JP5767552B2 - Semiconductor light emitting device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は半導体発光装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor light emitting device and a method for manufacturing the same.

半導体発光装置は、白熱灯や蛍光灯に代わる次世代の光源として期待されており、国内外で発光効率の向上等の技術開発が活発に進められている。その光源としての適用範囲も多岐に渡っており、屋内照明のみならず、液晶表示装置のバックライトとしてもその利用が広がっている。特に、近年、省エネへの意識の高まりを受けて、消費電力の低い半導体発光装置に注目が集まっており、各企業や研究機関はその技術開発を加速している。   Semiconductor light-emitting devices are expected as next-generation light sources to replace incandescent lamps and fluorescent lamps, and technological developments such as improving luminous efficiency are being actively promoted in Japan and overseas. The range of application as the light source is also diverse, and its use is expanding not only for indoor lighting but also as a backlight for liquid crystal display devices. In particular, in recent years, with the growing awareness of energy saving, attention has been focused on semiconductor light emitting devices with low power consumption, and companies and research institutions are accelerating their technological development.

半導体発光装置の種類を構造別にみると、砲弾型、表面実装型(SMD)、チップオンボード(COB)等が挙げられる。図1は表面実装型の1例を挙げたものである。この例では、セラミックや樹脂などで成型したリフレクターパッケージ基材2の中に半導体発光素子1を実装している。そのキャビティ(凹状空間)Wはエポキシ樹脂やシリコーンなどの樹脂(封止材)3で封止されている。キャビティ内側の面には反射板の機能を付与してあり、多くの光を取り出せる構造とされている。   Looking at the types of semiconductor light-emitting devices by structure, there are a shell type, a surface mount type (SMD), a chip on board (COB), and the like. FIG. 1 shows an example of a surface mount type. In this example, the semiconductor light emitting element 1 is mounted in a reflector package substrate 2 molded from ceramic or resin. The cavity (concave space) W is sealed with a resin (sealing material) 3 such as epoxy resin or silicone. The surface inside the cavity is provided with a function of a reflecting plate so that a lot of light can be extracted.

上記の構造からも分かるとおり、半導体発光装置には、従来の白熱電球や蛍光灯とは異なる構造及び部材が必要である上、液晶テレビのバックライトユニット、照明、表示灯などそれぞれの用途により求められる性能が異なるため、それぞれに応じた開発が必要になる。バックライトユニットにおいても、直下タイプとエッジタイプにおいても配光という観点で求められる性能が異なり、その開発は未だ十分になされているとはいえない。上述した封止材についても同様であり、現在エポキシ系もしくはシリコーン系の樹脂が主流であるが、さらなる性能向上のための開発検討、材料探索が求められている。例えば、特許文献1には脂環式炭化水素化合物を用いた半導体発光装置の樹脂原料組成物が開示されている。   As can be seen from the above structure, the semiconductor light-emitting device requires a structure and members that are different from those of conventional incandescent bulbs and fluorescent lamps, and is required for each application such as a backlight unit of LCD TV, lighting, and indicator lamp. Different performance is required, so development according to each is required. Even in the backlight unit, the performance required from the viewpoint of light distribution is different between the direct type and the edge type, and the development has not been made sufficiently. The same applies to the sealing material described above, and epoxy or silicone resins are currently the mainstream, but development studies and material searches for further performance improvement are required. For example, Patent Document 1 discloses a resin raw material composition for a semiconductor light emitting device using an alicyclic hydrocarbon compound.

封止材の形態的な工夫としては、液晶表示装置のバックライトユニットに用いられる半導体発光装置について、硬化収縮のないシリコーン系樹脂やエポキシ系樹脂を吸油性の拡散剤と混合して硬化させることにより、その出光面が凹んだ形状に形成されたものが提案されている(特許文献2,3)。このような凹み形状にすることで該半導体発光装置からの配光を狭くし、バックライトユニットの導光板への導入率を向上させている。あるいは、半導体発光装置に対向する導光板の端面に対し出光面が平行にならないように形成されたものが提案されている。具体的には、半導体発光装置の封止材の断面をV字型に型付けしたものが開示されている。(特許文献4)。   As a form of the sealing material, the semiconductor light-emitting device used in the backlight unit of the liquid crystal display device is cured by mixing a silicone-based resin or epoxy-based resin having no curing shrinkage with an oil-absorbing diffusing agent. Therefore, a light-emitting surface formed in a recessed shape has been proposed (Patent Documents 2 and 3). With such a concave shape, the light distribution from the semiconductor light emitting device is narrowed, and the introduction rate of the backlight unit into the light guide plate is improved. Or the thing formed so that the light emission surface may not become parallel with respect to the end surface of the light-guide plate facing a semiconductor light-emitting device is proposed. Specifically, a semiconductor light emitting device in which a cross section of a sealing material is shaped into a V shape is disclosed. (Patent Document 4).

国際公開公報2006/051803号パンフレットInternational Publication No. 2006/051803 Pamphlet 特開2007−165803号公報JP 2007-165803 A 特許第4010299号明細書Japanese Patent No. 4010299 特開2009−301725号公報JP 2009-301725 A

ところで、半導体発光装置の封止樹脂に関しては上記のように幾つかの開発例があるものの、デバイスの構成と、その形状や構造を実現するために特に適した材料の種類や配合、その製造適性との関係についての研究は未だ十分には進んでいない。
そこで、本発明は、半導体発光装置における封止材の光学的な特性に着目し、適切に集光された狭い照射領域を実現する配光性を有し、しかも製造効率のよい成形方法を採用することができる半導体発光装置及びその製造方法の提供を目的とする。
By the way, although there are several development examples as described above for the sealing resin of the semiconductor light emitting device, the device configuration, the types and blends of materials particularly suitable for realizing the shape and structure, and the manufacturing suitability thereof. The research on the relationship is still not sufficiently advanced.
Therefore, the present invention pays attention to the optical characteristics of the sealing material in the semiconductor light emitting device, and adopts a molding method that has a light distribution property that realizes a narrow irradiation region that is appropriately condensed and has high manufacturing efficiency. An object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device and a method for manufacturing the same.

すなわち本発明は、前記の課題を解決するものとして下記手段を提供するものである。
(1)リフレクターパッケージ基材と、フレクターパッケージ基材の凹状空間に実装された半導体発光素子と、導体発光素子を封止した極性基含有アクリル系樹脂を含む封止材とを具備する半導体発光装置であって、
止材の出光面が曲面状に凹んでおり、その凹んだ出光面の曲率半径が、光面の平面視における直径もしくは短辺の長さの1.8倍〜4.5倍に設定され
封止材が、リフレクターパッケージ基材の凹状空間に極性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤を付与し、アクリル系モノマーを硬化させてアクリル系樹脂として賦形したものであり、
硬化前のアクリル系樹脂をなすモノマーのアクリル基もしくはメタクリル基の比率が、モノマーを含む封止剤の総質量に対して、4mmol/g以上6.5mmol/g未満である組成液の硬化物である半導体発光装置。
性基がヒドロキシル基、オリゴエチレングリコール基、イソシアヌル酸誘導基である(1)に記載の半導体発光装置。
フレクターパッケージの電極部の表面が銀を含む(1)又は)のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
止材の80%以上が有機成分である(1)〜()のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
クリル系樹脂がイソシアヌル酸アクリレート誘導体を硬化させた樹脂を50質量%以上含むことを特徴とした(1)〜()のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
クリル基もしくはメタクリル基の比率が5.3mmol/g以上6.3mmol/g未満である組成液の硬化物である(〜(5)のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
)リフレクターパッケージの凹状空間に半導体発光素子を実装し、導体発光素子を埋設するよう状空間に極性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤を付与し、次いで、止剤のアクリル系モノマーを硬化させてアクリル系樹脂の封止材として賦形するに当たり、硬化前のアクリル系樹脂をなすモノマーのアクリル基もしくはメタクリル基の比率が、モノマーを含む封止剤の総質量に対して、4mmol/g以上6.5mmol/g未満である組成液の硬化物とし、封止剤の硬化による体積収縮により、その滴下面を部分的に降下させ、下面を止材の凹んだ出光面として賦形する半導体発光装置の製造方法。
クリル系モノマーとして、下記式1で表される化合物を用いる()に記載の半導体発光装置の製造方法。
That is, the present invention provides the following means for solving the above-mentioned problems.
(1) a semiconductor comprising a reflector packaging substrate, a semiconductor light emitting element mounted on the recessed space of the Li full Rector package substrate, and a sealing material containing a polar group-containing acrylic resin sealed semi-conductor light emitting element A light emitting device,
Light-emitting surface of the sealant is recessed in a curved surface, setting the radius of curvature of the concave light exit surface, out to 1.8 times to 4.5 times the length of the diameter or short side in plan view of the optical surface It is,
The sealing material is formed as an acrylic resin by applying a sealing agent containing a polar group-containing acrylic monomer to the concave space of the reflector package substrate, curing the acrylic monomer,
A cured product of the composition liquid in which the ratio of the acrylic group or methacrylic group of the monomer constituting the acrylic resin before curing is 4 mmol / g or more and less than 6.5 mmol / g with respect to the total mass of the encapsulant containing the monomer A semiconductor light emitting device.
(2) polar group is a hydroxyl group, oligoethylene glycol group, a semiconductor light emitting device according to an isocyanuric acid derivative group (1).
(3) the surface of the electrode portion of the Li full Rector packages containing silver (1) or a semiconductor light emitting device according to any one of (2).
(4) more than 80% of the encapsulant is an organic component (1) a semiconductor light-emitting device according to any one of - (3).
(5) A acrylic resin is characterized in that it comprises more than 50 wt% resin obtained by curing the isocyanuric acid acrylate derivative (1) semiconductor light-emitting device according to any one of - (4).
(6) A ratio of acrylic group or methacrylic group is a cured product of the composition solution is less than 5.3 mmol / g or more 6.3 mmol / g (1) ~ semiconductor light emitting according to any one of (5) apparatus.
(7) The semiconductor light emitting element is mounted on the recessed space of the reflector package, the concave-shaped space so as to embed the semiconductors emitting element imparting a sealing agent containing a polar group-containing acrylic monomer, then acrylic sealant curing the system monomer Upon for shaping as a sealing material of the acrylic resin, the ratio of acrylic groups or methacrylic groups of the monomers constituting the acrylic resin before curing, the total weight of the sealant containing monomer in contrast, the cured product of the composition solution is less than 4 mmol / g or more 6.5 mmol / g, the volume shrinkage due to the curing of the sealant, the dropping surface partially lowering the, recessed drops lower surface of sealing material A method of manufacturing a semiconductor light emitting device shaped as a light exit surface.
(8) as A acrylic-based monomer, a method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to a compound represented by the following formula 1 (7).

Figure 0005767552
(1)中のR、R、Rは、それぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、炭素数6〜24のアリール基、下記式(I)で表されるアクリロイルオキシ基、又は下記式(II)で表されるアシルオキシ基を表す。Lは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。ただし、R、R、及びRの少なくとも1つはクリロリルオキシ基である
Figure 0005767552
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1) are each independently a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, It represents an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an acryloyloxy group represented by the following formula (I), or an acyloxy group represented by the following formula (II). L a represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. Provided that at least one of R 1, R 2, and R 3 is A Kuriroriruokishi group.

Figure 0005767552
中、R11は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。*は結合手を表す
Figure 0005767552
In the formula , R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. * Represents a bond .

Figure 0005767552
中、R12は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数6〜24のアリール基を表す。*は結合手を表す
性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤は、その粘度が800mPas以上20,000mPas未満である()又は()に記載の半導体発光装置の製造方法。
10化前のアクリル系モノマーについて以下の試験を行った際の揮発量が10質量%未満である()〜()のいずれか1項に記載の半導体発光装置の製造方法。
G/DTAにおいて5mgを3℃/分の昇温速度で、80℃60min+130℃60minで加熱し、そのときの重量減少を解析する
Figure 0005767552
In the formula , R 12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 24 carbon atoms. * Represents a bond .
(9) sealant containing polar group-containing acrylic monomer, a method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to the viscosity to less than 800 mPas 20,000 mPas (7) or (8).
(10) volatilization amount during the following tests were conducted for hardening before the acrylic monomer is less than 10 wt% (7) A method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to any one of - (9).
In TG / DTA, 5 mg is heated at 80 ° C. 60 min + 130 ° C. 60 min at a rate of temperature increase of 3 ° C./min, and the weight loss at that time is analyzed .

本発明は、半導体発光素子の封止材に求められる要求性能を高いレベルで満足し、その上で適切に集光された狭い照射領域を実現する配光性を有し、しかも製造効率のよい成形方法を採用することができる半導体発光装置及びその製造方法の提供を目的とする。   The present invention satisfies the required performance required for a sealing material of a semiconductor light-emitting element at a high level, has a light distribution property that realizes a narrow irradiation region appropriately focused thereon, and has high manufacturing efficiency. It is an object of the present invention to provide a semiconductor light emitting device that can employ a molding method and a method for manufacturing the same.

本発明の好ましい実施形態に係る半導体発光装置を模式的に示した装置説明図Device explanatory view schematically showing a semiconductor light emitting device according to a preferred embodiment of the present invention 半導体発光装置の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed an example of the semiconductor light-emitting device typically. 半導体発光装置の開口部の形状と各寸法との関係を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the relationship between the shape of the opening part of a semiconductor light-emitting device, and each dimension.

本発明の半導体発光装置は、リフレクターパッケージ基材と、該リフレクターパッケージ基材の凹状空間に実装された半導体発光素子と、該半導体発光素子を封止したアクリル系樹脂の硬化物を含む封止材とを具備する。その封止材の出光面は曲面状に凹んでおり、その凹んだ出光面は特定の曲率半径を有する。ここで曲面状とは、実質的に曲線が連続した面で構成されていればよく、本発明の効果を損ねない範囲で部分的に平坦面を含んでいてもよい。例えば、略球面状の凹面が挙げられる。典型的には出光面の50%(面積比)以上が曲面で構成されていることが好ましく、70%以上が曲面で構成されていることがより好ましい。曲面は緩やかな曲率であってよく、厳密に評価する必要があるときには、例えば面方向のいずれにおいても曲率半径として出光面の直径ないし短辺の長さの10倍以上の面を平坦面と定義し、上記の面積比を算定する。曲面の割合の上限は特にないが、100%(面積比)が曲面で構成されていることが好ましい。以下に、本発明の好ましい実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。   A semiconductor light-emitting device of the present invention includes a reflector package base material, a semiconductor light-emitting element mounted in a concave space of the reflector package base material, and a sealing material including a cured product of an acrylic resin that seals the semiconductor light-emitting element It comprises. The light exit surface of the sealing material is recessed in a curved shape, and the recessed light exit surface has a specific radius of curvature. Here, the curved surface shape only needs to be configured by a surface having substantially continuous curves, and may partially include a flat surface as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, a substantially spherical concave surface can be mentioned. Typically, it is preferable that 50% (area ratio) or more of the light exit surface is constituted by a curved surface, and more preferably 70% or more is constituted by a curved surface. The curved surface may have a gentle curvature, and when it is necessary to strictly evaluate the surface, for example, a surface having a curvature radius of 10 times or more of the diameter of the light emitting surface or the short side is defined as a flat surface in any of the surface directions. The area ratio is calculated. The upper limit of the ratio of the curved surface is not particularly limited, but it is preferable that 100% (area ratio) is constituted by the curved surface. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[半導体発光装置]
図2は本発明の好ましい実施形態に係る半導体発光装置を模式的に示した装置説明図である。基本的なデバイス構成は図1に示した一般的なものと同様であり、半導体発光素子1、リフレクターパッケージ基材2、封止材3、電極4、ボンディングワイヤ6、ダイボンド剤8をもつ、半導体発光装置10として構成されている。ただし、ここで説明する光学的な特徴を図示する都合上、リフレクターパッケージ基材2、封止材3、素子1以外は図示を省略している。また、図示の都合上、若干図1と異なる断面形態のものとして描写している。なお、装置の上下は特に制限されないが、必要により、出光面3a側を「上」ないし「天」の側として表示し、素子1の側を「下」ないし「底」の側として表示する。ただし、本発明がこの説明及び図示した形態のデバイスにより限定して解釈されるものではない。
[Semiconductor light emitting device]
FIG. 2 is a device explanatory view schematically showing a semiconductor light emitting device according to a preferred embodiment of the present invention. The basic device configuration is the same as the general device shown in FIG. 1, and includes a semiconductor light emitting element 1, a reflector package substrate 2, a sealing material 3, an electrode 4, a bonding wire 6, and a die bond agent 8. The light emitting device 10 is configured. However, for the convenience of illustrating the optical features described here, illustrations are omitted except for the reflector package base material 2, the sealing material 3, and the element 1. For convenience of illustration, the cross-sectional shape is slightly different from that of FIG. The upper and lower sides of the apparatus are not particularly limited, but if necessary, the light exit surface 3a side is displayed as the “upper” or “top” side, and the element 1 side is displayed as the “lower” or “bottom” side. However, the present invention should not be construed as being limited by the device in the description and the illustrated form.

本実施形態のリフレクターパッケージ基材2は封止前のポッティングの際には、凹状空間Wをなし、樹脂(液状の封止剤)を受け止める容器の役割を担う。一方、硬化後には該半導体発光素子やボンディングワイヤを外部から守る保護の役割、該半導体発光素子からの光を反射して取り出し効率を高め、またその光を配光するリフレクターとしての役割を担う。封止液を受け止める容器の役割としては、液が保持されるように凹み形状を有すると共に、硬化時にも形状を維持できるような耐熱性を有する素材が使用されることが好ましい。また、保護の役割としては、力学的な衝撃からの保護に加えて硫化水素や硫黄ガスなどのような硫化ガスからの保護の役割が求められ、その観点からそのものの耐性と共に封止材との密着性のある素材が使用される。
リフレクターパッケージとしては電極が一体成型されているもの、及びパッケージを成型した後にメッキなどにより回路配線として電極を設けたものを用いることができる。また、実装方式としてトップビュー、サイドビューなど任意の実装方式に対応したパッケージを用いることができる。
The reflector package substrate 2 of the present embodiment forms a concave space W during potting before sealing, and serves as a container for receiving a resin (liquid sealing agent). On the other hand, after curing, it plays a role of protecting the semiconductor light emitting element and the bonding wire from the outside, reflecting light from the semiconductor light emitting element to increase the extraction efficiency, and also serving as a reflector for distributing the light. As a role of the container for receiving the sealing liquid, it is preferable to use a heat-resistant material that has a concave shape so that the liquid is held and can maintain the shape even during curing. In addition to protection from mechanical impact, the role of protection is to protect from sulfide gas such as hydrogen sulfide and sulfur gas. Adhesive materials are used.
As the reflector package, one in which electrodes are integrally formed, and one in which electrodes are provided as circuit wiring by plating after the package is molded can be used. Moreover, a package corresponding to an arbitrary mounting method such as a top view or a side view can be used as a mounting method.

パッケージの形状としては、円柱、楕円柱、立方体、直方体、直方体と楕円柱の間の形状やこれらの組み合わせなど任意の形状を採用することができる。また、平坦な反射部にダム材と呼ばれる材料で堰を予め作製しておきその内側を凹部(キャビティ)として用いることもできるが、配光性の観点から予め凹部(キャビティ)を有するリフレクターパッケージを用いることが好ましい。リフレクターw1,w2,w3は、該半導体発光素子からの光を直接反射する機能に加えて封止材/空気界面において全反射された光を反射する機能を有することが好ましい。特に本実施形態(図2)においては光をシャープに配向するために全反射で封止材内部に閉じ込められた光を適切に反射して外部に取り出すことができ好ましい。内壁部の形状は底部に対して任意の角度を選択できるが、反射により光を取り出す目的や、前記封止材形状を適切に凹んだ形状にする目的においては、底に行くほど面積が小さくなるようなすり鉢形状であることが好ましい。凹部の底の形状は平面状や凹み形状などの任意の形状が選択できる。
リフレクターパッケージ基材の素材としては、前記の耐熱性、封止材との密着性、反射率、電気絶縁性、また耐熱性としては硬化時の形状維持の観点と使用時の反射率維持の観点から、適切な素材が選択されることが好ましい。具体的にはアルミナなどのセラミックス、ポリフタルアミドなどの樹脂に酸化チタンなどの白色顔料を混合した素材などが選択されることが好ましい。リフレクターパッケージの形状としては、前記の閉じ込められた光を適切な配光になるように反射するよう、すり鉢形状が好ましく選択される。また、リフレクターパッケージに含まれる反射部は電極を兼ね備えることができ、反射率の高い銀を表面に有することが好ましい。パッケージの成形法としては、前記電極を予め金型内に設置して行うインサート成形、射出成形、押出成形、トランスファ成型などを用いることができる
As the shape of the package, any shape such as a cylinder, an elliptical column, a cube, a rectangular parallelepiped, a shape between a rectangular parallelepiped and an elliptical column, or a combination thereof can be adopted. In addition, it is possible to prepare a weir with a material called a dam material in a flat reflecting portion in advance and use the inside as a recess (cavity), but from the viewpoint of light distribution, a reflector package having a recess (cavity) in advance. It is preferable to use it. The reflectors w1, w2, and w3 preferably have a function of reflecting light totally reflected at the sealing material / air interface in addition to a function of directly reflecting light from the semiconductor light emitting element. In particular, in the present embodiment (FIG. 2), it is preferable that the light confined inside the sealing material by total reflection can be appropriately reflected and extracted outside in order to orient the light sharply. The shape of the inner wall portion can be selected at any angle with respect to the bottom portion, but for the purpose of extracting light by reflection or for the purpose of making the sealing material shape appropriately concave, the area becomes smaller toward the bottom. Such a mortar shape is preferable. As the shape of the bottom of the concave portion, any shape such as a flat shape or a concave shape can be selected.
As the material of the reflector package base material, the heat resistance, adhesion to the sealing material, reflectance, electrical insulation, and heat resistance are the viewpoint of maintaining the shape during curing and the viewpoint of maintaining the reflectance during use. Therefore, it is preferable that an appropriate material is selected. Specifically, it is preferable to select a material in which a white pigment such as titanium oxide is mixed with a ceramic such as alumina or a resin such as polyphthalamide. As the shape of the reflector package, a mortar shape is preferably selected so as to reflect the trapped light so as to obtain an appropriate light distribution. Moreover, the reflection part contained in a reflector package can also have an electrode, and it is preferable to have silver with a high reflectance on the surface. As a molding method of the package, insert molding, injection molding, extrusion molding, transfer molding, or the like performed by previously setting the electrode in a mold can be used.

本実施形態の半導体発光装置10は、その封止材の外表面として、緩やかにすり鉢状になって曲線状に凹んだ出光面3aを有する。この凹レンズのように滑らかに曲線を描いた球面状の形態は、特定のアクリル系樹脂をポッティングにより成形することにより、好適に作出することができる。その製造方法については、後で詳述するが、凹状空間Wの側面(リフレクター)w1,w2の表面張力が適度に作用し、その部分の樹脂高さは仮想平面3bのところもしくはその付近で維持され、一方、中央にいくにつれ体積収縮により浅くなった状態で凹んだ面が形成される。その状態で硬化され、受け皿のような面を有する封止材3の形状が固定され、上記曲面状の出光面3aが形成される。   The semiconductor light emitting device 10 of the present embodiment has a light exit surface 3a that is gently mortar-shaped and recessed in a curved shape as the outer surface of the sealing material. A spherical shape smoothly curved like the concave lens can be suitably created by molding a specific acrylic resin by potting. Although the manufacturing method will be described in detail later, the surface tension of the side surfaces (reflectors) w1 and w2 of the concave space W acts appropriately, and the resin height of the portion is maintained at or near the virtual plane 3b. On the other hand, as it goes to the center, a concave surface is formed in a state of being shallow due to volume shrinkage. The shape of the sealing material 3 which is cured in this state and has a surface like a saucer is fixed, and the curved light exit surface 3a is formed.

この曲面状に凹んだ出光面3aは、封止材のもつ光の屈折率と相俟って、特有の配光性を実現する。封止材の屈折率は、室温(約28℃)で、1.45以上1.7未満であることが実際的である。これに対し、外部空間が空気である場合、光源である半導体発光素子から発せられた光は、両者の界面である出光面3aで屈折する。この状況を模式的に示したのが、光路p1、p2、p3である。光路p1は中心に設置された素子から仮想出光平面に対して垂直に進行する光であり、この部分では出光面3aでは屈折せずに光はそのまま直線的に進行する。一方、光路p2では出光面3aに斜めに低い角度をもって進行するため、この部分で光は屈折し、本実施形態ではデバイスの右外方にそれて光が進行していく。他方、さらに外方に向け発せられた光(光路p3)は、出光面にさらに低角度で到達するため、外部に放射せず、出光面3aで全反射して進行する。その後、リフレクター(側面)w2で反射した光は、仮想出光平面にほぼ垂直に進行し配光される。このような光の反射及び伝播の形態は図2の左側においても同様であり、より発光素子の開口部全域においてより配光性の狭い光が放射されることとなる。   The light exit surface 3a that is recessed in the curved surface realizes a specific light distribution property in combination with the refractive index of light of the sealing material. It is practical that the refractive index of the sealing material is 1.45 or more and less than 1.7 at room temperature (about 28 ° C.). On the other hand, when the external space is air, the light emitted from the semiconductor light emitting element that is the light source is refracted by the light exit surface 3a that is the interface between them. This situation is schematically shown in the optical paths p1, p2, and p3. The optical path p1 is light that travels perpendicularly to the virtual light exit plane from the element installed at the center. In this portion, the light travels linearly without being refracted on the light exit surface 3a. On the other hand, the light path p2 travels obliquely at a low angle with respect to the light exit surface 3a. Therefore, the light is refracted at this portion, and in this embodiment, the light travels outward to the right of the device. On the other hand, since the light (optical path p3) emitted further outward reaches the light exit surface at a lower angle, it does not radiate to the outside but travels by being totally reflected by the light exit surface 3a. Thereafter, the light reflected by the reflector (side surface) w2 travels substantially perpendicular to the virtual light emission plane and is distributed. Such light reflection and propagation forms are the same on the left side of FIG. 2, and light with a narrower light distribution is emitted over the entire opening of the light emitting element.

これに対し、仮想出光平面3bを出光面とするデバイス(比較例)では、図2のp3の光路で光が進行してきた場合、p2場合と同様にデバイスの右外方に屈折して光が放射される。それだけ光は発散され、導光板が前方にある場合には、非効率な光照射となってしまう。その損失は、例えば液晶表示装置のバックライトユニットのような場合には顕著になり、発散する光は無駄になるばかりでなく、装置内部で緩衝するなど画像表示に悪影響を来たすこともある。   On the other hand, in the device (comparative example) in which the virtual light emission plane 3b is the light emission surface, when light travels along the optical path p3 in FIG. 2, light is refracted to the right outside of the device as in the case of p2. Radiated. That is how much light is diverged, and when the light guide plate is in front, it becomes inefficient light irradiation. The loss becomes significant in the case of a backlight unit of a liquid crystal display device, for example, and not only the diverging light is wasted but also the image display may be adversely affected by buffering inside the device.

本実施形態の半導体発光装置10によれば、このような光の発散は効果的に抑制され、適切に集光して配光された状態で光を対象物に供給することができる。一般的にこのような集光を行う場合には、封止材の上方に凸レンズを設けることが考えられるが、本実施形態によれば、このような無駄な部材を排除して、より小型でシンプルな構造のデバイスとすることができ好ましい。さらに、後述するように本実施形態のデバイスの利点は、上記のような特別な形状の封止材を、ポッティングという軽便な製造方法によって賦形することができ、モールドなどを利用した型付け法に比し、製造効率の点で大きな利点を有することである。とりわけ、液晶表示装置のバックライトユニットなども、昨今では携帯機器への対応を受け小サイズ化される傾向にあり、微小モールドを用いた型付けに対して、ポッティング法により大幅な製造効率の向上を実現することが可能である。   According to the semiconductor light emitting device 10 of the present embodiment, such divergence of light is effectively suppressed, and light can be supplied to the object in a state of being appropriately condensed and distributed. In general, in the case of performing such light collection, it is conceivable to provide a convex lens above the sealing material. A device having a simple structure is preferable. Further, as will be described later, the advantage of the device of the present embodiment is that the sealing material having a special shape as described above can be shaped by a simple manufacturing method called potting, and the molding method using a mold or the like can be used. In comparison, it has a great advantage in terms of production efficiency. In particular, backlight units for liquid crystal display devices have recently been apt to be reduced in size in response to support for portable devices, and the potting method has greatly improved manufacturing efficiency compared to mold using micro molds. It is possible to realize.

<曲率半径>
本発明においては、封止材の出光面の平面視における直径もしくは短辺の長さの1.8倍〜4.5倍に設定されており、2.0倍〜3.7倍であることが好ましく、2.2倍〜2.5倍であることがより好ましい。この曲率半径を上記上限値以下とすることで、該配光性をより狭くすることができる。一方、上記下限値以上とすることで、クラックの発生を抑制することできる。
<Curvature radius>
In the present invention, the diameter or the length of the short side of the light emitting surface of the sealing material is set to 1.8 times to 4.5 times the length of the short side, and is 2.0 times to 3.7 times. Is more preferable, and 2.2 to 2.5 times is more preferable. By making this curvature radius below the upper limit, the light distribution can be made narrower. On the other hand, the occurrence of cracks can be suppressed by setting the value to the above lower limit or more.

本発明において、封止材の出光面の曲率半径は、その凹み具合を表している。解析方法としては、例えば共焦点光学系を利用したレーザー顕微鏡などにより封止材形状を測定し、その形状を幾何学的に計算する方法が挙げられる。具体的には解析によって得られた封止材中心部の表面形状を線で表示し、それにフィットするような円を描くことで封止材形状のおおよその曲率半径を求めることができる。このとき球面状の凹みであれば、凹みの中心を定め、360°の面方向に一定間隔で曲率半径を求め、その平均値を採用することができる。あるいは、円筒状の凹みであれば、先導曲線あるいはそれに平行な円弧の曲率半径を求めればよい。このとき、母線方向に数点を取ってその平均値として求めてもよい。デバイスの出光面の平面形状との関係でいうと、円形状であれば(図3(a))、その直径Dを測定し、他方、球面状の凹みの曲率半径を上記のようにして測定し、その比率を求めればよい。楕円形状の出光面であれば(図3(b))、その短辺の長さLsを測定し、その短辺Lsに対応した円弧の曲率半径を測定し、その比率を求めることができる。短辺はリフレクターパッケージの中心を通りパッケージ外端2点を通る直線のうち、長さが最も短い線分を指す。   In the present invention, the radius of curvature of the light exit surface of the sealing material represents the degree of depression. Examples of the analysis method include a method of measuring the shape of the sealing material with a laser microscope using a confocal optical system and geometrically calculating the shape. Specifically, the approximate curvature radius of the shape of the sealing material can be obtained by displaying the surface shape of the central portion of the sealing material obtained by the analysis with a line and drawing a circle that fits the surface. At this time, if it is a spherical recess, the center of the recess is determined, the radius of curvature is determined at regular intervals in the 360 ° plane direction, and the average value can be adopted. Alternatively, in the case of a cylindrical recess, the radius of curvature of the leading curve or an arc parallel to the leading curve may be obtained. At this time, you may obtain | require several points in a bus-line direction as the average value. In relation to the planar shape of the light emitting surface of the device, if it is circular (FIG. 3 (a)), its diameter D is measured, while the radius of curvature of the spherical recess is measured as described above. Then, the ratio may be obtained. In the case of an elliptical light exit surface (FIG. 3B), the length Ls of the short side is measured, the radius of curvature of the arc corresponding to the short side Ls is measured, and the ratio can be obtained. The short side indicates the shortest line segment among the straight lines passing through the center of the reflector package and passing through the two outer edges of the package.

なお、上記は封止材が十分に凹んでいる場合に適した解析できる手法であり、平ら、凸、デコボコしている場合はそれにそった解析手法を適宜採用すればよい。上記手法で求めた曲率半径とパッケージ直径もしくは短辺の長さの比が10を超える場合はそれは十分に平らであると判断することができる。解析の測定機としては、例えば株式会社キーエンス製形状測定マイクロスコープVK−9500(商品名)などを用いることができる。   Note that the above is a technique that can be analyzed when the sealing material is sufficiently recessed, and if it is flat, convex, or uneven, an analysis technique according to that may be adopted as appropriate. If the ratio of the radius of curvature and the package diameter or the length of the short side obtained by the above method exceeds 10, it can be determined that it is sufficiently flat. As a measuring instrument for analysis, for example, a shape measurement microscope VK-9500 (trade name) manufactured by Keyence Corporation can be used.

ここでポッティングについて説明する。ポッティングとは、前記リフレクターパッケージ基材のキャビティー(凹状空間)の内部に前記封止液を吐出して内部を埋める操作を表す。硬化プロセスはポッティング後に封止液を充填されたリフレクターパッケージ(リフレクターパッケージ基材のほか、素子、ボンディングワイヤ、電極を含むパッケージ)をオーブンなどの一般的な加熱装置に入れて硬化できるため、システムとしてはディスペンサと加熱装置だけの非常に単純な構成で済む。また、金型やマスクを必要としないため、デバイスの形状などの変更の際にも迅速かつ安価に対応することが可能であり、汎用性の高い封止方式といえる。更に、コンプレッションモールド成形やトランスファーモールド成形などのモールド成形方式においては金型に対する離型性の悪さ、封止液の廃棄率の高さ、粘度の制限などが問題であるが、ポッティング方式ではこれらの問題がない。   Here, the potting will be described. Potting represents an operation of discharging the sealing liquid into a cavity (concave space) of the reflector package base material to fill the interior. The curing process can be performed by placing a reflector package filled with sealing liquid after potting (a package containing a reflector package substrate, as well as a device, bonding wires, and electrodes) in a general heating device such as an oven. Requires only a very simple configuration with only a dispenser and a heating device. In addition, since a mold and a mask are not required, it is possible to deal with a change in the shape of the device quickly and inexpensively, which can be said to be a highly versatile sealing method. Furthermore, in mold molding methods such as compression mold molding and transfer mold molding, there are problems such as poor mold releasability, high disposal rate of sealing liquid, and restriction of viscosity. there is no problem.

一方、モールド成形方式と比較すると、ポッティングでは封止形状の制御性が低いために配光性の付与が行いにくいことが挙げられる。特に配光を狭くする場合、一般的には砲弾型LEDで見られるように前記発光素子の上部に凸レンズを一体成形する手法が採用される場合が多い。砲弾型LEDは放熱性が著しく悪いため表面実装型が採用されることが多いが、この場合も同様に凸型レンズをモールドで一体成形するもしくはポッティング封止したパッケージの上部に凸レンズを乗せる手法が取られることが多い。このように凸レンズをポッティングのみで成形しようとすると凸部の封止液が硬化中に垂れて平坦になってしまうため、達成できない。そのため、ポッティングのみで配光性を付与する方法が求められている。   On the other hand, compared to the molding method, potting has a low controllability of the sealing shape, and thus it is difficult to impart light distribution. In particular, when the light distribution is narrowed, a technique in which a convex lens is integrally formed on the upper part of the light emitting element is generally employed as generally seen in a bullet-type LED. Since bullet-type LEDs are extremely poor in heat dissipation, surface mount types are often used, but in this case as well, there is a method in which a convex lens is formed integrally with a mold or placed on a potted package. Often taken. Thus, when trying to mold the convex lens only by potting, the sealing liquid of the convex portion hangs down during the curing and becomes flat, which cannot be achieved. Therefore, a method for providing light distribution only by potting is required.

封止液の吐出方式としては、スクリュータイプなどのメカニカルなディスペンス方式、エアパルス式ディスペンス、非接触ジェット式ディスペンスなどが挙げられる。ポッティング装置であるディスペンサとしては、例えば具体的には武蔵エンジニアリング社、サンエイテック社などから出されている装置が使用される。   Examples of the sealing liquid discharging method include a screw type mechanical dispensing method, an air pulse type dispensing method, a non-contact jet dispensing method, and the like. As the dispenser which is a potting device, specifically, for example, devices provided by Musashi Engineering Co., Sanei Tech Co., etc. are used.

上記実施形態におけるポッティングにより、樹脂の硬化収縮を利用して凹みを作成するに当たり、その凹状面の曲率半径は適宜各条件を調整することにより行うことができる。例えば、素子の上面の高さ(仮想平面3b)の高さにたいして、そこに充填する液状封止剤の量を調節することにより行うことができる。例えば、高めの粘度の封止剤であれば、充填量を減らし液面を下げた方が、封止材の上面の高さの差が大きくなり、封止材の出光面3aの曲率半径は小さくなる傾向にある。ただし、充填量を減らすことにより曲率半径を小さくする方法は限度がある上、充填量を減らし過ぎるとボンディングワイヤや半導体発光素子が封止材から露出するおそれがあるため、充填量は適量に調整する必要がある。   When creating a dent using the curing shrinkage of the resin by potting in the above embodiment, the radius of curvature of the concave surface can be adjusted by appropriately adjusting each condition. For example, it can be performed by adjusting the amount of the liquid sealing agent to be filled with respect to the height of the upper surface of the element (the virtual plane 3b). For example, if the sealing agent has a higher viscosity, the difference in height of the upper surface of the sealing material becomes larger when the filling amount is reduced and the liquid level is lowered, and the radius of curvature of the light emitting surface 3a of the sealing material is It tends to be smaller. However, there is a limit to the method of reducing the radius of curvature by reducing the filling amount, and if the filling amount is reduced too much, bonding wires and semiconductor light emitting elements may be exposed from the encapsulant, so the filling amount is adjusted to an appropriate amount. There is a need to.

[アクリル系樹脂]
本発明の封止材は、リフレクターパッケージ基材の凹状空間に前記極性基含有アクリル系モノマーを付与し、該アクリル系モノマーを硬化させて賦形したものであることが好ましい。極性基を含有することでモノマーが比較的低分子であっても硬化時における揮発を抑制することができるため、前記の適切な凹み形状を形成することができる。なお、硬化中に該モノマーが揮発してしまう場合、再現良く目的の凹み形状を形成することができない。本明細書において極性基とは、電気的に分極された官能基を言い、具体的には電気陰性度の大きい酸素、窒素、硫黄などの元素を含む官能基が含まれる。
[Acrylic resin]
It is preferable that the sealing material of the present invention is formed by applying the polar group-containing acrylic monomer to the concave space of the reflector package base material and curing the acrylic monomer. By containing a polar group, volatilization at the time of curing can be suppressed even if the monomer is a relatively low molecule, and thus the above-described appropriate concave shape can be formed. In addition, when this monomer volatilizes during hardening, the target dent shape cannot be formed with good reproducibility. In the present specification, the polar group refers to an electrically polarized functional group, and specifically includes a functional group containing elements such as oxygen, nitrogen, and sulfur having high electronegativity.

極性基の具体例としてはヒドロキシル基、オリゴエチレングリコール基、イソシアヌル酸誘導体基、カルボキシル基、アルデヒド基、エーテル基、チオール基、スルホ基(スルホン酸基)、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオエーテル基、ジスルフィド基、リン酸基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、グアジニノ基、アセタール基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、またオキセタンなどの脂肪族へテロ環化合物誘導体基、フランやベンゾフランなどのへテロ環化合物誘導体基などを含むことが好ましく、副反応の抑制の観点からヒドロキシル基、オリゴエチレングリコール基、イソシアヌル酸誘導体基(好ましくは下式(A))が、特に好ましくはヒドロキシル基が好ましく選択される。   Specific examples of polar groups include hydroxyl groups, oligoethylene glycol groups, isocyanuric acid derivative groups, carboxyl groups, aldehyde groups, ether groups, thiol groups, sulfo groups (sulfonic acid groups), sulfinic acid groups, sulfenic acid groups, and thioether groups. , Disulfide groups, phosphate groups, amino groups, imino groups, cyano groups, guadinino groups, acetal groups, isocyanate groups, isothiocyanate groups, aliphatic heterocyclic compound derivative groups such as oxetane, and heterocycles such as furan and benzofuran. It is preferable to include a ring compound derivative group, and from the viewpoint of suppressing side reactions, a hydroxyl group, an oligoethylene glycol group, an isocyanuric acid derivative group (preferably the following formula (A)), and particularly preferably a hydroxyl group is preferably selected. The

Figure 0005767552
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・Ra1、Ra2、Ra3
式(A)中のRa1、Ra2、Ra3は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、水酸基を含有する基、炭素数1〜10のアルコキシ基を含有する基、炭素数6〜24のアリールオキシ基を含有する基、又は下記式(II)で表されるアシルオキシ基を含有する基を表す。ただし、Ra1、Ra2、及びRa3の少なくとも1つは結合手である。また、式(A)で表される1ユニットあたりRa1、Ra2、及びRa3の少なくとも平均0.5個以上が水酸基を含有する基である。なお、式(II)は下記式(1)と同義である。ここで、・・・を含有する基とは、当該置換基のほか、その置換基を含有する置換基を含む意味である。例えば、水酸基を含有する基とはヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアリール基等のほか、水酸基(ヒドロキシ基)そのものであってもよい。
・ R a1 , R a2 , R a3
R a1 , R a2 and R a3 in formula (A) are each independently a bond, a hydrogen atom, a group containing a hydroxyl group, a group containing an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or 6 to 24 carbon atoms. Or a group containing an acyloxy group represented by the following formula (II). However, at least one of R a1 , R a2 , and R a3 is a bond. In addition, at least 0.5 average of R a1 , R a2 and R a3 per unit represented by the formula (A) is a group containing a hydroxyl group. In addition, Formula (II) is synonymous with following formula (1). Here, the group containing... Means a substituent containing the substituent in addition to the substituent. For example, the group containing a hydroxyl group may be a hydroxyalkyl group, a hydroxyaryl group, or the like, or a hydroxyl group (hydroxy group) itself.

前記封止材は、その80%以上が有機成分であることが好ましい。また、前記アクリル系モノマーを硬化させたアクリル系樹脂としてはその95%以上が有機成分であることが好ましく、97〜100%が有機成分であることがより好ましい。有機成分が多いことでシリコーンやゾルゲル形成シリカのような無機成分に由来するガスバリア性の低さを低減することができる。また、ガスバリア性が高いことで硫化水素などの銀を硫化するガスの進入を防ぐことができるため、銀硫化によるリフレクター反射率の低下を抑制することができる。   It is preferable that 80% or more of the sealing material is an organic component. Further, 95% or more of the acrylic resin obtained by curing the acrylic monomer is preferably an organic component, and more preferably 97 to 100% is an organic component. Since there are many organic components, the low gas barrier property derived from inorganic components, such as silicone and sol-gel-formed silica, can be reduced. In addition, since the gas barrier property is high, it is possible to prevent the gas such as hydrogen sulfide from sulfiding silver from entering, and thus it is possible to suppress a decrease in the reflectance of the reflector due to silver sulfidation.

前記硬化前のアクリルモノマーのアクリル基もしくはメタクリル基の比率は、封止剤の総質量に対して、4mmol/g以上6.5mmol/g未満であるであることが好ましく、5.4mmol/g以上6.3mmol/g未満であることがより好ましい。該比率は大きいほど硬化前後における体積収縮を大きくすることができるため、封止材形状をパッケージ形状に合わせて適切に凹ませることができる。また、該比率が大きすぎると硬化収縮により硬化後の封止材にクラックが入ってしまう、または残留応力が大きくなりその後の衝撃でクラックが入ってしまうという問題がある。該比率を適切な範囲に調整する方法としては分子量が300〜500程度で1分子あたりアクリル基もしくはメタクリル基を2つ含有するモノマーを単独又は組み合わせて用いる方法が挙げられる。また、アクリル基もしくはメタクリル基の数に合わせて分子量の大きいモノマーを採用することもできる。極性基を含有するモノマーでこの範囲のものを採用することにより、揮発を抑制しつつ硬化収縮による適切な凹み形状を形成することができる。   The ratio of the acrylic group or methacryl group of the acrylic monomer before curing is preferably 4 mmol / g or more and less than 6.5 mmol / g with respect to the total mass of the sealant, and is 5.4 mmol / g or more. More preferably, it is less than 6.3 mmol / g. Since the volume shrinkage before and after curing can be increased as the ratio is increased, the shape of the sealing material can be appropriately recessed according to the package shape. Further, if the ratio is too large, there is a problem that the cured sealing material cracks due to curing shrinkage, or the residual stress becomes large and cracks are caused by a subsequent impact. Examples of a method for adjusting the ratio to an appropriate range include a method in which monomers having a molecular weight of about 300 to 500 and containing two acrylic groups or methacryl groups per molecule are used alone or in combination. In addition, a monomer having a large molecular weight can be employed according to the number of acrylic groups or methacrylic groups. By adopting a monomer having a polar group in this range, it is possible to form an appropriate dent shape due to curing shrinkage while suppressing volatilization.

前記硬化前のアクリル系モノマーは揮発性が低いことが好ましい。これは上記の通り、硬化中にモノマー成分が揮発してしまうと、再現良く目的の凹み形状を形成することができないためである。なお、前記封止液の量は一般的に1デバイス当たり数10mg未満と非常に量が少ないために、硬化温度が該モノマーの沸点以下だとしても、少しだけ揮発する成分の影響が大きい。揮発性の評価基準として、次の試験の揮発量を採用することができる。試験としては、TG/DTAにおいて該アクリル系モノマー5mgを3℃/分の昇温速度で、80℃60min+130℃60minで加熱し、そのときの重量減少を解析する。その際、該アクリル系モノマーの総量を100質量%とするときの揮発量が10質量%未満であることが好ましい。また、非揮発性としては限度はないが、揮発性が低い物は常温常圧で固体になりやすいため、その場合は液体成分に溶解して用いる必要がある。   The acrylic monomer before curing is preferably low in volatility. This is because, as described above, if the monomer component volatilizes during the curing, the desired dent shape cannot be formed with good reproducibility. In addition, since the amount of the sealing liquid is generally very small, such as less than several tens of mg per device, even if the curing temperature is lower than the boiling point of the monomer, the effect of the component that volatilizes a little is large. The volatilization amount of the next test can be adopted as the evaluation standard for volatility. As a test, 5 mg of the acrylic monomer is heated at 80 ° C. 60 min + 130 ° C. 60 min at a temperature increase rate of 3 ° C./min in TG / DTA, and the weight loss at that time is analyzed. At that time, the volatilization amount when the total amount of the acrylic monomer is 100% by mass is preferably less than 10% by mass. Moreover, although there is no limit as non-volatility, since a thing with low volatility tends to become a solid at normal temperature and normal pressure, it is necessary to melt | dissolve in a liquid component in that case.

本発明において好ましくは封止材が、リフレクターパッケージ基材の凹状空間に前記アクリル系樹脂を付与し、該アクリル系樹脂を硬化させて賦形したものである。前記アクリル系樹脂がイソシアヌル酸アクリレート誘導体重合物を有することが好ましく、50質量%以上(樹脂総量対比)含むことが好ましく、80%以上含むことがより好ましい。この時、イソシアヌル酸アクリレート誘導体としては、式1で示す化合物を指す。解析方法としては分解物のLC-MSやGC-MS、IR、NMRなどを組み合わせて使用することができる。イソシアヌル酸アクリレート誘導体重合物をこの範囲で含ませることにより、封止材としたときに、透明性、耐熱着色性、耐クラック性のすべてにおいて高い性能を付与でき、ポッティング性にも優れることから好ましい。   In the present invention, the sealing material is preferably formed by applying the acrylic resin to the concave space of the reflector package base material and curing the acrylic resin. The acrylic resin preferably has an isocyanuric acid acrylate derivative polymer, preferably 50% by mass or more (compared to the total amount of the resin), more preferably 80% or more. At this time, the isocyanuric acid acrylate derivative refers to the compound represented by Formula 1. As an analysis method, LC-MS, GC-MS, IR, NMR, etc. of decomposition products can be used in combination. By including an isocyanuric acid acrylate derivative polymer in this range, when used as a sealing material, high performance can be imparted in all of transparency, heat-resistant coloring property, and crack resistance, and it is preferable because of excellent potting properties. .

前記アクリル系樹脂は、硬化前後における体積収縮率が10%以上20%未満であることが好ましく、12%以上18%未満であることがより好ましい。このような体積収縮率とすることで、硬化後の封止材において、光学的に良好な凹状の出光面3aを形成することができ好ましい。
前記硬化前のアクリル系樹脂は、その粘度が800mPas以上20,000mPas未満であることが好ましく、1,000mPas以上10,000mPas未満であることがより好ましい。このような粘度領域とすることで、優れたポッティング適性を発揮し、目的とする凹状出光面の封止材が得られる点で好ましい。
The acrylic resin preferably has a volume shrinkage of 10% or more and less than 20% before and after curing, and more preferably 12% or more and less than 18%. By setting it as such a volumetric shrinkage rate, the optically favorable concave light-emitting surface 3a can be formed in the cured sealing material, which is preferable.
The viscosity of the acrylic resin before curing is preferably 800 mPas or more and less than 20,000 mPas, and more preferably 1,000 mPas or more and less than 10,000 mPas. By setting it as such a viscosity area | region, the outstanding potting aptitude is exhibited and it is preferable at the point from which the sealing material of the target concave light emission surface is obtained.

[特定イソシアヌレート化合物]
本発明の半導体発光装置の封止材を形成する封止剤については、イソシアヌレート構造を有する特定のアクリレート化合物(以下、特定イソシアヌレート化合物ということがある。)を特定濃度含有させ、必要により複数のものを特定の混合比で含有させてなることが好ましい。以下、本発明の好ましい実施形態についてさらに詳細に説明する。
[Specific isocyanurate compounds]
About the sealing agent which forms the sealing material of the semiconductor light-emitting device of this invention, the specific acrylate compound which has an isocyanurate structure (henceforth a specific isocyanurate compound) is contained by specific density | concentration, and if necessary, more than one Are preferably contained at a specific mixing ratio. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail.

[式(1)で表される化合物]
本発明においては、下記式(1)で表される特定イソシアヌレート化合物を用いることが好ましい。
[Compound represented by Formula (1)]
In the present invention, it is preferable to use a specific isocyanurate compound represented by the following formula (1).

Figure 0005767552
・R、R、R
式(1)中のR、R、Rは、それぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、炭素数6〜24のアリール基、下記式(I)で表されるアクリロイルオキシ基、又は下記式(II)で表されるアシルオキシ基を表す。Lは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。ただし、R、R、及びRの少なくとも1つは前記アクリロイルオキシ基である。
Figure 0005767552
・ R 1 , R 2 , R 3
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1) are each independently a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, It represents an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an acryloyloxy group represented by the following formula (I), or an acyloxy group represented by the following formula (II). L a represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. However, at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is the acryloyloxy group.

Figure 0005767552
式中、R11は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。*は結合手を表す。
Figure 0005767552
In the formula, R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. * Represents a bond.

Figure 0005767552
式中、R12は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数6〜24のアリール基を表す。*は結合手を表す。
Figure 0005767552
In the formula, R 12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 24 carbon atoms. * Represents a bond.

、R、R、R12において、炭素数1〜10のアルキル基としては直鎖のアルキル基、分岐のアルキル基、環状アルキル基が上げられるが、中でも、炭素数3〜10の直鎖のアルキル基、炭素数6〜10の分岐のアルキル基、炭素数6〜10の環状アルキル基が好ましい。
式(II)で表されるアシルオキシ基としては、式中R12がアルキル基の場合、直鎖のアルキル基、分岐のアルキル基、環状アルキル基が上げられるが、中でも、炭素数3〜10の直鎖のアルキル基、炭素数6〜10の分岐のアルキル基、炭素数6〜10の環状アルキル基が好ましい。
式(II)中のR12がアリール基の場合、アリール基としては、単環でも複環でもよいが、中でもフェニル基が好ましい。
前記アルキル基及びアリール基はさらに置換基を伴っていてもよく、その例としては後記置換基Tが挙げられる。
In R 1 , R 2 , R 3 , and R 12 , examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a straight chain alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group. A linear alkyl group, a branched alkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 6 to 10 carbon atoms are preferable.
As the acyloxy group represented by the formula (II), when R 12 is an alkyl group, a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group can be mentioned. A linear alkyl group, a branched alkyl group having 6 to 10 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 6 to 10 carbon atoms are preferable.
When R 12 in the formula (II) is an aryl group, the aryl group may be monocyclic or multicyclic, and among them, a phenyl group is preferable.
The alkyl group and aryl group may be further accompanied by a substituent, and examples thereof include the substituent T described later.

は炭素数1〜4のアルキレン基であるが、中でもエチレン基又はイソプロピレン基(N−CH−CH(CH)−Rの向き:RはR、R、又はR)が好ましく、エチレン基がより好ましい。 L a is is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, among them ethylene group or an isopropylene group (N-CH 2 -CH (CH 3) -R orientation: R is R 1, R 2, or R 3) Are preferable, and an ethylene group is more preferable.

[封止剤の成分組成]
本発明の封止剤においては、上記式(1)で表される化合物の濃度は、封止剤の有機成分全量に対して80質量%超であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。上限は特になく、重合開始剤を除いて言うと実質的に100質量%程度であることが特に好ましい。ここで実質的にとしたのは、トルエンなどの残溶媒が、0〜10質量%程度の割合で混入してしまうことがあり、本発明の効果を損ねない範囲でそのような不可避混入物の存在を許容するものである。あるいは、封止剤の粘度を下げる必要がある場合などには、必要量の添加剤を付与してもよい。また、封止剤は、必須成分に加え後記重合禁止剤など必要に応じて任意成分を含んでもよいが、無溶媒で用いることが好ましい。このように無溶媒でありながら十分な流動性と好適な粘性を有するため、半導体発光素子の封止剤の成形性に優れる。とりわけポッティングによる成形に効果的に対応することができ、モールド成形などと比し、大幅な製造効率の改善にも資するものである。なお、封止剤の有機成分とは炭素原子を含む化合物からなる成分をさすが、炭素原子を含んでいても蛍光体は含まない意味である。その他、厳密には水や無機塩などの微量成分も除く意味である。
[Component composition of sealant]
In the sealing agent of this invention, it is preferable that the density | concentration of the compound represented by the said Formula (1) is more than 80 mass% with respect to the organic component whole quantity of a sealing agent, and it is 90 mass% or more. Is more preferably 95% by mass or more. There is no particular upper limit, and it is particularly preferably about 100% by mass when excluding the polymerization initiator. Here, substantially, the residual solvent such as toluene may be mixed at a rate of about 0 to 10% by mass, and such inevitable contaminants are included within a range that does not impair the effects of the present invention. It allows existence. Alternatively, when it is necessary to lower the viscosity of the sealant, a necessary amount of additive may be added. In addition to the essential components, the sealant may contain an optional component such as a polymerization inhibitor described below as required, but is preferably used without a solvent. Thus, since it has sufficient fluidity | liquidity and suitable viscosity, it is excellent in the moldability of the sealing agent of a semiconductor light-emitting element, without solvent. In particular, it can effectively cope with molding by potting, and contributes to a significant improvement in production efficiency as compared with molding. In addition, although the organic component of sealing agent refers to the component which consists of a compound containing a carbon atom, even if it contains a carbon atom, the meaning which does not contain fluorescent substance. In addition, strictly speaking, it is meant to exclude trace components such as water and inorganic salts.

封止剤の粘土は特に限定されないが、ポッティング性および蛍光体安定分散性の観点で、0.1〜100Pa.sが好ましく、0.5〜20Pa.sがより好ましく、1.0〜10Pa.sが更に好ましい。本発明において粘度は特に断らない限り、下記の方法で測定した値を言う。
(粘度の測定法)
本発明においては、特に断らない限り、後記実施例で採用した方法によるものとする。
The clay of the sealant is not particularly limited, but is 0.1 to 100 Pa. From the viewpoint of potting property and phosphor stable dispersibility. s is preferable, and 0.5 to 20 Pa.s. s is more preferable, and 1.0 to 10 Pa.s. s is more preferable. In the present invention, the viscosity is a value measured by the following method unless otherwise specified.
(Measurement method of viscosity)
In the present invention, unless otherwise specified, it is based on the method employed in the examples described later.

封止剤は重合開始剤を有してなることが好ましい。重合開始剤はこの種の重合性化合物に通常適用されるものであればよく、その具体的なものは後述する。重合開始剤の量は特に限定されないが、0.1質量%以上5以下であることが好ましく、0.5質量%以上2.0以下であることがより好ましい。上記下限値以上とすることで重合反応を良好に開始させることができる。一方、上記上限値以下とすることで、上記特定イソシアヌレート化合物を適用したことによる封止剤の優れた効果を十分に引き出すことができ好ましい。   It is preferable that the sealing agent has a polymerization initiator. The polymerization initiator is not particularly limited as long as it is usually applied to this type of polymerizable compound, and specific examples thereof will be described later. The amount of the polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more and 5 or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 2.0 or less. By setting it to the above lower limit or more, the polymerization reaction can be favorably started. On the other hand, by setting it to the upper limit value or less, it is preferable because the excellent effect of the sealant due to the application of the specific isocyanurate compound can be sufficiently obtained.

(イソシアヌレート化合物[A])
前記式(1)で表される特定イソシアヌレート化合物は、下記式(1−1)、(1−2)、又は(1−3)で表されるものであることが好ましい。本明細書では、この式(1−1)、(1−2)、又は(1−3)で表される化合物の総称としてイソシアヌレート化合物[A]と呼ぶ。
(Isocyanurate compound [A])
The specific isocyanurate compound represented by the formula (1) is preferably one represented by the following formula (1-1), (1-2), or (1-3). In this specification, the isocyanurate compound [A] is referred to as a general term for the compounds represented by the formula (1-1), (1-2), or (1-3).

Figure 0005767552
Figure 0005767552

・R、R、R、R
式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に、水素又はメチル基である。Rは、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、および式(II)で表されるアシルオキシ基の何れか1種以上である。Lは式(1)と同義である。
Laは式(1)と同義である。
・ R 4 , R 5 , R 6 , R 7
In the formula, R 4 , R 5 , and R 6 are each independently hydrogen or a methyl group. R 7 is at least one of a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, and an acyloxy group represented by the formula (II). L a is as defined for formula (1).
La is synonymous with Formula (1).

上記イソシアヌレート化合物[A]は、上記各式の化合物について特定の比率で含有させることがこのましい。前記イソシアヌレート化合物[A]を100質量%としたとき、式(1−1)で表される化合物が0質量%以上35質量%以下であることが好ましく、0質量%以上25質量%以下であることがより好ましく、0質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。
式(1−2)で表される化合物が65質量%以上100質量%以下であることが好ましく、70質量%以上100質量%以下であることがより好ましく、80質量%以上100質量%以下であることが特に好ましい。
式(1−3)で表される化合物が0質量%以上25質量%以下であることが好ましく、0質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、0質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。
The isocyanurate compound [A] is preferably contained in a specific ratio with respect to the compounds of the above formulas. When the isocyanurate compound [A] is 100% by mass, the compound represented by the formula (1-1) is preferably 0% by mass to 35% by mass, and 0% by mass to 25% by mass. More preferably, it is particularly preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less.
The compound represented by the formula (1-2) is preferably 65% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less, and 80% by mass or more and 100% by mass or less. It is particularly preferred.
The compound represented by the formula (1-3) is preferably 0% by mass to 25% by mass, more preferably 0% by mass to 15% by mass, and 0% by mass to 10% by mass. It is particularly preferred.

イソシアヌレート化合物[A]をそれぞれ上記の比率で含有させることで、透明性と、耐熱着色性と、耐熱衝撃性と、ガスバリア性を一層高いレベルで満足することができる。   By containing the isocyanurate compound [A] at the above-mentioned ratios, transparency, heat resistance coloring property, heat shock resistance and gas barrier property can be satisfied at a higher level.

本発明においては、前記特定イソシアヌレート化合物が、下記式(1−4)で表される化合物を1質量%以上50質量%未満含むことが好ましい。本明細書では、この式(1−4)で表される化合物をイソシアヌレート化合物[B]と呼ぶ。   In this invention, it is preferable that the said specific isocyanurate compound contains 1 mass% or more and less than 50 mass% of compounds represented by following formula (1-4). In this specification, the compound represented by the formula (1-4) is referred to as an isocyanurate compound [B].

Figure 0005767552
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・R、R、R12は、式(1−1)及び式(II)と同義である。Lは式(1)と同義である。 * R < 4 >, R < 5 >, R < 12 > is synonymous with Formula (1-1) and Formula (II). L a is as defined for formula (1).

イソシアヌレート化合物[B]の添加量は特に限定されないが、1質量%以上50質量%未満で含むことが好ましく、3質量%以上40質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上30質量%以下であることが特に好ましい。上記の範囲でイソシアヌレート化合物[B]を適用することで、硬化物の耐熱衝撃性(耐クラック性)、および耐熱着色性を悪化させることなく吸水率を低下させることができ、吸水起因による故障(例えば、吸水した状態でリフロー処理を行った際に発生する吸湿リフロークラックなど)を低下させることが可能であり、結果、信頼性の高いLED素子を提供することができる。   The addition amount of the isocyanurate compound [B] is not particularly limited, but it is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 40% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass. % Or less is particularly preferable. By applying the isocyanurate compound [B] within the above range, it is possible to reduce the water absorption rate without deteriorating the thermal shock resistance (crack resistance) and heat resistance colorability of the cured product. (For example, moisture-absorbing reflow cracks generated when reflow treatment is performed in a water-absorbed state) can be reduced, and as a result, a highly reliable LED element can be provided.

本実施形態の封止剤は、その酸価が0.10mgKOH/g以下であることが好ましく、0.05mgKOH/g以下であることがより好ましく、0.02mgKOH/g以下であることが特に好ましい。上記上限値以下とすることで耐熱着色性がよりいっそう向上するという利点があり好ましい。下限値は特に限定されないが、0.001mgKOH/g以上であることが実際的である。封止剤の酸価の調節方法は特に限定されないが、活性炭やシリカ等の吸着剤と本実施形態のイソシアヌレート化合物とを混ぜ合わせ、静置した後、ろ過により吸着剤を除去することにより、イソシアヌレート化合物の酸価を低下させることができる。   The sealant of this embodiment preferably has an acid value of 0.10 mgKOH / g or less, more preferably 0.05 mgKOH / g or less, and particularly preferably 0.02 mgKOH / g or less. . It is preferable that the heat resistance colorability is further improved by setting the amount to the upper limit or less. Although a lower limit is not specifically limited, It is practical that it is 0.001 mgKOH / g or more. Although the method for adjusting the acid value of the sealant is not particularly limited, the adsorbent such as activated carbon or silica and the isocyanurate compound of the present embodiment are mixed and left standing, and then the adsorbent is removed by filtration. The acid value of the isocyanurate compound can be reduced.

なお、本明細書において「化合物」という語を末尾に付して呼ぶとき、あるいは特定の名称ないし化学式で示すときには、当該化合物そのものに加え、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、所望の効果を奏する範囲で、所定の形態で修飾された誘導体を含む意味である。また、本明細書において置換・無置換を明記していない置換基については、その基に任意の置換基を有していてもよい意味である。これは置換・無置換を明記していない化合物についても同義である。好ましい置換基としては、下記置換基Tが挙げられる。   In the present specification, when the term “compound” is added at the end or indicated by a specific name or chemical formula, it is used in the meaning including its salt and its ion in addition to the compound itself. Moreover, it is the meaning including the derivative modified with the predetermined form in the range with the desired effect. In addition, in the present specification, a substituent that does not specify substitution / non-substitution means that the group may have an arbitrary substituent. This is also synonymous for compounds that do not specify substitution / non-substitution. Preferred substituents include the following substituent T.

置換基Tとしては、下記のものが挙げられる。
アルキル基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘプチル、1−エチルペンチル、ベンジル、2−エトキシエチル、1−カルボキシメチル等)、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、オレイル等)、アルキニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルキニル基、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等)、シクロアルキル基(好ましくは炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル等)、アリール基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリール基、例えば、フェニル、1−ナフチル、4−メトキシフェニル、2−クロロフェニル、3−メチルフェニル等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素原子数2〜20のヘテロ環基、例えば、2−ピリジル、4−ピリジル、2−イミダゾリル、2−ベンゾイミダゾリル、2−チアゾリル、2−オキサゾリル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、1−ナフチルオキシ、3−メチルフェノキシ、4−メトキシフェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、例えば、エトキシカルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル等)、アミノ基(好ましくは炭素原子数0〜20のアミノ基、例えば、アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−エチルアミノ、アニリノ等)、スルホンアミド基(好ましくは炭素原子数0〜20のスルホンアミド基、例えば、N,N−ジメチルスルホンアミド、N−フェニルスルホンアミド等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルオキシ基、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、カルバモイル基(好ましくは炭素原子数1〜20のカルバモイル基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルアミノ基、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、シアノ基、又はハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)であり、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子であり、特に好ましくはアルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基又はシアノ基が挙げられる。
Examples of the substituent T include the following.
An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, pentyl, heptyl, 1-ethylpentyl, benzyl, 2-ethoxyethyl, 1-carboxymethyl, etc.), alkenyl A group (preferably an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl, allyl, oleyl, etc.), an alkynyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as ethynyl, butadiynyl, phenylethynyl, etc.), A cycloalkyl group (preferably a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, etc.), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 26 carbon atoms, for example, Phenyl, 1-naphthyl, 4-methoxyphenyl, -Chlorophenyl, 3-methylphenyl, etc.), heterocyclic groups (preferably heterocyclic groups having 2 to 20 carbon atoms, such as 2-pyridyl, 4-pyridyl, 2-imidazolyl, 2-benzimidazolyl, 2-thiazolyl, 2 -Oxazolyl etc.), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, isopropyloxy, benzyloxy etc.), an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 26 carbon atoms) , For example, phenoxy, 1-naphthyloxy, 3-methylphenoxy, 4-methoxyphenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (preferably C2-C20 alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl, 2-ethylhexyloxycarbonyl, etc.) ), Amino group (preferably carbon Amino group having 0 to 20 children, such as amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, N-ethylamino, anilino, etc.), sulfonamide group (preferably sulfonamide having 0 to 20 carbon atoms) A group such as N, N-dimethylsulfonamide, N-phenylsulfonamide, etc., an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms such as acetyloxy, benzoyloxy, etc.), a carbamoyl group (preferably A carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), an acylamino group (preferably an acylamino group having 1 to 20 carbon atoms, such as acetylamino, benzoylamino, etc.) , A cyano group, or a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom) More preferably an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, alkoxycarbonyl group, amino group, acylamino group, cyano group or halogen atom, Particularly preferred are an alkyl group, an alkenyl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group, and a cyano group.

上記特定イソシアヌレート化合物は定法により合成すればよく、特にその合成方法は限定されない。その市販品等の情報は、例えば、特開2003−213159号公報を参照することができる。   The specific isocyanurate compound may be synthesized by a conventional method, and the synthesis method is not particularly limited. For information on such commercial products, reference can be made to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-213159.

[重合開始剤]
本実施形態の封止剤には、重合開始剤を含有させる。
なかでもラジカル重合開始剤を配合することが挙げられる。
熱によって開裂して開始ラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド及びメチルシクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類;1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド及びt−ブチルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類;ジイソブチリルパーオキサイド、ビス−3,5,5−トリメチルヘキサノールパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド及びm−トルイルベンゾイルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類;ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキセンなどのジアルキルパーオキサイド類;1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチル)シクロヘキサン、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン及び2,2−ジ(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどのパーオキシケタール類;1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシネオジカーボネート、α−クミルペルオキシネオジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオジカーボネート、t−ヘキシルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルペルオキシヘキサヒドロテレフタレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサネート、t−アミルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシベンゾエート及びジブチルペルオキシトリメチルアジペートなどのアルキルパーエステル類;ジ−3−メトキシブチルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート、ビス(1,1−ブチルシクロヘキサオキシジカーボネート)、ジイソプロピルオキシジカーボネート、t−アミルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート及び1,6−ビス(t−ブチルペルオキシカルボキシ)ヘキサンなどのパーオキシカーボネート類;1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)シクロヘキサン及び(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカルボネートなどが挙げられる。
アゾ系(AIBN等)の重合開始剤として使用するアゾ化合物の具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、4,4’−アゾビス−4−シアノバレリック酸、2,2’−アゾビス−(2−アミジノプロパン)ジハイドロクロライド等が挙げられる(特開2010−189471など参照)。
[Polymerization initiator]
The sealing agent of this embodiment contains a polymerization initiator.
Among these, a radical polymerization initiator is added.
Examples of thermal radical polymerization initiators that generate initiation radicals by cleavage by heat include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1 Hydroperoxides such as 1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide; diisobutyryl peroxide, bis-3,5,5-trimethylhexanol peroxide, lauroyl peroxide Diacyl peroxides such as oxide, benzoyl peroxide and m-toluyl benzoyl peroxide; dicumyl peroxide, 2, 5 Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide and 2,5-dimethyl- Dialkyl peroxides such as 2,5-di (t-butylperoxy) hexene; 1,1-di (t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl) cyclohexane, 1,1-di-t-butylperoxy Peroxyketals such as cyclohexane and 2,2-di (t-butylperoxy) butane; 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodicarbonate, α-cumylperoxyneodicarbonate, t-butylperoxyneodicarbonate , T-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butyl Peroxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-3,5,5-trimethylhexanate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethyl Alkyl peresters such as hexanoate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate and dibutylperoxytrimethyladipate; di-3-methoxybutylperoxy Dicarbonate, di-2-ethylhexyl Ruperoxydicarbonate, bis (1,1-butylcyclohexaoxydicarbonate), diisopropyloxydicarbonate, t-amylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexylcarbonate and 1, Peroxycarbonates such as 6-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane; 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane and (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate.
Specific examples of the azo compound used as an azo-based (AIBN or the like) polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2, 2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 4,4'-azobis-4-cyano Valeric acid, 2,2′-azobis- (2-amidinopropane) dihydrochloride and the like can be mentioned (see JP 2010-189471 A).

ラジカル重合開始剤として、上記の熱ラジカル重合開始剤の他に、光、電子線又は放射線で開始ラジカルを生成するラジカル重合開始剤を用いることができる。
このようなラジカル重合開始剤としては、ベンゾインエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン〔IRGACURE651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン〔IRGACURE184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン〔DAROCUR1173、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン〔IRGACURE2959、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ヒドロキシ−1−[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン〔IRGACURE127、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン〔IRGACURE907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1〔IRGACURE369、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モノホリニル)フェニル]−1−ブタノン〔IRGACURE379、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド〔DAROCUR TPO、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド〔IRGACURE819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、ビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム〔IRGACURE784、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]〔IRGACURE OXE 01、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)〔IRGACURE OXE 02、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕などを挙げることができる。
これらのラジカル重合開始剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
中でも好ましくは、パーオキサイド化合物が挙げられ、パーブチルO(t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、日油(株)社製)などを用いることができる。
重合開始剤の含有量は特に限定されないが、0.1〜5質量%で適用することが好ましい。
As the radical polymerization initiator, in addition to the thermal radical polymerization initiator, a radical polymerization initiator that generates an initiation radical by light, electron beam, or radiation can be used.
Examples of such radical polymerization initiators include benzoin ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [IRGACURE651, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 1-hydroxy-cyclohexyl. -Phenyl-ketone [IRGACURE184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trademark], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one [DAROCUR1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Trademarks], 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one [IRGACURE2959, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 2 -Hydroxy-1- [4- [4- (2-H Roxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl] -2-methyl-propan-1-one [IRGACURE127, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) ) -2-morpholinopropan-1-one [IRGACURE907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 [ IRGACURE 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., trademark], 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-monophorinyl) phenyl] -1-butanone [IRGACURE 379, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide [DAROCUR TPO, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide [IRGACURE819, Ciba Specialty Chemicals, Inc., Trademark], bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) Titanium [IRGACURE784, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)] [IRGACURE OXE 01, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Trademark], D Non, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) [IRGACURE OXE 02, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , Trademark] and the like.
These radical polymerization initiators can be used singly or in combination of two or more.
Among them, a peroxide compound is preferable, and perbutyl O (t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, manufactured by NOF Corporation) and the like can be used.
Although content of a polymerization initiator is not specifically limited, It is preferable to apply at 0.1-5 mass%.

[重合禁止剤]
本実施形態の封止剤には、重合禁止剤を添加してもよい。前記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、tert−ブチルハイドロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のフェノール類;ベンゾキノン、ジフェニルベンゾキノン等のキノン類;フェノチアジン類;銅類等を用いることができる。
重合禁止剤の含有量は特に限定されないが、0〜20000ppm、好ましくは100〜10000ppm、更に好ましくは300〜8000ppmで添加することが好ましい。重合禁止剤の添加量が少なすぎると、封止硬化時に、急激に発熱を生じながら重合が起こるため、リフレクターパッケージ基材との密着性が低下し、熱衝撃を与えた際に、封止材/基材界面で剥離が生じやすくなる。一方、重合禁止剤の添加量が多すぎると、大気下で封止剤を硬化する際、硬化速度を著しく低下させ、表面硬化不良を引き起こす。
[Polymerization inhibitor]
A polymerization inhibitor may be added to the sealant of this embodiment. Examples of the polymerization inhibitor include phenols such as hydroquinone, tert-butylhydroquinone, catechol, and hydroquinone monomethyl ether; quinones such as benzoquinone and diphenylbenzoquinone; phenothiazines; copper and the like.
The content of the polymerization inhibitor is not particularly limited, but it is preferably 0 to 20000 ppm, preferably 100 to 10000 ppm, more preferably 300 to 8000 ppm. If the addition amount of the polymerization inhibitor is too small, the polymerization occurs while generating heat abruptly at the time of sealing and curing, so that the adhesiveness with the reflector package substrate is lowered and the sealing material is applied when a thermal shock is applied. / Peeling easily occurs at the substrate interface. On the other hand, when the addition amount of the polymerization inhibitor is too large, when the sealant is cured in the air, the curing rate is remarkably reduced, resulting in poor surface curing.

[蛍光体]
本実施形態においては、封止剤100質量部に対し蛍光体1〜40質量部を配合してなることが好ましく、2質量部以上30質量部以下であることがより好ましく、5質量部以上20質量部以下であることが特に好ましい。蛍光体としては、この種のデバイスに通常用いられるものを適用すればよいが、例えば、代表的な黄色蛍光体として、一般式A5012:M(式中、成分Aは、Y,Gd,Tb,La,Lu,Se及びSmからなるグループの少なくとも1つの元素を有し、成分Bは、Al,Ga及びInからなるグループの少なくとも一つの元素を有し、成分MはCe,Pr,Eu,Cr,Nd及びErからなるグループの少なくとも一つの元素を有する。)のガーネットのグループからなる蛍光体粒子を含有するのが特に有利である。青色光を放射する発光ダイオードチップを備えた白色光を放射する発光ダイオード素子用に蛍光体として、Yl512:Ce蛍光体及び/又は(Y,Gd,Tb)(Al,Ga)12:Ce蛍光体が適している。その他の蛍光体として、例えば、CaGa:Ce3+及びSrGa:Ce3+、YAlO:Ce3+、YGaO:Ce3+、Y(Al,Ga)O:Ce3+、YSiO:Ce3+等が挙げられる(特開2011−144360など参照)。また、混合色光を作製するためには、これらの蛍光体の他に希土類でドープされたアルミン酸塩や希土類でドープされたオルトケイ酸塩などが適している。この種の蛍光体を硬化性組成物100質量部に対して1〜50質量部配合することで、青色に発光する素子を用いたとき、その発光色を白色に変換することができる。
[Phosphor]
In this embodiment, it is preferable to mix | blend 1-40 mass parts of fluorescent substance with respect to 100 mass parts of sealing agents, It is more preferable that they are 2 mass parts or more and 30 mass parts or less, 5 mass parts or more 20 It is particularly preferable that the amount is not more than part by mass. As the phosphor, those usually used in this type of device may be applied. For example, as a typical yellow phosphor, a general formula A 3 B 50 O 12 : M (wherein component A is Y , Gd, Tb, La, Lu, Se, and Sm, the component B includes at least one element of the group consisting of Al, Ga, and In, and the component M includes Ce, It is particularly advantageous to contain phosphor particles comprising the garnet group of at least one element of the group consisting of Pr, Eu, Cr, Nd and Er. Y 3 A 15 O 12 : Ce phosphor and / or (Y, Gd, Tb) 3 (Al, Ga) as a phosphor for a light emitting diode element that emits white light with a light emitting diode chip that emits blue light. ) 5 O 12 : Ce phosphor is suitable. Other phosphors include, for example, CaGa 2 S 4 : Ce 3+ and SrGa 2 S 4 : Ce 3+ , YAlO 3 : Ce 3+ , YGaO 3 : Ce 3+ , Y (Al, Ga) O 3 : Ce 3+ , Y 2 Examples thereof include SiO 5 : Ce 3+ (see JP 2011-144360 A). In addition to these phosphors, aluminate doped with rare earths or orthosilicates doped with rare earths are suitable for producing mixed color light. By blending 1 to 50 parts by mass of this type of phosphor with respect to 100 parts by mass of the curable composition, when an element emitting blue light is used, the emission color can be converted to white.

[酸化防止剤]
本実施形態の封止剤には必要に応じて酸化防止剤を含有させることが好ましい。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、チオエーテル酸化防止剤、ビタミン系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
[Antioxidant]
It is preferable that the sealant of this embodiment contains an antioxidant as necessary. Examples of antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, thioether antioxidants, vitamin antioxidants, lactone antioxidants, and amine antioxidants. .

フェノール系酸化防止剤としては、Irganox1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox1076(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox1330(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox3114(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox3125(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、アデカスタブAO−20(株式会社ADEKA、商標)、アデカスタブAO−50(株式会社ADEKA、商標)、アデカスタブAO−60(株式会社ADEKA、商標)、アデカスタブAO−80(株式会社ADEKA、商標)、アデカスタブAO−30(株式会社ADEKA、商標)、アデカスタブAO−40(株式会社ADEKA、商標)、BHT(武田薬品工業(株)製、商標)、Cyanox1790(サイアナミド社製、商標)、SumiliZerGP(住友化学(株)製、商標)、SumiliZerGM(住友化学(株)製、商標)、SumiliZerGS(住友化学(株)製、商標)及び、SumiliZerGA−80(住友化学(株)製、商標)などの市販品を挙げることができる。   Examples of phenolic antioxidants include Irganox 1010 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 1076 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 1330 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Trademark), Irganox 3114 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 3125 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), ADK STAB AO-20 (ADEKA Corporation, Trademark), ADK STAB AO-50 ( ADEKA Corporation (trademark), ADK STAB AO-60 (ADEKA Corporation), ADK STAB AO-80 (ADEKA Corporation), ADK STAB AO-30 (ADEKA Corporation), Adeka Stub AO-40 (ADEKA, Inc., trademark), BHT (produced by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., trademark), Cyanox 1790 (produced by Cyanamid, trademark), SumiliZerGP (produced by Sumitomo Chemical, trademark), SumiliZerGM (Sumitomo Chemical) Commercial products such as (trademark), SumiliZerGS (trademark, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and SumiliZerGA-80 (trademark, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) can be given.

リン系化合物としてはIRAGAFOS168(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS12(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS38(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS P−EPQ(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS126(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、ADKSTAB 329K(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB PEP−36(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB PEP−8(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB HP−10(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB 2112(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB 260(株式会社ADEKA、商標)、ADKSTAB 522A(株式会社ADEKA、商標)、Weston 618(GE社製、商標)、Weston 619G(GE社製、商標)、及びWeston 624(GE社製、商標)などの市販品を挙げることができる。   Examples of phosphorus compounds include IRAGAFOS 168 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS 12 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS 38 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS P-EPQ (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), IRAGAFOS 126 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), ADKSTAB 329K (ADEKA, trademark), ADKSTAP PEP-36 (trade name) ADEKA, trademark), ADKSTAP PEP-8 (ADEKA, trademark), ADKSTAB HP-10 (ADEKA, trademark), ADKSTAB 2112 (ADEKA, trademark), DKSTAB 260 (ADEKA Corporation, trademark), ADKSTAB 522A (ADEKA Corporation, trademark), Weston 618 (GE Corporation, trademark), Weston 619G (GE Corporation, trademark), and Weston 624 (GE Corporation, trademark) And other commercial products.

イオウ系酸化防止剤としては、DSTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、DLTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、DLTOIB〔吉富(株)製、商標〕、DMTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、Seenox 412S〔シプロ化成(株)製、商標〕、Cyanox 1212(サイアナミド社製、商標)及びTP−D、TPS、TPM、TPL−R[住友化学(株)製、商標]等の市販品を挙げることができる。ビタミン系酸化防止剤としては、トコフェロール〔エーザイ(株)製、商標〕及びIrganoxE201〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標、化合物名;2,5,7,8−テトラメチル−2(4’,8’,12’−トリメチルトリデシル)クマロン−6−オール〕などの市販品を挙げることができる。   Examples of sulfur-based antioxidants include DSTP (Yoshitomi) (trademark), DLTP (Yoshitomi) (trademark, produced by Yoshitomi Corporation), DLTOIB (trademark, produced by Yoshitomi Corporation), DMTP (Yoshitomi). ) [Trademark] made by Yoshitomi Co., Ltd., Seenox 412S [trademark made by Sipro Kasei Co., Ltd.], Cyanox 1212 (trademark made by Cyanamid Co., Ltd.) and TP-D, TPS, TPM, TPL-R [Sumitomo Chemical Co., Ltd. ), Trade name, etc.). Examples of vitamin-based antioxidants include tocopherol (trade name, manufactured by Eisai Co., Ltd.) and Irganox E201 (trade name, compound name: 2,5,7,8-tetramethyl-2 (4, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). Commercial products such as ', 8', 12'-trimethyltridecyl) coumarone-6-ol].

チオエーテル系酸化防止剤としては、アデカスタブAO−412S(株式会社ADEKA製、商標)、アデカスタブAO−503(株式会社ADEKA製、商標)などの市販品を挙げることができる。ラクトン系酸化防止剤としては、特開平7−233160号公報及び特開平7−247278号公報に記載されているものを使用することができる。また、HP−136〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標、化合物名;5,7−ジ−t−ブチル−3−(3,4−ジメチルフェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オン〕などの市販品を挙げることができる。   Examples of the thioether-based antioxidant include commercial products such as ADK STAB AO-412S (trademark manufactured by ADEKA Corporation) and ADK STAB AO-503 (trademark manufactured by ADEKA Corporation). As the lactone antioxidant, those described in JP-A-7-233160 and JP-A-7-247278 can be used. Moreover, HP-136 [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trademark, compound name; 5,7-di-t-butyl-3- (3,4-dimethylphenyl) -3H-benzofuran-2-one] And other commercial products.

アミン系酸化防止剤としては、IrgastabFS042〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕及びGENOX EP〔クロンプトン社製、商標、化合物名;ジアルキル−N−メチルアミンオキサイド〕などの市販品を挙げることができる。これらの酸化防止剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができ る。   Examples of amine-based antioxidants include commercially available products such as Irgastab FS042 [trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] and GENOX EP [trade name, compound name; dialkyl-N-methylamine oxide] manufactured by Crompton Co., Ltd. Can do. These antioxidants can be used singly or in combination of two or more.

酸化防止剤の含有量は、半導体発光装置用樹脂材料の透明性、黄変性の低下を抑制する観点から、前記誘導体A又はBとの合計量100質量部に対して、通常0.01〜10質量部、好ましくは0.01〜5質量部、より好ましくは0.02〜2質量部である。   The content of the antioxidant is usually 0.01 to 10 with respect to 100 parts by mass of the total amount with the derivative A or B from the viewpoint of suppressing the transparency of the resin material for a semiconductor light emitting device and the reduction in yellowing. It is a mass part, Preferably it is 0.01-5 mass part, More preferably, it is 0.02-2 mass part.

[光安定剤等]
本実施形態の封止剤には、前記の酸化防止剤の他に、必要に応じて、滑剤、光安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、帯電防止剤、無機充填剤、着色剤、帯電防止剤、離型剤、難燃剤、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機化合物との密着性改良を目的とした成分などを配合することができる。滑剤としては、高級ジカルボン酸金属塩及び高級カルボン酸エステル等を使用することができる。
[Light stabilizers, etc.]
In addition to the above-described antioxidant, the sealant of this embodiment includes a lubricant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a plasticizer, an antistatic agent, an inorganic filler, a colorant, and an antistatic agent as necessary. Agents, mold release agents, flame retardants, components for the purpose of improving adhesion with inorganic compounds such as titanium oxide and silicon oxide, and the like can be blended. As the lubricant, higher dicarboxylic acid metal salts, higher carboxylic acid esters, and the like can be used.

光安定剤としては、公知のものを使用することができるが、好ましくはヒンダードアミン系光安定剤である。ヒンダードアミン系光安定剤の具体例としては、ADKSTAB LA−77、同LA−57、同LA−52、同LA−62、同LA−67、同LA−68、同LA−63、同LA−94、同LA−94、同LA−82及び同LA−87〔以上、株式会社ADEKA製〕、Tinuvin123、同144、同440及び同662、Chimassorb2020、同119、同944〔以上、CSC社製〕、Hostavin N30(Hoechst社製)、Cyasorb UV−3346、同UV−3526(以上、Cytec社製)、Uval 299(GLC)及びSanduvorPR−31(Clariant)などを挙げることができる。これらの光安定剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。   Any known light stabilizer can be used, but a hindered amine light stabilizer is preferred. Specific examples of the hindered amine light stabilizer include ADKSTAB LA-77, LA-57, LA-52, LA-62, LA-67, LA-68, LA-63, and LA-94. LA-94, LA-82 and LA-87 (above, manufactured by ADEKA Corporation), Tinuvin 123, 144, 440 and 662, Chimassorb 2020, 119, 944 (above, manufactured by CSC), Examples include Hostavin N30 (manufactured by Hoechst), Cyasorb UV-3346, UV-3526 (manufactured by Cytec), Uval 299 (GLC), and SanduvorPR-31 (Clariant). These light stabilizers can be used singly or in combination of two or more.

光安定剤の使用量は、前記誘導体A又はBとの合計量100質量部に対して、通常、0.005〜5質量部であり、好ましくは0.02〜2質量部である。
酸化チタンや酸化ケイ素などの無機化合物との密着性改良を目的とした成分としては、シラン化合物のメタクリオキシ基やアクリロキシ基を含むシランカップリング剤などが挙げられる。これを上記原料組成物に含有させ、重合、成形しても良い。
The usage-amount of a light stabilizer is 0.005-5 mass parts normally with respect to 100 mass parts of total amounts with the said derivative A or B, Preferably it is 0.02-2 mass parts.
Examples of the component for improving the adhesion with inorganic compounds such as titanium oxide and silicon oxide include silane coupling agents containing a methacryloxy group or an acryloxy group of the silane compound. This may be contained in the raw material composition and polymerized and molded.

(封止方式)
封止剤の封止方式としては通常半導体発光素子の封止で用いられている手法や一般的な熱硬化性樹脂の成形と同様の方法を用いることができる。例えば、ポッティング(ディスペンス)、印刷、コーティング、射出成形、圧縮成形、トランスファー成形及びインサート成形などが挙げられる。ポッティングとは、パッケージのキャビティ(凹状空間)の内部に前記封止剤を吐出して内部を埋める操作を表す。また、印刷とはマスクを用いて目的の部位に封止剤を配置する操作を表し、目的に応じて周囲の圧力を減圧するいわゆる真空印刷の方式も採用できる。コーティングは各種のコーティング方式を採用することができ、例えばダム材と呼ばれる封止剤を留める堰を予め作製しておき、その内側に封止剤をコーティングする方法も採用できる。また、各種モールド成形においてはモールドの内側に封止剤を充填しそのまま熱硬化する方法が挙げられる。また、封止後の硬化は熱硬化、UV硬化などやそれらを組み合わせて用いることができる。
本発明の好ましい実施形態における半導体発光装置は、上記の液状の封止剤で封止しそれを硬化することによって作製した封止材を具備してなる。封止剤の封止方式としてはポッティングと呼ばれる封止方式が好ましい。また、封止後の硬化は熱硬化、UV硬化などやそれらを組み合わせて用いることができる。
(Sealing method)
As a sealing method of the sealing agent, a method usually used for sealing a semiconductor light emitting element or a method similar to a general thermosetting resin molding can be used. Examples thereof include potting (dispensing), printing, coating, injection molding, compression molding, transfer molding, and insert molding. Potting represents an operation of discharging the sealing agent into a cavity (concave space) of the package to fill the interior. In addition, printing represents an operation of disposing a sealant at a target site using a mask, and a so-called vacuum printing method in which the surrounding pressure is reduced according to the purpose can be employed. Various types of coating methods can be used for coating. For example, a method of preparing a weir called a dam material for holding a sealing agent in advance and coating the sealing agent on the inside thereof can also be used. Moreover, in various mold shaping | molding, the method of filling the sealing agent inside a mold and thermosetting as it is is mentioned. Further, curing after sealing can be performed by heat curing, UV curing, or a combination thereof.
The semiconductor light-emitting device in preferable embodiment of this invention comprises the sealing material produced by sealing with said liquid sealing agent and hardening | curing it. As a sealing method of the sealing agent, a sealing method called potting is preferable. Further, curing after sealing can be performed by heat curing, UV curing, or a combination thereof.

ここでポッティングについて説明する。ポッティングとは、前記リフレクターパッケージ基材のキャビティ(凹状空間)W(図1)の内部に前記液状の封止剤を吐出して内部を埋める操作を表す。硬化プロセスはポッティング後に封止液を充填されたリフレクターパッケージ(リフレクターパッケージ基材のほか、素子、ボンディングワイヤ、電極を含むパッケージ)をオーブンなどの一般的な加熱装置に入れて硬化できるため、システムとしてはディスペンサと加熱装置だけの非常に単純な構成で済む。また、金型やマスクを必要としないため、デバイスの形状などの変更の際にも迅速かつ安価に対応することが可能であり、汎用性の高い封止方式といえる。更に、コンプレッションモールド成形やトランスファーモールド成形などのモールド成形方式においては金型に対する離型性の悪さ、封止液の廃棄率の高さ、粘度の制限などが問題であるが、ポッティング方式ではこれらの問題がない。   Here, the potting will be described. Potting represents an operation of filling the interior of the reflector package substrate by discharging the liquid sealing agent into the cavity (concave space) W (FIG. 1). The curing process can be performed by placing a reflector package filled with sealing liquid after potting (a package containing a reflector package substrate, as well as a device, bonding wires, and electrodes) in a general heating device such as an oven. Requires only a very simple configuration with only a dispenser and a heating device. In addition, since a mold and a mask are not required, it is possible to deal with a change in the shape of the device quickly and inexpensively, which can be said to be a highly versatile sealing method. Furthermore, in mold molding methods such as compression mold molding and transfer mold molding, there are problems such as poor mold releasability, high disposal rate of sealing liquid, and restriction of viscosity. there is no problem.

さらに、本発明の好ましい実施形態における特徴に触れると、上記のアクリレート化合物を封止剤として用いるため、ポッティングにより封止剤をキャビティー(凹状空間)に充填し、これを重合硬化したとき、配光効果のある凹状出光面が形成される。これは、主に樹脂の硬化における体積収縮に基づくものであり、上記のアクリル系樹脂を選定することにより、好適な凹状の出光面が形成されるため好ましい。   Further, when touching the characteristics of the preferred embodiment of the present invention, since the above acrylate compound is used as a sealing agent, the sealing agent is filled into a cavity (concave space) by potting, and this is polymerized and cured. A concave light-emitting surface having a light effect is formed. This is mainly based on volume shrinkage in the curing of the resin, and is preferable because a suitable concave light-emitting surface is formed by selecting the above acrylic resin.

液の吐出方式としては、スクリュータイプなどのメカニカルなディスペンス方式、エアパルス式ディスペンス、非接触ジェット式ディスペンスなどが挙げられる。ポッティング装置であるディスペンサとしては、例えば具体的には武蔵エンジニアリング社、サンエイテック社などから出されている装置が使用される。   Examples of the liquid discharging method include a screw-type mechanical dispensing method, an air pulse type dispensing method, a non-contact jet dispensing method, and the like. As the dispenser which is a potting device, specifically, for example, devices provided by Musashi Engineering Co., Sanei Tech Co., etc. are used.

(半導体発光素子)
半導体発光素子としては、窒化ガリウム(GaN)系半導体からなる青色発光のLEDチップや、紫外発光のLEDチップ、レーザダイオードなどが用いられる。その他、例えば、MOCVD法等によって基板上にInN、AlN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の窒化物半導体を発光層として形成させたものも使用できる。フェースアップ実装される半導体発光素子や、フリップチップ実装される半導体発光素子のいずれも使用することができる。半導体発光素子は、同一平面上にn側電極とp側電極を持つ半導体発光素子の例であるが、一方の面にn側電極、反対の面にp側電極を持つ半導体発光素子も使用することができる。
(Semiconductor light emitting device)
As the semiconductor light emitting element, a blue light emitting LED chip made of a gallium nitride (GaN) based semiconductor, an ultraviolet light emitting LED chip, a laser diode, or the like is used. In addition, for example, a substrate in which a nitride semiconductor such as InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN or the like is formed as a light emitting layer on a substrate by MOCVD or the like can be used. Either a semiconductor light-emitting element that is mounted face-up or a semiconductor light-emitting element that is flip-chip mounted can be used. The semiconductor light emitting device is an example of a semiconductor light emitting device having an n-side electrode and a p-side electrode on the same plane, but a semiconductor light-emitting device having an n-side electrode on one surface and a p-side electrode on the opposite surface is also used. be able to.

(パッケージ)
パッケージとしては電極が一体成型されているもの、及びパッケージを成型した後にメッキなどにより回路配線として電極を設けたものを用いることができる。パッケージの形状としては、円柱、楕円柱、立方体、直方体、直方体と楕円柱の間の形状やこれらの組み合わせなど任意の形状を採用することができる。内壁部の形状は底部に対して任意の角度を選択でき底面に対して直角になる箱型形状や鈍角になるすり鉢形状を選択することができる。凹部の底の形状は平面状や凹み形状などの任意の形状が選択できる。また、実装方式としてトップビュー、サイドビューなど任意の実装方式に対応したパッケージを用いることができる。
パッケージを構成する素材としては、耐光性、耐熱性に優れた電気絶縁性のものが好適に用いられ、例えばポリフタルアミドなどの熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ガラスエポキシ、セラミックスなどを用いることができる。また、半導体発光素子からの光を効率よく反射させるためにこれらの樹脂に酸化チタンなどの白色顔料などを混合させることができる。パッケージの成形法としては、前記電極を予め金型内に設置して行うインサート成形、射出成形、押出成形、トランスファ成型などを用いることができる。
(package)
As the package, a package in which electrodes are integrally formed, and a package in which electrodes are provided as circuit wiring by plating after the package is molded can be used. As the shape of the package, any shape such as a cylinder, an elliptical column, a cube, a rectangular parallelepiped, a shape between a rectangular parallelepiped and an elliptical column, or a combination thereof can be adopted. As the shape of the inner wall portion, an arbitrary angle can be selected with respect to the bottom portion, and a box shape that is perpendicular to the bottom surface or a mortar shape that is obtuse can be selected. As the shape of the bottom of the concave portion, any shape such as a flat shape or a concave shape can be selected. Moreover, a package corresponding to an arbitrary mounting method such as a top view or a side view can be used as a mounting method.
As a material constituting the package, an electrically insulating material excellent in light resistance and heat resistance is suitably used. For example, a thermoplastic resin such as polyphthalamide, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a glass epoxy, Ceramics or the like can be used. Moreover, in order to reflect the light from a semiconductor light emitting element efficiently, white pigments, such as a titanium oxide, can be mixed with these resins. As a method for molding the package, insert molding, injection molding, extrusion molding, transfer molding, or the like performed by previously setting the electrode in a mold can be used.

(電極)
電極は、半導体発光素子と電気的に接続され、例えば、パッケージにインサートされた板状の電極や、ガラスエポキシやセラミックなどの基板に形成された導電パターンであってよい。電極の材質は、銀若しくは銀を含有した合金の他、銅や鉄などを主成分とする電極の一部上に銀若しくは銀を含有した合金がメッキされているものを用いることができる。
(electrode)
The electrode is electrically connected to the semiconductor light emitting element, and may be, for example, a plate-like electrode inserted into a package or a conductive pattern formed on a substrate such as glass epoxy or ceramic. As the material of the electrode, there can be used silver or an alloy containing silver, or a material in which silver or an alloy containing silver is plated on a part of an electrode containing copper or iron as a main component.

(蛍光体)
封止部材は、蛍光物質及び光拡散材などを含有してもよい。蛍光物質としては、半導体発光素子からの光を吸収して蛍光を発することにより波長を変換するものであればよく、Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物系蛍光体または酸窒化物系蛍光体、Eu等のランタノイド系、Mn等の遷移金属系の元素により主に付活されるアルカリ土類ハロゲンアパタイト蛍光体、アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体、アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体、アルカリ土類ケイ酸塩蛍光体、アルカリ土類硫化物蛍光体、アルカリ土類チオガレート蛍光体、アルカリ土類窒化ケイ素蛍光体、ゲルマン酸塩蛍光体、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩蛍光体、希土類ケイ酸塩蛍光体、又はEu等のランタノイド系元素で主に賦活される有機及び有機錯体等から選ばれる少なくとも1以上であることが好ましい。より好ましくは、(Y,Gd)(Al,Ga)12:Ce、(Ca,Sr,Ba)SiO:Eu、(Ca,Sr)Si:Eu、CaAlSiN:Euなどが使用される。
(Phosphor)
The sealing member may contain a fluorescent material, a light diffusing material, and the like. The fluorescent material may be any material that converts the wavelength by absorbing light from the semiconductor light-emitting element and emitting fluorescence, such as a nitride-based phosphor mainly activated by a lanthanoid-based element such as Eu or Ce, or Oxynitride phosphors, lanthanoids such as Eu, alkaline earth halogen apatite phosphors activated mainly by transition metal elements such as Mn, alkaline earth metal borate halogen phosphors, alkaline earth metals Lanthanoid elements such as aluminate phosphor, alkaline earth silicate phosphor, alkaline earth sulfide phosphor, alkaline earth thiogallate phosphor, alkaline earth silicon nitride phosphor, germanate phosphor, Ce Selected from rare earth aluminate phosphors, rare earth silicate phosphors, or organic and organic complexes mainly activated by lanthanoid elements such as Eu. It is preferably be at least 1 or more. More preferably, (Y, Gd) 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce, (Ca, Sr, Ba) 2 SiO 4 : Eu, (Ca, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu, CaAlSiN 3 : Eu or the like is used.

(評価方法)
半導体発光装置は従来の試験方法において評価することができる。例えば電気特性、光特性、温度特性、熱特性、寿命、信頼性、安全性などが挙げられる。手法としては、例えば書籍『LED照明ハンドブック LED照明推進協議会編 株式会社オーム社発行』の第2章71ページから84ページに記載の手法や基準を採用することができる。
(Evaluation method)
The semiconductor light emitting device can be evaluated by a conventional test method. For example, electrical characteristics, optical characteristics, temperature characteristics, thermal characteristics, lifetime, reliability, safety, and the like can be given. As a technique, for example, the technique and standard described in pages 71 to 84 of Chapter 2 of the book “LED Lighting Handbook, LED Lighting Promotion Council Edition” published by Ohm Co., Ltd. can be adopted.

(用途)
半導体発光装置は、光度の維持が要求される各種用途、例えば液晶ディスプレイ、携帯電話または情報端末等のバックライト、LEDディスプレイ、フラッシュライト、及び屋内外照明などに利用することができる。また、本発明で用いられるアクリル系封止材は、LEDやレーザダイオードのよう
発光素子だけでなく、受光素子、LSIやICなど半導体発光素子以外の半導体発光素子の封止にも利用することができる
(Use)
The semiconductor light-emitting device can be used for various applications that require maintenance of luminous intensity, for example, a backlight of a liquid crystal display, a mobile phone or an information terminal, an LED display, a flashlight, and indoor / outdoor lighting. Further, the acrylic sealing material used in the present invention can be used not only for light emitting elements such as LEDs and laser diodes but also for sealing light emitting elements, semiconductor light emitting elements other than semiconductor light emitting elements such as LSI and IC. it can

本実施形態の半導体発光装置は、配光性に優れるため、液晶ディスプレイ、携帯電話または情報端末等のエッジライト式のバックライトはもとより、シャープな配光性が求められるような屋内外の照明、自動車や旅客機、鉄道等の輸送機器の照明、フラッシュライト、LEDディスプレイ、さらにはLEDやレーザダイオードのような発光素子だけでなく、受光素子、LSIやICなど半導体発光素子以外の半導体素子の封止材としても好適に対応することができる。   Since the semiconductor light emitting device of this embodiment is excellent in light distribution, not only an edge light type backlight such as a liquid crystal display, a mobile phone or an information terminal, but also indoor and outdoor lighting where sharp light distribution is required, Encapsulation of semiconductor devices other than semiconductor light emitting devices such as light receiving devices, LSIs and ICs, as well as lighting devices for automobiles, passenger planes, railways, etc., flashlights, LED displays, and light emitting devices such as LEDs and laser diodes It can respond suitably also as a material.

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により限定して解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is limited to a following example and is not interpreted.

(実施例1)
M215(商品名:東亞合成株式会社製)の2官能モノマーのカラム精製品(下記式a参照)100質量部と重合開始剤パーブチルO(商品名:日本油脂株式会社製)1質量部とを混合して封止剤を調製した。重合禁止剤に関しては、4-メトキシフェノール(東京化成工業製、以後MEHQ)をカラム精製時の混合量との合計で2400ppmになるように調製した。
青色LEDのB2424DCI0(商品名:ジェネライツ製)が実装されたリフレクターパッケージ基材KD−LA9R48(商品名:京セラ株式会社製)の中心に開口直径2640μm、深さ550μm程度凹んだ部分(キャビティー)が形成されており、そこに上記封止剤をポッティングした。このときポッティングする量は硬化後の封止材中心部がパッケージ基材上端から170μm凹む深さになる量に調整した。それを送風オーブンにて80℃30min、130℃30min、150℃5hrで硬化することで封止材を形成した半導体発光装置を得た(各昇温レートは3℃/minとした)。
Example 1
M215 (trade name: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) mixed with 100 parts by mass of a bifunctional monomer column purified product (see formula a below) and 1 part by mass of a polymerization initiator perbutyl O (trade name: manufactured by NOF Corporation). Thus, a sealant was prepared. Regarding the polymerization inhibitor, 4-methoxyphenol (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., hereinafter referred to as MEHQ) was prepared to be 2400 ppm in total with the amount mixed during column purification.
In the center of the reflector package substrate KD-LA9R48 (trade name: manufactured by Kyocera Corporation) on which the blue LED B2424DCI0 (trade name: manufactured by Genelites) is mounted, a recessed portion (cavity) having an opening diameter of 2640 μm and a depth of about 550 μm is formed. It was formed and the sealing agent was potted there. The amount of potting at this time was adjusted so that the center portion of the encapsulating material after curing was deepened by 170 μm from the upper end of the package substrate. This was cured in a blowing oven at 80 ° C. for 30 minutes, 130 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 5 hours to obtain a semiconductor light emitting device in which a sealing material was formed (each temperature rising rate was 3 ° C./min).

Figure 0005767552
Figure 0005767552

(実施例2)
前記封止材の深さを220μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the amount was adjusted so that the depth of the sealing material was recessed by 220 μm.

(実施例3)
前記封止材の深さを280μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
(Example 3)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the amount was adjusted so that the depth of the sealing material was recessed by 280 μm.

(実施例4)
前記封止材の深さを330μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
Example 4
The same procedure as in Example 1 was performed except that the amount was adjusted so that the depth of the sealing material was recessed by 330 μm.

(実施例5)
前記、実施例1で使用した2官能モノマー70質量部に加え、同様にカラム精製により得た3官能モノマー(化式b)30質量部と重合開始剤パーブチル1質量部とを混合して封止剤を調製した。これを用い、封止材の深さを210μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
(Example 5)
In addition to 70 parts by mass of the bifunctional monomer used in Example 1, 30 parts by mass of trifunctional monomer (formula b) obtained by column purification and 1 part by mass of polymerization initiator perbutyl were mixed and sealed. An agent was prepared. This was used in the same manner as in Example 1 except that the amount was adjusted so that the depth of the sealing material was recessed by 210 μm.

Figure 0005767552
Figure 0005767552

(実施例6)
前記、実施例1で使用したモノマーの代わりに2.2 Bis〔4-(Methacryloxy
Ethoxy〕Phenyl〕Propane(EO2.3mol/分子)(以後MEPP;新中村化学工業製)を混合して調製した封止剤を用い、封止材の深さを250μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
(Example 6)
In place of the monomer used in Example 1, 2.2 Bis [4- (Methacryloxy
Ethoxy] Phenyl] Propane (EO 2.3 mol / molecule) (hereinafter MEPP; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) is used to adjust the amount so that the depth of the sealing material is recessed by 250 μm. Except that, the same procedure as in Example 1 was performed.

(比較例1)
前記封止材の深さを50μm凹ませるように量を調整すること以外は実施例1と同様に行った。
(比較例2)
前記封止材の高さを120μm膨らませるようにキャビティを超え盛って封止を行うこと以外は実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 1)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the amount was adjusted so that the depth of the sealing material was recessed by 50 μm.
(Comparative Example 2)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the sealing material was sealed over the cavity so that the height of the sealing material was expanded by 120 μm.

(比較例3)
前記液状封止剤を100質量部のトリシクロデカンジメタノールジアクリレート(以後A-DCP:新中村化学工業製)と1質量部のパーブチルにすること以外は実施例2と同様に行った。ただし、揮発によって硬化後の封止材の量・形状を制御することができないため、ポッティングの量を実施例2と同程度にした。
(Comparative Example 3)
The same procedure as in Example 2 was performed except that 100 parts by mass of tricyclodecane dimethanol diacrylate (hereinafter A-DCP: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 1 part by mass of perbutyl were used as the liquid sealant. However, since the amount and shape of the sealing material after curing cannot be controlled by volatilization, the amount of potting was set to the same level as in Example 2.

(比較例4)
前記封止液を90質量部の1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(以後HDA:東京化成工業社)と10質量部のビス[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]ホスフェート(P2M(共栄社化学株式会社)と1質量部のパーブチルにすること以外は実施例2と同様に行った。ただし、揮発によって硬化後の封止材の量・形状を制御することができないため、ポッティングの量を実施例2と同程度にした。
(Comparative Example 4)
90 parts by mass of 1,6-hexanediol diacrylate (hereinafter HDA: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 10 parts by mass of bis [2- (methacryloyloxy) ethyl] phosphate (P2M (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)) And 1 part by mass of perbutyl, except that the amount and shape of the sealing material after curing cannot be controlled by volatilization. Same level.

(比較例5)
前記封止材をペルノックス製エポキシ系封止材(ペルノックス562とペルキュア562を等量ずつ混合した液、以後P562)にすること以外は実施例1と同様に行った。ただし、硬化後の液の高さを60μm膨らませるようにキャビティを超え盛って封止を行った。
(Comparative Example 5)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the sealing material was changed to Pernox epoxy-based sealing material (liquid obtained by mixing equal amounts of Pernox 562 and Percure 562, hereinafter referred to as P562). However, sealing was carried out over the cavity so that the height of the liquid after curing was expanded by 60 μm.

(比較例、6、7、8)
前記封止材の深さをそれぞれ−160μm、−220μm、−320μmに凹ませるように量を調整すること以外は比較例5と同様に行った。
(Comparative example, 6, 7, 8)
The process was performed in the same manner as in Comparative Example 5 except that the amount of the sealing material was adjusted so as to be recessed to −160 μm, −220 μm, and −320 μm, respectively.

(比較例9)
前記封止剤を次の縮合型シリコーン系封止剤を用いること以外は実施例2と同様に行った。縮合型シリコーン系封止材は両末端ヒドロキシル基ポリジメチルシロキサン(モメンティブパフォーマンスマテリアルズ製XF3905、粘度700mm/s)84.8gにテトラエトキシシラン(東京化成工業株式会社製、Tetraethyl Orthosilicate)15.2g+ジルコニウムアセチルアセトナート溶液(マツモトファインケミカル製ZC−700)を1質量%混合し、前記リフレクターパッケージにポッティングを行い、85℃4hr+150℃4hr加熱することで、硬化させた。なお、重合禁止剤MEHQは混合しなかった。
(Comparative Example 9)
The sealing was performed in the same manner as in Example 2 except that the following condensation type silicone sealing agent was used. Condensation type silicone-based encapsulant is composed of hydroxyl group polydimethylsiloxane (XF3905 manufactured by Momentive Performance Materials, viscosity 700 mm 2 / s) 84.8 g and tetraethoxysilane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Tetrahethyl Orthosilicate) 15.2 g + A zirconium acetylacetonate solution (ZC-700 manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) was mixed at 1% by mass, potted on the reflector package, and cured by heating at 85 ° C. for 4 hours + 150 ° C. for 4 hours. The polymerization inhibitor MEHQ was not mixed.

<クラック性評価>
硬化されたデバイスを光学顕微鏡で観察してクラックの有無を確認した。クラックがなかった場合「A」、端部にパッケージ直径の1/5未満の小さなクラックが入っていた場合は「B」、それ以上の大きなクラックが入っていた場合は「C」とした。
<Crack evaluation>
The cured device was observed with an optical microscope to check for cracks. When there was no crack, “A”, when the end had a small crack of less than 1/5 of the package diameter, “B”, and when there was a larger crack, “C”.

<形状解析>
硬化後の形状をレーザー顕微鏡で測定して幾何学的に計算することで凹み部の曲率半径を求めた。具体的には封止・硬化を行ったリフレクターパッケージについて、形状測定レーザー顕微鏡(キーエンス製VK−9500)を用いてパッケージ上面から見た封止材の形状を測定した。パッケージ全面の測定を行い画像連結を行った後、VK
Analyzerにより、パッケージの中心(チップが実装されている部分)を通るように直交した2本のライン上の封止材形状を解析した。データをテキストデータとして出力を行い、エクセル上でノイズを取り除いた後、封止材の形状に沿うような円を描画し、その円の半径を封止材凹み部の曲率半径とした。なお、完全に一致できなかった場合、封止材とパッケージの界面、封止材の中心部をできるだけ円に沿うように描画を行った。なお、封止材が凸形状の場合は数値化を行わなかった。また、曲率半径がパッケージ直径の10倍以上の場合、十分に平らであると判断し、数値としては10を用いることとした。
<Shape analysis>
The curvature radius of the dent was obtained by measuring the shape after curing with a laser microscope and calculating geometrically. Specifically, the shape of the sealing material as viewed from the upper surface of the package was measured using a shape measurement laser microscope (Keyence VK-9500) for the sealed and cured reflector package. After measuring the entire surface of the package and connecting images, VK
The shape of the sealing material on the two lines orthogonal to each other so as to pass through the center of the package (the part where the chip is mounted) was analyzed by an analyzer. The data was output as text data, and after removing noise on Excel, a circle along the shape of the sealing material was drawn, and the radius of the circle was defined as the radius of curvature of the sealing material recess. In addition, when it was not able to match completely, it drawn so that the interface of a sealing material and a package and the center part of a sealing material may follow a circle as much as possible. In addition, when the sealing material was convex shape, it did not quantify. Further, when the radius of curvature is 10 times or more of the package diameter, it is determined that the surface is sufficiently flat and 10 is used as a numerical value.

<配光性評価>
前記半導体発光装置を配光測定装置(RADIANT IMAGING社製、IS−LI)を用いて配光分布を測定した。空間の発光分布を測定した後で、チップ中心を通るように直交した2本のライン上の配光分布を解析した。データをテキストデータとして出力を行い、発光量が最大である正面発光量に対して半分の発光量になる角度を半値角として求めた。半値角度が狭いほど配光性はシャープに集光されており、導光板への導入率を高めることができるため、好ましい。具体的には半値角が50°未満であることが求められる。
評価は以下のようにして区別して示した。
AA:49°未満
A :49°以上50°未満
B :50°以上51°未満
C :51°以上
<Light distribution evaluation>
The light distribution of the semiconductor light-emitting device was measured using a light distribution measuring device (RADIANT IMAGEING, IS-LI). After measuring the light emission distribution in space, the light distribution distribution on two lines orthogonal to each other so as to pass through the center of the chip was analyzed. The data was output as text data, and the angle at which the light emission amount was half that of the front light emission amount with the maximum light emission amount was determined as the half-value angle. The narrower the half-value angle is, the light distribution is more sharply collected, which is preferable because the introduction rate into the light guide plate can be increased. Specifically, the half-value angle is required to be less than 50 °.
The evaluation is shown separately as follows.
AA: Less than 49 ° A: 49 ° or more and less than 50 ° B: 50 ° or more and less than 51 ° C: 51 ° or more

<±30°発光量>
また、前方方向に放射される発光量を定量するために、正面を0°とした場合の±30°の方向への発光強度を積算して求めた。この値は大きいほど、導光板などへの光導入量が高まるので好ましい。
評価はいかのようにして区別して示した。
AA:0.65以上
A :0.61以上0.65未満
B :0.58以上0.61未満
C :0.58未満
<± 30 ° luminescence>
Further, in order to quantify the amount of light emitted in the forward direction, the light emission intensity in the direction of ± 30 ° with the front being 0 ° was integrated and determined. A larger value is preferable because the amount of light introduced into the light guide plate or the like increases.
The evaluation is shown separately.
AA: 0.65 or more A: 0.61 or more and less than 0.65 B: 0.58 or more and less than 0.61 C: Less than 0.58

<揮発性試験>
各種封止剤において開始剤(パーブチルオキサイド、もしくはZC−700)を除いた液を調整し、それをアルミパンに20mg±2mgで分注し、3℃/分の昇温速度で、80℃60min+130℃60minで加熱し、その時の重量減少を解析する。重量減少量が元の10質量%以上の場合は揮発性が問題になると判断し、「C」と記載しそれ未満を「A」とした。
<Volatility test>
A liquid obtained by removing the initiator (perbutyl oxide or ZC-700) in various sealants was prepared, and dispensed into an aluminum pan at 20 mg ± 2 mg, and at a temperature rising rate of 3 ° C./min, 80 ° C. Heat at 60 min + 130 ° C. for 60 min and analyze the weight loss at that time. When the weight loss amount was 10% by mass or more, the volatility was judged to be a problem, and “C” was described, and less than “A”.

<(メタ)クリル比>
各封止剤に関して、総量におけるアクリル基、メタクリル基の比率を計算によって求めた。
<(Meth) krill ratio>
For each sealant, the ratio of acrylic groups and methacryl groups in the total amount was determined by calculation.

<ガスバリア性>
25cm×25cm×35cm程度の密閉缶を準備し、そこに0.5gずつ硫黄粉末を分注したPFA製小型シャーレを5つ、均等にならべ、その上に約10cmの距離が空くように脚を付けた網板を取り付けた。封止・硬化を行った各種のパッケージをn=3ずつその網の隙間からパッケージが下向きに覗くように並べ、その状態で密閉缶の蓋をした。密閉缶を予め80°に設定しておいたオーブンに入れ、48時間反応させた。この時、硫黄粉末を熱することで硫黄原子が連なった化合物がガス状に放出される。この硫黄ガスがリフレクターパッケージの銀を硫化して黒変させ、発光量が低下する。黒変が観察された場合に「C」、確認できなかった場合は「A」とした。
<Gas barrier properties>
Prepare a sealed can of about 25cm x 25cm x 35cm, and evenly place 5 small PFA petri dishes, each containing 0.5g of sulfur powder, and place your legs so that there is a distance of about 10cm above it. Attached net board was attached. Various packages that had been sealed and cured were arranged n = 3 at a time so that the packages looked downward from the gaps in the mesh, and in that state, the sealed cans were covered. The sealed can was placed in an oven set at 80 ° in advance and allowed to react for 48 hours. At this time, by heating the sulfur powder, a compound in which sulfur atoms are connected is released in a gaseous state. This sulfur gas causes the silver in the reflector package to sulfidize and turn black, reducing the amount of light emitted. When blackening was observed, it was “C”, and when it was not confirmed, it was “A”.

<配光安定性評価>
前記ガスバリア性評価を行った半導体発光装置を、前記配光性評価と同様にして配光を測定することで、配光性の安定性(変化しない度合い)を評価した。
評価は以下のようにして区別して示した。
A :ガスバリア性試験前後の半値角の変化が2°未満
C :ガスバリア性試験前後の半値角の変化が2°以上
<Light distribution stability evaluation>
The light distribution stability (the degree of no change) was evaluated by measuring the light distribution of the semiconductor light emitting device subjected to the gas barrier evaluation in the same manner as the light distribution evaluation.
The evaluation is shown separately as follows.
A: Change in half-value angle before and after gas barrier property test is less than 2 ° C: Change in half-value angle before and after gas barrier property test is 2 ° or more

<粘度>
振動式粘度計、VISCOMATE MODEL VM-10A-MH(商品名:CBC株式会社製))で100秒ごとに5回粘度を測定した値の平均を測定値とした。測定温度は室温の25℃とした。
A:700mPa・s以上
C:700mPa・s未満
<Viscosity>
The average of the values obtained by measuring the viscosity 5 times every 100 seconds using a vibration viscometer, VISCOMATE MODEL VM-10A-MH (trade name: manufactured by CBC Corporation) was taken as the measured value. The measurement temperature was 25 ° C., which is room temperature.
A: 700 mPa · s or more
C: Less than 700 mPa · s

Figure 0005767552
Figure 0005767552

Figure 0005767552
Figure 0005767552

以上のとおり、実施例の封止材は良好な凹状の出光面を有し、優れた光学的特性と、ポッティングを利用することにより高い生産性とを両立できることが分かる。なお、比較例4のP2Mは極性基を含むアクリレート樹脂であるものの、これでは揮発性が不適当であり、目的の出光面の形状とはならなかった。
これにより、本発明によれば、半導体発光素子の封止材に求められる要求性能を高いレベルで満足し、その上で良好な適切に集光された狭い照射領域を安定的に実現する配光性を有し、しかも製造効率のよい成形方法を採用することができる。
As described above, it can be seen that the sealing materials of the examples have a good concave light-emitting surface and can achieve both excellent optical characteristics and high productivity by using potting. In addition, although P2M of the comparative example 4 is an acrylate resin containing a polar group, in this case, the volatility is inappropriate and the shape of the intended light exit surface was not achieved.
Thus, according to the present invention, the light distribution that satisfies the required performance required for the sealing material of the semiconductor light emitting device at a high level and stably realizes a good and properly condensed narrow irradiation region. It is possible to adopt a molding method that has good performance and high production efficiency.

1 半導体発光素子(Optical Semiconductor Element)
2 リフレクターパッケージ基材
3 封止材
3a 出光面
3b 仮想平面
4 電極
6 ボンディングワイヤ
8 ダイボンド剤
10 半導体発光装置(Optical Semiconductor Device)
1 Optical Semiconductor Element
2 Reflector package base material 3 Sealing material 3a Light exit surface 3b Virtual plane 4 Electrode 6 Bonding wire 8 Die bond agent 10 Semiconductor light emitting device (Optical Semiconductor Device)

Claims (10)

リフレクターパッケージ基材と、該リフレクターパッケージ基材の凹状空間に実装された半導体発光素子と、該半導体発光素子を封止した極性基含有アクリル系樹脂を含む封止材とを具備する半導体発光装置であって、
該封止材の出光面が曲面状に凹んでおり、その凹んだ出光面の曲率半径が、該出光面の平面視における直径もしくは短辺の長さの1.8倍〜4.5倍に設定され
前記封止材が、リフレクターパッケージ基材の凹状空間に極性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤を付与し、該アクリル系モノマーを硬化させてアクリル系樹脂として賦形したものであり、前記硬化前のアクリル系樹脂をなすモノマーのアクリル基もしくはメタクリル基の比率が、該モノマーを含む封止剤の総質量に対して、4mmol/g以上6.5mmol/g未満である組成液の硬化物である半導体発光装置。
A semiconductor light emitting device comprising a reflector package substrate, a semiconductor light emitting device mounted in a concave space of the reflector package substrate, and a sealing material containing a polar group-containing acrylic resin that seals the semiconductor light emitting device There,
The light exit surface of the sealing material is recessed in a curved shape, and the radius of curvature of the recessed light exit surface is 1.8 to 4.5 times the diameter or short side length of the light exit surface in plan view. Set ,
The sealing material is formed by applying a sealing agent containing a polar group-containing acrylic monomer to the concave space of the reflector package base material, and curing the acrylic monomer to form an acrylic resin. In the cured product of the composition liquid, the ratio of the acrylic group or methacryl group of the monomer constituting the previous acrylic resin is 4 mmol / g or more and less than 6.5 mmol / g with respect to the total mass of the encapsulant containing the monomer. A semiconductor light emitting device.
前記極性基がヒドロキシル基、オリゴエチレングリコール基、イソシアヌル酸誘導基である請求項に記載の半導体発光装置。 The semiconductor light-emitting device according to claim 1 , wherein the polar group is a hydroxyl group, an oligoethylene glycol group, or an isocyanuric acid derivative group. 前記リフレクターパッケージの電極部の表面が銀を含む請求項1又は2に記載の半導体発光装置。 The semiconductor light emitting device according to claim 1 or 2 the surface of the electrode portion of the reflector package contains silver. 前記封止材の80%以上が有機成分である請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体発光装置。 The semiconductor light emitting device according to any one of claims 1 to 3 or 80% of the encapsulant is an organic component. 前記アクリル系樹脂がイソシアヌル酸アクリレート誘導体を硬化させた樹脂を50質量%以上含むことを特徴とした請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体発光装置。 The semiconductor light emitting device according to any one of claims 1 to 4, wherein the acrylic resin is characterized in that it comprises more than 50 wt% resin obtained by curing the isocyanuric acid acrylate derivatives. 前記アクリル基もしくはメタクリル基の比率が5.3mmol/g以上6.3mmol/g未満である組成液の硬化物である請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体発光装置。 The semiconductor light emitting device according to any one of the claims 1-5 the ratio of acrylic groups or methacrylic groups are cured composition solution is less than 5.3 mmol / g or more 6.3 mmol / g. リフレクターパッケージの凹状空間に半導体発光素子を実装し、該半導体発光素子を埋設するよう前記凹状空間に極性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤を付与し、次いで、該封止剤の該アクリル系モノマーを硬化させてアクリル系樹脂の封止材として賦形するに当たり、前記硬化前のアクリル系樹脂をなすモノマーのアクリル基もしくはメタクリル基の比率が、該モノマーを含む封止剤の総質量に対して、4mmol/g以上6.5mmol/g未満である組成液を硬化物とし、前記封止剤の硬化による体積収縮により、その滴下面を部分的に降下させ、該滴下面を前記封止材の凹んだ出光面として賦形する半導体発光装置の製造方法。 A semiconductor light emitting device is mounted in the concave space of the reflector package, and a sealing agent containing a polar group-containing acrylic monomer is applied to the concave space so as to embed the semiconductor light emitting device, and then the acrylic material of the sealing agent curing the monomer Upon for shaping as a sealing material of the acrylic resin, the ratio of acrylic groups or methacrylic groups of the monomers constituting the acrylic resin before the curing, the total weight of the sealant including the monomer On the other hand, a composition liquid of 4 mmol / g or more and less than 6.5 mmol / g is used as a cured product, and the dropping surface is partially lowered by volume shrinkage due to curing of the sealing agent, and the dropping surface is sealed. A method of manufacturing a semiconductor light emitting device, which is shaped as a light exit surface having a recessed stop material. 前記アクリル系モノマーとして、下記式1で表される化合物を用いる請求項に記載の半導体発光装置の製造方法。
Figure 0005767552
(1)中のR、R、Rは、それぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、炭素数6〜24のアリール基、下記式(I)で表されるアクリロイルオキシ基、又は下記式(II)で表されるアシルオキシ基を表す。Lは炭素数1〜4のアルキレン基を表す。ただし、R、R、及びRの少なくとも1つは前記アクリロリルオキシ基である
Figure 0005767552
中、R11は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。*は結合手を表す
Figure 0005767552
中、R12は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数6〜24のアリール基を表す。*は結合手を表す
The manufacturing method of the semiconductor light-emitting device according to claim 7 , wherein a compound represented by the following formula 1 is used as the acrylic monomer.
Figure 0005767552
R 1 , R 2 and R 3 in formula (1) are each independently a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, It represents an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an acryloyloxy group represented by the following formula (I), or an acyloxy group represented by the following formula (II). L a represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. However, at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is the acrylolyloxy group .
Figure 0005767552
In the formula , R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. * Represents a bond .
Figure 0005767552
In the formula , R 12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 24 carbon atoms. * Represents a bond .
前記極性基含有アクリル系モノマーを含む封止剤は、その粘度が800mPas以上20,000mPas未満である請求項又はに記載の半導体発光装置の製造方法。 Sealant comprising the polar group-containing acrylic monomer, a method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 7 or 8 whose viscosity is less than 20,000mPas than 800 mPas. 前記硬化前のアクリル系モノマーについて以下の試験を行った際の揮発量が10質量%未満である請求項のいずれか1項に記載の半導体発光装置の製造方法。
G/DTAにおいて5mgを3℃/分の昇温速度で、80℃60min+130℃60minで加熱し、そのときの重量減少を解析する
The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to any one of claims 7-9 volatilization amount during the following tests were conducted for the acrylic monomer prior to the curing is less than 10 wt%.
In TG / DTA, 5 mg is heated at 80 ° C. 60 min + 130 ° C. 60 min at a rate of temperature increase of 3 ° C./min, and the weight loss at that time is analyzed .
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