JP2014189668A - Resin, resin composition, optical member using these, and former for the optical member - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin and a resin composition which satisfy suitable hardenability, heat resistance, and a thermal expansion coefficient required in use of an optical member by increasing the variety of resin materials, and to provide an optical member using the resin and the resin composition, and a former for the optical member.SOLUTION: A resin includes a compound represented by the following formula (1). (wherein Rrepresents a linkage group; and Ato Aeach independently represents a hydrogen atom or a substituent and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2)) (wherein Rrepresents a hydrogen atom or a substituent; Arepresents a hydroxyl group, an alkoxy group, a thiol group, a thioalkoxy group, or an amino group; and * represents a binding hand)

Description

本発明は樹脂、樹脂組成物、これらを用いた光学部材及びその形成剤に関する。   The present invention relates to a resin, a resin composition, an optical member using these, and a forming agent thereof.

半導体発光装置は、白熱灯や蛍光灯に代わる次世代の光源として期待されており、国内外で出力向上等のための技術開発が活発に進められている。その適用範囲も多岐に渡っており、屋内照明のみならず、液晶表示装置のバックライトとしてもその利用が広がっている。一方、半導体発光装置自体、いまだ開発途上にあり、その素材の研究が十分になされているとはいえない。封止剤やレンズ形成剤等の透明光学材料についても同様であり、現在エポキシ系もしくはシリコーン系の樹脂が主流であるが、さらなる性能向上のための開発検討、材料探索が求められている。   Semiconductor light-emitting devices are expected as next-generation light sources to replace incandescent lamps and fluorescent lamps, and technological development for improving output and the like is being actively promoted in Japan and overseas. The range of application is wide-ranging, and its use is expanding not only for indoor lighting but also as a backlight for liquid crystal display devices. On the other hand, the semiconductor light emitting device itself is still under development, and it cannot be said that the material has been sufficiently researched. The same applies to transparent optical materials such as encapsulants and lens forming agents, and currently epoxy or silicone resins are the mainstream, but development studies and material searches for further performance improvements are required.

他方、ウェハレベルレンズモジュールなど、良質の透明光学材料が要求される分野がある。そのレンズやコーティング膜等にも、加工性が良く、光学的に好適な性質を有する材料が求められる。上記半導体発光装置を含め、透明光学材料として用いることができる脂環式炭化水素系のアクリル材料を提案した例がある(特許文献1〜3参照)。   On the other hand, there are fields where high-quality transparent optical materials are required, such as wafer level lens modules. The lens, coating film, and the like are also required to be a material having good processability and optically suitable properties. There is an example in which an alicyclic hydrocarbon acrylic material that can be used as a transparent optical material including the semiconductor light emitting device has been proposed (see Patent Documents 1 to 3).

国際公開公報2006/051803号パンフレットInternational Publication No. 2006/051803 Pamphlet 特開2010−159410号公報JP 2010-159410 A 特開2012−46726号公報JP 2012-46726 A

上記の技術背景に鑑み、本発明は、従来とは異なるものを提案することにより材料種を豊富化し、しかも光学部材用途において要求される好適な硬化性、耐熱性、熱膨張率を満足する樹脂、樹脂組成物、これらを用いた光学部材及びその形成剤の提供を目的とする。   In view of the above technical background, the present invention proposes a resin that is enriched in material types by proposing different ones from the conventional ones and that satisfies the preferable curability, heat resistance, and coefficient of thermal expansion required for optical member applications. It aims at providing the resin composition, the optical member using these, and its formation agent.

上記の課題認識のもと、本発明者らは様々な物質やその配合にあたり光学部材に適した材料の探索を行った。その結果、イソシアヌレート化合物がその要求特性を満たす可能性があるという感触を得た。しかしながら、単にイソシアヌレート化合物を用いるのではなく、特定の極性基を有するアクリル化合物とすることで、上記要求特性のすべてを高いレベルで満足することを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成されたものである。   Based on the recognition of the above problems, the present inventors have searched for materials suitable for optical members in various substances and their blends. As a result, it was felt that the isocyanurate compound may satisfy the required characteristics. However, it has been found that not only using an isocyanurate compound but an acrylic compound having a specific polar group satisfies all of the above required properties at a high level. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち本発明は、前記の課題を解決するものとして下記手段を提供するものである。
〔1〕下記式(1)で表される化合物を含む樹脂。

Figure 2014189668
(式中、Rは連結基を表す。A〜Aはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、そのうち少なくとも一つは下記式(2)で表される置換基である。)
Figure 2014189668
(式中、Rは水素原子または置換基を表す。Aは水酸基、アルコキシ基、チオール基、チオアルコキシ基、アミノ基を表す。*は結合手を表す。)
〔2〕式(1)において、A〜Aのうち少なくとも2つが式(2)で表される置換基である〔1〕に記載の樹脂。
〔3〕式(1)において、A〜Aのすべてが式(2)で表される置換基である〔1〕に記載の樹脂。
〔4〕式(1)において、Rがエチレン基である〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の樹脂。
〔5〕式(2)において、Rが水素原子またはメチル基である〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の樹脂。
〔6〕式(1)で表される化合物が、下記式(3−a)、(3−b)、(3−c)、(3−d)、(3−e)、または(3−f)で表される化合物である〔1〕〜〔5〕のいずれか1項に記載の樹脂。
Figure 2014189668
〔7〕硬化性を有する〔1〕〜〔6〕のいずれか1項に記載の樹脂。
〔8〕〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の樹脂とともに他の成分を含有させた樹脂組成物。
〔9〕〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の樹脂を含有してなる光学部材形成剤。
〔10〕〔9〕に記載の光学部材形成剤を硬化してなる光学部材。
〔11〕〔10〕に記載の光学部材を具備する半導体発光装置。
〔12〕下記式(1)で表される化合物。
Figure 2014189668
(式中、Rは連結基を表す。A〜Aはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、そのうち少なくとも一つは下記式(2)で表される置換基である。)
Figure 2014189668
(式中、Rは水素原子または置換基を表す。Aは水酸基、アルコキシ基、チオール基、チオアルコキシ基、アミノ基を表す。*は結合手を表す。) That is, the present invention provides the following means for solving the above-mentioned problems.
[1] A resin containing a compound represented by the following formula (1).
Figure 2014189668
(In the formula, R 1 represents a linking group. A 1 to A 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2).)
Figure 2014189668
(In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. A 4 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, a thiol group, a thioalkoxy group, or an amino group. * Represents a bond.)
[2] The resin according to [1], wherein in formula (1), at least two of A 1 to A 3 are substituents represented by formula (2).
[3] The resin according to [1], wherein in formula (1), all of A 1 to A 3 are substituents represented by formula (2).
[4] The resin according to any one of [1] to [3], wherein in formula (1), R 1 is an ethylene group.
[5] The resin according to any one of [1] to [4], wherein in formula (2), R 2 is a hydrogen atom or a methyl group.
[6] The compound represented by the formula (1) is represented by the following formula (3-a), (3-b), (3-c), (3-d), (3-e), or (3- The resin according to any one of [1] to [5], which is a compound represented by f).
Figure 2014189668
[7] The resin according to any one of [1] to [6], which has curability.
[8] A resin composition containing other components together with the resin according to any one of [1] to [7].
[9] An optical member forming agent comprising the resin according to any one of [1] to [7].
[10] An optical member obtained by curing the optical member forming agent according to [9].
[11] A semiconductor light emitting device comprising the optical member according to [10].
[12] A compound represented by the following formula (1).
Figure 2014189668
(In the formula, R 1 represents a linking group. A 1 to A 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2).)
Figure 2014189668
(In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. A 4 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, a thiol group, a thioalkoxy group, or an amino group. * Represents a bond.)

本発明の樹脂、樹脂組成物、これらを用いた光学部材及びその形成剤は、上記従来の樹脂とは異なるものを提案することによりその材料種を豊富化し、しかも光学部材用途において要求される好適な硬化性、耐熱性、熱膨張率を満足する。
また、本発明の特定イソシアヌレート化合物は新規な化合物であり、前記光学部材の形成材料としての用途を始め産業上の有用性を有する。
The resin of the present invention, the resin composition, the optical member using these, and the forming agent thereof are enriched by proposing different ones from the above-mentioned conventional resins, and suitable for optical member applications. Satisfactory curability, heat resistance and thermal expansion coefficient.
Moreover, the specific isocyanurate compound of the present invention is a novel compound, and has industrial utility including use as a material for forming the optical member.

本発明の半導体発光装置の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically an example of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の別の例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the semiconductor light-emitting device of this invention. 化合物(3−a)のNMRスペクトル図である。It is a NMR spectrum figure of a compound (3-a).

本発明の樹脂は、α位に特定の極性基をもつアクリロイル基とイソシアヌル酸骨格とを有する化合物(以下、特定イソシアヌレート化合物ということがある。)を構成成分とする。この樹脂が、光学部材用の材料として好適な性能を発揮した理由は下記のように推定される。前記の特定の樹脂は、そのアクリロイル基のα位に電子供与性基を導入することでアクリロイル基の電子密度が高くなる。それにより好気下において一電子酸化を受けやすくなり、よりラジカルが発生することで硬化性が向上すると解される。あるいは、酸素が開始剤として直接アクリル基に結合しやすくなり、結果として、イソシアヌル酸骨格をもつ本化合物の利点を活かしつつ、重合硬化性を向上させることができたと考えられる。以下、本発明の好ましい実施形態について詳しく説明する。   The resin of the present invention comprises as a constituent component a compound having an acryloyl group having a specific polar group at the α-position and an isocyanuric acid skeleton (hereinafter sometimes referred to as a specific isocyanurate compound). The reason why this resin exhibited suitable performance as a material for optical members is presumed as follows. The specific resin increases the electron density of the acryloyl group by introducing an electron donating group into the α-position of the acryloyl group. It is understood that this makes it easier to undergo one-electron oxidation under aerobic conditions, and the curability is improved by generating more radicals. Alternatively, oxygen is easily bonded directly to an acrylic group as an initiator, and as a result, it is considered that polymerization curability could be improved while taking advantage of the present compound having an isocyanuric acid skeleton. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

[式(1)で表される化合物]
本発明においては、下記式(1)で表される特定イソシアヌレート化合物を用いる。

Figure 2014189668
[Compound represented by Formula (1)]
In the present invention, a specific isocyanurate compound represented by the following formula (1) is used.
Figure 2014189668

・R
は連結基を表す。二価の連結基としては、アルキレン基(メチレン基、エチレン基、プロピレン基など)、アルケニレン基(ビニレン基、プロピレン基など)、アリーレン基(フェニレン基、ナフタレンジイル基)、ヘテロアリーレン基(ピリジンジイル基、チオフェンジイル基など)、イミノ基(−NR−)(イミノ基(H)、メチルイミノ基、エチルイミノ基、フェニルイミノ基など)、オキシ基(−O−)、チオール基(−S−)、ホスファンジイル基(−PR−)(メチルホスファンジイル基、エチルホスファンジイル基、フェニルホスファンジイル基など)、シリレン基(−SiRR’−)(ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基など)、カルボニル基、カルボニルオキシ基、チオカルボニル基、チオカルボニルオキシ基、又はこれらを組み合わせたものが挙げられる。これらの連結基は、更に置換基を有していてもよい。RおよびR’は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2〜4のアルケニル基、または炭素数6〜10のアリール基を表す。3つのRは互いに異なっていてもよい。
・ R 1
R 1 represents a linking group. Divalent linking groups include alkylene groups (methylene group, ethylene group, propylene group, etc.), alkenylene groups (vinylene group, propylene group, etc.), arylene groups (phenylene group, naphthalenediyl group), heteroarylene groups (pyridinediyl group). Group, thiophenediyl group, etc.), imino group (—NR—) (imino group (H), methylimino group, ethylimino group, phenylimino group etc.), oxy group (—O—), thiol group (—S—), Phosphandiyl group (-PR-) (methylphosphandiyl group, ethylphosphandiyl group, phenylphosphandiyl group, etc.), silylene group (-SiRR'-) (dimethylsilylene group, diphenylsilylene group, etc.), carbonyl Group, carbonyloxy group, thiocarbonyl group, thiocarbonyloxy group, or a combination thereof Can be listed. These linking groups may further have a substituent. R and R ′ represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Three R 1 may be different from each other.

なかでも好ましくは、ヘテロ連結基(Lh)を介在することがあるアルキレン基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)、ヘテロ連結基を介在することがあるアルケニレン基(炭素数2〜12が好ましく、2〜6がより好ましい)が好ましい。へテロ連結基としては、イミノ基、オキシ基、チオール基、ホスファンジイル基、シリレン基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、チオカルボニル基、チオカルボニルオキシ基、またはこれらの組み合わせが好ましい。へテロ連結基(Lh)の数は、鎖中に1〜4個が好ましく、1または2個がより好ましい。アルキレン基およびアルケニレン基は環状でも鎖状でもよく、鎖状のとき、直鎖でも分岐でもよい。   Among these, an alkylene group that may intervene with a hetero linking group (Lh) (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 and particularly preferably 1 to 3), interposing a hetero linking group is preferable. And alkenylene groups having 2 to 12 carbon atoms and more preferably 2 to 6 carbon atoms are preferred. The hetero linking group is preferably an imino group, an oxy group, a thiol group, a phosphandiyl group, a silylene group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a thiocarbonyl group, a thiocarbonyloxy group, or a combination thereof. The number of hetero-linking groups (Lh) is preferably 1 to 4, and more preferably 1 or 2, in the chain. The alkylene group and alkenylene group may be cyclic or chain-like, and when chained, they may be linear or branched.

前記連結基は、下記式(1a)で表されることが好ましい。

*−(L−X)n1−L−** ・・・ 1a
The linking group is preferably represented by the following formula (1a).

*-(L 1 -X) n 1 -L 2 -** 1a

およびLは、それぞれ独立に、アルキレン基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)またはアルケニレン基(炭素数2〜12が好ましく、2〜6がより好ましい)である。Xは前記へテロ連結基(Lh)である。n1は0〜4の整数である。**はA側の結合手である。LまたはXが複数あるときには、それらは互いに異なっていてもよい。当該アルキレン基およびアルケニレン基はさらに任意の後記置換基Tを有していてもよい。アルキレン基およびアルケニレン基は環状でも鎖状でもよく、鎖状のとき、直鎖でも分岐でもよい。 L 1 and L 2 are each independently an alkylene group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 3 carbon atoms) or an alkenylene group (preferably having 2 to 12 carbon atoms; 6 is more preferable). X is the hetero linking group (Lh). n1 is an integer of 0-4. ** is a bond on the Ax side. When there are a plurality of L 1 or X, they may be different from each other. The alkylene group and alkenylene group may further have an optional postscript substituent T. The alkylene group and alkenylene group may be cyclic or chain-like, and when chained, they may be linear or branched.

・A〜A
〜Aはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、そのうち少なくとも一つは下記式(2)で表される置換基である。

Figure 2014189668
· A 1 ~A 3
A 1 to A 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2).
Figure 2014189668

・R
は水素原子または置換基を表す。当該置換基としては、アルキル基(炭素数1〜12が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3が特に好ましい)、アルケニル基(炭素数2〜12が好ましく、2〜6がより好ましい)、またはアリール基(炭素数6〜22が好ましく、6〜14がより好ましい)である。当該アルキル基、アルケニル基、よびアリール基はさらに任意の置換基を有していてもよい。アルキレン基およびアルケニル基は環状でも鎖状でもよく、鎖状のとき、直鎖でも分岐でもよい。当該アルキレン基およびアルケニレン基はさらに任意の置換基を有していてもよい。アルキレン基およびアルケニレン基は環状でも鎖状でもよく、鎖状のとき、直鎖でも分岐でもよい。
は、なかでも、水素原子または前記アルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましい。
・ R 2
R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. As the said substituent, a C1-C12 is preferable, 1-6 are more preferable, 1-3 are especially preferable, and an alkenyl group (C2-C12 is preferable and 2-6 are more preferable). Or an aryl group (preferably having 6 to 22 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms). The alkyl group, alkenyl group, and aryl group may further have an arbitrary substituent. The alkylene group and alkenyl group may be cyclic or chain-like, and when chained, they may be linear or branched. The alkylene group and alkenylene group may further have an arbitrary substituent. The alkylene group and alkenylene group may be cyclic or chain-like, and when chained, they may be linear or branched.
Among them, R 2 is preferably a hydrogen atom or the alkyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

・A
は水酸基、アルコキシ基(炭素数1〜6が好ましく、1〜3が特に好ましい)、チオール基、チオアルコキシ基(炭素数1〜6が好ましく、1〜3が特に好ましい)、アミノ基(炭素数0〜6が好ましく、0〜3が特に好ましい)を表す。なかでも、水酸基またはアルコキシ基が好ましく、水酸基がより好ましい。Aが複数分子内にある場合には、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。
・ A 4
A 4 represents a hydroxyl group, an alkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 3), a thiol group, a thioalkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 3), an amino group ( A carbon number of 0 to 6 is preferable, and 0 to 3 is particularly preferable. Of these, a hydroxyl group or an alkoxy group is preferable, and a hydroxyl group is more preferable. When A 4 is present in a plurality of molecules, they may be the same as or different from each other.

*は結合手を表す。   * Represents a bond.

前記式(1)において、A〜Aのうち少なくとも2つが前記式(2)で表される置換基であることが好ましく、A〜Aのすべてが前記式(2)で表される置換基であることがより好ましい。A〜Aが前記式(2)以外の置換基であるとき、その具体例として後記置換基Tが挙げられ、なかでも後記式(11)の置換基R11〜R13の例が好ましい。 In the formula (1), it is preferable that at least two of the A 1 to A 3 is a substituent represented by the formula (2) is represented by all the formulas A 1 to A 3 (2) It is more preferable that it is a substituent. When A 1 to A 3 are substituents other than the formula (2), specific examples thereof include the substituent T described later, and among them, examples of the substituents R 11 to R 13 of the formula (11) described below are preferable. .

前記式(1)で表される化合物として、実施例で用いた式(3−a)〜(3−f)、(4−a)〜(4−g)が挙げられる、なかでも、式(3−a)、(3−b)、(3−c)、(3−d)、(3−e)、または(3−f)で表される化合物であることが好ましい。   Examples of the compound represented by the formula (1) include the formulas (3-a) to (3-f) and (4-a) to (4-g) used in the examples. A compound represented by 3-a), (3-b), (3-c), (3-d), (3-e), or (3-f) is preferable.

各式において、アクリロイル基のα位にはメチル基が置換していてもよい。また、アクリロイルオキシ基のOとイソシアヌル酸骨格のNとの間のアルキレン基にはさらに、炭素数1〜3のアルキル基、水酸基が置換していてもよい。   In each formula, a methyl group may be substituted at the α-position of the acryloyl group. Further, the alkylene group between O of the acryloyloxy group and N of the isocyanuric acid skeleton may be further substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a hydroxyl group.

本発明に係る樹脂は、特定イソシアヌレート化合物のなかで1種からなるものでも、2種以上からなるものでもよい。あるいは、他の成分とともに含有する樹脂組成物であってもよい。本発明に係る樹脂ないし樹脂組成物は、硬化性であることが好ましい。硬化の方法は限定されないが、加熱による硬化であっても光(電子線)照射による硬化であってもよい。本発明に係る樹脂ないし樹脂組成物は、光学部材形成剤として用いることが好ましく、なかでも、半導体発光装置の封止剤またはレンズの形成剤であることが好ましい。   The resin according to the present invention may be composed of one kind or two or more kinds of specific isocyanurate compounds. Or the resin composition contained with another component may be sufficient. The resin or resin composition according to the present invention is preferably curable. The curing method is not limited, but may be curing by heating or curing by light (electron beam) irradiation. The resin or resin composition according to the present invention is preferably used as an optical member forming agent, and in particular, a sealing agent for a semiconductor light emitting device or a lens forming agent.

前記特定イソシアヌレート化合物を他の化合物と組み合わせた樹脂組成物とするとき、特定イソシアヌレート化合物の含有量は、有機硬化成分中、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがより好ましく、10質量%以上であることが特に好ましい。上限値は特にないが、後記式(A)で表される化合物との組み合わせ等を考慮するとき、前記特定イソシアヌレート化合物を90質量%以下とすることが好ましく、60質量%以下とすることがより好ましく、50質量%以下とすることが特に好ましい。前記下限値以上とすることで、特定イソシアヌレート化合物の作用を十分に引き出すことができる。前記上限値以下とすることにより、組み合わせる成分(式(11)で表される化合物等)との相互作用が期待できる。なお、本発明の好ましい実施形態において、樹脂組成物の有機硬化成分とは炭素原子を含む化合物からなる硬化成分(重合等により直接硬化に寄与する成分)をさすが、炭素原子を含んでいても蛍光体や重合開始剤、有機溶媒を含まない意味である。その他、厳密に対比する必要がある場合には、水や無機塩などの微量成分も除く意味である。   When the resin composition is obtained by combining the specific isocyanurate compound with another compound, the content of the specific isocyanurate compound is preferably 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more in the organic curing component. Is more preferable, and it is especially preferable that it is 10 mass% or more. Although there is no upper limit in particular, when considering a combination with a compound represented by the following formula (A), the specific isocyanurate compound is preferably 90% by mass or less, and preferably 60% by mass or less. More preferably, it is particularly preferably 50% by mass or less. By setting it to the lower limit value or more, the action of the specific isocyanurate compound can be sufficiently extracted. By setting it to the upper limit value or less, interaction with a component to be combined (such as a compound represented by the formula (11)) can be expected. In a preferred embodiment of the present invention, the organic curing component of the resin composition refers to a curing component composed of a compound containing a carbon atom (a component that contributes directly to curing by polymerization or the like). This means that it does not contain a polymer, a polymerization initiator, or an organic solvent. In addition, when it is necessary to make a strict comparison, it is meant to exclude trace components such as water and inorganic salts.

[任意のアクリレートモノマー]
本発明の樹脂ないし樹脂組成物は、光学部材形成剤とするにあたり、下記の任意のアクリレートモノマーをともに配合してもよい。
[Any acrylate monomer]
When the resin or resin composition of the present invention is used as an optical member forming agent, any of the following arbitrary acrylate monomers may be blended together.

(任意のイソシアヌレート化合物)
本発明においては、任意のイソシアヌレート化合物として、下記式(11)で表されるイソシアヌレート骨格を有する化合物を用いることが好ましい。
(Any isocyanurate compound)
In the present invention, it is preferable to use a compound having an isocyanurate skeleton represented by the following formula (11) as an arbitrary isocyanurate compound.

Figure 2014189668
・R11、R12、R13
式中のR11、R12、R13は、それぞれ独立に、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、炭素数6〜24のアリール基、下記式(I)で表されるアクリロイルオキシ基、又は下記式(II)で表されるアシルオキシ基を表す。ただし、式(11)において、R11、R12、及びR13の少なくとも1つは前記アクリロイルオキシ基である。なお、本明細書において「アクリロイル」というときには、α位に置換基(メチル、エチル、ハロゲン、シアノなど)を有するものを含む意味である。
Figure 2014189668
・ R 11 , R 12 , R 13
R 11 , R 12 and R 13 in the formula are each independently a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents an aryl group of ˜24, an acryloyloxy group represented by the following formula (I), or an acyloxy group represented by the following formula (II). However, in Formula (11), at least one of R 11 , R 12 , and R 13 is the acryloyloxy group. In the present specification, “acryloyl” is meant to include those having a substituent (methyl, ethyl, halogen, cyano, etc.) at the α-position.

Figure 2014189668
式中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。*は結合手を表す。
Figure 2014189668
In the formula, R a represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. * Represents a bond.

Figure 2014189668
式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数6〜24のアリール基を表す。*は結合手を表す。
Figure 2014189668
In the formula, R b represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 24 carbon atoms. * Represents a bond.

11、R12、R13、Rにおいて、炭素数1〜10のアルキル基としては直鎖のアルキル基、分岐のアルキル基、環状アルキル基が挙げられるが、中でも、炭素数1〜6の直鎖のアルキル基、炭素数3〜6の分岐のアルキル基、炭素数6〜10の環状アルキル基が好ましい。
11、R12、R13、Rがアリール基のとき、アリール基は、単環でも複環でもよい意味である。アリール基としては中でもフェニル基が好ましい。
本明細書において、アルキル基及びアリール基は、さらに置換基を伴っていてもよく、その例としては後記置換基Tが挙げられる。
In R 11 , R 12 , R 13 , and R b , examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group. A linear alkyl group, a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 6 to 10 carbon atoms are preferable.
When R 11 , R 12 , R 13 , and R b are an aryl group, the aryl group may be monocyclic or multicyclic. Among them, a phenyl group is preferable as the aryl group.
In the present specification, the alkyl group and the aryl group may further have a substituent, and examples thereof include the substituent T described below.

は単結合またはR〜Rの連結基と同義であり、単結合または炭素数1〜4のアルキレン基であることが好ましい。中でもエチレン基又はイソプロピレン基(N−CH−CH(CH)−Rの向き:RはR11、R12、又はR13)が好ましく、エチレン基がより好ましい。3つあるLaは互いに同じであっても異なっていてもよい。 L a has the same meaning as the linking group of a single bond or R 1 to R 3, is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. Among them, an ethylene group or an isopropylene group (N—CH 2 —CH (CH 3 ) —R direction: R is R 11 , R 12 , or R 13 ) is preferable, and an ethylene group is more preferable. The three Las may be the same or different from each other.

式(11)で表される化合物においては、R11、R12、R13の少なくとも1つが水酸基ないしこれを有する基であることが好ましい。なかでも、前記式(11)で表される化合物は、下記式(11−1)、(11−2)、又は(11−3)で表されるものであることが好ましい。 In the compound represented by the formula (11), it is preferable that at least one of R 11 , R 12 and R 13 is a hydroxyl group or a group having this. Especially, it is preferable that the compound represented by said Formula (11) is what is represented by following formula (11-1), (11-2), or (11-3).

Figure 2014189668
Figure 2014189668

・R71、R72、R73、R74
式中、R71、R72、及びR73はそれぞれ独立に、水素又はメチル基である。R74は、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数6〜24のアリールオキシ基、および式(II)で表されるアシルオキシ基のいずれかである。
・ R 71 , R 72 , R 73 , R 74
In the formula, R 71 , R 72 , and R 73 are each independently hydrogen or a methyl group. R 74 is any one of a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, and an acyloxy group represented by the formula (II).

本発明においてはR74が水酸基を含む置換基であることが好ましく、水酸基であることがより好ましい。 In the present invention, R 74 is preferably a substituent containing a hydroxyl group, and more preferably a hydroxyl group.

・L
は式(11)と同義であり、好ましい範囲もそれと同様である。
· L a
L a is as defined for formula (11), it is also similar to the preferred ranges.

前記任意イソシアヌレート化合物は、下記式(11−4)で表される化合物であってもよい。   The arbitrary isocyanurate compound may be a compound represented by the following formula (11-4).

Figure 2014189668
Figure 2014189668

・R71、R72、Rは、式(11−1)及び式(II)と同義である。Lは式(11)と同義である。 * R <71> , R <72 > , R < b > is synonymous with Formula (11-1) and Formula (II). L a have the same meanings as in formula (11).

任意イソシアヌレート化合物の添加量は特に限定されないが、組成物の有機硬化成分中で、1質量%以上50質量%未満で含むことが好ましく、3質量%以上40質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上30質量%以下であることが特に好ましい。上記の範囲で任意イソシアヌレート化合物を適用することで、硬化物の耐熱衝撃性(耐クラック性)、および耐熱着色性を悪化させることなく吸水率を低下させることができ、吸水起因による故障(例えば、吸水した状態でリフロー処理を行った際に発生する吸湿リフロークラックなど)を低下させることが可能であり、結果、信頼性の高い半導体発光素子を提供することができる。   The amount of the optional isocyanurate compound added is not particularly limited, but it is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 40% by mass in the organic curing component of the composition. It is particularly preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less. By applying an optional isocyanurate compound within the above range, the water absorption rate can be reduced without deteriorating the thermal shock resistance (crack resistance) of the cured product and the heat resistance colorability, and failure due to water absorption (for example, , Moisture absorption reflow cracks generated when the reflow treatment is performed in a water-absorbed state can be reduced, and as a result, a highly reliable semiconductor light emitting device can be provided.

(ビスフェニレン基を有するアクリレートモノマー)
前記アクリレートモノマーは下記式(21)で表されるものであることが好ましい。
(Acrylate monomer having bisphenylene group)
The acrylate monomer is preferably represented by the following formula (21).

Figure 2014189668
Figure 2014189668

・R21、R22
21、R22は置換基を表し、その好ましいものは後記置換基Tの例が挙げられる。R21、R22は複数あるとき、互いに同じであっても異なっていてもよい。
· R 21, R 22
R 21 and R 22 each represent a substituent, and preferred examples thereof include the substituent T described later. When there are a plurality of R 21 and R 22 , they may be the same as or different from each other.

・Ac
Acはアクリロイルオキシ基を表し、その好ましい例は前記式(I)で表される基が挙げられる。
・ Ac
Ac represents an acryloyloxy group, and preferred examples thereof include the group represented by the formula (I).

・L
は単結合または連結基を表す。その好ましい範囲としては、環状もしくは鎖状(分岐もしくは直鎖)のアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、オキシ基(−O−)、カルボニル基、アミノ基(−NR−:Rは水素原子もしくは有機基)、またはそれらの組合せが挙げられる。なかでも好ましくは、炭素数1〜10のアルキレン基もしくは炭素数1〜10のオキシ基を有することあるアルキレン基であり、より好ましくは、酸素原子で式中のベンゼン環に結合する、炭素原子数1〜4のオキシ基を有することあるアルキレン基である。
前記のとおり、アクリレートモノマーは水酸基を有することが好ましく、上記連結基Lが水酸基を有することが好ましい。
・ L e
Le represents a single bond or a linking group. The preferred range is cyclic or chain (branched or straight chain) alkylene group, arylene group, heteroarylene group, oxy group (—O—), carbonyl group, amino group (—NR—: where R is a hydrogen atom or Organic group), or a combination thereof. Among them, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an alkylene group that may have an oxy group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and more preferably, the number of carbon atoms bonded to the benzene ring in the formula by an oxygen atom It is an alkylene group which may have 1 to 4 oxy groups.
As defined above, and acrylate monomer preferably has a hydroxyl group, it is preferable that the linking group L e may have a hydroxyl group.

・L
は連結基を表す。その例として、−O−、−CH−、−C(CH)H−、−C(CH−、−C(CH)(Ph)−、−C(CF−、−C(CH)(C)−、−C(Ph)−、C(=CCl)−、−C(CH)H−、−SO−などが挙げられる。その他、Lとして、下記式で表されるものも挙げられる。
・ L f
L f represents a linking group. Examples thereof include —O—, —CH 2 —, —C (CH 3 ) H—, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CH 3 ) (Ph) —, and —C (CF 3 ) 2 —. , -C (CH 3) (C 2 H 5) -, - C (Ph) 2 -, C (= CCl 2) -, - C (CH 3) H -, - SO 2 - , and the like. In addition, examples of L f include those represented by the following formula.

Figure 2014189668
式中、*は結合手を表す。R31、R32は、炭素原子数1〜5のアルキレン基を表し、メチレン基、エチレン基、プロピレン基が好ましく、なかでも2,2−プロパンジイル基がより好ましい。R33は、置換基を表し、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子等が挙げられる。n3は0〜4の整数を表し、0であることが好ましい。
Figure 2014189668
In the formula, * represents a bond. R 31 and R 32 represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a methylene group, an ethylene group or a propylene group, and more preferably a 2,2-propanediyl group. R 33 represents a substituent, and examples thereof include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, and a halogen atom. n3 represents an integer of 0 to 4, and is preferably 0.

・n21、n22は0〜4の整数を表す。 -N21 and n22 represent the integer of 0-4.

(脂環式炭化水素骨格を有するアクリレートモノマー)
本発明に好適に用いられる脂環式炭化水素骨格を有するアクリレートモノマーとしては、前記ノルボルナン骨格を有するアクリレートモノマーもしくはアダマンタン骨格を有するアクリレートモノマーが挙げられる。具体的には、下記式(11)または(12)で表されるモノマーが挙げられる。
(Acrylate monomer having an alicyclic hydrocarbon skeleton)
Examples of the acrylate monomer having an alicyclic hydrocarbon skeleton suitably used in the present invention include the acrylate monomer having the norbornane skeleton or the acrylate monomer having an adamantane skeleton. Specific examples include monomers represented by the following formula (11) or (12).

Figure 2014189668
・R11、R12
11、R12は置換基を表す。複数あるR11、R12は互いに結合して環を形成していてもよい。置換基の好ましい範囲としては、後記置換基Tの例が挙げられる。R11、R12は複数あるとき、互いに同じであっても異なっていてもよい。
Figure 2014189668
・ R 11 , R 12
R 11 and R 12 represent a substituent. A plurality of R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring. As a preferable range of the substituent, examples of the substituent T described later can be given. When there are a plurality of R 11 and R 12 , they may be the same as or different from each other.

・L
は単結合または連結基を表す。その好ましい範囲は前記Lと同様である。R11、Lは複数あるとき、互いに同じであっても異なっていてもよい。
・ L d
L d represents a single bond or a linking group. Its preferred range is the same as the L a. When there are a plurality of R 11 and L d , they may be the same as or different from each other.

・Ac
Acは置換基を有していてもよいアクリロイルオキシ基を表す。Acの好ましいものは、後記式(I)と同義である。Acは複数あるとき、互いに同じであっても異なっていてもよい。
・ Ac
Ac represents an acryloyloxy group which may have a substituent. The preferable thing of Ac is synonymous with postscript formula (I). When there are a plurality of Ac, they may be the same or different.

n11は0〜6の整数を表す。n12は0〜9の整数を表す。naは1〜4の整数を表す。   n11 represents an integer of 0 to 6. n12 represents the integer of 0-9. na represents an integer of 1 to 4.

なお、本明細書において「化合物」という語を末尾に付して呼ぶとき、あるいは特定の名称ないし化学式で示すときには、当該化合物そのものに加え、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、所望の効果を奏する範囲で、所定の形態で修飾された誘導体を含む意味である。また、本明細書において置換・無置換を明記していない置換基ないし連結基については、その基に任意の置換基を有していてもよい意味である。これは置換・無置換を明記していない化合物についても同義である。好ましい置換基としては、下記置換基Tが挙げられる。   In the present specification, when the term “compound” is added at the end or indicated by a specific name or chemical formula, it is used in the meaning including its salt and its ion in addition to the compound itself. Moreover, it is the meaning including the derivative modified with the predetermined form in the range with the desired effect. In addition, in the present specification, a substituent or a linking group for which substitution or non-substitution is not specified means that the group may have an arbitrary substituent. This is also synonymous for compounds that do not specify substitution / non-substitution. Preferred substituents include the following substituent T.

置換基Tとしては、下記のものが挙げられる。
アルキル基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘプチル、1−エチルペンチル、ベンジル、2−エトキシエチル、1−カルボキシメチル等)、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、オレイル等)、アルキニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルキニル基、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等)、シクロアルキル基(好ましくは炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル等)、アリール基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリール基、例えば、フェニル、1−ナフチル、4−メトキシフェニル、2−クロロフェニル、3−メチルフェニル等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素原子数2〜20のヘテロ環基、例えば、2−ピリジル、4−ピリジル、2−イミダゾリル、2−ベンゾイミダゾリル、2−チアゾリル、2−オキサゾリル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、1−ナフチルオキシ、3−メチルフェノキシ、4−メトキシフェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、例えば、エトキシカルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル等)、アミノ基(好ましくは炭素原子数0〜20のアミノ基、例えば、アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−エチルアミノ、アニリノ等)、スルホンアミド基(好ましくは炭素原子数0〜20のスルホンアミド基、例えば、N,N−ジメチルスルホンアミド、N−フェニルスルホンアミド等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルオキシ基、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、カルバモイル基(好ましくは炭素原子数1〜20のカルバモイル基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルアミノ基、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、シアノ基、ヒドロキシル基、又はハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)であり、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子であり、特に好ましくはアルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基又はシアノ基が挙げられる。
Examples of the substituent T include the following.
An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, pentyl, heptyl, 1-ethylpentyl, benzyl, 2-ethoxyethyl, 1-carboxymethyl, etc.), alkenyl A group (preferably an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl, allyl, oleyl, etc.), an alkynyl group (preferably an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as ethynyl, butadiynyl, phenylethynyl, etc.), A cycloalkyl group (preferably a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, etc.), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 26 carbon atoms, for example, Phenyl, 1-naphthyl, 4-methoxyphenyl, -Chlorophenyl, 3-methylphenyl, etc.), heterocyclic groups (preferably heterocyclic groups having 2 to 20 carbon atoms, such as 2-pyridyl, 4-pyridyl, 2-imidazolyl, 2-benzimidazolyl, 2-thiazolyl, 2 -Oxazolyl etc.), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, isopropyloxy, benzyloxy etc.), an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 26 carbon atoms) , For example, phenoxy, 1-naphthyloxy, 3-methylphenoxy, 4-methoxyphenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (preferably C2-C20 alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl, 2-ethylhexyloxycarbonyl, etc.) ), Amino group (preferably carbon Amino group having 0 to 20 children, such as amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, N-ethylamino, anilino, etc.), sulfonamide group (preferably sulfonamide having 0 to 20 carbon atoms) A group such as N, N-dimethylsulfonamide, N-phenylsulfonamide, etc., an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms such as acetyloxy, benzoyloxy, etc.), a carbamoyl group (preferably A carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), an acylamino group (preferably an acylamino group having 1 to 20 carbon atoms, such as acetylamino, benzoylamino, etc.) , A cyano group, a hydroxyl group, or a halogen atom (for example, a fluorine atom, A chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc., more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group, a cyano group, or a halogen An atom, particularly preferably an alkyl group, an alkenyl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group, or a cyano group.

上記特定イソシアヌレート化合物は定法により合成すればよく、特にその合成方法は限定されない。その市販品等の情報は、例えば、特開2003−213159号公報を参照することができる。   The specific isocyanurate compound may be synthesized by a conventional method, and the synthesis method is not particularly limited. For information on such commercial products, reference can be made to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-213159.

[重合開始剤]
本発明の樹脂組成物には、重合開始剤を含有させることが好ましい。
なかでもラジカル重合開始剤を配合することが挙げられる。
熱によって開裂して開始ラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド及びメチルシクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類;1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド及びt−ブチルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類;ジイソブチリルパーオキサイド、ビス−3,5,5−トリメチルヘキサノールパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド及びm−トルイルベンゾイルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類;ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキセンなどのジアルキルパーオキサイド類;1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチル)シクロヘキサン、1,1−ジ−t−ブチルペルオキシシクロヘキサン及び2,2−ジ(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどのパーオキシケタール類;1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシネオジカーボネート、α−クミルペルオキシネオジカーボネート、t−ブチルペルオキシネオジカーボネート、t−ヘキシルペルオキシピバレート、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルペルオキシヘキサヒドロテレフタレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサネート、t−アミルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシベンゾエート及びジブチルペルオキシトリメチルアジペートなどのアルキルパーエステル類;ジ−3−メトキシブチルペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネート、ビス(1,1−ブチルシクロヘキサオキシジカーボネート)、ジイソプロピルオキシジカーボネート、t−アミルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート及び1,6−ビス(t−ブチルペルオキシカルボキシ)ヘキサンなどのパーオキシカーボネート類;1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)シクロヘキサン及び(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカルボネートなどが挙げられる。
アゾ系(AIBN等)の重合開始剤として使用するアゾ化合物の具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、4,4’−アゾビス−4−シアノバレリック酸、2,2’−アゾビス−(2−アミジノプロパン)ジハイドロクロライド等が挙げられる(特開2010−189471など参照)。
[Polymerization initiator]
The resin composition of the present invention preferably contains a polymerization initiator.
Among these, a radical polymerization initiator is added.
Examples of thermal radical polymerization initiators that generate initiation radicals by cleavage by heat include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, acetylacetone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1 Hydroperoxides such as 1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide; diisobutyryl peroxide, bis-3,5,5-trimethylhexanol peroxide, lauroyl peroxide Diacyl peroxides such as oxide, benzoyl peroxide and m-toluyl benzoyl peroxide; dicumyl peroxide, 2, 5 Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 1,3-bis (t-butylperoxyisopropyl) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide and 2,5-dimethyl- Dialkyl peroxides such as 2,5-di (t-butylperoxy) hexene; 1,1-di (t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl) cyclohexane, 1,1-di-t-butylperoxy Peroxyketals such as cyclohexane and 2,2-di (t-butylperoxy) butane; 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodicarbonate, α-cumylperoxyneodicarbonate, t-butylperoxyneodicarbonate , T-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butyl Peroxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-3,5,5-trimethylhexanate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethyl Alkyl peresters such as hexanoate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate and dibutylperoxytrimethyladipate; di-3-methoxybutylperoxy Dicarbonate, di-2-ethylhexyl Ruperoxydicarbonate, bis (1,1-butylcyclohexaoxydicarbonate), diisopropyloxydicarbonate, t-amylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexylcarbonate and 1, Peroxycarbonates such as 6-bis (t-butylperoxycarboxy) hexane; 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane and (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate.
Specific examples of the azo compound used as an azo-based (AIBN or the like) polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2, 2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 4,4'-azobis-4-cyano Valeric acid, 2,2′-azobis- (2-amidinopropane) dihydrochloride and the like can be mentioned (see JP 2010-189471 A).

ラジカル重合開始剤として、上記の熱ラジカル重合開始剤の他に、光、電子線又は放射線で開始ラジカルを生成するラジカル重合開始剤を用いることができる。
このようなラジカル重合開始剤としては、ベンゾインエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン〔IRGACURE651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン〔IRGACURE 184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン〔DAROCUR1173、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン〔IRGACURE2959、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ヒドロキシ−1−[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン〔IRGACURE 127、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン〔IRGACURE907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1〔IRGACURE369、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モノホリニル)フェニル]−1−ブタノン〔IRGACURE379、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド〔DAROCUR TPO、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド〔IRGACURE819、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、ビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム〔IRGACURE784、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]〔IRGACURE OXE 01、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)〔IRGACURE OXE 02、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕などを挙げることができる。
これらのラジカル重合開始剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
中でも好ましくは、パーオキサイド化合物が挙げられ、パーブチルO(t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノエート、日油(株)社製)などを用いることができる。
As the radical polymerization initiator, in addition to the thermal radical polymerization initiator, a radical polymerization initiator that generates an initiation radical by light, electron beam, or radiation can be used.
Examples of such radical polymerization initiators include benzoin ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [IRGACURE651, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 1-hydroxy-cyclohexyl. -Phenyl-ketone [IRGACURE 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one [DAROCUR1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.] , Trademark], 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one [IRGACURE2959, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], 2-Hydroxy-1- [4- [4- (2-H Droxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl] -2-methyl-propan-1-one [IRGACURE 127, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 2-methyl-1- (4-methylthio Phenyl) -2-morpholinopropan-1-one [IRGACURE907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.], 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 [IRGACURE369, trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.], 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-monophorinyl) phenyl] -1- Butanone [IRGACURE 379, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., trademark] 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide [DAROCUR TPO, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., trademark], bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide [IRGACURE819, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd., Trademark], bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl ) Titanium [IRGACURE784, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Trademark], 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)] [IRGACURE OXE 01, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd. Tanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) [IRGACURE OXE 02, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , Trademark] and the like.
These radical polymerization initiators can be used singly or in combination of two or more.
Among them, a peroxide compound is preferable, and perbutyl O (t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, manufactured by NOF Corporation) and the like can be used.

重合開始剤の量は特に限定されないが、有機硬化成分100質量部に対して5質量部以下であることが好ましく、2質量部以下であることがより好ましい。方、上記上限値以下とすることで、上記特定イソシアヌレート化合物を適用したことによる樹脂組成物の優れた効果を十分に引き出すことができ好ましい。
なお、本発明においては、樹脂組成物を加熱のみにより重合させるようにしてもよく、重合開始剤を用いない構成としてもよい。
Although the quantity of a polymerization initiator is not specifically limited, It is preferable that it is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of organic hardening components, and it is more preferable that it is 2 mass parts or less. On the other hand, it is preferable to make it not more than the above upper limit value because the excellent effect of the resin composition by applying the specific isocyanurate compound can be sufficiently obtained.
In the present invention, the resin composition may be polymerized only by heating, or the polymerization initiator may not be used.

[重合禁止剤]
本発明の樹脂組成物には、重合禁止剤を添加してもよい。前記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、tert−ブチルハイドロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のフェノール類;ベンゾキノン、ジフェニルベンゾキノン等のキノン類;フェノチアジン類;銅類等を用いることができる。
重合禁止剤の含有量は特に限定されないが、有機硬化成分1部に対して0〜20000ppm(質量部基準)、好ましくは100〜10000ppm、更に好ましくは200〜3000ppmで添加することが好ましい。
[Polymerization inhibitor]
A polymerization inhibitor may be added to the resin composition of the present invention. Examples of the polymerization inhibitor include phenols such as hydroquinone, tert-butylhydroquinone, catechol, and hydroquinone monomethyl ether; quinones such as benzoquinone and diphenylbenzoquinone; phenothiazines; copper and the like.
Although content of a polymerization inhibitor is not specifically limited, It is 0-20000 ppm (mass part reference | standard) with respect to 1 part of organic hardening components, Preferably it is 100-10000 ppm, More preferably, it is preferable to add at 200-3000 ppm.

[酸化防止剤]
本発明の樹脂組成物には必要に応じて酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、チオエーテル酸化防止剤、ビタミン系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
[Antioxidant]
You may add antioxidant to the resin composition of this invention as needed. Examples of antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, thioether antioxidants, vitamin antioxidants, lactone antioxidants, and amine antioxidants. .

フェノール系酸化防止剤としては、Irganox1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox1076(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox1330(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox3114(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、Irganox3125(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、アデカスタブAO−20(株式会社ADE KA、商標)、アデカスタブAO−50(株式会社ADE KA、商標)、アデカスタブAO−60(株式会社ADE KA、商標)、アデカスタブAO−80(株式会社ADE KA、商標)、アデカスタブAO−30(株式会社ADE KA、商標)、アデカスタブAO−40(株式会社ADE KA、商標)、BHT(武田薬品工業(株)製、商標)、Cyanox1790(サイアナミド社製、商標)、SumilizerGP(住友化学(株)製、商標)、SumilizerGM(住友化学(株)製、商標)、SumilizerGS(住友化学(株)製、商標)及び、SumilizerGA−80(住友化学(株)製、商標)などの市販品を挙げることができる。   Examples of phenolic antioxidants include Irganox 1010 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 1076 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 1330 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Trademark), Irganox 3114 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Irganox 3125 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), ADK STAB AO-20 (ADEKA, Inc., trade name), ADK STAB AO-50 (ADEKA Corporation, Trademark), Adeka Stub AO-60 (ADEKA Corporation, Trademark), Adeka Stub AO-80 (ADEKA Corporation, Trademark), Adeka Stub AO-30 (ADEKA Corporation, Trademark) , ADK STAB AO-40 (ADEKA, Inc., trademark), BHT (trade name, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Cyanox 1790 (trademark, manufactured by Cyanamid Co., Ltd.), Sumizer GP (trademark, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Examples include commercial products such as Sumitomo Chemical Co., Ltd., Trademark), Sumilizer GS (Sumitomo Chemical Co., Ltd., Trademark), and Sumizer GA-80 (Sumitomo Chemical Co., Ltd., Trademark).

リン系化合物としてはIRAGAFOS168(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS12(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS38(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS P−EPQ(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、IRAGAFOS126(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標)、ADKSTAB 329K(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB PEP−36(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB PEP−8(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB HP−10(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB 2112(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB 260(株式会社ADE KA、商標)、ADKSTAB 522A(株式会社ADE KA、商標)、Weston 618(GE社製、商標)、Weston 619G(GE社製、商標)、及びWeston 624(GE社製、商標)などの市販品を挙げることができる。   Examples of phosphorus compounds include IRAGAFOS 168 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS 12 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS 38 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS P-EPQ (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), IRAGAFOS 126 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), ADKSTAB 329K (ADEKA, Inc.), ADKSTAP PEP-36 (stock) Company ADE KA, trademark), ADKSTAP PEP-8 (ADE KA, trademark), ADKSTAP HP-10 (ADE KA, trademark), ADKSTAB 2112 (ADE KA, quotient) Standard), ADKSTAB 260 (ADEKA, trademark), ADKSTAB 522A (ADEKA, trademark), Weston 618 (GE, trademark), Weston 619G (GE, trademark), and Weston 624 (GE) And commercial products such as trade names).

イオウ系酸化防止剤としては、DSTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、DLTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、DLTOIB〔吉富(株)製、商標〕、DMTP(ヨシトミ)〔吉富(株)製、商標〕、Seenox 412S〔シプロ化成(株)製、商標〕、Cyanox 1212(サイアナミド社製、商標)及びTP−D、TPS、TPM、TPL−R[住友化学(株)製、商標]等の市販品を挙げることができる。ビタミン系酸化防止剤としては、トコフェロール〔エーザイ(株)製、商標〕及びIrganoxE201〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標、化合物名;2,5,7,8−テトラメチル−2(4’,8’,12’−トリメチルトリデシル)クマロン−6−オール〕などの市販品を挙げることができる。   Examples of sulfur-based antioxidants include DSTP (Yoshitomi) (trademark), DLTP (Yoshitomi) (trademark, produced by Yoshitomi Corporation), DLTOIB (trademark, produced by Yoshitomi Corporation), DMTP (Yoshitomi). ) [Trademark] made by Yoshitomi Co., Ltd., Seenox 412S [trademark made by Sipro Kasei Co., Ltd.], Cyanox 1212 (trademark made by Cyanamid Co., Ltd.) and TP-D, TPS, TPM, TPL-R [Sumitomo Chemical Co., Ltd. ), Trade name, etc.). Examples of vitamin-based antioxidants include tocopherol (trade name, manufactured by Eisai Co., Ltd.) and Irganox E201 (trade name, compound name: 2,5,7,8-tetramethyl-2 (4, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). Commercial products such as ', 8', 12'-trimethyltridecyl) coumarone-6-ol].

チオエーテル系酸化防止剤としては、アデカスタブAO−412S(株式会社ADE KA製、商標)、アデカスタブAO−503(株式会社ADE KA製、商標)などの市販品を挙げることができる。ラクトン系酸化防止剤としては、特開平7−233160号公報及び特開平7−247278号公報に記載されているものを使用することができる。また、HP−136〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標、化合物名;5,7−ジ−t−ブチル−3−(3,4−ジメチルフェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オン〕などの市販品を挙げることができる。   Examples of the thioether-based antioxidant include commercially available products such as ADK STAB AO-412S (trade mark, manufactured by ADE KA) and ADK STAB AO-503 (trade mark, manufactured by ADE KA). As the lactone antioxidant, those described in JP-A-7-233160 and JP-A-7-247278 can be used. Moreover, HP-136 [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trademark, compound name; 5,7-di-t-butyl-3- (3,4-dimethylphenyl) -3H-benzofuran-2-one] And other commercial products.

アミン系酸化防止剤としては、IrgastabFS042〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商標〕及びGENOX EP〔クロンプトン社製、商標、化合物名;ジアルキル−N−メチルアミンオキサイド〕などの市販品を挙げることができる。これらの酸化防止剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of amine-based antioxidants include commercially available products such as Irgastab FS042 [trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] and GENOX EP [trade name, compound name; dialkyl-N-methylamine oxide] manufactured by Crompton Co., Ltd. Can do. These antioxidants can be used singly or in combination of two or more.

酸化防止剤の含有量は、樹脂組成物の透明性、黄変性の低下を抑制する観点から、前記有機硬化成分の合計量100質量部に対して、通常0.01〜10質量部、好ましくは0.01〜5質量部、より好ましくは0.02〜2質量部である。   The content of the antioxidant is usually 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the organic curing component, preferably from the viewpoint of suppressing the transparency of the resin composition and the reduction of yellowing. It is 0.01-5 mass parts, More preferably, it is 0.02-2 mass parts.

[光安定剤等]
本発明の樹脂ないしその組成物(以下、樹脂組成物と総称する)には、前記の酸化防止剤の他に、必要に応じて、滑剤、光安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、帯電防止剤、無機充填剤、着色剤、帯電防止剤、離型剤、難燃剤、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機化合物との密着性改良を目的とした成分などを配合することができる。滑剤としては、高級ジカルボン酸金属塩及び高級カルボン酸エステル等を使用することができる。
[Light stabilizers, etc.]
The resin of the present invention or a composition thereof (hereinafter collectively referred to as a resin composition) includes, in addition to the above-described antioxidant, a lubricant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a plasticizer, and an antistatic agent as necessary. Agents, inorganic fillers, colorants, antistatic agents, mold release agents, flame retardants, components for the purpose of improving adhesion with inorganic compounds such as titanium oxide and silicon oxide, and the like can be blended. As the lubricant, higher dicarboxylic acid metal salts, higher carboxylic acid esters, and the like can be used.

光安定剤としては、公知のものを使用することができるが、好ましくはヒンダードアミン系光安定剤である。ヒンダードアミン系光安定剤の具体例としては、ADKSTAB LA−77、同LA−57、同LA−52、同LA−62、同LA−67、同LA−68、同LA−63、同LA−94、同LA−94、同LA−82及び同LA−87〔以上、株式会社ADE KA製〕、Tinuvin123、同144、同440及び同662、Chimassorb2020、同119、同944〔以上、CSC社製〕、Hostavin N30(Hoechst社製)、Cyasorb UV−3346、同UV−3526(以上、Cytec社製)、Uval 299(GLC)及びSanduvorPR−31(Clariant)などを挙げることができる。これらの光安定剤は、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。   Any known light stabilizer can be used, but a hindered amine light stabilizer is preferred. Specific examples of the hindered amine light stabilizer include ADKSTAB LA-77, LA-57, LA-52, LA-62, LA-67, LA-68, LA-63, and LA-94. LA-94, LA-82 and LA-87 (above, manufactured by ADEKA Corporation), Tinuvin 123, 144, 440 and 662, Chimassorb 2020, 119, 944 (above, manufactured by CSC) , Hostavin N30 (manufactured by Hoechst), Cyasorb UV-3346, UV-3526 (manufactured by Cytec), Uval 299 (GLC), and SanduvorPR-31 (Clariant). These light stabilizers can be used singly or in combination of two or more.

光安定剤の使用量は、前記有機硬化成分の合計量100質量部に対して、通常、0.005〜5質量部であり、好ましくは0.02〜2質量部である。
酸化チタンや酸化ケイ素などの無機化合物との密着性改良を目的とした成分としては、シラン化合物のメタクリオキシ基やアクリロキシ基を含むシランカップリング剤などが挙げられる。これを上記樹脂組成物に含有させ、重合、成形しても良い。
The usage-amount of a light stabilizer is 0.005-5 mass parts normally with respect to 100 mass parts of total amounts of the said organic hardening component, Preferably it is 0.02-2 mass parts.
Examples of the component for improving the adhesion with inorganic compounds such as titanium oxide and silicon oxide include silane coupling agents containing a methacryloxy group or an acryloxy group of the silane compound. This may be contained in the resin composition, polymerized and molded.

[半導体発光装置]
(封止方式)
本発明の樹脂組成物は半導体発光装置等の封止剤として用いることができる。封止剤の封止方式としては通常半導体発光素子の封止で用いられている手法や一般的な熱硬化性樹脂の成形と同様の方法を用いることができる。例えば、ポッティング(ディスペンス)、印刷、コーティング、射出成形、圧縮成形、トランスファー成形及びインサート成形などが挙げられる。ポッティングとは、パッケージのキャビティ(凹状空間)の内部に前記封止剤を吐出して内部を埋める操作を表す。また、印刷とはマスクを用いて目的の部位に封止剤を配置する操作を表し、目的に応じて周囲の圧力を減圧するいわゆる真空印刷の方式も採用できる。コーティングは各種のコーティング方式を採用することができ、例えばダム材と呼ばれる封止剤を留める堰を予め作製しておき、その内側に封止剤をコーティングする方法も採用できる。また、各種モールド成形においてはモールドの内側に封止剤を充填しそのまま熱硬化する方法が挙げられる。また、封止後の硬化は熱硬化、UV硬化などやそれらを組み合わせて用いることができる。
本発明の好ましい実施形態における半導体発光装置は、上記の封止剤を硬化することによって作製した封止材を具備してなる。硬化方法としては通常の熱硬化性樹脂の成形と同様の方法を用いることができる。例えば、上記の樹脂組成物又はその予備重合物を用い、これらの液状樹脂の射出成形、圧縮成形、トランスファー成形及びインサート成形などで、重合・成形する方法が挙げられる。また、ポッティング加工やコーティング加工で成形体を得ることもできる。さらに、例えばUV硬化成形など光硬化樹脂の成形と同様の方法によっても成形体を得ることができる。
[Semiconductor light emitting device]
(Sealing method)
The resin composition of the present invention can be used as a sealing agent for semiconductor light emitting devices and the like. As a sealing method of the sealing agent, a method usually used for sealing a semiconductor light emitting element or a method similar to a general thermosetting resin molding can be used. Examples thereof include potting (dispensing), printing, coating, injection molding, compression molding, transfer molding, and insert molding. Potting represents an operation of discharging the sealing agent into a cavity (concave space) of the package to fill the interior. In addition, printing represents an operation of disposing a sealant at a target site using a mask, and a so-called vacuum printing method in which the surrounding pressure is reduced according to the purpose can be employed. Various types of coating methods can be used for coating. For example, a method of preparing a weir called a dam material for holding a sealing agent in advance and coating the sealing agent on the inside thereof can also be used. Moreover, in various mold shaping | molding, the method of filling the sealing agent inside a mold and thermosetting as it is is mentioned. Further, curing after sealing can be performed by heat curing, UV curing, or a combination thereof.
The semiconductor light-emitting device in preferable embodiment of this invention comprises the sealing material produced by hardening said sealing agent. As a curing method, a method similar to the molding of a normal thermosetting resin can be used. For example, the above-mentioned resin composition or a prepolymer thereof may be used for polymerization / molding by injection molding, compression molding, transfer molding, insert molding, etc. of these liquid resins. Moreover, a molded object can also be obtained by a potting process or a coating process. Furthermore, a molded body can be obtained by a method similar to the molding of a photo-curing resin such as UV curing molding.

本実施形態の半導体発光装置ないしその部材は、液状樹脂成形法により製造されることが好ましい。液状樹脂成形法としては、常温で液状の樹脂組成物又はその予備重合物を高温の金型に圧入して加熱硬化させる液状樹脂射出成形、液状の樹脂組成物を金型に入れ、プレスによって加圧し、硬化させる圧縮成形、加温した液状の樹脂組成物に圧力をかけて金型に圧入することにより封止剤を硬化させるトランスファー成形などが挙げられる。   It is preferable that the semiconductor light-emitting device or its member of this embodiment is manufactured by a liquid resin molding method. Liquid resin molding includes liquid resin injection molding in which a liquid resin composition or a prepolymer thereof at room temperature is pressed into a high-temperature mold and cured by heating, and the liquid resin composition is placed in a mold and pressed by a press. Examples thereof include compression molding for pressing and curing, transfer molding for curing a sealant by applying pressure to a heated liquid resin composition and press-fitting it into a mold.

(レンズの形成)
本発明の樹脂組成物はレンズ形成材料として用いることもできる。レンズはどのような製品に組み込むものであってもよく、半導体発光装置のレンズであっても、ウェハレベルレンズ、CCDカメラ、CMOSカメラ等のレンズであってもよい。半導体発光装置のレンズとして利用した例を図2に模式的に示している。本レンズ9の製造方法は特に限定されないが、上述のように封止材3を形成した後に、その表面に樹脂組成物を滴下することにより所望のレンズ9を形成することができる。適度な表面張力と粘度とを有する樹脂組成物を用いれば、上記滴下処理のみによって所定の凸面を有するレンズとすることができる。あるいは、モールドを利用して、所定の凸面あるいは凹面のレンズとしてもよい。さらに、上記封止材およびレンズを同じ樹脂組成物で、一回的に製造する態様も挙げられる。
(Lens formation)
The resin composition of the present invention can also be used as a lens forming material. The lens may be incorporated into any product, and may be a lens of a semiconductor light emitting device or a lens such as a wafer level lens, a CCD camera, or a CMOS camera. An example of use as a lens of a semiconductor light emitting device is schematically shown in FIG. Although the manufacturing method of this lens 9 is not specifically limited, After forming the sealing material 3 as mentioned above, the desired lens 9 can be formed by dripping the resin composition on the surface. If a resin composition having an appropriate surface tension and viscosity is used, a lens having a predetermined convex surface can be obtained only by the dropping treatment. Or it is good also as a lens of a predetermined convex surface or a concave surface using a mold. Furthermore, the aspect which manufactures the said sealing material and a lens once with the same resin composition is also mentioned.

本発明の樹脂ないしその組成物によれば、上記封止材の形成にせよ、レンズの形成にせよ、好気下での硬化性に富むため、その利点を活かすことができる。好気下での硬化性とは、具体的には、空気中の酸素の存在化でも迅速かつ均質に樹脂の硬化が進行する性質を意味する。通常、エチレン性不飽和結合基をもつ化合物がその基でラジカル重合する際に、空気中の酸素が存在すると、これが阻害要因となり重合反応が進行しなくなることがある。そうすると、酸素(空気)と接触する樹脂表面部分のみ反応が進行せず、所望の形態の硬化物が得られず、表面に液状部分ないしゴム状部分が残留してしまうことがある。劣悪な場合には、全く重合反応が進行せず、硬化物が得られないこともある。本発明の樹脂ないしその組成物は、このような空気(酸素)と触れる環境化でも、重合反応が好適に進行し、むらのない良好な硬化物が得られる。そのため、窒素雰囲気などの供給下に製造を行う必要がなく、製造工程の改善および製造品質の良化に大いに資するものである。   According to the resin or the composition thereof of the present invention, it is possible to make use of the advantages because it has high aerobic curability regardless of the formation of the sealing material or the lens. The aerobic curability specifically means the property that the resin cures rapidly and uniformly even in the presence of oxygen in the air. Usually, when a compound having an ethylenically unsaturated bond group undergoes radical polymerization with the group, if oxygen in the air is present, this may become an inhibiting factor and the polymerization reaction may not proceed. If it does so, reaction will not advance only on the resin surface part which contacts oxygen (air), the hardened | cured material of a desired form may not be obtained, and a liquid part or a rubber-like part may remain on the surface. When it is inferior, the polymerization reaction does not proceed at all and a cured product may not be obtained. The resin or composition thereof of the present invention allows the polymerization reaction to proceed suitably even in such an environment where it comes into contact with air (oxygen), and a good cured product with no unevenness can be obtained. Therefore, it is not necessary to carry out the production under supply of a nitrogen atmosphere or the like, which greatly contributes to the improvement of the production process and the improvement of the production quality.

(半導体発光素子)
半導体発光素子としては、窒化ガリウム(GaN)系半導体からなる青色発光のLEDチップや、紫外発光のLEDチップ、レーザダイオードなどが用いられる。その他、例えば、MOCVD法等によって基板上にInN、AlN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の窒化物半導体を発光層として形成させたものも使用できる。フェースアップ実装される半導体発光素子や、フリップチップ実装される半導体発光素子のいずれも使用することができる。半導体発光素子は、同一平面上にn側電極とp側電極を持つ半導体発光素子の例であるが、一方の面にn側電極、反対の面にp側電極を持つ半導体発光素子も使用することができる。
(Semiconductor light emitting device)
As the semiconductor light emitting element, a blue light emitting LED chip made of a gallium nitride (GaN) based semiconductor, an ultraviolet light emitting LED chip, a laser diode, or the like is used. In addition, for example, a substrate in which a nitride semiconductor such as InN, AlN, InGaN, AlGaN, InGaAlN or the like is formed as a light emitting layer on a substrate by MOCVD or the like can be used. Either a semiconductor light-emitting element that is mounted face-up or a semiconductor light-emitting element that is flip-chip mounted can be used. The semiconductor light emitting device is an example of a semiconductor light emitting device having an n-side electrode and a p-side electrode on the same plane, but a semiconductor light-emitting device having an n-side electrode on one surface and a p-side electrode on the opposite surface is also used. be able to.

(パッケージ)
パッケージとしては電極が一体成型されているもの、及びパッケージを成型した後にメッキなどにより回路配線として電極を設けたものを用いることができる。パッケージの形状としては、円柱、楕円柱、立方体、直方体、直方体と楕円柱の間の形状やこれらの組み合わせなど任意の形状を採用することができる。内壁部の形状は底部に対して任意の角度を選択でき底面に対して直角になる箱型形状や鈍角になるすり鉢形状を選択することができる。凹部の底の形状は平面状や凹み形状などの任意の形状が選択できる。また、実装方式としてトップビュー、サイドビューなど任意の実装方式に対応したパッケージを用いることができる。
パッケージを構成する素材としては、耐光性、耐熱性に優れた電気絶縁性のものが好適に用いられ、例えばポリフタルアミド(PPA)などの熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ガラスエポキシ、セラミックスなどを用いることができる。また、半導体発光素子からの光を効率よく反射させるためにこれらの樹脂に酸化チタンなどの白色顔料などを混合させることができる。パッケージの成形法としては、前記電極を予め金型内に設置して行うインサート成形、射出成形、押出成形、トランスファ成型などを用いることができる。
(package)
As the package, a package in which electrodes are integrally formed, and a package in which electrodes are provided as circuit wiring by plating after the package is molded can be used. As the shape of the package, any shape such as a cylinder, an elliptical column, a cube, a rectangular parallelepiped, a shape between a rectangular parallelepiped and an elliptical column, or a combination thereof can be adopted. As the shape of the inner wall portion, an arbitrary angle can be selected with respect to the bottom portion, and a box shape that is perpendicular to the bottom surface or a mortar shape that is obtuse can be selected. As the shape of the bottom of the concave portion, any shape such as a flat shape or a concave shape can be selected. Moreover, a package corresponding to an arbitrary mounting method such as a top view or a side view can be used as a mounting method.
As a material constituting the package, an electrically insulating material excellent in light resistance and heat resistance is suitably used. For example, a thermoplastic resin such as polyphthalamide (PPA), a thermosetting resin such as an epoxy resin, Glass epoxy, ceramics, etc. can be used. Moreover, in order to reflect the light from a semiconductor light emitting element efficiently, white pigments, such as a titanium oxide, can be mixed with these resins. As a method for molding the package, insert molding, injection molding, extrusion molding, transfer molding, or the like performed by previously setting the electrode in a mold can be used.

(電極)
電極は、半導体発光素子と電気的に接続され、例えば、パッケージにインサートされた板状の電極や、ガラスエポキシやセラミックなどの基板に形成された導電パターンであってよい。電極の材質は、銀若しくは銀を含有した合金の他、銅や鉄などを主成分とする電極の一部上に銀若しくは銀を含有した合金がメッキされているものを用いることができる。
(electrode)
The electrode is electrically connected to the semiconductor light emitting element, and may be, for example, a plate-like electrode inserted into a package or a conductive pattern formed on a substrate such as glass epoxy or ceramic. As the material of the electrode, there can be used silver or an alloy containing silver, or a material in which silver or an alloy containing silver is plated on a part of an electrode containing copper or iron as a main component.

(評価方法)
半導体発光装置は従来の試験方法において評価することができる。例えば電気特性、光特性、温度特性、熱特性、寿命、信頼性、安全性などが挙げられる。手法としては、例えば書籍『LED照明ハンドブック LED照明推進協議会編 株式会社オーム社発行』の第2章71ページから84ページに記載の手法や基準を採用することができる。
(Evaluation method)
The semiconductor light emitting device can be evaluated by a conventional test method. For example, electrical characteristics, optical characteristics, temperature characteristics, thermal characteristics, lifetime, reliability, safety, and the like can be given. As a technique, for example, the technique and standard described in pages 71 to 84 of Chapter 2 of the book “LED Lighting Handbook, LED Lighting Promotion Council Edition” published by Ohm Co., Ltd. can be adopted.

(用途)
本発明の樹脂ないし樹脂組成物は光学部材形成剤に好適に適用することができる。光学部材としては半導体発光装置やウェハレベルレンズモジュール等が挙げられる。半導体発光装置は、光度の維持が要求される各種用途、例えば液晶ディスプレイ、携帯電話または情報端末等のバックライト、LEDディスプレイ、フラッシュライト、屋内外照明、OLED照明、OLEDディスプレイ、太陽電池部材などに広く利用することができる。レンズモジュールは各種の撮像装置や形態電話等に広く内臓されている。
(Use)
The resin or resin composition of the present invention can be suitably applied to an optical member forming agent. Examples of the optical member include a semiconductor light emitting device and a wafer level lens module. Semiconductor light-emitting devices are used in various applications that require maintenance of luminous intensity, such as backlights for liquid crystal displays, mobile phones or information terminals, LED displays, flashlights, indoor / outdoor lighting, OLED lighting, OLED displays, solar cell members, etc. Can be widely used. The lens module is widely incorporated in various image pickup apparatuses and mobile phones.

また、本発明に係る新規な特定イソシアヌレート化合物は上述した樹脂用途を始め、樹脂に配位号する機能性添加剤、各種の重合体の原料(モノマー)などとして有用である。   Further, the novel specific isocyanurate compound according to the present invention is useful as a functional additive coordinated to a resin, a raw material (monomer) of various polymers, etc., including the above-described resin applications.

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例により限定して解釈されるものではない。
下記の各化合物を合成ないし入手して調達した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is limited and interpreted by the following examples.
The following compounds were synthesized or obtained and procured.

Figure 2014189668
Figure 2014189668

Figure 2014189668
Figure 2014189668

Figure 2014189668
Figure 2014189668

(1)化合物(3−a)(3−d)(3−e)の合成
100mLフラスコ中に、アロニックスM−315(東亞合成社製) 30g、37wt%ホルムアルデヒド水溶液20.8g、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン0.24g、ジメチルスルホキシド30mLを混合し、室温にて16時間攪拌し、カラムクロマトグラフィーにより、化合物(3−a)、(3−d)、(3−e)を得た。化合物(3−a)については、図3にNMRスペクトル図を載せた。その他の化合物についても、合成したものは同様にNMRにより同定を行った。
(1) Synthesis of compounds (3-a) (3-d) (3-e) In a 100 mL flask, 30 g of Aronics M-315 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 20.8 g of a 37 wt% formaldehyde aqueous solution, 1,4- Diazabicyclo [2.2.2] octane 0.24 g and dimethyl sulfoxide 30 mL were mixed, stirred at room temperature for 16 hours, and subjected to column chromatography to obtain compounds (3-a), (3-d), (3-e ) For the compound (3-a), the NMR spectrum is shown in FIG. For other compounds, those synthesized were similarly identified by NMR.

(2)化合物(3−b)(3−c)(3−f)の合成
アロニックスM−215(東亞合成社製、商品名)をカラムクロマトグラフィーで精製することにより2官能アクリル体(M−1)および単官能アクリル体を得たのち、それぞれを原料として、上記と同様にして(3−b)、(3−c)、(3−f)を得た。
(2) Synthesis of compounds (3-b), (3-c) and (3-f) Aronix M-215 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was purified by column chromatography to produce a bifunctional acrylic (M- After obtaining 1) and a monofunctional acrylic body, (3-b), (3-c), and (3-f) were obtained in the same manner as described above using each as a raw material.

(3)化合物(4−a)(4−b)(4−c)の合成
Tetrahedron Vol. 51, No, 9, pp. 2561−2572, 1995記載の方法により、トリス(3−アクリロイルオキシプロピル)イソシヌレートを得た後、(3−a)同様の方法にて、α−ヒドロキシメチル化体(4−a)を得た。同様の方法で(4−b)、(4−c)も合成した。
(3) Synthesis of compounds (4-a) (4-b) (4-c) Tetrahedron Vol. 51, No, 9, pp. After obtaining tris (3-acryloyloxypropyl) isosinurate by the method described in 2561-2572, 1995, α-hydroxymethylated product (4-a) was obtained by the same method as (3-a). (4-b) and (4-c) were also synthesized in the same manner.

(4)化合物(4−d)の合成
ホルムアルデヒドの代わりにアセトアルデヒドを使用し、(3−a)と同様にして合成した。
(5)化合物(4−e)、(4−f)、(4−g)の合成
(3−a)を三臭化リンによりブロモ化した後、それぞれメタノール、メタンチオール、メチルアミンを反応させ、カラムクロマトグラフィーにより(4−e)、(4−f)、(4−g)を得た。
(4) Synthesis of Compound (4-d) Acetaldehyde was used instead of formaldehyde, and synthesis was performed in the same manner as (3-a).
(5) Synthesis of compounds (4-e), (4-f) and (4-g) After bromination of (3-a) with phosphorus tribromide, methanol, methanethiol and methylamine were reacted respectively. (4-e), (4-f), and (4-g) were obtained by column chromatography.

(6)化合物(M−1)の合成
アロニックスM−215(東亞合成社製、商品名)をカラムクロマトグラフィーで精製することにより化合物(M−1)を得た。
化合物(M−2):ジシクロペンタニルメタクリレート(日立化成社製 FA−513M)を用いた。
化合物(M−3):アダマンチルメタクリレート(大阪有機工業社製)を用いた。
化合物(M−4):トリシクロデカンジメタノールシアクリレート(新中村工業社製 A−DCP)を用いた。
(6) Synthesis of Compound (M-1) Compound (M-1) was obtained by purifying Aronix M-215 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) by column chromatography.
Compound (M-2): Dicyclopentanyl methacrylate (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used.
Compound (M-3): Adamantyl methacrylate (manufactured by Osaka Organic Industry Co., Ltd.) was used.
Compound (M-4): Tricyclodecane dimethanol acrylate (A-DCP manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.) was used.

・その他の配合成分
Irganox1076:Irganox1076(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)を用いた。
パーブチルO:パーブチルO(日本油脂社製)を用いた。
AIBN:2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業社製 商品名:V−60)を用いた。
パーヘキサHC:パーヘキサHC(日本油脂社製)を用いた。
-Other compounding components Irganox 1076: Irganox 1076 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was used.
Perbutyl O: Perbutyl O (manufactured by NOF Corporation) was used.
AIBN: 2,2′-azobisisobutyronitrile (trade name: V-60, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used.
Perhexa HC: Perhexa HC (manufactured by NOF Corporation) was used.

・比較試料
KER 2500:KER 2500(信越シリコーン社製)を用いた。
SCR 1011:SCR 1011(信越シリコーン社製)を用いた。
-Comparative sample KER 2500: KER 2500 (made by Shin-Etsu Silicone) was used.
SCR 1011: SCR 1011 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) was used.

[好気下硬化性]
表1に示す硬化性樹脂組成物を、図1に示すPPA樹脂パッケージ(商品名:FLASH LED 6PIN BASE(トップビュー用円形パッケージ)、株式会社エノモト製)([キャビティサイズ:深さ0.65mm、幅4.4mm、直径4.4mm])にポッティングした後、大気下で70℃30分、130℃30分、150℃30分の熱を順次与え、熱硬化した。加熱後の樹脂をピンセットにより触り、以下基準によりランクづけした。
AA:ガラス状(表面まで固まっている)
A :ゴム状(表面のみ柔らかい)
B :表面が一部液状
C :全体が液状
[Aerobic curability]
The curable resin composition shown in Table 1 was converted into a PPA resin package (trade name: FLASH LED 6PIN BASE (circular package for top view), manufactured by Enomoto Co., Ltd.) ([cavity size: depth 0.65 mm, Potting to a width of 4.4 mm and a diameter of 4.4 mm]), followed by heat curing in the air by sequentially applying heat at 70 ° C. for 30 minutes, 130 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 30 minutes. The heated resin was touched with tweezers and ranked according to the following criteria.
AA: Glassy (solidified to the surface)
A: Rubber (only the surface is soft)
B: Partially liquid surface C: Entirely liquid

[耐熱着色性]
未硬化液をガラス板に挟み70℃30分、130℃30分、150℃5時間の熱を順次与え、厚さ1mmの基板状に成形した樹脂を作製。作成した硬化物にさらに大気下において150℃24時間の熱を与えた後に、紫外可視測定装置UV−3100(島津製作所製)で波長400nmの光について透過率を測定した。
AA:88%以上
A :85%以上88%未満
B :80%以上85%未満
C :80%未満
[Heat resistant coloring]
An uncured liquid is sandwiched between glass plates, heat is sequentially applied at 70 ° C. for 30 minutes, 130 ° C. for 30 minutes, and 150 ° C. for 5 hours to produce a resin molded into a 1 mm thick substrate. The cured product thus prepared was further heated at 150 ° C. for 24 hours in the atmosphere, and then the transmittance was measured for light having a wavelength of 400 nm using an ultraviolet-visible measuring device UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation).
AA: 88% or more A: 85% or more and less than 88% B: 80% or more and less than 85% C: Less than 80%

[線熱膨張係数]
熱膨張測定装置(セイコーインスツルメンタル製:TMA/SS6100)を用いて、荷重49mNの圧縮法にて、40℃〜100℃の温度範囲における線膨張を測定し、線熱膨張係数を算出した
AA: 85ppm/K未満
A : 85ppm/K以上、120ppm/K未満
B :120ppm/K以上、200ppm/K未満
C :200ppm/K以上
[Linear thermal expansion coefficient]
Using a thermal expansion measuring device (Seiko Instrumental: TMA / SS6100), linear expansion in a temperature range of 40 ° C. to 100 ° C. was measured by a compression method with a load of 49 mN, and a linear thermal expansion coefficient was calculated. : Less than 85 ppm / K A: 85 ppm / K or more, less than 120 ppm / K B: 120 ppm / K or more, less than 200 ppm / K C: 200 ppm / K or more

Figure 2014189668
Figure 2014189668

本発明の樹脂(実施例)は光学部材の形成剤として優れており、上記従来の樹脂(比較例)とは異なるものとして、その材料種が豊富化されることが分かる。特に、本発明の樹脂(実施例)は、光学部材用途において要求される好適な硬化性、耐熱性、熱膨張率を満足する。なお、今回の試験では半導体発光装置の封止剤として用いた例で示しているが、上記の性能はいずれもレンズにも要求されるものであり、レンズ等の別の用途でも優れた性能を発揮することが分かる。   It can be seen that the resin of the present invention (Example) is excellent as a forming agent for optical members, and the material type is enriched as different from the conventional resin (Comparative Example). In particular, the resin (Example) of the present invention satisfies suitable curability, heat resistance, and coefficient of thermal expansion required for optical member applications. In this test, it is shown as an example used as a sealant for semiconductor light-emitting devices, but all of the above performances are required for lenses, and excellent performance in other applications such as lenses. You can see that it works.

1 半導体発光素子(Semiconductor Light Emitting Elememt)
2 リフレクターパッケージ基材
3 封止材
4 電極
6 ボンディングワイヤ
8 導電性接着剤
9 レンズ
10 半導体発光装置(Semiconductor Light Emitting Device)
1 Semiconductor Light Emitting Element (Semiconductor Light Emitting Element)
2 Reflector Package Base Material 3 Sealing Material 4 Electrode 6 Bonding Wire 8 Conductive Adhesive 9 Lens 10 Semiconductor Light Emitting Device (Semiconductor Light Emitting Device)

Claims (12)

下記式(1)で表される化合物を含む樹脂。
Figure 2014189668
(式中、Rは連結基を表す。A〜Aはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、そのうち少なくとも一つは下記式(2)で表される置換基である。)
Figure 2014189668
(式中、Rは水素原子または置換基を表す。Aは水酸基、アルコキシ基、チオール基、チオアルコキシ基、アミノ基を表す。*は結合手を表す。)
Resin containing the compound represented by following formula (1).
Figure 2014189668
(In the formula, R 1 represents a linking group. A 1 to A 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2).)
Figure 2014189668
(In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. A 4 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, a thiol group, a thioalkoxy group, or an amino group. * Represents a bond.)
前記式(1)において、A〜Aのうち少なくとも2つが前記式(2)で表される置換基である請求項1に記載の樹脂。 The resin according to claim 1, wherein in the formula (1), at least two of A 1 to A 3 are substituents represented by the formula (2). 前記式(1)において、A〜Aのすべてが前記式(2)で表される置換基である請求項1に記載の樹脂。 2. The resin according to claim 1, wherein in Formula (1), all of A 1 to A 3 are substituents represented by Formula (2). 前記式(1)において、Rがエチレン基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂。 The resin according to any one of claims 1 to 3, wherein in the formula (1), R 1 is an ethylene group. 前記式(2)において、Rが水素原子またはメチル基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂。 In the formula (2), the resin according to any one of claims 1 to 4 R 2 is a hydrogen atom or a methyl group. 前記式(1)で表される化合物が、下記式(3−a)、(3−b)、(3−c)、(3−d)、(3−e)、または(3−f)で表される化合物である請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂。
Figure 2014189668
The compound represented by the formula (1) is represented by the following formula (3-a), (3-b), (3-c), (3-d), (3-e), or (3-f). The resin according to any one of claims 1 to 5, which is a compound represented by the formula:
Figure 2014189668
硬化性を有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂。   Resin of any one of Claims 1-6 which has curability. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂とともに他の成分を含有させた樹脂組成物。   The resin composition which made the other component contain with the resin of any one of Claims 1-7. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂を含有してなる光学部材形成剤。   The optical member formation agent formed by containing the resin of any one of Claims 1-7. 請求項9に記載の光学部材形成剤を硬化してなる光学部材。   An optical member obtained by curing the optical member forming agent according to claim 9. 請求項10に記載の光学部材を具備する半導体発光装置。   A semiconductor light emitting device comprising the optical member according to claim 10. 下記式(1)で表される化合物。
Figure 2014189668
(式中、Rは連結基を表す。A〜Aはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、そのうち少なくとも一つは下記式(2)で表される置換基である。)
Figure 2014189668
(式中、Rは水素原子または置換基を表す。Aは水酸基、アルコキシ基、チオール基、チオアルコキシ基、アミノ基を表す。*は結合手を表す。)
A compound represented by the following formula (1).
Figure 2014189668
(In the formula, R 1 represents a linking group. A 1 to A 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of them is a substituent represented by the following formula (2).)
Figure 2014189668
(In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. A 4 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, a thiol group, a thioalkoxy group, or an amino group. * Represents a bond.)
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