JP5783408B2 - 膜厚の検査装置および検査方法 - Google Patents
膜厚の検査装置および検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5783408B2 JP5783408B2 JP2011092549A JP2011092549A JP5783408B2 JP 5783408 B2 JP5783408 B2 JP 5783408B2 JP 2011092549 A JP2011092549 A JP 2011092549A JP 2011092549 A JP2011092549 A JP 2011092549A JP 5783408 B2 JP5783408 B2 JP 5783408B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- film thickness
- detection signal
- terahertz wave
- wave
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る膜厚の検査装置の概略構成図である。
図2は光学装置2の詳細を表すブロック図である。
図3を参照しながら、レーザ10、分波器11の詳細な構成を説明する。
図6は本実施形態に係る制御装置5のブロック図である。制御装置5はパーソナルコンピュータ等によって構成され、データバス500、インターフェース501、レジスタ502、CPU503、ROM505、RAM506、記憶装置507、ディスプレイ508等を備えている。
図7は、本実施形態に係る検査装置の処理の概要を表すフローチャートである。先ず、検査処理に先立って、制御装置5は試料3のCAD情報をデータベース6から読み出し、試料3からテラヘルツ波検出器15に至るまでの反射波の電場強度の時間変化を参照信号として算出する(ステップS1)。制御装置5は、算出した参照信号を記憶装置507に保存する。なお、参照信号をCAD情報と関連付けてデータベース6に保存しても良い。
図8は、上述の参照信号算出処理(ステップS1)の詳細を表すフローチャートである。先ず、検査装置1の計測位置(試料3の表面)に平面鏡を置き、平面鏡からの反射波の時間領域における電場強度E(t)inを計測する(ステップS101)。計測される電場強度は例えば次式で表すことができる。ここで、A(t)は振幅成分、ω0は角周波数、φ0(t)は位相成分を表している。
図9は、上述の反射波計測処理(ステップS2)の詳細を表すフローチャートである。まず、オペレータは検査対象となる試料3を光学装置2にセットする(ステップS201)。このとき、試料3からのテラヘルツ波が絞り19A,19Bを通過するように、光学装置2に対する試料3の角度を調整する。オペレータが制御装置5を操作し、計測プログラムを起動させると、CPU503は記憶装置506に記憶された計測プログラムを実行し、光学装置2、ロックインアンプ4、制御装置5を初期化する(ステップS202)。
図10は、上述の膜厚演算処理(ステップS3)の詳細を表すフローチャートである。
ステップS301において、オペレータは制御装置5を操作し、ディスプレイ508に表示された塗装膜、基板の種類の中から、測定対象となるものを選択する。例えば、3層クリヤ塗装膜、金属基板が選択されると、制御装置5は選択された塗装膜、基板の種類に応じたピークパターンを決定し、ディスプレイ508に表示する(ステップS302)。ピークパターンは、塗装膜、基板の種類毎に予め測定された反射波に基づき、時間領域の波形に現れるピークの概略を示すものである。このように、ピークの概略を予め予測しておくことにより、多重反射によるピークと塗装膜表面におけるピークとの誤認識を防ぐことができる。なお、ピークパターンの選択処理は、反射波計測処理(ステップS2)に先立って実行されても良い。
膜厚d=Δt・c・cosθ/2n ・・・(式4)
続いて、本実施形態に係る膜厚検査装置による検査結果を説明する。図13は本実施液体において用いた試料3の断面図である。
2 光学装置
3 試料
4 ロックインアンプ
5 制御装置(参照信号算出手段、補正手段、膜厚算出手段)
10 フェムト秒ファイバレーザ
22 テラヘルツ波検出器
Claims (7)
- テラヘルツ波を発生させるテラヘルツ波発生器と、
前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる照射光学系と、
前記試料において反射したテラヘルツ波を検出し、検出信号を出力するテラヘルツ波検出器と、
前記試料の位置に設けられた平面鏡からの反射波の電場強度E(t)inと、前記試料の反射面の形状情報であるメッシュデータの各メッシュにおける反射波の当該反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの光路長から求められた前記各メッシュの位相差とを用いて、前記各メッシュにおける反射波の電場強度E(t)ijから参照信号E(t)を算出する参照信号算出手段と、
周波数領域において検出信号G(ω)を参照信号E(ω)で除算することにより前記検出信号を補正する補正手段と、
補正後の前記検出信号における電場強度を時間軸の波形データに表し、波形データから複数のピークを検出するとともに、ピーク間の時間差に基づき膜厚を算出する膜厚算出手段とを有する膜厚の検査装置。 - 複数種類の前記参照信号を記憶する記憶手段を備えた請求項1に記載の膜厚の検査装置。
- 前記参照信号算出手段は、前記試料の位置に設けられた平面鏡からの反射波の信号と、前記形状情報に基づき前記試料の反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの光路長から求められた位相情報とを用いて、前記参照信号を算出する請求項1または2のいずれかに記載の膜厚の検査装置。
- 前記補正手段は、周波数領域において前記検出信号を前記参照信号によって除算することにより、前記検出信号を補正する請求項1から3のいずれかに記載の膜厚の検査装置。
- 前記形状情報は、前記試料のCAD情報である請求項1から4のいずれかに記載の膜厚の検査装置。
- 前記形状情報は、前記試料の反射面を複数の微細平面で表したメッシュデータを含む請求項1から5のいずれかに記載の膜厚の検査装置。
- テラヘルツ波を発生させる工程と、
前記テラヘルツ波を、膜が形成された試料に照射させる工程と、
前記試料において反射したテラヘルツ波を検出し、検出信号を出力する工程と、
前記試料の位置に設けられた平面鏡からの反射波の電場強度E(t)inと、前記試料の反射面の形状情報であるメッシュデータの各メッシュにおける反射波の当該反射面から前記テラヘルツ波検出器に至るまでの光路長から求められた前記各メッシュの位相差を用いて、前記各メッシュにおける反射波の電場強度E(t)ijから参照信号E(t)を算出する工程と、
周波数領域において検出信号G(ω)を参照信号E(ω)で除算することにより前記検出信号を補正する工程と、
補正後の前記検出信号における電場強度を時間軸の波形データに表し、波形データから複数のピークを検出するとともに、ピーク間の時間差に基づき膜厚を算出する工程とを有する膜厚の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011092549A JP5783408B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 膜厚の検査装置および検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011092549A JP5783408B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 膜厚の検査装置および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012225718A JP2012225718A (ja) | 2012-11-15 |
JP5783408B2 true JP5783408B2 (ja) | 2015-09-24 |
Family
ID=47276055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011092549A Expired - Fee Related JP5783408B2 (ja) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | 膜厚の検査装置および検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5783408B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023057747A1 (en) * | 2021-10-04 | 2023-04-13 | Teraview Limited | Curvature correction |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103091259B (zh) * | 2013-01-30 | 2014-10-22 | 大连理工大学 | 在线检测托卡马克钨第一壁灰尘成分及厚度的太赫兹方法 |
WO2018066360A1 (ja) | 2016-10-07 | 2018-04-12 | パイオニア株式会社 | 検査装置、検査方法、コンピュータプログラム及び記録媒体 |
US11099001B2 (en) | 2016-12-06 | 2021-08-24 | Pioneer Corporation | Inspection apparatus, inspection method, computer program and recording medium |
JP6575824B2 (ja) | 2017-03-22 | 2019-09-18 | トヨタ自動車株式会社 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
WO2019180556A1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 3M Innovative Properties Company | Time-domain terahertz measurement system having a single reference surface |
DE102018131370A1 (de) * | 2018-12-07 | 2020-06-10 | INOEX GmbH Innovationen und Ausrüstungen für die Extrusionstechnik | Messsystem und Verfahren zur Vermessung eines Messobjektes, insbesondere eines Kunststoff-Profils |
CN112764119B (zh) * | 2021-01-20 | 2023-10-27 | 西安理工大学 | 基于高激发态原子的太赫兹波频率上转换探测器 |
CN113899315A (zh) * | 2021-05-10 | 2022-01-07 | 天津大学 | 测量膜基结构中金属膜的厚度的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3195850B2 (ja) * | 1993-04-22 | 2001-08-06 | マツダ株式会社 | 曲面上の三次元位置計測方法及びその装置 |
JPH10162766A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-06-19 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム加工観察装置 |
JP4067677B2 (ja) * | 1999-02-17 | 2008-03-26 | 富士通株式会社 | 走査電子顕微鏡の自動検出シーケンスファイル作成方法及び走査電子顕微鏡の自動測長シーケンス方法 |
JP3837495B2 (ja) * | 2002-02-28 | 2006-10-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光イメージングシステム |
JP4046158B2 (ja) * | 2002-06-21 | 2008-02-13 | 財団法人大阪産業振興機構 | 塗装膜測定方法及び装置 |
JP5472675B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2014-04-16 | アイシン精機株式会社 | 非接触膜厚測定装置 |
JP5477275B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-04-23 | アイシン精機株式会社 | 塗装膜の検査装置および検査方法 |
-
2011
- 2011-04-19 JP JP2011092549A patent/JP5783408B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023057747A1 (en) * | 2021-10-04 | 2023-04-13 | Teraview Limited | Curvature correction |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012225718A (ja) | 2012-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5783408B2 (ja) | 膜厚の検査装置および検査方法 | |
JP5477275B2 (ja) | 塗装膜の検査装置および検査方法 | |
JP2014081285A (ja) | 多層セラミックの膜厚測定方法 | |
JP6096725B2 (ja) | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 | |
EP2304412B1 (en) | System for generating raman vibrational analysis signals | |
US6479822B1 (en) | System and Method for terahertz frequency measurements | |
Waasem et al. | Photoacoustic absorption spectrometer for highly transparent dielectrics with parts-per-million sensitivity | |
EP2957899A1 (en) | Measuring device and measuring method | |
Nardi et al. | Impulsively excited surface phononic crystals: a route toward novel sensing schemes | |
JP5177548B2 (ja) | 非接触膜厚測定装置及び方法 | |
TWI460413B (zh) | 測量樣品特性之方法與裝置以及非過渡性電腦可讀媒體 | |
Amber et al. | Nonlinear optical interactions in focused beams and nanosized structures | |
Srivastava et al. | Near-petahertz fieldoscopy of liquid | |
CN112595425B (zh) | 一种超短激光脉冲测量方法及测量系统 | |
JPWO2012160746A1 (ja) | 光源装置、分析装置、光生成方法、及び分析方法 | |
US9778229B2 (en) | Apparatus and method for measuring nonlinearity parameter using laser | |
JP2007101370A (ja) | テラヘルツ分光装置 | |
Borrego-Varillas et al. | Wavefront retrieval of amplified femtosecond beams by second-harmonic generation | |
Benis et al. | Nondegenerate, transient nonlinear refraction of indium tin oxide excited at epsilon-near-zero | |
US7420685B1 (en) | Dispersion-free, automatically phase-matched, and broad spectral-band femtosecond autocorrelation technique | |
JP2016085396A (ja) | 短光パルス発生装置、テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置、および計測装置 | |
CN220399276U (zh) | 一种单发太赫兹时域光谱仪 | |
Kokkonen | Laser interferometers in physical acoustics | |
JP2011226994A (ja) | テラヘルツ波発生装置 | |
JP2017044551A (ja) | 自己相関測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140314 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150708 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5783408 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |