired hydrophilicity. A method of forming a hydrophilic part by applying and drying a coating liquid containing the coating liquid, a method of attaching the hydrophilic part to a lid substrate, and the like can be used.
Further, when the material is an inorganic material such as silicon oxide, a method using a vapor deposition method or the like may be used.

(b)微細凹凸部
本発明における微細凹凸部は、表面の微細凹凸により付着した水が膜状となるものである。
このような微細凹凸部の微細凹凸としては、水膜を形成することができ、さらに水膜が形成された場合であっても透明性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、算術平均粗さRaが5nm〜200nmの範囲内であることが好ましく、なかでも5nm〜100nmの範囲内であることが好ましく、特に5nm〜50nmの範囲内であることが好ましい。上記微細凹凸の表面粗さが上述の範囲内であることにより、水膜を安定的に形成することができるからである。
なお、算術平均粗さRaは、JISB 0601で規定されるものである。
より具体的には、表面粗さは、原子間力顕微鏡(セイコーインスツルメンツ社製;SPI3800N)を用いて、タッピングモードで測定して得ることができる。
(B) Fine uneven part The fine uneven part in this invention becomes a film | membrane form of the water adhering by the fine unevenness | corrugation of the surface.
The fine irregularities of such fine irregularities are not particularly limited as long as a water film can be formed, and even if a water film is formed, it has transparency. For example, the arithmetic average roughness Ra is preferably in the range of 5 nm to 200 nm, more preferably in the range of 5 nm to 100 nm, and particularly preferably in the range of 5 nm to 50 nm. This is because the water film can be stably formed when the surface roughness of the fine irregularities is within the above range.
The arithmetic average roughness Ra is defined by JISB 0601.
More specifically, the surface roughness can be obtained by measuring in a tapping mode using an atomic force microscope (manufactured by Seiko Instruments Inc .; SPI3800N).

本発明における微細凹凸部を構成する材料としては、透明性を有し、表面に所望の微細凹凸を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、反応性雰囲気下で、高エネルギーを照射されることにより、表面に微細凹凸が形成される材料であることが好ましく、中でもプラズマ照射、または紫外光照射されることにより、表面に微細凹凸が形成される材料であることが好ましい。これにより、微細凹凸を、プラズマ照射や紫外光照射により得ることが可能となり、製造効率やコストの面からも好ましいからである。   The material constituting the fine irregularities in the present invention is not particularly limited as long as it has transparency and can form desired fine irregularities on the surface. However, high energy is applied in a reactive atmosphere. It is preferable that the material is formed with fine irregularities on the surface by irradiation, and in particular, a material capable of forming fine irregularities on the surface by irradiation with plasma or ultraviolet light is preferable. This is because fine irregularities can be obtained by plasma irradiation or ultraviolet light irradiation, which is preferable in terms of manufacturing efficiency and cost.

このような材料としては、例えば、エチレン、ポリプロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体または共重合体等のポリオレフィン(PO)系樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン系樹脂(APO)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン2,6−ナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド系(PA)系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド(PI)系樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)系樹脂、ポリサルホン(PS)系樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)系樹脂、ポリカーボネート(PC)系樹脂、ポリビニルブチラート(PVB)系樹脂、ポリアリレート(PAR)系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、三フッ化塩化エチレン(PFA)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(FEP)、フッ化ビニリデン(PVDF)、フッ化ビニル(PVF)、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテル−共重合体(EPA)等のフッ素系樹脂等の樹脂材料を用いることができる。   Examples of such materials include polyolefin (PO) resins such as homopolymers or copolymers or copolymers such as ethylene, polypropylene, and butene, amorphous polyolefin resins (APO) such as cyclic polyolefins, Polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene 2,6-naphthalate (PEN), polyamide (PA) resins such as nylon 6, nylon 12, copolymer nylon, polyvinyl alcohol (PVA) resin, ethylene-vinyl Polyvinyl alcohol resins such as alcohol copolymers (EVOH), polyimide (PI) resins, polyetherimide (PEI) resins, polysulfone (PS) resins, polyethersulfone (PES) resins, polyether ethers Ketone (PEEK) resin Carbonate (PC) resin, polyvinyl butyrate (PVB) resin, polyarylate (PAR) resin, polystyrene resin, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene trifluoride chloride (PFA), Tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (FEP), vinylidene fluoride (PVDF), vinyl fluoride (PVF), perfluoroethylene-perfluoropropylene-perfluorovinyl ether-copolymer (EPA), etc. A resin material such as a fluorine-based resin can be used.

また、上記に挙げた樹脂材料以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂およびこれらの混合物等を用いることも可能である。さらに、これらの樹脂の1または2種以上をラミネート、コーティング等の手段によって積層させたものを基材として用いることも可能である。さらに、ガラスやシリコンウエハーのような固体表面にこれらの樹脂をコーティングした基材でも良く、ガラスやシリコン等の無機材料を用いても良い。さらに、上述のような親水性部を構成する材料を用いるものであっても良い。   In addition to the resin materials listed above, a resin composition comprising an acrylate compound having a radical-reactive unsaturated compound, a resin composition comprising the acrylate compound and a mercapto compound having a thiol group, epoxy acrylate, urethane acrylate It is also possible to use a photocurable resin such as a resin composition in which an oligomer such as polyester acrylate or polyether acrylate is dissolved in a polyfunctional acrylate monomer, and a mixture thereof. Furthermore, it is also possible to use what laminated | stacked 1 or 2 or more types of these resin by means, such as a lamination and a coating, as a base material. Furthermore, a base material obtained by coating these resins on a solid surface such as glass or a silicon wafer may be used, or an inorganic material such as glass or silicon may be used. Further, a material constituting the hydrophilic portion as described above may be used.

本発明においては、なかでも、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂またはポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、ポリエステル系樹脂の中でも特にポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートであることが好ましい。上記材料が、これらの物質であることにより、表面の微細凹凸の形成が容易であり、加工が容易となるからである。   In the present invention, among them, a polyester resin, a polystyrene resin or a polycarbonate resin is preferable. Among polyester resins, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable. This is because, when the material is any of these substances, it is easy to form fine irregularities on the surface, and processing is facilitated.

本発明においては、上記材料が樹脂材料である場合には、上記微細凹凸部が未延伸なものでも良いが、中でも延伸されたものであること、すなわち、上記材料からなる層(以下、微細凹凸部形成用層とする場合がある。)が延伸されたものに微細凹凸を形成してなるものであることが好ましい。微細凹凸部形成用層が延伸されることで、規則的な配向が可能となり、表面全体に微細凹凸が規則的に形成されやすく、その微細凹凸により水膜をより安定的に形成できるものとすることが可能となるからである。なお、未延伸の場合にも、ランダムな微細凹凸が形成されるため、水膜を安定的に形成できるものとすることが可能となる。   In the present invention, when the material is a resin material, the fine uneven portion may be unstretched, but is particularly stretched, that is, a layer made of the material (hereinafter referred to as fine unevenness). It may be a part forming layer.) Is preferably formed by forming fine irregularities on the stretched layer. By stretching the layer for forming fine irregularities, regular orientation becomes possible, and fine irregularities are easily formed regularly on the entire surface, and the water film can be more stably formed by the fine irregularities. Because it becomes possible. In addition, even when unstretched, random fine irregularities are formed, so that a water film can be stably formed.

具体的な延伸の方法としては、未延伸の微細凹凸部形成用層を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、微細凹凸部形成用層の流れ(縦軸)方向、または微細凹凸部形成用層の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することができる。この場合の延伸倍率は、微細凹凸部形成用層の原料となる材料に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   As a specific stretching method, a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, and the like for an unstretched fine uneven portion forming layer, The film can be stretched in the flow (vertical axis) direction of the fine uneven portion forming layer or in the direction perpendicular to the flow direction (horizontal axis) of the fine uneven portion forming layer. The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the material used as the raw material for the fine uneven portion forming layer, but is preferably 2 to 10 times in each of the vertical axis direction and the horizontal axis direction.

本発明における微細凹凸部の形成方法としては、所望のサイズの微細凹凸を有する微細凹凸部を精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、蓋基材上に微細凹凸を形成する前の微細凹凸部形成用層を形成した後、微細凹凸を形成する方法や、微細凹凸部を形成した後、蓋基材上に貼り付ける方法等を用いることができる。
なお、微細凹凸部形成用層の形成方法については親水性部の形成方法と同様とすることができる。
The method for forming fine irregularities in the present invention is not particularly limited as long as the method can accurately form fine irregularities having fine irregularities of a desired size. For example, fine irregularities are formed on a lid substrate. A method for forming fine irregularities after forming the layer for forming fine irregularities before forming, a method for attaching the fine irregularities to the substrate after forming the fine irregularities, and the like can be used.
In addition, about the formation method of the fine uneven | corrugated | grooved part formation layer, it can be made to be the same as that of the formation method of a hydrophilic part.

本発明における微細凹凸の形成方法として、上記材料からなる微細凹凸部形成用層表面に所望のサイズの微細凹凸を形成することが可能な方法であれば、特に限定されるものではなく、例えばレジスト等に微小孔を形成し現像する等の溶液処理等を用いることも可能であるが、本発明においては、反応性雰囲気下で高エネルギーを照射することが好ましい。これにより、反応性雰囲気中のガスが励起されて高エネルギー状態となり、上記微細凹凸部形成用層表面の特定部位と反応することにより、上記微細凹凸部形成用層表面上に微細な凹凸を容易に形成することが可能となるからである。   The method for forming fine irregularities in the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of forming fine irregularities of a desired size on the surface of the layer for forming fine irregularities made of the above materials. It is also possible to use solution processing such as forming micropores in the development and the like, but in the present invention, it is preferable to irradiate high energy in a reactive atmosphere. As a result, the gas in the reactive atmosphere is excited to be in a high energy state and reacts with a specific portion of the surface of the fine uneven portion forming layer, thereby easily making fine unevenness on the surface of the fine uneven portion forming layer surface. It is because it becomes possible to form in this.

ここで、本発明における反応性雰囲気とは、上記高エネルギーの照射により活性化される物質を含有する雰囲気であり、上記高エネルギーの照射の方法により、異なるものであるが、具体的には、O、NO、NO、NO、CO、CO、H、He、N、Ar等のガスの雰囲気を挙げることができ、中でも酸素原子を含んだガスであることが好ましい。 Here, the reactive atmosphere in the present invention is an atmosphere containing a substance that is activated by the high-energy irradiation, and differs depending on the method of high-energy irradiation. An atmosphere of a gas such as O 2 , N 2 O, NO, NO 2 , CO 2 , CO, H 2 , He, N 2 , Ar, and the like can be given, and among them, a gas containing an oxygen atom is preferable.

また、高エネルギーの照射の方法として、具体的には、プラズマ照射や、イオン照射、ラジカル照射、光照射等が挙げられ、中でもプラズマ照射および紫外光照射であることが好ましい。   Specific examples of the high energy irradiation method include plasma irradiation, ion irradiation, radical irradiation, light irradiation, and the like. Among these, plasma irradiation and ultraviolet light irradiation are preferable.

本発明における上記微細凹凸を形成する方法としては、上記の中でも酸素原子を含んだガスを用い、プラズマを照射するプラズマ処理、または酸素含有雰囲気下で真空紫外光を照射するドライ処理を用いることが好ましい。これにより、上記微細凹凸部形成用層表面に微細凹凸を形成するのと同時に、上記微細凹凸部形成用層表面に親水基を導入することが可能であり、水膜の形成安定性をより向上させることができるからである。   As the method for forming the fine unevenness in the present invention, among the above, a plasma treatment using a gas containing oxygen atoms and irradiating plasma or a dry treatment irradiating vacuum ultraviolet light in an oxygen-containing atmosphere is used. preferable. As a result, it is possible to introduce a hydrophilic group to the surface of the fine uneven portion forming layer at the same time as forming the fine uneven portion on the surface of the fine uneven portion forming layer, thereby further improving the formation stability of the water film. It is because it can be made.

(2)水遮断部
本発明における水遮断部は、上記水膜形成部を囲うように形成され、かつ、上記側壁の上面と平面視上重なるように形成されるものであり、水膜形成部に付着した水が、本発明の細胞培養容器の外部に移動することを防ぐ部位である。
ここで、上記側壁の上面と平面視上重なるとは、実質的に側壁の上面の全てを覆うことを示すものであり、本発明の効果を阻害しない範囲で上面の一部が被覆されない場合も含むものである。本発明においては、側壁の上面の面積の90%以上が覆われることが好ましく、なかでも、95%以上が覆われることが好ましく、特に100%、すなわち、全てが覆われることが好ましい。
したがって、通常は、図8に示すように、少なくともA領域の全てを覆うように水遮断部が形成されることになる。
なお、図8中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
(2) Water blocking part The water blocking part in the present invention is formed so as to surround the water film forming part and is formed so as to overlap the upper surface of the side wall in plan view. It is a site | part which prevents the water adhering to moving to the exterior of the cell culture container of this invention.
Here, overlapping with the upper surface of the side wall in plan view means to cover substantially all of the upper surface of the side wall, and there is a case where a part of the upper surface is not covered within a range not hindering the effect of the present invention. Is included. In the present invention, it is preferable that 90% or more of the area of the upper surface of the side wall is covered, and it is preferable that 95% or more is covered, particularly 100%, that is, all are preferably covered.
Therefore, normally, as shown in FIG. 8, a water blocking part is formed so as to cover at least all of the A region.
In addition, about the code | symbol in FIG. 8, since it shows the same member as the thing in FIG. 1, description here is abbreviate | omitted.

本発明における水遮断部の形成個所としては、上記水膜形成部を囲うように形成され、かつ、上記側壁の上面と平面視上重なるように形成されるものであれば特に限定されるものではなく、水膜形成部と隣接していても、隣接していなくても良いが、図9に例示するように側壁の上面と連続して形成された部位と平面視上重なる箇所を含むものであることが好ましく、なかでも、開口部以外の部位の全てと平面視上重なる箇所を含むものであることが好ましく、特に、開口部の一部と平面視上重なる箇所を含むものであることが好ましく、なかでも特に、水膜形成部が形成される領域以外の全ての内面であることが好ましい。上記形成個所に水遮断部が形成されることにより、より安定的に水の移動を防止することができるからである。
なお、図9中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
In the present invention, the water blocking portion is not particularly limited as long as it is formed so as to surround the water film forming portion and overlap with the upper surface of the side wall in plan view. However, it may or may not be adjacent to the water film forming part, but as shown in FIG. 9, it includes a portion that overlaps with the portion formed continuously with the upper surface of the side wall in plan view. In particular, it is preferable to include a portion overlapping in plan view with all of the portions other than the opening, particularly preferably including a portion overlapping in plan view with a part of the opening. It is preferable to be all inner surfaces other than the region where the water film forming portion is formed. This is because the water blocking portion is formed at the above-mentioned formation place, thereby preventing water from moving more stably.
Note that the reference numerals in FIG. 9 indicate the same members as those in FIG. 1, and thus the description thereof is omitted here.

このような水遮断部としては、安定的に水の移動を防ぐことができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、疎水性部、水吸収部、段差部等を含むものを挙げることができる。   Such a water blocking part is not particularly limited as long as it can stably prevent the movement of water. For example, the water blocking part includes a hydrophobic part, a water absorbing part, a step part, and the like. Can be mentioned.

(a)疎水性部
本発明における疎水性部は、疎水性を有することにより、水膜形成部に付着した結露水の細胞培養容器の外部への移動を防止するものである。
本発明においては、なかでも、表面の水接触角が、60°以上であることが好ましく、特に、80°以上であることが好ましい。上記水接触角であることにより、水の移動を安定的に防止することができるからである。
なお、上記水接触角の上限については、大きい程効果を発揮することができるため特に限定されるものではなく、このような疎水性部の形成性や構成する材料のコスト等に応じて適宜設定することができる。
(A) Hydrophobic part The hydrophobic part in the present invention has hydrophobicity to prevent the dew condensation adhering to the water film forming part from moving outside the cell culture container.
In the present invention, the water contact angle on the surface is preferably 60 ° or more, and particularly preferably 80 ° or more. This is because the water contact angle can prevent the movement of water stably.
The upper limit of the water contact angle is not particularly limited because the effect can be exhibited as the value increases, and the upper limit of the water contact angle is set as appropriate depending on the formability of the hydrophobic portion, the cost of the constituent material, and the like. can do.

本発明における疎水性部を構成する材料としては、水の移動を安定的に防止できる疎水性を有するものであれば特に限定されるものではなく、透明であっても良く、不透明であっても良いが、後述するような蓋基材を構成する材料を用いることができる。すなわち、一般的な細胞培養容器における蓋部の露出した部位を疎水性部として用いることができる。具体的には、上記細胞培養部を構成する材料と同様とすることができる。   The material constituting the hydrophobic part in the present invention is not particularly limited as long as it has hydrophobicity that can stably prevent water movement, and may be transparent or opaque. Although it is good, the material which comprises a lid | cover base material which is mentioned later can be used. That is, the exposed part of the lid in a general cell culture container can be used as the hydrophobic part. Specifically, it can be the same as the material constituting the cell culture section.

本発明における疎水性部の厚みとしては、所望の疎水性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記親水性部と同様とすることができる。   The thickness of the hydrophobic portion in the present invention is not particularly limited as long as the hydrophobic portion can exhibit a desired hydrophobicity. For example, it can be the same as the hydrophilic portion.

本発明における疎水性部の形成方法としては、所望の疎水性を有する疎水性部を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、上記親水性部と同様の方法を用いることができる。   The method for forming the hydrophobic portion in the present invention is not particularly limited as long as it can stably form a hydrophobic portion having a desired hydrophobicity, but the same method as that for the hydrophilic portion is used. be able to.

(b)水吸収部
本発明における水吸収部は、水膜形成部から移動してきた水を吸収することにより、水膜形成部に付着した結露水の細胞培養容器の外部への移動を防止するものである。
このような水吸収部としては、吸水性を有するものであれば特に限定されるものではないが、1m当たりの吸水量(g/m)が1〜60の範囲内となるものであることが好ましく、なかでも、5〜30の範囲内となるものであることが好ましい。上記吸水性を有することにより、安定的に水の移動を防止することができるからである。
なお、吸水量は、デシケーターにより乾燥した、絶乾状態の質量を測定した後、4℃の水中で1時間浸漬した後の質量を測定することにより求めるものである。
(B) Water absorption part The water absorption part in this invention prevents the movement to the exterior of the cell culture container of the condensed water adhering to a water film formation part by absorbing the water which has moved from the water film formation part. Is.
Such a water-absorbing part is not particularly limited as long as it has water absorption, but the water absorption per 1 m 3 (g / m 3 ) is in the range of 1-60. Among them, it is preferable that it is in the range of 5-30. This is because the water absorption can be stably prevented by having the water absorption property.
The amount of water absorption is determined by measuring the mass after being dried in a desiccator and measuring the mass after being immersed in water at 4 ° C. for 1 hour.

本発明における水吸収部を構成する材料としては、所望量の水を吸収することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等のゲルや、ポリウレタン等の多孔質、ポリエステル等の繊維材料等を挙げることができる。
本発明においては、なかでも、ポリアクリル酸ナトリウムであることが好ましい。上記材料であることにより、吸水性に優れた水吸収部を容易に形成することができるからである。
The material constituting the water absorbing portion in the present invention is not particularly limited as long as it can absorb a desired amount of water, for example, a gel such as sodium polyacrylate, polyethylene glycol, Examples thereof include porous materials such as polyurethane, and fiber materials such as polyester.
In the present invention, sodium polyacrylate is particularly preferable. This is because a water-absorbing portion having excellent water absorption can be easily formed by using the above material.

本発明における水吸収部の厚みとしては、所望の吸水性を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、上記親水性部と同様とすることができる。   The thickness of the water-absorbing part in the present invention is not particularly limited as long as the water-absorbing part can exhibit a desired water absorption property. For example, it can be the same as the hydrophilic part.

本発明における吸水性部の形成方法としては、所望の吸水性を有する吸水性部を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、上記親水性部と同様の方法を用いることができる。   The method for forming the water-absorbing part in the present invention is not particularly limited as long as it can stably form a water-absorbing part having a desired water-absorbing property, but the same method as the hydrophilic part is used. be able to.

(c)段差部
本発明における段差部は、水膜形成部から移動してきた水を段差によりせき止めることにより、水膜形成部に付着した結露水の細胞培養容器の外部への移動を防止するものである。
このような段差部としては、隣接する開口部側の部材と厚みが異なるものであれば特に限定されるものではないが、隣接する開口部側の部材との厚みの差が、5μm以上であることが好ましく、なかでも10μm以上であることが好ましい。上記厚みの差が上述の範囲内であることにより、水の外部への移動を安定的に防止することができるからである。
ここで、隣接する開口部側の部材と厚みが異なる具体例としては、水遮断部としての段差部が開口部側で水膜形成部と隣接する場合には水膜形成部の厚みと異なるものとなり、水膜形成部との間に疎水性部等の他の水遮断部が存在する場合には、他の水遮断部の厚みと異なるものであり、水膜形成部との間に水遮断部以外の他の中間部等が存在する場合には、その中間部の厚みと異なるものとなる。
なお、厚みの差の上限としては大きい程効果を発揮することができるため特に限定されるものではないが、上記段差部の形成性や、上記細胞培養部の表面までの距離等、本発明の細胞培養容器のサイズ等に応じて適宜設定することができる。
(C) Stepped portion In the present invention, the stepped portion prevents movement of condensed water adhering to the water film forming portion to the outside by blocking the water moved from the water film forming portion by the step. It is.
Such a stepped portion is not particularly limited as long as the thickness is different from that of the adjacent opening side member, but the difference in thickness between the adjacent opening side member is 5 μm or more. In particular, the thickness is preferably 10 μm or more. This is because the movement of water to the outside can be stably prevented when the difference in thickness is within the above range.
Here, as a specific example in which the thickness is different from the adjacent opening side member, when the stepped portion as the water blocking portion is adjacent to the water film forming portion on the opening side, the thickness is different from the thickness of the water film forming portion. When there is another water blocking part such as a hydrophobic part between the water film forming part and the water film forming part, the water blocking part is different from the thickness of the other water blocking part. If there is an intermediate part other than the part, the thickness of the intermediate part is different.
The upper limit of the difference in thickness is not particularly limited because the effect can be exerted as it is larger. However, the formability of the stepped portion, the distance to the surface of the cell culture portion, etc. It can be set as appropriate according to the size of the cell culture container.

また、厚みが異なるとは、上記段差部が、隣接する開口部側の部材より厚いものであっても良く、薄いものであっても良い。   The difference in thickness means that the stepped portion may be thicker or thinner than the adjacent opening side member.

本発明における段差部の形状としては、少なくとも、隣接する開口部側の部材との境界部分で、厚みが異なるものであれば特に限定されるものではないが、本発明においては、なかでも、厚みが一定の形状であることが好ましい。上記形状であることにより段差部の形成が容易だからである。   The shape of the stepped portion in the present invention is not particularly limited as long as the thickness is different at least at the boundary portion with the adjacent opening side member. Is preferably a fixed shape. This is because the step portion can be easily formed by the above shape.

本発明における段差部を構成する材料としては、所望の厚みで段差部を形成することができるものであれば特に限定されるものではなく、後述する蓋基材と同様の材料や、上記疎水性部や水吸収部を構成する材料と同様とすることができるが、なかでも、疎水性部を構成する材料であること、すなわち、段差部が疎水性部でもあることが好ましい。水の移動をより安定的に防止することができるからである。   The material constituting the stepped portion in the present invention is not particularly limited as long as the stepped portion can be formed with a desired thickness, and the same material as the lid base material described later, or the above hydrophobic property Although it can be the same as the material which comprises a part and a water absorption part, it is preferable that it is the material which comprises a hydrophobic part especially, ie, a level | step difference part is also a hydrophobic part. This is because the movement of water can be more stably prevented.

本発明における段差部の形成方法としては、所望の厚みの段差部を形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記親水性部と同様の方法を用いることができる。   The method for forming a stepped portion in the present invention is not particularly limited as long as it can form a stepped portion having a desired thickness. For example, a method similar to that for the hydrophilic portion can be used.

(d)水遮断部
本発明における水遮断部は、安定的に水の移動を防ぐことができるものであれば特に限定されるものではなく、1種類であっても良く、2種類以上を組み合わせたものであっても良い。例えば、上述した疎水性部、水吸収部または段差部のみからならものであっても良く、これらを組み合わせたもの、より具体的には、図10や図11に示すように、水遮断部12が、水膜形成部11に隣接して疎水性部21を形成し、疎水性部21を囲むように水吸収部22または段差部23を有するものや、図12に示すように、疎水性部21、段差部23および水吸収部22からなるものとすることができる。
なお、図10〜図12中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
(D) Water blocking unit The water blocking unit in the present invention is not particularly limited as long as it can stably prevent the movement of water, and may be one type or a combination of two or more types. It may be. For example, it may be composed of only the hydrophobic part, the water absorbing part or the step part as described above, or a combination thereof, more specifically, as shown in FIG. 10 or FIG. However, a hydrophobic part 21 is formed adjacent to the water film forming part 11 and has a water absorbing part 22 or a step part 23 so as to surround the hydrophobic part 21, or a hydrophobic part as shown in FIG. 21, a stepped portion 23, and a water absorbing portion 22.
10 to 12 indicate the same members as those in FIG. 1, and a description thereof will be omitted here.

(3)蓋部
本発明における蓋部は、細胞培養部を覆うものであり、内面に上記水膜形成部および水遮断部を有するものである。また、少なくとも観察時に、水膜形成部および水遮断部はそれぞれ上記細胞培養部の開口部および側壁の上面を覆うように形成されるものである。
本発明においては、蓋部が細胞培養部を覆った際に、平面視上、細胞培養部に対して移動し得るものである場合には、そのような移動が生じた場合であっても水膜形成部および水遮断部が上記所定の領域と平面視上重なることができるように形成されるものであることが好ましい。
(3) Lid part The lid part in this invention covers a cell culture part, and has the said water film formation part and water cutoff part in an inner surface. Further, at least during observation, the water film forming part and the water blocking part are formed so as to cover the opening of the cell culture part and the upper surface of the side wall, respectively.
In the present invention, when the lid portion covers the cell culture portion and can move with respect to the cell culture portion in a plan view, even if such movement occurs, It is preferable that the film forming portion and the water blocking portion are formed so as to overlap the predetermined region in plan view.

本発明における蓋部としては、上記水膜形成部および水遮断部からなるものであっても良く、蓋基材と、蓋基材の内面に水膜形成部および水遮断部が形成されたものであっても良い。
また、本発明における蓋部は、必要に応じて水膜形成部および水遮断部以外のその他の構成を有するものであっても良い。
The lid portion in the present invention may be composed of the water film forming portion and the water blocking portion, and the lid base material and the water film forming portion and the water blocking portion formed on the inner surface of the lid base material. It may be.
Moreover, the cover part in this invention may have other structures other than a water film formation part and a water interruption | blocking part as needed.

本発明において、蓋基材を構成する材料としては、透明性を有し、上記水膜形成部および水遮断部を安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な細胞培養容器における蓋部を構成する材料と同様とすることができる。具体的には、上記細胞培養部を構成する材料と同様とすることができる。
すなわち、一般的な細胞培養容器として市販されるシャーレやマルチウェルプレート等の蓋部を、蓋基材として用いることができる。
In the present invention, the material constituting the lid substrate is not particularly limited as long as it has transparency and can stably form the water film forming portion and the water blocking portion. It can be the same as the material which comprises the cover part in a cell culture container. Specifically, it can be the same as the material constituting the cell culture section.
That is, a lid such as a petri dish or a multiwell plate that is commercially available as a general cell culture container can be used as the lid base material.

本発明における蓋部の平面視形状としては、円形や、既に説明した図3に示すように多角形状等、一般的な細胞培養容器と同様とすることができる。
また、蓋部の断面視形状としては、既に説明した図1、図2に示すように、通常、上記細胞培養部の側面の一部を覆う蓋側面部を有するものである。
本発明においては、細胞培養部の外周部にねじ切加工がなされている場合、このような蓋側面部の内部表面にねじ切加工がなされたものであっても良い。
The shape of the lid in plan view in the present invention can be the same as that of a general cell culture container such as a circle or a polygon as shown in FIG.
Moreover, as a cross-sectional view shape of a cover part, as shown in FIG.1 and FIG.2 already demonstrated, it usually has a cover side part which covers a part of side surface of the said cell culture part.
In the present invention, when threading is performed on the outer peripheral portion of the cell culture portion, such inner surface of the lid side surface portion may be threaded.

3.細胞培養容器
本発明の細胞培養容器は、上記細胞培養部および蓋部を少なくとも有するものであり、るが、必要に応じて、その他の構成を有するものであっても良い。
このようなその他の構成としては、例えば、図13に例示するように、本発明の細胞培養容器が複数の細胞培養部を有する場合において、複数の細胞培養部を支持する皿部31を挙げることができる。
なお、図13中の符号については、図1中のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
3. Cell Culture Container The cell culture container of the present invention has at least the cell culture part and the lid part, and may have other structures as necessary.
As such other configurations, for example, as illustrated in FIG. 13, when the cell culture container of the present invention has a plurality of cell culture units, a dish unit 31 that supports the plurality of cell culture units is given. Can do.
In addition, about the code | symbol in FIG. 13, since it shows the same member as the thing in FIG. 1, description here is abbreviate | omitted.

本発明の細胞培養容器を用いて培養される細胞としては、種々の細胞を用いることができ、例えば、細胞培養部の凹部表面等の足場に接着する足場依存性細胞であっても良く、足場依存性を有しない浮遊性細胞であっても良い。   As cells cultured using the cell culture container of the present invention, various cells can be used. For example, it may be an anchorage-dependent cell that adheres to a scaffold such as a concave surface of a cell culture part. Suspension cells that do not have dependence may be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例]
高い親水性により防曇機能を有したポリスチレンシート(サンディック株式会社製サンディックシート210、300μm厚)を32mmφに切り取り、BD(べクトン・ディッキンソン)社製35mmφの細胞培養シャーレの蓋面中央に貼付した。貼付にはPDMS(ポリジメチルシロキサン:DowCorning社製Sylgard(登録商標)184)を用いた。硬化前のPDMSをシャーレ蓋面に塗布し、その上にポリスチレンシートを乗せ、一晩静置することで、貼付した。こうして得られたシャーレを37℃のインキュベータ内に1時間置き、その後取り出し室温で静置したところ、ポリスチレンシート上には水膜が形成され、良好な観察領域を確保することができた。一方ポリスチレンシートが貼付されていない周囲の領域はシャーレの蓋材が露出しているため、水膜が形成されていなかった。また、貼付したポリスチレンシートは300μm厚であったため、蓋面とポリスチレンシートの間には300μm段差があり、これにより水膜がポリスチレンシート上の範囲内に限定されている様子が確認できた。
なお、各材料の水接触角は、以下のとおりであった。
・ポリスチレンシート:10°以下
・細胞培養シャーレの蓋内面:80°
[Example]
A polystyrene sheet having a high anti-fogging function due to its high hydrophilicity (Sandick sheet 210, 300 μm thick) is cut out to 32 mmφ, and placed on the center of the lid of a 35 mmφ cell culture dish made by BD Affixed. PDMS (polydimethylsiloxane: Sylgard (registered trademark) 184 manufactured by Dow Corning) was used for pasting. PDMS before curing was applied to the petri dish lid surface, a polystyrene sheet was placed on the PDMS surface, and the mixture was allowed to stand overnight for pasting. The petri dish thus obtained was placed in an incubator at 37 ° C. for 1 hour, then taken out and allowed to stand at room temperature. As a result, a water film was formed on the polystyrene sheet, and a good observation region could be secured. On the other hand, since the petri dish cover material is exposed in the surrounding area where the polystyrene sheet is not affixed, a water film was not formed. In addition, since the attached polystyrene sheet was 300 μm thick, there was a 300 μm step between the lid surface and the polystyrene sheet, thereby confirming that the water film was limited within the range on the polystyrene sheet.
In addition, the water contact angle of each material was as follows.
・ Polystyrene sheet: 10 ° or less ・ Inner surface of cell culture dish: 80 °

1 … 側壁
2 … 凹部
3 … 細胞培養部
10 … 蓋部
11 … 水膜形成部
12 … 水遮断部
13 … 蓋基材
20 … 細胞培養容器
21 … 疎水性部
22 … 水吸収部
23 … 段差部
31 … 皿部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Side wall 2 ... Recessed part 3 ... Cell culture part 10 ... Lid part 11 ... Water film formation part 12 ... Water blocking part 13 ... Lid base material 20 ... Cell culture vessel 21 ... Hydrophobic part 22 ... Water absorption part 23 ... Step part 31 ... Plate part

Claims (6)

周囲が側壁により囲まれた凹部を有する細胞培養部と、
前記細胞培養部を覆う蓋部と、
を有する細胞培養容器であって、
前記蓋部の内面には、前記細胞培養部の前記凹部の開口部の一部と平面視上重なるように形成された水膜形成部および前記水膜形成部を囲うように形成され、かつ、前記側壁の上面と平面視上重なるように形成された水遮断部を有することを特徴とする細胞培養容器。
A cell culture part having a recess surrounded by a side wall;
A lid that covers the cell culture part;
A cell culture vessel having
The inner surface of the lid portion is formed so as to surround the water film forming portion and the water film forming portion formed so as to overlap a part of the opening of the concave portion of the cell culture portion in plan view, and A cell culture vessel comprising a water blocking portion formed so as to overlap the upper surface of the side wall in plan view.
前記水膜形成部が、親水性部であることを特徴とする請求項1に記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to claim 1, wherein the water film forming part is a hydrophilic part. 前記水膜形成部が、微細凹凸部であることを特徴とする請求項1に記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to claim 1, wherein the water film forming part is a fine uneven part. 前記水遮断部が、疎水性部を含むことを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to any one of claims 1 to 3, wherein the water blocking part includes a hydrophobic part. 前記水遮断部が、水吸収部を含むことを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to any one of claims 1 to 4, wherein the water blocking part includes a water absorbing part. 前記水遮断部が、段差部を含むことを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の細胞培養容器。   The cell culture container according to any one of claims 1 to 5, wherein the water blocking part includes a step part.
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